KR20020042835A - 산업 용수 시스템 용도의 형광 화합물 - Google Patents

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바바라 이. 모리아티
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로날드 제이. 알레인, 지이 엠 브랜논, 더블유 이 패리
날코케미칼컴파니
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Abstract

하기 화학식 I의 형광 화합물을 기술하고 청구한다. 이 불활성 형광 화합물은 산화성 살생제에 내성이 있는 것으로 밝혀졌다. 바람직한 관능기를 가진 1,8-나프탈산 무수물 및 적절하게 치환된 o-페닐렌 디아민 사이의 축합 반응을 상기 화합물의 제조 방법의 하나로서 기술하고 청구한다. 또한, 철 분말과 같은 적합한 환원제에 의해 니트로기의 제자리 환원이 수행될 경우, o-아미노-니트로-방향족 화합물을 다양한 1,8-나프탈산 무수물과 축합시킬 수 있다. 생성된 형광 화합물을 산업 용수 시스템의 불활성 형광 추적자로 사용할 수 있다.
<화학식 I>
상기 식에서, R1및 R2가 둘다 SO3M이거나 또는 R1및 R2중의 하나가 SO3M이고 나머지 하나가 COOM(여기서, M은 H, Na, K, Rb, Cs, Li 또는 암모늄으로 이루어진 군으로부터 선택됨)이다.

Description

산업 용수 시스템 용도의 형광 화합물{Fluorescent Compounds for Use in Industrial Water Systems}
산업 용수 시스템에서 수력의 손실 및 이득을 추적하기 위해 불활성 형광 화합물을 사용하는 것은 1980년대 후반 이래 공지되었다.
산업 용수 시스템은 매우 많다. 전형적인 산업 용수 시스템의 하나는 물이 열 교환 역할에 사용되는 냉각탑이다. 이러한 시스템에서 처리제 사용을 최적화하고 전반적으로 적절한 수력 조건을 시스템에서 확실히 유지하기 위해서, 환경에 대한 특정 권유사용량에 따라서 시스템에 첨가되는 처리제의 양을 결정하는 것이 유리하다. 만약 처리제가 처리량 미만일 경우, 스케일링 염 축적 및 부식이 신속하게 발생할 수 있다. 만약 처리제가 처리량보다 많을 경우, 그만큼의 비용 손실과 함께 처리제가 낭비된다.
불활성 형광 화합물을 포함하는 추적자를 사용한, 용수 이동체에 첨가되는처리제의 양의 연속적인 유동물상 감시는 미국 특허 제4,783,314호 및 제4,992,380호에 기술된 바와 같이 확립된 방법이다. 이러한 특허들에 포함된 배경 정보를 본원에 반복할 필요는 없지만 그 내용은 참고문헌으로서 본원에 인용된다.
그러한 시스템에서 형광 화합물이 유용하려면, 사용되는 형광 화합물은 비소모성이거나 또는 시스템에 대하여 불활성이어야 한다. 불활성 형광 추적자로 기능할 수 있는 특정 공지된 화합물이 있지만, 그러한 화합물은 많지 않다. 따라서, 용수 시스템에서, 특히 산화성 살생제를 함유하는 용수 시스템에서 기능할 수 있는 또다른 불활성 형광 추적자의 개발에 대한 필요성이 여전히 존재한다.
<발명의 요약>
본원에 청구된 발명의 제1면은 화학식 I의 형광 화합물이다.
상기 식에서, R1및 R2는 둘다 SO3M이거나 또는 R1및 R2중의 하나가 SO3M이고 나머지 하나가 COOM(여기서, M은 H, Na, K, Rb, Cs, Li 또는 암모늄으로 이루어진 군으로부터 선택됨)이다.
본원에 청구된 발명의 제2면은 화학식 II의 1,8-나프탈산 무수물을 화학식 III의 o-페닐렌 디아민과 축합하는 것을 포함함을 특징으로 하는 화학식 I의 형광 화합물의 제조 방법이다.
