KR20010071568A - 물품을 운송하는 컨베이어 시스템의 루프내에 방사선 차단재의 중간 벽을 갖는 물품 조사 시스템 - Google Patents

물품을 운송하는 컨베이어 시스템의 루프내에 방사선 차단재의 중간 벽을 갖는 물품 조사 시스템 Download PDF

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KR20010071568A
KR20010071568A KR1020007014612A KR20007014612A KR20010071568A KR 20010071568 A KR20010071568 A KR 20010071568A KR 1020007014612 A KR1020007014612 A KR 1020007014612A KR 20007014612 A KR20007014612 A KR 20007014612A KR 20010071568 A KR20010071568 A KR 20010071568A
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Abstract

본 발명의 물품 조사 시스템은 타겟 영역(20)을 방사선으로 주사하기 위해 위치된 방사선 소스(10)와, 상기 타겟 영역(20)을 통해 소정 방향으로 물품을 운송하기 위해 위치된 처리 컨베이어(24)를 구비하는 컨베이어 시스템(12)과, 방사선 소스(10)와 타겟 영역(20)과 컨베이어 시스템(12)의 일부를 포함하는 챔버(15)를 형성하는 방사선 차단 재료 및, 루프(26)내에 위치되고 대략 수평축을 횡단하는 방사선 차단 재료의 중간 벽(16)을 포함하고, 상기 방사선 소스(10)는 상기 컨베이어 시스템(12)의 일부로 형성된 루프(26)내측에서 대략 수평축을 따라 배치되고 처리 컨베이어(24)에 의해 소정 운송 방향을 횡단하는 평면에서 주사된 방사선으로 상기 타겟 영역(20)을 통해 운송되는 물품을 주사한다. 상기 중간 벽(16)은 챔버(15)의 실링을 지지하고, 소정 벽(14A)에 배치된 비임 스톱(40)으로부터 발광된 포톤이 챔버(15)의 적어도 하나의 다른 벽(14C)에 부딪치는 것을 방지하며, 방사선 소스(10)로부터 타겟 영역(20)으로 유도되는 오존의 챔버(15)를 통과하는 흐름을 제한한다.

Description

물품을 운송하는 컨베이어 시스템의 루프내에 방사선 차단 재료의 중간 벽을 갖는 물품 조사 시스템{Article irradiation system having intermediate wall of radiation shielding material within loop of a conveyor system that transports the articles}
타겟 영역을 통하여 물품을 운송하기 위해 컨베이어 시스템을 활용하는 종래 기술의 조사 시스템은 펙크(Peck) 등에게 허여된 미국 특허 제5,396,074호에 기술되어 있다. 이 종래 기술의 시스템에서, 방사선 소스와 컨베이어 시스템의 일부는 콘크리트 벽으로 형성된 챔버에 배치되어 있고, 이 콘크리트 벽과 컨베이어 시스템 차단 로딩 및 언로딩 영역을 위해 챔버에서 각진 통로를 형성하는 부가의 콘크리트 벽은 방사선 소스로부터 유도된 방사선으로부터 챔버의 외측에 배치된다.
본 발명은 방사선 소스로부터 방사선에 의해 주사된 타겟 영역을 통하여 물품을 운송하기 위해 컨베이어 시스템을 활용하는 조사 시스템에 관한 것이며, 특히 상기 시스템의 방사선 차단 재료를 위치시키는 시스템에 관한 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 조사 시스템의 적합한 실시예의 개략 상부 평면도.
도 2는 도 1의 선 2-2를 따라 절취한 조사 시스템의 일부를 도시하고 도 1에 도시된 것과 다른 위치에서 물품 캐리어를 더 도시한 개략 단면도.
본 발명은 물품 조사 시스템을 제공하는 것이며, 이 물품 조사 시스템은 방사선으로 타겟 영역을 주사하기 위해 배치된 방사선 소스와, 타겟 영역을 통해서소정 방향으로 물품을 운송하기 위해 배치된 처리 컨베이어를 구비하는 컨베이어 시스템과, 방사선 소스와 타겟 영역과 컨베이어 시스템이 일부를 포함하는 챔버를 형성하는 방사선 차단 재료, 및 루프내에 위치되고 대략 수평축을 횡단하는 방사선 차단 재료의 중간 벽을 포함하고, 상기 방사선 소스는 컨베이어 시스템의 일부로 형성된 루프 내측에서 대략 수평축을 따라 배치되고 컨베이어 시스템에 의해 소정 운송 방향을 횡단하는 평면에서 주사된 방사선과 함께 타겟 영역을 통해 운송되는 물품을 주사한다.
중간 벽은 챔버의 실링(ceiling ; 천정)을 지지하고, 챔버의 소정 벽에 배치된 비임 스톱으로부터 발광된 포톤이 챔버의 적어도 하나의 부가의 벽상에 부딪치는 것을 방지하며, 방사선 소스로부터 타겟 영역에서 유도된 오존 챔버를 통과하는 흐름을 제한한다.
본 발명의 다른 특징은 적합한 실시예의 상세한 설명을 참조하여 기술된다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 조사 시스템의 적합한 실시예는 방사선 소스(10), 컨베이어 시스템(12), 챔버를 형성하는 방사선 차단 재료(14) 및 방사선 차단 재료의 중간 벽(16)을 포함한다. 물품 캐리어(17)에 의해 운반되는물품은 로딩 영역(18)으로부터 화살표로 표시된 방향으로 타겟 영역(20)을 거쳐서 언로딩 영역(22)까지 컨베이어 시스템(12)에 의해 운송된다. 컨베이어 시스템(12)은 타겟 영역(20)을 통해서 소정 방향으로 물품 캐리어(17)에 의해 운반되는 물품을 운송하기 위한 처리 컨베이어(24)를 포함한다.
방사선 소스(10)는 컨베이어 시스템(12)에 의해 타겟 영역(20)을 통해서 운송되는 물품을 조사하기 위해 전자 비임을 제공하는 전자 악셀러레이팅 웨이브 가이드를 갖는 10,000,000-전자-볼트 선형 악셀레이터이다. 방사선 소스(10)는 컨베이어 시스템(12)의 일부에 의해 형성된 루프(26) 내측에서 대략 수평축(25)을 따라 배치되고, 컨베이어 시스템(12)에 의해 운송되는 방향과 수직한 평면에서 소정 속도로 전자 비임과 함께 타겟 영역(20)을 통해서 운송되는 물품을 주사한다. 전자 비임의 주사 높이와 전류는 주사되는 물품의 방사선 흡수 특성과 높이에 따라 조절된다. 전자 비임에 의한 물품의 주사는 상기 미국 특허 제5,396,074호 공보에 기술된 바와 같이 제어된다. 악셀레이터는 제거가능한 실드의 내측에 배치되어 내부 벽에 의해 오존과 이온화 방사선으로부터 보호된다. 다른 실시예에서, 방사선 소스는 X-선과 같은 전자 비임 이외의 방사선 형태를 갖는 물품을 주사한다.
컨베이어 시스템(12)은 전체를 통하여 파워-앤드-프리(power-and-free) 컨베이어를 포함하고, 처리 컨베이어(24)에 더하여 로드 컨베이어(28)를 더 포함하며, 이들 세개 모두는 독립적으로 전원 공급된다. 파워-앤드-프리 컨베이어는 제 1 소정 속도로 처리 컨베이어(24)로부터 언로딩 영역(22)과 로딩 영역(18)을 통하여 타겟 영역(20)까지 물품 캐리어(17)를 운송하기 위한 운송 컨베이어로서 작용한다.처리 컨베이어(24)는 물품 캐리어(17)가 운송 컨베이어에 의해 운송되는 제 1 소정 속도와는 다른 제 2 소정 속도로 물품 캐리어(17)를 타겟 영역(20)을 통하여 운송한다. 로드 컨베이어(28)는 물품 캐리어(17)가 처리 컨베이어(24)상에 위치될때 인접하게 위치된 물품 캐리어(17)사이에서 소정 독립 거리가 되도록 운송중에 변화하는 속도로 물품 캐리어(17)를 운송 컨베이어로부터 처리 컨베이어(24)까지 운송한다. 물품 캐리어(17)가 처리 컨베이어(24)상에 위치될때, 로드 컨베이어(28)는 처리 컨베이어(24)의 상기 속도로 물품 캐리어(17)를 운송한다. 상기 컨베이어 시스템(12)과 그 동작은 상기 미국 특허 제5,396,074호에 상세히 기술되어 있다.
상기 물품이 대향 측면으로부터 조사되도록 타겟 영역(20)을 통해서 재운송하기 위해 물품을 재배향시키기 위하여, 상기 물품을 운반하는 물품 캐리어(17)가 타겟 영역(20)을 통해서만 운송되게 배향되어 검출될시에, 상기 물품 캐리어(17)는 리루트(reroute) 컨베이어 섹션(30)상에서 역전된 다음에, 타겟 영역(20)을 통하여 재운송하기 위해 180도까지 그렇게 배향된 물품 캐리어(17)를 재배향시키는 메카니즘(32)을 지나서 운송 컨베이어까지 운송된다. 물품 캐리어(17)의 배향을 검출하기 위한 수단과 재배향 메카니즘(32)은 펙크(Peck)등에게 허여된 미국 특허 제5,396,074호에 또한 기술되어 있다.
방사선 차단 재료(14)는 벽(14A, 14B, 14C)과, 플로어(14D), 및 처리 컨베이어(24)와 로드 컨베이어(28) 및 운송 컨베이어의 인접한 부분을 포함하는 컨베이어 시스템(12)의 적어도 일부와 타겟 영역(20) 및 방사선 소스(10)를 포함하는 챔버(15)를 형성하는 실링(14E ; 천정)을 포함한다. 방사선 차단 재료의 부가의벽(14F)은 컨베이어 시스템(12)을 위한 챔버(15)에 각진 통로(36)를 형성하고, 챔버(15)의 외측에 배치된 로딩 영역(18)과 언로딩 영역(22)을 방사선 소스(10)에서 유도된 방사선으로부터 차단한다.
중간벽(16)은 루프(26)내에 위치되어 방사선 소스(10)의 대략 수평축(25)을 횡단한다. 방사선 차단 재료(14)의 실링 섹션(14E)은 중간벽(16)에 의해 부분적으로 지지되고, 이에의해 하부 챔버(15)는 상기 지지체없이 허용되는 것보다 커다란 영역을 이루며, 실링 섹션(14E)은 상기 지지체없이 허용되는 것보다 커다란 스팬 및/또는 커다란 중량을 이룬다.
적합하게는, 방사선 차단 재료(14A, 14B, 14C, 14D, 14E, 14F(집합적으로 14라함), 16)는 비용때문에 주로 콘크리트이다. 그러나, 다른 형태의 방사선 차단 재료는 스틸과 같은 다른 요구 조건의 관점에서 공간이 제한될때 사용된다. 대안적인 실시예에서, 몇몇의 방사선 차단 재료는 콘크리트이거나 그렇지 않다. 예를 들면, 다른 하나의 실시예에 있어서, 중간 벽(16)은 제한된 요구 조건에 따라 선택된 스틸과 같은 콘크리트 이외의 다른 방사선 차단 재료의 형태인 반면에, 방사선 차단 재료(14)의 나머지는 콘트리트이다.
비임 스톱(40)은 전자 비임 방사선 소스(10)로부터 타겟 영역(20)의 대향 측면상에 있는 방사선 차단 재료의 벽(14A)에서 리세스(42)내에 배치된다. 비임 스톱(40)은 전자를 흡수하는 알루미늄과 같은 재료로 만들어지고, 흡수된 전자의 에너지를 비임 스톱(40)으로부터 발광된 포톤(photon)으로 변환한다. 비임 스톱(40)은 포톤중 몇몇이 비임 스톱(40)으로부터 방사선 소스(10)를 향해 발광되는리세스(42)에 배치되어 있으나, 리세스(42)를 형성하는 벽(14A)에서 방사선 차단 재료의 일부에 의해 챔버(15)에 들어가는 것이 저지된다. 비임 스톱(40)의 리세싱은 후방 산란 포톤의 강도를 감소시키고, 이에의해 측면 벽(14B), 배면 벽(14C) 및 실링 섹션(14E)을 위해 요구되는 두께를 감소시킨다. 이것은 제조 비용을 감소시키며 제조 스케쥴을 단축시킨다.
컨베이어 시스템(12)의 운송 컨베이어 부분의 섹션(44)은 컨베이어 시스템(12)에 의한 소정 운송 방향을 횡단하는 방향으로 물품 캐리어(17)를 운송하기 위해 위치된다. 챔버 형성 방사선 차단 재료의 측벽(14B)은 컨베이어 시스템(12)의 이들 횡방향으로 위치된 섹션(44)에 인접한 루프(26) 외측에 배치되고, 중간 벽(16)의 일부는 컨베이어 시스템(12)의 이들 횡방향으로 위치된 섹션(44)에 인접하고 측벽(14A)의 일부로부터 가로지르게 위치된다.
중간 벽(16)은 비임 스톱(40)으로부터 챔버(15)로 발광되는 포톤이 측벽(14B)상에 부딪치는 것이 방지되도록 비임 스톱(40)과 측벽(14B)사이에 위치된다. 중간 벽(16)은 또한 비임 스톱(40)으로부터 챔버(15)로 발광되는 포톤이 대향 측벽(14C)상에 부딪치는 것이 방지되도록 비임 스톱(40)이 리세스되는 벽(14A)으로부터 챔버(15)의 대향 측벽상의 벽(14C)과 비임 스톱(40)사이에 위치된다. 그 결과, 측벽(14B)과 대향 벽(14C)은 중간 벽(16) 없이 요구되는 것 보다 방사선 차단 재료의 두께가 더 적다.
중간 벽(16)은 방사선 소스(10)로부터 타겟 영역(20)에서 유도되는 오존의 챔버(15)를 통과하는 흐름을 제한하기 위해 위치된다. 따라서, 대부분의 상기 오존은 타겟 영역(20)상에 배치된 챔버(15)에서 배기 덕트(46)에 의해 챔버(15)로부터 제거된다.
방사선 차단 재료(14)와 방사선 차단 재료의 중간 벽(16)의 여러 성분의 치수는 미국 테네시 37831 옥크 릿지 피.오.박스 2008 소재의 라디에이션 실딩 인포메이션 센터에 의해 발행된 공보의 명칭이 "MCNP-A General Monte Carlo Code for Neutron and Photon Transport"인 메뉴얼에 기재된 기술에 따른 컴퓨터 애드 모델링에 의해 결정된다.
대안적인 실시예에서, 중간 벽(14B)이 위치되는 루프는 도 1에 도시된 바와 같이 폐쇄된 루프가 아닌 대신에, 리루트 컨베이어 섹션(30)의 제거에 의해 형성된 바와 같은 개방 루프이다.
본 발명에 따른 물품 조사 시스템은 실링 섹션(14E)에서 요구되는 콘크리트의 용적을 감소시키므로써 구조의 비용과 복잡성을 감소시키고, 방사선 소스(10)와 재배향 메카니즘(32)과 같은 감강성 전기적 및 기계적 기기에 투과되는 방사선 레벨을 감소시키므로써 상기 기기의 수명을 연장시키며, 처리 컨베이어(24) 부근에 오존 제품을 구속시키므로써 상기 기기의 수명을 연장시키고 대기로 배출되는 오존의 환경 충돌을 감소시키도록 챔버를 통과하는 그 산포와 제조된 오존의 양을 감소시키는 장점을 제공한다.
본 명세서에 구체적으로 기재된 장점은 본 발명의 각 상상할 수 있는 실시예에 필수적으로 적용되는 것은 아니다.
상기 설명이 많은 특징을 포함하는 반면에, 이들은 본 발명의 정신과 범주에제한되도록 구성되는 것이 아니라, 본 명세서에 기술된 적합한 실시예의 실예로서 설명되었다. 다양한 변경은 가능하며, 본 발명의 정신은 본 명세서에 기재된 실시예에만 제한되는 것이 아니라, 첨부된 첨구범위와 그 균등물에 의해 제한된다.

Claims (50)

  1. 타겟 영역을 방사선으로 주사하기 위해 위치된 방사선 소스와,
    상기 타겟 영역을 통해 소정 방향으로 물품을 운송하기 위해 위치된 처리 컨베이어를 구비하는 컨베이어 시스템과,
    방사선 소스와, 타겟 영역과, 컨베이어 시스템의 일부를 포함하는 챔버를 형성하는 방사선 차단 재료 및,
    루프내에 위치되고 대략 수평축을 횡단하는 방사선 차단 재료의 중간 벽을 포함하고,
    상기 방사선 소스는 상기 컨베이어 시스템의 일부로 형성된 루프내측에서 대략 수평축을 따라 배치되고 처리 컨베이어에 의해 소정 운송 방향을 횡단하는 평면에서 주사된 방사선으로 상기 타겟 영역을 통해 운송되는 물품을 주사하는 물품 조사 시스템.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 중간 벽은 방사선 소스가 배치되는 구멍을 갖는 물품 조사 시스템.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 챔버 형성 방사선 차단 재료는 상기 중간 벽에 의해 부분적으로 지지된 실링 섹션을 포함하는 물품 조사 시스템.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 방사선 소스는 전자 비임 소스이고,
    전자를 흡수하여 이 흡수된 전자의 에너지를 비임 스톱으로부터 발광되는 포톤으로 변환하기 위한 비임 스톱 재료를 추가로 포함하며,
    상기 비임 스톱은 방사선 소스로부터 타겟 영역의 대향 측면에 배치되고,
    상기 비임 스톱은 방사선 소스로부터 타겟 영역의 대향 측면에 배치된 챔버 형성 방사선 차단 재료의 일부에 리세스되므로, 상기 비임 스톱으로부터 방사선 소스를 향하나 이에 경사지게 발광되는 상기 포톤중 몇몇은 상기 방서선 차단 재료가 상기 부분에 의해 챔버에 들어가는 것이 방지되는 물품 조사 시스템.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 컨베이어 시스템의 제 2 부분은 처리 컨베이어에 의해 소정 운송 방향을 횡단하는 제 2 방향으로 물품을 운송하기 위해 위치되고,
