KR20010066298A - 투사형 액정 디스플레이를 이용한 아이디 마킹장치 - Google Patents

투사형 액정 디스플레이를 이용한 아이디 마킹장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20010066298A
KR20010066298A KR1019990067897A KR19990067897A KR20010066298A KR 20010066298 A KR20010066298 A KR 20010066298A KR 1019990067897 A KR1019990067897 A KR 1019990067897A KR 19990067897 A KR19990067897 A KR 19990067897A KR 20010066298 A KR20010066298 A KR 20010066298A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
image
marking
wafer
projection
lcd
Prior art date
Application number
KR1019990067897A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100322621B1 (ko
Inventor
황태웅
Original Assignee
황인길
아남반도체 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 황인길, 아남반도체 주식회사 filed Critical 황인길
Priority to KR1019990067897A priority Critical patent/KR100322621B1/ko
Publication of KR20010066298A publication Critical patent/KR20010066298A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100322621B1 publication Critical patent/KR100322621B1/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67282Marking devices

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

본 발명은 투사형 LCD를 이용한 ID 마킹장치에 관한 것으로, 반도체 웨이퍼(60) 상에 패턴이 마킹됨을 감지한 후, 데이터 베이스에서 ID 영상을 읽어와서 제공하고, ID 영상을 마킹하기 위해 구동 신호를 제어하는 마이컴(20); 마이컴(20)으로부터 ID 영상을 제공받고, 레티클(10)을 통해 투사되는 광을 ID 영상에 투사시키는 투사형 LCD(40); 마이컴(20)의 구동 신호에 따라 부 위치(A)에 있는 투사형 LCD를 정 위치(B)로 이동시키는 모터(30); 투사형 LCD(40)를 투사한 ID 영상을 마킹을 위한 형상으로 조절하고, 조절된 ID 영상을 웨이퍼(60)로 투사하는 렌즈(50); ID 영상이 웨이퍼(60)내 ID 마킹부에 정확하게 마킹되도록 ID 마킹 위치로 정렬시키는 스테이지(80)를 구비한다. 따라서, 웨이퍼의 식별 ID를 보다 분명하게 판독할 수 있게 되어 불량률을 감소시키고 작업 능률을 향상시키는 효과가 있다.

Description

투사형 액정 디스플레이를 이용한 아이디 마킹장치{DEVICE FOR MARKING IDENTIFICATION USING THE ATHLETIC LIQUID CRYSTAL DISPLAY}
본 발명은 투사형 액정 디스플레이(Liquid Crystal Display : 이하, LCD라 약칭함)를 이용한 아이디(IDentification : 이하, ID라 약칭함) 마킹장치에 관한 것으로, 특히 포토 패터닝(photo patterning)시에 투사형 LCD를 이용하여 ID를 웨이퍼 상에 패턴 형식으로 마킹하여 웨이퍼의 ID를 용이하게 식별할 수 있도록 하는 장치에 관한 것이다.
통상적으로, 반도체 웨이퍼 가공은 웨이퍼를 식별하기 위한 ID가 마킹되어 있는 로트(lot) 단위의 매 반도체 웨이퍼 표면에 여러 종류의 막을 형성시키고, 패턴 마스크를 이용하여 반도체 웨이퍼의 특정 부분을 선택적으로 깎아내는 작업을 되풀이함으로써 반도체 웨이퍼 전면의 각 칩에 동일한 패턴을 갖는 전자회로를 구성해 나가는 전 과정을 일컫는다.
이러한 반도체 웨이퍼 가공 과정에서, 웨이퍼 상에 실제로 필요한 패턴을 형성하는 과정이 진행될수록 웨이퍼 상에 잔막이 남게되어 웨이퍼의 ID를 식별하기가 어려워지게 되는 문제가 발생한다.
따라서, 본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서, 그 목적은 포토 패터닝(photo patterning)시에 투사형 LCD를 이용하여 ID를 웨이퍼 상에 패턴 형식으로 마킹하고, 식각(etch) 공정을 하게되면, 각각의 계층(layer)에서 원하는 ID를 선택적으로 마킹하여 웨이퍼의 ID를 용이하게 식별할 수 있도록 하는 투사형 LCD를 이용한 ID 마킹장치를 제공함에 있다.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명에서 투사형 LCD를 이용한 ID 마킹장치는 반도체 웨이퍼(60)에 패턴을 마킹하기 위해 레티클(10)을 통해 광을 투사하는 마킹장치에 있어서, 반도체 웨이퍼(60) 상에 패턴이 마킹됨을 감지한 후, 데이터 베이스에서 ID 영상을 읽어와서 제공하고, ID 영상을 마킹하기 위해 구동 신호를 제어하는 마이컴(20); 마이컴(20)으로부터 ID 영상을 제공받고, 레티클(10)을 통해 투사되는 광을 ID 영상에 투사시키는 투사형 LCD(40); 마이컴(20)의 구동 신호에따라 부 위치(A)에 있는 투사형 LCD를 정 위치(B)로 이동시키는 모터(30); 투사형 LCD(40)를 투사한 ID 영상을 마킹을 위한 형상으로 조절하고, 조절된 ID 영상을 웨이퍼(60)로 투사하는 렌즈(50); ID 영상이 웨이퍼(60)내 ID 마킹부에 정확하게 마킹되도록 ID 마킹 위치로 정렬시키는 스테이지(80)를 포함한다.
도 1은 본 발명에 따른 투사형 액정 디스플레이를 이용한 아이디 마킹장치를 도시한 도면이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
10 : 레티클(reticle) 20 : 마이컴
30 : 모터(motor) 40 : 투사형 LCD
50 : 렌즈(lens) 60 : 웨이퍼(wafer)
70 : 아이디(ID) 마킹부 80 : 스테이지(stage)
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 일실시예를 상세하게 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명에 따른 투사형 LCD를 이용한 ID 마킹장치를 도시한 도면으로서, 레티클(reticle)(10)과, 마이컴(20)과, 모터(motor)(30)와, 투사형 LCD(40)와, 렌즈(lens)(50)와, 웨이퍼(wafer)(60)와, 아이디(ID) 마킹부(70)와, 스테이지(stage)(80)로 구성된다.
상술한 바와 같이 구성된 장치는 다음과 같이 동작된다.
동 도면을 참조하여, 반도체 웨이퍼(60) 상에 패턴 마킹을 위한 광 투사시에는 모터(30)를 제어하여 투사형 LCD(40)를 레티클(10)과 중복되지 않는 부 위치(A)에 위치한다.
이때, 마이컴(20)은 ID 마킹을 하기 위해서는 현재의 로트(lot)에 대한 정확한 정보를 항상 체크하고, 로트(lot)에 대한 슬롯(slot)별 웨이퍼(60) ID에 대한 기록을 데이터 베이스(C)에 저장한다.
이러한 상태에서, 레티클(10)은 노광 장치의 일종인 스텝퍼(stepper)에서 사용되는 광학 렌즈로서, 웨이퍼(60) 상에 실제로 필요한 패턴이 형성될 경우, 패턴형성을 위한 광(예로, 자외선)을 투사시킨다.
마이컴(20)은 현재의 로트(lot)에 대한 웨이퍼(60) ID에 대한 기록을 데이터 베이스(DB)(C)에 저장하고, 또한 레티클(10)을 통해 투사되는 광 신호를 감지하면서, 레티클(10)에서 렌즈(50)를 통해 웨이퍼(60)로 패턴 형성을 위한 광 투사가 완료되면, 이 완료 신호를 감지한 후, 상술한 데이터 베이스(C)에 저장된 ID에 대한 기록을 리드하여 투사형 LCD(40)에 ID 영상으로 제공한다. 이후, 마이컴(20)은 ID 영상을 마킹하기 위해 모터(30)를 구동시킨다.
모터(30)는 마이컴(20)의 구동 신호에 따라 부 위치(A)에 있는 투사형 LCD를 정 위치(B)로 이동시킨다.
정 위치(B)로 이동된 투사형 LCD(40)는 레티클(10)을 통해 투사되는 광을 ID 영상(예로, "XXXXX"라는 문자 또는 숫자)을 투사시켜 렌즈(50)에 제공한다.
렌즈(50)는 투사형 LCD(40)를 통해 제공되는 ID 영상을 마킹을 위한 형상으로 조절하고, 조절된 ID 영상을 투사시켜 웨이퍼(60)에 제공한다.
이때, 스테이지(80)는 ID 영상이 ID 마킹부(70)에 정확하게 마킹되도록 하기 위해 ID 마킹 위치로 정렬시킴에 따라 웨이퍼(60)내 ID 마킹부(70)에 ID 영상이 정확하게 익스포스(exposure)된다.
상기와 같이 설명한 본 발명은 반도체 공정이 진행되면서 포토 패터닝(photo patterning)시에 투사형 LCD를 이용하여 ID를 웨이퍼 상에 패턴 형식으로 마킹하고, 식각(etch) 공정을 하게되면, 각각의 계층(layer)에서 원하는 ID를 선택적으로마킹함으로써, 웨이퍼의 식별 ID를 보다 분명하게 판독할 수 있게 되어 불량률을 감소시키고 작업 능률을 향상시키는 효과가 있다.

Claims (3)

  1. 반도체 웨이퍼(60)에 패턴을 마킹하기 위해 레티클(10)을 통해 광을 투사하는 마킹장치에 있어서,
    상기 반도체 웨이퍼(60) 상에 패턴이 마킹됨을 감지한 후, 데이터 베이스에서 아이디(ID) 영상을 읽어와서 제공하고, 상기 ID 영상을 마킹하기 위해 구동 신호를 제어하는 마이컴(20);
    상기 마이컴(20)으로부터 ID 영상을 제공받고, 상기 레티클(10)을 통해 투사되는 광을 ID 영상에 투사시키는 투사형 액정 디스플레이(LCD)(40);
    상기 마이컴(20)의 구동 신호에 따라 부 위치(A)에 있는 상기 투사형 LCD를 정 위치(B)로 이동시키는 모터(30);
    상기 투사형 LCD(40)를 투사한 ID 영상을 마킹을 위한 형상으로 조절하고, 조절된 ID 영상을 웨이퍼(60)로 투사하는 렌즈(50);
    상기 ID 영상이 상기 웨이퍼(60)내 ID 마킹부에 정확하게 마킹되도록 ID 마킹 위치로 정렬시키는 스테이지(80)를 포함하는 것을 특징으로 하는 투사형 액정 디스플레이를 이용한 아이디 마킹장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 투사형 LCD(40)는,
    상기 반도체 웨이퍼(60) 상에 패턴 마킹을 위한 광 투사시, 모터(30)를 제어하여 부 위치(A)에 고정시키는 것을 특징으로 하는 투사형 액정 디스플레이를 이용한 아이디 마킹장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 데이터 베이스(C)는,
    상기 웨이퍼(60)의 슬롯(slot)별 ID에 대한 기록을 저장하고 있는 것을 특징으로 하는 투사형 액정 디스플레이를 이용한 아이디 마킹장치.
KR1019990067897A 1999-12-31 1999-12-31 투사형 액정 디스플레이를 이용한 아이디 마킹장치 KR100322621B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019990067897A KR100322621B1 (ko) 1999-12-31 1999-12-31 투사형 액정 디스플레이를 이용한 아이디 마킹장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019990067897A KR100322621B1 (ko) 1999-12-31 1999-12-31 투사형 액정 디스플레이를 이용한 아이디 마킹장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20010066298A true KR20010066298A (ko) 2001-07-11
KR100322621B1 KR100322621B1 (ko) 2002-03-18

Family

ID=19634986

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019990067897A KR100322621B1 (ko) 1999-12-31 1999-12-31 투사형 액정 디스플레이를 이용한 아이디 마킹장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100322621B1 (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1427014A2 (en) * 2002-12-04 2004-06-09 Texas Instruments Inc. Integrated circuit identification
KR100784705B1 (ko) * 2006-07-27 2007-12-12 주식회사 대우일렉트로닉스 롯 아이디 마킹용 마스크, 이를 이용한 롯 아이디 마킹장치 및 방법
KR100908548B1 (ko) * 2005-03-18 2009-07-20 도레이 엔지니어링 가부시키가이샤 노광 장치 및 노광 방법

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1427014A2 (en) * 2002-12-04 2004-06-09 Texas Instruments Inc. Integrated circuit identification
EP1427014A3 (en) * 2002-12-04 2017-05-17 Texas Instruments Inc. Integrated circuit identification
KR100908548B1 (ko) * 2005-03-18 2009-07-20 도레이 엔지니어링 가부시키가이샤 노광 장치 및 노광 방법
KR100784705B1 (ko) * 2006-07-27 2007-12-12 주식회사 대우일렉트로닉스 롯 아이디 마킹용 마스크, 이를 이용한 롯 아이디 마킹장치 및 방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR100322621B1 (ko) 2002-03-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100427097B1 (ko) 이면에얼라이먼트·마크가형성된작업편의투영노광방법및장치
JP2004186690A (ja) 集積回路識別
JP2892079B2 (ja) フィルム露光装置
KR100322621B1 (ko) 투사형 액정 디스플레이를 이용한 아이디 마킹장치
JP3466893B2 (ja) 位置合わせ装置及びそれを用いた投影露光装置
WO2020124860A1 (zh) 打码方法、打码装置和打码系统
JPH0263285B2 (ko)
JP2005148531A (ja) 基板伸縮に対応したプリント配線基板用露光装置
JPH09162120A (ja) 半導体ウエハ上の不要レジストを除去するためのウエハ周辺露光方法および装置
JP3545501B2 (ja) 両面パターニング法
JPH03289662A (ja) フィルム露光装置およびフィルム露光方法
US6602641B1 (en) Wafer&#39;s zero-layer and alignment mark print without mask when using scanner
US5932376A (en) Phase-shifting mask structure
KR100579994B1 (ko) 노광장치 및 얼라인 마크 측정 방법
JP3246300B2 (ja) マスクとワークの自動位置合わせ方法および装置
JPH07219209A (ja) フォトマスク
KR20020092024A (ko) 순차정렬장치 및 방법
JPH06295854A (ja) 半導体装置の製造方法
KR100791709B1 (ko) 웨이퍼의 노광장치 및 방법
JPH1116823A (ja) 反射型露光装置のプリアライメント方法および装置
US5796468A (en) Apparatus used to align and mark wafers
KR20100133699A (ko) 웨이퍼 레벨 패키지 이면 사진 식각 마킹방법
JP2720409B2 (ja) 露光方法および露光装置
KR19990000565A (ko) 리소그라피용 정렬기
JPS62183517A (ja) 露光方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20080103

Year of fee payment: 7

LAPS Lapse due to unpaid annual fee