KR20020007203A - 액정 장치, 컬러 필터 기판, 액정 장치의 제조 방법 및컬러 필터 기판의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (55)
- 제 1 기판과,상기 제 1 기판에 대향하여 배치된 제 2 기판과,상기 제 1 기판상에 마련된 착색층과,상기 착색층상에 마련된 Ta2O5, ZrO2및 TiO2중 적어도 하나를 주성분으로서 포함하는 절연막과,상기 절연막상에 마련된 광투과성을 갖는 도전막을 구비하는 액정 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 절연막의 광학 막두께와 상기 도전막의 광학 막두께의 합은, 가시파장 영역내의 임의의 파장을 λ로 했을 때, 실질적으로 λ/2의 자연수배인 액정 장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 λ는 550㎚인 액정 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 착색층과 상기 절연막 사이에 투명한 수지막을 더 갖는 액정 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 착색층과 상기 제 1 기판 사이에 반사막을 더 갖는 액정 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 제 2 기판상에, 상기 절연막과 실질적으로 동일한 재료로 마련된 하지층과, 상기 하지층상에 마련된 능동 소자를 더 갖는 액정 장치.
- 제 5 항에 있어서,상기 반사막은 개구부를 갖는 액정 장치.
- 제 6 항에 있어서,상기 능동 소자는 TFD(Thin Film Diode)인 액정 장치.
- 제 1 기판과,상기 제 1 기판에 대향하여 배치된 제 2 기판과,상기 제 1 기판상에 마련된 착색층과,상기 착색층상에 마련된 Ta2O5를 주성분으로서 포함하는 절연막과,상기 절연막상에 마련된 광투과성을 갖는 도전막을 구비하는 액정 장치.
- 제 9 항에 있어서,상기 절연막은 ZrO2, TiO2및 SiO2중 적어도 하나를 성분으로서 포함하는 액정 장치.
- 제 10 항에 있어서,상기 절연막의 광학 막두께와 상기 도전막의 광학 막두께의 합은, 가시파장 영역내의 임의의 파장을 λ로 했을 때, 실질적으로 λ/2의 자연수배인 액정 장치.
- 제 11 항에 있어서,상기 λ는 550㎚인 액정 장치.
- 제 9 항에 있어서,상기 착색층과 상기 절연막사이에 투명한 수지막을 더 갖는 액정 장치.
- 제 9 항에 있어서,상기 착색층과 상기 제 1 기판 사이에 반사막을 더 갖는 액정 장치.
- 제 9 항에 있어서,상기 제 2 기판상에, 상기 절연막과 실질적으로 동일한 재료로 마련된 하지층과, 상기 하지층상에 마련된 능동 소자를 더 갖는 액정 장치.
- 제 14 항에 있어서,상기 반사막은 개구부를 갖는 액정 장치.
- 제 15 항에 있어서,상기 능동 소자는 TFD인 액정 장치.
- Ta2O5, ZrO2및 TiO2중 적어도 하나를 주성분으로서 포함하는 절연막과,상기 절연막상에 마련된 광투과성을 갖는 도전막을 구비하는 액정 장치.
- 제 18 항에 있어서,상기 절연막의 광학 막두께와 상기 도전막의 광학 막두께의 합은, 가시파장 영역내의 임의의 파장을 λ로 했을 때, 실질적으로 λ/2의 자연수배인 액정 장치.
- 제 19 항에 있어서,상기 λ은 550㎚인 액정 장치.
- 제 1 기판과,상기 제 1 기판에 대향하여 배치된 제 2 기판과,상기 제 1 기판상에 마련된 착색층과,상기 착색층상에, 가시파장 영역내에서 굴절률이 1.6 이상 2.0 이하이고 두께가 10㎚∼100㎚인 광투과성을 갖는 절연막과,상기 절연막상에 마련된 가시파장 영역내에서 굴절률이 1.8 이상 1.9 이하이고 두께가 100㎚∼300㎚인 광투과성을 갖는 도전막을 구비하는 액정 장치.
- 제 21 항에 있어서,상기 절연막의 광학 막두께와 상기 도전막의 광학 막두께의 합은, 가시파장 영역내의 임의의 파장을 λ로 했을 때, 실질적으로 λ/2의 자연수배인 액정 장치.
- 가시파장 영역내에서 굴절률이 1.6 이상 2.0 이하이고 두께가 10㎚∼100㎚인 절연막과,상기 절연막상에 마련된 가시파장 영역내에서 굴절률이 1.8 이상 1.9 이하이고 두께가 100㎚∼300㎚인 광투과성을 갖는 도전막을 구비하는 액정 장치.
- 제 23 항에 있어서,상기 절연막의 광학 막두께와 상기 도전막의 광학 막두께의 합은, 가시파장 영역내의 임의의 파장을 λ로 했을 때, 실질적으로 λ/2의 자연수배인 액정 장치.
- 기판과,상기 기판상에 마련된 착색층과,상기 착색층상에 마련된 Ta2O5, ZrO2및 TiO2중 하나를 주성분으로서 포함하는 절연막과,상기 절연막상에 마련된 광투과성을 갖는 도전막을 구비하는 컬러 필터 기판.
- 제 25 항에 있어서,상기 절연막의 광학 막두께와 상기 도전막의 광학 막두께의 합은, 가시파장 영역내의 임의의 파장을 λ로 했을 때, 실질적으로 λ/2의 자연수배인 컬러 필터기판.
- 제 26 항에 있어서,상기 λ는 550㎚인 컬러 필터 기판.
- 제 25 항에 있어서,상기 착색층과 상기 절연막 사이에 투명한 수지막을 더 갖는 컬러 필터 기판.
- 제 25 항에 있어서,상기 착색층과 상기 제 1 기판 사이에 반사막을 더 갖는 컬러 필터 기판.
- 제 29 항에 있어서,상기 반사막은 개구부를 갖는 컬러 필터 기판.
- 기판과,상기 기판상에 마련된 착색층과,상기 착색층상에 마련된 Ta2O5를 주성분으로서 포함하는 절연막과,상기 절연막상에 마련된 광투과성을 갖는 도전막을 구비하는 컬러 필터 기판.
- 제 31 항에 있어서,상기 절연막은 ZrO2, TiO2및 SiO2중 적어도 하나를 성분으로서 포함하는 컬러 필터 기판.
- 제 32 항에 있어서,상기 절연막의 광학 막두께와 상기 도전막의 광학 막두께의 합은, 가시파장 영역내의 임의의 파장을 λ로 했을 때, 실질적으로 λ/2의 자연수배인 컬러 필터 기판.
- 제 33 항에 있어서,상기 λ는 550㎚인 컬러 필터 기판.
- 제 31 항에 있어서,상기 착색층과 상기 절연막 사이에 투명한 수지막을 더 갖는 컬러 필터 기판.
- 제 31 항에 있어서,상기 착색층과 상기 제 1 기판 사이에 반사막을 더 갖는 컬러 필터 기판.
- 제 36 항에 있어서,상기 반사막은 개구부를 갖는 컬러 필터 기판.
- 기판과,상기 기판상에 마련된 착색층과,상기 착색층상에 마련된 가시파장 영역내에서 굴절률이 1.6 이상 2.0 이하이고 두께가 10㎚∼100㎚의 광투과성을 갖는 절연막과,상기 절연막상에 마련된 가시파장 영역내에서 굴절률이 1.8 이상 1.9 이하이고 두께가 100㎚∼300㎚인 광투과성을 갖는 도전막을 구비하는 컬러 필터 기판.
- 제 38 항에 있어서,상기 절연막의 광학 막두께와 상기 도전막의 광학 막두께의 합은, 가시파장 영역내의 임의의 파장을 λ로 했을 때, 실질적으로 λ/2의 자연수배인 컬러 필터 기판.
- 제 1 기판상에 착색층을 형성하는 공정과,상기 착색층상에 Ta2O5, ZrO2및 TiO2중 적어도 하나를 주성분으로서 포함하는 절연막을 형성하는 공정과,상기 절연막상에 광투과성을 갖는 도전막을 형성하는 공정과,상기 도전막을 알칼리 용액을 이용하여 패터닝하는 공정을 갖는 액정 장치의 제조 방법.
- 제 40 항에 있어서,상기 절연막 및 상기 도전막은, 상기 절연막의 광학 막두께와 상기 도전막의 광학 막두께의 합이, 가시파장 영역내의 임의의 파장을 λ로 했을 때, 실질적으로 λ/2의 자연수배가 되도록 형성되는 액정 장치의 제조 방법.
- 제 40 항에 있어서,상기 착색층상에 투명한 수지막을 형성하는 공정을 더 갖는 액정 장치의 제조 방법.
- 제 40 항에 있어서,상기 제 1 기판상에 반사막을 형성하는 공정을 더 갖는 액정 장치의 제조 방법.
- 제 40 항에 있어서,제 2 기판상에, 상기 절연막과 실질적으로 동일한 재료로 하지층을 형성하는 공정과, 상기 하지층상에 능동 소자를 형성하는 공정을 더 갖는 액정 장치의 제조방법.
- 제 43 항에 있어서,상기 반사막에 개구부를 형성하는 공정을 더 갖는 액정 장치의 제조 방법.
- 제 40 항에 있어서,상기 절연막은 기상(氣相) 성막 수단을 이용하여 형성되는 액정 장치의 제조 방법.
- 기판상에 착색층을 형성하는 공정과,상기 착색층상에, Ta2O5를 주성분으로 하고, ZrO2, TiO2및 SiO2중 적어도 하나를 성분으로서 포함하는 절연막을 형성하는 공정과,상기 절연막상에 광투과성을 갖는 도전막을 형성하는 공정과,상기 도전막을 알칼리 용액을 이용하여 패터닝하는 공정을 갖는 액정 장치의 제조 방법.
- 기판상에 착색층을 형성하는 공정과,상기 착색층상에, 가시파장 영역내에서 굴절률이 1.6 이상 2.0 이하로 되는 광투과성을 갖는 절연막을 10㎚∼100㎚의 두께로 형성하는 공정과,상기 절연막상에, 가시파장 영역내에서 굴절률이 1.8 이상 1.9 이하로 되는 광투과성을 갖는 도전막을 100㎚∼300㎚의 두께로 형성하는 공정을 구비하는 액정 장치의 제조 방법.
- 기판상에 착색층을 형성하는 공정과,상기 착색층상에 Ta2O5, ZrO2및 TiO2중 적어도 하나를 주성분으로서 포함하는 절연막을 형성하는 공정과,상기 절연막상에 광투과성을 갖는 도전막을 형성하는 공정과,상기 도전막을 알칼리 용액을 이용하여 패터닝하는 공정을 갖는 컬러 필터 기판의 제조 방법.
- 제 49 항에 있어서,상기 절연막 및 상기 도전막은, 상기 절연막의 광학 막두께와 상기 도전막의광학 막두께의 합이,가시파장 영역내의 임의의 파장을 λ로 했을 때, 실질적으로 λ/2의 자연수배가 되도록 형성되는 컬러 필터 기판의 제조 방법.
- 제 49 항에 있어서,상기 착색층상에 투명한 수지막을 형성하는 공정을 더 갖는 컬러 필터 기판의 제조 방법.
- 제 49 항에 있어서,상기 기판상에 반사막을 형성하는 공정을 더 갖는 컬러 필터 기판의 제조 방법.
- 제 52 항에 있어서,상기 반사막에 개구부를 형성하는 공정을 더 갖는 컬러 필터 기판의 제조 방법.
- 제 49 항에 있어서,상기 절연막은 기상 성막 수단을 이용하여 형성되는 컬러 필터 기판의 제조 방법.
- 기판상에 착색층을 형성하는 공정과,상기 착색층상에, 가시파장 영역내에서 굴절률이 1.6 이상 2.0 이하로 되는 광투과성을 갖는 절연막을 10㎚∼100㎚의 두께로 형성하는 공정과,상기 절연막상에, 가시파장 영역내에서 굴절률이 1.8 이상 1.9 이하로 되는 광투과성을 갖는 도전막을 100㎚∼300㎚의 두께로 형성하는 공정을 구비하는 컬러 필터 기판의 제조 방법.
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