    상기 챔버 형성 방사선 차단 재료는 상기 컨베이어 시스템의 제 2 부분에 인접한 루프 외측에 배치된 측 벽을 포함하며,
    상기 중간 벽은 상기 비임 스톱과 측 벽 사이에 위치되므로 상기 비임 스톱으로부터 챔버로 발광되는 포톤은 측 벽에 부딪치는 것이 방지되는 물품 조사 시스템.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 컨베이어 시스템의 제 2 부분은 처리 컨베이어에 의해 소정 운송 방향을 횡단하는 제 2 방향으로 물품을 운송하기 위해 위치되고,
    상기 챔버 형성 방사선 차단 재료는 상기 컨베이어 시스템의 제 2 부분에 인접한 루프 외측에 배치된 측 벽을 포함하며,
    상기 중간 벽의 일부는 상기 컨베이어 시스템의 제 2 부분에 인접하고 측 벽의 일부로부터 가로지르는 물품 조사 시스템.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 방사선 소스는 전자 비임 소스이고,
    전자를 흡수하여 이 흡수된 전자의 에너지를 비임 스톱으로부터 발광되는 포톤으로 전환하는 비임 스톱 재료를 추가로 포함하며,
    상기 비임 스톱은 방사선 소스로부터 타겟 영역의 대향 측면상에 상기 챔버 형성 방사선 차단 재료의 소정 벽에 배치되고,
    상기 중간 벽은 상기 비임 스톱과 상기 챔버 형성 방사선 차단 재료의 적어도 하나의 다른 벽 사이에 위치되므로 상기 비임 스톱으로부터 챔버로 발광되는 포톤은 적어도 하나의 다른 벽에 부딪치는 것을 억제하는 물품 조사 시스템.
  8. 제 1 항에 있어서, 상기 중간 벽은 상기 방사선 소스로부터 타겟 영역에서 유도된 오존 챔버를 통과하는 흐름을 제한하기 위해 위치된 물품 조사 시스템.
  9. 벽으로 형성된 챔버와,
    상기 챔버에 방사선을 제공하기 위해 구성된 방사선 소스와,
    물품에 의해 챔버내에서 방사선의 수용을 위해 챔버를 통과하는 물품을 운반하도록 구성된 컨베이어 시스템과,
    상기 소스로부터 방사선을 수용하여 상기 방사선을 상기 챔버에서 이동가능한 포톤으로 변환하기 위해 상기 챔버에 배치된 제 1 수단 및,
    상기 포톤이 챔버를 형성하는 벽에 부딪치는 것을 방지하기 위해 챔버에 배치되고 챔버를 형성하는 벽 두께의 감소를 제공하는 제 2 수단을 포함하는 물품 조사 시스템.
  10. 제 9 항에 있어서, 상기 제 2 수단은 상기 포톤의 강도를 최소화하기 위해 챔버에 배치된 물품 조사 시스템.
  11. 제 9 항에 있어서, 상기 방사선 소스는 상기 제 2 수단을 통해 연장하는 물품 조사 시스템.
  12. 제 9 항에 있어서, 상기 챔버는 실링을 포함하고,
    상기 제 2 수단은 이 실링을 지지하는 물품 조사 시스템.
  13. 제 10 항에 있어서, 상기 방사선 소스는 상기 제 2 수단을 통하여 연장하고,
    상기 챔버는 실링을 포함하며,
    상기 제 2 수단은 이 실링을 지지하는 물품 조사 시스템.
  14. 제 13 항에 있어서, 상기 제 2 수단은 방사선 차단 재료로 이루어진 중간 벽을 포함하고, 상기 방사선 차단 재료는 상기 챔버의 벽으로부터 분리되는 물품 조사 시스템.
  15. 벽으로 형성된 챔버와,
    상기 챔버에 방사선을 제공하기 위해 구성된 방사선 소스와,
    물품에 의해 챔버에서 방사선의 수용을 위해 챔버를 통과하는 물품을 운반하도록 구성된 컨베이어 시스템과,
    상기 방사선 소스로부터 챔버로 유도되는 오존 및,
    상기 챔버를 통과하는 오존의 흐름을 제한하기 위해 챔버에 배치된 수단을 포함하는 물품 조사 시스템.
  16. 제 15 항에 있어서, 상기 챔버로부터 오존을 제거하기 위해 상기 챔버에 배치된 수단을 포함하는 물품 조사 시스템.
  17. 제 15 항에 있어서, 상기 방사선 소스는 상기 챔버를 통과하는 오존의 흐름을 제한하기 위한 수단을 통해 연장하는 물품 조사 시스템.
  18. 제 15 항에 있어서, 상기 챔버의 벽은 방사선 차단 재료로 이루어진 물품 조사 시스템.
  19. 제 15 항에 있어서, 상기 흐름 제한 수단은 제 1 수단을 구성하고,
    제 2 수단은 방사선을 소스로부터 수용하여 이 방사선을 챔버에서 포톤으로 변환하기 위해 챔버에 배치되며,
    상기 제 1 수단은 상기 포톤이 챔버를 형성하는 벽에 부딪치는 것을 방지하므로써 챔버를 형성하는 벽 두께의 감소를 제공하는 물품 조사 시스템.
  20. 제 16 항에 있어서, 상기 흐름 제한 수단은 중간 위치에서 챔버에 배치된 벽을 포함하고 챔버를 형성하는 벽으로부터 분리되며 방사선 차단 재료로 이루어진 물품 조사 시스템.
  21. 제 16 항에 있어서, 상기 챔버는 실링을 포함하고,
    상기 흐름 제한 수단은 이 실링을 지지하는 물품 조사 시스템.
  22. 제 20 항에 있어서, 상기 방사선 소스는 챔버를 통과하는 오존의 흐름을 제한하기 위한 수단을 통해 연장하고,
    상기 챔버의 벽은 방사선 차단 재료로 이루어지며,
    상기 흐름 제한 수단은 제 1 수단을 구성하고,
    제 2 수단은 방사선을 소스로부터 수용하여 이 방사선을 챔버에서 포톤으로 변환하기 위해 챔버에 배치되며,
    상기 제 1 수단은 상기 포톤이 상기 챔버를 형성하는 벽에 부딪치는 것을 방지하므로써 상기 챔버를 형성하는 벽 두께의 감소를 제공하고,
    상기 챔버는 실링을 포함하며,
    상기 흐름 제한 수단은 이 실링을 지지하는 물품 조사 시스템.
  23. 벽으로 형성된 챔버와,
    방사선을 챔버에 제공하기 위해 구성된 방사선 소스와,
    물품에 의해 챔버내에서 방사선의 수용을 위해 챔버를 통과하는 물품을 운반하도록 구성된 컨베이어 시스템과,
    전자를 방사선 소스로부터 흡수하고 흡수된 전자로부터의 에너지를 포톤으로 변화하여 포톤을 발광시키기 위해 챔버에 배치되고, 챔버의 벽중 특히 하나에 관해 배치되며 상기 벽중 특히 하나에 의해 챔버내에서 포톤 강도의 감소를 위해 제공하는 비임 스톱 및,
    상기 포톤이 챔버를 형성하는 벽에 부딪치는 것을 방지하므로써 상기 챔버를 형성하는 벽 두께의 감소를 제공하도록 챔버내에 배치되는 수단을 포함하는 물품 조사 시스템.
  24. 제 17 항에 있어서, 상기 비임 스톱은 상기 챔버의 벽중 특히 하나에 리세스되어 상기 벽중 특히 하나에 의해 챔버내에서 포톤 강도의 감소를 제공하고,
    상기 방지 수단은 상기 챔버를 형성하는 벽 중간에 배치되고 상기 포톤이 상기 챔버를 형성하는 벽에 부딪치는 것을 방지하기 위해 챔버를 형성하는 벽으로부터 분리된 부가의 벽을 포함하고, 이에의해 챔버를 형성하는 벽 두께의 감소를 제공하는 물품 조사 시스템.
  25. 제 24 항에 있어서, 상기 챔버를 형성하는 벽과 부가의 벽은 방사선 차단 재료로 이루어진 물품 조사 시스템.
  26. 제 25 항에 있어서, 방사선 차단 재료로 이루어진 실링이 구비되어 있고,
    상기 부가의 벽은 이 실링을 지지하는 물품 조사 시스템.
  27. 벽으로 형성된 챔버와,
    방사선을 챔버에 제공하기 위해 구성된 방사선 소스와,
    물품에 의해 챔버내에서 방사선의 수용을 위해 챔버를 통과하는 물품을 운반하도록 구성된 컨베이어 시스템과,
    전자를 방사선 소스로부터 흡수하고 흡수된 전자 에너지를 포톤으로 변화하여 포톤을 발광시키기 위해 챔버에 배치되고, 챔버의 벽중 특히 하나에 관해 배치되며 상기 벽중 특히 하나에 의해 챔버내에서 포톤 강도의 감소를 제공되는 비임 스톱과,
    상기 포톤이 챔버를 형성하는 벽에 부딪치는 것을 방지하고 상기 챔버를 형성하는 벽 두께의 감소를 제공하도록 챔버내에 배치된 수단과,
    방사선 소스로부터 챔버내에서 유도되는 오존 및,
    상기 챔버를 통과하는 오존의 흐름을 제한하기 위해 작동하는 포톤 방지 수단을 포함하는 물품 조사 시스템.
  28. 제 27 항에 있어서, 상기 포톤 방지 수단은 챔버를 형성하는 벽에 대해 이격된 관계로 챔버에 배치된 중간 벽을 포함하는 물품 조사 시스템.
  29. 제 28 항에 있어서, 상기 중간 벽과 챔버를 형성하는 벽은 방사선 차단 재료로 이루어진 물품 조사 시스템.
  30. 벽으로 형성된 챔버와,
    방사선을 제공하기 위해 배치된 방사선 소스와,
    물품을 위한 로딩 영역과,
    물품을 위한 언로딩 영역과,
    챔버를 통과하는 물품을 루프내로 이동시키도록 구성된 컨베이어 시스템과,
    상기 로딩 영역으로부터 챔버를 통하여 루프까지 연장하는 제 1 통로와,
    상기 루프로부터 챔버를 통하여 언로딩 영역까지 연장하는 제 2 통로 및,
    상기 챔버의 외측에 배치된 부가의 벽을 포함하고,
    상기 제 1 및 제 2 통로는 서로 인접한 관계로 배치되고 챔버와 연통 관계로 배치되며 상기 챔버를 형성하는 벽중 특히 하나에 의해 그 길이의 적어도 일부를 위해 상기 챔버로부터 분리되며, 상기 특정 벽과 부가의 벽 사이에 형성된 물품 조사 시스템.
  31. 제 30 항에 있어서, 상기 챔버를 형성하는 벽과 부가의 벽은 방사선 차단 재료로 이루어진 물품 조사 시스템.
  32. 제 31 항에 있어서, 상기 특정 벽과 부가의 벽은 소스로부터 방사선이 로딩 영역과 언로딩 영역에 도달하는 것을 방지하기 위해 상기 로딩 영역과 언로딩 영역에 대해 배치된 물품 조사 시스템.
  33. 제 32 항에 있어서, 상기 특정 벽은 상기 챔버와 제 1 및 제 2 통로 각각 사이에 연통을 제공하기 위한 제한된 길이를 갖는 물품 조사 시스템.
  34. 제 32 항에 있어서, 상기 소스로부터 방사선을 수용하고 이 방사선을 챔버에서 이동가능한 포톤으로 변환하기 위해 챔버에 배치된 수단과,
    상기 포톤이 상기 챔버를 형성하는 벽에 부딪치는 것을 방지하기 위해 챔버에 배치되어 상기 챔버를 형성하는 벽 두께의 감소를 제공하는 수단을 포함하는 물품 조사 시스템.
  35. 제 32 항에 있어서, 상기 방사선 소스로부터 챔버내로 유도되는 오존과,
    상기 챔버를 통과하는 오존의 흐름을 제한하기 위해 챔버에 배치된 수단을포함하는 물품 조사 시스템.
  36. 제 34 항에 있어서, 상기 특정 벽과 부가의 벽은 상기 소스로부터의 방사선이 로딩 영역과 언로딩 영역에 도달하는 것을 방지하기 위해 로딩 영역과 언로딩 영역에 대해 배치되고,
    상기 특정 벽은 상기 챔버와 제 1 및 제 2 통로 각각 사이에 연통을 제공하기 위한 제한된 길이를 가지며,
    오존이 상기 방사선 소스로부터 챔버내로 유도되고,
    상기 챔버를 통과하는 오존의 흐름을 제한하기 위한 수단이 챔버에 배치된 물품 조사 시스템.
  37. 복수의 벽으로 형성된 챔버를 제공하는 단계와,
    상기 챔버로부터 변위된 위치에 물품을 위한 로딩 영역을 제공하는 단계와,
    상기 챔버로부터 변위된 위치에 물품을 위한 언로딩 영역을 제공하는 단계와,
    상기 챔버에서 포톤을 생성하는 특성을 갖는 방사선 소스를 챔버에 제공하는 단계와,
    상기 로딩 영역으로부터 챔버를 통하여 언로딩 영역까지 물품의 이동을 위해 그리고 상기 챔버를 통과하는 물품의 이동중에 상기 소스에 의한 물품의 조사를 위해 컨베이어 통로를 제공하는 단계 및,
    상기 챔버를 형성하는 벽에 대해 상기 포톤의 이동을 방지하기 위해 챔버에 부재를 제공하므로써 상기 벽 두께를 최소화하는 단계를 포함하는 물품 조사 방법.
  38. 제 37 항에 있어서, 상기 부재는 상기 챔버를 형성하는 벽과 이격된 관계로 상기 챔버에 배치된 중간 벽인 물품 조사 방법.
  39. 제 38 항에 있어서, 상기 복수의 벽과 부재는 방사선 차단 재료로 이루어진 물품 조사 방법.
  40. 제 38 항에 있어서, 제 1 통로는 로딩 영역으로부터 챔버까지 연장하고,
    제 2 통로는 제 1 통로와 인접한 관계로 언로딩 영역으로부터 챔버까지 연장하며,
    부가의 벽은 상기 제 1 및 제 2 통로를 위한 인접 관계를 형성하기 위해 챔버를 형성하는 벽중 특정 하나와 협동 관계로 상기 챔버 외측에 배치된 물품 조사 방법.
  41. 제 40 항에 있어서, 상기 챔버를 형성하는 벽과 부재와 부가의 벽은 방사선 차단 재료로 이루어진 물품 조사 방법.
  42. 제 41 항에 있어서, 상기 챔버를 형성하는 상기 벽중 특정 하나는 상기 제 1및 제 2 통로를 챔버와 연통시키기 위해 제한된 길이를 제공하는 물품 조사 방법.
  43. 복수의 벽으로 형성된 챔버를 제공하는 단계와,
    상기 챔버를 통과하는 물품의 이동을 위해 그리고 상기 챔버를 통과하는 물품의 이동중에 소스에 의한 물품의 조사를 위해 컨베이어 통로를 제공하는 단계와,
    상기 챔버로부터 변위된 위치에 물품을 위한 로딩 영역을 제공하는 단계와,
    상기 챔버로부터 변위된 위치에 물품을 위한 언로딩 영역을 제공하는 단계와,
    상기 챔버에서 오존을 유도하는 특성을 갖는 방사선 소스를 상기 챔버에 제공하는 단계 및,
    상기 챔버에서 오존의 흐름을 제한하기 위해 챔버에 부재를 제공하는 단계를 포함하는 물품 조사 방법.
  44. 제 43 항에 있어서, 상기 부재는 챔버를 형성하는 벽과 이격된 관계로 챔버에 배치된 중간 벽인 물품 조사 방법.
  45. 제 44 항에 있어서, 상기 부가의 벽과 챔버를 형성하는 벽은 방사선 차단 재료로 이루어진 물품 조사 방법.
  46. 제 45 항에 있어서, 제 1 통로가 상기 로딩 영역으로부터 챔버까지 연장하고,
    제 2 통로가 상기 제 1 통로와 인접한 관계로 상기 언로딩 영역으로부터 챔버까지 연장하며,
    부가의 벽은 상기 제 1 및 제 2 통로와 인접 관계를 형성하기 위해 챔버를 형성하는 벽중 특정 하나와 협동 관계로 챔버의 외측에 배치된 물품 조사 방법.
  47. 제 46 항에 있어서, 상기 챔버를 형성하는 벽중 특정 하나에는 상기 제 1 및 제 2 통로와 챔버를 연통시키기 위한 길이가 제공된 물품 조사 방법.
  48. 복수의 벽으로 형성된 챔버를 제공하는 단계와,
    상기 챔버를 통과하는 물품의 이동을 위해 그리고 상기 챔버를 통과하는 물품의 이동중에 소스를 위한 물품의 조사를 위해 컨베이어 통로를 제공하는 단계와,
    상기 챔버로부터 변위된 위치에 물품을 위한 로딩 영역을 제공하는 단계와,
    상기 챔버로부터 변위된 위치에 물품을 위한 언로딩 영역을 제공하는 단계와,
    상기 로딩 영역으로부터 챔버까지 제 1 통로를 제공하는 단계와,
    상기 제 1 통로와 인접한 관계에서 상기 챔버로부터 언로딩 영역까지 제 2 통로를 제공하는 단계 및,
    특정 벽으로부터 상기 제 1 및 제 2 통로의 대향 측면에 부가의 벽을 제공하는 단계를 포함하고,
    상기 제 1 및 제 2 통로는 상기 챔버를 형성하는 벽중 특정 하나와 인접한 관계로 배치된 물품 조사 방법.
  49. 제 48 항에 있어서, 상기 챔버를 형성하는 벽과 부가의 벽은 방사선 차단 재료로 이루어진 물품 조사 방법.
  50. 제 49 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 통로는 실질적으로 평행하고 인접하며,
    상기 특정 벽과 부가의 벽은 서로 평행하고 제 1 및 제 2 통로와 평행하며 상기 제 1 및 제 2 통로의 대향 측면상에서 상기 제 1 및 제 2 통로에 각각 인접한 물품 조사 방법.
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