KR20020034077A - 고 용해성, 고 소광성, 광안정성히드록시페닐-ｓ-트리아진 ＵＶ 흡수제를 함유하는안정화된 접착제 조성물 및 그로부터 유도된 적층물품 - Google Patents

고 용해성, 고 소광성, 광안정성히드록시페닐-ｓ-트리아진 ＵＶ 흡수제를 함유하는안정화된 접착제 조성물 및 그로부터 유도된 적층물품 Download PDF

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Abstract

본 발명의 접착제 조성물은 고 용해성, 고 몰 소광성 및 광안정성 히드록시페닐-s-트리아진 UV 흡수제 또는 이러한 s-트리아진 UV 흡수제의 혼합물을 혼입하는 것을 통하여 자외선으로부터 유발되는 분해로부터 안정하게된다. 이러한 화합물의 예는 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(3-노닐옥시*-2-히드록시프로필옥시)-5-α-큐밀페닐]-s-트리아진(*는 옥틸옥시, 노닐옥시 및 데실옥시 기의 혼합물을 의미)이다. 이러한 화합물은 고 소광성, 탁월한 광안정성 및 접착제 배합물에서 아주 높은 용해도를 나타낸다. 이들 조성물로부터 유도된 적층물품은 예컨대 일광제어 필름, 필름 및 광택제, UV 흡수 유리 및 유리 코팅, 전면유리, 재귀반사성 쉬트 및 사인, 일광반사기, 광학 필름 등을 포함한다.

Description

고 용해성, 고 소광성, 광안정성 히드록시페닐-ｓ-트리아진 ＵＶ 흡수제를 함유하는 안정화된 접착제 조성물 및 그로부터 유도된 적층물품{Stabilized adhesive compositions containing highly soluble, high-extinction, photostable hydroxyphenyl-s-trizine UV absorbers and laminated articles derived therefrom}
접착제는 중합체, 점착제, 왁스 및 오일과 같은 다양한 성분으로 구성된다. 이들 성분을 기제로한 접착제 배합물은 분해되기 쉽다. 이러한 분해의 결과로 탈색, 신장력 감소, 인장 강도 감소, 점착 감소 및 점성, 분자량 및 분자량 분포의 변화가 초래된다. 분해는 일광에 장시간 노출되는 것에 의해서도 유발될 수 있다. 일광은 290-400 nm 범위의 파장을 갖는 비가시 자외선(UV) 방사선을 함유한다. 이러한 방사선은 광분해의 개시에 관련이 있다.
접착제 배합물에 존재하는 발색단에 의한 UV광의 흡수는 그 발색단을 여기 상태로 전환시켜 바람직하지 않은 반응을 유발한다. 일부 중합체는 강한 흡수성 발색단을 이들 구조의 주요 부분으로 함유한다. 다른 중합체는 케톤 및 히드로퍼옥시드 잔기와 같은 예기치 않은 불순물과 발색단으로 작용하는 촉매 잔기를 함유할 수 있다. 이들 발색단에 의한 UV 방사선의 흡수는 결국은 결합분해, 사슬 분리 및/또는 가교반응을 초래하게된다.
접착제의 광안정화는 흡수된 에너지를 무해한 열로 전환하는 UV 흡수제의 첨가에 의해 실시될 수 있다. 이상적인 UV 흡수제는 광에 아주 안정해야하고 290-400 nm 범위, 특히 350-400 nm 범위의 UV에 걸쳐 강한 흡수성을 가져야한다. 이러한 UV 흡수제 유형은 살리실레이트, 시아노아크릴레이트, 말로네이트, 옥사닐리드, 벤조페논, s-트리아진 및 벤조트리아졸을 포함한다.
살리실레이트, 시아노아크릴레이트, 말로네이트 및 옥사닐리드는 UV 범위의 낮은 파장에서 주로 UV광을 흡수한다. 이들 화합물은 350-400 nm 범위에서는 거의 흡수되지 않거나 전혀 흡수되지 않아 본 발명에는 부적합하다. 벤조페논은 UV범위의 절반 이하 범위에서 흡수하므로 노광시 광분해에 의해 황화되기 쉽다. 최근, 벤조페논은 에틸렌-비닐 아세테이트 캡슐화제중에서 조기에 분해되어 폴리에닉(polyenic) 발색단을 생성하게된다는 것이 광화학적으로 알려졌다. 옅은 황색에서부터 갈색으로의 발색은 접착제계에서 바람직하지 않을뿐더러 보기에 좋지 않으며 또한 접착제 특성면에서도 손실을 초래할 수 있다. 이와 대조적으로, 선택된 벤조트리아졸 UV 흡수제는 광안정성의 증가로 인하여 특히 유용하였다.
폴리카보네이트, 폴리에스테르 및 방향족 폴리우레탄과 같은 일부 중합체는 강한 흡수성 발색단을 이들 구조의 주요 및 통합 부분으로 함유한다. 폴리(에틸렌 테레프탈레이트)(PET) 및 폴리(에틸렌 2,6-나프탈렌디카르복실레이트)(PEN)이 특히 바람직한 예이며, 후자는 적색 UV 영역까지 흡수하고 특히 UV 보호를 위해 적색 이동된 벤조트리아졸을 필요로한다. 본 발명에 기재된 것과 같은 s-트리아진을 함유하는 접착성 UV 차단층은 또한 다층구조 및 물품에서 이러한 중합체를 보호한다.
s-트리아진 UV흡수제에 대한 기재, 제조 및 용도는 자동차 도료, 사진용도, 중합체 필름 도료 및 잉크 젯 인쇄용으로 기재되어 있다. 자동차 도료는 영국특허 2,317,174A호 및 2,317,893A호 그리고 미국특허 5,556,973호, 5,681,955호, 5,726,309호 및 5,106,891호에 기재되어 있다. 사진용도는 미국특허 3,843,371호 및 동시계류중인 특허출원번호 08/974,263호에 기재되어 있다. 중합체 필름 도료는 미국특허 4,619,956호 및 4,740,542호에 기재되어 있다. 잉크 젯 인쇄는 미국특허5,096,489호에 기재되어 있다. 이들 특허의 각각으로부터, s-트리아진 UV 흡수제는 매우 광안정한 것으로 알려져있다.
s-트리아진 UV 흡수제는 미국특허 5,726,309호, 5,681,955호 및 5,556,973호; 영국특허 2,317,714A호 및 WO96/28431호에 개시된 일반적 합성 과정에 의해 제조할 수 있다.
접착제에서 UV 흡수제의 용도는 공지되어 있다. 미국특허 5,683,804호; 5,387,458호; 5,618,626호 및 5,643,676호는 다양한 물품의 접착성층에서 UV 흡수제의 사용을 개시하고 있다. 전형적으로 벤조페논, 시아노아크릴레이트, 벤조트리아졸 및 살리실레이트가 사용된다. 벤조페논, 시아노아크릴레이트 및 살리실레이트는 이들 출원에서 수용할만한 성능을 제공하지 않는다. 벤조트리아졸은 s-트리아진 UV 흡수제에 의해 나타나는 고 몰 소광치를 갖고 있지 않다. 아주 놀랍게도, 본 발명의 s-트리아진은 접착제에서 용해성이어서 이들 출원에 사용하기에 아주 적하하다. s-트리아진 UV 흡수제를 접착제 조성물에 사용하는 것은 종래기술에 공지되어 있지 않다.
입체장애 아민 광안정화제를 s-트리아진과 같은 UV 흡수제와 함께 사용하면 많은 중합체 조성물에서 탁월한 안정화효과를 제공한다는 것은 지. 베르너 및 엠. 렘볼트에 의해 "New Light Stabilizers for High Solids Coatings", Organic Coatings and Science and Technology, Vol.6, Dekkar, New York, pp55-85에 요약된 바와 같이 종래기술에서 공지되어 있다.
UV 흡수제 잔기 및 입체장애 아민 잔기를 N-H, N-알킬, N-알카노일 및 N-히드로카르빌옥시 유도체와 함께 함유하는 분자는 미국특허 4,289,686호; 4,344,876호; 4,426,471호; 4,314,933호; 4,481,315호; 4,619,956호 및 5,021,478호; 영국 특허 2,188,631호; 및 엘.아바르 일행, "New Anti-UV Stabilizers for Automotive Coatings: (1988 Annual Meeting of the Federation of Societies for Coatings Technology에 제시됨)에 기재되어 있다.
별도의 입체장애 아민 분자와 별도의 UV 흡수제를 함께 사용하는 것은 미국특허 4,619,956호에 개시되어 있다.
미국특허 5,204,390호는 가소화된 표면에 도포하기 위한 압력 민감성, 고온용융 접착제를 개시하고 있다. 일반적으로 벤조트리아졸 및 1,3,5-트리스(2-히드록시페닐)-s-트리아진은 상기 제품에서 사용될 수 있다고 알려져있다.
일광 또는 UV광의 다른 광원에 노출되는 적층 물품상에서 UV광의 효과는 이러한 물품 제조자에게는 큰 관심사이다. 시간이 경과함에 따라서, 일정한 또는 반복적인 UV광 노출은 이러한 물품에 사용된 염료 및/또는 안료에 대하여 염료 및/또는 안료 변색을 초래할 수 있고 또 상기 물품의 구조에 사용된 접착제, 중합체 또는 기타 물질의 분해나 붕괴를 초래한다. 상술한 변색과 분해는 고려중인 물품의 유용수명을 단축하므로 이러한 물품을 제조하는 사람들에게는 UV광 노출로부터 보호하는 것이 아주 중요한 점이다.
UV 흡수제로 공지된 분자는 당해기술분야에 일반적으로 공지되어 있다. 그러나, 다양한 UV 흡수제간에 논의된 차이점으로 인하여, 이후에서는 s-트리아진 및 이들을 함유하는 물품에 대해 논의한다. 특정 UV 흡수제의 비상용성과 낮은 용해도로 인하여, 용해도가 높고 매우 광안정하며 고 몰 소광치를 갖는 s-트리아진 UV 흡수제의 존재를 필요로하고 있다.
티. 나가시마 및 에이치. 구라마시는 J.Non-Cryst.Solids,178(1994), 182에서 다음과 같이 보고하고 있다: "장파장(320-400 nm) 범위에 걸쳐 UV를 흡수함으로써 일광에 의한 피부변색 작용을 피하게하는 최근의 자외선 차단 유리는 오존층의 결핍에 기인한 피부암의 위험 때문에 중요한 문제로되고 있다."
접착제 조성물 및 물품에서 s-트리아진 UV 흡수제를 사용하면 상술한 문제를 해결할 수 있으며 이러한 것은 종래 기술에는 알려져 있지 않은 것이다. 또한 본발명의 s-트리아진 UV 흡수제를 혼입하고 있는 물품은 내부 직물이나 천을 UV 유도된 광분해로부터 보호하는데 효과적이다.
미국특허 5,770,114호는 전기발색 장치에 사용되는 용해성 벤조트리아졸을 함유하는 안정화된 조성물을 개시하고 있다. 이 특허에서는 2-(2-히드록시-5-메틸페닐)-2H-벤조트리아졸이 UV 방사선에 의한 분해로부터 전기발색 장치와 같은 것을 안정화시키는데 효과적인 것으로 개시되어 있으나, 이것은 탄산 프로필렌과 같은 비양성자성 용매에 충분히 용해되지 않아 장시간에 걸쳐 전기발색 장치에 대하여 적합한 보호작용을 제공할 수 없다. 이것은 허용가능한 UV 흡수제가 사용될 수 있기 위해서는 기질 및 용매에서 탁월한 용해도를 지녀야함을 나타낸다.
본 발명의 고 용해성, 고 소광성 및 광안정성 s-트리아진을 혼입하는 것으로부터 이점을 갖는 물품은 다음을 포함하지만, 이들에 한정되는 것은 아니다:
(a) 본 명세서에 참고문헌으로 포함된 WO 97/42261호 및 미국특허 5,387,458호에 기재된 바와 같은 재귀반사성 쉬트 및 사인 그리고 보호성 마킹 쉬트;
(b) 본 명세서에 참고문헌으로 포함된 영국특허 2,012,668호, 유럽특허 355,962호 및 미국특허 3,290,203호, 3,681,179호, 3,776,805호 및 4,095,013호에 기재된 바와 같은 다양한 구성의 일광 제어 필름;
(c) 본 명세서에 참고문헌으로 포함된 미국특허 4,645,714호에 기재된 바와 같은 내부식성 은 거울 및 일광 반사기;
(d) 본 명세서에 참고문헌으로 포함된 미국특허 5,564,843호에 기재된 바와 같은 반사성 프린트 라벨;
(e) 본 명세서에 참고문헌으로 포함된 미국특허 5,372,889호, 5,426,204호, 5,683,804호 및 5,618,626호에 기재된 바와 같은 UV 흡수성 유리 및 유리 코팅;
(f) 본 명세서에 참고문헌으로 포함된 유럽특허 752,612 A1호 및 미국특허 5,239,406호, 5,523,877호 및 5,770,114호에 기재된 바와 같은 전기발색 장치;
(g) 본 명세서에 참고문헌으로 포함된 WO 92/01557호, 일본특허 75-33286호, 93-143668호, 95-3217호 및 96-143831호 그리고 미국특허 5,643,676호에 기재된 바와 같은 필름/광택제;
(h) 본 명세서에 참고문헌으로 포함된 일본특허 80-40018호, 90-192118호, 90-335037호, 90-335038호, 92-110128호 및 94-127591호 그리고 미국특허 5,618,863호에 기재된 바와 같은 전면유리(windscreen) 및 중간층; 및
(i) 본 명세서에 참고문헌으로 포함된 WO 97/32225호 및 미국특허 4,871,784호와 5,217,794호에 기재된 바와 같은 광학 필름.
