KR20060075558A

KR20060075558A - 진공 펌프

Info

Publication number: KR20060075558A
Application number: KR1020040114363A
Authority: KR
Inventors: 김도연
Original assignee: 동부일렉트로닉스 주식회사
Priority date: 2004-12-28
Filing date: 2004-12-28
Publication date: 2006-07-04

Abstract

본 발명은 진공 펌프에 관한 것으로서 공정 챔버와 유입관을 통해 연결되어 공정 진행 중에 상기 공정 챔버 내에서 생성되는 공정 부산물이 유입되는 스테이지와, 상기 스테이지 내에 샤프트에 의해 회전되도록 설치되어 유입된 공정 부산물을 배기관을 통해 외부와 배기시키는 회전체와, 상기 스테이지 내부에 가스 공급관을 통해 공급되는 불활성 가스를 가열시키는 히터를 포함한다. 따라서, 공정 부산물이 마지막 스테이지의 내측에 부착되지 않도록 하므로 회전체와 내벽 사이의 간격이 좁아지는 것을 방지할 수 있다.

진공 펌프, 스테이지, 공정 부산물, 퍼지, 질소 가스, 히터

Description

진공 펌프{Vaccum pump}

도 1은 종래 기술에 따른 진공 펌프의 구성도.

도 2는 본 발명에 따른 진공 펌프의 구성도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*

31 : 스테이지 33 : 회전체

35 : 샤프트 37 : 유입관

39 : 연결관 41 : 배기관

43 : 가스 공급관 45 : 히터

본 발명은 진공 펌프에 관한 것으로서, 특히, 다수 개의 스테이지(stage)가 직렬로 이루어져 증착 장비의 챔버 내의 증착 공정에 사용되었된 공정 가스 및 부산물을 배기하는 진공 펌프에 관한 것이다.

반도체 제조에 있어서 화학기상증착(CVD) 또는 물리기상증착(PVD) 등의 방법으로 도전층 또는 절연층을 적층한다. 상기에서 도전층 또는 절연층을 각각의 증착 장비를 이용하여 적층하는데, 이 증착 장비의 챔버 내부를 진공 펌프를 사용하여 통상 진공 상태에서 진행한다. 그러므로, 증착 장비를 사용하여 적층을 할 때에는 공정 전에 챔버 내부를 배기하여 진공 상태로 만들어야 할 뿐만 아니라 공정 중에도 배기하여 진공 상태를 유지시켜야 한다.

상기에서 진공 펌프는 1개 또는 다수 개의 스테이지가 직렬로 이루어며, 이 스테이지 내부에는 샤프트(shaft)에 의해 회전되어 공기를 이웃하는 스테이지 또는 외부로 배기하는 회전체로 이루진다.

반도체 공정 중 CVD 공정은 특성상 공정 챔버 내에 많은 량의 공정 부산물(by-productor)가 발생되는데, 이러한 공정 부산물은 배기시 진공 펌프의 내부, 특히, 마지막 스테이지의 내벽에 많은 량이 적층된다. 이러한, 마지막 스테이지에 적층되는 공정 부산물에 의해 회전체와 내벽 사이의 간격이 좁아져 진공 효율이 저하될 뿐만 아니라 샤프트를 회전시키기 위한 전력의 소모량이 증가된다. 그러므로, 진공 펌프의 스테이지 내부에 공정 부산물이 적층되는 것을 방지하여야 한다.

도 1은 종래 기술에 따른 진공 펌프의 구성도이다.

도 1은 종래 기술에 따른 진공 펌프는 스테이지(11), 회전체(13), 샤프트(15) 및 가스 공급관(23)으로 구성된다.

상기에서 스테이지(11)는 다수 개가 직렬로 이루어진다. 다수 개의 스테이지(11)는 첫번째의 것이 유입관(17)을 통해 공정 챔버(도시되지 않음)와 연결되어 이 공정 챔버 내의 공정 부산물이 유입되며, 마지막의 것이 배기관(21)을 통해 외부와 연결되어 공정 부산물을 외부로 배출시키고, 각각의 사이는 연결관(19)에 의해 연결된다.

회전체(13)는 다수 개의 스테이지(11) 내부에 각각 설치되며, 이 회전체(13)는 샤프트(15)에 의해 회전된다. 그러므로, 샤프트(15)를 회전시키는 것에 의해 회전체(13)를 회전시켜 스테이지(11) 내부의 공정 부산물을 연결관(19)을 통해 인접하는 다음 스테이지로 배기하거나 또는 배기관(21)을 통해 외부로 배기한다.

가스 공급관(23)은 마지막 스테이지(11)에 공정 부산물과 반응하지 않는 불활성 가스, 예를 들면, 질소 가스(N2)를 공급하여 이 공정 부산물이 내벽에 적층되지 않고 퍼지(purge)되어 배기관(21)을 통해 외부로 배출되도록 한다.

그러나, 상술한 구성의 종래의 진공 펌프는 CVD 공정 중에 마지막 스테이지 내에 공급되는 질소는 공정 부산물을 퍼지시키나 스테이지 내부의 온도를 저하시켜 내측에 이 공정 부산물이 부착되는 것을 유도하여 적층을 유도시켜 회전체와 내벽 사이의 간격이 좁아지는 것을 막기 어려운 문제점이 있었다.

따라서, 본 발명의 목적은 공정시 마지막 스테이지 내부에서 공정 부산물이 부착되는 것을 방지하여 회전체와 내벽 사이의 간격이 좁아지는 것을 방지할 수 있는 진공장치를 제공함에 있다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 진공 펌프는 공정 챔버와 유입관을 통해 연결되어 공정 진행 중에 상기 공정 챔버 내에서 생성되는 공정 부산물이 유입되는 스테이지와, 상기 스테이지 내에 샤프트에 의해 회전되도록 설치되어 유입된 공정 부산물을 배기관을 통해 외부와 배기시키는 회전체와, 상기 스테이지 내 부에 가스 공급관을 통해 공급되는 불활성 가스를 가열시키는 히터를 포함한다.

상기에서 스테이지는 한개 또는 직렬을 이루는 다수 개로 구성되는데, 이 스테이지가 직렬을 이루는 다수 개로 구성되면 사이를 연결하는 연결관을 더 포함하고 가스 공급관은 마지막 스테이지에 연결된다.

상기에서 히터는 상기 불활성 가스를 적어도 150℃ 이상의 온도로 가열하는데, 불활성 가스는 질소 가스(N2)이다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.

도 2는 본 발명에 따른 진공 펌프의 구성도이다.

본 발명에 따른 진공 펌프는 스테이지(31), 회전체(33), 샤프트(35), 가스 공급관(43) 및 히터(45)로 구성된다.

상기에서 스테이지(31)는 다수 개가, 예를 들면, 4개가 직렬로 이루어진다. 다수 개의 스테이지(31)는 첫번째의 것이 CVD 공정을 진행하는 공정 챔버(도시되지 않음)와 유입관(37)을 통해 연결된다. 이에, 공정 진행 중에 스테이지(31)는 공정 챔버 내에서 생성되는 공정 부산물이 유입관(37)을 통해 첫번째의 것으로 유입되며, 마지막의 것이 배기관(41)을 통해 외부와 연결되어 공정 부산물을 외부로 배출시키고, 각각의 사이는 연결관(39)에 의해 연결된다.

상기에서 스테이지(31)가 한개로 구성될 수도 있다. 이러한 경우 스테이지(31)에 유입관(37) 및 배기관(41)이 연결되며 연결관(39)이 연결되지 않

회전체(33)는 다수 개의 스테이지(31) 내부에 각각 설치되며, 이 회전체(33)는 샤프트(35)에 의해 회전된다. 그러므로, 샤프트(35)를 회전시키는 것에 의해 회전체 (33)를 회전시켜 스테이지(31) 내부의 공정 부산물을 연결관(39)을 통해 인접하는 다음 스테이지로 배기하거나 또는 배기관(41)을 통해 외부로 배기한다.

가스 공급관(43)은 마지막 스테이지(31)에 공정 부산물과 반응하지 않는 불활성 가스, 예를 들면, 질소 가스(N2)를 공급하여 이 공정 부산물이 내벽에 적층되지 않고 퍼지(purge)시킨다.

히터(45)는 가스 공급관(43)을 통해 마지막 스테이지(31)에 공급되는 질소 가스를 적어도 150℃ 이상의 온도로 가열시킨다. 그러므로, 스테이지(31) 내부의 온도를 높게 유지시켜 공정 부산물이 내측에 부착되지 않고 배기관(41)을 통해 외부로 배출되도록 하므로 회전체(13)와 내벽 사이의 간격이 좁아지는 것을 방지한다.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 진공 펌프는 마지막 스테이지 내에 공정 부산물을 퍼지시키기 위한 질소 가스를 적어도 150℃ 이상의 온도로 가열하여 공급하므로 이 공정 부산물이 내측에 부착되는 것을 방지하고 외부로 배출도록 한다.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.

따라서, 본 발명은 공정 부산물이 마지막 스테이지의 내측에 부착되지 않도록 하므로 회전체와 내벽 사이의 간격이 좁아지는 것을 방지할 수 있는 잇점이 있다.

Claims

공정 챔버와 유입관을 통해 연결되어 공정 진행 중에 상기 공정 챔버 내에서 생성되는 공정 부산물이 유입되는 스테이지와,

상기 스테이지 내에 샤프트에 의해 회전되도록 설치되어 유입된 공정 부산물을 배기관을 통해 외부와 배기시키는 회전체와,

상기 스테이지 내부에 가스 공급관을 통해 공급되는 불활성 가스를 가열시키는 히터를 포함하는 진공 펌프.
청구항 1에 있어서 상기 스테이지는 한개 또는 직렬을 이루는 다수 개로 구성된 진공 펌프.
청구항 2에 있어서 상기 스테이지가 직렬을 이루는 다수 개로 구성되면 사이를 연결하는 연결관을 더 포함하는 진공 펌프.
청구항 3에 있어서 상기 가스 공급관은 마지막 스테이지에 연결되는 진공 펌프.
청구항 1에 있어서 상기 히터는 상기 불활성 가스를 적어도 150℃ 이상의 온도로 가열하는 진공 펌프.
청구항 1 또는 청구항 5에 있어서 상기 불활성 가스는 질소 가스(N2)인 진공 펌프.