KR20020074473A - 플라즈마 디스플레이 패널용 기판의 제조 장치 및 그 제조방법과, 이 제조 장치에 이용되는 몰드 - Google Patents

Abstract

유전체층의 불균일성이나 리브의 결함을 용이하게 저감할 수 있는 PDP 용 기판의 제조 장치를 제공하는 것이다. 상기 장치는 평판용 테이블과, 평판 상에 리브의 전구체를 설치하기 위한 리브 전구체 공급부와, 평판 상에 설치된 리브의 전구체의 위에 설치되는, 일정한 간격을 두고 서로 평행하게 배치된 홈부를 적어도 갖는 가요성의 몰드와, 상기 몰드에 압력을 부여하여 그 몰드를 리브의 전구체를 통해 평판과 밀착시키기 위한 몰드 압박부와, 몰드 압박부를 몰드의 홈부를 따라 이동시키기 위한 구동부를 포함한다.

Description

플라즈마 디스플레이 패널용 기판의 제조 장치 및 그 제조 방법과, 이 제조 장치에 이용되는 몰드{APPARATUS, MOLD AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE FOR PLASMA DISPLAY PANEL}

최근, PDP 등의 박형 표시 장치에 관한 개발이 열심히 행해지고 있다. 그 이유는, PDP 는 박형일 뿐만 아니라, 액정 모니터와 같은 전형적인 박형 표시 장치에 비해 큰 화면, 높은 화질 및 넓은 시야각(viewing angle)을 제공할 수 있기 때문이다.

일반적으로, PDP 에는 기판이 구비되고 있다. 전형적인 PDP 용 기판은 각각 동일한 치수를 갖는 리브(배리어 리브, 벌크헤드 혹은 베리어라고도 한다)를 통해 한 쌍의 유리 평판을 소정의 거리에서 대향시켜 구성되어 있다. 이러한 구성을 갖는 PDP 용 기판의 리브는 한 쌍의 유리 평판 사이의 공간을 기밀 방식으로 구획하여 네온, 헬륨 또는 크세논과 같이 방전에 의해 발광하는 가스를 수용하기 위한 복수의 방전 표시 셀을 형성할 수 있다.

PDP 용 기판을 더욱 상세히 설명하면, 예컨대 도 10에 도시된 바와 같이, PDP 용 기판(10)은 유리 평판(1)의 위에 일정한 간격을 두고 전극(2)이 상호 평행하게 배치되고, 그 위에 리브(3)가 설치된 구성을 갖고 있다. 전극(2)은 필요에 따라 가스의 방전에 의한 전극의 스퍼터링을 회피하기 위해 유전체층에 의해 피복되어도 좋다. 도시된 실시예에 따르면, 각각의 리브(3)는 유전체층(4)과 일체로 되어 전극(2)의 사이에 설치된다.

PDP 용 기판의 리브의 제조 방법은 여러 가지로 알려져 있다. 예컨대, 일본 특개평 제9-12336호 공보에는 몰드를 이용한 제조 방법이 개시되어 있다. 이 제조 방법에서는, 몰드 혹은 유리 평판의 전면에 경화 가능한 페이스트형의 리브의 전구체(이하, "리브 전구체" 라고도 함)를 도포함으로써 리브를 제조한다. 몰드와 유리 평판을 이들 사이에 배치된 리브 전구체와 밀착시킨다. 그 다음, 리브 전구체를 경화시켜 성형하면 목적으로 하는 리브를 얻을 수 있다.

상기 리브의 제조 방법으로 이용되는 몰드는 유리 또는 금속으로 이루어진다. 일반적으로, 몰드와 유리 평판이 서로 균일하게 밀착되어야 하는 경우, 높은 공작 정밀도로 제조한 몰드를 필요로 한다. 그렇지 않으면, 바람직하지 못한 불균일한 유전체층이 리브와 일체로 형성될 수 있는 경향이 있는 때문이다. 특히, 유리 평판 또는 몰드가 비교적 넓은 면적을 갖고 있는 경우에, 그 경향이 현저하게 된다. 이 제조 방법에 따르면, 몰드를 유리 평판으로부터 제거할 때, 유리 평판으로부터의 리브의 박리가 일어나고, 따라서 유리 평판에 대한 리브의 전사를 정확하게 행할 수 없는 우려가 있다. 이는 상술한 강성으로 인해, 몰드에 비교적 큰 힘을 미치게 할 필요가 있는 때문이다.

반면에, 일본 특개평 제9-12336호 공보에는 몰드와 유리 평판의 밀착을 감압하에서 행하여 몰드와 유리 평판과의 사이에 기포가 혼입하는 것을 막는 방법이 개시되어 있다. 통상, 이러한 감압하에서는 복잡한 구성과 번잡한 취급을 수반하는 감압 장치를 필요로 한다. 또한, 감압 장치는 대형이며 부대 설비도 필요로 하는 경우가 많다. 따라서, 감압하에서의 밀착은 이러한 설비를 때문에 넓은 공간뿐만 아니라 많은 복잡한 공정을 수반하며, 숙련도 필요로 한다.

일본 특개평 제8-273537호 공보 및 일본 특개평 제8-273538호 공보에는 가요성이 부여된 몰드를 이용한 리브의 제조 방법이 개시되어 있다. 보다 상세히 진술하면, 일본 특개평 제8-273537호 공보에는 몰드에 블레이드를 사용하여 리브 전구체를 충전한 뒤, 이 몰드를 유리 평판과 밀착시키는 것이 개시되어 있다. 반면에, 일본 특개평 제8-273538호 공보에는 리브 전구체를 미리 유리 평판 전면에 도포한 뒤, 거기에 몰드를 밀착하는 것이 개시되어 있다. 그러나, 이들 방법에서는 어느 것이나 밀착시에 몰드와 평판 사이에 기포가 혼입하는 경향이 있다. 이러한 기포의 혼입은 리브에 대하여 결손 등의 결함을 유발하는 우려가 있다. 특히, PDP 용 기판이 넓은 면적을 갖는 경우에 그 결함의 발생이 특히 현저하다. 그래서, 일본 특개평 제9-12336호 공보에 개시되어 있는 같이, 몰드와 유리 평판의 밀착을 감압 장치에 의해 감압하에서 행하여 기포의 혼입을 회피하는 것이 제안되었다. 그러나, 감압 장치의 사용은 전술된 바와 같이 넓은 공간이나 숙련을 필요하기 때문에 바람직하지 않다.

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(이하, 단순히 "PDP" 라고 한다)의 분야에 관한 것으로, 더욱 자세히 말하면, PDP 용 기판의 제조 장치, 그와 같은 제조 장치에 있어서 이용되는 몰드, 그리고 PDP 용 기판의 제조 방법에 관한 것이다.

도 1은 본 발명의 PDP 용 기판의 제조 장치의 바람직한 일실시 형태를 도시한 사시도이며,

도 2는 도 1에 도시한 제조 장치의 평면도이고,

도 3은 도 1에 도시한 제조 장치의 측면도이며,

도 4는 본 발명의 PDP 용 기판의 제조 장치에 있어서의 라미네이트 롤러의 바람직한 배치에 관해서 설명한 평면도이고,

도 5는 본 발명에 의한 PDP 용 기판의 제조 장치의 바람직한 일실시 형태(전반의 단계)를 개략적으로 도시하는 단면도이며,

도 6은 본 발명에 의한 PDP 용 기판의 제조 장치의 바람직한 일실시 형태(후반의 단계)를 개략적으로 도시하는 단면도이고,

도 7은 본 발명에 의한 PDP 용 기판의 제조 방법의 바람직한 일단계를 개략적으로 도시하는 단면도이며,

도 8은 본 발명의 PDP 용 기판의 제조 장치의 또 하나의 바람직한 실시 형태를 도시한 사시도이고,

도 9는 본 발명의 PDP 용 기판의 제조 장치의 또 하나의 바람직한 실시 형태를 도시한 사시도이며,

도 10은 종래의 PDP 용 기판의 전형적인 구성을 도시한 단면도이다.

따라서, 본 발명의 목적은 유전체층의 불균일성이나 리브의 결함을 용이하게 저감할 수 있는, PDP 용 기판의 개량된 제조 방법 및 제조 장치를 제공하는 데 있다.

또한, 본 발명의 또 다른 목적은 그와 같은 제조 방법 및 제조 장치에 있어서 유리하게 사용할 수 있는 몰드를 제공하는 데 있다.

본 발명에 따르면, 평판과 상기 평판 상의 리브를 갖춘 플라즈마 디스플레이 패널용 기판을 제조하는 장치가 제공되며, 이 장치는

상기 평판용 테이블과,

상기 평판 상에 상기 리브의 전구체를 설치하기 위한 리브 전구체 공급부와,

상기 평판 상에 설치된 상기 리브의 전구체의 위에 설치되는, 일정한 간격을 두고 서로 평행하게 배치된 홈부를 적어도 갖는 가요성의 몰드와,

상기 몰드에 압력을 부여하여, 그 몰드를 상기 리브의 전구체를 통해 상기 평판과 밀착시키기 위한 몰드 압박부와,

상기 몰드 압박부를 상기 몰드의 상기 홈부를 따라 이동시키기 위한 구동부를 포함한다.

또한, 본 발명에 따르면, 플라즈마 디스플레이 패널용 기판의 제조에 이용하는 몰드로서, 대전 방지 가공이 실시되는 것을 특징으로 하는 몰드가 제공된다.

또한, 본 발명에 따르면, 플라즈마 디스플레이 패널용 기판의 제조에 이용되는 몰드가 제공되며, 이 몰드는

아크릴계의 기재와,

상기 아크릴계의 기재에 분산된 이온 도전성 물질과,

상기 아크릴계의 기재에 분산되어 상기 이온 도전성 물질을 전리시킬 수 있는 매체를 구비하는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명에 따르면, 평판과 이 평판 상의 리브를 갖춘 플라즈마 디스플레이 패널용 기판을 제조하는 방법이 제공되며, 이 방법은,

(A) 하기의 단계,

상기 평판 상에 상기 리브의 전구체를 설치하는 리브 전구체 공급 단계와,

일정한 간격을 두고 서로 평행하게 배치된 홈부를 적어도 갖는 가요성으로 대전 방지 가공이 실시된 몰드에 상기 리브 전구체를 충전하는 리브 전구체 충전 단계와,

상기 리브 전구체를 경화하여 성형체를 형성하는 리브 전구체 성형 단계와,

상기 몰드를 제거하고, 상기 성형체를 상기 평판에 전사하는 리브 성형체 전사 단계를 포함하는 것과,

(B) 상기 리브 전구체 충전 단계에서,

상기 몰드를, 그것에 배치된 홈부의 일단으로부터 타단까지 상기 홈부를 따라서 압박하는 것을 특징으로 한다.

이하, 본 발명의 여러 가지의 실시 형태를 첨부 도면을 참조하면서 설명한다. 또, 이하에 있어서 참조하는 도면에 있어서, 동일한 또는 균등한 부분에는 동일한 참조 번호를 부여하는 것으로 한다.

도 1 및 도 2 각각은 본 발명에 따라서 PDP 용 기판을 제조하는 장치의 적합한 일실시 형태를 개략적으로 도시한 사시도 및 평면도이다. 도시된 제조 장치는 테이블(11)의 위에 유리 평판(1)이 적재되도록 구성되어 있다. 따라서, 테이블(11)의 표면은 정확하고 원활하게 가공되어 있다. 적합하게는, 도 3에 도시된 바와 같이, 테이블(11)은 스테이지(21)의 위에 설치되어도 좋다. 이 경우, 테이블(11)의 위에 유리 평판(1)이 적재된다. 이러한 경우, 스테이지(21)를 이동시킴으로써, 그 위의 유리 평판(1)의 위치를 미세하게 조정할 수 있다. 유리 평판(1)의 위에는 리브 전구체(13)가 공급된다.

본 발명의 PDP 용 기판의 제조 장치에는, 리브 전구체 공급부(이하, "리브 전구체 공급 장치" 라고도 함)가 구비되고 있다. 리브 전구체 공급 장치는 리브 전구체를 유리 평판에 공급할 수 있는 한 특히 한정되지 않지만, 예컨대, 정량 공급 노즐, 나이프 코터(knife coater), 스크린 인쇄 장치, 다이 코터 등이 적합하다.

본 발명의 제조 장치에 공급되어야 하는 리브 전구체는, 그 리브 전구체가 성형체를 형성할 수 있는 한 특히 한정되는 것은 아니다. 리브 전구체에 적합한 조성의 일례를 예를 들면, (1) 리브의 형상을 부여하는, 예컨대 산화 알루미늄 같은 세라믹 성분, (2) 세라믹 성분을 수용 및 유지하여 상호 결합하는 바인더 성분과 그 경화제 또는 중합 개시제, (3) 세라믹 성분 사이의 간극을 매립하여 리브에 조밀성을 부여하는 유리 성분을 기본적으로 포함하는 조성물이다. 상기 바인더 성분의 경화는 가열 또는 가온에 상관없이 빛의 조사에 의해서 이루어질 수 있는 것이 바람직하다. 이러한 경우, 유리 평판의 열변형을 고려할 필요는 없어진다. 또한, 필요에 따라서, 이 조성물에는, 크롬(Cr), 망간(Mn), 철(Fe), 코발트(Co), 니켈(Ni), 구리(Cu), 아연(Zn), 인듐(In) 또는 주석(Sn), 루테늄(Ru), 로듐(Rh), 팔라듐(Pd), 은(Ag), 이리듐(Ir), 플래튬(Pt), 금(Au) 혹은 세륨(Ce)의 산화물, 염 또는 착화물로 이루어지는 산화 촉매가 첨가되어 바인더 성분의 제거 온도를 저하시키더라도 좋다.

