KR20010026478A - 연속전기도금에 있어서 도금 두께 균일화 방법 - Google Patents

연속전기도금에 있어서 도금 두께 균일화 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20010026478A
KR20010026478A KR1019990037821A KR19990037821A KR20010026478A KR 20010026478 A KR20010026478 A KR 20010026478A KR 1019990037821 A KR1019990037821 A KR 1019990037821A KR 19990037821 A KR19990037821 A KR 19990037821A KR 20010026478 A KR20010026478 A KR 20010026478A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
anode
plated material
width
plated
plating
Prior art date
Application number
KR1019990037821A
Other languages
English (en)
Inventor
고재석
김광일
Original Assignee
이구택
포항종합제철 주식회사
신현준
재단법인 포항산업과학연구원
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 이구택, 포항종합제철 주식회사, 신현준, 재단법인 포항산업과학연구원 filed Critical 이구택
Priority to KR1019990037821A priority Critical patent/KR20010026478A/ko
Publication of KR20010026478A publication Critical patent/KR20010026478A/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/06Wires; Strips; Foils
    • C25D7/0614Strips or foils
    • C25D7/0692Regulating the thickness of the coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/10Electrodes, e.g. composition, counter electrode
    • C25D17/12Shape or form

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

본 발명은 연속전기도금에 있어서 사용되는 양극의 형상을 피도금재의 진행방향에 대하여 변화시킴으로서 피도금재 에지부의 과도금 현상을 방지하여 균일한 도금 두께를 얻도록 하는 연속전기도금에 있어서 도금 두께 균일화 방법에 관한 것으로, 연속전기도금에 있어서, 양극의 폭을 피도금재의 진행방향에 대하여 변화시킴으로써 피도금재의 에지부가 과도금되는 것을 방지하여 피도금재의 폭방향으로 균일한 도금 두께를 얻는 것을 특징으로 하고, 특히 상기 양극의 폭은 상기 피도금재의 진행방향 전방측에서 좁고, 점차로 커져서 상기 피도금재의 폭과 동일하게 되어 상기 양극이 육각형 형상을 갖는 것을 특징으로 한다.

Description

연속전기도금에 있어서 도금 두께 균일화 방법{Method for minimization of thickness variation in continuous electroplating}
본 발명은 연속전기도금에 있어서 사용되는 양극의 형상을 피도금재의 진행방향에 대하여 변화시킴으로서 피도금재 에지부의 과도금 현상을 방지하여 균일한 도금 두께를 얻도록 하는 연속전기도금에 있어서 도금 두께 균일화 방법에 관한 것이다.
연속전기도금방법을 이용하여 피도금재에 도금을 할 경우에는 피도금재의 에지부에 전류가 집중되어 피도금재의 에지부가 중앙부에 비하여 도금 두께가 과도하게 되는 에지부 과도금 현상이 발생하게 된다.
이러한 에지부 과도금 현상으로 인하여 피도금재의 폭 방향으로의 도금 편차가 발생하게 되어 박도금의 실현이 어려운 문제점이 발생하고, 또한 그 편차에 의하여 피도금재의 폭 방향으로 저항이 달라지므로 저항성 용접시 문제가 발생하며, 피도금재를 코일형태로 권취할 때 두께 편차에 의하여 피도금재의 변형이 발생되어 외관 불량 등의 문제점이 발생한다.
이러한 피도금재 에지부 과도금을 억제하여 균일한 도금 두께를 얻는 종래의 방법으로는 피도금재의 폭에 대하여 부도체를 양극과 피도금재 사이에 삽입하여 피도금재의 에지부에 집중되는 전류를 차단하는 방법이 있다.
양극과 피도금재 사이에 부도체를 위치시켜 피도금재의 에지부에 집중되는 전류를 차단하는 소위 에지 마스크 방법(일본국 특허공개공보 소60-162795호 참조)은, 에지 마스크의 위치를 피도금재의 에지에 대하여 일정한 거리가 되도록 유지하여 피도금재에 있어서 균일한 도금 두께를 얻는 방법이다.
그러나, 이러한 에지 마스크 방법은 피도금재의 폭 변화 및 사행으로 인한 위치 변화를 감지하여 에지 마스크의 위치를 조절해야 하므로 제어에 따른 설비 투자가 필요한 단점을 가지고 있다.
또한, 에지 마스크가 양극과 피도금재 사이에 삽입되는 구조이므로 에지 마스크가 도금용액 중에서 흔들림이 발생하여 피도금재와 충돌하여 도금 품질 저하 및 에지 마스크의 손상 등의 문제점이 발생한다.
또한, 삽입되는 에지 마스크의 두께만큼 양극과 피도금재 사이의 거리가 증가하므로 도금에 필요한 전력손실이 증가하는 문제점을 가지고 있다.
본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 피도금재의 에지부에 해당되는 양극의 형상을 피도금재의 진행방향에 대하여 변화시킴으로써 피도금재의 폭방향으로 균일한 도금두께를 얻을 수 있도록 하는 연속전기도금에 있어서 도금 두께 균일화 방법을 제공함에 그 목적이 있다.
도 1은 종래의 전기도금 방법 및 종래의 방법에 의한 도금조 내부의 등전위 면을 개략적으로 나타낸 정단면도,
도 2는 종래의 전기도금 방법에 의한 사각형 양극의 형상을 나타낸 평면도,
도 3은 본 발명의 실시예로서 피도금재의 진행 방향에 따라 양극의 폭이 다른 육각형 양극의 형상을 나타낸 평면도,
도 4는 본 발명에 따른 피도금재 에지로부터의 거리에 따른 도금 부착량을 비교예와 비교하여 나타낸 그래프.
< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 >
1 : 양극 2 : 피도금재(스트립)
3 : 등전위면 4 : 도금용액
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 연속전기도금에 있어서 도금 두께 균일화 방법은, 연속전기도금에 있어서, 양극의 폭을 피도금재의 진행방향에 대하여 변화시킴으로써 피도금재의 에지부가 과도금되는 것을 방지하여 피도금재의 폭방향으로 균일한 도금 두께를 얻는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 방법에 있어서, 상기 양극의 폭은 상기 피도금재의 진행방향 전방측에서 좁고, 점차로 커져서 상기 피도금재의 폭과 동일하게 되어 상기 양극이 육각형 형상을 갖는 것을 특징으로 한다.
이하에서는 첨부도면을 참조하여 본 발명에 대하여 상세히 설명한다.
일반적으로 연속전기도금에서의 양극의 구조는 도 2와 같이 양극의 길이 방향에 대하여 양극의 폭이 일정한 사각형 구조를 가지고 있다.
이와 같은 양극(1)을 사용하여 전기도금을 행하는 경우에는 도 1에 나타낸 바와 같이, 피도금재(2)의 에지부에서 전류가 집중되는 현상을 보이게 된다. 도 1에서 3은 등전위면을 나타낸다.
한편, 이러한 피도금재(2) 에지부에서의 과도금을 억제하기 위하여 도 2에 나타낸 바와 같이, 양극(1)의 폭을 피도금재(2)의 폭에 비하여 작게 조절하는 방법을 사용하기도 한다.
그러나, 양극(1)의 폭을 피도금재(2)의 폭에 비하여 작게 조절하면, 피도금재(2) 에지부 근처에서 미도금이 되어 도금 편차가 증가하는 단점을 가지고 있다.
이와 같은 문제점을 해결하기 위하여 본 발명에서는 양극의 구조를 도 3에 나타낸 바와 같이, 피도금재(2)의 진행방향에 대하여 즉, 양극(1)의 길이방향에 대하여 폭을 변화시킴으로서 피도금재(2)의 에지부가 미도금 및 과도금이 되어 최종적으로 균일한 도금 두께를 얻도록 하는 것을 특징으로 한다.
또한, 피도금재(2)의 폭이 변함에 따라 양극(1)의 폭을 변화시킴으로써, 피도금재(2)의 폭 변화에 대응할 수 있도록 한다.
이하에서는 실시예를 통하여 본 발명의 양극의 형상 및 양극의 형상변화에 따른 효과를 구체적으로 설명한다.
본 발명의 실시예 및 비교예에서는 피도금재(2)인 스트립의 폭이 1000mm이고, 양극(1)과 스트립 사이의 간격이 10mm인 경우에 대하여 비교하였다.
본 발명의 실시예에서는 양극(1)의 형상을 도 3에 나타낸 바와 같이, 하부, 즉 스트립의 진행방향 후방에서는 스트립의 폭과 동일하게 1000mm로 하고, 상부, 즉 스트립의 진행방향 전방에서는 폭을 950mm로 하는 육각형 구조를 가지도록 제작하였다.
이에 의해서 스트립의 폭에 비해서 양극(1)의 폭이 좁은 부분에 의해서 스트립의 에지부가 미도금되고, 스트립의 폭과 동일한 통상의 부분에서는 스트립의 에지부가 과도금되는 것에 의해서 결국은 미도금이나 과도금을 억제하고, 스트립의 폭방향으로 균일한 도금 두께를 얻을 수 있게 된다.
본 발명에 대한 비교예 1에서는 스트립의 폭과 동일한 폭을 갖는 통상적인 사각형 형상의 양극(1)을 사용하였다.
본 발명에 대한 비교예 2에서는 스트립의 폭에 비하여 좁은 950mm의 폭을 갖는 사각형 형상의 양극(1)을 사용하였다.
도 4는 본 발명의 실시예 및 비교예 1 및 2의 경우의 피도금재의 에지로부터의 거리에 따른 도금 부착량을 나타낸 그래프이다.
도 4에 나타낸 바와 같이, 비교예 1의 경우 에지부에서의 도금 부착량이 중앙부에 비하여 10많아 과도금이 일어나는 것을 알 수 있다.
한편, 비교예 2에서와 같이, 양극(1)의 폭을 피도금재(2)의 폭보다 작게 하는 경우 에지부에서 미도금이 되며, 비교예 2의 경우 미도금량이 17이었다.
이들 비교예에 비하여 본 발명의 실시예에서는 피도금재의 폭방향에 대하여 비교적 균일한 도금 두께를 얻는 것을 확인할 수 있었다.
이상의 결과를 다음의 표 1에 나타내었다.
비교예1 비교예2 실시예
스트립의 폭 1000mm 1000mm 1000mm
양극과 스트립 사이의 거리 10mm 10mm 10mm
양극의 폭 1000mm 950mm -
양극의 형상 사각형 사각형 육각형
과도금률 10 -17 5
상술한 바와 같이 본 발명에 의하면, 양극의 형상을 피도금재의 진행방향에 대하여 변화시킴으로서 피도금재의 에지부에 대하여 미도금 및 과도금을 실시함으로서 피도금재의 에지부 과도금을 억제하여 균일한 도금 두께를 얻을 수 있게 된다.

Claims (2)

  1. 연속전기도금에 있어서, 양극의 폭을 피도금재의 진행방향에 대하여 변화시킴으로써 피도금재의 에지부가 과도금되는 것을 방지하여 피도금재의 폭방향으로 균일한 도금 두께를 얻는 것을 특징으로 하는 연속전기도금에 있어서 도금 두께 균일화 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 양극의 폭은 상기 피도금재의 진행방향 전방측에서 좁고, 점차로 커져서 상기 피도금재의 폭과 동일하게 되어 상기 양극이 육각형 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 연속전기도금에 있어서 도금 두께 균일화 방법.
KR1019990037821A 1999-09-07 1999-09-07 연속전기도금에 있어서 도금 두께 균일화 방법 KR20010026478A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019990037821A KR20010026478A (ko) 1999-09-07 1999-09-07 연속전기도금에 있어서 도금 두께 균일화 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019990037821A KR20010026478A (ko) 1999-09-07 1999-09-07 연속전기도금에 있어서 도금 두께 균일화 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20010026478A true KR20010026478A (ko) 2001-04-06

Family

ID=19610338

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019990037821A KR20010026478A (ko) 1999-09-07 1999-09-07 연속전기도금에 있어서 도금 두께 균일화 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20010026478A (ko)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4269672A (en) Gap distance control electroplating
JPH0625899A (ja) 電解メッキ装置
KR101495419B1 (ko) 에지 과도금을 방지하기 위한 전기도금장치
KR101879080B1 (ko) 철-니켈 합금 포일 제조장치
US6217736B1 (en) Method and apparatus for electrolytically treating a board-shaped substrate comprising shielding edge regions of the substrate during electrolytic treatment
US20010040090A1 (en) Plating pretreatment apparatus and plating treatment apparatus
KR20010026478A (ko) 연속전기도금에 있어서 도금 두께 균일화 방법
KR101894443B1 (ko) 전주 도금 시트의 제조 방법 및 전주 도금 장치
KR102065220B1 (ko) 에지 마스크를 구비한 전기 도금 장치
KR100428576B1 (ko) 스트립의 도금편차를 해소하는 불용성 아노드
US6291080B1 (en) Thin copper foil, and process and apparatus for the manufacture thereof
JPH08239796A (ja) 電気めっき用エッジマスク装置および電気めっき方法
KR100516484B1 (ko) 다수의 전원장치를 구비하는 도금장치 및 그를 이용한도금방법
EP0101446B1 (en) Method of electroplating
KR102488296B1 (ko) 도금 장치 및 이에 적용되는 지그 구조체와 지그 장치
JPH09279392A (ja) 金属ストリップの連続電気めっき装置
JP3288272B2 (ja) 電気めっき装置
KR100441389B1 (ko) 전기도금장치
JP3753114B2 (ja) 電気めっき用電極及びそれを用いた金属帯の電気めっき方法
JP2908210B2 (ja) 電気めっき用不溶性陽極
KR200430588Y1 (ko) 균일 도금을 위한 차폐유도판
KR0112513Y1 (ko) 연속전기도금 공정에서 하부 도금액 분사장치
KR20130053560A (ko) 수평 전주장치
KR20010026479A (ko) 도금두께 균일화 방법
JPS5871396A (ja) 横型電気メツキ装置における陽極−通電体構造

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination