KR20010100006A - Bczt 유전체를 포함하는 컨덴서 - Google Patents
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- 239000003990 capacitor Substances 0.000 title claims abstract description 31
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims abstract description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 11
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims 1
- 238000004814 ceramic processing Methods 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 description 2
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- -1 water vapor saturated nitrogen Chemical class 0.000 description 2
- QLCJOAMJPCOIDI-UHFFFAOYSA-N 1-(butoxymethoxy)butane Chemical compound CCCCOCOCCCC QLCJOAMJPCOIDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLDUZMNCEGHSBP-UHFFFAOYSA-N 2-(2-octylphenoxy)ethanol Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=CC=C1OCCO GLDUZMNCEGHSBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 239000004902 Softening Agent Substances 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000000975 co-precipitation Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003891 oxalate salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 1
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/018—Dielectrics
- H01G4/06—Solid dielectrics
- H01G4/08—Inorganic dielectrics
- H01G4/12—Ceramic dielectrics
- H01G4/1209—Ceramic dielectrics characterised by the ceramic dielectric material
- H01G4/1218—Ceramic dielectrics characterised by the ceramic dielectric material based on titanium oxides or titanates
- H01G4/1227—Ceramic dielectrics characterised by the ceramic dielectric material based on titanium oxides or titanates based on alkaline earth titanates
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- Inorganic Insulating Materials (AREA)
Abstract
본 발명은, 유전체가 주로 기본재질로서 바륨-칼슘-망간-지르콘-티탄산염이 포함된 유전성 세라믹 처리물질을 포함하며, 상기 기본물질은 0 < a ≤0.25, c-0.5d ≤b ≤0.015, 0.001 ≤c ≤0.01, 0.005 ≤d ≤0.02, 0 < x ≤0.20, 1.001 ≤y ≤1.014, 0.0005 ≤z ≤0.03인과 같은 조성물을 가지며 다른 첨가물로서 양(z)이 0.0005 ≤z ≤0.03 몰/화학식단위인
Description
다층컨덴서는 무엇보다도 프로세서, 특히 고성능마이크로프로세서의 전원공급의 완충 및 디커플링에 사용된다. 고성능 범위에서의 운전 중에 상기 전자 부품은 다량의 열을 발생시키므로 철저한 냉각에도 불구하고 고성능마이크로프로세서의 온도는 연속운전 상태에서 70℃ 내지 80℃이다. 사양 Y5V에 따른 종래 방식의 다층컨덴서는 80℃의 운전온도에서 자신의 정격용량의 단지 20% 만을 갖는다(△C80%). 따라서 마이크로프로세서의 제조에는 사양 X7R에 따른 컨덴서가 선호되는데, 그 이유는 이 컨덴서가 125℃의 운전온도에서 자신의 정격용량의 85%를 갖기 때문이다(△C < ±15%). 하지만 실온에서 X7R 컨덴서의 비용량(specific capacity)은 사양 Y5V에 다른 컨덴서보다 약 5배정도 낮고 이로 인해 X7R-컨덴서의 치수는 커져야 하는데, 예를 들어 1㎌ X7R-컨덴서의 치수는 적어도 부품치수 1206(길이 0.12인치, 너비 0.06인치)에 상응해야 한다. 따라서 현재까지는 용량이 5㎌를초과하는 경우 비싼 탄탈 컨덴서만이 사용될 수 있었다.
도핑(doping)된계열의 복수의 세라믹 층과 주로 니켈을 포함하는 복수의 전극층을 포함하는 세라믹 다층컨덴서는 WO 98/54737에 이미 개시된 바 있는데, 여기서 상기 세라믹 층과 전극층은 교호적으로 적층되어 있어, 이것들은 다층구조를 이루며 이 다층구조의 양측면에는 전기 커넥터가 장착되어 있고, 이 커넥터는 전극층과 접촉하며 이 다층구조의 경우 도핑된의 주성분은 일반적인 화학식{}을 갖는다. 상기 컨덴서는 고온의 직렬용으로 적합하다.
본 발명은, 유전체가 기본재질로서 주로 바륨-칼슘-망간-지르콘-티탄산염이 포함된 유전성 조성물(dielectric composition)을 포함하며, 비귀금속으로 이루어진 내측 전극과 세라믹 유전체가 포함된 컨덴서, 특히 다층컨덴서에 관한 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 콘덴서의 실시예에 대한 횡단면도.
본 발명의 과제는 유전체가 주로 기본재질로서 바륨-칼슘-망간-지르콘-티탄산염이 포함된 유전성 세라믹 처리물질을 포함하며, 세라믹 유전체와 적어도 두 개의 전극을 갖는 종래 방식의 컨덴서보다 치수가 작은 고온 직렬용 컨덴서를 제공하는 것이다.
상기 과제는 본 발명에 따라 세라믹 유전체와 적어도 두 개의 전극을 포함하는 컨덴서를 통해 해결되는데, 여기서 유전체는 주로 기본재질로서 바륨-칼슘-망간-지르콘-티탄산염이 포함된 유전성 세라믹 처리물질을 포함하며, 이 기본물질은 0 < a ≤0.25, c-0.5d ≤b ≤0.015, 0.001 ≤c ≤0.01, 0.005 ≤d ≤0.02, 0 <x ≤0.20, 1.001 ≤y ≤1.014, 0.0005 ≤z ≤0.03인과 같은 조성물을 가지며 다른 첨가물로서양(amount)(z)이 0.0005 ≤z ≤0.03몰/화학식단위(mol/formula unit)인를 포함한다.
이런 종류의 유전성 세라믹 처리물질은 1200℃의 낮은 소결온도(sintering temperature)를 특징으로 한다. 이런 처리물질의 입자는 미세하므로 상기 처리물질은 매우 얇은 유전성 층의 제작에 적합하다. 이런 재질로 이루어진 유전체를 포함하는 컨덴서는 100V/㎛ 미만의 매우 높은 파괴전압을 가지며 컨덴서가 직류에서 사용되는 경우 수명이 길다. 따라서 이런 유전성 세라믹 조성물이 포함된 컨덴서는 작은 치수로도 큰 용량을 가질 뿐 아니라 동시에 수명도 길다.
본 발명에서 전극은 니켈 또는 니켈함유성 합금을 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명은 이하에서 도면에 의거하여 더욱 자세히 설명될 것이다.
바람직한 실시예의 경우 본 발명에 따른 컨덴서는 다층컨덴서이다. 본 발명에 따른 세라믹 다층컨덴서는 두께가 5㎛ 이하인 복수의 산화 유전층과 유전체에서 층상으로 서로 겹겹이 배열되고 유전체의 두 개의 대향 끝면으로 교호적으로 뻗어 있는 복수의 내측 전극(2)을 포함하는 세라믹 유전체(1)를 포함한다. 세라믹 유전체의 끝면에는 상응하는 내측 금속 전극과 연결되는 금속 접촉전극(3)이 외측 터미널로서 형성되어 있다.
제조는 세라믹 컨덴서에 적용되는 통상적인 제조기술에 따라 이루어지는데, 여기서 원하는 형태나 치수, 추구되는 정확도나 적용분야에 따라 수 많은 제조변형이 가능하다.
세라믹 유전체에 사용되는 재질은 기본재질로서 바륨-칼슘-망간-지르콘-티탄산염이 포함된 유전성 세라믹 처리물질인데, 이 기본재질은 0 < a ≤0.25, c-0.5d ≤b ≤0.015, 0.001 ≤c ≤0.01, 0.005 ≤d ≤0.002, 0 <x ≤0.20, 1.001 ≤y ≤1.014, 0.0005 ≤z ≤0.03인과 같은 조성물을 가지며 다른 첨가물로서 양(z)이 0.0005 ≤z ≤0.03몰/화학식단위인를 포함한다.