유리 평판(1)의 위에는, 도시된 바와 같이 몰드(22)가 설치된다. 전형적인 몰드는 가요성의 지지 필름 상에 성형 부분을 지지시킨 것이다. 적합한 지지 필름은 30㎛ 혹은 그 이상의 두께를 갖고 있다. 30㎛ 보다 얇은 지지 필름은 몰드에 충분한 강도를 부여하지 못하고 몰드의 파손을 초래하는 경향이 있다. 또한, 한번 파손한 몰드를 다시 사용하면, 리브와 유전체층에 결함을 유발하는 우려가 있다. 바람직한 지지 필름은 예컨대, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 필름이다. PET 필름은 투명하며, 리브 전구체의 빛의 조사에 의한 경화에 매우 유리하다. 보다 바람직하게는, 그 필름으로부터 내부 응력이 제거되어 있는 PET 필름이다. 이러한 경우, 필름은 온도 또는 습도에 상관없이 치수 안정성에 우수하기 때문에, 이러한 필름을 갖춘 몰드는 높은 치수 정밀도를 유지할 수 있다.

몰드(22)는 그 성형 부분도 가요성을 갖고 있고, 도시된 바와 같이, 리브의 형상에 대응하여 일정한 간격을 두고 서로 평행하게 배치된 홈부(22g)를 갖추고 있다. 적합한 성형 부분은 포토리소그래피를 이용하여 아크릴계의 기재로부터 제작할 수 있다. 이와 같이 하여 얻어지는 성형 부분은 투명하기 때문에, 빛 경화 가능한 리브 전구체의 사용을 유리하게 한다. 성형 부분의 제작에 유용한 전술의 아크릴계의 기재는, 상세히 진술하면, 우레탄 아크릴레이트, 폴리에스테르 아크릴레이트 또는 폴리에스테르 아크릴레이트를 빛 경화 개시제의 첨가에 의해 중합시킨 경화물로 이루어진다. 특히, 기재가 우레탄 아크릴레이트의 경화물로 이루어질 때는, 몰드에 대하여 높은 가요성 및 강인성이라고 하는 성질을 부여할 수 있게 된다.

전술한 리브 전구체가 빛의 조사를 받아 경화물을 형성할 때, 리브 전구체의 경화제 또는 중합 개시제는 성형 부분의 빛 경화 개시제보다도 장파 길이측에 흡수단을 갖고 있는 것이 바람직하다. 이러한 경우, 몰드에 포함되는 빛 경화 개시제는 그 흡수단보다도 긴 파장의 빛을 흡수할 수 없다. 이와는 반대로, 경화제 또는 중합 개시제는 이러한 빛을 흡수할 수 있다. 그 결과, 가령 성형 부분에 미반응의 빛 경화 개시제가 잔존하고 있더라도, 상술한 파장의 빛의 조사는 바인더 성분과 광 중합은 없고, 몰드와 성형체와의 고착이 회피된다. 따라서, 유리 평판 또는 성형체 혹은 그 자유 단부가 파손되어 몰드에 잔존하는 상태로 되는 것은 없고, 이들의 제거를 용이하게 행할 수 있다. 또, 본 명세서에 기재된 용어 "흡수단(absorption end)" 이란, 빛의 연속 흡수 스펙트럼에 있어서, 파장이 그 이상 길게 되면 흡수율이 급격히 감소하여, 실질적으로 투명하게 변하는 파장 부분을 말한다.

몰드에는 대전 방지 가공이 실시되는 것이 바람직하다. 대전 방지 가공을 실시해 놓으면, 몰드는 그 표면 전기 저항이 저하하여 대전되기 어렵게 되며, 주위의 대전된 먼지의 부착을 회피할 수 있게 된다. 특히, 대전 방지 가공을 몰드에이온 전도성을 부여함으로써 행하면, 주위의 환경에 좌우되는 일없이 대전 방지 가공을 실시할 수 있다. 구체적으로는, 몰드의 기재에, 과염소산 리튬 등의 리튬염으로 이루어지는 이온 도전성 물질과, 에틸렌 글리콜 혹은 락톤 또는 이들의 유도체로 이루어져 이온도 전성 물질을 전리시킬 수 있는 무색의 매체를 분산시키는 것이 바람직하다. 다만, 몰드의 대전 방지 가공은 상기에 한정되지 않고, 계면활성제를 이용하는 방법도 좋다.

도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 몰드(22)의 위에는, 압박 수단, 즉, 몰드 압박부로서의 라미네이트 롤러(23)가 배치된다. 라미네이트 롤러(23)는 도 3에 도시된 바와 같이, 그 자신의 중량(G)을 이용하여 몰드(22)에 압력을 부여하여 몰드(22)와 유리 평판(1)을 리브 전구체(13)를 매개로 밀착시켜 유전체층(도시 생략)으로 리브 전구체(13)의 일체 성형을 동시에 행할 수 있다. 라미네이트 롤러(23)는 바람직하게는, 그 폭 방향을 따라 균일한 중량 분포 및 원통성를 갖고 있다. 이러한 경우, 라미네이트 롤러(23)는 그 길이 방향을 따라 일정한 압력을 덧붙여 전술의 일체 성형을 균일하게 행할 수 있다. 라미네이트 롤러(23)는 전술의 일체성형을 균일하게 행할 수 있는 한, 임의의 직경을 가질 수 있지만, 통상, 약 25mm 이상, 보다 적합하게는 약 100mm 이상의 직경을 갖고 있다. 약 25mm 미만의 직경을 갖은 라미네이트 롤러(23)는 리브 전구체(13)의 라미네이트 때에 공기를 혼입하는 경향이 있으며, 또한, 이와 같이 하여 혼입된 공기는 리브의 결함을 야기하는 원인이 된다.

몰드 압박부로서 유용한 라미네이트 롤러의 일례는 탄성재로 표면에 균일하게 휘감길 수 있는 탄성 롤러, 또는 금속 표면을 갖은 금속 롤러이다. 특히, 탄성롤러는 가요성이 있는 몰드나 유리 평판의 국소적인 불균일성을 저감하기 위해 즉, 유리 평판 및 몰드의 근소한 두께의 오차를 허용하기 위해 유리하게 사용할 수 있다. 탄성 롤러의 탄성체는 통상, 50 내지 95 범위의 쇼어 A 경도를 갖는 것이 바람직하다. 이 범위에서 벗어난 경도를 갖은 탄성재는 리브 전구체의 점도에도 의존하지만, 일반적으로 응력 완화에 의해 롤러에 미치는 압력을 저감하여, 그 결과로서 유전체층을 원하는 두께로 형성할 수 없게 되는 경향이 있다. 특히, 그 경향은 수 ㎛ 에서 수십 ㎛까지 얇은 유전체층을 형성하는 경우에 현저하다.

라미네이트 롤러(23)는, 그 회전축이 몰드(22)의 홈부(22g)와 수직이 되도록 몰드(22) 상에 배치되어 있기 때문에, 몰드의 홈부를 따라 이동 가능하다. 따라서, 라미네이트 롤러(23)의 이동 중에, 몰드(22)에는 그 일단부에서 타단부에 압력이 라미네이트 롤러(23)의 자신의 중량(G)에 의해 순차적으로 인가되고, 또한 그것에 따라 리브 전구체(13)가 순차적으로 홈부(22g)의 공기와 치환되어 충전되어 간다.

라미네이트 롤러(23)가 몰드(22)의 홈부(22g)를 따라 이동해 나갈 때, 라미네이트 롤러(23)는 몰드(22)의 홈부의 폭 방향으로 균일한 응력을 가하여 전술한 일체 성형에 있어서 바람직하지 못한 몰드(22)에서의 주름 발생을 회피할 수 있다. 라미네이트 롤러(23)는 주름 발생을 회피할 수 있는 한, 그 회전축을 몰드(22)의 홈부와 수직이 아니게 몰드(22)상에 배치하여 몰드(22)의 홈부를 따라 이동할 수 있게 되더라도 좋다. 또한, 홈부(22g)는 공기의 채널로 되어 공기를 거기에 포착했다고 해도, 전술한 압력이 인가될 때 공기를 효율적으로 몰드(22)의 외부 또는 주위로 배제할 수 있다. 그 결과, 본 발명은 리브 전구체(13)의 충전을 대기압 하에서 행하더라도 기포의 잔존을 방지할 수 있게 된다. 바꾸어 말하면, 충전시 감압 장치가 필요 없게 된다. 물론, 감압 장치가 있으면 기포의 제거를 더 한층 간편히 행할 수 있다.

또한, 라미네이트 롤러(23)는 동시에 유전체층의 원형인 액막을 일정한 두께로 또 높은 정밀도로 리브 전구체(13)로부터 일체적으로 형성할 수 있다. 이 때의 두께는 리브 전구체(13)의 점도 또는 라미네이트 롤러(23)의 직경, 중량 혹은 이동속도를 적당히 제어함으로써, 수 ㎛ 에서 수십 ㎛의 범위로 할 수 있다.

스테이지(21)의 위에는, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기한 유리 평판(1) 및/또는 몰드(22)를 사이에 두고 몰드(22)의 홈부(22g)와 실질적으로 평행하게 한 쌍의 직선 이동가이드(24)가 배치되더라도 좋다. 이러한 직선 이동가이드(24)가 설치되면, 라미네이트 롤러(23)를 몰드(22)의 홈부를 따라 원활히 이동시킬 수 있다. 또한, 라미네이트 롤러(23)는, 도시된 바와 같이, 그 양끝에 베어링 지지부(25)를 부착하여 이들을 통해 직선 이동가이드(24)에 장착해도 좋다.

또한, 라미네이트 롤러(23)는, 이 라미네이트 롤러(23)가 몰드(22) 상을 이동할 때 몰드(22)에 주름이 발생하는 것을 회피하기 위해 직선 이동가이드(24)에 대하여 도 4b에 도시한 바와 같이 설치되어 있는 것이 바람직하다. 즉, 통상 라미네이트 롤러(23)는 전술하고 도 4a에 도시한 바와 같이, 그 회전축이 몰드(22)의 홈부(22g)(설명의 간략화를 위해 일부만 도시)로 실질적으로 수직이 되도록 설치된다. 그러나, 도 4b에 도시된 바와 같이, 라미네이트 롤러(23)의 회전축이 직선 이동가이드(도시 생략)에 대하여 수직한 방향에서 약 arc tan(1mm/1000mm)의 각도 이내로 경사지는 것이 바람직하다.

또한, 도 2에 도시된 바와 같이, 전술한 한 쌍의 직선 이동가이드(24)의 외측에는, 그것과 평행하게 제2의 직선 이동가이드(26)가 또한 설치되더라도 좋다. 직선 이동가이드(26)의 위에는, 라미네이트 롤러(23)를 회전 구동시키기 위해 회전 모터(27)를 이동 가능하게 설치할 수도 있다. 회전 모터(27)는 커플링(28)을 통해 라미네이트 롤러(23)의 일단과 접속하여 라미네이트 롤러(23)에 회전 구동을 제공하면서 라미네이트 롤러(23)를 직선 이동가이드(24)상에서 소정의 속도로 이동시킬 수 있다. 이 경우, 커플링(28)은 회전 모터(27)의 중량을 라미네이트 롤러(23)로 전하기 어렵고, 라미네이트 롤러(23)의 자신의 중량에 의한 균일한 압력 인가를 가능하게 하는 커플링인 것이 바람직하다. 또한, 라미네이트 롤러(23)의 진행과 동기하여 선형 가이드(26) 상을 회전 모터(27)가 이동할 수 있도록 기계적 또는 전기적인 위치 제어 기구(도시하지 않음)가 설치되어도 좋다.

도 1 내지 도 3에 도시한 제조 장치를 사용하여 유리 평판 상에 리브를 설치한 PDP 용 기판을 제조하는 방법을 도 5및 도 6을 참조하여 설명한다. 또, 이들 도면은 PDP 용 기판의 제조 공정을 순차적으로 7 단계 즉, 도 5a 내지 도 5d 및 도6e 내지 도 6g로 개략적으로 도시한 단면도이다.

도 5a에 도시된 바와 같이, 일정한 간격을 두고 상호 평행하게 전극(2)을 배치한 유리 평판(1)을 미리 준비하여 테이블(11)상에 배치한다. 또한, 도시하지 않았지만, 먼저 설명한 바와 같이 만일 변위 가능한 스테이지를 사용하고 있는 것이면, 그 스테이지의 위에 유리 평판(1)을 배치한 테이블(11)을 소정의 위치에 얹어 놓는다. 상세히 진술하면, 유리 평판(1)의 위의 전극(2)이 직선 이동가이드(도시 생략)에 평행하게 되도록 또는 라미네이트 롤러의 회전축으로 대하여 수직으로 되도록 유리 평판(1)을 설치한다. 또한, 라미네이트 롤러의 회전축이 직선 이동가이드에 대하여 수직한 방향에서 약 arc tan(1mm/1000mm)의 각도 이내로 경사지게 되도록 조정을 행한다.

이어서, 일정한 간격을 두고 서로 평행하게 배설된 홈부를 적어도 갖는 가요성의 몰드(22)를 준비하고, 그 다음 유리 평판(1)상의 소정의 위치에 설치한다. 이 때, 몰드(22)는 그 홈부가 직선 이동가이드에 평행하게 되도록, 또는, 라미네이트 롤러의 회전축으로 대하여 수직으로 되도록 설치한다. 특히, 빛 경화 가능한 리브 전구체를 후속의 공정에서 사용하는 경우에는, 투명한 몰드(빛 경화 가능한 리브 전구체에 대하는 광 조사를 가능하게 하는 것)를 사용한다.

이어서, 유리 평판과 몰드의 정렬을 행한다. 상세히 진술하면, 이 정렬은 눈으로 확인함에 의해서 행할거나, 그렇지 않으면, 도 5b에 도시된 바와 같이, 예컨대 CCD 카메라 등의 센서(29)를 이용하여 몰드(22)의 홈부와 유리 평판(1)의 전극을 평행하게 되도록 하여 행한다. 이 때, 전술의 변위 가능한 스테이지를 이용하여 미세 조정을 할 수 있다. 또한, 필요에 따라 온도 및 습도를 조정하여 몰드(22)의 홈부와 유리 평판(1) 상의 서로 인접할 수 있는 전극 사이의 간격을 일치시키더라도 좋다. 통상, 몰드(22)와 유리 평판(1)은 온도 및 습도의 변화에 따라서 신축하며, 또한, 그 정도는 서로 다르기 때문이다. 따라서, 유리 평판과 몰드의 정렬이 완료한 뒤, 그 때의 온도 및 습도를 일정히 유지하도록 제어한다. 이러한 제어 방법은 큰 면적의 PDP 용 기판의 제조에 특히 효과적이다.

후속하여, 도 5c에 도시된 바와 같이, 라미네이트 롤러(23)를 몰드(22)의 일단부에 얹어 놓는다. 이 때, 몰드(22)의 일단부는 유리 평판(1) 상에 고정되는 것이 바람직하다. 그 이유는 정렬이 완료한 후, 유리 평판과 몰드의 위치 어긋남이 방지되기 때문이다.

그 다음, 도 5d에 도시된 바와 같이, 몰드(22)가 자유로운 타단부를 홀더(32)에 의해 들어 올려 라미네이트 롤러(23)의 상측으로 이동시켜 유리 평판(1)을 노출시킨다. 이 때, 몰드(22)에는 장력을 부여하지 않도록 하여 몰드(22)에 주름 발생을 방지하거나, 몰드(22)와 유리 평판(1)의 정렬을 유지한다. 단지, 그 정렬을 유지할 수 있는 한, 다른 수단을 사용하더라도 좋다. 그 다음에, 리브의 형성에 필요한 일정량의 리브 전구체(13)를 유리 평판(1)의 위에 공급한다. 도시의 예로서는, 전술의 리브 전구체 공급 장치로서 노즐을 구비한 페이스트용 호퍼(31)를 사용하고 있다.

본 발명의 실시에 있어서는, 리브 전구체(13)를 유리 평판(1) 상의 전체에 균일하게 공급할 필요는 없다. 도 5d에 도시된 바와 같이, 라미네이트 롤러(23)의 근방의 유리 평판(1) 상에 리브 전구체(13)를 공급해도 좋다. 후술하는 바와 같이, 라미네이트 롤러(23)가 몰드(22) 상을 이동할 때, 유리 평판(1) 위에 균일하게 리브 전구체(13)를 펼칠 수 있다. 이러한 경우, 리브 전구체(13)는 통상 약100,000cps 이하, 적합하게는 약 20,000cps 이하의 점도가 부여되어 있다. 리브 전구체의 점도가 약 100,000cps 보다 높으면, 라미네이트 롤러(23)에 의해 리브 전구체를 충분히 펼치기가 어렵게 되며, 그 결과 몰드(22)의 홈부에는 공기가 혼입되고 리브의 결함의 원인이 되는 우려가 있다.

그 다음, 회전 모터(도시 생략)를 구동시켜 도 6e에 화살표로 도시된 바와 같이, 라미네이트 롤러(23)를 몰드(22) 상에서 그 홈부를 따라 소정의 속도에 이동시킨다. 라미네이트 롤러(23)가 이와 같이 하여 몰드(22) 상을 이동하는 동안, 몰드(22)에는 그 일단부에서 타단부로 압력이 라미네이트 롤러(23)의 자신의 중량에 의해 순차적으로 인가되며, 그것에 따라 리브 전구체(13)가 순차적으로 홈부의 공기와 치환되어 충전된다. 또한, 유전체층의 원형인 액막도 동시에 일정한 두께로 높은 정밀도로 리브 전구체로부터 일체적으로 형성될 수 있다. 이 때, 리브 전구체의 두께는 리브 전구체의 점도 또는 라미네이트 롤러의 직경, 중량 혹은 이동 속도를 적당히 제어함으로써 수 ㎛에서 수십 ㎛의 범위로 할 수 있다.

또한, 본 발명에 따르면, 몰드의 홈부는 공기의 채널로서 공기를 거기에 포착했다고 하여도, 전술한 인가 압력을 받을 때에는 공기를 효율적으로 몰드의 외부 또는 주위로 배제할 수 있다. 그 결과, 본 발명은 리브 전구체의 충전을 대기압 하에서 행하더라도, 기포의 잔존을 방지할 수 있게 된다. 바꾸어 말하면, 리브 전구체의 충전시에 감압을 적용할 필요가 없어진다. 물론, 감압을 하여 기포의 제거를 한층 더 용이하게 행하더라도 좋다.

그 다음, 리브 전구체를 경화시킨다. 유리 평판(1) 상에 펼쳐진 리브 전구체가 빛 경화 가능할 경우, 특히, 도 6f에 도시된 바와 같이, 유리 평판(1) 및 몰드(22)와 같이 리브 전구체(도시 생략)를 광 조사 장치(33)에 넣어 자외선(UV) 등의 빛을 유리 평판(1) 및/또는 몰드(22)를 통해 리브 전구체에 조사하여 경화시킨다. 이와 같이 하여, 리브 전구체의 성형체를 얻을 수 있다.

그 다음, 얻어진 성형체를 유리 평판(1) 및 몰드(22)와 같이 광 조사 장치로부터 추출한 뒤, 도 6g에 도시된 바와 같이 몰드(22)를 박리한다. 이러한 박리는 도 6g에 있어서 화살표로 도시된 바와 같이, 몰드(22)의 홈부를 따라 그 일단부 또는 타단부에서 행한다. 홈부쪽으로 향한 상태에서 몰드(22)의 박리를 행하면 성형체의 파괴를 초래할 우려가 있는 때문이다.

또한, 전술한 바와 같이, 리브 전구체 중에 포함되는 경화제 또는 중합 개시제가 성형 부분의 빛 경화 개시제보다도 장파 길이측에 흡수단을 갖고 있는 경우, 몰드와 성형체와의 고착을 회피하여 성형체의 파괴를 한층 더 방지할 수 있다. 또한, 몰드에 대전 방지 가공이 실시되고 있는 경우는, 박리의 때의 대전도 회피되어 그 취급도 용이해진다.

이상, 본 발명을 그 적합한 실시 형태를 참조하여 설명했지만, 본 발명은 이들의 실시 형태에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 2개의 베어링 지지부(25)를 빔(도시 생략)으로 연결하여 이동시켜도 좋다.

상기한 실시 형태에서는, 라미네이트 롤러의 자신의 중량에 의해 몰드에 압력을 덧붙여 리브 전구체를 몰드에 충전하지만, 본 발명은 이러한 충전 방법에만 한정되지 않는다. 예컨대, 도 7에 도시된 바와 같이, 라미네이트 롤러(23)를몰드(22)의 홈부(도시 생략)를 따라 이동시킬 때, 그 회전축의 양끝에 하중(G)을 가하더라도 좋다. 상세히 진술하면, 라미네이트 롤러(23)의 회전축의 양끝에서의 하중(G)은, 그것을 몰드 압박부(압력 인가 수단으로서, 도시하지 않음)를 통해 부여하면 일반적으로, 이러한 하중(G)에 의해 도 7에 다수의 하향의 화살표로 도시된 바와 같이, 마이너스 변위(s)가 생겨 그 회전축의 휨이 발생한다. 라미네이트 롤러(23)의 내부에서는, 그 마이너스 변위(s)에 따라서 반력이 생겨 이것이 몰드(22)에 가해진다.

도 7에 도시한 바와 같은 실시 형태에 있어서, 라미네이트 롤러(23)는 비교적 높은 강성과 기계 정밀도를 갖고 있는 것이 바람직하다. 라미네이트 롤러가 휘는 것을 방지하여 그 길이 방향으로 균일한 반발력을 몰드에 미치게 할 수 있도록 하기 위해서이다. 몰드 압박부도 비교적 높은 강성과 기계 정밀도를 갖고 있는 것이 바람직하다. 라미네이트 롤러(23)의 길이방향으로 균일하고 또한 일정한 반발력을 몰드(22)에 미치게 하기 위해서이다. 이러한 몰드 압박부의 전형적인 예에는 예컨대, 압입 나사, 에어 실린더, 싱커(sinker) 등을 이용한 것이 포함되지만 이것에 한정되는 것은 아니다.

또한, 먼저 도 2를 참조하여 설명한 PDP 용 기판의 제조 장치에 있어서 인정을 받는 것과 같은 제2의 직선 이동가이드를 설치하지 않고서, 한 쌍의 직선 이동가이드 중의 한편의 직선 이동가이드의 위에 라미네이트 롤러의 베어링부와 같이 커플링을 통해 회전 모터가 설치되어 있더라도 좋다. 이 경우, 회전 모터는 그 구동에 의해, 라미네이트 롤러 및 그 베어링부와 같이 직선 이동가이드 상을 이동한다. 또한, 통상적으로, 한 쌍의 직선 이동가이드의 다른 쪽에는 회전 모터와 거의 동일한 중량을 갖은 싱커가 구비된다. 이 때, 라미네이트 롤러의 양끝의 주행 저항은 동일하게 된다.

또한, 상기 실시 형태로서는, 회전 모터 등의 구동부가 라미네이트 롤러에 회전 운동을 부여하여 라미네이트 롤러를 몰드의 홈부를 따라 전방으로 이동시키고 있지만, 본 발명은 이러한 구동 방식에 한정되지 않는다. 전술한 회전 모터 및 제2의 직선 이동가이드를 사용하는 대신해서, 라미네이트 롤러의 베어링부에 회전 모터가 직접 작용하여 라미네이트 롤러를 직선 이동가이드 상에서 이동시키더라도 좋다. 이러한 경우, 라미네이트 롤러는 회전 모터에 의해서 회전하지 않는다. 그러나, 이동 중에는 라미네이트 롤러와 몰드 사이에 접촉 저항이 발생하여 라미네이트 롤러를 회전시킬 수 있다. 이 때, 라미네이트 롤러에는 구름 저항이 생겨 몰드를 변형시킬 우려가 있다. 특히, 그와 같은 변형에 의해서 몰드가 누적적으로 신장하는 경우, 리브의 전사 위치 정밀도의 저하나 주름 발생을 초래할 우려가 있다. 따라서, 이 경우의 라미네이트 롤러는 될 수 있는 한 낮은 구름 저항을 갖고 있는 것이 바람직하다.

도 8 및 도 9는 전술한 바와 같은 실시 형태에 따르는 PDP 용 기판의 제조 장치의 전형적인 예를 개략적으로 도시한 사시도이다. 이것들의 제조 장치에 있어서, 주요 구성은 먼저 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명한 PDP 용 기판의 제조 장치와 동일하기 때문에 자세한 설명은 생략한다.

도 8의 PDP 용 기판의 제조 장치로는, 제2의 직선 이동가이드(26)가 회전 모터(27)를 부착한 공통 기부(35)를 이동시키기 위한 직선 이동가이드로서 기능을 하고 있다. 또한, 이 제조 장치에는 회전 모터(27)를 동기 이동시키기 위한 동기 이동 기구(36)가 구비되어 있고, 또한, 회전 모터 동기 이동 기구(36)는 회전 모터(37)에 의해서 구동 가능하다.

도 9의 PDP 용 기판의 제조 장치로는 제2의 직선 이동가이드가 설치되지 않는다. 이 제조 장치로는, 베어링 지지부(25), 커플링(28) 및 회전 모터(27)를 부착한 공통 기부(35)가 직선 이동가이드(24) 상으로 이동할 수 있다.

또한, 전술의 PDP 용 기판으로서는, 간격을 두고 상호 평행한 홈부를 갖은 몰드를 이용하여 유리 평판 상에 리브가 한 방향으로 배설되어 있지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 상호 교차한 홈부를 갖은 몰드를 이용하여, 유리 평판 상에 리브를 배설하여 평행한 십자형의 패턴을 형성하더라도 좋다. 통상, 몰드의 홈부는 상호 직교하며, 따라서, 홈부의 직교에 맞춰 직교하는 리브가 유리 평판 상에 배치된다. 이러한 직교하는 리브 패턴의 제작은 리브 전구체 홈부의 충전 및 몰드의 제거를 제외하고 도 5및 도 6을 참조하고 상술한 제조 방법과 실질적으로 동일한 방법에 의해서 이루어질 수 있다.

예컨대, 리브 전구체의 몰드의 홈부 충전은 홈부를 따라 상호 다른 2방향으로 라미네이트 롤러를 몰드 상에서 이동시키는 것에 따라 행할 수 있다. 상세히 설명하면 도 5a 내지 도 6e에 도시된 바와 같이, 한 방향으로 배설한 홈부를 따라서 라미네이트 롤러를 몰드 상으로 이동시켜 그 홈부에 리브 전구체를 충전한다. 라미네이트 롤러 또는 몰드를 상대적으로 90°회전시킨 후, 다시 도 5a 내지 도 6e에 도시된 바와 같이 하여, 상기 홈부의 배설 방향과 수직한 방향으로 배설한 다음 하나의 홈부에 계속해서 리브 전구체를 충전한다. 이리 하여, 복수의 방향으로 홈부를 배설한 몰드를 이용하여 복잡한 패턴의 리브를 유리 평판 상에 설치하는 경우에, 전술된 바와 같이 홈부를 따라서 압력을 복수 회 인가하면 리브 전구체를 홈부의 전체에 충전할 수 있다. 혹은, 리브 전구체의 충전이 가능한 한 라미네이트 롤러의 진행방향으로 대하여 약 45°이내로 몰드의 홈부를 기울이더라도 좋다.

또한, 평행 십자형의 리브 패턴 등의 비직선 리브 패턴의 경우, 통상적으로 박리시에 리브가 몰드의 장해가 되지 않는 높이 및 형상으로 설계해야 한다. 이 때, 몰드의 제거는 몰드가 리브에 장해를 부여하지 않는 방향으로 행하여 안정된 박리를 행한다.

예

이하, 본 발명은 실시예를 참조하여 설명될 것이다. 그러나, 하기의 실시예는 본 발명을 어떠한 제한하는 것으로 해석되어서는 안 된다.

예 1

우선, 하기의 성분 및 중량비로 혼합하여 혼합 용액을 조제했다.

지방족 우레탄 아크릴레이트 올리고머(상품명 "Photomer 6010", Henkel Co. 제조) : 90 중량부

빛 경화 개시제(2-히드록시-2-에틸-1-1-페닐-프로판-1-원, 상품명 "Darocur 1173", Clariant Co. 제조) : 1 중량부

높은 유전 매체(프로필렌 카르보네이트, Wako Pure Chemical IndustriesCo., Ltd. 제조) : 8.1 중량부

이온 도전성 물질(과염소산 리튬, Wako Pure Chemical Industries Co., Ltd. 제조) : 0.9 중량부

또한, 두께 50㎛ 의 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 필름을 미세하게 절단하여, 2장의 필름편(폭 30cm ×길이 20cm)을 제작했다.

이어서, 제작한 2장의 필름편의 한편에 전술한 혼합 용액을 5cm³의 량으로 적하했다. 그 후, 하나의 필름편을 혼합 용액을 통해 다른 한 쪽의 필름편에 중첩시켜 혼합 용액을 박막형으로 넓어지게 했다. 그 때, 나이프 코터를 이용하여 혼합 용액의 박막의 두께를 500㎛에 조정하였다. 그 후, UV 광원을 이용하여, 200-450nm 의 파장으로 이루어지는 빛을 상기 필름편을 통해 혼합 용액의 박막에 30초 동안 조사하여 경화시켰다.

얻어진 시트의 표면 저항을 EOS/ESD 협회(Electric Overstress/ Electrostatic Discharge Association) 표준 S11.11의 지침에 따라서 측정했다. 또한, 동일한 시트의 정전 전압을 이하의 방법으로 측정했다. 즉, 두께 50㎛의 PET 필름을 준비하여 시험 시트에 접합한 후, 시험 시트를 재빠르게 박리하여 그 직후에 휴대용 정전 전압계(3M 제조)를 이용하여 시트의 정전 전압을 측정했다. 다음과 같은 측정결과를 얻을 수 있었다.

시트의 표면 저항 : 2.0 ×10⁹Ω/□

시트의 정전 전압 : 거의 0 V(볼트)

상기한 측정 결과로부터 분명한 바와 같이, 본 실시예로 제작한 시트는 실제로 거의 대전하지 않는다. 따라서, 본 실시예의 표면 저항은 시트의 대전을 막는 데 충분히 낮은 값인 것을 알 수 있다.

이어서, 하기와 같이 전술한 혼합 용액으로부터 실제로 몰드를 제작하여 그것을 이용하여 PDP 용 기판을 제조했다. 우선, 혼합 용액으로부터 리브를 성형하는 데 사용하기 위해, 리브의 형상에 대응하는 돌기부를 한 방향으로 간격을 두고 배치한 표면을 갖는 금형을 미리 준비했다. 그 다음에, 그 금형의 표면 부분에 혼합 용액을 충전한 후, 그 혼합 용액을 통해 PET 필름을 금형에 접합시켰다. 이어서, 상기한 시트의 제작과 동일하게, UV 광원을 이용하여 200-450nm 의 빛을 30초 동안 혼합 용액에 조사하여 혼합 용액의 빛 경화를 행하였다. 그 후, 금형을 제거하여 리브의 형상에 대응하는 홈부를 갖은 몰드를 뜨기 시작했다. 이 때, 이 몰드는 무색 투명이며, 또한, 가요성을 갖고 있는 것이 눈으로 확인되었다.

이어서, 추출한 몰드를 전술한 기판 제조 장치에 적용하여, 그 홈부에 빛 경화 가능한 리브 전구체를 충전하였다. 여기서, 충전한 빛 경화 가능한 리브 전구체의 조성은 다음과 같다.

비스페놀 A 디글리시딜 에테르 메타크릴산 부가물(Kyoeisha Chemical Co., Ltd. 제조) : 5 중량부

트리에틸렌 글리콜 디메타아크릴레이트(Wako Pure Chemical Industries Co., Ltd. 제조) : 5 중량부

1,3-부탄디올(Wako Pure Chemical Industries Co., Ltd. 제조) : 10 중량부

빛 경화 개시제[비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스폰옥사이드, 상품명 "Irgacure 819", Ciba-Greigy Co. 제조) : 0.1 중량부

POCA(포스페이트 프로폭시알킬 폴리올) : 0.5 중량부

납 유리와 세라믹의 혼합 분말(상품명 "RFW-030", Asahi Glass Cp., Ltd. 제조) : 79.4 중량부

그 후, 형광 램프를 이용하여 400∼500nm 의 파장을 갖은 빛을 몰드 및 유리 평판의 양자를 통해 리브 전구체에 30초 동안 조사하여 경화물을 얻었다. 그 후, 몰드를 제거하고 유리 평판에 경화물을 전사하였다. 이 때, 경화물이 몰드에 잔존하지 않고, 또 주위의 대전한 먼지들이 거의 부착되지 않은 것으로 관찰되었다. 한편, 유리 평판에 전사된 경화물은 유리 평판 상에서 균일한 형상을 지니고, 또한, 공기도 거의 혼입되지 않은 것을 알 수 있었다.

예 2

상기 예 1에 기재의 수법을 반복했지만, 본 예에서는 하기의 성분(각각 상기 예 1에 사용한 것과 동일함)을 아래의 중량비로 혼합하여 혼합 용액을 조제하여 시트를 제작했다.

지방족 우레탄 아크릴레이트 올리고머 : 96 중량부

빛 경화 개시제 : 1 중량부

고유전 매체 : 3.6 중량부

이온 도전성 물질 : 0.4 중량부

또한, 얻어진 시트의 표면 저항 및 정전 전압을 상기 실시예 1과 같이 하여측정한 바, 다음과 같은 측정 결과를 얻을 수 있었다.

시트의 표면 저항 : 3.3 ×10¹⁰Ω/□

시트의 정전 전압 : 거의 0 V

본 예의 시트의 표면 저항은 예 1의 그것보다도 높다. 그러나, 정전 전압은 거의 0 V 이며, 시트는 실제로 거의 대전하지 않았다. 따라서, 본 예의 표면 저항은 그 시트의 대전을 막는 데 충분히 낮은 값인 것을 알 수 있다.

후속하여, 상기 예 1과 같이 하여, 전술의 혼합 용액으로부터 실제로 몰드를 제작하였다. 몰드에 의해 경화물을 유리 평판 상에 전사할 수 있었다. 또한, 경화물의 유리 평판으로의 전사 후, 경화물이 몰드에 잔존하지 않고, 또 주위의 대전한 먼지들이 거의 부착되지 않은 것이 관찰되었다. 한편, 경화물은 유리 평판 상에서 균일한 형상을 지니고, 또 공기도 거의 혼입되지 않은 것을 알 수 있었다.

예 3

상기 예 1에 기재의 수법을 반복했지만, 본 예에서는 하기의 성분(각각 상기 예 1로 사용한 것과 동일함)을 아래의 중량비로 혼합하여 혼합 용액을 조제하여 시트를 제작했다.

지방족 우레탄 아크릴레이트 올리고머 : 99 중량부

빛 경화 개시제 : 1 중량부

또한, 얻어진 시트의 표면 저항 및 정전 전압을 상기 예 1과 같이 하여 측정한 바, 다음과 같은 측정 결과를 얻을 수 있었다.

시트의 표면 저항 : 2.0 ×10¹⁴Ω/□이상

시트의 정전 전압 : 2000 V 이상

본 예의 시트의 표면 저항은 예 1의 그것보다도 높다. 또한, 정전 전압은 2000 V 이상이며, 시트는 실제로 대전하고 있다. 따라서, 본 예의 표면 저항은 그 대전을 막는 데 충분한 값이 아닌 것을 알 수 있었다.