본 발명은 아주 높은 몰 소광치, 향상된 용해도 및 탁월한 광안정성을 갖는 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(3-노닐옥시*-2-히드록시프로필옥시)-5-α-큐밀페닐]-s-트리아진(*는 옥틸옥시, 노닐옥시 및 데실옥시 기의 혼합물을 의미)과 같은 유효량의 s-트리아진 UV 흡수제 또는 s-트리아진 UV 흡수제의 혼합물을 함유하는 안정화된 접착제 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 주제는,
(a) 접착제; 및
(b1) 유효 안정화량의 하기 화학식(I), (II), (III), (IV), (V) 또는 (VI)의 고용해성, 고 몰 소광성 및 광안정성 s-트리아진 UV 흡수제 또는 이들의 혼합물을 포함하는,
적층 물품 또는 다층 구조에서 접착제로서 사용하기에 적합한 안정화된 접착제 조성물에 관한 것이다:
식중에서,
X 및 Y는 서로 독립해서 페닐, 나프틸, 또는 1 내지 6개 탄소원자를 갖는 1 내지 3개 알킬에 의해, 할로겐에 의해, 히드록시에 의해 또는 1 내지 6개 탄소원자를 갖는 알콕시에 의해 또는 이들의 혼합물에 의해 치환된 상기 페닐 또는 상기 나프틸이거나; 또는 X 및 Y는 서로 독립해서 Z1또는 Z2이며;
R1은 수소, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬, 할로겐, -SR3, -SOR3또는 -SO2R3이거나; 또는 1 내지 3개의 할로겐, -R4, -OR5, -N(R5)2, -COR5, -COOR5, -OCOR5, -CN, -NO2, -SR5, -SOR5, -SO2R5또는 -P(O)(OR5)2에 의해 치환된 상기 알킬, 상기 시클로알킬 또는 상기 페닐알킬; 모르폴리닐, 피페리디닐, 2,2,6,6-테트라메틸피페리디닐, 피페라지닐 또는 N-메틸피페리디닐 기 또는 이들의 조합이거나; 또는 1 내지 4개의 페닐렌, -O-, -NR5-, -CONR5-, -COO-, -OCO- 또는 -CO 기 또는 이들의 조합을 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 상기 시클로알킬이거나; 또는 상술한 기의 조합에 의해 치환되거나 상술한 기의 조합을 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 상기 시클로알킬이며;
R3은 1 내지 20개 탄소원자를 갖는 알킬, 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 알케닐, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬, 6 내지 10개 탄소원자를 갖는 아릴이거나 또는 1 내지 4개 탄소원자를 갖는 1개 또는 2개의 알킬에 의해 치환된 상기 아릴이고;
R4는 6 내지 10개 탄소원자를 갖는 아릴이거나 또는 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시 또는 이들의 조합에 의해 치환된 상기 아릴; 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬; 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬이거나 또는 페닐고리에서 1 내지 3개의 할로겐, 1내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시 또는 이들의 조합에 의해 치환된 상기 페닐알킬; 또는 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알케닐이며;
R5는 R4에서 정의한 바와 같거나; 또는 R5는 수소 또는 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 2 내지 24개 탄소원자를 갖는 알케닐이거나; 또는 R5는 하기 기
이고;
T는 수소, 옥실, 히드록시, -OT1, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 3개의 히드록시에 의해 치환된 상기 알킬; 벤질 또는 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 알카노일이며;
T1은 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 알킬, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 2 내지 24개 탄소원자를 갖는 알케닐, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알케닐, 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬, 7 내지 12개 탄소원자를 갖는 포화 또는 불포화 비시클릭 또는 트리시클릭 탄화수소 라디칼 또는 6 내지 10개 탄소원자를 갖는 아릴이거나 또는 1 내지 4개 탄소원자를 갖는 1 내지 3개의 알킬에 의해 치환된 상기 아릴이고;
R2는 수소, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 5 내지12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬; 또는 1 내지 4개의 할로겐, 에폭시, 글리시딜옥시, 푸릴옥시, -R4, -OR5, -N(R5)2, -CON(R5)2, -COR5, -COOR5, -OCOR5, -OCOC(R5)=C(R5)2, -C(R5)=CCOOR5, -CN, -NCO, 또는또는 이들의 조합에 의해 치환된 상기 알킬 또는 상기 시클로알킬; 또는 1 내지 4개의 에폭시, -O-, -NR5, -CONR5, -COO-, -OCO-, -CO-, -C(R5)=C(R5)COO-, -OCOC(R5)=C(R5)-, -C(R5)=C(R5)-, 페닐렌 또는 페닐렌-G-페닐렌(이때, G는 -O-, -S-, -SO2-, -CH2- 또는 -C(CH3)2- 또는 이들의 조합임)을 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 상기 시클로알킬이거나, 또는 상술한 기의 조합에 의해 치환되거나 또는 상술한 기의 조합을 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 상기 시클로알킬이거나; 또는 R2는 -SO2R3또는 -COR6이며;
R6은 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알케닐, 페녹시, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬아미노, 6 내지 12개 탄소원자를 갖는 아릴아미노, -R7COOH 또는 -NH-R8-NCO 이고;
R7은 2 내지 14개 탄소원자를 갖는 알킬렌 또는 페닐렌이며;
R8은 2 내지 24개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 페닐렌, 톨릴렌, 디페닐메탄 또는 하기 기
이며;
R1, R1' 및 R1"는 동일하거나 상이하며 R1에서 정의한 바와 같고;
R2, R2' 및 R2"는 동일하거나 상이하며 R2에서 정의한 바와 같고;
X, X', Y 및 Y'는 동일하거나 상이하며 X 및 Y에서 정의한 바와 같고;
t는 0 내지 9이며;
L은 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬렌 또는 시클로헥실렌 또는 페닐렌에 의해 치환되거나 이들을 중간에 포함하는 알킬렌이거나; 또는 L은 벤질리덴이거나; 또는 L은 -S-, -S-S-, -S-E-S-, -SO-, -SO2-, -SO-E-SO-, -SO2-E-SO2-, -CH2-NH-E-NH-CH2- 또는
이며;
E는 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬렌 또는 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬렌을 중간에 포함하거나 말단에 포함하는 알킬렌이고;
n은 2, 3 또는 4이며;
n=2 이면; Q는 2 내지 16개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌이거나; 또는 1 내지 3개의 히드록시 기에 의해 치환된 상기 알킬렌이거나; 또는 1 내지 3개의 -CH=CH- 또는 -O-를 중간에 포함하는 상기 알킬렌이거나; 또는 상술한 기의 조합에 의해 치환되거나 상술한 기의 조합을 중간에 포함하는 상기 알킬렌이거나; 또는 Q는 크실릴렌 또는
기이며, 이때 m은 1 내지 3이거나; 또는 Q는 하기 기
이고;
R9는 2 내지 50개 탄소원자를 갖는 알킬렌이거나; 또는 1 내지 10개의 -O-, 페닐렌 또는 -페닐렌-G-페닐렌 (이때 G는 -O-, -S-, -SO2-, -CH2- 또는 -C(CH3)2-임)기를 중간에 포함하는 상기 알킬렌이고;
R10은 2 내지 10개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 또는 1 내지 4개의 -O-, -S- 또는 -CH=CH-를 중간에 포함하는 상기 알킬렌이거나; 또는 R10은 6 내지 12개 탄소원자를 갖는 아릴렌이고;
R11은 2 내지 20개 탄소원자를 갖는 알킬렌이거나 또는 1 내지 8개 -O-를 중간에 포함하는 상기 알킬렌이며;
n=3이면, Q는기이며, 이때 m은 1 내지 3이고, 또 R12는 3 내지 12개 탄소원자를 갖는 알칸트리일이고;
n=4이면, Q는기이고, 이때 m은 1 내지 3이고 또 R14는 4 내지 12개 탄소원자를 갖는 알칸테트라일이며;
Z1은 하기 기
이고;
Z2는 하기 기
이며;
r1및 r2는 서로 독립해서 0 또는 1이고;
R14, R15, R16, R17, R18, R19, R20, R21, R22및 R23은 서로 독립해서 수소, 히드록시, 시아노, 1 내지 20개 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 20개 탄소원자를 갖는 알콕시, 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알콕시, 할로겐, 1 내지 5개 탄소원자를 갖는 할로알킬, 술포, 카르복시, 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 아실아미노, 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 아실옥시, 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 알콕시카르보닐 또는 아미노카르보닐이거나; 또는 R17및 R18또는 R22및 R23은 이들이 부착된 페닐 라디칼과 합쳐져서 중간에 1 내지 3개의 -O- 또는 -NR5-를 포함하는 시클릭 라디칼을 형성하며;
단 화학식(I), (II), (III), (IV), (V) 또는 (VI)의 s-트리아진 또는 이들의 혼합물은 향상된 내구성 및 크세논 아크 Weather-Ometer에서 1050시간 노출후 0.5 흡수 단위 미만의 흡수 손실 또는 1338 시간 노출후 0.7 흡수 단위 미만의 흡수 손실로부터 알 수 있듯이 화학방사선에 노출될 때 낮은 흡수손실을 나타낸다.
바람직하게는, 본 발명은,
X 및 Y는 동일하거나 상이하며 페닐 또는 1 내지 6개 탄소원자를 갖는 1 내지 3개 알킬, 할로겐, 히드록시 또는 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알콕시에 의해 치환된 상기 페닐이거나; 또는 Z1또는 Z2이며;
R1은 수소, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬 또는 할로겐이고,
R2는 수소, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 5 내지12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬이거나; 또는 1 내지 3개 -R4, -OR5, -COOR5, -OCOR5또는 이들의 조합에 의해 치환된 상기 알킬 또는 상기 시클로알킬; 또는 1 내지 3개의 에폭시, -O-, -COO-, -OCO- 또는 -CO-를 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 상기 시클로알킬이고;
R4는 6 내지 10개 탄소원자를 갖는 아릴이거나 또는 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시 또는 이들의 조합에 의해 치환된 상기 아릴; 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬; 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬이거나 또는 페닐고리에서 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시 또는 이들의 조합에 의해 치환된 상기 페닐알킬이며;
R5는 R4에서 정의한 바와 같거나; 또는 R5는 수소 또는 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬이고;
Z1은 하기 기
이고;
Z2는 하기 기
이며;
r1및 r2는 서로 독립해서 1이고; 또
R14, R15, R16, R17, R18, R19, R20, R21, R22및 R23은 서로 독립해서 수소, 히드록시, 시아노, 1 내지 20개 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 20개 탄소원자를 갖는 알콕시, 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알콕시, 할로겐, 1 내지 5개 탄소원자를 갖는 할로알킬, 술포, 카르복시, 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 아실아미노, 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 아실옥시, 또는 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 알콕시카르보닐 또는 아미노카르보닐인 화학식(I)의 화합물에 관한 것이다.
바람직하게는, s-트리아진 UV 흡수제는,
X는 페닐, 나프틸 또는 1 내지 6개 탄소원자를 갖는 1 내지 3개 알킬, 할로겐, 히드록시 또는 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알콕시 또는 이들의 혼합물에 의해 치환된 상기 페닐 또는 상기 나프틸이거나; 또는 X는 Z1이며;
R1및 R1'은 서로 독립해서 R1에서 정의한 바와 같고; 또
R2및 R2'는 서로 독립해서 R2에서 정의한 바와 같은 화학식(II)의 화합물이다.
바람직하게는, s-트리아진 UV 흡수제는,
R1, R1' 및 R1"은 서로 독립해서 R1에서 정의한 바와 같고; 또
R2, R2' 및 R2"는 서로 독립해서 R2에서 정의한 바와 같은 화학식(III)의 화합물이다.
바람직하게는, s-트리아진 UV 흡수제는,
X 및 Y가 서로 독립해서 페닐 또는 1 내지 6개 탄소원자를 갖는 1 내지 3개 알킬에 의해, 할로겐에 의해, 히드록시에 의해 또는 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알콕시에 의해 또는 이들의 혼합물에 의해 치환된 상기 페닐이거나; 또는 X 및 Y는 독립해서 Z1또는 Z2이며; 또
L이 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬렌이거나 또는 시클로헥실렌 또는 페닐렌에 의해 치환되거나 이들을 중간에 포함하는 알킬렌인 화학식(VI)의 화합물이다.
가장 바람직하게는, 본 발명의 s-트리아진 UV 흡수제는,
X 및 Y가 동일하거나 상이하며 페닐이거나 또는 1 내지 6개 탄소원자의 1 내지 3개 알킬에 의해 치환된 상기 페닐이거나; Z1또는 Z2이며;
R1은 수소 또는 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬이고;
R2는 수소, 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬; 또는 1 내지3개의 -R4, -OR5또는 이들의 혼합물에 의해 치환된 상기 알킬; 또는 1 내지 8개의 -O- 또는 -COO-를 중간에 포함하는 상기 알킬이며;
R4는 6 내지 10개 탄소원자를 갖는 아릴이고;
R5는 수소이며;
Z1은 하기 기
이고;
Z2는 하기 기
이며;
r1및 r2는 서로 독립해서 1이고; 또
R14, R15, R16, R17, R18, R19, R20, R21, R22및 R23은 각각 수소인 화학식(I)의 화합물이다.
바람직하게는, 본 발명의 s-트리아진 UV 흡수제는 하기 화학식의 화합물이다:
3:5', 5:5' 및 3:3' 위치에서 5:4:1 비율로 교상결합(bridged)된 메틸렌 교상결합 이합체 혼합물
iC8H17: 옥틸 이성질체 혼합물로부터의 잔기.
상기 수록한 구조에 예시된 본 발명의 화합물의 명칭은 이하의 것을 들 수 있다:
(1) 2,4-비스(4-비페닐릴)-6-(2-히드록시-4-옥틸옥시카르보닐에틸리덴옥시페닐)-s-트리아진;
(2) 2-페닐-4-[2-히드록시-4-(3-이차부틸옥시-2-히드록시프로필옥시)페닐]-6-[2-히드록시-4-(3-이차아밀옥시-2-히드록시프로필옥시)페닐]-s-트리아진;
(3) 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(3-벤질옥시-2-히드록시프로필옥시)-페닐]-s-트리아진;
(4) 2,4-비스(2-히드록시-4-n-부틸옥시페닐)-6-(2,4-디-n-부틸옥시페닐)-s-트리아진;
(5) 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(3-노닐옥시*-2-히드록시프로필옥시)-5-α-큐밀페닐]-s-트리아진; (*는 옥틸옥시, 노닐옥시 및 데실옥시 기의 혼합물을 의미함);
(6) 메틸렌비스-{2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(3-부틸옥시-2-히드록시-프로폭시)페닐]-s-트리아진}, 3:5', 5:5' 및 3:3' 위치에서 5:4:1 비율로 교상결합된 메틸렌 교상결합 이합체 혼합물;
(7) 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-이소옥틸옥시카르보닐이소프로필리덴옥시페닐)-s-트리아진;
(8) 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-(2-히드록시-4-헥실옥시-5-α-큐밀페닐)-s-트리아진;
(9) 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-s-트리아진, CYASORBR1164, 시테크 제조;
(10) 2-(2,4,6-트리메틸페닐)-4,6-비스[2-히드록시-4-(3-부틸옥시-2-히드록시프로필옥시)-페닐]-s-트리아진;
(11) 2,4,6-트리스[2-히드록시-4-(3-이차부틸옥시-2-히드록시프로필옥시)페닐]-s-트리아진; 또는
(12) 2,4,6-트리스(2,4-디히드록시페닐)-s-트리아진 및 이소옥틸 α-브로모프로피오네이트의 반응에 의해 제조된 혼합물.
바람직하게는, 성분(b)의 s-트리아진 UV 흡수제는 이하의 화합물이다:
(1) 2,4-비스(4-비페닐릴)-6-(2-히드록시-4-옥틸옥시카르보닐에틸리덴옥시페닐)-s-트리아진;
(5) 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(3-노닐옥시*-2-히드록시프로필옥시)-5-α-큐밀페닐]-s-트리아진; (*는 옥틸옥시, 노닐옥시 및 데실옥시 기의 혼합물을 의미함);
(7) 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-이소옥틸옥시카르보닐이소프로필리덴옥시페닐)-s-트리아진; 또는
(12) 2,4,6-트리스(2,4-디히드록시페닐)-s-트리아진 및 이소옥틸 α-브로모프로피오네이트의 반응에 의해 제조된 혼합물.
보다 특히, 성분(a)의 접착제는 압력 민감성 접착제, 고무 기제 접착제, 용매 또는 유제 기제 접착제, 고온 용융 접착제 및 천연산물 기제 접착제로 구성된 군으로부터 선택된다. 이들 접착제는 폴리우레탄, 폴리아크릴, 에폭시, 페놀릭, 폴리이미드, 폴리(비닐 부티랄), 폴리시아노아크릴레이트, 폴리아크릴레이트, 에틸렌/아크릴산 공중합체 및 이들의 염(이오노머), 실리콘 중합체, 폴리(에틸렌/비닐 아세테이트), 아탁틱 폴리프로필렌, 스티렌-디엔 공중합체, 폴리아미드, 히드록시-말단 폴리부타디엔, 폴리클로로프렌, 폴리(비닐 아세테이트), 카르복실화 스티렌/부타디엔 공중합체 및 폴리(비닐 알코올)로 구성된 군으로부터 선택된다.
안정화 유효량의 화학식(I), (II), (III), (IV), (V) 또는 (VI)의 s-트리아진 UV 흡수제 또는 이들의 혼합물은 접착제를 기준하여 0.1 내지 20 중량%이다.
안정화 유효량의 화학식(I), (II), (III), (IV), (V) 또는 (VI)의 s-트리아진 UV 흡수제 또는 이들의 혼합물에 의해 안정화된 본 발명의 접착제는 경우에 따라 산화방지제, 기타 UV 흡수제, 입체장애 아민, 포스파이트 또는 포스포나이트, 히드록실아민, 니트론, 벤조푸란-2-온, 티오상승제, 폴리아미드 안정화제, 금속 스테아레이트, 핵생성제, 충전제, 강화제, 윤활제, 유화제, 염료, 안료, 광학증백제, 난연제, 대전방지제, 취입제 등과 같은 추가의 공첨가제를 0.01 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.025 내지 5 중량%, 가장 바람직하게는 0.1 내지 3 중량% 함유할 수 있다.
본 발명의 안정화제는 성형물품을 제조하기 전의 임의 단계에서 통상의 수법에 의해 접착제 조성물에 혼입될 수 있다. 예컨대 안정화제는 건조 분말 형태의 중합체와 혼합될 수 있거나, 또는 안정화제의 현탁액 또는 유제가 중합체의 용액, 현탁액 또는 유제와 혼합될 수 있다. 생성한 본 발명의 안정화된 접착제 조성물은 경우에 따라 이하에 나타낸 물질 또는 이들의 혼합물과 같은 다양한 통상의 안정화제 공첨가제를 약 0.01 내지 약 10중량%, 바람직하게는 약 0.025 내지 약 5 중량%, 특히 약 0.1 내지 약 3 중량% 함유할 수 있다.
1. 산화방지제
1.1. 알킬화 모노페놀, 예컨대,
2,6-디-삼차부틸-4-메틸페놀
2-삼차부틸-4,6-디메틸페놀
2,6-디-삼차부틸-4-에틸페놀
2,6-디-삼차부틸-4-n-부틸페놀
2,6-디-삼차부틸-4-i-부틸페놀
2,6-디-시클로펜틸-4-메틸페놀
2-(α-메틸시클로헥실)-4,6-디메틸페놀
2,6-디-옥타데실-4-메틸페놀
2,4,6-트리-시클로헥실페놀
2,6-디-삼차부틸-4-메톡시메틸페놀
1.2. 알킬화 히드로퀴논, 예컨대,
2,6-디-삼차부틸-4-메톡시페놀
2,5-디-삼차부틸-히드로퀴논
2,5-디-삼차아밀-히드로퀴논
2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀
1.3. 히드록시화 티오디페닐 에테르, 예컨대,
2,2'-티오-비스-(6-삼차부틸-4-메틸페놀)
2,2'-티오-비스-(4-옥틸페놀)
4,4'-티오-비스-(6-삼차부틸-3-메틸페놀)
4,4'-티오-비스-(6-삼차부틸-2-메틸페놀)
1.4. 알킬리덴-비스페놀, 예컨대,
2,2'-메틸렌-비스-(6-삼차부틸-4-메틸페놀)
2,2'-메틸렌-비스-(6-삼차부틸-4-에틸페놀)
2,2'-메틸렌-비스-[4-메틸-6-(α-메틸시클로헥실)-페놀]
2,2'-메틸렌-비스-(4-메틸-6-시클로헥실페놀)
2,2'-메틸렌-비스-(6-노닐-4-메틸페놀)
2,2'-메틸렌-비스-[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페놀]
2,2'-메틸렌-비스-[6-(α,α-디메틸벤질)-4-노닐페놀]
2,2'-메틸렌-비스-(4,6-디-삼차부틸페놀)
2,2'-에틸리덴-비스-(4,6-디-삼차부틸페놀)
2,2'-에틸리덴-비스-(6-삼차부틸-4-이소부틸페놀)
4,4'-메틸렌-비스-(2,6-디-삼차부틸페놀)
4,4'-메틸렌-비스-(6-삼차부틸-2-메틸페놀)
1,1-비스-(5-삼차부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-부탄
2,6-디-(3-삼차부틸-5-메틸-2-히드록시벤질)-4-메틸페놀
1,1,3-트리스-(5-삼차부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-부탄
1,1-비스-(5-삼차부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-3-n-도데실머캅토부탄
에틸렌글리콜 비스-[3,3-비스-(3'-삼차부틸-4'-히드록시페닐)-부티레이트]
디-(3-삼차부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)-디시클로펜타디엔
디-[2-(3'-삼차부틸-2'-히드록시-5'-메틸-벤질)-6-삼차부틸-4-메틸페닐]테레프탈레이트.
1.5. 벤질 화합물, 예컨대,
1,3,5-트리-(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠
디-(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시벤질)술피드
3,5-디-삼차부틸-4-히드록시벤질-머캅토-아세트산 이소옥틸 에스테르
비스-(4-삼차부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)디티올 테레프탈레이트
1,3,5-트리스-(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트
1,3,5-트리스-(4-삼차부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)이소시아누레이트
3,5-디-삼차부틸-4-히드록시벤질-포스포르산 디옥타데실 에스테르
3,5-디-삼차부틸-4-히드록시벤질-포스포르산 모노에틸 에스테르, 칼슘염.
1.6. 아실아미노페놀, 예컨대,
4-히드록시-라우르산 아닐리드
4-히드록시-스테아르산 아닐리드
2,4-비스-옥틸머캅토-6-(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시아닐리노)-s-트리아진
옥틸-N-(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시페닐)-카르바메이트
1.7. β-(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시페닐)-프로피온산과일가 또는 다가 알코올, 예컨대 메탄올, 디에틸렌 글리콜, 옥타데칸올, 트리에틸렌 글리콜, 1,6-헥산디올, 펜타에리트리톨, 네오펜틸 글리콜, 트리스-히드록시에틸 이소시아누레이트, 티오디에틸렌 글리콜, 디-히드록시에틸 옥살산 디아미드, 트리에탄올아민, 트리이소프로판올아민과의에스테르.
1.8. β-(5-삼차부틸-4-히드록시-3-메틸페닐)-프로피온산과일가 또는 다가 알코올, 예컨대 메탄올, 디에틸렌 글리콜, 옥타데칸올, 트리에틸렌 글리콜, 1,6-헥산디올, 펜타에리트리톨, 네오펜틸 글리콜, 트리스-히드록시에틸 이소시아누레이트, 티오디에틸렌 글리콜, 디-히드록시에틸 옥살산 디아미드, 트리에탄올아민, 트리이소프로판올아민과의에스테르.
1.9. β-(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시페닐)-프로피온산의 아미드, 예컨대,
N,N'-디-(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)-헥사메틸렌디아민
N,N'-디-(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)-트리메틸렌디아민
N,N'-디-(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)-히드라진.
1.10. 디아릴아민, 예컨대,
디페닐아민, N-페닐-1-나프틸아민, N-(4-삼차옥틸페닐)-1-나프틸아민, 4,4'-디-삼차옥틸-디페닐아민, N-페닐벤질아민과 2,4,4-트리메틸펜텐의 반응생성물, 디페닐아민과 2,4,4-트리메틸펜텐의 반응생성물, N-페닐-1-나프틸아민과 2,4,4-트리메틸펜텐의 반응생성물.
2. UV 흡수제 및 광 안정화제
2.1. 2-(2'-히드록시페닐)-벤조트리아졸, 예컨대 5'-메틸-, 3',5'-디-삼차부틸-, 5'-삼차부틸-, 5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-, 5-클로로-3',5'-디-삼차부틸-, 5-클로로-3'-삼차부틸-5'-메틸-, 3'-이차부틸-5'-삼차부틸-, 4'-옥톡시, 3',5'-디-삼차아밀-, 3',5'-비스-(α,α-디메틸벤질), 3'-삼차부틸-5'-(2-오메가-히드록시-옥타-(에틸렌옥시)카르보닐-에틸)-, 3'-도데실-5'-메틸- 및 3'-삼차부틸-5'-(2-옥틸옥시카르보닐)에틸-, 및 도데실화된-5'-메틸 유도체.
2.2. 2-히드록시-벤조페논, 예컨대, 4-히드록시-, 4-메톡시-, 4-옥톡시, 4-데실옥시-, 4-도데실옥시-, 4-벤질옥시, 4,2',4'-트리히드록시- 및 2'-히드록시-4,4'-디메톡시 유도체.
2.3. 경우에 따라 치환된 벤조산의 에스테르, 예컨대 페닐 살리실레이트, 4-삼차부틸페닐 살리실레이트, 옥틸페닐 살리실레이트, 디벤조일레조르시놀, 비스-(4-삼차부틸벤조일)-레조르시놀, 벤조일레조르시놀, 3,5-디-삼차부틸-4-히드록시벤조산 2,4-디-삼차부틸페닐 에스테르 및 3,5-디-삼차부틸-4-히드록시벤조산 헥사데실 에스테르.
2.4. 아크릴레이트, 예컨대 α-시아노-β,β-디페닐아크릴산 에스테르 또는 이소옥틸 에스테르, α-카르보메톡시-신남산 메틸 에스테르, α-시아노-β-메틸-p-메톡시-신남산 메틸 에스테르 또는 부틸 에스테르, α-카르보메톡시-p-메톡시-신남산 메틸 에스테르, N-(β-카르보메톡시-β-시아노비닐)-2-메틸-인돌린.
