KR20010102966A - 곡선의 광학장치 및 제작의 방법 - Google Patents

Abstract

바람직한 형상에 가뇨성 층을 순응시키는 작용을 하는 두꺼운 에폭시 층에 가뇨성 층이 접착되는, 광학적 곡선의 장치와 제작의 방법을 제공한다. 두꺼운 에폭시 층은 압력하에서 고점성 흐름을 받아 가뇨성 층을 몰드의 곡선 표면에 순응시킨다. 에폭시에 관한 압력은 받침판을 이용하여 에폭시를 압착함에 의하여 만들어내질 수 있다. 가뇨성 층의 광학적인 평활한 표면이 에폭시 흐름의 압력하에 몰드의 곡선 표면과 양호한 접촉을 가지는 한, 가뇨성 층 광학 표면의 요철들이 배제되며 에폭시가 경화되는 경우 가뇨성 층의 형상이 유지되어 몰드를 제거한다. 열가소성 따위의, 에폭시들과는 다른 재료들을 가뇨성 층을 접착 순응시키기 위해 또한 사용할 수 있다.

Description

곡선의 광학장치 및 제작의 방법 {CURVED OPTICAL DEVICE AND METHOD OF FABRICATION}

(관련출원정보)

본원은 1999. 1. 21 출원의 미국 잠정출원 제 60/116,557 호의 은전을 주장한다. 그 잠정출원은 전체로서 여기에 참고로 편입된다.

곡선의 면들은, x레이 적용을 위한 이중 곡선의 결정들, 링 레이저 자이로들을 위한 거울들, 및 단일 또는 다층 박막들을 위한 기판들을 포함하나 그들에 한정되지 않는 다수의 응용에 이용된다.

이중 곡선의 결정들은 단색 x레이를 위한 초점조정 장치나 또는 x레이 스펙트로미터에 있어서의 파장분산 장치로서 유용함이 알려져 있다. 예를 들어, 환상 곡선의 결정은 단색 x레이의 2지점간 초점조정을 제공할 수 있고, 타원체로 굽은 결정은 광역의 에너지 x레이 탐지장치로서 이용될 수 있다. 다소의 선행기술이 미국특허 제 4,780,899 호와 제 4,949,367 호에 기재돼 있다. 매우 얇은 층의 접착제에 의해 평활한 오목 기판에 접착된 결정을 가지는, 이들 장치는 결정 평면들의 평활성이 접착층의 요철들에 의해 강하게 영향받는 결점이 있다. 요철들은 기판 상의 접착층의 당초의 균일성의 부족에서 유래할 수도 있고, 비록 당초의 접착제 층이 매우 균일하다 해도 결정을 설치하는 동안에 일어날 수가 있다. 또 하나의 결점은 각 곡선의 표면에 대해서는 신중히 준비된 기판이 요구된다는 점이다.

따라서, 본 발명은 염가의 고품질 광학 표면들의 마련과 그의 제조의 방법들을 지향한다.

본 발명은 곡선의 광학소자를 생산하는 신규의 방법들, 특히 소프트 및 하드의 x레이, 자외선, 가시광, 및 적외선의 방사에 사용하기 위한 극단으로 높은 정밀도의 소자들과 이들 방법에 의해 달성되는 광학소자들에 관한 것이다.

다른 것들과 마찬가지로, 본 발명의 상기기재의 목적들, 장점들 및 특징들은 첨부의 도면과 관련하여 고려하는 경우, 본 발명의 특정한 우선의 실시양태들의 하기의 상세한 설명에서 보다 용이하게 이해될 것이다.

도 1은 본 발명의 단순한 형태: 광학적인 평활한 표면, 두꺼은 에폭시 층 및 편평한 받침판으로 이루어지는 그림;

도 2는, 도 1의 수직 단면도;

도 3은 광학적인 평활한 표면, 두꺼은 에폭시 층 및 오목한 받침판으로 이루어지는 가뇨성 층을 가진 유사 장치도;

도 4a는 장치의 제작를 위한 시초의 배열의 수직 단면도;

도 4b는 가뇨성 층이 부분적으로 순응시켜지는 제작 단계의 형상도;

도 4c는 몰드의 정확한 형상에 가뇨성 층의 광학적인 평활한 표면으로의 제작의 최종 단계도;

도 5a는 결정 표면에 평행하는 편평 회절 원자 평면들을 가진 편평 결정판;

도 5b는 결정 표면에 경사되는 편평 회절 평면들을 가진 편평 결정판;

도 6a는, 도 5a의 결정 슬래브의 형식을 이용하는 결정 장치의 수직 단면도;

도 6b는, 도 5b의 결정 슬래브의 형식을 이용하는 결정 장치의 수직 단면도; 그리고

도 7은 2지지점 간 초점조정 특성을 가진 환상의 결정 장치도이다.

(발명의개요)

간단히 요약하여, 본 발명은, 일 양상에 있어서 지지면을 가진 받침판과 받침판의 지지면 위쪽에 배치되는 접착제 층를 포함하고 있는, 광학적 곡선의 소자로 이루어져 있다. 접착제 층은 최소한도의 두께 x를 가지고 있다. 접착제 층 위쪽에는 가뇨성 층이 또한 마련되어 배치돼 있다. 가뇨성 층은, 바람직한 곡률의 광학면을 포함하고 있고, x > y인 두께 y를 가지고 있다.

또 다른 양상에 있어서는, 광학적 곡선의 소자가 마련되어 가뇨성 층과 접착제 층을 포함하고 있다. 가뇨성 층은, 바람직한 곡률의 광학 표면을 가지고 있고, 두께 y를 가지고 있다. 접착제 층은, 광학 표면보다는 가뇨성 층의 주(main)면에 배치되어, x > y인 최소한도의 두께 x를 가지고 있다.

그 이상의 양상에 있어서는, 곡선 표면을 가진 몰드를 이용하여 광학적 곡선의 소자를 제조하는 방법이 제공된다. 그 방법은: 광학 표면을 가진 가뇨성 층을마련하고; 지지면을 가진 받침판을 마련하여 받침판의 지지면과 몰드의 곡선 표면사이에 가뇨성 층을 배치하고; 가뇨성 층과 받침판의 지지면의 사이에 접착제를 적용하며; 받침판과 몰드의 적어도 하나에 접착제를 압착하여 몰드의 곡선 표면에 가뇨성 층을 순응시키게 압력을 적용함으로써, 광학적 곡선의 소자를 산출하는 것을 포함하고 있다.

여전히 더 이상의 양상에 있어서는, 방법이: 지지면을 가진 받침판을 마련하고; 받침판의 지지면 위쪽에 배치되는, 최소한도의 두께 x를 가지는 접착제 층을 마련하며; 접착제 층 위쪽에 배치되고, 광학 표면을 함유하며, 광학 표면을 바람직한 곡률에 순응시키고, x > y인 두께 y를 가지는 가뇨성 층을 마련하는 것을 포함하고 있는 광학적 곡선의 소자를 제조하는 방법이 개시된다.

본 발명의 하나의 특정한 실시양태에 있어서, 장치는, 광학적으로 평활한 가뇨성 층을 마련하고, 가뇨성 층을 바람직한 광학 이중 곡선 형상을 가진 몰드의 표면에 고정시키고, 접착제(몰드에 가뇨성 층의 광학 표면을 고정시키는 방법이 접착제가 몰드의 표면을 접촉하는 것을 방지한다)를 마련하고, 받침판을 접착제 상에 마련하여 받침판과 몰드의 적어도 하나에 압력을 적용하여 접착제를 압착해 몰드의 면에 가뇨성 층의 표면을 항구적으로 순응시키며, 그런 다음, 몰드를 제거하여 장치를 산출하게 됨으로써, 제조된다.

다시 말해, 여기에 제공되는 것은 재사용가능의 몰드로부터 그의 형상을 획득하는, 신규의 곡선 광학소자와, 제작의 방법이다. 유리하게, 가뇨성 층의 광학표면은 받침판의 지지면에 정확하게 순응시킬 필요가 없다. 게다가, 받침판은 광학 소자의 지주로부터 제거가능하다. 따라서, 본 발명의 원리에 따라, 즉, 재사용가능의 몰드가 채용되기 때문에, 그리고 받침판 곡률과 표면 마무리가 어렵지 않기 때문에 염가의 광학적 곡선의 표면을 제작할 수가 있다. 비교적 두꺼운 에폭시 층의 이용은 가뇨성 층을 몰드의 곡선 표면에 순응하게 한다. 여기에 사용되는 바와 같이, 비교적 두꺼운은, 접착제 층의 두께가 굽혀지게 될 광학 표면을 가진 가뇨성 층의 두께보다 두껍다는 의미이다.

본 발명에 따라, 평활한 광학 표면은 오목 표면, 볼록 표면, 환상 표면, 포물선 표면, 구상 표면 또는 타원체 표면 중의 하나를 함유하게 어떤 미리 선택된 형상에 굴곡될 수가 있다. 광학 표면은 유일한 곡선의 표면일 수가 있거나 또는 이중 곡선의 표면일 수가 있다. 가뇨성 층이 회절평면들을 가진 결정으로 이루어져 있는 경우, 그 회절평면들은 가뇨성 층의 광학 표면에 경사되거나 평행일 수가 있다.

(발명을실시하기위한최량의양태)

도 1에 보인 바와 같이, 곡선의 광학 장치는 가뇨성 층(10), 두꺼운 에폭시 층(12) 및 받침판(14)으로 이루어져 있다. 그 장치의 구조는 도 2에 수직 단면도로 나타내어 있다. 이 장치에 있어서는, 에폭시 층(12)이 가뇨성 층(10)을 곡률을 가진 선택의 형상에 보유하여 강제하고 있다. 바람직하게, 에폭시 층의 두께는 20㎛ 이상이며 가뇨성 층의 두께는 5㎛ 이상이다. 게다가, 에폭시 층의 두께는 전형적으로 가뇨성 층의 두께보다 더 두껍다. 가뇨성 층은 운모, Si, Ge, 석영, 플라스틱, 유리 등등을 포함하는, 다량의 다양한 재료들의 하나일 수가 있다.에폭시 층(12)은 10³내지 10⁴poise 와 30 내지 60 분 pot life의 순서의 점성를 가진 반죽 형(paste type)일 수가 있다. 받침판(14)은 에폭시와 잘 접착하는 고형의 물체일 수가 있다. 받침판의 표면(18)은 편평할 수도 있고(도 2) 또는 도 3에 보인 바와 같이 곡면일 수도 있으며, 그의 정확한 형상과 표면 마무리는 가뇨성 층의 형상과 표면 마무리에 중대하지 않다. 이는, 표면 즉 정확히 말해 장치의 바람직한 형상을 가진 받침판을 필요로 하는 표준의 제조 관례와 대조된다. 표준 수법에 대한 또다른 결점은 각 장치가 특별히 준비된 받침판을 필요로 한다는 점이다. 여기에 개시되는 발명에 있어서는, 특별히 준비된 받침판을 필요로 하지 않는다.

가뇨성 층의 요위물은, 가뇨성 층 가장자리 둘에에 사용되는 얇은 플라스틱(도 2 참조) 따위의, 얇은 판의 보호재(16)이어도 좋다. 그 보호재가 몰드를 보호하므로 몰드는 재사용가능하다. 보호재는 정확한 치수나 가뇨성 층 보다 작은 몰드에 대해 또는 희생적인 몰드에 대해 필요하지 않게 된다.

곡선 광학 장치의 제작 방법을 도 4a, 4b 및 4c에 개략적으로 도시한다. 이 방법에 있어서는, 광학적인 평활한 가뇨성 층(10)이 준비되며 그 것은 평활한 광학 표면을 가진 판이나 또는 표면에 평행하는 회절 평면들(도 5a 참조)을 가지거나 표면에 경사되는 회절 평면들(도 5b 참조)을 가진 결정 판이어도 좋다. 그리하여 (테이프 따위의) 이 판 플라스틱 보호재(16)를 가뇨성 층 가장자리 둘레에 도 4a에 보인 바와 같이 부착하게 되며, 그 다음 얇은 플라스틱 보호재(16)를 가진 가뇨성 층을 미리선택한 형상에 굴곡된 광학적인 평활한 표면(22)을 가진 볼록 몰드 상에 배치한다. 에폭시(12)를 준비하여 가뇨성 층과 받침판의 사이에 적용한다. 얇은 플라스틱 보호재(16)는 에폭시가 몰드 표면(22)에 접촉하여 몰드 표면에 접착하는 것을 방지하여 몰드를 재사용하게 한다. 고형의 받침판(14)을 에폭시 위에 위치시키고 압력을 그 판에 적용하여 가뇨성 층의 광학적으로 평활한 표면을 표면(22)의 형상에 순응하게 에폭시를 압착하게 된다. 우선의 방법은 에폭시의 점성이 폴리머화 단계 중에 증대하는 만큼 그 압력을 따라 점차 증대시킨다. 처리하는 동안, 에폭시는 실온(room temperature)이며 압력은 약 한시간의 경간에 기계적으로 적용된다. 에폭시의 경화시간은 대략 24 시간이며, 에폭시는 대략 0.001"/인치의 저수축 재료로 이루어져 있다.

두꺼운 에폭시 층은, 미리선택된 형상에 굴곡된 볼록 몰드 상에 가뇨성 층을 순응시키게 압력하의 고점성 흐름을 겪는다. 에폭시 층은 가뇨성 층과 받침판의 사이에 적용된다. 에폭시에 대한 압력은 받침판을 이용하여 에폭시를 압착함에 의하여 만들어낼 수 있다. 가뇨성 층이 에폭시 흐름의 압력하에 볼록 몰드와 양호한 접촉을 가지는 한, 에폭시가 경화되는 경우 가뇨성 층 상의 요철이 배제될 수 있으며 가뇨성 층의 형상이 유지될 수 있다. 우선의 실시양태에 있어서의 에폭시는 저 수축, 고 점성, 및 경화후의 고 치수 안정성의 특징이 있다. 대신, 이들 기준에 맞는 에폭시 외의 재료를 가뇨성 층을 접착하여 순응시키는 데 또한 사용할 수 있다.

우선의 실시양태의 몰드는 유리 또는 타의 경량의 투명재료로 제작되어서 가뇨성 층(24)의 광학적으로 평활한 표면과 볼록 표면(22) 간의 접촉을 저표면(26)에서 볼 수가 있다. 볼록 표면(22)에 관한 가뇨성 층의 광학 표면의 불평탄은 표면(26)을 통한 광의 조명하의 광학적 간섭 줄무늬(fringes)에 의해 드러내질 수가 있다. 에폭시가 경화되는 경우, 가뇨성 층을 에폭시와 받침판과 함께 몰드로부터 제거하여 최종의 장치를 만든다. 몰드는 고품질 몰드 표면을 이루게 손을 댄 다이아몬드이어도 좋다. 가뇨성 층의 형상은 몰드 표면의 형상에 의해 결정된다. 가뇨성 층은 몰드의 곡률에 영구히 순응한다. 몰드는 재사용될 수 있어 추가의 광학적 곡선의 장치들을 만들게 된다.

제작공정 중에는 받침판을 몰드에 신중히 정렬시켜 렌즈의 쉬운 정렬을 참작한다. 받침판의 가장자리들 또는 받침판 상의 타의 위치결정 점들은 곡선의 광학 소자에 대한 렌즈의 중심 및/또는 렌즈 배열을 발견하는 데 이용된다.

도 6a와 6b는, 도 5a와 5b에 각각 기재된 결정 슬래브의 두 형식에 상응하는 장치들의 최종 형상을 보이고 있다. 결정 장치는, 제작에 사용되는 결정 슬래브가 도 5a와 5b에 보인 형식들 중의 하나이고 상응하는 평면의 몰드의 곡률이 2R, 다만 R은 롤런드 원(Rowland circle))의 반경이면 롤런드 원의 평면에는 요한형 결정형상(Johann geometry)을 가진다. 결정의 회절 평면들은 결정의 표면에 평행(도 6a)이거나 경사(도 6b)될 수 있다. 결정 표면에 경사되는 회절 평면을 가지는 장치는 소스와 이미지가 결정에 관하여 롤런드 원 평면에서 비대칭이다.

이 방법에 있어서는, 가뇨성 층의 최종 곡률이 몰드(22)의 곡면의 곡률에 으해 결정되며 받침판의 형상에 의해 직접 결정되지는 않는다. 그러므로 받침판의곡률과 표면 마무리는 가뇨성 층의 곡률과 표면 마무리에 중대하지 않다. 몰드(22)의 곡면은 볼록이나 오목의 및 원환의, 구상의, 타원체상의, 또는 타의 광학 표면들일 수가 있으며, 따라서 가뇨성 층은 이들 형상의 어느 것에도 굴곡될 수가 있다.

결정이 가뇨성 층으로 사용되는 본 발명의 하나의 중대적용은 작은 x레이 소스로부터 특수한 파장의 x레이를 집중시키고 있다. 2지점간 집중 특성을 가진 이 형식의 장치는 도 7에 예시돼 있다. 이 장치에 있어서의 결정은 원환형상을 가지고 있고 결정은 롤런드 원(28)의 평면에 요한 결정형상을 만족시키며 소스 S와 이미지 I를 연결하는 선 주위에 축대칭을 또한 가지고 있다.

본 발명에 따른 x레이 결정 장치는, 선행기술에 있어서 얇은 접착 층에 생겨나는 요철의 영향의 배제 때문에 매우 균일한 이중 곡선의 결정을 제공하며, x레이 렌즈 적용용에 사용되는 경우 보다 양호한 성능을 부여한다.

본 발명을 그의 특정한 우선의 실시양태에 따라 상세히 설명하였는 바, 많은 변경과 변화가 기술에 숙련한 이들에 의해 실행될 수도 있다. 따라서, 본 발명의 참정신과 범위로 분류되는 그런 변경과 변화 모두를 첨부의 청구항들에 의해 보호할 작정이다.

Claims (33)

1. 받침판이 지지면을 가지고;

   접착제 층이 상기 지지면 위쪽에 배치되고, 상기 접착제 층은 최소한도의 두께 x를 가지며;

   가뇨성 층이 상기 접착제 층의 위쪽에 배치되고, 상기 가뇨성 층은 광학 표면으로 이루어지고, 상기 가뇨성 층의 상기 광학 표면은 바람직한 곡률을 가지며, 상기 가뇨성 층은 x > y인, 두께 y를 가지는,

   구성의 광학적 곡선의 소자.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 받침판의 상기 지지면이 곡률을 가지고 있고, 상기 지지면의 곡률이 상기 가뇨성 층의 상기 광학 표면의 상기 곡률과는 다른 광학적 곡선의 소자.
3. 제 1 항에 있어서,

   가뇨성 층의 상기 광학 표면이 상기 받침판의 상기 지지면 보다 더 평활한 광학적 곡선의 소자.
4. 제 1 항에 있어서,

   상기 받침판의 상기 지지면이 평탄 표면으로 이루어져 있는 광학적 곡선의소자.
5. 제 1 항에 있어서,

   상기 광학 표면을 가진 상기 가뇨성 층이 운모, 규소, 게르마늄, 석영, 유리, 플라스틱 또는 결정성 재료 중의 하나로 이루어져 있는 광학적 곡선의 소자.
6. 제 1 항에 있어서,

   상기 가뇨성 층의 상기 광학 표면이 광학적으로 평활한 표면으로 이루어져 있는 광학적 곡선의 소자.
7. 제 1 항에 있어서,

   상기 광학 표면이 볼록한 면, 오목한 면, 원환의 면, 포물선의 면, 구상의 면 또는 타원체의 면 중의 적어도 하나로 이루어져 있는 광학적 곡선의 소자.
8. 제 1 항에 있어서,

   상기 광학 표면이 단독 곡선의 표면이나 이중 곡선의 표면 중의 하나로 이루어져 있는 광학적 곡선의 소자.
9. 제 1 항에 있어서,

   상기 가뇨성 층이 회절 평면을 가진 결정으로 이루어져 있고, 상기 회절 평면이 상기 가뇨성 층의 상기 광학면에 경사되거나 평행인 광학적 곡선의 소자.
10. 제 1 항에 있어서,

    상기 접착제가 에폭시 재료로 이루어져 있으며, 상기 광학적 곡선의 소자가 상기 가뇨성 층의 가장자리를 요위하는 보호층을 더 함유하여 상기 접착제가, 그의 상기 가장자리를 요위하는 상기 보호층을 가진 상기 가뇨성 층과 상기 받침판의 상기 지지면의 사이에 배치될 정도의 광학적 곡선의 소자.
11. 제 1 항에 있어서,

    상기 접착제 층의 상기 최소한도의 두께 x가 20 ㎛ 이상이거나 또는 같은 광학적 곡선의 소자.
12. 제 1 항에 있어서,

    상기 가뇨성 층의 상기 두께 y가 5 ㎛ 이상이거나 또는 같은 광학적 곡선의 소자.
13. 제 1 항에 있어서,

    상기 가뇨성 층이 결정으로 이루어져 있고, 상기 접착제 층이 에폭시이며, 다만: 0.1 ㎜ ≤ x ≤ 1 ㎜이고 10 ㎛ ≤ y ≤ 50 ㎛ 인 광학적 곡선의 소자.
14. 제 13 항에 있어서,

    상기 받침판이 원통의 형상으로 이루어져 있는 광학적 곡선의 소자.
15. 거뇨성 층이 광학 표면으로 이루어지고, 상기 가뇨성 층의 광학 표면이 바람직한 곡률을 가지며, 상기 가뇨성 층이 두께 y를 가지며;

    접착제 층이 상기 광학 표면 보다는 상기 가뇨성 층의 주 표면에 배치되고, 상기 접착제 층이, x > y인 최소한도의 두께 x를 가지는,

    구성의 광학적 곡선의 소자.
16. 제 15 항에 있어서,

    상기 광학 표면을 가진 상기 가뇨성 층이 운모, 규소, 게르마늄, 석영, 유리, 플라스틱 또는 결정성 재료 중의 하나로 이루어져 있는 광학적 곡선의 소자.
17. 제 15 항에 있어서,

    상기 가뇨성 층의 상기 광학 표면이 광학적으로 평활한 표면으로 이루어져 있는 광학적 곡선의 소자.
18. 제 15 항에 있어서,

    상기 광학 표면이 볼록한 표면, 오목한 표면, 원환의 표면, 포물선의 표면,구상의 표면 또는 타원체의 표면 중의 적어도 하나로 이루어져 있는 광학적 곡서의 소자.
19. 제 15 항에 있어서,

    상기 광학 표면이 단독 곡선의 표면이나 이중 곡선의 표면 중의 하나로 이루어져 있는 광학적 곡선의 소자.
20. 제 15 항에 있어서,

    상기 가뇨성 층이 회절 평면을 가진 결정으로 이루어져 있고, 상기 회절 평면이 상기 가뇨성 층의 상기 광학 표면에 경사되거나 평행인 광학적 곡성의 소자.
21. 곡선 표면을 가진 몰드를 이용하여 광학적 곡성의 소자를 제조하는 방법으로서, 상기 방법이:

    광학 표면을 가진 가뇨성 층을 마련하고;

    지지면을 가진 받침판을 마련하여 상기 가뇨성 층을 상기 받침판의 상기 지지면과 상기 몰드의 곡선 표면의 사이에 배치하고;

    상기 가뇨성 층과 상기 받침판의 상기 지지면의 사이에 접착제를 적용하며;

    상기 받침판과 상기 몰드의 적어도 하나에 압력을 적용하여 상기 접착제를 압착하고 상기 몰드의 상기 곡선 표면에 상기 가뇨성 층을 순응하게 함으로써 상기 광학적 곡선의 소자를 산출하는,

    것으로 이루어지는 방법.
22. 제 21 항에 있어서,

    상기 가뇨성 층의 상기 광학 표면이 상기 압력의 상기 적용 전, 평탄 표면이나 곡선 표면 중의 하나로 이루어져 있는 방법.
23. 제 21 항에 있어서,

    상기 접착제가 에폭시로 이루어져 있고, 상기 방법이 상기 에폭시를 압력하에 있는 동안 경화시키는 것을 더 함유하는 방법.
24. 제 23 항에 있어서,

    상기 에폭시의 점성이 경화중 증대하는 만큼, 적용되는 상기 압력을 증대시키는 것을 더 함유하는 방법.
25. 제 21 항에 있어서,

    상기 가뇨성 층의 상기 광학 표면의 압축이 상기 몰드를 통해 보이게 될 정도로 상기 곡선 표면을 가진 상기 몰드가 투명재로 제조되는, 방법.
26. 제 21 항에 있어서,

    상기 몰드를 상기 가뇨성 층의 상기 광학 표면과의 접촉에서 제거하며 계속하여 상기 몰드를 별개의 광학적 곡선의 소자를 위한 제조공정에 재사용하는 것을 더 함유하는, 방법.
27. 제 21 항에 있어서,

    상기 곡선 표면이 갈리거나 다이아몬드 마무리되거나 또는 정확한, 바람직한 형상에 연마되는, 상기 곡선 표면을 가진 상기 몰드를 마련하는 것을 더 함유하는, 방법.
28. 제 21 항에 있어서,

    상기 가뇨성 층이 상기 몰드의 상기 곡선의 표면 면적 보다 작은 표면 면적을 가지며, 상기 방법이 상기 접착제를 상기 가뇨성 층과 상기 받침판의 상기 지지면의 사이에 배치하기 전에 상기 가뇨성 층의 적어도 하나의 가장자리 인접에 보호재를 마련하는 것을 더 함유하고, 상기 보호재가 접착제를 상기 몰드의 상기 곡선 표면을 접촉하는 것을 방지하게 되는 크기와 형상인, 방법.
29. 제 28 항에 있어서,

    상기 보호재가 가뇨성 박판재로 이루어져 있고, 상기 가뇨성 박판재는 테이프로 이루어지는, 방법.
30. 제 21 항에 있어서,

    상기 접착제의 상기 배치가 상기 가뇨성 층에 상기 접착제를 적용하거나 상기 받침판의 상기 지지면에 상기 접착제를 적용하는 적어도 하나로 이루어져 있는, 방법.
31. 제 21 항에 있어서,

    상기 몰드를 상기 가뇨성 층의 상기 광학 표면과의 접촉으로부터 제거하고, 상기 접착제를 경화시킨 다음 상기 받침판을 상기 접착제와의 접촉으로부터 제거하며, 계속하여 상기 받침판을 별개의 광학적 곡선의 소자를 위한 제조공정에 재사용하는 것을 더 함유하는, 방법.
32. 바람직한 파장의 방사를 회절시킬 수 있는 광학적 곡선의 소자를 제조하는 방법으로서, 상기 방법이:

    지지면을 가진 받침판을 마련하고;

    상기 받침판의 상기 지지면 위쪽에 배치되어 최소한도의 두께 x를 가지는 접착제 층을 마련하며;

    상기 접착제 층의 위쪽에 배치되고, 광학 표면으로 이루어지며, 상기 광학 표면을 바람직한 곡률에 순응시키고, x > y인 두께 y를 가지는, 가뇨성 층을 마련하는 것,

    으로 이루어지는 방법.
33. 제 32 항에 있어서,

    상기 가뇨성 층의 상기 광학 표면을 상기 비람직한 곡률에 순응시키게 상기 접착제 층 위쪽에 상기 가뇨성 층을 마련한 다음 상기 받침판을 상기 접착제 층과의 접촉으로부터 제거하는 것을 더 함유하는, 방법.