KR20020009596A

KR20020009596A - 과산화수소, 산 및 금속이온 기재의 살균 조성물

Info

Publication number: KR20020009596A
Application number: KR1020017013552A
Authority: KR
Inventors: 레미 윌모뜨; 베르나르 르보; 쟝-피에르 이뤼르쥐엥; 프랑스와즈 마르샬
Original assignee: 디골 인터내셔널 리미티드
Priority date: 1999-04-23
Filing date: 2000-04-25
Publication date: 2002-02-01
Also published as: ID30385A; BR0010696A; IL146088A0; FR2792500B1; MA26039A1; AU775984B2; AU4304100A; CN1324965C; PT1175149E; AP2001002339A0; FR2792500A1; DE60000992T2; DE60000992D1; WO2001005233A1; ATE229272T1; NZ514937A; EP1175149B9; OA11930A; EP1175149B1; US6660289B1

Abstract

본 발명은 특히 살균, 위생, 정화용, 및 표면처리(특히 금속 표면의 스트리핑 및/또는 부동화)에 유용한 산화제 수성 조성물에 관한 것으로, 상기 조성물은 물 중에서 과산화수소, RCO₂H/RCO₃H 혼합물(여기서, R은 직쇄, 분지쇄, 포화 또는 불포화 탄화수소 사슬을 갖는 C₁-C₆지방족 라디칼), 산인 안정화제, 경우에 따라 Ag⁺이온을 함유할 수 있다. 본 발명은 Ag^Ⅱ, Ag^Ⅲ, V^Ⅴ, Nb^Ⅴ, Ta^Ⅴ, Mo^Ⅵ, W^Ⅵ, Co^Ⅲ, In^Ⅲ또는 Tl^Ⅲ이온들 중 적어도 하나의 이온을 함유하는 것을 특징으로 한다. 바람직하게는, 상기 조성물은 겔 형태일 수 있다. 또한, 본 발명은 상기 조성물의 제조 방법에 관한 것이다.

Description

과산화수소, 산 및 금속이온 기재의 살균 조성물{DISINFECTING COMPOSITION BASED ON H2O2, ACIDS AND METAL IONS}

가장 최근의 선행기술은 WO-A-96/18301에 포함되어 있다. 이 문헌이 출판되기 전, 몇몇은 과산화수소와 RCO₂H/RCO₃H (여기서, R은 본질적으로 CH₃또는 CH₃CH₂)타입의 카르복실산/과카르복실산(carboxylic peracid) 혼합물을 함유하며, 나머지는 과산화수소와 Ag⁺이온들을 함유하는 수성 살균 조성물을 이미 제안하였으며, 상기 수성 조성물들은 각각의 경우 강산(특별히는 H₃PO₄)에 의해 안정화된다.

이들 선행의 수성 살균 조성물들, 즉 (ⅰ)H₂O₂+ RCO₂H/RCO₃H + H₃PO₄의 타입및 (ⅱ) H₂O₂+ Ag⁺+ H₃PO₄타입은 박테리아와 곰팡이의 여러 균주, 특히Penicillium verrucosum에 대한 효능결여 측면에서 볼 때 불충분하다.

더욱 최근의 현저히 더 효과적인 기술(특히, 수성 살균 조성물의 상기 두 형태에 대한 내성을 갖는Penicillium verrucosum의 상기 균주와 관련된)이 상기의 WO-A-96/18301에 기재되어 있으며, 본 명세서에 참조로 관련된다. WO-A-96/18301에 따르면, 제안되는 기술은 수성 살균, 위생 및 정화 조성물을 사용하며, 이들은 물 중에서

(A)H₂O₂,

(B)RCO₂H/RCO₃H 혼합물(여기서 R은 CH₃또는 CH₃CH₂),

(C)Ag⁺이온 공급원으로서의 은 성분, 및

(D)안정화제(즉, H₃PO₄)

로 이루어지며, WO-A-96/18301의 표 Ⅸ는 A + B + C + D 성분들을 함유하는 수성 조성물이 A + B + C 및 A + C + D 성분들을 함유하는 수성 조성물들과 비교하여 시너지를 가짐을 나타낸다.

WO-A-96/18301호에 따른 A + B + C + D 수용액은, 특히 세포벽을 약하게 만듦으로써, 특히 그들의 바이오 필름을 감성시킴에 의해, 그들의 벽에 구멍을 냄에 의해 또는 몸의 세포로 그들이 침투하는 것을 막음으로써 또는 그들의 독소에 대해 상기 세포들을 보호함에 의해, 박테리아, 곰팡이, 바이러스 및 현미경적 조류와 같은 미생물의 억제 또는, 더 나아가서는, 파괴에 대해 충분히 빠르게 작용하지 않는다.

더우기, GB-A-2 189 394에 기재된, 한편으로는 H₃PO₄의 존재 하에 농축된 은 수용액(즉, 상기의 C 성분)의 제조, 및 다른 한편으로는 은과 과산화수소의 안정화된 농축 수용액(즉, A + C + D를 함유하는 수용액)의 공정은 Ag⁺이온 또는 Ag³⁺이온을 생산하지 않는다.

특히,

-은 성분(은 염 또는 은 복합물)과 강한 광산(pH<1.6)을 50 ~ 60 ℃에서 혼합하고, 강 광산/은 성분의 몰비율은 1/1 이상;

-생성 혼합물을 25 ~ 30 ℃까지 냉각시키고 임의로 젤라틴을 갖는 안정화 유기산을 첨가하고; 및

-생성 혼합물에 H₂O₂를 혼합하는 것으로 이루어지는 공정을 제안하는 GB-A-2 189 394는(1쪽, 46~50 줄 참조), 강산 매질에서 Ag⁺이온을 주는 은(Ⅰ)화합물을 인용하며, 한편 이들 화합물은, 은(Ⅰ)염 및 은(Ⅰ)착염, 즉 AgNaCl₂, 및 (Ⅲ) 화합물이고, 중성 매질에서만 녹을 수 있는 은(Ⅱ) 및 (Ⅲ) 화합물이며, 다른 한편으로는, 이들 화합물들은 미세한 금속성 은을 제공하는 은(Ⅱ) 및 (Ⅲ)산화물이다.

더욱 특별하게는, 은 (Ⅰ), (Ⅱ), (Ⅲ)은 산 매질에서, 다음 반응을 제공하며, 여기서 s는 고체 생성물을 말한다:

(1)Ag₂O(s) + 2H+ +2e →2Ag(s) + H₂O

(2)2AgO(s) + 2H+ +2e →Ag₂O(s) + H₂O

(3)Ag₂O₃(s) + 2H+ +2e →2AgO(s) + H₂O

H₂O₂와 은 성분을 직접 접촉시키는 것은 폭발을 일으킬 수 있으므로, 본 발명에 따른 유용한 Ag²⁺이온을 얻기 위해서는 GB-A-2 189 394에 의한 것과는 다른 방법을 이용해야 한다.

동일한 이유로, WO-A-96/18301호에 기재된 방법은 Ag⁺→Ag²⁺+ e 반응에 따른 산 매질에서의 은(Ⅰ)의 은(Ⅱ)으로의 산화를 허용하지 않는다.

US-A-5 017 295 및 US-A-5 078 902에 따르면, Ag²⁺이온은 Ag⁺이온보다 살균제로서 더 활성을 나타낸다. 이들 두 문헌에 주어진 방법은 상기의 반응(2)에 관하여, 은(Ⅱ)산화물이 산 매질에서 은(Ⅰ)산화물의 침전을 제공하므로, Ag²⁺또는 Ag²⁺+ Ag³⁺이온들의 생산을 촉진하지 않는다. 그러므로, US-A-5 017 295의 실시예 1 및 US-A-5 078 902의 실시예 1과 2에 간단히 설명된 반응, 즉

3AgO + 2H₃PO₄→Ag₃(PO₄)₂+ 3H₂O,

AgO + 2HNO₃→Ag(NO)₃+ H₂O, 및

AgO + 2HCl →AgCl₂+ H₂O

은 일어나지 않는다. 또한, US-A-5 078 902의 실시예 2에 기재된, 알칼리 매질에서 AgO를 용해시키고 [이 첨가는 알칼리 매질에서 실시된다(즉, 환원제로서 H₂O₂가 작용하는 조건하에서), 그 후 과산화수소를 제공할 수 있는 산화공급원 즉, 옥손(Na₂O₂)]을 첨가하는 것으로 이루어진 Ag⁺이온을 얻기 위한 기타 방법의 재생산에 의한 Ag⁺이온의 생성 농도는 매우 낮으므로, Ag⁺와 Ag²⁺를 함유하는 수용액의 산화환원 포텐셜은 언제나 650 mV보다 낮다(298K에서). 그러므로, US-A-5 017 295 및 US-A-5 078 902에 따르면, Ag²⁺이온에 대해 언급한 것과 같은 유리한 효과는 발현될 수 없다.

마지막으로, US-A-3 702 298은 살균 수단으로서 Ag³⁺이온의 사용을 제안한다. 그러나, 효과적으로 얻어진 Ag⁺+ Ag²⁺+ Ag³⁺혼합물은 0.15 ~ 0.4 mV 범위의 산화환원 포텐셜을 가지며, 이것은 10000 mV 이상인 본 발명에서 요구되는 것보다 현저히 낮다.

몰리브덴이 사람과 항온동물에서 키산틴 산화효소, 알데히드 산화효소 및 아황산염 산화효소와 같이, 간에 존재하는 해독효소의 보효소로서 나타난다는 것이 또한 알려져 있다. Mo는 퓨린염기를 요산으로 전환하는데 필수적이며, 몸에서 철의 장흡수 및 불소 유지를 촉진시킨다.