전극의 재질 선택에는 별다른 제약이 없으므로 한 종류의 금속이나 또는 일반적으로 사용되는 두 종류 또는 여러 종류의 금속의 조합을 사용할 수 있다. 상기 전극은 백금, 팔라듐, 금 또는 은과 같은 귀금속을 포함할 수 있다. 상기 전극은 크롬, 지르코늄, 바나듐, 아연, 구리, 주석, 납, 망간, 몰리브덴, 텅스텐, 티탄 또는 알미늄을 포함할 수 있다. 바람직하게는 상기 전극은 니켈, 철, 코발트 및 이것들의 합금에서 선택된 비귀금속을 포함한다.
유전성 세라믹 처리물질의 제조는 예를 들어 혼합산화물방식, 준석출방식(co-precipitation method)), 스프레이건조법, 졸/겔 방식, 열수방식(hydrothermal method) 또는 알콕사이드 방식과 같은 일반적인 분말제조 방법에 따라 이루어진다. 이 중에서도 예를 들어 탄산염, 수산화물,옥살산염(oxalates) 또는 아세트산염(acetates)과 같은 열분해가 가능한 결합물 또는 초기산화물이 혼합되고 분쇄되는 혼합산화물방식이 선호된다. 그 다음 과정에서 초기분말이 1000℃ 내지 1400℃에서 하소된다(calcine).
녹색 바디로 성형하기 위해 마찬가지로 모든 일반적인 방법이 사용될 수 있다. 세라믹 다층컨덴서의 경우에는 성형을 위해 하소된 분말에서 우선 서스펜션이 제조되는데, 이 서스펜션은 분말외에도 다른 구성요소로서 용매, 결합제 및 경우에 따라서는 연화제 및 해교제(dispersing agent)를 포함한다. 상기 용매는 예를 들어 물, 알코올, 톨루올, 크실올 또는 트리클로르에틸렌일 수 있다. 결합제로는 일반적으로 폴리비닐알코올, 폴리비닐부틸알 또는 폴리메틸메트아크릴레이트와 같은 유기성 폴리머가 사용된다. 연화제로서 글리세린, 폴리글리콜 또는 프탈레이트가 사용될 수 있다. 이외에도 알킬아릴폴리에테르알코올, 폴리에틸렌글리콜에틸에테르 또는 옥틸페녹시에탄올과 같은 해교제가 상기 서스펜션에 첨가될 수 있다.
선호되는 방법인 호일주조방법에 따라 상기 서스펜션에서 녹색의 세라믹 호일이 제조된다. 상기 호일주조방법에서 서스펜션은 움직이는 캐리어표면에 주조된다. 용매가 증발된 후에는 바인더 시스템에 따라 다소 유연한 호일이 남게 되는데, 이것은 절단 후 실크-스크린(silk-screening) 방식에 따라 내측 전극의 주형에서 금속 페이스트로 프린트되고 적층된다. 상기 적층물에서 각각의 다층컨덴서를 절단한다. 이것은 우선 약한 환원성 대기에서 1100℃ 내지 1400℃의 온도로 소결되고 그 다음 약한 산화성 대기에서 600℃ 내지 1100℃의 온도로 템퍼링(tempering)된다. 약한 환원성 대기로는 0.5 Vol% 내지 2 Vol%의 수소가 첨가된 수증기 포화 질소가 사용되며 약한 산화성 대기로는 5 ppm 내지 100 ppm의 산소가 포함된 질소가 사용된다.
외측 전극을 형성하기 위해 컨덴서의 끝면에 예를 들어 니켈을 포함하는 금속 페이스트를 도포하고 버닝시킨다(burning). 하지만 외측 전극은 예를 들어 금으로 이루어진 금속층의 증착(vapor-deposition)을 통해서도 형성될 수 있다.