2.5. 니켈 화합물, 예컨대 n-부틸아민, 트리에탄올아민 또는 N-시클로헥실-디에탄올아민과 같은 부가적 리단드를 경우에 따라 갖는 1:1 또는 1:2 착물과 같은 2,2'-티오-비스-[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-페놀]의 니켈 착물, 니켈 디부틸디티오카르바메이트, 메틸, 에틸 또는 부틸 에스테르와 같은 4-히드록시-3,5-디-삼차부틸벤질포스폰산 모노알킬에스테르의 니켈염, 2-히드록시-4-메틸-페닐 운데실 케톡심과 같은 케톡심의 니켈 착물, 경우에 따라 부가적 리간드를 갖는 1-페닐-4-라우로일-5-히드록시-피라졸의 니켈 착물.
2.6. 입체장애 아민, 예컨대 비스-(2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)세바케이트, 비스-(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)세바케이트, n-부틸-3,5-디-삼차부틸-4-히드록시벤질 말론산 비스-(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)에스테르, 1-히드록시에틸-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘과 숙신산의 축합반응 생성물, N,N'-(2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-헥사메틸렌디아민과 4-삼차옥틸아미노-2,6-디클로로-s-트리아진의 축합반응 생성물, 트리스-(2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-니트릴로트리아세테이트, 테트라키스-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 1,1'-(1,2-에탄디일)-비스-(3,3,5,5-테트라메틸피페라지논), 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)세바케이트, 특히 미국특허 4,831,134호 및 5,204,473호 및 동시계류중인 미국특허출원 09/257,711호에 수록된 화합물.
2.7. 옥살산 디아미드, 예컨대, 4,4'-디-옥틸옥시-옥사닐리드, 2,2'-디-옥틸옥시-5,5'-디-삼차부틸-옥사닐리드, 2,2'-디-도데실옥시-5,5'-디-삼차부틸-옥사닐리드, 2-에톡시-2'-에틸-옥사닐리드, N,N'-비스(3-디메틸아미노프로필)-옥살아미드, 2-에톡시-5-삼차부틸-2'-에틸옥사닐리드 및 이것과 2-에톡시-2'-에틸-5,4'-디-삼차부틸옥사닐리드와의 혼합물 및 오르토- 및 파라-메톡시- 뿐만 아니라 o- 및 p-에톡시-이치환된 옥사닐리드의 혼합물.
2.8. 히드록시페닐-s-트리아진, 예컨대, 2,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-4-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-s-트리아진; 2,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-4-(2,4-디히드록시페닐)-s-트리아진; 2,4-비스(2,4-디히드록시페닐)-6-(4-클로로페닐)-s-트리아진; 2,4-비스[2-히드록시-4-(2-히드록시에톡시)페닐]-6-(4-클로로페닐)-s-트리아진; 2,4-비스[2-히드록시-4-(2-히드록시-4-(2-히드록시에톡시)페닐]-6-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진; 2,4-비스[2-히드록시-4-(2-히드록시에톡시)-페닐]-6-(4-브로모페닐)-s-트리아진; 2,4-비스[2-히드록시-4-(2-아세톡시에톡시)페닐]-6-(4-클로로페닐)-s-트리아진; 2,4-비스(2,4-디히드록시페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진.
3. 금속 탈활성화제, 예컨대 N,N'-디페닐옥살산 디아미드, N-살리실알-N'-살리실로일히드라진, N,N'-비스-살리실로일히드라진, N,N'-비스-(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시페닐-프로피오닐)-히드라진, 3-살리실로일아미노-1,2,4-트리아졸, 비스-벤질리덴-옥살산 디히드라지드.
4. 포스파이트 및 포스포나이트, 예컨대, 트리페닐 포스파이트, 디페닐알킬 포스파이트, 페닐디알킬 포스파이트, 트리-(노닐페닐)포스파이트, 트리라우릴 포스파이트, 트리옥타데실 포스파이트, 디-스테아릴-펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스-(2,4-디-삼차부틸페닐)포스파이트, 디-이소데실펜타에리트리톨 디포스파이트, 디-(2,4,6-트리-삼차부틸페닐)-펜타에리트리톨 디포스파이트, 디-(2,4-디-삼차부틸-6-메틸페닐)-펜타에리트리톨 디포스파이트, 디-(2,4-디-삼차부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스테아릴-소르비톨 트리포스파이트, 테트라키스-(2,4-디-삼차부틸페닐)4,4'-디페닐렌디포스포나이트.
5. 퍼옥시드를 파괴하는 화합물, 예컨대, β-티오디프로피온산의 에스테르, 예컨대 라우릴, 스테아릴, 미리스틸 또는 트리데실 에스테르, 머캅토-벤즈이미다졸 또는 2-머캅토벤즈이미다졸의 아연염, 아연 디부틸-디티오카르바메이트, 디옥타데실 디술피드, 펜타에리트리톨 테트라키스-(b-도데실머캅토)-프로피오네이트.
6. 히드록실아민, 예컨대, N,N-디벤질히드록실아민, N,N-디에틸히드록실아민, N,N-디옥틸히드록실아민, N,N-디라우릴히드록실아민, N,N-디테트라데실히드록실아민, N,N-디헥사데실히드록실아민, N,N-디옥타데실히드록실아민, N-헥사데실-N-옥타데실히드록실아민, N-헵타데실-N-옥타데실히드록실아민, 수소화된 동물수지 아민으로부터 유도된 N,N-디알킬히드록실아민.
7. 니트론, 예컨대, N-벤질-알파-페닐 니트론, N-에틸-알파-메틸 니트론, N-옥틸-알파-헵틸 니트론, N-라우릴-알파-운데실 니트론, N-테트라데실-알파-트리데실 니트론, N-헥사데실-알파-펜타데실 니트론, N-옥타데실-알파-헵타데실니트론, N-헥사데실-알파-헵타데실 니트론, N-옥타데실-알파-헥사데실 니트론, N-헵타데실-알파-헵타데실 니트론, N-옥타데실-알파-헥사데실 니트론, 수소화된 동물수지 아민으로부터 유도된 N,N-디알킬히드록실아민으로부터 유도된 니트론.
8. 폴리아미드 안정화제, 예컨대 요오드화물 및/또는 인 화합물과 조합된 구리 염 및 이가 망간의 염.
9. 염기성 공안정화제, 예컨대, 멜라민, 폴리비닐피롤리돈, 디시안디아미드, 트리알릴 시아누레이트, 우레아 유도체, 히드라진 유도체, 아민, 폴리아미드, 폴리우레탄, 고급 지방산의 알칼리 금속염 및 알칼리 토금속염, 예컨대 Ca 스테아레이트, Zn 스테아레이트, Mg 스테아레이트, Na 리시놀레이트 및 K 팔미테이트, 안티몬 피로카테콜레이트 또는 아연 피로카테콜레이트.
10. 핵생성제, 예컨대, 4-삼차부틸-벤조산, 아디프산, 디페닐아세트산.
11. 충전제 및 강화제, 예컨대 탄산칼슘, 실리케이트, 유리 섬유, 석면, 활석, 카올린, 운모, 황산바륨, 금속 산화물 및 수산화물, 카본블랙, 흑연.
12. 기타 첨가제, 예컨대 가소제, 윤활제, 유화제, 안료, 광학증백제, 방염제, 대전방지제, 취입제 및 디라우릴 티오디프로피오네이트 또는 디스테아릴 티오디프로피오네이트와 같은 티오상승제.
13. 벤조푸란온 및 인돌리논, 예컨대 US-A-4325863호, US-A-4338244호 또는 US-A-5175312호에 기재된 것, 또는 3-[4-(2-아세톡시에톡시)페닐]-5,7-디-삼차부틸 -벤조푸란-2-온, 5,7-디-삼차부틸-3-[4-(2-스테아로일옥시에톡시)페닐]벤조푸란-2-온, 3,3'-비스[5,7-디-삼차부틸-3-(4-[2-히드록시에톡시]페닐)벤조푸란-2-온], 5, 7-디-삼차부틸-3-(4-에톡시페닐)-벤조푸란-2-온, 3-(4-아세톡시-3,5-디메틸페닐)-5,7-디-삼차부틸-벤조푸란-2-온, 3-(3,5-디메틸-4-피발로일옥시페닐)-5,7-디-삼차부틸-벤조푸란-2-온.
13하에 수록된 벤조푸란온을 제외한 공안정화제는 안정화될 물질 전체 중량을 기준하여 예컨대 0.01 내지 10 중량%의 농도로 부가된다.
또한 바람직한 조성물은 성분(a) 및 (b) 이외에 다른 첨가제, 특히 페놀 산화방지제, 광안정화제 또는 가공 안정화제를 포함한다.
특히 바람직한 첨가제는 페놀 산화방지제(상기 목록의 1), 입체장애 아민(상기 목록의 2.6), 포스파이트 및 포스포나이트(상기 목록의 4), UV 흡수제(상기 목록의 2) 및 퍼옥시드-파괴 화합물(상기 목록의 5)이다.
특히 바람직한 부가적 첨가제(안정화제)는 예컨대 US-A-4,325,863호, US-A-4,338,244호 또는 US-A-5,175,312호에 기재된 벤조푸란-2-온이다.
특히 중요한 페놀 산화방지제는 n-옥타데실 3,5-디-삼차부틸-4-히드록시히드로신나메이트, 네오펜탄테트라일 테트라키스(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시히드로신나메이트), 디-n-옥타데실 3,5-디-삼차부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 1,3,5-트리스(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트, 티오디에틸렌 비스(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시신나메이트), 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시벤질)벤젠, 3,6-디옥사옥타메틸렌 비스(3-메틸-5-삼차부틸-4-히드록시히드로신나메이트), 2,6-디-삼차부틸-p-크레솔, 2,2'-에틸리덴-비스(4,6-디-삼차부틸페놀), 1,3,5-트리스(2,6-디메틸-4-삼차부틸-3-히드록시벤질)이소시아누레이트, 1,1,3-트리스(2-메틸-4-히드록시-5-삼차부틸페닐)부탄, 1,3,5-트리스[2-(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시히드로신나모일옥시)에틸]이소시아누레이트, 3,5-디-(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시벤질)메시톨, 헥사메틸렌 비스(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시히드로신나메이트), 1-(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시아닐리노)-3,5-디(옥틸티오)-s-트리아진, N,N'-헥사메틸렌-비스(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시히드로신남아미드), 칼슘 비스(에틸 3,5-디-삼차부틸-4-히드록시벤질 포스포네이트), 에틸렌 비스[3,3-디(3-삼차부틸-4-히드록시페닐)부티레이트], 옥틸 3,5-디-삼차부틸-4-히드록시벤질머캅토아세테이트, 비스(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시히드로신나모일)히드라지드, N,N'-비스[2-(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시히드로신나모일옥시)-에틸]-옥사미드, 2,4-비스(옥틸티오메틸)-6-메틸페놀, 및 2,4-비스(옥틸티오메틸)-6-삼차부틸페놀로 구성된 군으로부터 선택된다.
가장 바람직한 페놀 산화방지제는 네오펜탄테트라일 테트라키스(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시히드로신나메이트), n-옥타데실 3,5-디-삼차부틸-4-히드록시히드로신나메이트, 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시벤질)벤젠, 1,3,5-트리스(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트, 2,6-디-삼차부틸 -p-크레솔, 2,2'-에틸리덴-비스(4,6-디-삼차부틸페놀), 2,4-비스(옥틸티오메틸)-6-메틸페놀 또는 2,4-비스(옥틸티오메틸)-6-삼차부틸페놀이다.
특히 중요한 입체장애 아민 화합물은 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)세바케이트, 디(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시벤질)부틸말로네이트, 4-벤조일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 3-n-옥틸-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자-스피로[4.5]-데칸-2,4-디온, 트리스(2, 2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)니트릴로트리아세테이트, 1,2-비스(2,2,6,6-테트라메틸-3-옥소피페라진-4-일)에탄, 2,2,4,4-테트라메틸-7-옥사-3,20-디아자-21-옥소디스피로[5.1.11.2]헨아이코산, 2,4-디클로로-6-삼차옥틸아미노-s-트리아진과 4,4'-헥사메틸렌비스(아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘)의 중축합반응생성물, 1-(2-히드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘과 숙신산의 중축합반응 생성물, 4,4'-헥사메틸렌비스-(아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘)과 1,2-디브로모에탄의 중축합반응 생성물, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘 -4-일)1,2,3,4-부탄테트라카르복시레이트, 테트라키스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘 -4-일)1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 2,4-디클로로-6-모르폴리노-s-트리아진과 4,4'-헥사메틸렌비스(아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘)의 중축합반응 생성물, N,N',N",N'"-테트라키스[(4,6-비스(부틸-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)-아미노-s-트리아진-2-일]-1,10-디아미노-4,7-디아자데칸, 혼합된 [2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일/β,β,β',β'-테트라메틸-3,9-(2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]-운데칸)디에틸]1,2,3,4-부탄테트라카르복시레이트, 혼합된 [1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일/β,β,β',β'-테트라메틸-3,9-(2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸)디에틸]1,2,3,4-부탄테트라카르복시레이트, 옥타메틸렌 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일-카르복시레이트), 4,4'-에틸렌비스(2,2,6,6-테트라메틸피페라진-3-온), N-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일-n-도데실숙신이미드, N-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일-n-도데실숙신이미드, N-1-아세틸-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일 n-도데실숙신이미드, 1-아세틸 3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 디-(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)세바케이트, 디-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)숙시네이트, 1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시-피페리딘, 폴리-{[6-삼차옥틸아미노-s-트리아진-2,4-디일][2-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)이미노-헥사메틸렌-[4-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)이미노], 2,4,6-트리스[N-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-n-부틸아미노]-s-트리아진, 2-(2-히드록시에틸)아미노-4,6-비스[N-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-n-부틸아미노]-s-트리아진, 1,2-비스(3,3,5,5-테트라메틸피페라진-2-온-1-일)에탄, 1,3,5-트리스{N-시클로헥실-N-[2-(3,3,5,5-테트라메틸피페라진-2-온-1-일)에틸]아미노}-s-트리아진, 1,3,5-트리스{N-시클로헥실-N-[2-(3,3, 4,5,5-펜타메틸피페라진-2-온-1-일)에틸]아미노}-s-트리아진, 2-4 당량의 2,4-비 스[(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)부틸아미노]-6-클로로-s-트리아진과 1당량의 N,N'-비스(3-아미노프로필)에틸렌디아민의 반응생성물, 비 스[1-(2-히드록시-2-메틸프로폭시)-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일]세바케이트, 비스[1-(2-히드록시-2-메틸프로폭시)-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일]글루타레이트와 비스[1-(2-히드록시-2-메틸프로폭시)-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일]아디페이트의 혼합물, 4-히드록시-1-(2-히드록시-2-메틸프로폭시)-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-옥타데실옥시-1-(2-히드록시-2-메틸프로폭시)-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-히드록시-1-메톡시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-히드록시-1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘 및 4-히드록시-1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘으로 구성된 군으로부터 선택된다.
가장 바람직한 입체장애 아민 화합물은 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)세바케이트, 디(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시벤질)부틸말로네이트, 1-(2-히드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘과 숙신산의 중축합반응 생성물, 2,4-디클로로-6-삼차옥틸아미노-s-트리아진과 4,4'-헥사메틸렌비스(아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘)의 중축합반응 생성물, N,N',N",N'"-테트라키스[(4,6-비스(부틸-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)-아미노-s-트리아진-2-일]-1,10-디아미노-4,7-디아자데칸, 디-(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)세바케이트, 디-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)숙시네이트, 1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시-피페리딘, 폴리-{[6-삼차옥틸아미노-s-트리아진 -2,4-디일][2-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)이미노-헥사메틸렌-[4-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)이미노], 2,4,6-트리스[N-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-n-부틸아미노]-s-트리아진, 2-(2-히드록시에틸)아미노-4,6-비스[N-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-n-부틸아미노]-s-트리아진, 1,2-비스(3,3,5,5-테트라메틸피페라진-2-온-1-일)에탄, 1,3,5-트리스{N-시클로헥실-N-[2-(3,3,5,5-테트라메틸피페라진 -2-온-1-일)에틸]아미노}-s-트리아진, 1,3,5-트리스{N-시클로헥실-N-[2-(3,3,4,5,5 -펜타메틸피페라진-2-온-1-일)에틸]아미노}-s-트리아진, 2-4 당량의 2,4-비스[(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)부틸아미노]-6-클로로-s-트리아진과 1당량의 N,N'-비스(3-아미노프로필)에틸렌디아민의 반응생성물, 비스[1-(2-히드록시-2-메틸프로폭시)-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일]세바케이트, 비스[1-(2-히드록시-2-메틸프로폭시)-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일]글루타레이트와 비스 [1-(2-히드록시-2-메틸프로폭시)-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일]아디페이트의 혼합물, 4-히드록시-1-(2-히드록시-2-메틸프로폭시)-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘 또는 4-옥타데실옥시-1-(2-히드록시-2-메틸프로폭시)-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘이다.
본 발명의 조성물은 벤조트리아졸, s-트리아진, 옥사닐리드, 히드록시벤조페논, 벤조에이트 및 α-시아노아크릴레이트로 구성된 군으로부터 선택된 다른 UV 흡수제를 추가로 함유할 수 있다.
상술한 바와 같이, 화학식(I), (II), (III), (IV), (V) 또는 (VI)의 고용해성, 광안정성 s-트리아진 또는 이들의 혼합물을 함유하는 상술한 바와 같은 접착제를 사용하는 적층 또는 다층구조는 하기 군으로부터 선택되지만, 이들에 한정되는 것은 아니다:
(a) 재귀반사성 쉬트 및 사인 및 보호성 마킹 쉬트;
(b) 다양한 구조의 일광 제어 필름;
(c) 내부식성 은 거울 및 일광 반사기;
(d) 반사성 인쇄 라벨;
(e) UV 흡수 유리 및 유리 코팅;
(f) 전자발색 장치;
(g) 필름/광택제;
(h) 전면유리(windscreen) 및 중간층; 및
(i) 광학 필름.
바람직하게는, 화학식(I), (II), (III), (IV), (V) 또는 (VI)의 고용해성, 광안정성 s-트리아진 또는 이들의 혼합물을 함유하는 접착제층을 사용하는 상기 적층 또는 다층 구조는 다음으로 구성된 군으로부터 선택된다:
(a) 재귀반사성 쉬트 및 사인 및 보호성 마킹 쉬트;
(b) 다양한 구조의 일광 제어 필름;
(e) UV 흡수 유리 및 유리 코팅;
(g) 필름/광택제; 및
(h) 전면유리 및 중간층.
가장 바람직하게는, 상기 적층 또는 다층 구조는,
(b) 다양한 구조의 일광 제어 필름; 또는
(h) 전면유리 및 중간층이다.
적층 또는 다층 물품에 사용될 수 있는 성분(a)의 접착제는 다음 군으로부터 선택되지만, 이들에 한정되지 않는다:
(i) 압력 민감성 접착제;
(ii) 고무 기제 접착제;
(iii) 용매 또는 유제 기제 접착제;
(iv) 고온 용융 접착제; 및
(v) 천연산물 기제 접착제.
상기 접착제는 하기 화학 군으로부터 선택된다:
(i) 폴리우레탄;
(ii) 폴리아크릴;
(iii) 에폭시;
(iv) 페놀릭;
(v) 폴리이미드;
(vi) 폴리(비닐 부티랄);
(vii) 폴리시아노아크릴레이트;
(viii) 폴리아크릴레이트;
(ix) 에틸렌/아크릴산 공중합체 및 이들의 염(이오노머);
(x) 실리콘 중합체;
(xi) 폴리(에틸렌/비닐 아세테이트);
(xii) 아탁틱 폴리프로필렌;
(xiii) 스티렌-디엔 공중합체;
(xiv) 폴리아미드;
(xv) 히드록시-말단 폴리부타디엔;
(xvi) 폴리클로로프렌;
(xvii) 폴리(비닐 아세테이트);
(xviii) 카르복시화 스티렌/부타디엔 공중합체;
(xix) 폴리(비닐 알코올); 및
(xx) 폴리에스테르.
이하의 임의 성분은 접착제 배합물에 흔히 존재할 수 있으며, 여기서는 예시적 목적으로만 주어진 것이므로 전체 접착제 조성에 어떠한 제한을 주는 것은 아니다. 이들 임의 성분은 가소제, 접착증진제, 왁스, 석유 왁스, 탄성중합체, 점착제, 오일, 수지, 중합체, 송진, 변형된 송진 또는 송진 유도체, 탄화수소 수지, 테르펜 수지, 파라핀 왁스, 미세결정성 왁스, 합성 경질 왁스 및/또는 폴리에틸렌 왁스를 포함한다. 이들 공첨가제의 양은 접착 배합물에서 흔히 사용되는 것이다.
본 발명에서는 본 발명의 벤조트리아졸이 접착제 및 적층 또는 다층 물품의 접착층에 사용하기 위한 것이지만, 이러한 벤조트리아졸이 물품의 다른 층, 예컨대 중합체 막에 염료 또는 안료와 함께 직접적 혼입법에 의해, 공압출에 의해 또는 접착제층으로부터 상기 다른 층으로 이동시키는 것에 의해 혼입되면, 동일한 유효한 UV 흡수보호를 얻을 수 있다는 것을 알 수 있다.
이들 중합체는 다음으로 구성된 군으로부터 선택된다:
(1) 폴리올레핀;
(2) 폴리올레핀의 혼합물;
(3) 모노올레핀과 디올레핀 또는 기타 비닐 단량체의 공중합체;
(4) 폴리스티렌, 폴리(p-메틸스티렌) 또는 폴리(α-메틸스티렌);
(5) 스티렌 또는 α-메틸스티렌과 디엔 또는 아크릴 유도체의 공중합체;
(6) 스티렌 또는 α-메틸스티렌의 그라프트 공중합체;
(7) 할로겐 함유 중합체;
(8) a,b-불포화 산 및 그의 유도체로부터 유도된 중합체;
(9) 단량체(8)와 각각 독립적인 불포화 단량체와의 공중합체;
(10) 불포화 알코올 및 아민 또는 이들의 아실 유도체 또는 아세탈로부터 유도된 중합체;
(11) 폴리옥시메틸렌 및 에틸렌 옥시드를 공단량체로 함유하는 폴리옥시메틸렌과 같은 폴리아세탈, 열가소성 폴리우레탄, 아크릴레이트 또는 MBS로 변성된 폴리아세탈;
(12) 폴리우레탄;
(13) 디아민 및 디카르복시산 및/또는 아미노카르복시산 또는 상응하는 락탐으로부터 폴리아미드 및 코폴리아미드;
(14) 폴리우레아 또는 폴리이미드;
(15) 디카르복시산 및 디올 및/또는 히드록시카르복시산 또는 상응하는 락톤으로부터 유도된 폴리에스테르, 특히 폴리(에틸렌 테레프탈레이트)(PET) 및 폴리(에틸렌 2,6-나프탈렌디카르복시레이트)(PEN);
(16) 폴리카보네이트 및 폴리에스테르 카보네이트;
(17) 폴리술폰 및 폴리에테르 술폰;
(18) 알데히드 및 페놀, 우레아 및 멜라민으로부터 유도된 가교된 중합체;
(19) 포화 및 불포화 디카르복시산과 다가 알코올 및 가교제인 비닐 화합물로부터 유도된 불포화 폴리에스테르 수지;
(20) 치환된 아크릴레이트로부터 유도된 가교성 아크릴 수지;
(21) 상술한 중합체의 혼합물;
(22) 폴리실옥산;
(23) 불포화 아크릴 폴리아세토아세테이트 수지 또는 불포화 아크릴 수지와 조합된 폴리케티민;
(24) 에틸렌성 불포화 단량체 또는 올리고머 및 다중불포화 지방족 올리고머를 함유하는 방사선 경화성 조성물; 및
(25) 이오노머(에틸렌/아크릴산의 공중합체 및 이들의 염).
부가적으로, 본 발명의 접착제는 특히 접착제가 폴리(비닐 부티랄)인 경우 자동차 전면유리에서와 같은 2개(또는 그 이상)의 유리층 사이에 삽입될 수 있다.
접착제 성분(a)는 전형적으로 폴리이미드, 폴리올레핀, 열경화성수지, 스티렌 중합체, 폴리(비닐 부티랄), 에틸렌/비닐 아세테이트 공중합체, 폴리아크릴, 폴리아크릴레이트, 천연 고무, 폴리시아노아크릴레이트, 폴리(비닐 알코올), 스티렌/부타디엔 고무, 페놀릭, 우레아-포름알데히드 중합체, 에폭시 수지, 비닐 중합체, 폴리우레탄 및 스티렌 블록 공중합체로 구성된 군으로부터 선택된 수지이다.
바람직하게는 접착제 성분(a)는 폴리(비닐 부티랄), 에틸렌/비닐 아세테이트 공중합체, 폴리아크릴, 폴리아크릴레이트, 천연고무, 폴리시아노아크릴레이트, 폴리(비닐 알코올), 스티렌/부타디엔 고무, 페놀릭, 우레아-포름알데히드 중합체, 에폭시 수지, 비닐 중합체, 폴리아미드, 폴리우레탄, 폴리에스테르 및 스티렌 블록 공중합체로 구성된 군으로부터 선택되는 수지이다.
가장 특히, 성분(a)의 접착제는 폴리(비닐 부티랄), 에틸렌/비닐 아세테이트공중합체, 폴리아크릴, 폴리아크릴레이트, 천연고무, 폴리시아노아크릴레이트, 폴리(비닐 알코올), 스티렌/부타디엔 고무, 페놀릭, 비닐 중합체, 폴리우레탄 및 스티렌 블록 공중합체로 구성된 군으로부터 선택되는 수지이다.
접착제 성분(a)의 수지는 특히 폴리아크릴레이트이다.
본 발명의 다른 주제는 적층물품 또는 다층 구조에서 접착층으로 사용하기에 적합한 접착제 조성물을 안정화시키기 위한 상술한 바와 같은 화학식(I), (II), (III), (IV), (V) 또는 (VI)의 고 용해성, 고 몰 소광성 및 광안정성 s-트리아진 또는 이들의 혼합물의 용도에도 관한 것이다.
이하의 실시예는 본 발명을 상세하게 설명한다.
실시예 1
선택된 s-트리아진 UV 흡수제의 UV 흡수
하기 표는 다양한 s-트리아진 UV 흡수제의 UV 흡수를 나타낸다. UV 흡수 스펙트럼은 약 20 mg/L 농도의 에틸 아세테이트에서 측정하였다. 이들 데이터는 각 화합물에 대한 최대 파장에서 높은 몰 소광치를 나타낸다. 전형적인 벤조트리아졸 및 벤조페논 UV 흡수제를 대조용으로 나타낸다. s-트리아진에 대한 몰 소광치는 벤조트리아졸이나 벤조페논에 대한 몰 소광치에 비하여 훨씬 크다.
*A는 4-메톡시-2,2'-디히드록시벤조페논.
B는 4,4'-디메톡시-2,2'-디히드록시벤조페논.
C는 5-클로로-2-(2-히드록시-3,5-디-삼차부틸페닐)-2H-벤조트리아졸, TINUVINR327, 시바 제조.
D는 2-(2-히드록시-3,5-디-α-큐밀페닐)-2H-벤조트리아졸, TINUVINR900, 시바 제조.
E는 2,4-비스(4-비페닐릴)-6-(2-히드록시-4-옥틸옥시카르보닐에틸리덴옥시페닐)-s-트리아진.
F는 2-페닐-4-[2-히드록시-4-(3-이차부틸옥시-2-히드록시프로필옥시)페닐]-6-[2-히드록시-4-(3-이차아밀옥시-2-히드록시프로필옥시)페닐]-2-트리아진.
G는 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(3-벤질옥시-2-히드록시프로필옥시)페닐]-s-트리아진.
H는 2,4-비스(2-히드록시-4-부틸옥시페닐)-6-(2,4-디-부틸옥시페닐)-s-트리아진.
I는 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(3-노닐옥시*-2-히드록시프로필옥시)-5-α-큐밀페닐]-s-트리아진.(*는 옥틸옥시, 노닐옥시 및 데실옥시 기의 혼합물을 의미함).
J는 메틸렌비스-{2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(3-부틸옥시-2-히드록시프로폭시)페닐]-s-트리아진}, 3:5', 5:5' 및 3:3' 위치에서 5:4:1 비율로 교상결합된 메틸렌 교상결합 이합체 혼합물.
K는 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-이소옥틸옥시카르보닐이소프로필리덴옥시페닐)-s-트리아진.
L은 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-(2-히드록시-4-헥실옥시-5-α-큐밀페닐)-s-트리아진.
M은 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-s-트리아진, CYASORBR1164, Cytec 제조.
N은 2-(2,4,6-트리메틸페닐)-4,6-비스[2-히드록시-4-(3-부틸옥시-2-히드록시프로필옥시)페닐]-s-트리아진.
O는 2,4,6-트리스[2-히드록시-4-(3-이차부틸옥시-2-히드록시프로필옥시)페닐]-s-트리아진.
P는 2,4,6-트리스(2,4-디히드록시페닐)-s-트리아진 및 이소옥틸 α-브로모프로피오네이트의 반응에 의해 제조된 혼합물.
실시예 2
접착제에서 s-트리아진 UV 흡수제 용해도
s-트리아진 UV 흡수제 화합물의 용해도를 측정하기 위하여, 에틸 아세테이트와 헥산의 혼합물중에 폴리아크릴레이트의 44.5% 용액인 전형적인 접착제 GELVAR263(솔루티아 제품)에 상기 화합물을 부가하였다. 상기 폴리아크릴레이트는 메틸 메타크릴레이트, 2-에틸헥실 메타크릴레이트 및 글리시딜 메타크릴레이트의 공중합체이다.
시험하는 s-트리아진을 에틸 아세테이트, 톨루엔 또는 에틸아세테이트와 톨루엔의 혼합물 5 mL에 용해시켰다. 이 용액에 5 g의 GELVAR263을 부가하고 생성한 용액 2-3 mL를 개별 시계 유리에 넣었다. 용매가 증발되면 관찰되는 결정화를 기준으로 하여 용해도를 평가하였다. 관측은 몇시간 후에 개시한 다음 수 주간에 걸쳐 계속한다.
이하의 표에 수록된 용해도값은 결정화의 징후가 나타나지 않는 약 최대 농도이다. 용해도는 GELVAR263에 부가된 전체 벤조트리아졸의 중량에서 기록된 것이다. 이들 데이터로부터, 본 발명의 s-트리아진은 종래기술의 많은 벤조트리아졸에 비하여 접착제(상기 경우 GELVAR263)에서 현저히 더 우수한 용해성을 나타냄이 분명하다. 접착제에서 많은 UV 흡수제의 사용은 일부 UV 흡수제 화합물의 제한된 용해도와 상용성으로 인하여 과거에는 제한되어 왔다. 본 발명의 선택된 s-트리아진을 사용함으로써 그 용도 수준은 본 발명의 s-트리아진 UV 흡수제의 광안정성 및
적색 이동에 의해 촉발되는 현저히 증가된 안정화작용 정도로 향상될 수 있다.
*각 화합물의 화학명칭은 실시예 1의 표 말단에 나타낸 바와 같다.
s-트리아진의 용해도는 상기 화합물의 특정 구조에 따라 상이하다.
실시예 3
노화 실험
s-트리아진 UV 흡수제 시험 화합물의 내구성과 손실율의 효과를 측정하기 위하여, 선택된 물품중의 접착제 조성물상에서 이하의 실험을 실시하였다.
GELVAR263 (솔루티아 제조) 접착제는 실시예 2에 기재되어 있다. 2축 연신 폴리(에틸렌 테레프탈레이트)(PET) 필름은 유나이티드 스테이트 플라스틱사로부터 구입하였다.
GELVAR263은 에틸아세테이트를 사용하여 50% 희석시켜 최종 수지 고형분 농도 23%를 얻었다. 상기 시험 화합물을 GELVAR263 용액에 용해시키고 그 샘플을 듀플리케이트로 제조하였다. 하기 표에 나타낸 배합물은 전체 도료 고형분을 기준한 것이다. 각 배합물당 5000 rpm에서 10초간 동작되는 헤드웨이 리서치 인코포레이티드가 제조한 포토 레지스트 스피너(모델 EC101DT)를 이용하여 1.5 인치 유리 디스크에 약 8 미크론의 코팅을 도포하였다. 모든 배합물을 3 공기교환/분에서 동작되는 Hereaus 모델 LUT 6050F에서 80℃ x 3분간 베이킹(baking)하였다.
상기 접착제는 베이킹 이후에도 점착성이므로, 직접적인 두께 측정은 불가능하였다. 간접적인 필름 두께는 PET 필름층 사이의 접착제 샌드위치를 만들고 이것의 두께를 자기 유도 방법을 이용하여 접착제 없이 2개의 PET 쉬트와 비교하는 것에 의해 결정한다.
스핀 피복 조건을 얻는다. 또한 상기 스핀 피복 조건은 접착제를 유리에 도포하는 것에 대해서는 변화하지 않기 때문에 두께에서 변화는 거의 예상되지 않는다. 이것을 오븐에서 경화시킨 후, PET층(약 2mils)을 접착제위에 놓고 압착시킨다.
흡수 스펙트럼은 퍼킨 엘머 람다 19 분광광도계 주행 UVWINLAB 소프트웨어를 이용하여 수집하였다. 흡수 데이터는 240 nm/분의 속도 및 슬릿 폭 2 nm에서 1/2 나노미터당 400-300 nm에서 수집하였다.
노화는 6500 W에서 제어된 조사로 실시하였다. 주기는 다음과 같다: 물 분무없이 3.8 시간 동안 직접적으로 조사한 다음 1시간 동안 암흑으로 한다. 광 주기에서, 블랙 패널 온도는 89℃로 조절한다. 챔버(건조 벌브) 온도는 광 주기에서 62℃이다. 광 주기에서 상대습도는 50 내지 55% 범위이고 암흑 주기에서는 95% 이다. 챔버(건조 벌브) 온도는 암흑 주기에서 38℃이다.
크세논 램프와 면하는 유리를 갖는 크세논 아크 Weather-O-meter에서 시험 샘플을 놓고 솔러(solar) 필름과 같은 물품을 에뮬레이팅하였다. UV 스펙트럼은 약 250 시간 간격으로 얻었다. UV 스펙트럼을 500 시간에 얻고 샘플을 회전시켜 모든 샘플이 유사한 노화 조건에 있도록 하였다.
접착제 조성물로부터 UV 흡수제의 손실에 이어, UV 스펙트럼을 노화 초기와 노화후에 측정하였다. UV 분광광도계는 참조 빔 감쇠 수법을 이용하여 5.5 흡수단위까지의 선형흡수를 측정한다.
UV 흡수제에 대한 분해 생성물은 UV 스펙트럼에 관여하지 않는 것으로 보인다. 이것은 300 nm에서의 밴드 및 약 340 nm에서의 밴드의 흡수비에 의해 확인된다. 상기 비는 샘플을 노화시킬 때 변하지 않는다. 이것은 노화된 필름의 UV 스펙트럼이 광분해에 의한 스펙트럼에 관여하면 필름에 잔류하는 UV 흡수제의 양에 상응한다는 것을 보여준다.
1050 시간 노출후의 결과를 하기 표에 나타낸다.
*%는 배합물에서 중량기준이다.
I은 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논.
II는 옥틸 3-(2H-벤조트리아졸-2-일)-5-삼차부틸-4-히드록시히드로신나메이트.
III은 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-이소옥틸옥시카르보닐이소프로필리덴옥시페닐)-s-트리아진 (실시예 1에 수록된 화합물 K)
이들 데이터는 본 발명의 s-트리아진이 화학방사선에 노출된 후 흡수치의 손실율이 낮은 것으로부터 측정된 바와 같이 접착제에서 특히 내구성이 높다. 요컨대, 본 발명의 s-트리아진은 접착제계에서 우수한 광안정성 및 예기치않은 높은 용해도를 겸비하고 있다.
실시예 4
노화 실험
기타 s-트리아진 UV 흡수제 시험 화합물의 내구성과 손실율의 효과를 확인하기 위하여, 실시예 3에 기재된 바와 같이 선택된 물품의 접착제 조성물상에서 이하의 실험을 실시하였다.
각 시험 샘플은 0.5 중량%의 입체장애 아민 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)세바케이트를 함유한다. 1338 시간 노출후 결과를 하기 표에 수록한다.
*%는 배합물에서 중량기준이다.
I는 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논.
II는 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-이소옥틸옥시카르보닐이소프로필리덴옥시페닐)-s-트리아진 (실시예 1에 수록된 화합물 K).
III은 2,4-비스(4-비페닐릴)-6-(2-히드록시-4-옥틸옥시카르보닐에틸리덴옥시페닐)-s-트리아진 (실시예 1에 수록된 화합물 E).
이들 데이터는 본 발명의 s-트리아진은 화학방사선 노출후 흡수치의 손실율이 낮은 것으로부터 측정된 바와 같이 접착제에서 특히 내구성을 가짐을 나타낸다. 요컨대 본 발명의 s-트리아진은 접착제계에서 큰 광안정성과 예기치않게 높은 용해도를 겸비하고 있다.
실시예 5
전면유리 중간층 어셈블리
s-트리아진 UV 흡수제를 함유하는 접착제 조성물을 2개의 유리 쉬트 사이에 놓으면, 이 어셈블리는 전형적인 전면유리를 구성한다. 이러한 한정된 환경에서는 유리 쉬트 접착제 중간층에 대해 불투과성 용기를 제공하므로 s-트리아진 안정화제가 휘발에 의해 탈출할 기회가 없다. 용해성 s-트리아진 안정화제의 광안정성 및 내구성은 최고이다. 구조가 휘발성이고 다른 유형의 용도에서의 사용을 제외시키는 s-트리아진 UV 흡수제는 불순물과 함께 전면유리 중간층 어셈블리에 사용되어 장기간 동안 유지하고 안정한 전면유리 구조를 달성할 수 있다.
전면유리 원형 구조를 실시예 3에 기재된 과정에 따라 노화 시험에 노출시켰다. GELVAR263(솔루티아) 접착제를 2장의 유리 쉬트 사이에 놓고 선택된 시험 UV 흡수제 3.2 내지 4 중량%를 부가적으로 함유시켰다. 이 구조를 실시예 3에 기재된 바와 같이 1338 시간 동안 노화시험에 노출시켰다.
결과를 하기 표에 수록한다. 각 시험 샘플은 0.5%의 입체장애 아민 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)세바케이트를 함유한다.
*%는 배합물에서 중량기준이다.
I는 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논.
II는 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-이소옥틸옥시카르보닐이소프로필리덴옥시페닐)-s-트리아진 (실시예 1에 수록된 화합물 K).
III은 2,4-비스(4-비페닐릴)-6-(2-히드록시-4-옥틸옥시카르보닐에틸리덴옥시페닐)-s-트리아진 (실시예 1에 수록된 화합물 E).
이들 데이터는 본 발명의 s-트리아진은 화학방사선 노출후 흡수치의 손실율이 낮은 것으로부터 측정된 것과 같이 접착제에서 특히 내구성이 높다는 것을 보여준다. 부가적으로, 이들 s-트리아진은 접착제 조성물에서 벤조페논에 비하여 훨씬 더 우수하다는 것도 알 수 있다. 요컨대, s-트리아진과 입체장애 아민 안정화제의 조합은 현저히 우수한 성능을 제공한다. 요컨대, 본 발명의 s-트리아진은 접착제계에서 큰 광안정성과 예상치않게 높은 용해도를 겸비하고 있다.
실시예 6
본 발명의 s-트리아진 UV 흡수제는 인쇄물질 및 사진용의 필름과 경성 플라스틱 보호 적층에 사용되어 우수한 광안정성을 제공할 수 있다.
실시예 7
본 발명의 s-트리아진 UV 흡수제는 백리트(backlit) 디스플레이에 사용되어 탁월한 장기간 안정화작용을 제공한다.
실시예 8
본 발명의 s-트리아진 UV 흡수제는 반투명 및 불투명 윈도우 디스플레이, 사인 및 데칼코마니에 사용될 수 있으며, 이때 필름 또는 경성 플라스틱 그래픽은 윈도우 유리에 적층되어 탁월한 장시간 안정화작용을 제공한다.
실시예 9
본 발명의 s-트리아진 UV 흡수제는 유리, 금속 또는 플라스틱 기판상에 사용되는 투명/경사진 안티그라피티(antigraffiti) 필름에 사용되어 탁월한 장기간 안정화작용을 제공할 수 있다.
실시예 10
본 발명의 s-트리아진 UV 흡수제는 유리층 또는 폴리카보네이트층 위 또는 사이에 사용된 투명한 찢어짐 방지 또는 "보호" 필름에 사용되어 장기간 안정화작용을 제공할 수 있다.
실시예 11
본 발명의 s-트리아진 UV 흡수제는 자동차, 버스, 장치 및 기타 외부용 제품과 같은 도장된 표면에 대한 장식성 및 보호성 필름에 사용되어 장기간 안정화작용을 제공할 수 있다.
실시예 12
2,4,6-트리스(2,4-디히드록시페닐)-s-트리아진(12.15 g), 탄산나트륨(10.5g), N,N-디메틸포름아미드(20 mL) 및 이소옥틸 α-브로모프로피오네이트(25.56g, 이성질체 혼합물)을 교반하면서 5시간 동안 가열하였다. 이어, 물을 부가하고 그 혼합물을 유기 용매로 추출하였다. 용매를 제거하여 하기 성분을함유하는 밝은 오렌지색 수지를 수득하였다:
iC8H17: 옥틸 이성질체 혼합물로부터의 잔기.
실시예 13
s-트리아진 UV 흡수제 시험 화합물의 내구성과 손실율의 효과를 확인하기 위하여, 이하의 실험을 폴리우레탄 필름에서 실시하였다.
폴리우레탄 필름 제조
RK 4037, 아크릴 폴리올, 메틸 아밀 케톤중의 75% 고형분 (듀퐁 제조)를 이들 실험에 사용하였다. 분자량은 7,000-9,000이고 OH가는 145이다. 595g의 상기 아크릴 폴리올, 26.2 g의 부틸 아세테이트, 5.8g의 에틸 아세테이트 및 0.4 g의 50% 세기 FC 430을 부가하여 혼합하였다. 0.75g의 비스(1-옥틸-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-2-일)세바케이트(Tinuvin 123)을 상기 혼합물에 부가하였다(수지 고형분을 기준하여 1중량%). 상기 혼합물 2.43g에 0.9g의 DesmodurRN-3390, 지방족 폴리이소시아네이트, 90% 고형분(바이에르 제조)을 부가하였다. 시험 UV 흡수제를 상기 아크릴 폴리올 부분에 혼입시켰다. 스핀 도포법에 의해 1,000 rpm에서 2초간 석영 디스크상에 도료를 도포하였다. 젖어있는 도포물을 260℉(127℃)에서 30분간 경화시켰다.
λ-9 UV 분광광도계(퍼킨 엘머 제조)를 이용하여 매 1/2 nm 마다 슬릿 폭 2 nm로하여 120nm/분으로 UV 스펙트럼을 수집하였다.
노화 조건
손실율은 1.4 mil 코팅으로부터 측정하였다. 장파장 UV 흡수 밴드의 흡수는 노화전에는 약 2.3 이었다. 노화는 SAEJ 1960 (외부 자동차 노화 조건)에 따라 실시하였다: 내부 및 외부 보로실리케이트 필터를 이용하여 340 nm에서 0.55 와트/m2; 물 분무없이 40' 직접 조사; 20' 광 + 전면(front) 분무; 60' 광 및 60' 어둠 + 후면 분무(축합). 광주기에서 블랙 패널 온도는 70±℃이고 광주기에서 상대습도는 50-55%이며 또 암주기에서 상대습도는 100%이다. 장파장 흡수 밴드의 손실은 약 매 200 시간 후에 나타난다.
2012 시간 노출후의 결과를 하기 표에 나타낸다.
*%는 배합물에서 중량기준이다.
C는 5-클로로-2-(2-히드록시-3,5-디-삼차부틸페닐)-2H-벤조트리아졸,TINUVINR327, 시바 제조.
P는 실시예 12의 반응 혼합물.
K는 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-이소옥틸옥시카르보닐이소프로필리덴옥시페닐)-s-트리아진.
이들 데이터는 본 발명의 s-트리아진이 화학방사선 노출후 흡수치의 낮은 손실율로부터 측정되듯이 폴리우레탄 필름에서 특히 내구성이 우수함을 분명히 보여준다. 요컨대 본 발명의 s-트리아진은 접착제 계에서 큰 광안정성과 예기치않게 높은 용해도를 겸비하고 있다.
실시예 14
노화 실험
s-트리아진 UV 흡수제 시험 화합물의 내구성과 손실율의 효과를 확인하기 위하여, 이하의 실험을 실시예 13에 기재된 과정을 따라서 폴리우레탄 필름에서 실시하였다. 다른 시험 UV 흡수제를 사용한 이외에는 동일한 폴리우레탄 필름을 사용하였다.
998 시간 노출후의 결과를 하기 표에 나타낸다.
*%는 배합물에서 중량기준이다.
B는 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논.
H는 2,4-비스(2-히드록시-4-부틸옥시페닐)-6-(2,4-디-부틸옥시페닐)-s-트리아진.
Q는 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-에틸옥시카르보닐에틸리덴옥시페닐)-s-트리아진.
이들 데이터는 본 발명의 s-트리아진이 화학방사선 노출후 흡수치의 낮은 손실율로부터 측정되듯이 폴리우레탄 필름에서 특히 내구성이 우수함을 분명히 보여준다. 요컨대 본 발명의 s-트리아진은 접착제 계에서 큰 광안정성과 예기치않게 높은 용해도를 겸비하고 있다.

Claims (22)

  1. (a) 접착제; 및
    (b1) 유효 안정화량의 하기 화학식(I), (II), (III), (IV), (V) 또는 (VI)의 고용해성, 고 몰 소광성 및 광안정성 s-트리아진 UV 흡수제 또는 이들의 혼합물을 포함하는,
    적층 물품 또는 다층 구조에서 접착제로서 사용하기에 적합한 안정화된 접착제 조성물:
    (I)(II)
    (III)
    (IV)
    (V)
    (VI)
    식중에서,
    X 및 Y는 서로 독립해서 페닐, 나프틸, 또는 1 내지 6개 탄소원자를 갖는 1 내지 3개 알킬에 의해, 할로겐에 의해, 히드록시에 의해 또는 1 내지 6개 탄소원자를 갖는 알콕시에 의해 또는 이들의 혼합물에 의해 치환된 상기 페닐 또는 상기 나프틸이거나; 또는 X 및 Y는 서로 독립해서 Z1또는 Z2이며;
    R1은 수소, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 5 내지 12개탄소원자를 갖는 시클로알킬, 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬, 할로겐, -SR3, -SOR3또는 -SO2R3이거나; 또는 1 내지 3개의 할로겐, -R4, -OR5, -N(R5)2, -COR5, -COOR5, -OCOR5, -CN, -NO2, -SR5, -SOR5, -SO2R5또는 -P(O)(OR5)2에 의해 치환된 상기 알킬, 상기 시클로알킬 또는 상기 페닐알킬; 모르폴리닐, 피페리디닐, 2,2,6,6-테트라메틸피페리디닐, 피페라지닐 또는 N-메틸피페리디닐 기 또는 이들의 조합이거나; 또는 1 내지 4개의 페닐렌, -O-, -NR5-, -CONR5-, -COO-, -OCO- 또는 -CO 기 또는 이들의 조합을 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 상기 시클로알킬이거나; 또는 상술한 기의 조합에 의해 치환되거나 상술한 기의 조합을 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 상기 시클로알킬이며;
    R3은 1 내지 20개 탄소원자를 갖는 알킬, 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 알케닐, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬, 6 내지 10개 탄소원자를 갖는 아릴이거나 또는 1 내지 4개 탄소원자를 갖는 1개 또는 2개의 알킬에 의해 치환된 상기 아릴이고;
    R4는 6 내지 10개 탄소원자를 갖는 아릴이거나 또는 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시 또는 이들의 조합에 의해 치환된 상기 아릴; 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬; 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬이거나 또는 페닐고리에서 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시 또는 이들의조합에 의해 치환된 상기 페닐알킬; 또는 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알케닐이며;
    R5는 R4에서 정의한 바와 같거나; 또는 R5는 수소 또는 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 2 내지 24개 탄소원자를 갖는 알케닐이거나; 또는 R5는 하기 기
    이고;
    T는 수소, 옥실, 히드록시, -OT1, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 3개의 히드록시에 의해 치환된 상기 알킬; 벤질 또는 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 알카노일이며;
    T1은 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 알킬, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 2 내지 24개 탄소원자를 갖는 알케닐, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알케닐, 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬, 7 내지 12개 탄소원자를 갖는 포화 또는 불포화 비시클릭 또는 트리시클릭 탄화수소 라디칼 또는 6 내지 10개 탄소원자를 갖는 아릴이거나 또는 1 내지 4개 탄소원자를 갖는 1 내지 3개의 알킬에 의해 치환된 상기 아릴이고;
    R2는 수소, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬; 또는 1 내지 4개의 할로겐, 에폭시, 글리시딜옥시, 푸릴옥시, -R4, -OR5, -N(R5)2, -CON(R5)2, -COR5, -COOR5, -OCOR5, -OCOC(R5)=C(R5)2, -C(R5)=CCOOR5, -CN, -NCO, 또는또는 이들의 조합에 의해 치환된 상기 알킬 또는 상기 시클로알킬; 또는 1 내지 4개의 에폭시, -O-, -NR5, -CONR5, -COO-, -OCO-, -CO-, -C(R5)=C(R5)COO-, -OCOC(R5)=C(R5)-, -C(R5)=C(R5)-, 페닐렌 또는 페닐렌-G-페닐렌(이때, G는 -O-, -S-, -SO2-, -CH2- 또는 -C(CH3)2- 또는 이들의 조합임)을 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 상기 시클로알킬이거나, 또는 상술한 기의 조합에 의해 치환되거나 또는 상술한 기의 조합을 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 상기 시클로알킬이거나; 또는 R2는 -SO2R3또는 -COR6이며;
    R6은 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알케닐, 페녹시, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬아미노, 6 내지 12개 탄소원자를 갖는 아릴아미노, -R7COOH 또는 -NH-R8-NCO 이고;
    R7은 2 내지 14개 탄소원자를 갖는 알킬렌 또는 페닐렌이며;
    R8은 2 내지 24개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 페닐렌, 톨릴렌, 디페닐메탄 또는 하기 기
    이며;
    R1, R1' 및 R1"는 동일하거나 상이하며 R1에서 정의한 바와 같고;
    R2, R2' 및 R2"는 동일하거나 상이하며 R2에서 정의한 바와 같고;
    X, X', Y 및 Y'는 동일하거나 상이하며 X 및 Y에서 정의한 바와 같고;
    t는 0 내지 9이며;
    L은 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬렌 또는 시클로헥실렌 또는 페닐렌에 의해 치환되거나 이들을 중간에 포함하는 알킬렌이거나; 또는 L은 벤질리덴이거나; 또는 L은 -S-, -S-S-, -S-E-S-, -SO-, -SO2-, -SO-E-SO-, -SO2-E-SO2-, -CH2-NH-E-NH-CH2- 또는
    이며;
    E는 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬렌 또는 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬렌을 중간에 포함하거나 말단에 포함하는 알킬렌이고;
    n은 2, 3 또는 4이며;
    n=2 이면; Q는 2 내지 16개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌이거나;또는 1 내지 3개의 히드록시 기에 의해 치환된 상기 알킬렌이거나; 또는 1 내지 3개의 -CH=CH- 또는 -O-를 중간에 포함하는 상기 알킬렌이거나; 또는 상술한 기의 조합에 의해 치환되거나 상술한 기의 조합을 중간에 포함하는 상기 알킬렌이거나; 또는 Q는 크실릴렌 또는
    기이며, 이때 m은 1 내지 3이거나; 또는 Q는 하기 기
    이고;
    R9는 2 내지 50개 탄소원자를 갖는 알킬렌이거나; 또는 1 내지 10개의 -O-, 페닐렌 또는 -페닐렌-G-페닐렌 (이때 G는 -O-, -S-, -SO2-, -CH2- 또는 -C(CH3)2-임)기를 중간에 포함하는 상기 알킬렌이고;
    R10은 2 내지 10개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 또는 1 내지 4개의 -O-, -S- 또는 -CH=CH-를 중간에 포함하는 상기 알킬렌이거나; 또는 R10은 6 내지 12개 탄소원자를 갖는 아릴렌이고;
    R11은 2 내지 20개 탄소원자를 갖는 알킬렌이거나 또는 1 내지 8개 -O-를 중간에 포함하는 상기 알킬렌이며;
    n=3이면, Q는기이며, 이때 m은 1 내지 3이고, 또 R12는3 내지 12개 탄소원자를 갖는 알칸트리일이고;
    n=4이면, Q는기이고, 이때 m은 1 내지 3이고 또 R14는 4 내지 12개 탄소원자를 갖는 알칸테트라일이며;
    Z1은 하기 기
    이고;
    Z2는 하기 기
    이며;
    r1및 r2는 서로 독립해서 0 또는 1이고;
    R14, R15, R16, R17, R18, R19, R20, R21, R22및 R23은 서로 독립해서 수소, 히드록시, 시아노, 1 내지 20개 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 20개 탄소원자를 갖는 알콕시, 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알콕시, 할로겐, 1 내지 5개 탄소원자를 갖는 할로알킬, 술포, 카르복시, 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 아실아미노, 2내지 12개 탄소원자를 갖는 아실옥시, 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 알콕시카르보닐 또는 아미노카르보닐이거나; 또는 R17및 R18또는 R22및 R23은 이들이 부착된 페닐 라디칼과 합쳐져서 중간에 1 내지 3개의 -O- 또는 -NR5-를 포함하는 시클릭 라디칼을 형성하며;
    단 화학식(I), (II), (III), (IV), (V) 또는 (VI)의 s-트리아진 또는 이들의 혼합물은 향상된 내구성 및 크세논 아크 Weather-Ometer에서 1050시간 노출후 0.5 흡수 단위 미만의 흡수 손실 또는 1338 시간 노출후 0.7 흡수 단위 미만의 흡수 손실로부터 알 수 있듯이 화학방사선에 노출될 때 낮은 흡수손실을 나타낸다.
  2. 제1항에 있어서, 성분(b)의 s-트리아진이,
    X 및 Y는 동일하거나 상이하며 페닐 또는 1 내지 6개 탄소원자를 갖는 1 내지 3개 알킬, 할로겐, 히드록시 또는 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알콕시에 의해 치환된 상기 페닐이거나; 또는 Z1또는 Z2이며;
    R1은 수소, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬 또는 할로겐이고,
    R2는 수소, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬이거나; 또는 1 내지 3개 -R4, -OR5, -COOR5, -OCOR5또는 이들의 조합에 의해 치환된 상기 알킬 또는 상기 시클로알킬; 또는 1 내지 3개의 에폭시, -O-, -COO-, -OCO- 또는 -CO-를 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 상기 시클로알킬이고;
    R4는 6 내지 10개 탄소원자를 갖는 아릴이거나 또는 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시 또는 이들의 조합에 의해 치환된 상기 아릴; 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬; 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬이거나 또는 페닐고리에서 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시 또는 이들의 조합에 의해 치환된 상기 페닐알킬이며;
    R5는 R4에서 정의한 바와 같거나; 또는 R5는 수소 또는 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬이고;
    Z1은 하기 기
    이고;
    Z2는 하기 기
    이며;
    r1및 r2는 서로 독립해서 1이고; 또
    R14, R15, R16, R17, R18, R19, R20, R21, R22및 R23은 서로 독립해서 수소, 히드록시, 시아노, 1 내지 20개 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 20개 탄소원자를 갖는 알콕시, 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알콕시, 할로겐, 1 내지 5개 탄소원자를 갖는 할로알킬, 술포, 카르복시, 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 아실아미노, 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 아실옥시, 또는 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 알콕시카르보닐 또는 아미노카르보닐인 화학식(I)의 화합물인 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 성분(b)의 s-트리아진이,
    X는 페닐, 나프틸 또는 1 내지 6개 탄소원자를 갖는 1 내지 3개 알킬, 할로겐, 히드록시 또는 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알콕시 또는 이들의 혼합물에 의해 치환된 상기 페닐 또는 상기 나프틸이거나; 또는 X는 Z1이며;
    R1및 R1'은 서로 독립해서 R1에서 정의한 바와 같고; 또
    R2및 R2'는 서로 독립해서 R2에서 정의한 바와 같은 화학식(II)의 화합물인 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 성분(b)의 s-트리아진이,
    R1, R1' 및 R1"은 서로 독립해서 R1에서 정의한 바와 같고; 또
    R2, R2' 및 R2"는 서로 독립해서 R2에서 정의한 바와 같은 화학식(III)의 화합물인 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 성분(b)의 s-트리아진이,
    X 및 Y가 서로 독립해서 페닐 또는 1 내지 6개 탄소원자를 갖는 1 내지 3개 알킬에 의해, 할로겐에 의해, 히드록시에 의해 또는 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알콕시에 의해 또는 이들의 혼합물에 의해 치환된 상기 페닐이거나; 또는 X 및 Y는 독립해서 Z1또는 Z2이며; 또
    L이 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬렌이거나 또는 시클로헥실렌 또는 페닐렌에 의해 치환되거나 이들을 중간에 포함하는 알킬렌인 화학식(VI)의 화합물인 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 성분(b)의 s-트리아진이,
    X 및 Y가 동일하거나 상이하며 페닐이거나 또는 1 내지 6개 탄소원자의 1 내지 3개 알킬에 의해 치환된 상기 페닐이거나; Z1또는 Z2이며;
    R1은 수소 또는 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬이고;
    R2는 수소, 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬; 또는 1 내지 3개의 -R4, -OR5또는 이들의 혼합물에 의해 치환된 상기 알킬; 또는 1 내지 8개의 -O- 또는 -COO-를 중간에 포함하는 상기 알킬이며;
    R4는 6 내지 10개 탄소원자를 갖는 아릴이고;
    R5는 수소이며;
    Z1은 하기 기
    이고;
    Z2는 하기 기
    이며;
    r1및 r2는 서로 독립해서 1이고; 또
    R14, R15, R16, R17, R18, R19, R20, R21, R22및 R23은 각각 수소인 화학식(I)의 화합물인 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 성분(b)의 s-트리아진 UV 흡수제가,
    (1) 2,4-비스(4-비페닐릴)-6-(2-히드록시-4-옥틸옥시카르보닐에틸리덴옥시페닐)-s-트리아진;
    (2) 2-페닐-4-[2-히드록시-4-(3-이차부틸옥시-2-히드록시프로필옥시)페닐]-6-[2-히드록시-4-(3-이차아밀옥시-2-히드록시프로필옥시)페닐]-s-트리아진;
    (3) 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(3-벤질옥시-2-히드록시프로필옥시)-페닐]-s-트리아진;
    (4) 2,4-비스(2-히드록시-4-부틸옥시페닐)-6-(2,4-디-n-부틸옥시페닐)-s-트리아진;
    (5) 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(3-노닐옥시*-2-히드록시프로필옥시)-5-α-큐밀페닐]-s-트리아진; (*는 옥틸옥시, 노닐옥시 및 데실옥시 기의 혼합물을 의미함);
    (6) 메틸렌비스-{2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(3-부틸옥시-2-히드록시-프로폭시)페닐]-s-트리아진}, 3:5', 5:5' 및 3:3' 위치에서 5:4:1 비율로 교상결합된 메틸렌 교상결합 이합체 혼합물;
    (7) 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-이소옥틸옥시카르보닐이소프로필리덴옥시페닐)-s-트리아진;
    (8) 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-(2-히드록시-4-헥실옥시-5-α-큐밀페닐)-s-트리아진;
    (9) 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-s-트리아진, CYASORBR1164, 시테크 제조;
    (10) 2-(2,4,6-트리메틸페닐)-4,6-비스[2-히드록시-4-(3-부틸옥시-2-히드록시프로필옥시)-페닐]-s-트리아진;
    (11) 2,4,6-트리스[2-히드록시-4-(3-이차부틸옥시-2-히드록시프로필옥시)페닐]-s-트리아진; 또는
    (12) 2,4,6-트리스(2,4-디히드록시페닐)-s-트리아진 및 이소옥틸 α-브로모프로피오네이트의 반응에 의해 제조된 혼합물인 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 성분(b)의 s-트리아진 UV 흡수제가,
    (1) 2,4-비스(4-비페닐릴)-6-(2-히드록시-4-옥틸옥시카르보닐에틸리덴옥시페닐)-s-트리아진;
    (5) 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(3-노닐옥시*-2-히드록시프로필옥시)-5-α-큐밀페닐]-s-트리아진; (*는 옥틸옥시, 노닐옥시 및 데실옥시 기의 혼합물을 의미함);
    (7) 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-이소옥틸옥시카르보닐이소프로필리덴옥시페닐)-s-트리아진; 또는
    (12) 2,4,6-트리스(2,4-디히드록시페닐)-s-트리아진 및 이소옥틸 α-브로모프로피오네이트의 반응에 의해 제조된 혼합물인 조성물.
  9. 제1항에 있어서, 화학식(I), (II), (III), (IV), (V) 또는 (VI)의 s-트리아진 또는 그의 혼합물의 안정화 유효량은 접착제의 중량을 기준하여 0.1 내지 20중량%인 조성물.
  10. 제1항에 있어서, 성분(a)의 접착제가 압력 민감성 접착제, 고무 기제 접착제, 용매 또는 유제 기제 접착제, 고온 용융 접착제 및 천연산물 기제 접착제로 구성된 군으로부터 선택되는 조성물.
  11. 제1항에 있어서, 접착제 조성물이 적층구조 또는 다층 구조로 존재하는 조성물.
  12. 제11항에 있어서, 상기 적층구조 또는 다층 구조가 이하로 구성된 군으로부터 선택되는 조성물:
    (a) 재귀반사성 쉬트 및 사인 및 보호성 마킹 쉬트;
    (b) 다양한 구조의 일광 제어 필름;
    (c) 내부식성 은 거울 및 일광 반사기;
    (d) 반사성 인쇄 라벨;
    (e) UV 흡수 유리 및 유리 코팅;
    (f) 전자발색 장치;
    (g) 필름/광택제;
    (h) 전면유리(windscreen) 및 중간층; 및
    (i) 광학 필름.
  13. 제12항에 있어서, 상기 적층구조 또는 다층 구조가 이하로 구성된 군으로부터 선택되는 조성물:
    (a) 재귀반사성 쉬트 및 사인 및 보호성 마킹 쉬트;
    (b) 다양한 구조의 일광 제어 필름;
    (e) UV 흡수 유리 및 유리 코팅;
    (g) 필름/광택제; 및
    (h) 전면유리(windscreen) 및 중간층.
  14. 제13항에 있어서, 상기 적층구조 또는 다층 구조가 이하로 구성된 군으로부터 선택되는 조성물:
    (b) 다양한 구조의 일광 제어 필름; 및
    (h) 전면유리(windscreen) 및 중간층.
  15. 제1항에 있어서, 성분(a)의 접착제가 하기로 구성된 군으로부터 선택된 수지인 조성물:
    (i) 폴리우레탄;
    (ii) 폴리아크릴;
    (iii) 에폭시;
    (iv) 페놀릭;
    (v) 폴리이미드;
    (vi) 폴리(비닐 부티랄);
    (vii) 폴리시아노아크릴레이트;
    (viii) 폴리아크릴레이트;
    (ix) 에틸렌/아크릴산 공중합체 및 이들의 염(이오노머);
    (x) 실리콘 중합체;
    (xi) 폴리(에틸렌/비닐 아세테이트);
    (xii) 아탁틱 폴리프로필렌;
    (xiii) 스티렌-디엔 공중합체;
    (xiv) 폴리아미드;
    (xv) 히드록시-말단 폴리부타디엔;
    (xvi) 폴리클로로프렌;
    (xvii) 폴리(비닐 아세테이트);
    (xviii) 카르복시화 스티렌/부타디엔 공중합체;
    (xix) 폴리(비닐 알코올); 및
    (xx) 폴리에스테르.
  16. 제1항에 있어서, 접착제가 폴리이미드, 폴리올레핀, 열경화성수지, 스티렌 중합체, 폴리(비닐 부티랄), 에틸렌/비닐 아세테이트 공중합체, 폴리아크릴, 폴리아크릴레이트, 천연 고무, 폴리시아노아크릴레이트, 폴리(비닐 알코올), 스티렌/부타디엔 고무, 페놀릭, 우레아-포름알데히드 중합체, 에폭시 수지, 비닐 중합체, 폴리우레탄 및 스티렌 블록 공중합체로 구성된 군으로부터 선택된 수지인 조성물.
  17. 제1항에 있어서, 성분(a)의 접착제가 폴리(비닐 부티랄), 에틸렌/비닐 아세테이트 공중합체, 폴리아크릴, 폴리아크릴레이트, 천연고무, 폴리시아노아크릴레이트, 폴리(비닐 알코올), 스티렌/부타디엔 고무, 페놀릭, 우레아-포름알데히드 중합체, 에폭시 수지, 비닐 중합체, 폴리우레탄 및 스티렌 블록 공중합체로 구성된 군으로부터 선택된 수지인 조성물.
  18. 제17항에 있어서, 성분(a)의 접착제가 폴리(비닐 부티랄), 에틸렌/비닐 아세테이트 공중합체, 폴리아크릴, 폴리아크릴레이트, 천연고무, 폴리시아노아크릴레이트, 폴리(비닐 알코올), 스티렌/부타디엔 고무, 페놀릭, 비닐 중합체, 폴리우레탄 및 스티렌 블록 공중합체로 구성된 군으로부터 선택된 수지인 조성물.
  19. 제18항에 있어서, 성분(a)의 접착제가 폴리아크릴레이트인 조성물.
  20. 제1항에 있어서, 산화방지제, 기타 UV 흡수제, 입체장애 아민, 포스파이트 또는 포스포나이트, 히드록실아민, 니트론, 벤조푸란-2-온, 티오상승제, 폴리아미드 안정화제, 금속 스테아레이트, 핵생성제, 충전제, 강화제, 윤활제, 유화제, 염료, 안료, 광학증백제, 난연제, 대전방지제 및 취입제로 구성된 군으로부터 선택된 공첨가제를 접착제를 기준하여 0.01 내지 10 중량% 부가적으로 함유하는 조성물.
  21. 제1항에 있어서, 임의의 공첨가제가 가소제, 접착증진제, 왁스, 석유 왁스, 탄성중합체, 점착제 수지, 오일, 수지, 중합체, 송진, 변성된 송진 또는 송진 유도체, 탄화수소 수지, 테르펜 수지, 파라핀왁스, 미세결정성 왁스, 합성 경질 왁스 및/또는 폴리에틸렌 왁스로 구성된 군으로부터 선택되는 조성물.
  22. 적층물품 또는 다층구조에서 접착제층으로 사용하기에 적합한 접착제 조성물을 안정화시키기 위한 제1항에 따른 화학식(I), (II), (III), (IV), (V) 또는 (VI)의 고 용해성, 고 몰 소광성 및 광안정성을 갖는 s-트리아진 UV 흡수제의 용도.
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