US-A-4 995 987은 몰리브덴산염 및 텅스텐산염 이온들이 황산염-환원 박테리아의 성장을 억제하는 약제로서 항미생물제와의 혼합물로 제안되어졌다. US-A-4 995 987은 본 발명의 주제를 설명하거나 제안하지 않는다.

금속 표면의 처리분야, 특히 그들을 스트립 및/또는 부동화시키기 위한 분야에서, 크롬산, 크롬산염 및 질산 등과 같은 종래의 산화 수단들은 환경에 유해한 제품으로 알려져 있다.

더우기, US-A-4 537 778은 H₂O₂0.5 ~ 5 중량%, 에탄올 3 ~ 15 중량%, 폴리옥시에틸렌화 폴리옥시프로필렌 글리콜 타입의 비이온성 및 수용성 계면활성제 0.5 ~ 2 중량%, 폴리옥시에틸렌화 솔비톨, 감미제 및 항미제를 갖는 C₁₀~ C₁₈지방산모노에스테르와 같은 타입의 비이온성 및 수용성 계면활성제 0.3 ~ 2 중량%로 이루어진 수성 양치질약 또는 구강 세정 조성물을 기재한다. 이 조성물은 각각 증점제 또는 겔화제에 의해 페이스트 또는 겔의 형태로 제조될 수 있다. 제안된 겔화제는 검(크산탄검 또는 구아르검), US-A-2 798 053에 기재된 카르복실산 공중합체, 또는 (소수성기 70 ~ 20 및 친수성기 30~80 %로 이루어진, 바람직한 겔화제는 PLURONIC^R127(칼럼 4, 28-29줄, 칼럼 5 34 및 49줄, 칼럼 6 5-6줄 참조)이다) PLURONI^R타입 폴리올이다. 이와 같은 유기 폴리머 형태의 겔화제는 높은 산화환원 포텐셜(특히, 산화혼원 포텐셜이 800 mV 이상)의 산화 조성물에 의해 어느정도 빨리 감성된다.

최종적으로, DE-A-2 659 462는 특정 실리카 겔, 즉 약제학적 분야에서 널리 사용되지만 높은 산화산태에서는 전혀 사용되지 않는 규산 하이드로겔을 함유하는 약제학적 조성물을 기재한다.

최종적으로, 선행 기술은 살균 조성물 또는 표면처리용 조성물에 있어서, 최대 산화상태에 가까운(Ag^Ⅱ의 특별한 경우) 또는 최대 산화상태(Ag^Ⅲ, V^Ⅴ, Nb^V, Ta^V, Mo^Ⅵ, Co^Ⅲ, In^Ⅲ또는 Tl^Ⅲ)를 갖는 금속을 함유하는 이온들의 효과적인 사용을 기재하거나 제안하지 않는다.

본 발명은, 신규의 공업제품으로서, H₂O₂, 산 및 Ag^Ⅱ, Ag^Ⅲ, V^Ⅴ, Nb^Ⅴ, Ta^Ⅴ, Mo^Ⅵ, W^Ⅵ, Co^Ⅲ, In^Ⅲ또는 Tl^Ⅲ이온들 기재의 수성 조성물, 특히 겔 형태의 조성물에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 특히 상기 이온들이 Ag²⁺인 경우의, 조성물의 제조방법, 및 한편으로는 살균, 위생 및/또는 정화 분야와, 다른 한편으로는 표면처리 (특히, 세정, 스트리핑 및/또는 부동화) 분야에 관한 것이다.

본 발명은, 한편으로는 선행기술의 단점들을 극복하고, 다른 한편으로는 효과적이며 선행기술과 비교하여 예상할 수 없는 신규의 기술용액을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 제 1면에 따르면, 살균 및/또는 표면처리 문제에 대한 신규 기술 용액의 제공을 제안하며, 이것은 WO-A-96/18301에 의해 제안된 기술 용액보다 작용속도면에서 더 효과적이다.

본 발명의 제 2면에 따르면, 더 오랜시간 동안, 특히 처리될 표면이 경사지거나 또는 수직일 때, 활성 지속을 위해 영구 작용을 갖는 신규 기술 용액을 제공하는 것을 제안한다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 신규 기술 용액은 특정 금속 이온들, 즉 Ag^Ⅱ, Ag^Ⅲ, V^Ⅴ, Nb^V, Ta^V, Mo^Ⅵ, W^Ⅵ, Co^Ⅲ, In^Ⅲ또는 Tl^Ⅲ이온들의 사용을 기초로 한다.

그러므로, 수성 산화제 조성물(Ⅰ)이 제안되며, 이것은 한편으로는 살균, 위생 및 정화 분야에서, 다른 한편으로는 금속표면(특히 그것의 세정, 스트리핑 및/또는 부동화) 또는 비금속 표면(특히 플라스틱 또는 세라믹 표면, 특히 그의 세정 및/또는 스트리핑)의 처리 분야에서 유용하며, 상기 조성물은, 물 중에서, 과산화수소, RCO₂H/RCO₃H 혼합물(여기서 R은 선형 또는 분지, 포화 또는 불포화 탄화수소-기재 사슬을 함유하는 C₁-C₆지방족 잔류물) 및 강산인 안정화제 및, 적당한 경우 Ag⁺이온을 함유하며, 적어도 하나의, Ag^Ⅱ, Ag^Ⅲ, V^Ⅴ, Nb^V, Ta^V, Mo^Ⅵ, W^Ⅵ, Co^Ⅲ, In^Ⅲ또는 Tl^Ⅲ이온들인 금속 M의 이온들, 은 100g(즉, AgNO₃157g)과 탈염수 1 리터로 출발하여 생성 용액 중 Ag⁺+ Ag²⁺또는 Ag⁺+ Ag²⁺+ Ag³⁺이온의 농도가 1000 mV 보다 큰 산화환원 포텐셜을 제공하도록 Ag^Ⅱ이온들 또는 Ag^Ⅱ+ Ag^Ⅲ이온들을 제공하는 공급원 L을 함유하는 것을 특징으로 한다.

더욱 특별하게, 본 발명에 따른 조성물은 물에서 다음을 함유하는 것을 특징으로 한다:

(A)H₂O₂;

(B)RCO₂H/RCO₃H 혼합물(여기서, R은 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 탄화수소-기재 사슬을 함유하는 C₁-C₆지방족 잔류물)

(C) 공급원 L 및 다음의 세트로부터 선택된 금속 이온들:

(1) Ag^Ⅱ, Ag^Ⅲ, V^Ⅴ, Nb^V, Ta^V, Mo^Ⅵ, W^Ⅵ, Co^Ⅲ, In^Ⅲ또는 Tl^Ⅲ이온인 금속M

의 이온들,

(2) Ag⁺이온과 상기 금속 M의 이온들의 결합물들, 및

(3) 이들의 혼합물;

(여기서, 공급원 L은 Ag^Ⅱ이온들 또는 Ag^Ⅱ+ Ag^Ⅲ이온들을 제공하며, 은 100g(AgNO₃157g)과 탈염수 1 리터으로 출발하여, 생성 용액에서 Ag⁺+ Ag²⁺또는 Ag⁺+ Ag²⁺+ Ag³⁺의 농도가 1000 mV 보다 큰 산화환원 포텐셜을 제공한다); 및

(D) 산인 안정화제.

본 조성물은 기존의 공지된 방법으로 제조될 수 있다. 본 명세서에서 제안되는 방법은 다음 단계들로 이루어진다.

(a)(1) Ag^Ⅱ, Ag^Ⅲ, V^Ⅴ, Nb^V, Ta^V, Mo^Ⅵ, W^Ⅵ, Co^Ⅲ, In^Ⅲ또는 Tl^Ⅲ이온인 금속M

의 이온들,

(2) Ag⁺이온과 상기 금속 M의 이온들의 결합물들, 및

(3) 이들의 혼합물로 이루어진 세트로부터 선택된 금속이온들을 제공하는 공급원 L의 수용액을 사용하는 단계 (여기서, 공급원 L은, 은 100g(AgNO₃157g)과 탈염수 1 리터으로 출발하여, 생성 용액에서 Ag⁺+ Ag²⁺또는 Ag⁺+ Ag²⁺+ Ag³⁺의 농도가 1000 mV 보다 큰 산화환원 포텐셜을 제공하도록 Ag^Ⅱ이온들 또는 Ag^Ⅱ+ Ag^Ⅲ이온들을 제공한다);

(b) 상기 용액에 안정화제를 공급하는 단계:

(c) 과산화수소 수용액에 이와 같이 얻은 상기의 생성 용액을 공급하거나 또는 상기 생성 용액에 과산화수소 수용액을 공급하는 단계;

(d)이와 같이 얻은 용액에 RCO₃H, RCO₂H 또는 그들의 혼합물 RCO₃H + RCO₂H (여기서 R은 상기와 같음)인 산성물질을 공급하는 단계;

(e)이와 같이 얻은 용액을 H₂O₂+ RCO₂H ↔H₂O + RCO₃H 평형이 이루어질 때까지 방치하는 단계; 및

(f)물로 100 중량%를 만드는 단계.

Ag²⁺이온들 및, 바람직하게는 Ag⁺³이온들을 함유하는 본 발명에 따른 조성물을 제조하는 방법은 다음 단계들로 이루어지는 것을 특징으로 한다:

(1°)Ag⁺이온의 공급원으로 작용하는 은 성분의 수용액을 제조하는 단계;

(2°)1000 mV 이상의 산화환원 포텐셜을 얻기 위해, 탈염수 1 리터 및 AgNO₃157g 으로 출발하여, 과황산염, 바람직하게는 과황산염나트륨 Na₂S₂O₈또는 과황산염암모늄 (NH₄)₂S₂O₈으로, 적어도 Ag⁺이온들 중 몇몇을 Ag²⁺이온들로 산화시키고, 존재할 수 있는 어느 불용성 재료를 제거하기 위해 여과하는 단계;

(3°)이와 같이 얻은 용액에 안정화제를 첨가하는 단계;

(4°)이와 같이 얻은 용액을 과산화수소 수용액에 첨가하거나, 과산화수소 수용액을 상기의 생성 용액에 첨가하는 단계;

(5°)이와 같이 생성된 용액에 RCO₃H, RCO₂H 또는 RCO₃H + RCO₂H의 혼합물을 첨가하는 단계 (여기서 R은 상기 정의와 같다);

(6°)이와 같이 생성된 용액을 H₂O₂+ RCO₂H ↔H₂O + RCO₃H 평형이 이루어질 때까지 방치하는 단계; 및

(7°)물로 100 중량%를 만드는 단계.

이 공정을 실시할 때, Ag³⁺이온들이 적어도 미량 얻어질 것이다.

본 발명은 또한 겔화 조성물(Ⅱ)을 제안하며, 이것은 다음으로 구성되는 것을 특징으로 한다.

ㆍ상기의 수성 조성물(Ⅰ), 및

ㆍ젤화제

실질적으로 겔화 조성물(Ⅱ)은 상기 수성 조성물(Ⅰ) 50 ~ 99.7 중량% 및 겔화제 50 ~ 0.3 중량%로 이루어질 것이다. 더욱 특별히는, 바람직한 겔화제는 발열성 콜로이드 실리카 또는 C₁₀-C₃₀알킬 아크릴레이트의 공중합체인, Goodrich사의 CARBOPOL^RETD 2623 또는 폴리아크릴성 단일 중합체인, 역시 Goodrich사의 CARBOPOL^R672와 같은 폴리아크릴성 타입의 화합물일 수 있다.

겔화 조성물(Ⅱ)의 제조방법은 (ⅰ) 상기 조성물(Ⅰ)을 젤화제와 접촉하도록놓는 단계, (ⅱ) 생성된 혼합물을 3 ~ 20 분 동안 교반시키는 단계, 및 (ⅲ) 고체가 되도록 생성된 혼합물을 방치하는 단계로 이루어진다.

이하 본 명세서에서는, 다른 언급이 없는 한, 본 발명에 따른 수성 정화 조성물의 성분들의 각각의 양은 중량%로 표시되며, 상기 조성물의 희석은 초기 부피 대 생성된 희석 조성물 부피의 비율로 나타낸다.

-과산화수소

일반적으로, 본 발명에 따른 수성 조성물(Ⅰ)은 상기 조성물의 중량에 대해 60 중량% 이하의 H₂O₂성분을 함유한다. 그러므로, 본 발명에 따른 조성물(Ⅰ)은 H₂O₂0.1 ~ 60 중량%를 함유할 수 있고, (특히, H₂O₂농도가 4 중량% 이상인 경우)사용시 희석될 수 있다.

실제로, 과산화수소는 H₂O₂함량이 8중량% 이상인 과산화수소 수용액이 사용될 때, 특히 프랑스와 EC 규약에 의해 운송문제가 발생하므로, H₂O₂를 8 중량% 이하로, 더 바람직하게는 7.9 중량% 이하로 함유하는 수성 조성물(Ⅰ)을 제공하는 것이 바람직하다.

결과적으로, 본 발명에 따른 수성 조성물(Ⅰ)은 약 7.5 ~ 7.9 중량% 함량의 H₂O₂로 이루어지며, 사용시 최종 농도가 4 중량% 이하가 되도록 물을 사용하여 희석될 것이다.

-RCO ₂ H/RCO ₃ H 혼합물

평형 반응(4)에 따르면

(4) H₂O₂+ RCO₂H ↔H₂O + RCO₃H

RCO₃H/RCO₂H 혼합물 중에서 각각의 RCO₃H 및 RCO₂H의 양은 정확하지 않다. H₂O₂+ RCO₃H + RCO₂H의 삼차 혼합물을 얻기 위해 H₂O에서, H₂O₂와 RCO₃H 또는 H₂O₂와 RCO₂H를 제공하는 것으로 충분하며, 그렇지 않으면 H₂O₂는 RCO₂H/RCO₃H 쌍과 비교하여 과량으로 존재할 것이다. 그러므로, 평형에서 H₂O₂+ RCO₃H + RCO₂H 혼합물을 얻기 위해, 물 중에서

(ⅰ)H₂O₂의 존재하에 RCO₂H, 또는

(ⅱ)RCO₃H(상기의 FR-A-2 321 301 및 FR-A-2 321 302에 따른 H₂O₂및 RCO₂H를 함유하는 일반적으로 농축된 형태로)를 혼합하는 것으로 충분하다.

상기와 같이, 산/과산(peracid) 쌍의 R기는 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 탄화수소-기재 사슬을 함유하는 C₁-C₆지방족 잔류물을 나타낸다. CH₃; CH₃CH₂또는 CH₃(CH₂)₄와 같은 포화 선형 탄화수소-기재를 함유하는 R 기 또는 특히, CH₃-CH=CH, CH₃-CH=CH-CH₂또는 CH₃-CH=CH-CH=CH와 같은 불포화 선형 탄화수소 기재 사슬을 함유하는 R 기를 사용하는 것이 바람직하다.

바람직한 R기는: CH₃-CH=CH-CH=CH, CH₃CH₂또는 CH₃ㆍ이다. 일반적으로, CH₃CO₂H/CH₃CO₂H (즉, R=메틸)의 쌍이 CH₃CH₂CO₂H/CH₃CH₂CO₃H(즉, R=에틸)의 쌍보다 바람직한데, 이것은 처음 쌍이 두번째 쌍보다 본 발명에 따른 수성 조성물에서 살균/정화 수단으로서 더 활성이기 때문이다.

바람직하게는, 본 발명에 따른 수성 조성물(Ⅰ)에서, 과산화수소에 대한 RCO₂H/RCO₃H 혼합물의 B/A 중량비는 0.15/1 ~ 0.85/1 일 것이다. 바람직하게, 이 중량비는 0.5/1 ~ 0.7/1 일 수 있다.

-공급원 L

L은 본 발명에 따른 유용한 이온들, 즉 금속 M을 함유하는 이온들(예를 들면, Ag^Ⅱ, Ag^Ⅲ, V^Ⅴ, Nb^V, Ta^V, Mo^Ⅵ, W^Ⅵ, Co^Ⅲ, In^Ⅲ또는 Tl^Ⅲ이온들), Ag⁺/금속 M의 이온들의 결합, 또는 그들의 혼합물을 제공하는 역할을 한다.

V^Ⅴ, Nb^V, Ta^V, Mo^Ⅵ, W^Ⅵ, Co^Ⅲ, In^Ⅲ또는 Tl^Ⅲ이온들이 바람직한 경우, L은 상기 금속이 최대 산화상태인 염을 사용한다. 변화로서, 사용할 수 있는 L은, 상기 산화물이 산에 녹는 경우, 상기 금속 M의 산화물(이 경우, V^Ⅴ, Nb^V, Ta^V, Mo^Ⅵ, W^Ⅵ, Co^Ⅲ, In^Ⅲ또는 Tl^Ⅲ의 산화물)이다.

Ag²⁺이온이 바람직하다면, Ag⁺가 Ag²⁺로 산화되어야 한다.

Ag⁺→Ag²⁺+ e의 반응을 위해 제안되는 반응은 아래에 주어진다. 이 반응은일반적으로 불완전하므로, 주로 Ag⁺/Ag²⁺이온들의 혼합물 [및, 필요하다면, Ag³⁺이온이 적어도 미량으로 존재하는 Ag⁺/Ag²⁺/Ag³⁺이온들의 혼합물]이 제공된다.

Ag⁺이온이 V^Ⅴ, Nb^V, Ta^V, Mo^Ⅵ, W^Ⅵ, Co^Ⅲ, In^Ⅲ또는 Tl^Ⅲ이온들과의 혼합물로 필요하다면, 해당하는 두 공급원로부터 얻은 이온들을 함께 혼합한다.

최종적으로, Ag⁺/Ag²⁺/V^V, Nb^V, Ta^V, Mo^Ⅵ, W^Ⅵ, Co^Ⅲ, In^Ⅲ또는 Tl^Ⅲ이온들의 혼합물이, 바람직한 경우, 상기와 같은 산화에 의한 그들의 공급원로부터 얻은 Ag⁺/Ag²⁺이온들을 V^V, Nb^V, Ta^V, Mo^Ⅵ, W^Ⅵ, Co^Ⅲ, In^Ⅲ또는 Tl^Ⅲ이온들의 공급원로부터의 이온들과 혼합한다.

본 발명에 따른 바람직한 이온들은 한편으로는 V^V, Mo^Ⅵ, W^Ⅵ및 Tl^Ⅲ이온들, 다른 한편으로는 Ag⁺/Ag²⁺, Ag+/Mo^Ⅵ, Ag⁺/W^Ⅵ, Ag⁺/Tl^Ⅲ및 Ag⁺/Ag²⁺/Mo^Ⅵ의 이온 혼합물을 포함하며, 가장 바람직한 이온들은 Ag⁺/Ag²⁺, Ag⁺/Mo^Ⅵ, Ag⁺/Ag²⁺/Mo^Ⅵ및 상기의 모든 Mo^Ⅵ이온들이다.

본 발명자들은, 본 발명에 따른 수성 조성물(Ⅰ)을 사용하는 동안, 뜻밖에 몰리브덴이 은(Ag⁺또는 Ag⁺/Ag²⁺의 형태로)보다 두배 유리하다는 것을 발견하였다:

- 미생물체에 대해, 은 보다 더 활성이다.

- 기구(특히, 치과 또는 외과 기구)를 냉각 살균하는 동안, 바람직하지 않은 은의 회색 또는 검은색 침전이 없다.

V^V이온의 주된 공급원은 VO₂ ⁺(또는, 바람직하다면, VO₃ ⁺)염이며, Nb^V의 공급원은 NbO³⁺염, Mo^Ⅵ이온의 공급원은 MoO₃ ²⁺또는 MoO₄ ^2-염, Co^Ⅲ이온의 공급원은 Co³⁺염이고, In^Ⅲ이온의 공급원은 In³⁺염이며, Tl^Ⅲ이온의 공급원은 Tl³⁺염이다.

본 발명의 성분 C의 이온은 한편으로는 미생물의 벽을 약하게 하거나 또는 감성시키는 작용을 하며, 다른 한편으로는 특히 다음 반응에 따른 산화제로서 작용한다.

(5) VO₂ ⁺+ 2H⁺+ e → VO²⁺+ H₂O, 또는, 적당한 경우

(5a) VO₃ ^-+ 4H⁺+ e →VO²⁺+ 2H₂O

(6) Nb^V+ e → Nb^Ⅵ또는

(6a) NbO³⁺+ 2H⁺+ e →Nb³⁺+ H₂O

(7) MoO₂ ²⁺+ 2H⁺+ e →MoO³⁺+ H₂O 또는

(7a) MoO₄ ^2-+ 4H⁺+ e → MoO₂ ⁺+ 2H₂O

(8) Co³⁺+ e →Co²⁺(산성 매질에서)

(9) In³⁺+ 2e → In⁺

(10) Tl³⁺+ 2e →Tl+

실제적으로, 효능 면에서 금속 M 100g 에 해당하는 양과 탈염수 1 리터로 시작하여 산화환원 포텐셜이 1V 보다 큰, Ag^Ⅱ, Ag^Ⅲ, V^V, Nb^V, Ta^V, Mo^Ⅵ, W^Ⅵ, Co^Ⅲ, In^Ⅲ및/또는 Tl^Ⅲ이온을 함유하는 용액을 제공할 수 있는 공급원 L이 제안된다.

바람직하게는, 과산화수소에 대한 이온 공급원 L의 중량비는 0.0005/1 ~ 0.015/1 이다. 실제적으로, 이 중량비는 더욱 바람직하게는 0.0008/1 ~ 0.005/1 이며, 가장 바람직하게는 0.001/1이다.

-안정화제

H₂O₂및 공급원 L로부터의 이온들을 보호하고, 특히 (ⅰ)H₂O₂및 (ⅱ)Ag⁺및/또는 Ag²⁺의 농축 용액을 사용할 때 폭발 위험을 피하게 하는 안정화제는, 한편으로는 H₃PO₄및 H₂SO₄(질산과 염산은 그들의 금속 표면 및/또는 환경에 대한 유해성 때문에 강하게 반대된다)와 같은 미네랄산으로부터, 다른 한편으로는 피리딘카르복실산과 같은 유기산으로 이루어진 혼합물로부터 선택된다. 본 발명에 따른 바람직한 안정화제는 H₃PO₄또는 (특히 공급원 L이 Mo^Ⅵ이온을 제공하는 경우)피리딘카르복실산이다.

피리딘카르복실산은 다음 구조식의 물질이다.

즉, 2-피리딘카르복실산(피콜린산), 3-피리딘카르복실산(니코틴산), 및 4-피리딘카르복실산(이소니코틴산)이다.

이온의 공급원 L이 Ag⁺또는 Ag⁺/Ag²⁺이온을 제공할 때, 적당한 경우, 소량의 젤라틴을 성분 D의 산성 안정화제에 첨가하는 것이 바람직하다.

바람직하게는, 과산화수소에 대한 안정화제의 중량비는 0.0005/1 ~ 0.025/1이다. 실제로, 이 중량비는 0.0008/1 ~ 0.005/1 가 더욱 바람직하며, 약 0.001/1 이 가장 바람직하다.

-기타의 첨가제

다음 성분들 중 적어도 하나는 본 발명에 따른 수성 성분(Ⅰ)에 혼합될 것이다.

(E)계면 활성제;

(F)부식방지제; 및

(G)향료

여기에 포함되는 계면활성제는 (ⅰ)특히 음식물과 접촉하는데 적합한, 가능하다면 식수와 경구투여에 적합한 폴리올등의, 친양쪽성(amphiphilic), 양쪽성(amphoteric), 음이온성 또는 비이온성 계면활성 화합물, 또는 (ⅱ)이들 화합물의 혼합물이다. Tegol^R2000이라는 상품명으로 시판되는 고형제품이 양쪽성 계면활성제로서 적당하다.

본 발명에 따른 수성 조성물(Ⅰ)에서, 과산화수소에 대한 계면활성제의 중량비는 바람직하게는 0.00005/1 ~ 0.01/1 이다. 실제적으로, 이 중량비는 약 0.005/1이 더욱 바람직하다.

본 발명의 수성 조성물(Ⅰ)에 음식물과 접촉하거나 및/또는 식수와 경구 투여하기에 적합한 부식방지제를 혼합하는 것이 제안된다. 본 목적에 사용될 수 있는 부식방지제로서 상기 FR-A-2 321 302에 기재된 것과 같이 아미노포스폰산, 그의 나트륨염, 칼륨염, 암모늄염 및 알카놀아민염 및 그들의 혼합물이 있다. 히드록시에탄디포스폰산, 디메틸아미노메탄디포스폰산 및 에틸렌디아미노테트라키스(메틸렌포스폰산), 그의 Na, K, NH₄ ⁺또는 알카놀아민염, 및 그들의 혼합물이 본 발명에 따른 수성 조성물(Ⅰ)에 적당하다. 1,2,3-벤조트리아졸 또한 부식방지제로 적당하다.

실제적으로, 부식방지제는 수성 조성물(Ⅰ)중에 낮은 농도로 존재할 것이다. 사용되는 경우, 상기 부식방지제는 특히, 과산화수소에 대한 상기 부식방지제의 중량비가 0.000005/1 ~ 0.03/1, 바람직하게는 0.001/1 ~ 0.005/1 이 되도록 함유될 것이다.

WO-A-96/18301에 나타난 바와 같이, 이것은 200 ㎛/year 이하로 본 발명의 수성 조성물(Ⅰ)과의 매우 긴 접촉을 갖는 금속 표면의 부식을 제한한다.

금속 표면의 부식은 주로 "피팅"으로 알려진 현상을 반영하므로, 조사되는것이 바람직한 미생물의 생존 및 성장에 상기 피팅의 형성을 막기에 바람직하다.

(G)의 향료성분은 (F)의 부식방지제의 양보다 적은 양으로 수성 정화 조성물에 포함될 수 있다.

본 발명에 따른 정화 조성물에 함유되는 물은 정화된 물, 즉 증류수, 탈염수 또는 바람직하게는 탈이온수이다. 바람직하게, 본 발명에서 사용되는 탈이온수는 비저항이 10⁵Ω/cm 이상, 더욱 바람직하게는 10⁶Ω/cm 이상인 물이다.

본 발명의 상기 정화 조성물의 희석에 사용되는 물은 유리하게는 상기와 같은 순수한 물이다.

본 발명의 수성 조성물의 pH는 (희석전 및 사용시) 일반적으로 1.2 ~ 5 이며, 더 바람직하게는 1.5 ~ 4 이다. 이것은 바람직한 성분 D : H₃PO₄또는 피리딘카르복실산을 사용하여 조절된다.

-수성 조성물(Ⅰ)

바람직하게, 본 발명에 따른 수성 조성물(Ⅰ)은, 물에서;

(A) H₂O₂8 중량% 이하;

(B) RCO₂H/RCO₃H 혼합물(여기서, R은 CH₃또는 CH₃CH₂), 과산화수소에 대한 상기 RCO₂H/RCO₃H 혼합물의 중량%는 0.15/1 ~ 0.85/1 이며, 바람직하게는 0.5/1 ~ 0.7/1;

(C) 다음의 이루어진 결합물로부터 선택된 금속 이온들을 제공하는 공급원L:

의 이온들,

(2) Ag⁺이온과 상기 금속 M의 이온들의 결합물들, 및

(3) 이들의 혼합물;

(여기서, 공급원 L은, Ag^Ⅱ이온들 또는 Ag^Ⅱ+ Ag^Ⅲ이온들을 제공하며, 은 100g(AgNO₃157g)과 탈염수 1 리터으로 출발하여, 생성 용액에서 Ag⁺+ Ag²⁺또는 Ag⁺+ Ag²⁺+ Ag³⁺의 농도가 1000 mV 보다 큰 산화환원 포텐셜을 제공한다; 및

과산화수소에 대한 상기 공급원 L의 중량%는 0.0005/1 ~ 0.015/1 이며, 바람직하게는 0.0008/1 ~ 0.005/1);

(D) 안정화제 (과산화수소에 대한 상기 안정화제의 중량%는 0.0005/1 ~ 0.015/1 이며, 바람직하게는 0.0008/1 ~ 0.005/1)를 함유한다.

더욱 실제적으로는,

(A) H₂O₂7.5 ~ 7.9 중량%;

(B) CH₃CO₃H + CH₃CO₂H 혼합물 4.5 ~ 4.8 중량%;

(C) 공급원 L 0.005 ~ 0.01 중량%;

(D) H₃PO₄또는 피리딘카르복실산 0.0005 ~ 0.001 중량%;

(E) 적당한 경우, 계면활성제 0.0075 ~ 0.04 중량%;

(F) 적당한 경우, 부식방지제 0.003 ~ 0.04 중량%;

(G) 적당한 경우, 향료; 및

100 중량%를 만들기 위한 (증류, 탈미네랄 또는 탈이온화된)물.

유리하게는 금속 표면의 세정, 스트리핑 및/또는 부동화 처리에 관하여, 또는 비금속 표면의 세정, 스트리핑 및/또는 부동화 처리에 관해 C/D의 중량비가 1/1 이하인 것이 바람직하다.

더우기, 성분 C가 Ag⁺이온과 M 이온의 혼합물일 때, 본 발명에 따르면, 유익한 효과를 명백히 하기 위해 금속 이온 M은 미량으로 존재하는 것으로 충분하다.

-조성물(Ⅰ)의 제조

상기에 제공되며, (a)~(f) 단계로 이루어지는, 본 발명에 따른 수성 조성물(Ⅰ)의 제조방법은 공급원 L이 Ag²⁺(또는 Ag²⁺/Ag³⁺)이온들을 함유하지 않을 때 직접적으로 실시된다. 이 경우, 상기 조성물은 한편으로는 GB-A-2 189 394의 방법으로 제조될 수 있으며(H₂O₂를 고농도로 얻기 위해), 그 다음 다른 한편으로는 운송목적을 위해, 증류, 탈미네랄 또는 탈이온화된 물로 희석(H₂O₂의 농도가 8 중량% 이하 또는 더 바람직하게는 7.9 중량% 이하가 되도록)함으로써 제조된다. 변화로서, 상기 조성물은 표준 조성물 형태로 직접 제조될 수 있다.

공급원 L 이 Ag²⁺(또는 Ag²⁺/Ag³⁺) 이온들을 제공한다면, 단계(a)는 Ag⁺이온공급원을 Ag²⁺로 산화시키기 위해 단계 (1°) 및 (2°)로 대치될 수 있다. 이 산화는 (ⅰ)산화제로서 과황산염, 바람직하게는 과황산나트륨 또는 과황산알루미늄을 사용하여, 및 (ⅱ) 은 이온이 그곳에서 침전되는 금속 은으로 UV-중재 환원되는 것을 피하기 위해 백색광이 없는 곳에서 실시된다. 산화반응 Ag⁺→Ag²⁺+ e는 어둠(즉, 불투명 반응기) 또는 적색광 중에서 실시되는 것이 유리하다.

단계 (2°)의 끝에 포함된 여과는 반응 매질 중 존재할 수 있는 어느 불용성 재료를 제거하는 것을 목적으로 한다. 불용성 재료의 존재는 주로 사용된 과황산염이 과황산암모늄일 때 명백하다. 바람직하게는, 여과는 직경이 약 3 ㎛인 구멍을 갖는 여과막을 사용하여 실시한다.

단계 (3°)에서, 즉 일반 공정의 단계(b)에서, 얻어진 은 이온들(일반적으로 Ag⁺, Ag²⁺및, 적당한 경우, Ag³⁺의 혼합물)은 바람직하게 H₃PO₄(70 ~ 85 중량%의 수용액으로) 또는 피리딘카르복실산염을 사용하여 안정화된다.

더욱 바람직하게는, 소량의 젤라틴을, H₃PO₄또는 피리딘카르복실산염을 첨가하기 전, 첨가 중 또는 첨가 후, 첨가할 수 있다.

상기와 같이, Ag²⁺또는 Ag²⁺+ Ag³⁺이온들이 함유된다면, 본 발명에 따른 수성 조성물은 표준 용액의 형태로 또는 운송을 위해 희석하기 전, 고농도의 H₂O₂를 갖는 용액 형태로 생산될 것이다.

본 발명의 조성물(Ⅰ)의 제조방법을 실시하기 위한 바람직한 모드들 중 하나는(모드 A), 공급원 L이 V^Ⅴ, Nb^V, Ta^V, Mo^Ⅵ, W^Ⅵ, Co^Ⅲ, In^Ⅲ또는 Tl^Ⅲ이온들을 제공할 때, 다음으로 이루어진 단계(H₂O₂7.5 ~ 7.9 중량%를 함유하는)로 구성된다.

(a)상기 수성 살균 조성물을 제조하는데 필요한 물의 총량의 일부중에서 V^Ⅴ, Nb^V, Ta^V, Mo^Ⅵ, W^Ⅵ, Co^Ⅲ, In^Ⅲ또는 Tl^Ⅲ이온염의 용액을 (바람직하게는 산성 매질에서) 제조하는 단계;

(b) 상기 용액에 H₃PO₄또는 피리딘카르복실산 수용액 70 ~ 85 중량%를 함유하는 인산 수용액을 첨가하는 단계:

(c) H₂O₂50 ~ 60 중량%를 함유하는 과산화수소 수용액에 이와 같이 얻은 상기의 생성 용액을 교반시키면서, 0 에서 25 ℃ 사이(바람직하게는 4 에서 15 ℃ 사이)에서 첨가하거나, 또는 단계(b)에서 얻어진 용액을 3 ~ 6 l/h로 첨가하는 단계;

(d)이와 같이 얻은 용액에 CH₃CO₃H를 교반하면서, 0 내지 25 ℃ 사이(바람직하게는 4 내지 15 ℃)의 온도에서, 산성물질 CH₃CO₂H를 3 ~ 6 l/h 의 첨가속도로 첨가하는 단계;

(e)이와 같이 얻은 용액을 48 시간 동안 (바람직하게는 암실에서) 0 ~ 25 ℃(바람직하게는 4 ~ 15 ℃)의 온도에서

H₂O₂+ RCO₂H ↔H₂O + RCO₃H

평형이 이루어질 때까지 방치하는 단계; 및

(f)100 중량%를 만들기 위해 나머지의 물을 첨가하는 단계.

본 조성물의 제조의 (d)단계에서, 산 CH₃CO₂H는 수용액의 형태로 첨가될 것이다.

본 발명에 따른 조성물(Ⅰ)의 제조 방법을 실시하기 위한 또 다른 바람직한 모드(모드 B)는, 공급원 L이 Ag²⁺이온(적당한 경우, Ag³⁺이온과 함께)을 제공하는 경우, 다음 단계들(H₂O₂7.5 ~ 7.9 중량%를 함유하는)을 포함하는 단계로 이루어진다.

(1°)비저항이 10⁶Ω/cm(탈염수 1 리터에 대해 질산은 157g의 일부- 즉 은 100g)인 탈염수에 AgNO₃를 녹여, 얻어진 용액의 산화환원 포텐셜이 약 600 mV인 단계;

(2°)1000 mV 이상의 산화환원 포텐셜을 얻기 위해, 상기 용액의 Ag⁺이온의 적어도 일부를 과황산염나트륨 또는 과황산염암모늄을 첨가하여, Ag²⁺또는 Ag²⁺+ Ag³⁺로 산화시키고, (직경이 3 ㎛인 구멍이 있는 막으로)여과하는 단계;

(3°)H₃PO₄70 ~ 85 중량%를 함유하는 인산 수용액을 [단계(1°)에서 사용한 탈염수 1 리터에 대해 70 ~ 85 중량%에서 H₃PO₄수용액 10 ~ 100 ml의 부분으로] 사용하거나, 피리딘카르복실산 수용액을 [1000 mV 이상의 산화환원 포텐셜을 갖는 이와 같이 안정화된 은이온 용액을 실온에서 24 시간 교반 후]사용하여, 생성 용액을 안정화시키는 단계;

(4°)이와 같이 생성된 용액을, H₂O₂를 50 ~ 60 중량 % 함유하는 과산화수소 수용액에, 0 ~ 25 ℃의 온도에서 교반시키면서, 및 단계 (3°)에서 얻은 용액을 3 ~ 6 l/h의 첨가속도로 첨가하는 단계;

(5°)이와 같이 생성된 용액에 CH₃CO₃H 산성물질을, 3 ~ 6 l/h의 첨가속도로, 0 ~ 25 ℃의 온도(바람직하게는 4 ~ 15 ℃의 온도)에서 교반시키면서 첨가하는 단계;

(6°)이와 같이 생성된 용액을 다음의 평형을 얻기 위해 어둠(또는 적색광)에서 48 시간 동안, 0 ~ 25 ℃의 온도(바람직하게는 4 ~ 15 ℃의 온도)에서 방치하는 단계

H₂O₂+ CH₃CO₂H ↔ CH3CO₃H + H₂O ; 및

(7°)100 중량%를 만들기 위해 물을 첨가하는 단계.

이 표준 조성물 제조공정의 단계 (5°)에서, 산 CH₃CO₂H는 수용액의 형태로 첨가될 것이다.

본 발명에 따른 겔화 조성물(Ⅱ)은 수성 조성물(Ⅰ)과, 광물질 또는 유기물질인 특정 젤화제를 사용하여 얻는다. 겔화제가 광물질인 경우, 이것은 단위 중량당 면적이 80 ~ 400 m²/g이고, 평균 입도가 7 ~ 20 nm인 입자 형태의, 건조 형태의 발열성 콜로이드형 실리카인 것이 바람직하다. 본 목적에 알맞는 실리카 중에서, 상품명 CAB-O-SIL으로 시판되는 Cabot사의 제품 및 친수성인 CAB-O-SIL LM-150, CAB-O-SIL M-5, CAB-O-SIL EH-5 및 CAB-O-SIL M-7D 제품이 언급된다.

발열성 실리카를 함유하는 겔화된 조성물(100 중량부)을 생성하기 위해, 다음과 같은 공정이 실시된다.

ㆍ 조성물(Ⅰ)(50 ~ 99 중량부)과 발열성 콜로이드 실리카(50 ~ 1 중량부)를 접촉하도록 놓는 단계,

ㆍ 1,5000 ~ 2,000 rpm의 회전속도로 3 ~ 10분동안 교반시키는 단계,

ㆍ 실온에서 방치하는 단계.

겔화제가 유기물질인 경우, 상기와 같이 폴리아크릴성 재료가 바람직하다. 이 경우, 상기 폴리아크릴성 재료를 함유하는 겔화 조성물(100 중량부)은 다음 단계로 제조된다.

ㆍ 조성물(Ⅰ)(90 ~ 99.7 중량부)과 유기 겔화제(10 ~ 0.3 중량부)를 접촉시키는 단계,

ㆍ 1,0000 ~ 2,000 rpm의 회전속도로 10 ~ 20분 동안 교반시키는 단계,

ㆍ 실온에서 방치하는 단계.

폴리아크릴성 유기 젤화 재료를 함유하는 겔화 조성물(Ⅱ)은 pH가 3.5 이상일 때만 사용할 수 있다; 실제적으로는, pH 3.5 ~ 7, 바람직하게는 pH 5에서 사용될 것이다. 더우기, 이것은 피부과학 및 미용학 분야에서 가치있는 투명젤을 제조하기에 알맞다.

다른 한편, 발열성 실리카를 함유하는 겔화 조성물(Ⅱ)은 pH 1.5 ~ 4에서 사용하는 것이 바람직하다.

생성된 겔은 틱소트로픽(thixotropic) 특성을 갖는다: 이것은 교반, 마찰 또는 전단과 같은 스트레스하에서는 유체가 되며 교반, 마찰 또는 전단이 멈추면 곧(5분 이내) 고체가 된다.

더우기, 이 겔은 산성 또는 약 알칼리 매질에서 안정하며; 또한 그 성분들의 감성온도까지는 안정하다.

물 함량에 따라, 상기 겔은 다양한 범위의 점도로 제조될 것이다.

그의 틱소트로픽 특성으로 인해 본 발명의 겔화 조성물(Ⅱ)은 산업공장 및 장치에서 오래된(병원성이 되기 쉬운 미생물의 영양배지인) 오일 또는 그리스를 정화하는데 특히 적당하다.

-용도

본 발명에 따른 수성 산화제 조성물(Ⅰ)의 용도는 (ⅰ)상기의 WO-A-96/18301(20쪽 11줄 ~ 22쪽 15줄 참조)의 특히, 물을 식수에 적합하도록 살균하는 것, 산업 건물과 수영장의 살균, 외과 및 치과 기구의 냉각 소독, 박테리아, 곰팡이, 바이러스와 기생충에 대한 식물과 곡물의 보호,Euglena와 같은 병원성 조류에 대한 어류, 갑각류 및 조개류의 보호, 및 광산 부지의 정화, 및 (ⅱ)금속 표면(특히, 강철 또는 알루미늄의 표면) 또는 비금속 표면(특히, 플라스틱 또는 세라믹 표면, 플라스틱 표면은 주로 PVC, 폴리아크릴레이트, 폴리카보네이트 등에 노출되고 및 제조된 바닥재 또는 벽 패널등을 포함한다)의 세정, 스트리핑 및/또는 부동화에 관한 신규 사용을 포함한다.

유리하게는, 살균 및 소독용 조성물(Ⅰ)은 H₂O₂농도가 1 ~ 2 중량%가 되도록 표준 조성물을 희석하여 얻어질 것이다.

또한, 유리하게는 광산 부지의 정화용 조성물(Ⅰ)은 H₂O₂농도가 4 ~ 7.9 중량%일 것이며 사용시 최종 작업농도는 1/100 이하(즉, 최종 H₂O₂농도가 0.04 중량% 이하)로 희석될 것이다.

표면처리 분야에서, 조성물(Ⅰ)은 유리하게는 H₂O₂함량이 1 ~ 7.9 중량% 이며 C/D의 중량비는 1/1 미만이고 1/2 이상으로 이루어질 것이다.

본 발명에 따른 겔화된 조성물(Ⅱ)은 처리될 품목 또는 표면 영역에, H₂O₂와 안정화 및 지속작용을 확실히 하는 공급원 L로부터의 이온의 공급원을 제공하는 이점을 제공한다.

겔화 조성물(Ⅱ)은 특히 수평이 아닌, 즉 수직, 곡면 또는 기울어진 표면에 대해 유용하다. 이것은 한편으로는 먼지와 새의 낙하물에 노출된 빌딩의 외벽의 공동에 성장할 수 있는 미생물에 대해 구조를 보호하는데, 다른 한편으로는 금속 반응기 또는 탱크의 스트리핑 및 부동화에 특히 적당하다.

그러므로, 겔화 조성물(Ⅱ)은 본 발명에서, 한편으로는 구강상태, 특히 박테리아 및/또는 균류가 원인이 되는 치주염에 관한 약제학적 조성물로 사용하기 위한 의약 제품을 제조하기 위한 살균제품으로서, 및 다른 한편으로는 미용제품, 특히 구강 소독용 치약의 형성에 사용되도록 제안된다.

치과 분야에서, 겔화 조성물(Ⅰ)은 지혈제로 작용하며 항박테리아 및/또는 항균류제의 투여와 함께 조제되며 브리지의 금속 표면의 부동화(상기 부동화는 장기간 박테리아와 균류의 침전을 예방한다.)를 확실히 하며, 및 또한 플라스틱 또는 세라믹 표면을 상기 박테리아와 균류에 대해 일시적으로 보호한다(그러므로 그들의 침전을 막는다). 상기 겔화 조성물(Ⅱ)은 과산화수소를 1 ~ 2 중량% 함유하는 치약의 제조에 알맞다.

본 발명의 다른 장점 및 특성들은 아래의 구현예 및 비교 시험을 통해 명백히 나타날 것이다. 말할 필요 없이, 이 자료들은 본 발명을 제한하지 않으며 단지 설명을 위해 제시되었다. 편리를 위해, 성분 (C), 공급원 L을 고려할 때 그의 중량%로 나타내었고, 그가 제공하는 이온들은 아래의 실시예 1 ~ 6에 나타내었다.

실시예 1

상기 주어진 방법 B에 따라 표준 조성물을 제조하였고 다음을 포함한다:

H₂O₂7.8 중량%

CH₃CO₂H + CH₃CO₃H 혼합물 4.8 중량%

AgNO₃(Ag⁺/Ag²⁺의 공급원) 0.008 중량%

H₃PO₄또는 피리딘카르복실산 0.008 중량%

계면활성제 (음이온성 습윤제) 0.04 중량%

H₂O (탈염수) 100 중량%까지

실시예 2

표준 조성물을 상기 주어진 방법 A에 따라 다음을 포함하도록 제조하였다:

H₂O₂7.8 중량%

CH₃CO₂H + CH₃CO₃H 혼합물 4.8 중량%

Na₂MoO4 (MoO4^2-의 공급원) 0.008 중량%

피리딘카르복실산 0.008 중량%

계면활성제 (음이온성 습윤제) 0.04 중량%

H₂O (탈염수) 100 중량%까지

이온 공급원 L이 Mo^VI이온을 생성할 때, 안정화제로서 H₃PO₄를 사용하지 않는 것이 중요하다. MoO₄ ^2-와 H₃PO₄의 접촉은 불용성인 포스포노몰리브데이트 유형의 착화합물이 생성되므로 피해야 한다.

실시예 3

표준 조성물을 상기 방법 A에 따라 다음을 포함하도록 제조하였다:

H₂O₂7.8 중량%

CH₃CO₂H + CH₃CO₃H 혼합물 4.8 중량%

NH₄VO₃(VO^3-, VO²⁺또는 V5⁺의 공급원) 0.008 중량%

H₃PO₄또는 피리딘 카르복실 산 0.008 중량%

계면활성제 (음이온성 습윤제) 0.04 중량%

H₂O (탈염수) 100 중량%까지

실시예 4

표준 조성물을 상기 방법 A에 따라 다음을 포함하여 제조하였다:

H₂O₂7.8 중량%

CH₃CO₂H + CH₃CO₃H 혼합물 4.8 중량%

Na₂WO₄(WO₄ ^2-의 공급원) 0.008 중량%

H₃PO₄또는 피리딘카르복실산 0.008 중량%

계면활성제 (음이온성 습윤제) 0.04 중량%

H₂O (탈염수) 100 중량%까지

실시예 5

실시예 5의 표준 조성물을 실시예 1 및 2의 조성물의 중량으로 1/1 혼합물로제조하였다. 이 표준 조성물은 다음을 포함한다.

H₂O₂7.8 중량%

CH₃CO₂H + CH₃CO₃H 혼합물 4.8 중량%

AgNO₃(Ag⁺/Ag²⁺의 공급원) 0.004 중량%

Na₂MoO₄(MoO₄ ^2-의 공급원) 0.004 중량%

피리딘카르복실산 0.008 중량%

계면활성제 (음이온성 습윤제) 0.04 중량%

H₂O (탈염수) 100 중량%까지

비교예 CP1

선행기술의 문헌 WO-A-96/18301의 실시예 1의 조성물을 비교 생성물로 사용하였다. 그 조성은 다음과 같다:

H₂O₂8 중량%

CH₃CO₂H + CH₃CO₃H 혼합물 4.8 중량%

AgNO₃(Ag⁺의 공급원) 0.008 중량%

H₃PO₄0.008 중량%

계면활성제 (음이온성 습윤제) 0.04 중량%

H₂O (탈염수) 100 중량%까지

실시예 6

실시예 2 및 CP1의 조성물의 중량으로 1/1 혼합물으로 개시하여, (CP1의 인산을 피리딘카르복실산으로 치환한 후) 다음의 조성을 갖는 표준 조성물을 제조하였다:

H₂O₂7.9 중량%

CH₃CO₂H + CH₃CO₃H 혼합물 4.8 중량%

AgNO₃(Ag⁺의 공급원) 0.004 중량%

Na₂MoO₄(MoO₄ ^2-의 공급원) 0.004 중량%

H₃PO₄또는 피리딘 카르복실 산 0.008 중량%

계면활성제 (음이온성 습윤제) 0.04 중량%

H₂O (탈염수) 100 중량%까지

비교 시험 I

실시예 1-실시예 6 및 CP1의 살균 활성을 세가지 박테리아 균주(1-3) 및 인간에게 병원성이거나(1-2) 또는 특히 대기 중에서 토마토 재배시, 식물 병원성인(3-4), 한 균주의 곰팡이(mold)에 대하여 결정하였다, 즉:

(1) 포도상 구균 오레우스(Staphylococcus aureus)

(2) 수도모나스 에어루기나(Pseudomonas aerugina),

(3) 수도모나스 시린기아(Pseudomonas syringea), 및

(4) 알터나리아 솔라니(Alternaria solani).

[S]₀이 시간 0에서 균주 S의 농도이고, [S]_T가 시간 T(세균에 대해 T=1시간 그리고 곰팡이에 대해 T=2시간)에서 동일한 균주의 농도일 때, 살균 활성은 그 차이로 측정된다:

Δ = log[S]₀- log[S]_T

생성물이 살아있는 균주의 수를 감소시켜 세균에 대해 Δ≥4, 그리고 곰팡이에 대해 Δ≥3이 될 때, 생성물은 활동적이다.

하기 표 1에 주어진 Δ에 대하여 얻어진 결과는, 1/5로 희석시 CP1은 세균에 대해서 효과적이지만 알터나리아 솔라니의 균주상에서는 실질적으로 활성이 결핍됨을 나타낸다. 또한 이 결과들은 1/5로 동일한 희석시 실시예 1-실시예 6은 (i) 세균 및 곰팡이에 대해 효과적이며, 및 (ii) CP1보다 더 활동적임을 나타낸다.

실시예 7

10g의 CAB-O-SIL^RM-5 발열성 실리카를 격렬하게 교반하면서(2000 rpm) 실시예 1의 수성 조성물 1 리터에 6분에 걸쳐 첨가하였다. 혼합물을 방치한 후, 10⁶Pa.s의 점도를 갖는 겔을 얻었다.

비교 시험 II

수성 조성물 CP1의 작용을 실시예 7의 겔과 비교하였다. 서향의 면을 갖고, 이끼류 및 지의류(lichen)로 코팅된 가공된 알루미늄 합금으로 제작된 지붕에 두 생성물을 4시간 동안 부착하였다. CP1으로 처리한 것은 용액의 증발에 의한 불충분한 접촉 시간 때문에 비효과적임이 발견되었다. 반면에, 모든 이끼류 및 지의류는 4시간의 실험 후에 흐르는 물로 단순한 헹굼으로써 제거되었다.

실시예 8

100g의 CAB-O-SIL^RM-5 발열성 실리카 및 75 중량%로 H₃PO₄를 함유한 500㎖의 인산 수용액을 격렬하게 교반하면서(2000 rpm) 실시예 1의 수성 조성물 1 리터에 6분에 걸쳐 첨가하였다. 혼합물을 방치한 후, 10⁷Pa.s의 점도를 갖는 겔을 얻었다.

이와 같이 얻어진 겔은 매우 틱소트로픽 특성을 갖는다.

시험 III

염소-풍부 증기를 방출하는 연소 후 탈부동화된 (depassivated) 316 L 스테인레스강으로 제작된 공업주방 환기 후드에 부착시킨 후, 3시간 동안 접촉 방치된 실시예 8의 겔은 316 L 스테인레스 강을 완전히 정화시켰고 부동화 포텐셜을 재획득시켰다.

실시예 9

실시예 1의 수성 조성물을 탈염수로 희석하여 1 내지 2 중량% 함량의 H₂O₂를 얻었다. 그 후, 생성 용액을 상기 실시예 7의 방법에 따라 겔로 제조하였다.

시험 IV

실시예 9의 겔을 치아 치석 및/또는 구강 진균증을 앓는, 나쁜 구취가 있는 환자의 치아 및 치아부분의 치근막 점막에, 하루에 한번씩 5일 동안 부착하였다. 치근막의 점막의 생체 조직 검사는 각각 치아의 치석 및 진균증의 원인인 세균 및 진균류가 부착 장소에서 전체적으로 감소했음을 나타내었다. 치료 받은 환자들에게는 더 이상 나쁜 구취가 없었다.

실시예 10

실시예 1의 수성 조성물을 탈염수로 희석시켜 4 중량%의 H₂O₂함량을 얻었다. 그 후, 생성용액을 상기 실시예 8의 방법에 따라 겔로 제조하였다.

시험 V

실시예 10의 겔을 샴페인 제조용 스테인레스강 탱크에 부착하였다. 통계적으로, (i) 부적절한 미생물의 성장 및/또는 (ii) 내부 벽의 퇴화 때문에 5 ~ 6개의 탱크 중 하나의 탱크의 내용물이 손실된다고 알려져 있다. 포도 수확 전, 및 발효 후 탱크를 비운 후 각각 한번씩, 실시예 10의 겔로 5시간 동안 탱크의 내부 벽을 처리함에 의해 모든 탱크는 상기의 통상적인 손실 없이 활성을 유지하였다.

시험 VI

실시예 1, 실시예 2, 실시예 5 및 CP1의 각각의 조성물을 즉석에서(즉, 사용시에) 희석하여 1/5의 희석물을 얻었다. 이와 같이 희석시킨 각각의 용액 50㎖를 일단의 투명한 유리 저장기내에 시간 T=0에서 놓고, (a) 금속, 플라스틱 및/또는세라믹 표면으로 이루어지고, (b) 세균 및/또는 곰팡이로 오염된, 및 (c) 소량의 조직(응고된 혈액, 점막, 고기) 및 접착제로 오염된 치아 보철물을 이 용액들에 담궜다. 개방된 저장기들을 방치하였다. 일단의 저장기 내의 보철물들을 T=1시간, T=2시간, T=15일 및 T=90일의 시간에 관찰하였다.

T=1시간 일 때 실시예 1, 실시예 2 및 실시예 5의 희석 조성물에 담가진 보철물들은 깨끗해졌고, 본질적으로 세균 및 곰팡이가 없었다; T=2시간일 때 실시예 1, 실시예 2 및 실시예 5의 희석 조성물에 담가진 보철물들이 깨끗해졌고, 본질적으로 세균 및 곰팡이가 없었으며, CP1의 희석 조성물에 담가진 보철물은 깨끗해지고, 세균은 없지만 여전히 곰팡이로 오염되어 있었다(개체수≥10⁴미생물/㎖); T=15일인 경우 모든 보철물은 깨끗하고 세균은 없지만, 실시예 1, 실시예 2 및 실시예 5의 희석물로 처리된 것들은 곰팡이가 없는 것에 반해 CP1의 희석 조성물에 담가진 것들은 개체수가 10⁴보다 큰 곰팡이를 가졌다; T=90일인 경우 실시예 1, 실시예 2 및 실시예 5의 희석물로 처리된 보철물들만 깨끗하였고, 세균 및 곰팡이가 없고, CP1의 희석물로 처리된 것들은 다시 세균 및 곰팡이로 오염되었다.

요약하면, 실시예 1, 실시예 2 및 실시예 5로 1시간 동안 처리 후, 각각의 보철물은 "완전히 새롭고 재사용할 수 있는"것으로 간주된다. 더욱이, CP1과는 달리, 실시예 1, 실시예 2 및 실시예 5는 세균 및 곰팡이가 표면에 부착되는 것을 예방하는 것으로 확인되었다.

표 1

살균 활성

Δ = log[S]₀- log[S]_T

생성물	균주
생성물	(a)	(b)	(c)	(d)
CP1	4.56	5.38	3.97	1.61
실시예 1	6.27	6.14	5.23	4.42
실시예 2	6.25	6.17	5.25	4.44
실시예 3	5.0	5.19	4.67	4.45
실시예 4	6.27	5.17	5.30	4.43
실시예 5	6.25	5.67	5.27	4.42
실시예 6	5.37	5.70	5.27	4.42
주석:(1) 포도상 구균 오레우스(2) 수도모나스 에어루기나(3) 수도모나스 시린기아(4) 알터나리아 솔라니

실시예 11

피부학적 또는 미용 조성물들을 다음의 조성을 사용하여 제조하였다:

H₂O₂1 중량부

CH₃CO₂H + CH₃CO₃H 혼합물 0.5 중량부

CH₃-CH=CH-CH=CH-CO₂H 0.1 중량부

피리딘카르복실산 0.004 중량부

Na₂MoO₄(MoO₄ ^2-의 공급원) 0.004 중량부

계면활성제 (비이온성 습윤제) 0.02 중량부

H₂O (탈염수) 95.5 중량부까지

성분들을 요구되는 탈염수 부분으로 다음 순서로 도입하였다: (i) H₂O₂, (ii) CH₃CO₂H/CH₃CO₃H + CH₃-CH=CH-CH=CH-CO₂H + 피리딘 카르복실 산, (iii) Na₂MoO₄, 그 후 (iv) 총 중량의 95.5 중량부까지의 탈염수.

실시예 12

겔화제로서 폴리아크릴 유기물질을 함유하는 겔화 조성물을 다음의 조성을 사용하여 제조하였다.

H₂O₂1 중량%

CH₃CO₂H + CH₃CO₃H 혼합물 0.5 중량%

CH₃-CH=CH-CH=CH-CO₂H 0.1 중량%

피리딘카르복실산 0.004 중량%

Na₂MoO₄(MoO₄ ^2-의 공급원) 0.004 중량%

NaOH (최대 pH 5까지)

계면활성제 (비이온성 습윤제) 1 중량%

CARBOPOL^RETD 2623 0.5 중량%

H₂O (탈염수) 100 중량%까지

이 조성물은 필요한 탈염수의 부분 내에 CARBOPOL^R2623을 교반(800-1000 rpm에서)시켜 제조되었고, 이 교반을 15분 동안 유지하고, 완전히 용해될 때까지 45℃까지 가열하고, 다음 순서, (i) H₂O₂, (ii) CH₃CO₂H/CH₃CO₃H, CH₃-CH=CH-CH=CH-CO₂H 및 그 후 피리딘카르복실산, 및 (iv) Na₂MoO₄에뒤이어서 계면활성제의 순서로 첨가하고, 15분 동안 교반(1000 rpm에서)시키고, NaOH로 pH 5가 되도록 맞춘 다음 탈염수를 100 중량%까지 첨가하였다. 이 겔화 조성물의 20 rpm에서 브룩필드 (Brookfield) 점도는 15 Pa.s(즉, 15000 cP)였다.

Claims

한편으로는 살균, 위생 및 정화 분야에서, 다른 한편으로는 금속표면(특히 그것의 세정, 스트리핑 및/또는 부동화) 또는 비금속 표면(특히 플라스틱 또는 세라믹 표면, 특히 그의 세정 및/또는 스트리핑)의 처리 분야에서 유용한 조성물로서, 상기 조성물은 물 중에서, 과산화수소, RCO₂H/RCO₃H 혼합물 (여기서 R은 선형 또는 분지, 포화 또는 불포화 탄화수소-기재 사슬을 함유하는 C₁-C₆지방족 잔류물) 및 강산인 안정화제 및, 적당한 경우 Ag⁺이온을 함유하며, 적어도 하나의 Ag^Ⅱ, Ag^Ⅲ, V^Ⅴ, Nb^V, Ta^V, Mo^Ⅵ, W^Ⅵ, Co^Ⅲ, In^Ⅲ또는 Tl^Ⅲ이온들인 금속 M의 이온들, 은 100g(즉, AgNO₃157g)과 탈염수 1 리터로 출발하여 생성용액 중 Ag⁺+ Ag²⁺또는 Ag⁺+ Ag²⁺+ Ag³⁺이온의 농도가 1000 mV 보다 큰 산화환원 포텐셜을 제공하도록 Ag^Ⅱ이온들 또는 Ag^Ⅱ+ Ag^Ⅲ이온들을 제공하는 공급원 L을 함유하는 것으로 특징되는, 수성 산화제 조성물(Ⅰ).
제 1항에 있어서, 상기 조성물이, 물 중에서

(A)H₂O₂;

(B)RCO₂H/RCO₃H 혼합물(여기서, R은 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 탄호수소-기재 사슬을 함유하는 C₁-C₆지방족 잔류물);

(C) 공급원 L 및 다음의 세트로부터 선택된 금속 이온들;

(1) Ag^Ⅱ, Ag^Ⅲ, V^Ⅴ, Nb^V, Ta^V, Mo^Ⅵ, W^Ⅵ, Co^Ⅲ, In^Ⅲ또는 Tl^Ⅲ이온인 금속M

의 이온들,

(2) Ag⁺이온과 상기 금속 M의 이온들의 결합물들, 및

(3) 이들의 혼합물,

(여기서, 공급원 L은 Ag^Ⅱ이온들 또는 Ag^Ⅱ+ Ag^Ⅲ이온들을 제공하며, 은 100g(AgNO₃157g)과 탈염수 1 리터으로 출발하여, 생성 용액에서 Ag⁺+ Ag²⁺또는 Ag⁺+ Ag²⁺+ Ag³⁺의 농도가 1000 mV 보다 큰 산화환원 포텐셜을 제공한다); 및

(D) 산인 안정화제를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 2항에 있어서, 상기 금속이온이 MO^Ⅵ이온들, Ag⁺/Ag²⁺이온들의 혼합물, MO^Ⅵ/Ag⁺이온들의 혼합물, 또는 MO^Ⅵ/Ag⁺/Ag²⁺이온들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 조성물.
(a)(1) Ag^Ⅱ, Ag^Ⅲ, V^Ⅴ, Nb^V, Ta^V, Mo^Ⅵ, W^Ⅵ, Co^Ⅲ, In^Ⅲ또는 Tl^Ⅲ이온인 금속M

의 이온들,

(2) Ag⁺이온과 상기 금속 M의 이온들의 결합물들, 및

(3) 이들의 혼합물로 이루어진 세트로부터 선택된 금속이온들을 제공하는 공급원 L의 수용액을 사용하는 단계 (여기서, 공급원 L은 Ag^Ⅱ이온들 또는 Ag^Ⅱ+ Ag^Ⅲ이온들을 제공하며, 은 100g (AgNO₃157g)과 탈염수 1 리터으로 출발하여, 생성 용액에서 Ag⁺+ Ag²⁺또는 Ag⁺+ Ag²⁺+ Ag³⁺의 농도가 1000 mV 보다 큰 산화환원 포텐셜을 제공한다);

(b) 상기 용액에 안정화제를 공급하는 단계;

(c) 과산화수소 수용액에 이와 같이 얻은 상기의 생성 용액을 공급하거나 또는 상기 생성 용액에 과산화수소 수용액을 공급하는 단계;

(d)이와 같이 얻은 용액에 RCO₃H, RCO₂H 또는 그들의 혼합물 RCO₃H + RCO₂H, (여기서 R은 상기와 같음)인 산성물질을 공급하는 단계;

(e)이와 같이 얻은 용액을 H₂O₂+ RCO₂H ↔H₂O + RCO₃H 평형이 이루어질 때까지 방치하는 단계; 및

(f)물로 100 중량%를 만드는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 제 1항 또는 제 2항의 조성물의 제조방법.
제 4항에 있어서,

(1°)Ag⁺이온 공급원으로 작용하는 은 성분의 수용액을 제조하는 단계;

(2°)1000 mV 이상의 산화환원 포텐셜을 얻기 위해, 탈염수 1 리터 및 AgNO₃157 g 으로 출발하여, 과황산염, 바람직하게는 과황산염나트륨 Na₂S₂O₈또는 과황산염암모늄 (NH₄)₂S₂O₈으로, 적어도 Ag⁺이온들 중 몇몇을 Ag²⁺이온들로 산화시키고, 존재할 수 있는 어느 불용성 재료를 제거하기 위해 여과하는 단계;

(3°)이와 같이 얻은 용액에 안정화제를 첨가하는 단계;

(4°)이와 같이 얻은 용액을 과산화수소 수용액에 첨가하거나, 과산화수소 수용액을 상기의 생성 용액에 첨가하는 단계;

(5°)이와 같이 생성된 용액에 RCO₃H, RCO₂H 또는 RCO₃H + RCO₂H의 혼합물을 첨가하는 단계(여기서 R은 상기 정의와 같음);

(6°)이와 같이 생성된 용액을 H₂O₂+ RCO₂H ↔H₂O + RCO₃H 평형이 이루어질 때까지 방치하는 단계; 및

(7°)물로 100 중량%를 만드는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는, Ag²⁺이온들을 함유하는 조성물을 제조하기 위한 방법.
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 조성물이 제 1항 또는 제 2항의 수성 조성물 및 미네랄 또는 유기 겔화제로 이루어진 겔화 조성물(Ⅱ)의 형태인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 6항에 있어서,

(α)제 1항 또는 제 2항의 수성 조성물 50 ~ 99 중량%, 및

(β)겔화제로서, 단위 중량 당 면적이 80 ~ 400 m²/g이고 평균입도가 7 ~ 20 nm인 발열성 콜로이드 실리카 50 ~ 1 중량%로 이루어지는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 6항에 있어서,

(α)제 1항 또는 제 2항의 수성 조성물 90 ~ 99.7 중량%, 및

(β)겔화제인, 폴리아크릴성 유기재료 10 ~ 0.3 중량%로 이루어지는 것을 특징으로 하는 조성물.
구강 상태, 특히 박테리아 및/또는 균류를 원인으로 하는 치주염용 의약 조성물 제조에 살균 제품으로서 사용되는 것을 특징으로 하는, 제 6항 내지 제 8항 중 어느 하나의 항의 겔화 조성물.
구강 살균용 미용 제품의 제조에 사용되는 것을 특징으로 하는, 제 6항 내지 제 8항중 어느 하나의 항의 겔화 조성물.
(ⅰ)금속 표면의 세정, 스트리핑 및/또는 부동화에, 또는 (ⅱ)비금속 표면의 세정 및/또는 스트리핑에 사용되는 것을 특징으로 하는, 제 6항 내지 제 8항중 어느 하나의 항의 겔화 조성물.
(ⅰ)수성 조성물(Ⅰ)을 겔화제와 접촉하도록 놓는 단계, (ⅱ)3 ~ 20 분 동안 생성 혼합물을 교반시키는 단계, 및 (ⅲ)생성된 혼합물을 고체로 굳어지도록 방치하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 제 6항의 겔화 조성물의 제조방법.