이어서, 상기 예 1과 같이 하여, 전술한 혼합 용액으로부터 실제로 몰드를 제작하여 그 몰드에 의해 경화물을 유리 평판 상에 전사하였다. 그러나, 본 예에서는, 시트의 표면 저항이 그 시트의 대전을 막는 데 충분한 값이 아니었다. 경화물의 유리 평판에의 전사 후, 경화물이 몰드에 잔존하지 않고, 또 주위의 대전한 먼지들이 거의 부착되지 않았다. 또한, 경화물은 유리 평판 상에서 균일한 형상을 지니고, 공기도 거의 혼입되지 않았지만, 주위의 대전한 머지가 몰드에 부착되기 때문에 결함이 관찰되었다.

이상으로 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면,

(1) 빛 경화성 수지를 포함하는 감광성 세라믹 페이스트(빛 경화 세라믹)를 몰드 또는 기판 유리의 전면에 미리 도포해 둘 필요가 없다.

(2) 가요성을 갖는 몰드와 유리 평판의 사이의 라미네이트 개시점에 공급한 빛 경화 세라믹 페이스트를 몰드 상의 리브 방향과 동일한 방향으로 라미네이트화 함으로써, 감압 분위기 하에서 작업 할 필요도 없고, 매우 효과적으로 기포의 혼입을 방지하며, 빛 경화 세라믹 페이스트를 균일하게 몰드와 유리 평판의 사이에 균일하게 넓혀 갈 수 있다.

(3) 균일한 두께의 리브와 유전체층을 동시에 형성할 수 있다. 이 라미네이트된 상태로 빛 경화 세라믹 페이스트를 경화시켜 몰드를 박리하는 것으로, 균일한 두께의 유전체층과 리브를 동시에 유리 평판 상에 얻을 수 있다.

(4) 높은 품질의 리브를 높은 위치 정밀도로 제조할 수 있고, 균일한 두께의 유전체층도 동시에 제조 가능하므로 유전체층과 리브를 매우 저비용에서 제조가 가능하게 된다.

(5) 특히, 탄성체를 표면에 감은 높은 원통성의 라미네이트 롤러를 이용하면, 롤러 자신의 중량만을 이용한 하중을 부여하여 라미네이션을 행할 수 있고, 유리판 및 몰드가 미세한 두께 오차 및 롤러의 휨이니 기계의 작업면의 평면 정밀도 오차를 용이하게 허용할 수 있고, 그 결과로서 폭 1m 이상 및 길이 0.6m 이상의 넓은 면적의 유리 평판 상에 있어서, 수 ㎛ 에서 수 십 ㎛의 범위에서 임의의 두께로 균일한 유전체층과 그 넓은 면적 전부에 있어서 균일한 리브 형상을 동시에 얻을 수 있다.

(6) 몰드와 유리 평판의 열팽창률의 차를 이용하여 소정의 온도 환경에서 라미네이션을 행함으로써 유리 평판 상의 전극 피치에 대응하여 몰드 상의 리브 피치를 제어할 수 있다.

(7) 격자형 등의 복잡한 리브 패턴형상의 형성에 관해서도, 라미네이션 공정을 가로 및 세로 방향으로 반복함으로써 몰드 상의 리브 홈부로의 페이스트 충전을 충분히 행하여 높은 품질의 복잡한 리브 패턴도 마찬가지로 제조할 수 있다.

Claims (10)

1. 평판과 상기 평판 상의 리브를 갖춘 플라즈마 디스플레이 패널용 기판을 제조하는 장치로서,

   상기 평판용 테이블과,

   상기 평판 상에 상기 리브의 전구체를 설치하기 위한 리브 전구체 공급부와,

   상기 평판 상에 설치된 상기 리브의 전구체의 위에 설치되는, 일정한 간격을 두고 서로 평행하게 배치된 홈부를 적어도 갖는 가요성의 몰드와,

   상기 몰드에 압력을 부여하여 그 몰드를 상기 리브의 전구체를 통해 상기 평판과 밀착시키기 위한 몰드 압박부와,

   상기 몰드 압박부를 상기 몰드의 상기 홈부를 따라 이동시키기 위한 구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 기판의 제조 장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 구동부는 상기 몰드를 사이에 두고 그 몰드의 상기 홈부와 평행하게 설치된 한 쌍의 직선 이동가이드를 구비하며, 상기 직선 이동가이드를 따라 상기 몰드 압박부가 이동 가능한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 기판의 제조 장치.
3. 제2항에 있어서, 상기 몰드 압박부는 라미네이트 롤러이며, 상기 구동부는,

   상기 한 쌍의 직선 이동가이드의 외측에 상기 직선 이동가이드와 평행하게설치된 하나 이상의 제2의 직선 이동가이드와,

   상기 제2의 직선 이동가이드 상을 이동 가능하게 설치된 회전 모터와,

   상기 회전 모터와 상기 라미네이트 롤러와의 회전축을 결합하기 위한 커플링을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 기판의 제조 장치.
4. 플라즈마 디스플레이 패널용 기판의 제조에 이용하는 몰드로서, 대전 방지 가공이 실시되어 있는 것을 특징으로 하는 몰드.
5. 제4항에 있어서, 상기 대전 방지 가공이 이온 도전성의 부여에 의한 것을 특징으로 하는 몰드.
6. 플라즈마 디스플레이 패널용 기판의 제조에 이용되는 몰드로서,

   아크릴계의 기재와,

   상기 아크릴계의 기재에 분산된 이온 도전성 물질과,

   상기 아크릴계의 기재에 분산되어 상기 이온 도전성 물질을 전리시킬 수 있는 매체를 구비하는 것을 특징으로 하는 몰드.
7. 제6항에 있어서, 상기 아크릴계의 기재는 우레탄 아크릴레이트, 폴리에스테르 아크릴레이트 또는 폴리에스테르 아크릴레이트의 경화물로 이루어지고 가요성을갖고 있는 것을 특징으로 하는 몰드.
8. 제6항 또는 제7항에 있어서, 상기 매체는 프로필렌 카르보네이트, 에틸렌 글리콜 혹은 락톤 또는 이들의 유도체인 것을 특징으로 하는 몰드.
9. 제6항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이온 도전성 물질이 과염소산 리튬인 것을 특징으로 하는 몰드.
10. 평판과 이 평판 상의 리브를 갖춘 플라즈마 디스플레이 패널용 기판을 제조하는 방법으로서,

    (A) 상기 평판 상에 상기 리브의 전구체를 설치하는 리브 전구체 공급 단계와,

    일정한 간격을 두고 서로 평행하게 배치된 홈부를 적어도 갖고 대전 방지 가공이 실시된 가요성 몰드에 상기 리브 전구체를 충전하는 리브 전구체 충전 단계와,

    상기 리브 전구체를 경화하여 성형체를 형성하는 리브 전구체 성형 단계와,

    상기 몰드를 제거하고, 상기 성형체를 상기 평판에 전사하는 리브 성형체 전사 단계를 포함하는 것과,

    (B) 상기 리브 전구체 충전 단계에서,

    상기 몰드를, 그것에 배치된 홈부의 일단으로부터 타단까지 상기 홈부를 따라서 압박하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 기판의 제조 방법.