JPH1116823A - 反射型露光装置のプリアライメント方法および装置 - Google Patents
反射型露光装置のプリアライメント方法および装置Info
- Publication number
- JPH1116823A JPH1116823A JP9172384A JP17238497A JPH1116823A JP H1116823 A JPH1116823 A JP H1116823A JP 9172384 A JP9172384 A JP 9172384A JP 17238497 A JP17238497 A JP 17238497A JP H1116823 A JPH1116823 A JP H1116823A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- reference mark
- exposure
- alignment
- exposure stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】プリアライメント補正値を簡易に得ることがで
きかつ、安価な反射型露光装置を提供することにある。 【解決手段】露光ステージ１上３ケ所の基準ピン３に押
し付けたガラス基板の外周に一致する３ケ所に、ガラス
に十字マークを印字した基準マーク４を埋め込みかつ、
基準マーク４下には可視ＬＥＤ５を設置し、可視ＬＥＤ
５を点灯させておく。またホトマスク６にも露光ステー
ジ１とアライメントする基準マーク７を備える。第１層
の露光を実行する際ホトマスク６の基準マーク７越しに
アライメントスコープ９より露光ステージ１上の基準マ
ーク４を見てホトマスク上基準マーク７と露光ステージ
１上基準マーク４が一致するように露光ステージ１と連
動したスティクを動かしＸステージ１３、Ｙステージ１
４、θステージ１５を移動させ露光ステージ原点からの
移動量を計測し記憶させておく。
きかつ、安価な反射型露光装置を提供することにある。 【解決手段】露光ステージ１上３ケ所の基準ピン３に押
し付けたガラス基板の外周に一致する３ケ所に、ガラス
に十字マークを印字した基準マーク４を埋め込みかつ、
基準マーク４下には可視ＬＥＤ５を設置し、可視ＬＥＤ
５を点灯させておく。またホトマスク６にも露光ステー
ジ１とアライメントする基準マーク７を備える。第１層
の露光を実行する際ホトマスク６の基準マーク７越しに
アライメントスコープ９より露光ステージ１上の基準マ
ーク４を見てホトマスク上基準マーク７と露光ステージ
１上基準マーク４が一致するように露光ステージ１と連
動したスティクを動かしＸステージ１３、Ｙステージ１
４、θステージ１５を移動させ露光ステージ原点からの
移動量を計測し記憶させておく。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、反射型露光装置の
プリアライメント方法に関し、特にカラー液晶表示パネ
ルのガラス基板を露光する際の反射型露光装置のプリア
ライメント方法に関する。
プリアライメント方法に関し、特にカラー液晶表示パネ
ルのガラス基板を露光する際の反射型露光装置のプリア
ライメント方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の露光装置におけるプリア
ライメント補正方法は、たとえば特開平７−２９７１５
号公報に示されるように、拡大投影型露光装置において
カラー液晶表示パネルの回路パターンのプリアライメン
トを高い寸法精度で露光するために用いられている。
ライメント補正方法は、たとえば特開平７−２９７１５
号公報に示されるように、拡大投影型露光装置において
カラー液晶表示パネルの回路パターンのプリアライメン
トを高い寸法精度で露光するために用いられている。
【０００３】図４は、従来の拡大投影型露光装置におけ
るプリアライメント補正方法の一例を示す。図５は、図
４におけるプリアライメント補正動作のフローチャート
である。図４においてテスト用ガラス基板１０３に拡大
投影された各アライメントマーク像Ｐ‘１〜Ｐ‘４間の
絶対距離を測定し、これらの絶対距離が理想値から外れ
ている場合は、ステージ１０７をＺ軸方向に移動させ、
各アライメントマーク像Ｐ‘１〜Ｐ‘４間の絶対距離を
理想に近づける。これによって、テスト用ガラス基板１
０３上に投影される像のプリアライメントを適正な寸法
に補正する。
るプリアライメント補正方法の一例を示す。図５は、図
４におけるプリアライメント補正動作のフローチャート
である。図４においてテスト用ガラス基板１０３に拡大
投影された各アライメントマーク像Ｐ‘１〜Ｐ‘４間の
絶対距離を測定し、これらの絶対距離が理想値から外れ
ている場合は、ステージ１０７をＺ軸方向に移動させ、
各アライメントマーク像Ｐ‘１〜Ｐ‘４間の絶対距離を
理想に近づける。これによって、テスト用ガラス基板１
０３上に投影される像のプリアライメントを適正な寸法
に補正する。
【０００４】また、補正後のステージ１０７のＸＹ平面
内での位置とＺ軸方向に沿うテスト用ガラス基板の上面
位置とを記憶しておく。これにより、その後の本番用ガ
ラス基板に対して行われる本番露光において、本番用ガ
ラス基板の位置をテスト用ガラス基板の補正後の位置と
同じ位置に再現する。その結果、本番用ガラス基板にお
いても、補正寸法の正しい投影像が露光される。
内での位置とＺ軸方向に沿うテスト用ガラス基板の上面
位置とを記憶しておく。これにより、その後の本番用ガ
ラス基板に対して行われる本番露光において、本番用ガ
ラス基板の位置をテスト用ガラス基板の補正後の位置と
同じ位置に再現する。その結果、本番用ガラス基板にお
いても、補正寸法の正しい投影像が露光される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した従来
技術の問題点は、装置が複雑になる、ということであ
る。その理由は、ガラス基板に投影された４ポイントの
アイラメント像を、アライメントコープが見にいかなけ
ればならずかつ、その見に行くアライメントスコープの
位置精度も高精度でなければならないからである。
技術の問題点は、装置が複雑になる、ということであ
る。その理由は、ガラス基板に投影された４ポイントの
アイラメント像を、アライメントコープが見にいかなけ
ればならずかつ、その見に行くアライメントスコープの
位置精度も高精度でなければならないからである。
【０００６】本発明の目的は、プリアライメント補正値
を簡易に得ることができかつ、安価な反射型露光装置を
提供することにある。
を簡易に得ることができかつ、安価な反射型露光装置を
提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の、反射型露光装
置のプリアライメント方法は、カラー液晶用表示パネル
の回路パターンのプリアライメントを、露光ステージと
ホトマスクに備えた基準マークを、アライメントスコー
プ越しに観察し、所定の精度に追い込むため露光ステー
ジを動かし、その移動量を補正値として簡易に求めるこ
とができる。
置のプリアライメント方法は、カラー液晶用表示パネル
の回路パターンのプリアライメントを、露光ステージと
ホトマスクに備えた基準マークを、アライメントスコー
プ越しに観察し、所定の精度に追い込むため露光ステー
ジを動かし、その移動量を補正値として簡易に求めるこ
とができる。
【０００８】また、本発明によれば、基準マークとこの
マークを照射する可視光源とを備えた露光ステージと、
基準マークを備えたホトマスクと、前記露光ステージと
ホトマスクの間に配設した光学系と、前記ホトマスク越
しに前記露光ステージの基準マークを観察するアライメ
ントスコープとを有し、前記露光ステージ上にガラス基
板を設置し、前アライメントスコープを覗き、前記ホト
マスクの基準マークと露光ステージとの基準マークが一
致するように露光ステージを動かすことを特徴とする反
射型露光装置のプリアライメント装置が得られる。
マークを照射する可視光源とを備えた露光ステージと、
基準マークを備えたホトマスクと、前記露光ステージと
ホトマスクの間に配設した光学系と、前記ホトマスク越
しに前記露光ステージの基準マークを観察するアライメ
ントスコープとを有し、前記露光ステージ上にガラス基
板を設置し、前アライメントスコープを覗き、前記ホト
マスクの基準マークと露光ステージとの基準マークが一
致するように露光ステージを動かすことを特徴とする反
射型露光装置のプリアライメント装置が得られる。
【０００９】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態について
図面を参照して詳細に説明する。図１（ａ）は本発明の
一実施の形態の断面図であり、図１（ｂ）は露光ステー
ジ部分の平面図である。
図面を参照して詳細に説明する。図１（ａ）は本発明の
一実施の形態の断面図であり、図１（ｂ）は露光ステー
ジ部分の平面図である。
【００１０】図１を参照すると、露光ステージ１上の３
ケ所の基準ピン３に押し付けたガラス基板２の外周に一
致する３ケ所にガラスに十字マークを印字した基準マー
ク４を埋め込みかつ、基準マーク４下には可視ＬＥＤ５
を設置し、可視ＬＥＤ５を点灯させておく。またホトマ
スク６にも露光ステージ１とアライメントする基準マー
ク７を備える。第１層の露光を実行する際、ホトマスク
６の基準マーク７越しにアライメントコープ９より露光
ステージ１上の基準マーク４を見てホトマスク６上の基
準マーク７と露光ステージ１上の基準マーク４が一致す
るように露光ステージ１と連動したスティクを動かしＸ
ステージ１３、Ｙステージ１４、θステージ１５を移動
させ露光ステージ原点からの移動量を計測し記憶させて
おく。
ケ所の基準ピン３に押し付けたガラス基板２の外周に一
致する３ケ所にガラスに十字マークを印字した基準マー
ク４を埋め込みかつ、基準マーク４下には可視ＬＥＤ５
を設置し、可視ＬＥＤ５を点灯させておく。またホトマ
スク６にも露光ステージ１とアライメントする基準マー
ク７を備える。第１層の露光を実行する際、ホトマスク
６の基準マーク７越しにアライメントコープ９より露光
ステージ１上の基準マーク４を見てホトマスク６上の基
準マーク７と露光ステージ１上の基準マーク４が一致す
るように露光ステージ１と連動したスティクを動かしＸ
ステージ１３、Ｙステージ１４、θステージ１５を移動
させ露光ステージ原点からの移動量を計測し記憶させて
おく。
【００１１】次に、本発明の実施の形態の動作について
図２を参照して詳細に説明する。露光しようとするガラ
ス基板２が、露光ステージ１に供給される（ステップ２
０１）。次に、Ｐ１基準マーク４ａがアライメントスコ
ープ９下に来るように、露光ステージ１を移動する（ス
テップ２０２）。次に、Ｐ１基準マーク４ａにおいて露
光ステージ１及びマスク基準マーク７との一致度が、許
容範囲かオペレータが目視で判断する（ステップ２０
３）。判断基準は、ホトマスク基準マーク７の十字内に
Ｐ１基準マーク４ａの十字が均等に一致するまでとす
る。次に、一致度が許容範囲外の場合（ステップ２０
５）、Ｘステージ１３、Ｙステージ１４、θステージ１
５を動かし許容範囲まで追い込む（ステップ２０６）。
一致度が許容範囲内の場合（ステップ２０４）、Ｐ２基
準マーク４ｂ，Ｐ２基準マーク４ｃに移動する（ステッ
プ２０７）。Ｐ２、Ｐ３基準マークにおいて一致度を確
認する（ステップ２０８）。一致度が許容範囲外の場合
（ステップ２０９）、Ｘステージ１３、Ｙステージ１
４、θステージ１５を動かし許容範囲まで追い込む（ス
テップ２０６）。一致度が許容範囲内の場合（ステップ
２１０）、ステージ移動量をプリアライメント補正値と
して装置に記憶させる（ステップ２１１）。その後、本
露光する（ステップ２１２）。
図２を参照して詳細に説明する。露光しようとするガラ
ス基板２が、露光ステージ１に供給される（ステップ２
０１）。次に、Ｐ１基準マーク４ａがアライメントスコ
ープ９下に来るように、露光ステージ１を移動する（ス
テップ２０２）。次に、Ｐ１基準マーク４ａにおいて露
光ステージ１及びマスク基準マーク７との一致度が、許
容範囲かオペレータが目視で判断する（ステップ２０
３）。判断基準は、ホトマスク基準マーク７の十字内に
Ｐ１基準マーク４ａの十字が均等に一致するまでとす
る。次に、一致度が許容範囲外の場合（ステップ２０
５）、Ｘステージ１３、Ｙステージ１４、θステージ１
５を動かし許容範囲まで追い込む（ステップ２０６）。
一致度が許容範囲内の場合（ステップ２０４）、Ｐ２基
準マーク４ｂ，Ｐ２基準マーク４ｃに移動する（ステッ
プ２０７）。Ｐ２、Ｐ３基準マークにおいて一致度を確
認する（ステップ２０８）。一致度が許容範囲外の場合
（ステップ２０９）、Ｘステージ１３、Ｙステージ１
４、θステージ１５を動かし許容範囲まで追い込む（ス
テップ２０６）。一致度が許容範囲内の場合（ステップ
２１０）、ステージ移動量をプリアライメント補正値と
して装置に記憶させる（ステップ２１１）。その後、本
露光する（ステップ２１２）。
【００１２】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
【００１３】図３（ａ）を参照すると、本発明の実施例
は露光ステージ１下に厚さ２ｍｍ，直径１０ｍｍのガラ
ス板４に幅ｄ１が５０μｍ、長さＬが２５０μｍの十字
マーク１６を印字した基準マークを埋め込みかつ、その
基準マーク下には、赤色ＬＥＤ５を点灯させる。また、
ホトマスク６にはＰ‘１〜Ｐ‘３に線間ｄ２が１００μ
ｍの十字マーク１７を印字する。これらマークを同士
を、露光ステージ１を移動し、ホトマスク６の基準マー
ク７の十字マーク１７に露光ステージ基準マーク４の十
字マーク１６が、上下左右ともに、均等になるようにす
ることで、プリアライメント要求精度２００μｍに対
し、２５μｍまで追い込める。
は露光ステージ１下に厚さ２ｍｍ，直径１０ｍｍのガラ
ス板４に幅ｄ１が５０μｍ、長さＬが２５０μｍの十字
マーク１６を印字した基準マークを埋め込みかつ、その
基準マーク下には、赤色ＬＥＤ５を点灯させる。また、
ホトマスク６にはＰ‘１〜Ｐ‘３に線間ｄ２が１００μ
ｍの十字マーク１７を印字する。これらマークを同士
を、露光ステージ１を移動し、ホトマスク６の基準マー
ク７の十字マーク１７に露光ステージ基準マーク４の十
字マーク１６が、上下左右ともに、均等になるようにす
ることで、プリアライメント要求精度２００μｍに対
し、２５μｍまで追い込める。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように本発明の第１の効果
は、装置が簡易である、ということである。これにより
低価格で供給できる。その理由は、露光ステージ及びホ
トマスクに基準マークを備えるだけで、高額な位置精度
を出す計測器は不要となるからである。
は、装置が簡易である、ということである。これにより
低価格で供給できる。その理由は、露光ステージ及びホ
トマスクに基準マークを備えるだけで、高額な位置精度
を出す計測器は不要となるからである。
【図１】（ａ），（ｂ）はこの発明の一実施の形態を示
す側面図と露光ステージ部分の平面図である。
す側面図と露光ステージ部分の平面図である。
【図２】図１の反射型露光装置におけるプリアライメン
ト補正動作を示すフローチャートである。
ト補正動作を示すフローチャートである。
【図３】（ａ），（ｂ）は図１の基準マーク４、７の側
面図と上面図である。
面図と上面図である。
【図４】従来技術の拡大投影型露光装置の構成を示す外
観斜視図である。
観斜視図である。
【図５】図４の従来技術におけるプリアライメント補正
動作を示すフローチャートである。
動作を示すフローチャートである。
１ 露光ステージ ２ ガラス基板 ３ 基準ピン ４，７ 基準マーク ５ ＬＥＤ ６ ホトマスク ８ ミラー ９ アライメントスコープ １０ 台形ミラー １１ 凹ミラー １２ 凸ミラー １３ Ｘステージ １４ Ｙステージ １５ θステージ １６，１７ 十字マーク １０１ レチクル １０２ 投影レンズ １０３ ガラス基板 １１０〜１１２ レーザ干渉計 １１３ 基準マーク １１４〜１１７ アライメントスコープ １１９〜１２２ レーザ変位計
Claims (2)
- 【請求項１】 反射型露光装置のプリアライメント方法
において、露光ステージ上とホトマスク上に基準マーク
を備え、その露光ステージ上とホトマスク上の基準マー
クを、アライメントスコープを通して観察し所定の精度
追い込むため、ステージを動かしその移動量をもとめ、
所定のプリアライメント精度で露光できることを特徴と
する反射型露光装置のプリアライメント方法。 - 【請求項２】 基準マークとこのマークを照射する可視
光源とを備えた露光ステージと、基準マークを備えたホ
トマスクと、前記露光ステージとホトマスクの間に配設
した光学系と、前記ホトマスク越しに前記露光ステージ
の基準マークを観察するアライメントスコープとを有
し、前記露光ステージ上にガラス基板を設置し、前アラ
イメントスコープを覗き、前記ホトマスクの基準マーク
と露光ステージとの基準マークが一致するように露光ス
テージを動かすことを特徴とする反射型露光装置のプリ
アライメント装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9172384A JPH1116823A (ja) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | 反射型露光装置のプリアライメント方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9172384A JPH1116823A (ja) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | 反射型露光装置のプリアライメント方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1116823A true JPH1116823A (ja) | 1999-01-22 |
Family
ID=15940926
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9172384A Pending JPH1116823A (ja) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | 反射型露光装置のプリアライメント方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1116823A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016048273A (ja) * | 2014-08-27 | 2016-04-07 | 株式会社オーク製作所 | 描画装置 |
| CN113155775A (zh) * | 2020-12-31 | 2021-07-23 | 苏州晓创光电科技有限公司 | 一种近红外光谱的标定方法及其应用的水果品质检测系统 |
-
1997
- 1997-06-27 JP JP9172384A patent/JPH1116823A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016048273A (ja) * | 2014-08-27 | 2016-04-07 | 株式会社オーク製作所 | 描画装置 |
| TWI660246B (zh) * | 2014-08-27 | 2019-05-21 | 日商奧克製作所股份有限公司 | 描繪裝置 |
| CN113155775A (zh) * | 2020-12-31 | 2021-07-23 | 苏州晓创光电科技有限公司 | 一种近红外光谱的标定方法及其应用的水果品质检测系统 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20000201 |