<화학식 I>
상기 식에서, R1및 R2은 앞에서 정의된 바와 같다.
본원에 청구된 발명의 제3면은 적합한 환원제에 의해 니트로 기의 제자리 환원이 수행되는 방식으로 화학식 IV의 o-아미노-니트로 방향족 화합물을 적절한 화학식 II의 1,8-나프탈산 무수물과 축합하여 화학식 I의 형광 화합물을 제조하는 방법이다.
<화학식 I>
<화학식 II>
상기 식에서, R1및 R2는 앞에서 정의된 바와 같다.
본원에 청구된 발명의 제4면은 화학식 I의 화합물의 산업 용수 시스템의 불활성 형광 추적자로서의 용도이다.
<화학식 I>
상기 식에서, R1및 R2는 앞에서 정의된 바와 같다.
본 발명은 형광 화합물에 관한 것이다. 일면의 본 발명은 산업 용수 시스템의 불활성 추적자(tracer)로서의 용도를 위한 안정성 시험을 거친 합성된 형광 화합물에 관한 것이다. 또다른 일면의 본 발명은 형광 화합물 생성을 위한 대체적인 방법을 제공한다.
본 발명은 특정 나프탈이미드 기재 화합물의 발견을 기초로 한다. 이 나프탈이미드 기재 화합물은 형광성일 뿐만 아니라 표백제, 브롬, 안정화 염소 및 안정화 브롬과 같은 산화성 살생제의 존재 하에서도 안정하다. 따라서, 이 특정 나프탈이미드 기재 화합물은 표백제 및(또는) 안정화 브롬을 함유한 산업 용수 시스템의 불활성 형광 추적자로서 특히 유용하다.
이 특정 나프탈이미드 기재 화합물은 적절한 관능기를 지닌 1,8-나프탈산 무수물 및 적절하게 치환된 o-페닐렌 디아민 사이의 축합을 통하여 용이하게 제조될 수 있다. 또한, 이들은 적합한 환원제의 존재 하에 적절한 관능성을 지닌 1,8-나프탈산 무수물을 o-아미노-니트로 방향족 화합물과 축합시킴으로써 제조될 수 있다.
본 발명의 형광 화합물은 하기 화학식 I의 나프탈이미드 기재 화합물이다.
<화학식 I>
상기 식에서, R1및 R2는 둘다 SO3M이거나 또는 R1및 R2중의 하나가 SO3M이고 나머지 하나가 COOM(여기서, M은 H, Na, K, Rb, Cs, Li 또는 암모늄으로 이루어진 군으로부터 선택됨)이다.
본 발명의 형광 화합물은 바람직한 관능기를 지닌 1,8-나프탈산 무수물과 적절하게 치환된 o-페닐렌 디아민 사이의 1단계 축합에 의해 용이하게 제조될 수 있다. 본 발명에 따른 형광 화합물의 제조를 위해 적합한 1,8-나프탈산 무수물은 화학식 II의 군으로부터 선택된 것이다.
<화학식 II>
상기 식에서, R2는 앞에서 정의된 바와 같다.
R2가 SO3K일 경우, 화합물 II는 4-술포-1,8-나프탈산 무수물 칼륨염이고, 화합물 II는 알드리치 케미칼 컴파니(Aldrich Chemical Company, P.O. Box 2060, Milwaukee, WI 53201 USA; 전화번호 (414)273-3850 및 (800)558-9160)로부터 구입가능하다.
유사하게 본 발명의 형광 화합물의 제조를 위해 유용한 적합한 o-페닐렌 디아민 화합물은 화학식 III의 화합물이다.
<화학식 III>
상기 식에서, R1은 앞에서 정의된 바와 같다.
R1이 COOH일 경우, 화합물 III는 3,4-디아미노벤조산이고, 화합물 III는 알드리치로부터 구입가능하다. R1이 SO3H일 경우, 화합물 III은 3,4-디아미노벤젠 술폰산이고, 화합물 III는 바이엘 AG(Bayer AG, Organic Chemicals Business Group, Marketing, Leverkusen, D-51368, Germany, 전화번호 +49 214 30-8514)로부터 구입가능하다.
본 발명의 바람직한 실시양태에서, 형광 화합물은 적절하게 치환된 나프탈산 무수물과 적절하게 치환된 o-페닐렌 디아민 사이의 1단계 축합으로 제조될 수 있다.
또한, 철 분말과 같은, 그러나 이에 한정되지 않는 환원제에 의해 니트로기의 제자리 환원이 수행되는 방식으로 축합될 경우, 화학식 IV의 o-아미노-니트로 방향족 화합물을 적절한 1,8-나프탈산 무수물과 축합할 수 있다.
<화학식 IV>
상기 식에서, R1은 앞에서 정의된 바와 같다.
R1이 SO3M일 경우, 화합물 IV는 o-니트로아닐린-p-술폰산 (및 그의 염)이고, 화합물 IV는 바이엘 AG로부터 구입할 수 있다. R1이 COOH일 경우, 화합물 IV는 4-아미노-3-니트로 벤조산이고, 화합물 IV는 피셔 사이언티픽(Fisher Scientific, 600 Business Center Drive, Pittsburgh PA 15205, 전화번호 1-800-227-6701)의 자사인 ACROS 오가닉스(ACROS Organics)로부터 구입할 수 있다. R1이 SO3M일 경우, 화합물 IV는 2-니트로아닐린-4-술폰산 및 그의 염이고, 화합물 IV는 TCI 아메리카(TCI America, 9211 North Harborgate Street, Portland OR 97203, 전화번호 800-423-8616)로부터 구입할 수 있다.
형광은 더 짧은 파장(더 높은 주파수)의 양자(빛)를 흡수한 분자에 의한 더 긴 파장(더 낮은 주파수)의 양자(에너지)의 재방출로 정의된다. 형광 과정 동안의 에너지 흡수 및 방사(방출)는 둘다 특정 분자(구조)의 독특한 특성이다. 빛은 분자에 흡수되어 전자가 더 높은 전자 상태로 들뜨게 한다. 그 후에 전자는 들뜬 상태에서 약 10-8초 동안 머문 후, 모든 과잉 에너지가 다른 분자와의 충돌에 의해 소실되지 않는다고 가정하면, 전자는 바닥 상태로 되돌아간다. 전자가 그의 바닥 상태로 되돌아가는 동안 에너지가 방출된다. 스토크스 이동(Stokes' shift)은 흡수한 빛과 방출된 빛 사이의 파장 차이이다. 방출되는 파장은 에너지 보존 법칙에 따라 항상 입사되는 파장보다 길거나 또는 동일하다. 파장의 차이는 물질의 원자 격자에서 열로서 흡수된다.
형광 특성을 시험하였을 때, 본원에 청구된 화합물의 형광 신호 들뜸 값이 380 nm 이상임이 밝혀졌다. 따라서 이 화합물은 날코케미칼컴파니(Nalco Chemical Company)의 불활성 추적자 1,3,6,8-피렌 테트라술폰산 사나트륨염(PTSA)과 다른 형광신호를 갖는다. PTSA는 날코케미칼컴파니(One Nalco Center, Naperville, IL 60563, 전화 번호 (630)305-1000)로부터 구입가능하다. 따라서 본원에서 청구된 추적자는 형광 신호가 PTSA의 형광 신호와 중첩되지 않으므로, PTSA와 함께 감시 및 제어를 목적으로 산업 용수 시스템에 사용될 수 있다.
본 발명의 불활성 형광 화합물은 들뜸 및 방출 최대값이 각각 385-400 nm 및 510-530 nm의 범위이다. 본 발명의 화합물에 의해 제공되는 이 넓은 분광 작동 범위는 불활성 형광 추적자로서 이들 화합물의 유용성을 향상시킬 것이다. 또한 들뜸 및 방출 최대치 사이의 큰 차이(스토크스 이동이라 불리움)는 바탕 탄화수소에 의한 간섭을 최소하는데에 기여할 수 있는데, 이는 이처럼 큰 스토크스 이동을 가진 물질이 거의 없기 때문이다.
본 발명의 형광 화합물은 불활성 형광 추적자를 필요로 하는 임의의 산업 용수 시스템에 사용될 수 있다. 그러한 시스템의 예는 냉각탑 용수 시스템(개방 재순환, 폐쇄 및 관류 시스템(open recirculating, closed and once-through system)을 포함함); 유정(petroleum wells), 시추공 형성(downhole formation), 지열 우물(geothermal wells) 및 기타 오일 분야 적용; 보일러 및 보일러 용수 시스템; 광물 수세, 부유선광(flotation) 및 배너팩션(benefaction)을 포함하는 광물 공정 용수; 제지 공장 증해기, 수세기, 표백 공장 및 백수 시스템; 펄프 산업의 흑액 증류기; 기체 세척기(gas scrubber) 및 공기 수세기; 야금 산업의 연속 주물 공정; 공기 조절 및 냉장 시스템; 산업 및 석유 공정 용수; 저온살균 용수와 같은 간접 접촉 냉각 및 가열 용수; 용수 재생 및 정화 시스템; 막 여과 용수 시스템; 식품(고기, 야채, 사탕 수수, 사탕 무우, 곡물, 가금류, 과일 및 콩) 가공 유동물; 및 청정제, 액체-고체 적용, 도시 하수 처리 및 산업용 또는 도시용 용수 시스템에서와 같은 쓰레기 처리 시스템 등이다.
본 발명의 형광 화합물을 산업 용수 시스템의 불활성 추적자로 사용할 때, 일반적으로 형광 화합물을 환경에 실용적인 최소량으로 사용하는 것이 바람직하다. 물론 용수 시스템에 첨가되는 형광 화합물의 양은 적어도 형광 신호 측정이 이루어지기에 충분한 양이어야 한다. 일반적으로, 용수 시스템의 견본 추출 지점에서 불활성 형광 화합물의 시스템 농도는 약 0.01 ppb 이상이고 약 10 ppm 이하여야 한다. 바람직하게는, 형광 화합물의 농도는 약 50 ppb 내지 약 500 ppb이다. 가장 바람직하게는, 형광 화합물의 농도는 약 100 ppb 내지 400 ppb이다. 물론 10 ppm이상의 불활성 형광 화합물을 용수 시스템에 첨가하고 화합물의 형광 신호를 탐지하는 것도 가능하지만, 10 ppm 이상의 임의의 양의 불활성 형광 화합물을 사용하는 것은 불활성 형광 화합물을 불필요하게 낭비하는 것이다.
본원에서 사용하는 용어 "불활성"의 의미는 불활성 형광 추적자에 대한 시스템 중의 임의의 다른 화학 물질, 또는 야금 조성, 미생물 활성, 살생제 농도, 열 변화 또는 전체 열 함량과 같은 다른 시스템 매개변수의 영향이 감지할 수 없을 정도이거나 또는 심각하지 않다는 것이다. "감지할 수 없을 정도이거나 또는 심각하지 않은"이 의미하는 정도를 정량화한다면, 이 진술은 어떤 불활성 형광 화합물의 형광 신호의 변화가 산업 용수 시스템에서 일반적으로 부딪히게 되는 조건하에서 10 % 미만인 것을 의미한다. 산업 용수 시스템에서 일반적으로 부딪히게 되는 조건은 산업 용수 시스템의 숙련된 당업자들에게 공지되어 있다.
물론 산업 용수 시스템에서 일반적이지 않는 스트레스를 형광 화합물에 가하여 10 % 이상의 형광 신호 변화를 야기하는 것은 가능하다. 예를 들어, 본원에 청구된 화합물 중 한 화합물(디술포나프탈이미드 또는 DSN)의 형광 신호는 만약 이 화합물이 42000 ppm 이상의 피로포스페이트(PO4로서), 또는 34000 ppm 이상의 나트륨(Na+로서)과 부딪히면 10 % 이상 변화할 것이다. 본원에서 청구된 화합물 중 또다른 화합물(카르복시술포 나프탈이미드 또는 CSN)의 형광 신호는 만약 이 화합물이 3100 ppm 이상의 실리케이트(SiO2로서), 또는 41000 ppm 이상의 나트륨(Na+로서)과 부딪히면 10 % 이상 변화할 것이다.
본원에 청구된 화합물은 산업 용수 시스템의 표준 성분에 부딪힐 때 불활성을 유지하는 것으로 밝혀졌다. 그러나, 본원에 청구된 화합물의 불활성은 pH의 변화에 의해 영향을 받는다는 것이 또한 밝혀졌다. DSN 화합물은 약 2 내지 약 9의 pH 범위에서 불활성인 것으로 밝혀졌고, CSN 화합물은 약 5 내지 약 10의 pH 범위에서 불활성인 것으로 밝혀졌다. 이러한 pH 범위 내에서 용수 시스템을 운전할 때 DSN 및 CSN 둘다 효과적인 불활성 형광 추적자임이 밝혀졌다.
본 발명의 형광 화합물에 의해 제공되는 한 이점은 산화성 살생제의 분해 효과에 대해 밝혀진 불활성이다. 따라서 본 발명의 형광 화합물은 미생물 활성을 최소화하기 위해 산화성 살생제(들)을 사용하는 시스템에 특히 유용하다.
하기 실시예는 본 발명의 실례를 들어 본 발명을 제조하고 사용하도록 숙련된 당업자에게 교시하기 위한 것이다. 이들 실시예는 어떠한 방식으로든 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다.
<실시예 I>
R1이 SO3Na이고 R2가 SO3K인 디술포 나프탈이미드(DSN)의 제조
100 ㎖ 둥근바닥 플라스크에 4-술포-1,8-나프탈산 무수물 칼륨염 3.16 부; 3-니트로-4-아미노벤젠술폰산 나트륨염 2.40 부; 철 분말 1 부; 및 빙초산 30 부를 충전하였다. 혼합물을 6시간 동안 격렬히 교반하면서 환류하였다. 냉각한 후, 여과하여 오렌지색/황색 고상물을 수집하고, 탈이온수 및 이소프로판올로 수세하고 진공 건조하여 표제 화합물 4.21 부를 수득하였다. 조고상물 4 부를 끓는 메탄올 100 부 중에서 교반하고 뜨거운 현탁액을 여과함으로써 상기 물질을 더 정제하였다. 진공 건조하여 짙은 황색 화합물 3.65 부를 수득하였다.
<실시예 II>
R1이 (탄산칼륨을 사용하여 COOK로 전환되는) COOH이고 R2가 SO3K인 카르복시술포 나프탈이미드(CSN)의 제조
100 ㎖ 둥근바닥 플라스크에 4-술포-1,8-나프탈산 무수물 칼륨염 3.16 부; 3,4-디아미노벤조산 1.55 부; 및 빙초산 30 부를 충전하였다. 혼합물을 6시간 동안 격렬히 교반하면서 환류하였고, 이로 인해 현탁액의 외관이 황갈색에서 흐린 황색으로 변하였다. 냉각한 후, 여과하여 황색 고상물을 수집하고, 탈이온수로 수세하고, 진공 건조하여 표제 화합물 4.10 부를 수득하였다.
표제 화합물 1 부를 탈이온수 100 부 중에 현탁시키고, 탄산칼륨을 첨가하여 용액의 pH를 약간 알칼리성이 되게 함으로써 CSN의 수용액을 제조할 수 있다.
<실시예 III>
화학식 I의 화합물의 산화성 살생제 안정성
산화성 살생제 안정성 시험을 다음 방식으로 수행하였다. 목적하는 pH에서 목적하는 양이온 및 음이온의 양을 가지는 모의 수용액을 제조하였다. 이 실험에서 모의 냉각 용수는 Ca(CaCO3으로서) 360 ppm, Mg(CaCO3으로서) 200 ppm, 알칼리성물질(CaCO3으로서) 300 ppm 및 CaCO3의 침전을 막기 위한 포스포네이트 15 ppm을 함유하였다. 그 후에 냉각 용수를 HCl 또는 NaOH로 목적하는 pH에 맞추었다. pH 9에서 시험을 수행하였다.
일련의 갈색병 3개에 목적하는 시험 시료의 라벨을 붙였다. 라벨을 붙인 3개의 병 안에 각각 모의 용수 25㎖를 넣었다. (B 라벨을 붙인) 첫번째 병에 표백제 1200 ppm의 저장 용액 30 ㎕를 넣었다. (S 라벨을 붙인) 두번째 병에 날코케미칼컴파니로부터 STA-BR-EXTM으로서 구입가능한 액상 안정화 브롬 용액 1200 ppm의 저장 용액 30 ㎕를 넣었다. (N 라벨을 붙인) 세번째 병에 증류수 30 ㎕를 넣었다.
시료 제조 직후 및 24시간 후의 형광 분석시에 자유 및 총 염소의 양을 측정하였다. 병을 24시간 동안 암실에 보관하였다. 24시간 후, N으로 표기된 시료를 대조 시료로서 사용하여 형광 측정을 하였다. 산화성 살생제의 존재하에서 소모된 형광%를 아래 나타낸 바와 같이 계산하였다.
산화성 살생제 안정성 데이타를 표 I에 제시하였다. 비교를 위하여, 공지된 불활성 형광 추적자, 즉 1-메톡시피렌-3,6,8-트리술폰산 삼나트륨염(몰레큘라 프로브스(Molecular Probes, 4849 Pitchford Avenue, Eugene, Oregon 97402, 전화 번호 (541)465-8300)로부터 구입가능) 및 피렌-1,3,6,8-테트라술폰산 사나트륨염(PTSA)을 포함시켰다.
나프탈이미드의 산화성 살생제 안정성 데이타
화합물 들뜸(nm) 방출(nm) 표백제(Cl2로서)1 ppm 존재 하에서 24시간 후의 소모% 안정화 Br(Cl2로서) 1 ppm 존재 하에서 24시간 후의 소모%
실시예 I의 화합물디술포 나프탈이미드 387 510 0 % 0 %
실시예 II의 화합물카르복시술포 나프탈이미드 398 519 0 % 3 %
1-메톡시피렌-3,6,8-트리술폰산 삼나트륨염비교예 404 430 12 % 2 %
1,3,6,8-피렌테트라술폰산 사나트륨염비교예 365 400 0 % 0 %
상기 표의 데이타에서 소모된 형광의 양(소모%)이 낮을수록, 보다 양호한 것이다.
결과는 냉각 용수 시스템에서 전형적인 농도의 산화성 살생제 존재 하에서 본 발명의 화합물이 안정하다는 것을 보여준다. 따라서, 본 발명의 화합물은 냉각 용수 시스템의 추적자로서 매우 유용하다. 또한, 본 발명의 불활성 형광 화합물 이외에, 산화성 살생제의 존재 하에서 안정하면서 380 nm 이상의 들뜸을 보이는 화합물은 공지되어 있지 않다.