본 발명에 따른 컨덴서의 특성화를 위해 이미 알려진 방식에 따라 25℃에서 용량(C)과 손실율(loss factor)( tan∂)이 측정된다. 수명은 105℃ 및 27V/㎛에서 가속화된 수명시험(ALT)을 통해 측정된다. 이를 위해 CrNi 및 Au(50㎚)로 이루어진 전극과 접촉하는 지름 5mm, 층두께가 0.05mm인 시험펠릿(test pellet)이 제조되고, 105℃로 가열되는데, 이때 27V/㎛의 전압이 공급된다. 여기에서 전류를 측정하는데, 이 전류를 통해 절연저항을 계산할 수 있다. 시험 개시 후 초기에는 절연저항이 높다. 시간이 경과함에 따라 절연저항은 높은 수준으로 일정하게 유지된다. 일정한 특징적 일산기간(degradation period)이 경과한 후에 비로소 절연저항이 낮아지기 시작한다. 누설전류는 지금까지의 측정시간에 비해 단기간에 급격하게 증가한다. 수명은 누설전류가 10제곱만큼 증가한 시간으로 정의된다.
(실시예 1)
다층컨덴서의 제조를 위해 우선 슬러리(slurry)가 준비되어야 한다. 이를 위해 표 1에 따른가 포함된 화학식으로 정의되는 고순도및의 중량을 저울로측정하고, 폴리프로필렌병에서 젖은 상태로 분쇄하고, 건조시킨 후 강옥 도가니에서 1000℃로 4시간 동안 하소시킨다.
a | b | c | d | x | y | z | |
14 | 0.2 | 0.001 | 0.006 | 0.01 | 0.04 | 1.009 | 0.015 |
15 | 0.2 | 0.001 | 0.006 | 0.003 | 0.04 | 1.009 | 0.015 |
16 | 0.2 | 0.001 | 0.001 | 0.01 | 0.04 | 1.009 | 0.015 |
17 | 0.2 | 0.001 | 0.006 | 0.022 | 0.04 | 1.009 | 0.015 |
18 | 0.2 | 0.001 | 0.006 | 0.01 | 0.04 | 1.016 | 0.015 |
19 | 0.2 | 0.001 | 0.006 | 0.01 | 0.04 | 1.003 | 0.015 |
20 | 0.2 | 0.001 | 0.006 | 0.01 | 0.04 | 1.009 | 0.005 |
21 | 0.2 | 0.001 | 0.006 | 0.01 | 0.04 | 1.009 | 0.03 |
그 다음 평균입자의 크기가 0.5㎛가 되도록 분말을 분쇄한다. 그 다음 분말을 용매, 해교제 및 결합제와 함께 슬러리가 되도록 젓는다.
상기 슬러리는 닥터 블레이드법(Doctor blade method)에 따라 캐리어호일에 주조된다. 이렇게 형성된 녹색 세라믹호일은 건조되고 절단된 후에 전극층을 위해 니켈 페이스트로 프린트된다. 이렇게 프린트된 호일은 적층되고 녹색 플레이트로 압축되며 이 압축된 플레이트는 절단된 후에 4시간 동안 1200℃에서 수소함유성의 습기있는 환원성 대기에서 Po2= 1.183 ×10-10Pa의 산소분압으로 소결된다. 접촉을 위해 컨덴서의 측면은 은 페이스트로 칠해진다. 유전 특성에 대한 측정값은 표 2에 기술되어 있다.
