KR20020010680A - 진공 게이트 밸브 및 게이트 밸브를 구비한 진공 처리 장치 - Google Patents

진공 게이트 밸브 및 게이트 밸브를 구비한 진공 처리 장치 Download PDF

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Abstract

밸브(10)는 개구(11A)를 갖고 있고, 가스 유로의 일부를 이루는 공간을 형성하는 밸브 본체(11)와; 개구(11A)를 개폐하기 위한 제 1 밸브체(12)와; 개구(11A)를 밀폐하는 밀폐 위치와 개구(11A)를 개방하는 개방 위치 사이에서 제 1 밸브체(12)를 이동시키는 구동 기구(40)를 구비하되, 구동 기구(40)는 전후로 구동되는 로드(14)를 갖고 있고, 로드(14)의 단부는 관통 구멍(11B)을 통해 밸브 본체(11) 내로 연장되어 제 1 밸브체(12)에 접속되며, 로드(14)가 전후로 구동됨으로써 제 1 밸브체(12)가 밀폐 위치와 개방 위치 사이에서 이동되고, 또한 관통 구멍(11B)을 거쳐 밸브 본체(11)내로 통하며, 구동 기구(4)측을 밸브 본체에 대하여 기밀하게 차단하는 밀봉 기구(15)와; 로드(14)에 장착되어, 로드(14)의 전후 구동에 수반하여 이동하는 동시에, 제 1 밸브체(12)가 개방 위치 또는 밀폐 위치에 위치될 때 관통 구멍(11B)을 밀폐하여 밀봉 기구(15)를 밸브 본체(11)에 대하여 차단하는 제 2 밸브체(17)를 구비하고 있다.

Description

진공 게이트 밸브 및 게이트 밸브를 구비한 진공 처리 장치{VALVE AND VACUUM PROCESSING DEVICE WITH THE VALVE}
반도체 공장에서는 반도체 웨이퍼 등의 피처리체를 처리하기 위해 많은 프로세스 가스가 이용되고 있다. 또한, 이와 같은 프로세스 가스를 배급하는 가스 배관에는 가스 유량을 제어하는 각종 밸브가 마련되어 있다. 또한, 밸브는 진공 처리 장치를 구성하는 각 실 사이의 접속 통로를 개폐하는 개폐 수단으로서도 사용된다.
가스를 이용한 처리가 실행되는 처리실과 다른 실과의 접속 통로나 가스 배관이라는 가스 유로는 가스에 노출될 기회가 많다. 그 때문에, 특히 부식성을 갖는 가스가 사용되는 경우에는 가스 유로를 구성하는 부분을 내식성 부재에 의해 형성하는 등의 각종 방식 대책이 실시된다.
도 8은 반도체 웨이퍼 등의 피처리체에 대하여 성막 처리나 에칭 처리를 실시하는 종래의 진공 처리 장치 중 일부를 개략적으로 도시하고 있다. 도시한 바와 같이, 진공 처리 장치(A)는 소정의 진공 분위기 하에서 가스를 이용하여 피처리체(W)에 대하여 소정의 처리를 실행하는 처리 용기(1)와, 처리 용기(1)에 접속된 복수의 가스 공급관(2) 및 가스 배기관(3)과, 가스 배기관(3)에 장착된 밸브(4)를 구비하고 있다. 이와 같은 처리 장치(A)로는 복수의 가스 공급관(2)으로부터 복수 종류의 프로세스 가스가 처리 용기(1) 내로 공급되고, 처리 용기(1) 내에서 피처리체(W)에 대하여 소정의 처리가 실시된다. 또한, 처리 용기(1) 내의 미반응 가스나 반응 부 생성물 등은 가스 배기관(3)을 통해 처리 용기(1)로부터 배기된다. 이 경우, 가스의 배기 유량은 밸브(4)를 거쳐 제어된다. 또한, 부식성 가스가 프로세스 가스로서 사용될 경우가 많기 때문에, 처리 용기(1), 가스 공급관(2), 가스 배기관(3)의 가스 유로에는 만전의 방식 대책이 실시되고 있다.
또한, 밸브(4)는 밸브 본체와 밸브 본체 내에 가스 유로를 개폐하는 밸브체와, 밸브체를 구동시키기 위한 구동 기구와, 구동 기구측과 밸브 본체의 사이를 기밀하게 차단하는 밀봉 기구를 구비하고 있다. 이 경우, 가스 유로를 구성하는 밸브 본체의 부위에는 방식 대책이 실시되고 있지만, 상기 밀봉 기구에는 방식 대책이 실시되고 있지 않다(물론, 상기 구동 기구에는 어떤 방식 대책도 실시되고 있지 않다.)
이와 같이, 종래의 밸브는 밀봉 기구에 방식 대책이 실시되어 있지 않기 때문에, 밀봉 기구가 프로세스 가스나 반응 부 생성물 등의 부식성 가스에 의해 부식되어 버린다. 그 때문에, 밀봉 기구의 부식된 부분으로부터 진공 파괴가 발생할 우려가 있다. 또한, 가스 배기관(3)을 흐르는 반응 부 생성물 중에는 입자도 있고, 이 입자가 밀봉 기구에 막혀 동작 불량을 초래하거나 진공 파괴를 초래하는 일이 있다.
발명의 요약
본 발명의 목적은 밸브 본체를 구동 기구측에 대하여 기밀하게 차단하는 밀봉 기구 또는 구동 기구의 부식을 확실하게 방지할 수 있음과 동시에, 가스 중에 포함된 입자에 기인하는 동작 불량을 확실히 방지할 수 있고, 더 나아서는 가스 누출이나 진공 파괴가 발생할 우려가 없는 밸브 및 이와 같은 밸브를 구비한 진공 처리 장치를 제공하는 것에 있다.
상기 목적은 이하의 밸브에 의해 달성된다. 즉, 이 밸브는 개구를 갖고 있고, 가스 유로의 일부를 이루는 공간을 형성하는 밸브 본체와; 상기 밸브 본체 내에 설치되어, 상기 개구를 개폐하기 위한 제 1 밸브체와; 밸브 본체의 외측에 설치되어, 상기 개구를 밀폐하는 밀폐 위치와 상기 개구를 개방하는 개방 위치 사이에서 제 1 밸브체를 이동시키는 구동 기구를 구비하고,
상기 구동 기구는 전후로 구동되는 로드를 갖고 있고, 로드의 단부는 밸브 본체에 형성된 관통 구멍을 통하여 밸브 본체 내로 연장되어 제 1 밸브체에 접속되며, 로드가 전후로 구동됨으로써 제 1 밸브체가 밀폐 위치와 개방 위치 사이에서이동되고, 또한 상기 관통 구멍을 거쳐 밸브 본체 내로 통과하여, 구동 기구측을 밸브 본체에 대하여 기밀하게 차단하는 밀봉 기구와; 로드에 장착되어 로드의 전후 구동에 수반하여 이동함과 동시에, 제 1 밸브체가 개방 위치 또는 밀폐 위치에 위치된 때에 관통 구멍을 밀폐하고 밀봉 기구를 밸브 본체에 대하여 차단하는 제 2 밸브체를 구비하고 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명은 특히 부식성 가스와 미립자 중 적어도 하나를 포함하는 가스가 흐르는 가스 유로에 설치된 밸브 및 상기 밸브를 구비한 진공 처리 장치에 관한 것으로서, 특히 우수한 내식성 및 기능의 지속성 등을 갖는 밸브 및 상기 밸브를 구비한 진공 처리 장치에 관한 것이다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 밸브의 부분 단면도,
도 2는 도 1의 밸브가 적용되는 진공 처리 장치의 개략 구성도,
도 3은 도 2의 밸브체의 변형예에 따른 평면도,
도 4는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 밸브의 부분 단면도,
도 5는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 밸브의 부분 단면도,
도 6은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 밸브의 부분 단면도,
도 7은 본 발명의 제 5 실시예에 따른 밸브의 부분 단면도,
도 8은 반도체 웨이퍼 등을 위한 일반적인 처리 장치를 도시하는 개념도.
이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 실시예에 대하여 설명한다.
도 1 및 도 2는 본 발명의 제 1 실시예를 도시하고 있다. 도 2에 도시된 바와 같이, 본 실시예의 진공 처리 장치(B)는 소정의 진공 분위기 하에서 프로세스가스를 이용하여 피처리체(W)에 대하여 소정의 처리를 실행하는 처리 챔버(30)와, 처리 챔버(30)에 접속된 복수의 가스 공급관(32) 및 가스 배기관(33)과, 가스 배기관(33)에 장착된 밸브(10)를 구비하고 있다. 처리 챔버(30)는 트랜스퍼 챔버 등의 도시하지 않은 다른 챔버에 접속되어 있다. 또한, 가스 공급관(32)은 프로세스 가스를 공급하기 위한 가스 공급원(34)에 접속되어 있다. 가스 배기관(33)은 진공 펌프(35)에 의한 흡인력에 의해 처리 챔버(30)로부터 가스 배기관(33)을 통해 배기된다. 이 경우, 가스의 배기 유량은 밸브(10)를 거쳐 제어된다.
도 1에 도시된 바와 같이, 밸브(10)는 가스 배기관(33)이 접속되는 가스 출입구(11A)를 갖는 예컨대 직사각형 형상의 밸브 본체(11)와, 가스 유로를 형성하는 밸브 본체(11)의 내부 공간 내에서 상하 이동하여 가스 출입구(11A)를 개폐하는 제 1 밸브체(12)와, 제 1 밸브체(12)를 상하로 이동시키는 구동 기구(40)와, 구동 기구(40)측과 밸브 본체(11)의 사이를 기밀하게 차단하는 밀봉 기구로서의 벨로즈(15)를 구비하고 있다.
구동 기구(40)는 밸브 본체(11)에 접속된 실린더 하우징(13)과, 제 1 밸브체(12)에 접속되며 또한 실린더 하우징(13) 내에 공급되는 에어의 압력에 의해 전후로 이동하는 피스톤 로드(14)로 구성된다. 실린더 하우징(13) 내에는 압력원(42)으로부터 에어 공급관로(43)를 거쳐 에어가 공급된다. 이 경우, 실린더 하우징(13)의 바닥측 챔버(C1)와 헤드측 챔버(C2)에 대한 에어 공급의 전환은, 예컨대 에어 공급관로(43)를 삽입한 방향 전환 밸브(44)에 의해 실행된다.
실린더 하우징(13)은 바닥측 챔버(C1) 및 헤드측 챔버(C2)로부터 구획된 수납 챔버(16)를 갖고 있다. 또한, 밸브 본체(11)에는 밸브 본체(11)의 내부 공간을 수납 챔버(16)의 내부 공간에 연통시키기 위한 관통 구멍(11B)이 설치되어 있다. 피스톤 로드(14)는 헤드측 챔버(C2) 내로부터 수납 챔버(16) 내로 연장되는 것과 함께, 밸브 본체(11)의 관통 구멍(11B)을 관통하여 밸브 본체(11) 내로 연장되어 있다. 또한, 밸브 본체(11)내에 위치된 피스톤 로드(14)의 단부에는, 제 1 밸브체(12)가 부착되어 있다.
벨로즈(15)는 실린더 하우징(13)의 수납 챔버(16) 내에 수용되어 있다. 또한, 벨로즈(15)는 그의 상단이 로드(14)에 연결되는 것과 함께 그의 하단이 밸브 본체(11)의 외면 부위에 설치된 부착 부재(16A)에 연결 고정되어 있고, 피스톤 로드(14)의 전후 동작에 수반하여 신축된다. 또한, 벨로즈(15)는, 관통 구멍(11B)을 폐쇄하도록[로드(14)와 관통 구멍(11B) 사이의 극간을 밀폐하도록] 설치되어 수납 챔버(16)와 밸브 본체(11) 사이의 격벽을 형성하고 있고, 이에 따라 밸브 본체(11) 내의 기밀을 유지함과 동시에, 구동 기구(40)측과 밸브 본체(11)와의 사이를 기밀하게 차단하고 있다.
밸브 본체(11) 내부를 흐르는 부식성 가스에 의해 벨로즈(15)가 부식되지 않도록, 피스톤 로드(14)에는 관통 구멍(11B)을 밀폐하여 벨로즈(15)를 밸브 본체(11)측으로부터 차단하는 제 2 밸브(17)가 고정적으로 장착되어 있다. 이 제 2 밸브체(17)는 소정 형상(예컨대, 원형)의 플레이트로 구성되고, 가스 출입구(11A)를 개폐하는 제 1 밸브체(12)의 이동[피스톤 로드(14)의 전후 동작]에 수반하여 이동하며, 관통 구멍(11B)을 개폐한다. 구체적으로는, 제 2 밸브체(17)는 제 1 밸브체(12)에 의해 가스 출입구(11A)가 개방되는 때에, 밸브 본체(11)의 상단부 내면에 밀착하여 관통 구멍(11B)을 밀폐하고, 밸브 본체(11) 내를 흐르는 프로세스 가스가 벨로즈(15)측으로 도달하지 않도록 한다.
또한, 밸브 본체(11)의 상단부 내면에는 관통 구멍(11B)을 둘러싸는 환상 홈(11C)이 형성되어 있고, 이 홈(11C)에는 O 링(18)이 장착되어 있다. 따라서, 제 2 밸브체(17)가 밸브 본체(11)의 상단부 내면에 밀착하면, 관통 구멍(11B)이 O 링(18)을 거쳐 기밀하게 밀폐되고, 벨로즈(15)가 밸브 본체(11)측으로부터 확실히 차단된다.
다음으로, 상기 구성의 밸브(10)의 동작에 대하여 설명한다.
우선, 압력원(42)으로부터 에어 공급관로(43)를 거쳐 실린더 하우징(13)의 헤드측 챔버(C2)로 에어를 공급하면, 피스톤 로드(14)가 수축하고, 가스 배기관(33)의 밸브(10)가 개방된다. 구체적으로는, 피스톤 로드(14)가 수축하면, 피스톤 로드(14)에 장착된 제 1 밸브(12)가 도 1에 이점 쇄선으로 나타내는 밀폐 위치로부터 실선으로 나타낸 개방 위치로 이동하고, 밸브 본체(11)의 가스 출입구(11A)가 개방된다. 즉, 밸브 본체(11)의 내부 공간과 가스 배기관(33)이 관통된다. 또한, 제 1 밸브(12)가 개방 위치까지 이동하면, 피스톤 로드(14)에 장착된 제 2 밸브체(17)가 도 1에 이점 쇄선으로 나타낸 개방 위치로부터 실선으로 나타낸 밀폐 위치로 이동하고, 밸브 본체(11)의 관통 구멍(11B)이 기밀하게 밀폐된다.
이어서, 이 상태에서, 처리 챔버(30) 내부를 소정의 진공도까지 흡인한 후,가스 공급원(34)으로부터 가스 공급관(32)을 거쳐 프로세스 가스를 처리 챔버(30) 내로 공급하고, 처리 챔버(30) 내에서 피처리체(W)에 대하여 소정의 처리를 실시하면, 미반응 프로세스 가스나 반응 부 생성물 등의 가스 및 입자가 처리 챔버(30)로부터 가스 배기관(33)을 통해 배기되며, 밸브 본체(11) 내를 통과한다. 이 때, 밸브 본체(11) 내부가 배기 가스로 충만해도, 벨로즈(15)는 제 2 밸브체(17)에 의해 밸브 본체(11)측으로부터 차단되어 있기 때문에, 배기 가스가 벨로즈(15)측으로 돌아 들어갈 우려가 없다. 따라서, 배기 가스 중에 부식성 가스가 포함되어 있어도, 벨로즈(15)가 부식될 우려가 없고, 벨로즈(15)에 부식에 기인하는 진공 파괴가 발생할 우려가 없어진다. 또한, 반응 부 생성물이 벨로즈(15) 등에 부착할 우려도 없다.
이상 설명한 바와 같이, 본 실시예에서는 제 1 밸브체(12)에 의한 가스 출입구(11A)의 개방시에 밸브 본체(11)의 내측으로부터 관통 구멍(11B)을 밀폐하는 제 2 밸브체(17)가 피스톤 로드(14)에 장착되어 있다. 그 때문에, 밸브 본체(11)내를 가스가 흐르는 때에는, 관통 구멍(11B)이 밀폐되고, 가스가 벨로즈(15)에 접촉하는 것이 방지된다. 따라서, 밸브 본체(11)를 구동 기구(40)측에 대하여 기밀하게 차단하는 벨로즈(밀봉 기구)(15)나 구동 기구(40)의 부식을 확실히 방지할 수 있는 동시에, 가스 속에 포함되는 입자에 기인하는 동작 불량을 확실히 방지할 수 있으며, 더 나아가서는 가스 누출이나 진공 파괴의 발생을 방지할 수 있다.
또한, 전술한 제 1 실시예에서는 O 링(18)이 밸브 본체(11)의 상단부 내면의 환상 홈(11C) 내에 장착되어 있지만, 도 3에 도시하는 바와 같이, 밸브 본체(11)의상단부 내면과 밀착하는 제 2 밸브체(17)의 표면에 O 링(18)이 설치되어 있어도 좋다.
도 4는 본 발명의 제 2 실시예를 도시하고 있다. 이 실시예의 밸브(10A)로는 수납 챔버(16)내에 위치하는 피스톤 로드(14)에 제 2 밸브체(17)가 장착 고정되어 있고, 제 1 밸브체(12)가 도 1에 이점 쇄선으로 나타낸 밀폐 위치로부터 실선으로 나타낸 개방 위치로 이동하면, 제 2 밸브체(17)가 도 1에 이점 쇄선으로 나타낸 개방 위치로부터 실선으로 나타낸 개방 위치로 이동하여, 밸브 본체(11)의 외측[수납 챔버(16)의 내측]으로부터 관통 구멍(11B)을 밀폐한다. 또한, 그 이외의 구성은 제 1 실시예와 동일하기 때문에, 제 1 실시예와 공통인 구성 요소에 대해서는 동일 부호를 붙이고 그 설명을 생략한다.
도 5는 본 발명의 제 3 실시예를 도시하고 있다. 전술한 제 1 및 제 2 실시예에서는 밸브(10), (10A)가 가스 배기관(33)에 장착되어 있지만, 본 실시예에서는 피처리체(W)를 처리 챔버(30)에 대하여 반출입하기 위한 반송 장치(도시하지 않음)가 마련된 트랜스퍼 챔버(39)와 처리 챔버(30)의 접속 통로에 제 2 실시예의 밸브(10A)가 배치되며, 이 밸브(10A)에 의해 각 챔버(30), (39)끼리를 접속하기 위한 개구(38)가 개폐된다. 이 경우, 밸브 본체(11)는 트랜스퍼 챔버(39)와 처리 챔버(30)를 구획하는 격벽(37)과, 처리 챔버(30)의 하우징(30A)에 의해 형성된다. 또한, 그 이외의 구성은 제 1 실시예와 동일하기 때문에, 제 1 실시예와 공통인 구성 요소에 대해서는 동일 부호를 붙이고 그 설명을 생략한다.
이와 같은 구성으로는, 피스톤 로드(14)가 수축하면, 피스톤 로드(14)에 장착된 제 1 밸브(12)가, 도 5에 실선으로 나타낸 밀폐 위치로부터 이점 쇄선으로 나타낸 개방 위치로 이동하여, 개구(38)가 개방된다. 즉, 개구(38)를 거쳐 각 챔버(30), (39)끼리가 연통된다. 또한, 이 상태에서 피처리체(W)가 개구(38)를 통해 처리 챔버(30)에 대하여 반입 및 반출된다. 또한, 제 1 밸브체(12)가 개방 위치까지 이동하면, 피스톤 로드(14)에 장착된 제 2 밸브체(17)가, 도 5에 실선으로 나타낸 밀폐 위치로부터 이점 쇄선으로 나타낸 개방 위치로 이동하여, 밸브 본체(11)의 관통 구멍(11B)이 개방된다.
한편, 이 상태에서 피스톤 로드(14)가 신장하면, 피스톤 로드(14)에 장착된 제 1 밸브체(12)가, 도 5에 실선으로 나타낸 밀폐 위치로 이동하고, 개구(38)가 밀폐된다. 또한, 제 1 밸브체(12)가 밀폐 위치까지 이동하면, 피스톤 로드(14)에 장착된 제 2 밸브체(17)가 도 5에 실선으로 나타낸 밀폐 위치로 이동하며, 밸브 본체(11)의 관통 구멍(11B)이 기밀하게 밀폐된다. 이 상태로 처리 챔버(30) 내에서 프로세스 가스를 이용한 처리가 실행되어도, 제 2 밸브체(17)에 의해 관통 구멍(11B)이 밀폐되어 벨로즈(15)가 벨로즈 본체(11)[처리 챔버(30)]측으로부터 차단되어 있기 때문에, 프로세스 가스가 벨로즈(15)측으로 돌아 들어갈 우려가 없다. 따라서, 프로세스 가스 속에 부식성 가스가 포함되어 있어도, 벨로즈(15)가 부식될 우려가 없고, 벨로즈(15)에 부식에 기인하는 진공 파괴가 발생할 우려도 없어진다. 또한, 반응 부 생성물이 벨로즈(15) 등에 부착할 우려도 없다.
도 6은 본 발명의 제 4 실시예를 도시하고 있다. 본 실시예에서는 제 1 실시예에 따른 밸브 구성이 앵글 밸브에 적용되어 있다. 즉, 본 실시예의 앵글밸브(10B)는 직각으로 접어 굽혀진 형상을 이루며, 또한 가스 출입구(11A)를 갖는 앵글 밸브 본체(11')와, 가스 유로를 형성하는 앵글 밸브 본체(11')의 내부 공간 내에서 상하로 이동하여 가스 출입구(11A)를 개폐하는 제 1 밸브체(12)와, 제 1 밸브체(12)를 상하로 이동시키는 구동 기구(40)와, 구동 기구(40)측과 밸브 본체(11)의 사이를 기밀하게 차단하는 밀봉 기구로서의 벨로즈(15)를 구비하고 있다. 또한, 그 이외의 구성은 제 1 실시예와 동일하기 때문에, 제 1 실시예와 공통인 구성 요소에 대해서는 동일 부호를 붙이고 그 설명을 생략한다.
도 7은 본 발명의 제 5 실시예를 도시하고 있다. 또한, 본 실시예는 제 1 실시예의 변형예이기 때문에, 이하 제 1 실시예와 공통인 구성 부분에 대해서는 동일 부호를 붙이고 그 설명과 도시를 생략한다.
본 실시예의 밸브(10C)로는 구동 기구(40)측과 밸브 본체(11)의 사이를 기밀하게 차단하는 밀봉 기구로서 O 링(25)이 채용되고 있다. 구체적으로 설명하면, 구동 기구(40)를 구성하는 실린더 하우징(13)에는 밸브 본체(11)와 헤드측 챔버(C2)를 구획하는 격벽(13A)이 설치되어 있다. 또한, 격벽(13A)에는 피스톤 로드(14)가 관통하는 관통 구멍(26A)이 형성되어 있다. 관통 구멍(26A)의 내주면에는 전체 둘레에 걸쳐 홈(26B)이 형성되고, 이 홈(26B)에는 O 링(25)이 장착되어 있다. 즉, O링(25)은 관통 구멍(26A)의 내주면과 로드(14)의 사이를 밀봉하고, 밸브 본체(21) 내의 기밀을 유지하는 동시에, 구동 기구(40)측을 밸브 본체(11)로부터 차단한다.
이와 같은 구성으로는, 밸브 본체(11) 안이 배기 가스로 충만해도, O 링(25)은 제 2 밸브체(17)에 의해 밸브 본체(11)측으로부터 차단되기 때문에, 배기 가스가 O 링(25)측으로 돌아 들어갈 우려가 없다. 따라서, 배기 가스 속에 부식성 가스가 포함되어 있어도, O 링(25)이 부식될 우려가 없고, O 링(25)에 부식에 기인하는 진공 파괴가 발생할 우려도 없어진다. 또한, 관통 구멍(26A)이나 O 링(25)에 입자가 부착하지 않기 때문에, 로드(14)가 섭동할 때에 입자가 로드(14)와 O 링(25)의 사이에 막힐 우려가 없고, 입자의 막힘에 기인하는 진공 파괴나 동작 불량이 발생할 우려도 없다.
또한, 본 발명은 전술한 각 실시예에 한정되는 것이 아니고, 그 요지를 일탈하지 않는 범위에서 각종 변형 실시가 가능하다는 것은 두말할 나위 없다. 즉, 전술한 각 실시예에서는, 실린더 및 로드를 거쳐 밸브체를 구동하는 게이트 밸브를 예로 들어 설명했지만, 조작용 로드가 밸브 본체를 관통하고 있는 모든 밸브에 대해서 본 발명을 적용할 수 있으며, 또한 실린더 및 로드 이외의 구동 기구 및 동력 전달 기구를 이용한 밸브에 대해서도 본 발명을 적용할 수 있다. 또한, 전술한 각 실시예에는 반도체 공장의 처리 장치의 가스 배기관에 밸브가 적용되어 있지만, 본 발명의 밸브는 가스를 압송하는 모든 가스 배관에 널리 적용할 수 있다는 것은 말할 필요도 없다.

Claims (15)

  1. 개구를 갖고 있고, 가스의 유로의 일부를 이루는 공간을 형성하는 밸브 본체와,
    상기 밸브 본체 내에 설치되어, 상기 개구를 개폐하기 위한 제 1 밸브체와,
    밸브 본체의 외측에 설치되어, 상기 개구를 밀폐하는 밀폐 위치와 상기 개구를 개방하는 개방 위치 사이에서 제 1 밸브체를 이동시키는 구동 기구를 구비하고,
    상기 구동 기구는 전후로 구동되는 로드를 갖고 있고, 로드의 단부는 밸브 본체에 형성된 관통 구멍을 통해 밸브 본체 내로 연장되어 제 1 밸브체에 접속되고, 로드가 전후로 구동됨으로써 제 1 밸브체가 밀폐 위치와 개폐 위치 사이에서 이동되며,
    또한,
    상기 관통 구멍을 거쳐 밸브 본체 내로 통하여, 구동 기구측을 밸브 본체에 대하여 기밀하게 차단하는 밀봉 기구와,
    로드에 장착되어, 로드의 전후 구동에 수반하여 이동함과 동시에, 제 1 밸브체가 개방 위치 또는 밀폐 위치에 위치될 때 관통 구멍을 밀폐하고 밀봉 기구를 밸브 본체에 대하여 차단하는 제 2 밸브체를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는
    밸브.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 밸브 본체의 개구는 부식성 가스와 미립자 중 적어도 하나를 포함하는 가스가 흐르는 배관이 접속되는 접속구인 것을 특징으로 하는
    밸브.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 개구는 2개의 챔버끼리를 연통시키기 위한 개구인 것을 특징으로 하는
    밸브.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    제 2 밸브체는 제 1 밸브체가 개방 위치에 위치될 때, 관통 구멍을 밀폐하여 밀봉 기구를 밸브 본체에 대하여 차단하는 것을 특징으로 하는
    밸브.
  5. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    제 2 밸브체는 제 1 밸브체가 밀폐 위치에 위치될 때, 관통 구멍을 밀폐하여밀봉 기구를 밸브 본체에 대하여 차단하는 것을 특징으로 하는
    밸브.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 밀봉 기구가 벨로즈로 구성되는 것을 특징으로 하는
    밸브.
  7. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 밀봉 기구가 O 링으로 구성되는 것을 특징으로 하는
    밸브.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 2 밸브체는 관통 구멍이 형성된 밸브 본체의 내면 위치에 접촉함으로써 관통 구멍을 밀폐하고,
    제 2 밸브체가 접촉하는 밸브 본체의 내면 부위, 또는 밸브 본체의 내면 부위와 접촉하는 제 2 밸브체의 접촉면에는, 제 2 밸브체와 밸브 본체의 사이를 기밀하게 밀봉하는 밀봉 부재가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는
    밸브.
  9. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 2 밸브체는 관통 구멍이 형성된 밸브 본체의 외면 부위에 접촉함으로써 관통 구멍을 밀폐하고,
    제 2 밸브체가 접촉하는 밸브 본체의 외면 부위, 또는 밸브 본체의 외면 부위와 접촉하는 제 2 밸브체의 접촉면에는, 제 2 밸브체와 밸브 본체 사이를 기밀하게 밀봉하는 밀봉 부재가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는
    밸브.
  10. 소정의 진공 분위기 하에서 프로세스 가스를 이용하여 피처리체에 대하여 소정의 처리를 실행하는 처리 챔버와,
    가스 공급원으로부터의 프로세스 가스를 상기 처리 챔버에 공급하는 적어도 하나의 가스 공급관과,
    상기 처리 챔버에 접속되어, 처리 챔버 내의 가스를 배기하는 가스 배기관과,
    상기 가스 배기관에 삽입되어, 가스 배기관의 가스 유로를 개폐하는 밸브를 구비한 진공 처리 장치에 있어서,
    상기 밸브는,
    상기 가스 배기관이 접속되는 가스 출입구를 갖고 있고, 가스 유로의 일부를 이루는 공간을 형성하는 밸브 본체와,
    상기 밸브 본체 내에 설치되어, 상기 가스 출입구를 개폐하기 위한 제 1 밸브체와,
    밸브 본체의 외측에 설치되어, 상기 가스 출입구를 밀폐하는 밀폐 위치와 상기 가스 출입구를 개방하는 개방 위치 사이에서 제 1 밸브체를 이동시키는 구동 기구를 구비하되,
    상기 구동 기구는 전후로 구동되는 로드를 갖고 있고, 로드의 단부는 밸브 본체에 형성된 관통 구멍을 통해 밸브 본체 내로 연장되어 제 1 밸브체에 접속되고, 로드가 전후로 구동됨으로써 제 1 밸브체가 밀폐 위치와 개방 위치 사이에서 이동되며,
    또한,
    상기 관통 구멍을 거쳐 밸브 본체 내로 통하여, 구동 기구측을 밸브 본체에 대하여 기밀하게 차단하는 밀봉 기구와,
    로드에 장착되어, 로드의 전후 구동에 수반하여 이동하는 동시에, 제 1 밸브체가 개방 위치 또는 밀폐 위치에 위치될 때 관통 구멍을 밀폐하여 밀봉 기구를 밸브 본체에 대하여 기밀하게 차단하는 제 2 밸브체를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는
    진공 처리 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    제 2 밸브체는 제 1 밸브체가 개방 위치에 위치될 때 관통 구멍을 밀폐하여 밀봉 기구를 밸브 본체에 대하여 기밀하게 차단하는 것을 특징으로 하는
    진공 처리 장치.
  12. 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서,
    상기 밀봉 기구가 벨로즈로 구성되는 것을 특징으로 하는
    진공 처리 장치.
  13. 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서,
    상기 밀봉 기구가 O 링으로 구성되는 것을 특징으로 하는
    진공 처리 장치.
  14. 제 10 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 2 밸브체는 관통 구멍이 형성된 밸브 본체의 내면 부위에 접촉함으로써 관통 구멍을 밀폐하고,
    제 2 밸브체가 접촉하는 밸브 본체의 내면 부위, 또는 밸브 본체의 내면 부위와 접촉하는 제 2 밸브체 접촉면에는, 제 2 밸브체와 밸브 본체 사이를 기밀하게 밀봉하는 밀봉 부재가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는
    진공 처리 장치.
  15. 제 10 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 2 밸브체는 관통 구멍이 형성된 밸브 본체의 외면 부위에 접촉함으로써 관통 구멍을 밀폐하고,
    제 2 밸브체가 접촉하는 밸브 본체의 외면 부위, 또는 밸브 본체의 외면 부위와 접촉하는 제 2 밸브체의 접합면에는, 제 2 밸브체와 밸브 본체 사이를 기밀하게 밀봉하는 밀봉 부재가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
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