본원에 개시된 특정 실시예는 본래 예시적인 것으로 간주되어야 한다. 의심할 바 없이, 숙련된 당업자는 상세히 설명된 것 이외의 다양한 변경을 할 수 있을 것이며, 이러한 변경은 첨부된 청구의 범위의 취지 및 범위 안에 포함된다면 본 발명의 한 부분을 형성하는 것으로 이해되어야 할 것이다.

Claims (18)

  1. 화학식 I의 형광 화합물.
    <화학식 I>
    상기 식에서, R1및 R2는 둘다 SO3M이거나 또는 R1및 R2중의 하나가 SO3M이고 나머지 하나가 COOM(여기서, M은 H, Na, K, Rb, Cs, Li 또는 암모늄으로 이루어진 군으로부터 선택됨)이다.
  2. 화학식 II의 1,8-나프탈산 무수물을 화학식 III의 o-페닐렌 디아민과 축합하는 것을 포함함을 특징으로 하는 화학식 I의 형광 화합물의 제조 방법.
    <화학식 I>
    <화학식 II>
    <화학식 III>
    상기 식에서, R1및 R2는 둘다 SO3M이거나 또는 R1및 R2중의 하나는 SO3M이고 나머지 하나는 COOM(여기서, M은 H, Na, K, Rb, Cs, Li 또는 암모늄으로 이루어진 군으로부터 선택됨)이다.
  3. 적합한 환원제에 의해 니트로 기의 제자리 환원이 수행되는 방식으로 수행되는 화학식 IV의 o-아미노-니트로 방향족 화합물과 적절한 화학식 II의 1,8-나프탈산 무수물의 축합에 의한 화학식 I의 화합물의 제조 방법.
    <화학식 I>
    <화학식 IV>
    <화학식 II>
    상기 식에서, R1및 R2는 둘다 SO3M이거나 또는 R1및 R2중의 하나가 SO3M이고 나머지 하나가 COOM(여기서, M은 H, Na, K, Rb, Cs, Li 또는 암모늄으로 이루어진 군으로부터 선택됨)이다.
  4. 화학식 I의 화합물의 산업 용수 시스템의 불활성 형광 추적자(tracer)로서의 용도.
    <화학식 I>
    상기 식에서, R1및 R2는 둘다 SO3M이거나 또는 R1및 R2중의 하나가 SO3M이고 나머지 하나가 COOM(여기서, M은 H, Na, K, Rb, Cs, Li 또는 암모늄으로 이루어진 군으로부터 선택됨)이다.
  5. 제1항에 있어서, R1및 R2가 둘다 SO3M인 화합물.
  6. 제1항에 있어서, R1이 SO3M이고 R2가 COOM인 화합물.
  7. 제1항에 있어서, R1이 COOM이고 R2가 SO3M인 화합물.
  8. 제2항에 있어서, R1및 R2가 둘다 SO3M인 방법.
  9. 제2항에 있어서, R1이 SO3M이고 R2가 COOM인 방법.
  10. 제2항에 있어서, R1이 COOM이고 R2가 SO3M인 방법.
  11. 제3항에 있어서, R1및 R2가 둘다 SO3M인 방법.
  12. 제3항에 있어서, R1이 SO3M이고 R2가 COOM인 방법.
  13. 제3항에 있어서, R1이 COOM이고 R2가 SO3M인 방법.
  14. 제4항에 있어서, R1및 R2가 둘다 SO3M인 용도.
  15. 제4항에 있어서, R1이 SO3M이고 R2가 COOM인 용도.
  16. 제4항에 있어서, R1이 COOM이고 R2가 SO3M인 용도.
  17. 제4항에 있어서, 상기 산업 용수 시스템이 냉각탑인 용도.
  18. 제4항에 있어서, 상기 산업 용수 시스템에서의 상기 형광 화합물의 농도가 약 0.01 ppb 이상이고 약 10 ppm 이하인 용도.
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