C(㎌)25℃ | tan∂% | I.R.MΩ | B.V.V/㎛ | 수명27V/㎛ | |
14 | 23.5 | 7 | 2 ×103 | 110 | 50 |
15 | 24.6 | 8 | 1 ×103 | 20 | 12 |
16 | 24.1 | 8.4 | 8 ×103 | 50 | 5 |
17 | 17.6 | 5.6 | 5 ×103 | 115 | 50 |
18 | 16.5 | 4.3 | 5 ×103 | 130 | 50 |
19 | 25.6 | 10.1 | 1 ×103 | 70 | 38 |
20 | 22.5 | 8.6 | 2 ×103 | 100 | 50 |
21 | 26.5 | 9.2 | 2 ×103 | 43 | 7 |
(실시예 2)
유전 특성을 측정하기 위해 세라믹 펠릿도 표 3에 따른 조성에 따라 제조된다.
a | b | c | d | x | y | z | |
1 | 0.2 | 0.01 | 0.006 | 0.01 | 0.04 | 1.01 | 0 |
2 | 0.2 | 0.01 | 0.006 | 0.01 | 0.04 | 1.01 | 0.03 |
3 | 0.2 | 0.01 | 0.012 | 0.01 | 0.04 | 1.009 | 0.015 |
4 | 0.2 | 0.01 | 0.001 | 0.01 | 0.04 | 1.009 | 0.015 |
5 | 0.2 | 0.01 | 0.006 | 0.01 | 0.04 | 1.0 | 0.015 |
6 | 0.2 | 0.01 | 0.006 | 0.01 | 0.04 | 1.016 | 0.015 |
7 | 0.2 | 0.01 | 0.006 | 0.022 | 0.04 | 1.09 | 0.015 |
8 | 0.2 | 0.01 | 0.006 | 0.003 | 0.04 | 1.009 | 0.015 |
9 | 0.2 | 0.016 | 0.006 | 0.01 | 0.04 | 1.009 | 0.015 |
10 | 0.2 | 0.002 | 0.006 | 0.01 | 0.04 | 1.009 | 0.015 |
11 | 0.1 | 0.01 | 0.006 | 0.01 | 0.04 | 1.009 | 0.015 |
12 | 0.2 | 0.01 | 0.006 | 0.01 | 0.013 | 1.009 | 0.015 |
13 | 0.2 | 0.01 | 0.006 | 0.01 | 0.04 | 1.009 | 0.015 |
하소된 분말은 지름 7mm의 원판으로 압착되며 실시예 1의 조건으로 소결된다. 유전 특성 시험의 결과는 표 4에 요약되어 있다.
K25℃ | tan∂% | I.R.MΩ | 밀도g/cm3 | G.S.㎛ | |
1 | 4500 | 0.4 | 1 ×103 | 5.56 | 1 |
2 | 11000 | 1.5 | 1 ×103 | 5.91 | 5 |
3 | 12000 | 3.5 | 1 ×103 | 5.92 | 3 |
4 | 10000 | 1.0 | 1 ×103 | 5.90 | 3 |
5 | 4000 | 0.3 | 1 ×103 | 5.5 | 1 |
6 | 7500 | 0.4 | 2 ×103 | 5.90 | 1.5 |
7 | 6300 | 0.5 | 3 ×103 | 5.91 | 1.5 |
8 | 11000 | 1.0 | 4 ×103 | 5.91 | 3 |
9 | 5700 | 0.4 | 5 ×103 | 5.92 | 1.5 |
10 | 14500 | 1.1 | 1 ×103 | 5.91 | 5 |
11 | 10300 | 2.1 | 2 ×103 | 5.90 | 1.5 |
12 | 7600 | 0.7 | 3 ×103 | 5.83 | 2.5 |
13 | 10500 | 0.7 | 5 ×103 | 5.92 | 2 |
상술한 바와 같이, 본 발명에 의해, 유전체는 주로 기본재질로서 바륨-칼슘-망간-지르콘-티탄산염이 포함된 유전성 세라믹 처리물질을 포함하며, 세라믹 유전체와 적어도 두 개의 전극을 갖는 종래 방식의 컨덴서보다 치수가 작은 고온 직렬용 컨덴서를 제공할 수 있다.
Claims (4)
- 세라믹 유전체와 적어도 두 개의 전극을 포함하는 컨덴서로서.유전체는 주로 기본재질로서 바륨-칼슘-망간-지르콘-티탄산염이 포함된 유전성 세라믹 처리물질을 포함하며, 상기 기본물질은 0 < a ≤0.25, c-0.5d ≤b ≤0.015, 0.001 ≤c ≤0.01, 0.005 ≤d ≤0.02, 0 < x ≤0.20, 1.001 ≤y ≤1.014, 0.0005 ≤z ≤0.03인과 같은 조성물(composition)을 가지며 다른 첨가물로서 양(z)이 0.0005 ≤z ≤0.03 몰/화학식단위(mol/formula unit)인를 포함하는, 컨덴서.
- 제 1항에 있어서, 상기 전극은 니켈 또는 니켈함유성 합금을 포함하는 것을 특징으로 하는, 컨덴서.
- 세라믹 분말로서,0 < a ≤0.25, c-0.5d ≤b ≤0.015, 0.001 ≤c ≤0.01, 0.005 ≤d ≤0.02, 0 < x ≤0.20, 1.001 ≤y ≤1.014인과 같은 조성물을 갖는, 세라믹 분말.
- 제 3항에 있어서, 상기 분말은 다른 첨가물로서 양(z)이 0.0005 ≤z ≤0.03몰/화학식단위인를 포함하는 것을 특징으로 하는, 분말.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19952134.4 | 1999-10-29 | ||
DE19952134A DE19952134A1 (de) | 1999-10-29 | 1999-10-29 | Kondensator mit BCZT-Dielektrikum |
PCT/EP2000/008171 WO2001033587A1 (de) | 1999-10-29 | 2000-08-18 | Kondensator mit bczt-dielektrikum |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20010100006A true KR20010100006A (ko) | 2001-11-09 |
Family
ID=7927308
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020017008306A KR20010100006A (ko) | 1999-10-29 | 2000-08-18 | Bczt 유전체를 포함하는 컨덴서 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6437970B1 (ko) |
EP (1) | EP1145261A1 (ko) |
JP (1) | JP2003526201A (ko) |
KR (1) | KR20010100006A (ko) |
DE (1) | DE19952134A1 (ko) |
TW (1) | TW480503B (ko) |
WO (1) | WO2001033587A1 (ko) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW492017B (en) * | 2000-06-29 | 2002-06-21 | Tdk Corp | Dielectrics porcelain composition and electronic parts |
US6985347B2 (en) * | 2002-02-28 | 2006-01-10 | Greatbatch-Sierra, Inc. | EMI filter capacitors designed for direct body fluid exposure |
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CN107244912B (zh) * | 2017-06-06 | 2020-07-14 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种新型bczt基储能陶瓷材料及其制备方法和应用 |
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CN111153696A (zh) * | 2020-01-06 | 2020-05-15 | 天津大学 | 一种低温烧结的锆钛酸钡钙基无铅高储能效率陶瓷材料 |
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-
1999
- 1999-10-29 DE DE19952134A patent/DE19952134A1/de not_active Withdrawn
-
2000
- 2000-08-18 US US09/869,387 patent/US6437970B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-08-18 JP JP2001535192A patent/JP2003526201A/ja not_active Withdrawn
- 2000-08-18 WO PCT/EP2000/008171 patent/WO2001033587A1/de not_active Application Discontinuation
- 2000-08-18 EP EP00902669A patent/EP1145261A1/de not_active Withdrawn
- 2000-08-18 KR KR1020017008306A patent/KR20010100006A/ko not_active Application Discontinuation
- 2000-11-08 TW TW089123608A patent/TW480503B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2001033587A1 (de) | 2001-05-10 |
US6437970B1 (en) | 2002-08-20 |
EP1145261A1 (de) | 2001-10-17 |
TW480503B (en) | 2002-03-21 |
JP2003526201A (ja) | 2003-09-02 |
DE19952134A1 (de) | 2001-05-03 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |