KR20010052314A - 금속 기지 복합물 로터 및 스테이터를 가지는 터보-분자펌프 - Google Patents

금속 기지 복합물 로터 및 스테이터를 가지는 터보-분자펌프 Download PDF

Info

Publication number
KR20010052314A
KR20010052314A KR1020007012370A KR20007012370A KR20010052314A KR 20010052314 A KR20010052314 A KR 20010052314A KR 1020007012370 A KR1020007012370 A KR 1020007012370A KR 20007012370 A KR20007012370 A KR 20007012370A KR 20010052314 A KR20010052314 A KR 20010052314A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
metal matrix
turbo
vacuum processing
rotor
molecular pump
Prior art date
Application number
KR1020007012370A
Other languages
English (en)
Inventor
마사노리 오노
Original Assignee
조셉 제이. 스위니
어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 조셉 제이. 스위니, 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 filed Critical 조셉 제이. 스위니
Publication of KR20010052314A publication Critical patent/KR20010052314A/ko

Links

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D19/00—Axial-flow pumps
    • F04D19/02—Multi-stage pumps
    • F04D19/04—Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D29/00—Details, component parts, or accessories
    • F04D29/02—Selection of particular materials
    • F04D29/023—Selection of particular materials especially adapted for elastic fluid pumps
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F05—INDEXING SCHEMES RELATING TO ENGINES OR PUMPS IN VARIOUS SUBCLASSES OF CLASSES F01-F04
    • F05D—INDEXING SCHEME FOR ASPECTS RELATING TO NON-POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES OR ENGINES, GAS-TURBINES OR JET-PROPULSION PLANTS
    • F05D2300/00—Materials; Properties thereof
    • F05D2300/10—Metals, alloys or intermetallic compounds
    • F05D2300/12—Light metals
    • F05D2300/122—Beryllium
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F05—INDEXING SCHEMES RELATING TO ENGINES OR PUMPS IN VARIOUS SUBCLASSES OF CLASSES F01-F04
    • F05D—INDEXING SCHEME FOR ASPECTS RELATING TO NON-POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES OR ENGINES, GAS-TURBINES OR JET-PROPULSION PLANTS
    • F05D2300/00—Materials; Properties thereof
    • F05D2300/60—Properties or characteristics given to material by treatment or manufacturing
    • F05D2300/603—Composites; e.g. fibre-reinforced
    • F05D2300/6032—Metal matrix composites [MMC]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

본 발명은 진공 프로세싱 챔버 및 금속 기지 복합물로 구성된 로터 및/또는 스테이터를 가지는 터보-분자 펌프를 포함하는 진공 프로세싱 시스템을 제공한다. 본 발명의 다른 관점은 금속 기지 복합물로 구성된 로터 및/또는 스테이터를 가지는 터보-분자 펌프를 제공하는 것이다. 금속 기지 복합물은 로터 및 스테이터에서 현재 사용되는 알루미늄 합금 보다 더 높은 작동 온도를 견뎌낼 수 있으므로, 금속 기지 복합물로 제작된 로터 베인 및 스테이터 베인은 더 빠른 로터 회전을 가지면서도 더 높은 배기량을 제공한다.

Description

금속 기지 복합물 로터 및 스테이터를 가지는 터보-분자 펌프{TURBO-MOLECULAR PUMP WITH METAL MATRIX COMPOSITE ROTOR AND STATOR}
기판은 기판 상에 직접회로 또는 다른 구조를 형성하기 위해 일반적으로 다양한 에치(etch), 화학기상 증착(CVD), 물리기상 증착(PVD), 및 세정 단계를 통하여 처리된다. 이와 같은 단계는 일반적으로 환경적으로 고립된 진공 밀봉된 기판 프로세싱 챔버 내에서 수행된다. 기판 프로세싱 챔버는 일반적으로 측면벽, 바닥, 및 리드(lid)를 가지는 엔클로저(enclosure)를 포함한다. 기판 지지 부재는 정전 척(chuck) 또는 진공 척과 같은 전기적 또는 기계적 수단에 의해 프로세싱 동안 정위치에 기판을 고정하기 위해 챔버내에 설치된다. 슬릿 밸브(slit vavle)는 기판을 프로세싱 챔버 내로 전달하고 기판을 프로세싱 챔버로 부터 제거하기 위해 챔버의 측면벽에 설치된다. 다양한 프로세스 가스는 프로세싱 챔버의 리드를 통과하여 설치된 샤워-헤드 타입(shower-head type) 가스 입구와 같은 가스 입구를 통과하여 기판 프로세싱 챔버 내로 들어간다. 기판 프로세싱 챔버로부터 가스를 배기하기 위하여, 터보-분자 펌프와 같은 진공 펌프가 기판 프로세싱 챔버의 가스 출구에 부착된다.
플라즈마-베이스 에치(plasma-based etch) 및 CVD와 같은 기판 프로세스는 기판의 표면에서의 가스분자와 반응 이온의 반응에 매우 심하게 영향을 받는다. 왜냐하면 반응 가스 및 이온의 농도, 도착 비율, 및 방향성이 에치 비율, 에치 프로파일, 증착율, 증착 프로파일, 스텝 커버리지(step coverage) 및 프로세스 균일성과 같은 프로세스 변수를 결정하기 때문이다, 이와 같은 변수는 일반적으로 플라즈마 에너지 및 기판으로부터 플라즈마의 거리뿐만 아니라 프로세스 가스의 유동 비율 및 챔버 압력에 의해 제어된다. 특히, 플라즈마-베이스 에치 및 CVD 프로세스는 높은 프로세스 가스 유동 비율 및 상대적으로 얕은 진공 레벨을 필요로 한다. 기판 프로세싱 표면을 통과하는 반응물의 유동 비율이 증가함에 따라(즉 진공 펌프의 입력량이 높은 체적을 배기하기 위해 증가한다), 프로세스의 완료에 대한 필요한 시간은 감소한다. 따라서, 프로세싱 챔버의 입력량을 증가시키기 위해서는, 플라즈마-베이스 에치 및 CVD 특히 고밀도 플라즈마(HDP) 프로세스를 사용하는 진공 펌핑 시스템은 높은 입력량 또는 배기량을 가져야한다. 나아가, 챔버의 크기가 대형 기판(즉 300mm 기판)을 수용하기 위해 증가하는 경우, 터보-분자 펌프와 같은 대형 챔버가 사용된 진공 펌프는 이에 상응하는 더 큰 배기량을 제공하여야 한다.
진공 펌프의 입력량 또는 배기량을 증가시키고 프로세싱 챔버로부터 가스를 배기 하는데 걸리는 시간을 감소시키기 위하여, 터보-분자 펌프의 펌프크기(즉 물리적 용량 및 크기)는 일반적으로 확대된다. 그러나, 현존하는 시스템에서 이를 만족하는 대형 펌프는 대개 고가이며 챔버의 가스 출구로부터 대형 터보-분자 펌프의 가스 입구까지의 변화를 제공하는데 필요한 파이프 피팅(pipe fittings)은 많은 시간을 소모한다. 나아가, 대형 펌프는 일반적으로 상당한 고가이며 프로세싱 시스템의 더 큰 "풋프린트(footprint)"를 필요로 한다. 더 큰 풋프린트는 매우 귀중한 청정-룸 공간을 차지하며 또한 프로세싱 장비의 재배치를 필요로 한다.
배기 시간을 감소시키고 펌프의 입력량을 증가시키는 또 다른 방법은 터보-분자 펌프의 로터의 회전속도를 증가시키는 것이다. 그러나, 진공 펌프를 통과하는 프로세스 가스의 높은 입력량으로 인해, 반응물의 부산물은 물론 사용되지 않은 반응물도 높은 비율로 프로세싱 챔버로부터 제거되며 진공 펌프내의 구성요소의 표면에 들러붙거나 반응한다. 이로 인해 구성요소는 급격히 가열되며 이는 펌프뿐만 아니라 구성요소의 파괴를 초래한다. 예를 들면, HDP의 적용에 있어, 로터와 같은 펌프의 구성요소는 120℃이상 가열되며, 높은 온도로 인한 응력은 구성요소 및 펌프의 물리적 파괴를 초래한다.
그러므로, 현존하는 터보-분자 펌프와 근사한 크기를 가지면서도 더 큰 배기량을 제공하는 터보-분자 진공 펌프의 필요성이 제기된다. 부가적으로, 현존하는 시스템의 입력량을 개선하기 위해 현존하는 프로세싱 챔버의 개선이 가능한 터보-분자 펌프의 필요성도 제기된다.
본 발명은 일반적으로 반도체 공정에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 반도체 프로세싱(processing)에 사용되는 진공 프로세싱 챔버를 진공시키기 위한 터보-분자 진공 펌프(turbo-molecular vaccum pump)에 관한 것이다.
도 1은 터보-분자 펌프(10)가 부착된 진공 기판 프로세싱 챔버(100)의 개략적인 단면도이다.
도 2는 본 발명의 터보-분자 펌프(10)의 단면도이다.
본 발명은 현존하는 터보-분자 펌프와 근사한 물리적 크기를 가지면서도 더 큰 배기량을 제공하는 터보-분자 진공 펌프를 제공한다. 본 발명은 또한 현존하는 시스템의 입력량을 개선하기 위해 현존하는 프로세싱 챔버의 개선이 가능한 터보-분자 펌프를 제공한다.
본 발명의 다른 관점은 진공 프로세싱 챔버 및 진공 프로세싱 챔버상에 설치된 터보-분자 펌프를 포함하는 진공 프로세싱 시스템을 제공한다. 터보-분자 펌프는 입력포트 및 출력포트를 가지는 케이스, 케이스의 내측 표면 위에 설치된 스테이터, 스테이터 내의 로터, 및 로터와 함께 동축방향으로 연장하는 모터를 포함하며, 여기서 로터/로터 베인 및 스테이터/스테이터 베인은 금속 기지 복합물로 만들어진다. 선택적으로, 단지 로터 및 로터 베인 만이 금속 기지 복합물로 만들어진다.
금속 기지 복합물은 금속 기지 및 강화 첨가물을 포함한다. 바람직하게, 금속 기지는 알루미늄을 포함하며, 강화 첨가물은 탄화규소 휘스커, 붕소 금속의 섬유질, 탄소의 섬유질, 규산염 알루미늄의 섬유질, 산화 알루미늄의 섬유질, 산화 알루미늄 입자, 탄화 붕소 입자, 실리콘 헥사보라이드 입자 및 탄화 규소 입자로 구성된 집단으로부터 선택된 첨가물을 포함한다. 바람직하게는, 터보-분자 펌프의 로터 및 스테이터는 금속 기지 복합물로 만들어진다.
상기 언급된 본 발명의 특성, 장점, 및 목적을 첨부된 도면에서 도시된 실시예를 참고로 하면 더욱더 자세히 이해할 수 있으며 이를 간단히 요약할 수 있다.
그러나, 첨부된 도면은 본 발명의 단지 하나의 실시예에 불과하며 따라서 본 발명의 영역을 한정하지 않으며 다른 등가의 실시예를 모두 포함한다.
본 발명은 금속 기지 복합물(metal matrix composite)로 구성된 로터 및/또는 스테이터(stator)를 가지는 터보-분자 펌프를 제공한다. 금속 기지 복합물은 로터와 스테이터에 현재 사용되는 알루미늄 합금보다 더 높은 작동온도를 견딜 수 있기 때문에, 금속 기지 복합물로 만들어진 로터 베인(vanes) 및 스테이터 베인은 더 빠른 로터 회전을 가지면서 더 높은 배기량을 제공한다.
도 1은 챔버에 부착된 터보-분자 펌프(10)를 가지는 진공 기판 프로세싱 챔버(100)의 개략적인 단면도이다. 챔버(100)는 기판(150)이 에칭, 증착, 세정, 냉각, 및/또는 다른 전-프로세싱 및 후-프로세싱 단계를 거치는 고립된 환경을 제공한다. 기판 프로세싱 챔버(100)는 일반적으로 측면벽(104), 바닥(106), 및 리드(108)를 가지는 엔클로져를 포함한다. 바닥(106) 위에 설치된 기판 지지 부재(110)는 프로세싱 동안 정위치에 기판(150)을 고정한다. 기판 지지 부재(110)는 일반적으로 진공척 또는 정전기적척을 포함한다. 슬릿 밸브(112)는 기판(150) 프로세싱 챔버 내로의 전달 및 기판 프로세싱 챔버(100)로부터의 제거를 위해 챔버의 측면벽(104)에 설치된다. 다양한 프로세스 가스는 프로세싱 챔버(100)의 리드(108)를 통과하여 설치된 샤워-헤드 타입 가스 입구와 같은 가스 입구(120)를 통과하여 기판 프로세싱 챔버 내로 들어간다. 기판 프로세싱 챔버로부터 가스를 배기 하기 위하여, 터보-분자 펌프(10)와 같은 진공 펌프가 기판 프로세싱 챔버의 가스 출구(130)에 부착된다.
도 2는 본 발명의 터보-분자 펌프(10)의 단면도이다. 터보-분자 펌프(10)는 일반적으로 원통형의 케이스(72), 케이스(72)의 하부에 인접한 바닥(74), 케이스(72)내에서 동축방향으로 설치된 로터(40), 로터(40)내에서 동축방향으로 설치된 모터(20), 및 케이스(72)로부터 방사형으로 내측방향으로 연장된 스테이터(30)를 포함한다. 케이스(72)는 터보-분자 펌프(10)의 지지 구조물을 제공하며 케이스(72)의 상부를 통과하여 설치된 입구포트(12)를 포함한다. 출구포트(14)는 바닥(74)을 통과하여 설치되며 가스의 재충전과 처리를 위한 다양한 호스 및 탱크에 부착된다. 모터(20)는 중심축에 대해 로터를 회전시키는 전기적/기계적 모터이다.
로터(40)는 중앙 실린더로부터 방사형으로 바깥쪽으로 연장되는 모터(20)부를 수용하는 다수의 로터 베인(46)을 포함한다. 로터 베인(46)은 로터(40)의 높이를 따라 축방향 간격 또는 높이로 배열된다. 스테이터(30)는 케이스(72)로부터 방사형으로 내측으로 연장하는 다수의 스테이터 베인(36)을 포함한다. 스테이터 베인(36)은 로터 베인(46)과 번갈아서 축방향 높이로 배열되며, 다수의 스페이서 링(spacer ring;38)은 로터 베인(46)이 스테이터 베인(36)사이를 자유롭게 회전하도록 스테이터 베인(36)의 높이를 다르게 분리시킨다. 바람직하게는, 로터(40)는 케이스와 함께 부앙상태 및 스테이터 베인(36) 사이의 간격을 유지하도록 자석 베어링에 의해 부양된다. 선택적으로, 로터는 기계적 베어링에 의해 부양된다. 로터 베인(46) 및 스테이터 베인(36)은 입구포트(12)에서 출구포트(14)까지 가스를 펌프 하도록 구체화되어 있으며 로터 베인(46)이 스테이터 베인(36) 사이를 회전하는 경우 진공 프로세싱 챔버로의 역 유동을 방지하도록 되어있다. 바람직하게는, 로터 베인(46) 및 스테이터 베인(36)은 높은 배기량 및 터보-분자 펌프에 대한 최고 작동 온도를 제공하기 위해 금속 기지 복합물을 포함한다.
본 발명에 의해 고려된 금속 기지 복합물은 일반적으로 알루미늄 또는 마그네슘과 같은 기지 금속과 세라믹과 같은 첨가물의 합성물을 포함한다. 금속과 세라믹의 합성은 일반적으로 탄성계수 및 금속의 팽창 계수를 증가시킨다. 예를 들면, 탄화규소 휘스커(silicon carbide whisker)와 같은 섬유질 재료는 기지 금속의 기계적 강도를 증가시킨다. 따라서, 금속 기지 복합물로 만들어진 로터 베인 및 스테이터 베인은 일반적인 알루미늄 합금과 비교하여 볼 때 우수한 기계적 강도로 인해 높은 작동 온도에서도 견뎌낸다. 금속 기지 복합물에서 사용하는 다른 첨가물은 붕소 금소, 탄소, 규산염 알루미늄(aluminum silicate), 및 산화 알루미늄의 섬유질, 탄화붕소, 실리콘 헥사보라이드(silicon hexaboride) 및 탄화규소를 포함한다. 알루미늄 합금과 비슷한 특성이나 기계적 강도가 개선된 특성을 나타내는 어떤 특징적인 금속 기지 복합물은 중앙에 SiC입자를 가지고 주위에 알루미늄이 채워진 탄화규소(SiC) 복합물이다.
작동 중에, 기판(150)은 슬릿밸브(112)를 통과하여 챔버(100)내로 전달되며 기판 지지 부재(110)위에 위치한다. 기판 지지 부재(110)는 프로세싱 동안 기판을 지지한다. 프로세싱을 개시하기 위해, 슬릿밸브(112)는 챔버(100)내의 밀봉된 환경을 제공하기 위해 밀폐되며, 챔버(100)는 요구되는 진공 레벨로 터보-분자 펌프(10)에 의해 진공 상태가 된다. 프로세싱 가스는 이때 가스입구(120)를 통과하여 챔버(100)내로 주입되며 플라즈마는 CVD 프로세스를 증가시키기 위해 챔버(100내에서 점화된다. CVD 프로세스가 계속됨에 따라, 터보-분자 펌프(10)는 프로세싱 동안 프로세스 챔버내(10)의 적절한 압력을 유지하기 위하여 프로세싱 가스와 반응적 부산물을 계속 펌프 한다. 본 발명에 의해 금속 기지 복합물로 만들어진 로터 베인 및 스테이터 베인을 가지는 터보-분자 펌프는 로터 속도 및 펌프의 상응하는 필요한 더 높은 작동 온도를 증가시킴으로서 더 높은 배기량을 제공한다. 본 발명의 터보-분자 펌프는 프로세스 시간을 감소시키고 입력량을 증가시키기 위한 더 높은 프로세스 가스의 유동 비율을 허용한다. 프로세싱 후에, 기판(150)은 챔버(100)의 밖으로 전달되고, 다른 기판이 프로세스 되도록 챔버 내로 전달된다.
비록 기판 증착 프로세스가 CVD 챔버에 대하여 기술되었지만, 본 발명의 장점은 다른 진공 프로세싱 챔버 및 터보-분자 펌프를 응용하는 진공 프로세싱 시스템에 대하여도 동등하게 실현할 수 있다.
전술한 내용이 본 발명의 바람직한 실시예에 관한 것 이지만, 본 발명의 다른 실시예는 본 발명의 범주에서 벗어남이 없이 발명될 수 있으며 본 발명의 범주는 이하에서 기술되는 청구범위에 의해 결정된다.

Claims (15)

  1. (a) 진공 프로세싱 챔버, 및
    (b) 상기 진공 프로세싱 챔버 내에 설치된 터보-분자 펌프를 포함하며,
    상기 터보-분자 펌프가
    (ⅰ) 입력포트 및 출력포트를 가지는 케이스,
    (ⅱ) 상기 케이스의 내측 표면으로부터 방사내향으로 연장하는 다수의 스테이터 베인을 가지는 스테이터,
    (ⅲ) 상기 스테이터 베인과 함께 번갈아 배열되도록 설치되며, 금속 기지 복합물을 포함하는 다수의 로터 베인을 가지는 로터, 및
    (ⅳ) 상기 로터와 동축방향으로 설치된 모터를 포함하는 진공 프로세싱 시스템.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 진공 프로세싱 챔버가 화학기상 증착 챔버인 진공 프로세싱 시스템.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 진공 프로세싱 챔버가 에치 챔버인 진공 프로세싱 시스템.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 스테이터 베인이 금속 기지 복합물을 포함하는 진공 프로세싱 시스템.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 금속 기지 복합물이 금속 기지 및 강화 첨가물을 포함하는 진공 프로세싱 시스템.
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 금속 기지가 알루미늄인 진공 프로세싱 시스템.
  7. 제 6 항에 있어서, 상기 강화 첨가물이 탄화규소 휘스커, 붕소 금속의 섬유질, 탄소의 섬유질, 규산염 알루미늄의 섬유질, 산화 알루미늄의 섬유질, 산화 알루미늄 입자, 탄화 붕소 입자, 실리콘 헥사보라이드 입자 및 탄화규소 입자로 구성된 집단으로부터 선택된 첨가물을 포함하는 진공 프로세싱 시스템.
  8. 프로세싱 챔버로부터 가스를 빼내기 위한 장치에 있어서,
    (a) 금속 기지 복합물로 구성된 다수의 로터 베인을 가지는 터보-분자 펌프를 포함하는 장치.
  9. 제 8 항에 있어서, 상기 터보-분자 펌프가 금속 기지 복합물로 구성된 로터를 가지는 장치.
  10. 제 8 항에 있어서, 상기 터보-분자 펌프가 금속 기지 복합물로 구성된 다수의 스테이터 베인을 가지는 장치.
  11. 제 10 항에 있어서, 상기 터보-분자 펌프가 금속 기지 복합물로 구성된 스테이터를 가지는 장치.
  12. 제 8 항에 있어서, 상기 금속 기지 복합물이 금속 기지 및 강화 첨가물을 포함하는 장치.
  13. 제 12 항에 있어서, 상기 금속 기지가 알루미늄인 장치.
  14. 제 12 항에 있어서, 상기 강화 첨가물이 탄화규소 휘스커, 붕소 금속의 섬유질, 탄소의 섬유질, 규산염 알루미늄의 섬유질, 산화 알루미늄의 섬유질, 산화 알루미늄 입자, 탄화 붕소 입자, 실리콘 헥사보라이드 입자 및 탄화규소 입자로 구성된 집단으로부터 선택된 첨가물을 포함하는 장치.
  15. (a) 진공 프로세싱 챔버, 및
    (b) 금속 기지 복합물로 구성된 다수의 로터 베인을 가지는 터보-분자 펌프를 포함하는 진공 프로세싱 시스템.
KR1020007012370A 1998-05-06 1999-05-04 금속 기지 복합물 로터 및 스테이터를 가지는 터보-분자펌프 KR20010052314A (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US9/073,899 1998-05-06
US09/073,899 US6095754A (en) 1998-05-06 1998-05-06 Turbo-Molecular pump with metal matrix composite rotor and stator
PCT/US1999/009934 WO1999057441A1 (en) 1998-05-06 1999-05-04 Turbo-molecular pump with metal matrix composite rotor and stator

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20010052314A true KR20010052314A (ko) 2001-06-25

Family

ID=22116473

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020007012370A KR20010052314A (ko) 1998-05-06 1999-05-04 금속 기지 복합물 로터 및 스테이터를 가지는 터보-분자펌프

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6095754A (ko)
JP (1) JP2002513888A (ko)
KR (1) KR20010052314A (ko)
WO (1) WO1999057441A1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100857870B1 (ko) * 2006-03-31 2008-09-10 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드 가스 분리용 터보분자 펌프 시스템

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10053664A1 (de) * 2000-10-28 2002-05-08 Leybold Vakuum Gmbh Mechanische kinetische Vakuumpumpe
JP2003254285A (ja) * 2002-02-28 2003-09-10 Boc Edwards Technologies Ltd ポンプ装置
DE10354204B4 (de) * 2003-11-20 2016-03-10 Leybold Vakuum Gmbh Molekularpumpe
JP2013526263A (ja) 2010-05-04 2013-06-20 レミー テクノロジーズ， エルエルシー 電気機械冷却システム及び方法
WO2011153533A2 (en) 2010-06-04 2011-12-08 Remy Technologies, Llc Electric machine cooling system and method
WO2011156513A2 (en) 2010-06-08 2011-12-15 Remy Technologies, Llc Electric machine cooling system and method
US8456046B2 (en) 2010-06-08 2013-06-04 Remy Technologies, Llc Gravity fed oil cooling for an electric machine
US8519581B2 (en) 2010-06-08 2013-08-27 Remy Technologies, Llc Electric machine cooling system and method
US8614538B2 (en) 2010-06-14 2013-12-24 Remy Technologies, Llc Electric machine cooling system and method
US8482169B2 (en) 2010-06-14 2013-07-09 Remy Technologies, Llc Electric machine cooling system and method
EP2623791B1 (en) * 2010-09-28 2019-12-04 Edwards Japan Limited Exhaust pump
US8446056B2 (en) 2010-09-29 2013-05-21 Remy Technologies, Llc Electric machine cooling system and method
US8593021B2 (en) 2010-10-04 2013-11-26 Remy Technologies, Llc Coolant drainage system and method for electric machines
US8508085B2 (en) 2010-10-04 2013-08-13 Remy Technologies, Llc Internal cooling of stator assembly in an electric machine
US8395287B2 (en) 2010-10-04 2013-03-12 Remy Technologies, Llc Coolant channels for electric machine stator
US8492952B2 (en) 2010-10-04 2013-07-23 Remy Technologies, Llc Coolant channels for electric machine stator
US8648506B2 (en) 2010-11-09 2014-02-11 Remy Technologies, Llc Rotor lamination cooling system and method
US8497608B2 (en) 2011-01-28 2013-07-30 Remy Technologies, Llc Electric machine cooling system and method
WO2012145302A2 (en) 2011-04-18 2012-10-26 Remy Technologies, Llc Electric machine module cooling system and method
US8692425B2 (en) 2011-05-10 2014-04-08 Remy Technologies, Llc Cooling combinations for electric machines
US8803380B2 (en) 2011-06-03 2014-08-12 Remy Technologies, Llc Electric machine module cooling system and method
US9041260B2 (en) 2011-07-08 2015-05-26 Remy Technologies, Llc Cooling system and method for an electronic machine
US8803381B2 (en) 2011-07-11 2014-08-12 Remy Technologies, Llc Electric machine with cooling pipe coiled around stator assembly
US8546982B2 (en) 2011-07-12 2013-10-01 Remy Technologies, Llc Electric machine module cooling system and method
US9048710B2 (en) 2011-08-29 2015-06-02 Remy Technologies, Llc Electric machine module cooling system and method
US8975792B2 (en) 2011-09-13 2015-03-10 Remy Technologies, Llc Electric machine module cooling system and method
US9099900B2 (en) 2011-12-06 2015-08-04 Remy Technologies, Llc Electric machine module cooling system and method
US9331543B2 (en) 2012-04-05 2016-05-03 Remy Technologies, Llc Electric machine module cooling system and method
US10069375B2 (en) 2012-05-02 2018-09-04 Borgwarner Inc. Electric machine module cooling system and method
DE102012222230A1 (de) 2012-12-04 2014-06-05 Pfeiffer Vacuum Gmbh Vakuumpumpe
JP2015059426A (ja) * 2013-09-17 2015-03-30 エドワーズ株式会社 真空ポンプの固定部品
DE202013010195U1 (de) * 2013-11-12 2015-02-18 Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh Vakuumpumpen-Rotoreinrichtung sowie Vakuumpumpe
EP4123182A1 (de) * 2022-12-01 2023-01-25 Pfeiffer Vacuum Technology AG Vakuumpumpe und verfahren zur herstellung eines statorbauteils für einen stator einer vakuumpumpe

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3762835A (en) * 1971-07-02 1973-10-02 Gen Electric Foreign object damage protection for compressor blades and other structures and related methods
JPS59215982A (ja) * 1983-05-20 1984-12-05 Nippon Piston Ring Co Ltd 回転式流体ポンプ用ロータ及びその製造方法
US4913619A (en) * 1988-08-08 1990-04-03 Barrett Haentjens & Co. Centrifugal pump having resistant components
FR2659396B1 (fr) * 1990-03-07 1992-05-15 Cit Alcatel Pompe a vide pour vide moleculaire propre.
DE4239391C2 (de) * 1991-11-27 1996-11-21 Electro Chem Eng Gmbh Gegenstände aus Aluminium, Magnesium oder Titan mit einer mit Fluorpolymeren gefüllten Oxidkeramikschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung
JP2527398B2 (ja) * 1992-06-05 1996-08-21 財団法人真空科学研究所 タ―ボ分子ポンプ
GB2267912A (en) * 1992-06-15 1993-12-22 Secr Defence Metal matrix for composite materials
US5439750A (en) * 1993-06-15 1995-08-08 General Electric Company Titanium metal matrix composite inserts for stiffening turbine engine components
US5524699A (en) * 1994-02-03 1996-06-11 Pcc Composites, Inc. Continuous metal matrix composite casting
US5490764A (en) * 1994-05-23 1996-02-13 General Electric Company Unshrouded blading for high bypass turbofan engines
JP3331749B2 (ja) * 1994-06-27 2002-10-07 松下電器産業株式会社 真空ポンプ
US5516380A (en) * 1994-10-14 1996-05-14 General Electric Company NiAl intermetallic alloy and article with improved high temperature strength
US5573607A (en) * 1995-05-06 1996-11-12 Millennium Materials, Inc. Metal matrix composites of aluminum, magnesium and titanium using silicon borides
FI952698A0 (fi) * 1995-06-02 1995-06-02 Imatran Voima Oy Foerfarande och anordning foer gjutning av en metallmatriskompositstruktur
US5728638A (en) * 1996-08-21 1998-03-17 Bfd, Inc. Metal/ceramic composites containing inert metals

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100857870B1 (ko) * 2006-03-31 2008-09-10 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드 가스 분리용 터보분자 펌프 시스템

Also Published As

Publication number Publication date
US6095754A (en) 2000-08-01
JP2002513888A (ja) 2002-05-14
WO1999057441A1 (en) 1999-11-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20010052314A (ko) 금속 기지 복합물 로터 및 스테이터를 가지는 터보-분자펌프
KR100861143B1 (ko) 터보-분자 펌프, 그 펌프를 포함하는 진공 처리 시스템 및 가스 배기 장치
US8118936B2 (en) Method and apparatus for an improved baffle plate in a plasma processing system
KR100504614B1 (ko) 반도체 처리를 위한 가스 분산장치
US7678226B2 (en) Method and apparatus for an improved bellows shield in a plasma processing system
KR100231255B1 (ko) 처리장치의 진공배기 시스템
KR20050071354A (ko) 공정 진공 챔버로부터 가스를 배기하는 방법 및 진공 배기장치
WO2006062576A2 (en) Method and apparatus for improved baffle plate
KR19980033001A (ko) 화학 증착 플라즈마 반응기에서의 면판 열 초크
CN113169101B (zh) 用于基板处理腔室的泵送设备与方法
WO2004095532A2 (en) A barrier layer for a processing element and a method of forming the same
KR100671596B1 (ko) 반도체 웨이퍼 처리 시스템을 세정하기 위한 방법 및장치, 및 상기 시스템을 제어하기 위한 컴퓨터 판독가능한 매체
KR20080056192A (ko) 반도체 처리용 펌프 장치
US11781552B2 (en) Vacuum pump system and vacuum pump
JPS60234313A (ja) プラズマ処理装置
JP6353257B2 (ja) 排気口部品、および真空ポンプ
WO2004034455A1 (ja) プラズマ処理装置，プラズマ処理装置に用いる処理容器，及びプラズマ処理装置に用いる誘電体板
CN218123349U (zh) 一种反应腔保护壳及等离子刻蚀设备
KR20050072291A (ko) 화학기상증착장비
CN115472484A (zh) 一种反应腔保护壳及等离子刻蚀设备
JPH0529798B2 (ko)
CN109767968A (zh) 下电极结构及反应腔室
KR200361897Y1 (ko) 퍼니스 장치
Troup et al. Eli “il E-JéiollklP—I it Al _| TH E n—
JPS63266813A (ja) 半導体装置の製造方法及びそれに使用する処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid