KR20010023465A - 포토마스크 케이스, 반송장치 및 반송방법 - Google Patents

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나까하라가네후미
엔도유따까
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오노 시게오
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Abstract

이 마스크 케이스는 기판에 전사해야 할 패턴이 형성된 레티클 (M) 을 수납하는 마스크 케이스 (210) 이고, 이 마스크 케이스 (210) 의 1 개의 외벽면 (210c) 에 제 1 및 제 2 오목부 (211, 211a, 212) 가 형성되어 있고, 제 1 오목부 (211, 211a) 의 형상이 원추형상 및 삼각추형상의 어느 일측의 형상이며, 제 2 오목부 (212) 의 형상이 V 자 홈 형상이다.

Description

포토마스크 케이스, 반송장치 및 반송방법{PHOTOMASK CASE, CONVEYING DEVICE, AND CONVEYING METHOD}
반도체 소자 등을 제조하기 위한 포토리소그래피 공정 (마스크패턴의 레지스트 이미지를 기판상에 형성하는 공정) 에서는 포토마스크 (이하, 마스크로 함) 로서의 레티클 패턴을 투영광학계를 통해 포토레지스트가 도포된 기판 (또는 웨이퍼 등) 상에 노광하는 투영노광장치 (스텝퍼 등) 가 사용되고 있다.
이 마스크를 포토마스크 케이스 (이하, 마스크 케이스) 에 수납한 상태에서 마스크의 세정기, 쓰레기 검사기, 페리클 점착기, 노광장치 등의 각종 처리장치 사이를 순차 자동적으로 반송하는 자동반송 시스템이 고려되고 있다. 이 자동반송 시스템에 의하면, 각종 장치 사이에서 마스크 케이스를 반송하는 경우, 처리장치 내에서 처리가 종료한 마스크는 마스크 케이스에 수납되어, 그 처리장치의 반송부에 의해 처리장치에서의 마스크 케이스의 수수장소에 반송되어 탑재된다.
처리장치의 수수장소에 탑재된 마스크 케이스는 외부의 반송장치에 의해 다른 처리장치의 수수장소까지 반송되어 탑재된다. 다른 처리장치의 수수장소에 탑재된 마스크 케이스는 그 처리장치의 반송부에 의해 소정 처리장소까지 반송되도록 되어 있다.
발명의 개시
마스크 케이스가 각종 처리장치 사이에서 반송될 때에는 마스크 케이스 수수시의 위치어긋남이 문제가 된다. 처리장치의 반송부가 그 처리장치의 수수장소에 어느정도 정확하게 마스크 케이스를 탑재하지 않으면, 외부의 반송장치가 이 마스크 케이스를 지지할 수 없고, 시스템에 에러가 생겨 이후의 처리가 불가능하게 된다.
본 발명은 마스크 케이스를 반송할 때, 정확하게 위치결정을 달성할 수 있는 마스크 케이스, 반송장치 및 반송방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 즉, 설치장소로부터 돌출설치된 지지 핀이 삽입되는 위치결정용 오목부를 마스크 케이스의 소정 부위에 형성함으로써 정확한 위치결정을 행한다. 또, 마스크 케이스의 위치결정용 오목부의 최심부(最深部)가 마스크를 지지하는 지지부재보다도 마스크 케이스의 외측에 위치하도록 이들을 배치하면, 복수의 마스크 케이스를 적층시켰을 때의 전체의 높이를 저감시킬 수 있다.
본 발명은 포토마스크 케이스, 반송장치 및 반송방법에 관한 것으로, 특히 반도체 또는 액정표시소자 등을 포토리소그래피 공정으로 제조할 때 사용되는 포토마스크 케이스 및 이 포토마스크 케이스를 반송하는 반송장치 및 반송방법에 관한 것이다.
도 1 은 제 1 실시 형태에 관계되는 마스크 케이스 (10) 의 사시도이다.
도 2 는 도 1 에 나타낸 마스크 케이스의 평면도이다.
도 3 은 도 2 에 나타낸 마스크 케이스의 Ⅲ-Ⅲ 화살표 단면도이다.
도 4 는 도 2 에 나타낸 마스크 케이스의 측면도이다.
도 5 는 도 2 에 나타낸 마스크 케이스의 저면도이다.
도 6 은 도 3 에 나타낸 마스크 케이스의 Ⅵ-Ⅵ 화살표 단면도이다.
도 7 은 제 2 실시 형태에 관계되는 마스크 케이스 (10) 의 사시도이다.
도 8 은 제 3 실시 형태에 관계되는 마스크 케이스 (10) 의 사시도이다.
도 9 는 제 4 실시 형태에 관계되는 마스크 케이스 (10) 의 사시도이다.
도 10 은 실시 형태에 관계되는 반송장치 (20) 를, 도시하지 않은 보관장소로부터 마스크 케이스 (10) 를 반송하고, 또한 반송장소인 스테이지 (30) 의 상측에 위치한 상태에서 나타내는 사시도이다.
도 11 은 원통부 (21a) 와, 마스크 케이스 (10) 의 오목부 (1b) 사이의 힘 관계를 나타내는 도면이다.
도 12 는 제 5 실시 형태에 관계되는 마스크 케이스 (110) 를 편측의 아암 (122) 과 함께 나타내는 사시도이다.
도 13 은 다른 실시 형태에 관계되는 반송장치 (220) 의 상면도이다.
도 14 는 마스크 케이스 (10) 의 저면도이다.
도 15 는 도 14 의 마스크 케이스 (10) 에서의 삼각홈 (11) 의 단면도이다.
도 16 은 제 6 실시 형태에 관계되는 마스크 케이스 (110) 의 저면도이다.
도 17 은 도 16 의 마스크 케이스 (110) 에서의 오목부 (111, 112, 113) 의 단면도로서, 의사(擬似)적으로 평면화한 것이다.
도 18 은 제 7 실시 형태에 관계되는 마스크 케이스의 저면도이다.
도 19 는 도 10 의 반송장치를 AGV (Automated Guided Vehicle) 에 적용한 실시 형태를 나타내는 도면이다.
도 20 은 도 10 의 반송장치를 OHT (Over Head Transportation) 에 적용한 실시 형태를 나타내는 도면이다.
도 21 은 서로간에 마스크 케이스의 수수를 행할 수 있는 반송장치의 실시 형태를 나타내는 상면도이다.
도 22 는 서로간에 마스크 케이스의 수수를 행할 수 있는 반송장치의 실시 형태를 나타내는 사시도이다.
도 23 은 마스크 케이스의 변형예를 나타내는 마스크 케이스의 사시도이다.
도 24 는 실시 형태에 관계되는 마스크 케이스의 저면도이다.
이하, 실시 형태에 관계되는 마스크 케이스, 반송장치 및 반송방법에 대하여 설명한다. 동일 요소 또는 동일 기능을 갖는 요소에는 동일 부호를 사용하는 것으로 하고, 중복되는 설명은 생략한다. 또, 이하의 설명에서, 「상」 및 「하」 란 말은 도 1 의 상하에 기초하는 것으로 한다.
도 1 내지 도 6 은 제 1 실시 형태에 관계되는 마스크 케이스 (10) 를 나타낸다. 마스크 케이스 (10) 는 하측 하우징 (403) 및 상부 덮개 (402) 를 갖고 있다. 하측 하우징 (403) 은 쓰레받기상의 형상을 하고 있고, 그 장방형 저판의 3 변을 구성하는 외측가장자리를 따라 세워 실치한 3 개의 측벽을 갖고 있다. 하측 하우징 (403) 의 장방형 저판의 나머지 1 변상에는 측벽을 갖고 있지 않으며, 이 변이 마스크 케이스의 전면에 위치한다.
하측 하우징 (403) 의 저판상에는 좌우의 측벽에 평행하게 연장된 가이드판 (403a, 403b) 이 세워 설치되어 있다. 가이드판 (403a, 403b) 의 내측에는 R 이 형성되어 있다. 즉, 대향하는 가이드판 (403a, 403b) 의 내측면은 마스크 케이스 (10) 의 전후방향을 그 곡률 중심축으로 하는 만곡면 (411) 을 갖고 있다. 가이드판 (403a, 403b) 의 약간 내측에는 저판의 상면으로부터 세워 설치된 4 개의 지지부재 (403v, 403w, 403x, 403y) 가 고정되어 있다.
따라서, 포크 (취출 아암 (AM)) (도 7 참조) 상에 지지된 포토마스크 (레티클) (M) 가 마스크 케이스 (10) 의 전면측으로부터 내부에 삽입된 후, 포크가 저판측으로 이동한 경우에는 (도 1 중, 흰 화살표로 나타냄) 다소 그 위치가 어긋나 있어도 레티클 (M) 은 가이드판 (403a, 403b) 의 마스크 (M) 에 인접한 측이 되는 만곡면 (411) 을 따라 마스크 케이스 (10) 의 내측방향으로 슬라이드하여 지지부재 (403v, 403w, 403x, 403y) 상에 탑재된다. 지지부재 (403v, 403w, 403x, 403y) 는 각각 레티클 (M) 전후방향의 이동을 규제하기 위한 단부를 갖고 있으며, 포크를 빼고 꽂을때에 있어서의 레티클 (M) 의 전후방향 이동이 규제된다.
상부 덮개 (402) 는 하측 하우징 (403) 의 상면 개구단을 덮도록, 그 배면측이 핀 (407) 을 갖는 힌지를 통해 하측 하우징 (403) 의 배면측에 고정되어 있다. 즉, 상부 덮개 (402) 는 적당한 록 기구를 통해 하측 하우징 (403) 에 고정되어 있는데, 필요한 경우에는 이 록을 해제하고, 상부 덮개 (402) 를 상기 힌지를 중심으로 회전운동시킴으로써 내부를 개방상태로 할 수 있다.
상부 덮개 (402) 의 전면측에는 핀 (408) 을 갖는 힌지를 통해 전면 덮개 (가동벽) (401) 가 설치되어 있으며, 도 4 의 화살표 B 로 나타나는 방향을 따라 요동한다. 이 가동벽 (401) 은 레티클 (M) 의 출입에 연동하여 개폐되며, 개방상태에서는 하우징 (403) 에 레티클 (M) 의 삽입구가 형성된다.
가이드판 (403a, 403b) 과 하측 하우징 (403) 의 좌우 측벽의 사이에는 배면측에서 폐색하는 통로 (412) 가 형성되어 있다. 각각의 통로 (412) 의 아래에는 저판의 이면측으로부터 표면측을 향해 움푹 들어간 오목부 (피트) (413, 414) 가 형성되어 있다. 오목부 (413, 414) 의 내면은 각각 V 홈 형상, 사각추 형상을 구성하고 있다. 이 통로 (412) 의 위치는 레티클 (M) 과는 간섭하지 않는 위치이다. 오목부 (413, 414) 바로 위의 저판의 상면은 오목부 (413, 414) 의 최심부가 케이스의 내측에 개방되지 않도록 다소 융기되어 있다.
오목부 (413, 414) 를 지지부재 (403v, 403w, 403x, 403y) 보다도 내측에 형성한 경우에는 이 융기부 (413p, 414p) 가 레티클 (M) 을 반송하는 포크와 간섭할 우려가 있다. 또, 이 간섭을 억제하기 위해서는 융기부 (413p, 414p) 를 형성하지 않고 저판의 두께를 증가시키면 되는데, 이 경우에는 마스크 케이스 (10) 의 높이 (두께) 가 증가하고, 특히 복수의 마스크 케이스를 예컨대 레티클 라이브러리 등의 장치내에서 적층시키는 경우에는 이 증가량이 적산되어 장치가 대형화한다. 본 실시 형태에서는 마스크 케이스의 위치결정용 오목부 (413, 414) 의 최심부가 레티클 (M) 을 지지하는 지지부재 (403v, 403w, 403x, 403y) 보다도 마스크 케이스 (10) 의 외측에 위치하기 때문에, 복수의 마스크 케이스 (10) 를 적층시켰을 때의 전체의 높이를 저감시킬 수 있다.
위치결정용 오목부 (413, 414) 내에는 기준면 (SP) 으로부터 소정 높이의 지지 핀 (413b, 414b) 의 선단부가 끼워진다 (도 3). 평면은 3 점으로 규정되므로, 기준면 (SP) 상에는 추가로 지지 핀 (FLb) 이 설치되어 있다. 지지 핀 (FLb) 의 높이는 나머지 2 개의 어느것보다도 낮다. 지지 핀 (FLb) 은 저판 이면의 전면측 영역 (FL) 에 맞닿는다. 전면측 영역 (FL) 은 평면이다. 이 영역 (FL) 은 이면의 나머지의 영역보다도 움푹 들어가 있어도 된다. 바꿔 말하면, 결과적으로 3 개의 지지 핀 (413b, 414b, FLb) 이 각각의 위치에 맞닿음으로써 저판의 상면이 수평으로 유지되면 된다. 그리고, 기준면 (SP) 은 예컨대 레티클 라이브러리 1 개의 선반의 표면이다.
지지 핀 (413b, 414b, FLb) 이 각각의 위치에 맞닿은 상태에서 위치결정이 정확하게 행해지도록 마스크 케이스 (10) 는 상측으로부터 눌린다. 마스크 케이스 (10) 의 좌우 측벽의 각각에는 케이스의 전후방향을 따라 연장되며, 외측을 향해 돌출한 상측 볼록부 (409) 및 하측 볼록부 (410) 가 형성되어 있다. 이들 상측 볼록부 (409) 및 하측 볼록부 (410) 는 보강용의 리브로서도 기능하고 있어 측벽을 강화하고 있다. 상측 볼록부 (409) 및 하측 볼록부 (410) 의 상면에는 케이스를 누르기 위한 클램프 영역 (1XL 및 1XU) 이 형성되어 있다.
클램프 영역 (1XL 및 1XU) 은 하측을 향해 약간 움푹 들어가 있다. 이 움푹 들어간 클램프 영역 (1XL 및 1XU) 상에 누름용 핀 (도시하지 않음) 이 상측으로부터 맞닿고, 이것을 탄성지지함으로써 마스크 케이스를 기준면 (SP) 에 대하여 움직이지 못하게 한다. 또, 클램프 영역 (1XL 및 1XU) 의 오목 영역은 그 주위와의 사이에 단부를 형성하고 있고, 이 단부에 상기 누름용 핀이 맞닿는 경우에는 케이스 전후방향의 이동이 규제된다.
그리고, 위치결정용 오목부는 후술하는 여러 가지의 위치에 형성할 수 있다. 예컨대, 도 24 에 나타낸 바와 같이, V 홈 형상의 3 개의 오목부 (413') 를 저판의 이면에 형성하고, V 홈의 신연(伸延)방향이 서로 120 도를 이루도록 배치한다. 이와 같은 경우에서, 상부 덮개 (402) 의 상면에 형성되는 원형의 3 개의 클램프 영역 (1XU') 은 각각 3 개의 오목부 (413') 의 바로 위에 위치하는 것으로 해도 된다.
각각의 측벽의 상측 볼록부 (409) 와 하측 볼록부 (410) 의 사이의 2 개의 공간 (1b) 에는 후술하는 실시 형태의 것과 동일하게, 원통형상의 지지체 (도 10, 도 11 의 21a, 22a 참조) 가 끼워 넣어지며, 마스크 케이스 (10) 는 이와 같이 지지/파지된 상태에서 반송된다.
도 7, 도 8 및 도 9 는 제 2, 제 3 및 제 4 실시 형태에 관계되는 마스크 케이스 (10) 의 사시도이다. 레티클 (M) 의 크기는 특정한 치수로 통일되어 있다. 또, 회로패턴 (도시하지 않음) 은 마스크의 주위에 소정의 여백을 형성하여 나타나 있다.
레티클 (M) 은 도 7 에 나타낸 쓰레받기상의 바닥 덮개 (3) 중에 수납되도록 되어 있다. 이 바닥 덮개 (3) 에는 개구단면 (9) 이외의 주위에 도면과 같이 벽 (1a) 이 설치되어 있다. 이 벽 (1a) 의 상부에는 3 개의 단부 (3a, 3b) 가 형성되어 있다. 이 단부 (3a) 는 레티클의 가장자리부를 지지한다.
또, 바닥 덮개 (3) 에는 개구단면 (9) 의 반대측에 힌지 (7) 에 의해 도면중 화살표 A 와 같이 개폐가 자유롭게 설치된 상부 덮개 (2) 가 장착되어 있고, 이 상부 덮개 (2) 는 바닥 덮개 (3) 의 상면을 닫도록 되어 있다.
또한, 상부 덮개 (2) 의 개구단면 (9) 측에는 개폐부재 (1) 가 힌지 (6) 를 통해 도면중 화살표 B 와 같이 상부 덮개 (2) 에 대하여 회전운동 가능하게 장착되어 있다. 개폐부재 (1) 가 열린 상태에서는 마스크 취출 아암 (AM) 에 의해 레티클 (M) 은 마스크 케이스 (10) 에 대하여 출입 가능하게 되어 있다.
상부 덮개 (2) 가 회전운동하여 단부 (3b) 에 끼워 맞춰지고, 개폐부재 (1) 가 개구단면 (9) 을 닫음으로써 마스크는 거의 밀폐상태로 수납되게 된다.
또, 개폐부재 (1) 의 측면부 (10a, 10b) 에는 후술하는 마스크 케이스 반송장치의 아암 선단을 수용하기 위해, 도면과 같이 4 개 (편측에 2 개씩) 의 오목부 (1b) 가 형성되어 있다. 오목부 (1b) 는 직사각형 위에 이등변 삼각형을 겹친 오각형 단면형상을 갖고 있다. 오목부 (1b) 와 반송장치의 아암의 관계에 대해서는 후술한다.
도 10 은 실시 형태에 관계되는 반송장치 (20) 를 도시하지 않은 보관장소로부터 마스크 케이스 (10) 를 지지하고, 또한 스테이지 (30) 의 상측에 위치한 상태에서 나타낸 사시도이다. 반송장치 (20) 는 병행하여 연장되는 2 개의 아암 (21, 22) 과, 각 아암 (21, 22) 을 서로 접근하는 방향으로, 또는 멀어지는 방향으로 구동하는 액츄에이터 (23, 24) 와, 액츄에이터 (23, 24) 를 지지하는 지지부재 (25) 를 구비한다. 액츄에이터 (23, 24) 및 지지부재 (25) 는 제어부 (CTL) 의 제어하에서 구동되도록 되어 있다. 제어부 (CTL) 는 지지부재 또는 끼워맞춤 지지부재의 이동제어를 행한다.
일측의 아암 (21) 은 2 개의 원통부 (21a) 를 가지며, 타측의 아암 (22) 도 2 개의 원통부 (22a) 를 갖는다. 원통부 (21a, 22a) 는 서로 대향하고 있다. 원통부 (21a) 끼리 및 원통부 (22a) 끼리의 간격은 오목부 (1b) 끼리의 간격에 정확하게 일치하고 있다.
도시하지 않은 보관장소에 탑재된 마스크 케이스 (10) 의 측방에 아암 (21, 22) 이 위치하는 상태에서 제어부 (CTL) 의 제어에 기초하여 액츄에이터 (23, 24) 를 동작시킴으로써 아암 (21, 22) 을 서로 접근하는 방향으로 이동시키면, 원통부 (21a, 22a) 는 마스크 케이스 (10) 의 오목부 (1b) 에 침입한다.
이 상태에서, 제어부 (CTL) 의 제어에 기초하여 지지부재 (25) 를 상승시키면, 그것과 일체가 되어 아암 (21, 22) 도 상승한다. 이 때 마스크 케이스 (10) 는 오목부 (1b) 의 상면이 원통부 (21a, 22a) 에 눌림으로써 아암 (21, 22) 과 함께 상승한다. 이 동작에 의해 반송장치 (20) 는 마스크 케이스 (10) 를 지지하고, 또한 반송 가능한 상태가 된다. 그리고 도 10 은 반송장치 (20) 가 반송목적장소인 스테이지 (30) 의 상측에 마스크 케이스 (10) 를 반송해 온 상태를 나타내고 있다.
다음으로, 원통부 (21a, 22a) 와 오목부 (1b) 를 사용하여 마스크 케이스 (10) 의 위치결정을 달성하는 실시 형태에 대하여 설명한다. 도 11 은 원통부 (21a (22a)) 와, 마스크 케이스 (10) 의 오목부 (1b) 사이의 힘 관계를 나타낸 도면이다. 여기에서, 아암 (21, 22) 과 마스크 케이스 (10) 의 상대위치가 약간 어긋나 있었던것 (아암 (21, 22) 에 대하여 마스크 케이스 (10) 가 우측으로 시프트되어 있었음) 으로 한다.
이 상태에서, 마스크 케이스 (10) 의 오목부 (1b) 에 원통부 (21a (22a)) 를 삽입시키고, 아암 (21, 22) 을 마스크 케이스 (10) 에 대하여 상승시키면, 원통부 (21a (22a)) 는 오목부 (1b) 내를 상승하고, 머지 않아 오목부 (1b) 의 상부에 형성된 좌측 경사면 (1c) 에 닿는다.
아암 (21, 22) 이 더욱 상승하면, 원통부 (21a (22a)) 가 좌측 경사면 (1c) 을 누르는데, 마스크 케이스 (10) 의 저면이 보관장소의 상면으로부터 떨어짐으로써 그 면 사이의 마찰력이 저감되고, 그에 의해 좌측 경사면 (1c) 이 원통부 (21a (22a)) 로부터 받는 법선방향의 반력과 자중에 기초하여, 마스크 케이스 (10) 는 아암 (21, 22) 에 대하여 수평방향 (도면중 좌측) 으로 이동한다.
또한, 원통부 (21a (22a)) 가 좌측 경사면 (1c) 과 교차하는 우측 경사면 (1d) 에 닿음으로써 경사면 (1c, 1d) 과 원통부 (21a (22a)) 의 사이에 작용하는 반력과 자중이 균형을 이루고, 마스크 케이스 (10) 는 정지한다. 이 단계에서, 아암 (21, 22) 에 대한 마스크 케이스 (10) 의 정확한 위치결정이 달성되는 것이다. 즉, 아암 (21, 22) 에 의해 마스크 케이스 (10) 를 들어 올리는 것만으로 자동적으로 그 위치결정이 달성되는 것이다. 그리고 도 10 에서, 스테이지 (30) 를 다른 반송장치의 아암 (도시하지 않음) 에 장치하면, 반송장치 (20) 와의 사이에서 마스크 케이스 (10) 를 수수할 때의 위치결정도 행할 수 있다.
본 실시 형태에서는 오목부 (1b) 는 마스크 케이스 (10) 의 편측에 2 개씩 형성되어 있었는데, 일측의 측에는 2 개의 오목부를 배치하고, 타측의 측에는 1 개의 오목부를 일측의 측의 2 개의 오목부까지의 거리를 동일하게 하여 배치할 수도 있다. 이 배치에 의해 마스크 케이스는 3 점 지지되므로, 보다 안정하게 지지되게 된다.
또한, 오목부 (1b) 는 그 단면이 오각형이 아니어도 되며, 예컨대 도 8 에 나타낸 바와 같이, 그 단면이 삼각형이어도 된다. 또, 마스크 케이스 (10) 의 측면부 (10a) 에 항상 오목부를 형성할 필요는 없고, 예컨대 도 9 에 나타낸 바와 같이, 측면부 (10a) 에는 원통부 (1c) 를 2 개 형성하고, 마주보는 아암 (22) 에는 오목부 (22b) 를 형성하고, 또한 반대측의 측면부 (10b) 에는 오목부 (1b) 를 1 개 형성하고, 마주보는 아암 (도시하지 않음) 에 원통부를 형성해도 된다. 또는, 측면부 (10a) 에 원통부와 오목부를 1 개씩 형성하고, 아암에 오목부와 원통부를 1 개씩 형성해도 된다. 또한, 도 23 에 나타낸 바와 같이, 도 1 의 하부 클램프 영역 (1XL) 이 형성되는 오목부 (1x) 를 오목부 (1b) 사이에 형성해도 된다.
도 12 는 제 5 실시 형태에 관계되는 마스크 케이스 (110) 를 편측의 아암 (122) 과 함께 나타내는 사시도이다. 도 12 의 마스크 케이스 (110) 는 도 1 의 마스크 케이스 (10) 에 대하여 오목부 (110b) 의 형상만이 다르다. 보다 구체적으로는, 오목부 (110b) 는 직사각형의 옆에 삼각형을 접합한 오각형 단면형상 (즉, 도 10 의 실시 형태의 오목부 (1b) 를 옆으로 쓰러뜨린 형상) 을 갖고 있고, 서로 떨어진 방향으로 첨단을 향하고 있다.
한편, 아암 (122) 은, 예컨대 에어 실린더를 내장하는 본체 (122c) 와, 에어 실린더에 의해 길이방향으로 이동하는 이동부 (122b) 를 갖고 있다. 본체 (122c) 와 이동부 (122b) 에 각각 원통부 (122a) 가 형성되어 있다. 본체 (122c) 에 대하여 이동부 (122b) 를 이동시킴으로써 원통부 (122a) 의 간격은 변경 가능하게 되어 있다. 또한, 아암 (122) 은 마스크 케이스 (110) 를 향해 이동하고, 또는 거기로부터 떨어지도록 이동 가능하며, 또 수직방향으로도 이동 가능하게 되어 있다. 그리고, 도시하고 있지 않지만, 아암 (122) 에 대하여 마스크 케이스 (110) 를 끼고 반대측에는 동일한 아암이 형성되어 있다.
다음으로, 원통부 (122a) 와 오목부 (110b) 를 사용하여 마스크 케이스 (110) 의 위치결정을 달성하는 실시 형태에 대하여 설명한다. 여기에서, 아암 (122) 과 마스크 케이스 (110) 는 그 상대위치가 약간 어긋나 있는데, 아암 (122) 을 마스크 케이스 (110) 에 접근시켜 갔을 때, 각 원통부 (122a) 가 오목부 (110) 내에 침입 가능한 상대위치에 배치되어 있는 것으로 한다.
이 상태에서, 아암 (122) 을 마스크 케이스 (110) 에 접근시키고, 그 오목부 (110b) 에 원통부 (122a) 를 삽입시켜 도시하지 않은 아암과 함께 마스크 케이스 (110) 를 끼고 상승시킨다. 이 동작에 의해 마스크 케이스 (110) 는 소정 위치로의 반송이 가능하게 된다. 한편, 마스크 케이스 (110) 를 들어 올린채 아암 (122) 의 이동부 (122b) 를 연장시키도록 이동시키면, 양 원통부 (122a) 는 서로 멀어지고, 머지 않아 오목부 (110b) 의 첨단에 각각 닿아 아암 (122) 에 의해 마스크 케이스 (110) 는 확실히 지지되게 된다.
이 경우, 본체 (122c) 측의 원통부 (122a) 는 이동하지 않으므로, 이 원통부 (122a) 와 오목부 (110b) 의 상대위치는 항상 일의적으로 결정되고, 따라서 아암 (122) 에 대한 마스크 케이스 (110) 의 정확한 위치결정이 달성되는 것이다. 즉, 아암 (122) 에 의해 마스크 케이스 (110) 를 들어 올리는 것만으로 자동적으로 그 위치결정이 달성되는 것이다. 그리고, 오목부 (110b) 는 그 첨단끼리를 서로 향하게 하도록 하여 형성되어 있어도 되며, 이 경우에는 양 원통부 (122a) 가 서로 접근하는 방향으로 이동함으로써 위치결정이 달성된다.
도 13 은 다른 실시 형태에 관계되는 반송장치 (220) 를 위에서 본 평면도이다. 도 7 및 도 8 의 어느 하나의 마스크 케이스 (10) 를 반송하는데 적합한 반송장치 (220) 는 본체 (221) 와, 본체 (221) 의 양단 근방에 대하여 각 일단을 회전 가능하게 장착한 아암 (222, 223) 을 갖는다. 아암 (222, 223) 은 각각 2 개씩의 원통부 (222a, 223a) 를 서로 대향시켜 형성하고 있다. 원통부 (222a) 끼리의 간격 및 원통부 (223a) 끼리의 간격은 오목부 (1b) (도 7 및 도 8 참조) 끼리의 간격에 정확하게 일치하고 있다.
본체 (221) 와 아암 (222, 223) 은 아암 (222, 223) 의 회전중심이 되는 고정 핀 (222c, 223c) 과 액츄에이터 (224, 225) 로 연결되어 있다. 액츄에이터 (224, 225) 는 본체 (221) 에 고정된 실린더부 (224a, 225a) 와, 아암 (222, 223) 에 고정된 구동부 (224b, 225b) 를 갖는다. 본체 (221) 자체는 도 10 에 나타낸 실시 형태와 동일하게, 도시하지 않은 구동기구에 의해 전후 상하 좌우 등의 방향으로 이동 가능하게 되어 있다.
실린더부 (224a, 225a) 는 제어부 (CTL) 를 통해 공압원(空壓源) (P) (또는 유압원) 에 연결되며, 공압원 (P) 으로부터의 공압이 제어부 (CTL) 의 제어하에서 도입되도록 되어 있다. 도입된 공압에 기초하여 구동부 (224b, 225b) 는 신장 축소 가능하게 되어 있다.
마스크 케이스 (10) 를 반송하고자 할 때에는 아암 (223, 224) 을 연 상태 (구동부 (224b, 225b) 를 신장시킨 상태) 에서 탑재된 마스크 케이스 (10) 에 접근하고, 제어부 (CTL) 의 제어에 기초하여 구동부 (224b, 225b) 를 축소시킨다. 이 동작에 의해 아암 (222, 223) 은 마스크 케이스 (10) 를 끼워 넣고 닫는 방향으로 회전하며, 그에 의해 원통부 (222a, 223a) 는 마스크 케이스 (10) 의 오목부 (1b) 에 침입한다. 이 상태에서, 반송장치 (220) 를 상승시키면, 도 10 에 나타낸 실시 형태과 동일하게, 마스크 케이스 (10) 의 위치결정이 달성되게 된다.
그리고 도 13 에서는 아암 (222, 223) 은 고정 핀 (222c, 223c) 을 중심으로 회전하는 실시 형태를 나타냈는데, 다른 실시 형태로서 구동부 (224b, 225b) 의 신장 축소의 동작에 수반하여 고정 핀 (222c, 223c) 이 본체 (221) 에서 아암 (222, 223) 이 개폐하는 방향으로 슬라이드 이동하고, 이 동작에 의해 아암 (222, 223) 이 거의 평행한 상태에서 마스크 케이스 (10) 를 파지하는 동작을 행한다. 그 후, 상기 설명과 동일하게 반송장치 (220) 를 상승시키면, 마스크 케이스 (10) 의 위치결정이 달성되게 된다.
또, 본 발명에서는 액츄에이터 (224, 225) 로서 공압 또는 유압에 의해 구동되는 실린더부를 사용한 것을 나타냈는데, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니며, 예컨대 모터 (리니어 모터, 정전 모터 등을 포함) 를 액츄에이터로서 채택할 수도 있다.
또, 도 13 에 나타낸 실시 형태의 변형예로서, 액츄에이터 (224, 225) 를 고정 핀 (222c, 223c) 의 위치에 장착할 수도 있다.
이 경우, 예컨대 액츄에이터로서 회전 모터를 채택하면, 회전 모터의 축을 중심으로 직접 아암 (222, 223) 을 회전 구동시킬 수 있다. 또, 액츄에이터로서 리니어 모터를 채택하면, 직접 아암 (222, 223) 을 개폐하는 방향으로 슬라이드 이동하는 것이 가능하다. 이들과 같이 아암 (222, 223) 을 구동하는 것도 마스크 케이스 (10) 를 파지하는 것이 가능하다.
도 10 으로 돌아와 추가로 설명을 계속한다. 아암 (21, 22) 은 마스크 케이스 (10) 를 지지하여 반송하고, 스테이지 (30) 의 상측에 위치하고 있는 것은 상술한 바와 같은데, 아암 (21, 22) 이 마스크 케이스 (10) 를 스테이지 (30) 에 수수하는 동작에 대해서는 이하에 설명한다.
여기에서, 도 10 에 나타낸 바와 같이, 스테이지 (30) 에서 수직방향으로 연장되는 3 개의 핀 (31) 이 120 도씩 등간격으로 배치되어 있다. 각 핀 (31) 은 반구형상의 머리부 (31a) 를 갖고 있다. 도 14 는 마스크 케이스 (10) 의 저면도이고, 도 15 는 도 14 의 마스크 케이스 (10) 에서의 삼각홈 (11) 의 단면도이다.
마스크 케이스 (10) 의 저면 (10c) 에는 도 14 에 나타낸 바와 같이, 서로 방사방향으로 연장되는 3 개의 삼각홈 (11) 이 120 도씩 등간격으로 배치되어 있다. 삼각홈 (11) 은 도 15 에 나타낸 바와 같이 그 단면이 삼각형상이 되어 있다.
도 10 에 나타낸 상태에서 아암 (21, 22) 이 하강하면, 마스크 케이스 (10) 의 저면 (10c) 은 스테이지 (30) 에 접근한다. 아암 (21, 22) 과 스테이지 (30) 는 미리 대충 위치결정이 되어 있기 때문에, 마스크 케이스 (10) 의 하강에 따라 이 삼각홈 (11) 에 스테이지 (30) 의 핀 (31) 이 각각 침입하게 되어 있다.
삼각홈 (11) 에 침입한 핀 (31) 은 그 중심이 어긋나 있으면, 삼각홈 (11) 의 저부 경사면의 어느 일측에 닿게 된다. 이 경우, 핀 (31) 은 저부 경사면으로부터 반력을 받고, 그 반력에 기초하여 마스크 케이스 (10) 는 스테이지 (30) 에 대하여 이동한다.
한편, 삼각홈 (11) 은 방사방향으로 연장되어 있으므로, 모든 핀 (31) 이 대응하는 삼각홈 (11) 의 중앙에 자리잡은 위치는 일의적으로 결정된다. 이 상태를 도 14, 15 에 나타내고 있다. 따라서, 핀 (31) 이 삼각홈 (11) 의 저부 경사면으로부터 받는 반력에 기초하여 마스크 케이스 (10) 는 스테이지 (30) 에 대하여 소정의 위치에 위치결정되게 된다. 즉, 아암 (21, 22) 에 의해 마스크 케이스 (10) 를 스테이지 (30) 상에 탑재하는 것만으로 마스크 케이스 (10) 의 위치결정이 행해지게 된다.
도 16 은 제 6 실시 형태에 관계되는 마스크 케이스 (210) 의 저면도이고, 도 17 은 도 16 의 마스크 케이스 (210) 에서의 오목부 (211, 212, 213) 의 단면도로서, 의사적으로 평면화한 것이다.
저면 (210c) 에 형성된 오목부 (211) 는 삼각추 형상을 가지며, 오목부 (212) 는 삼각홈이고, 오목부 (213) 는 평면을 갖고 있다. 도 16 에 나타낸 바와 같이, 각 오목부 (211, 212, 213) 는 직선상에 배치되어 있지 않다. 그리고, 오목부 (211, 212, 213) 에는 상술한 스테이지 (30) 의 핀 (31) 이 삽입된다.
오목부 (211) 는 핀 (31) 을 그 중앙에 지지하는데, 핀 (31) 에 대하여 상대적으로 회전할 수 있다. 또한, 오목부 (212) 가 핀 (31) 을 그 중앙에 지지함으로써 핀 (31) 과 각 오목부 (211, 212) 의 배치는 일의적으로 결정된다. 오목부 (213) 는 핀 (31) 을 평면에서 지지하므로, 마스크 케이스 (210) 의 위치결정에는 관여하지 않는다. 따라서, 단순히 위치결정을 달성하는 것이면, 오목부 (211, 212) 와 이것에 끼워 맞추는 2 개의 핀이 있으면 된다.
도 18 은 제 7 실시 형태에 관계되는 마스크 케이스 (210) 의 저면도이다. 상기와 같이, 오목부 (212) 는 삼각추형상이 아니어도 되며, 예컨대 도 18 에 나타낸 바와 같이, 원추형상이어도 동일한 효과가 발휘된다.
도 19 는 도 10 의 반송장치를 AGV (Automated Guided Vehicle) 에 적용한 실시 형태를 나타내는 도면이다. 도 10 에 나타낸 반송장치 (20) 를 구비한 AGV300 은 무선유도에 기초하여 안내로 (301) 를 따라 이동ㆍ정지 가능하게 되어 있다. 안내로 (301) 에 대하여 벽 (302) 을 사이에 두고 각종 처리장치 (303 내지 305) 가 배치되어 있다.
이 AGV300 의 동작에 대하여 설명한다. 먼저 AGV300 은 도시하지 않은 보관장소로부터 마스크 케이스 (10) 를 반송장치 (20) 의 아암 (21, 22) (도 10) 에 의해 지지하면서, 세정기 (303) 에서의 마스크 케이스의 수수장소 (303a) 에 반송하고, 거기에 탑재한다. 이 경우, 수수장소 (303a) 에는 3 개의 핀 (도시하지 않음) 이 배치되며, 수수장소에 마스크 케이스 (10) 를 탑재하는 것만으로 마스크 케이스 (10) 의 위치결정이 달성되게 되어 있다.
세정기 (303) 에서, 마스크 케이스 (10) 는 도시하지 않은 반송부에 의해 내부의 세정장까지 반송되며, 마스크의 세정이 행해진 후, 다시 수수장소 (303a) 까지 돌아온다.
AGV300 은 세정이 종료한 마스크를 수납한 마스크 케이스 (10) 를 반송장치 (20) 에 의해 지지하고, 인접하는 페리클 점착기 (304) 에서의 마스크 케이스의 수수장소 (304a) 에 반송하고, 거기에 탑재한다. 수수장소 (304a) 에는 동일하게 3 개의 핀 (도시하지 않음) 이 배치되며, 수수장소에 마스크 케이스 (10) 를 탑재하는 것만으로 마스크 케이스 (10) 의 위치결정이 달성되게 되어 있다.
페리클 점착기 (304) 에서, 마스크 케이스 (10) 는 도시하지 않은 반송부에 의해 내부의 처리장소까지 반송되며, 페리클의 점착이 행해진 후, 다시 수수장소 (304a) 까지 돌아온다.
또한, AGV300 은 동일하게 하여 위치결정을 행하면서, 페리클 점착기 (304) 로부터 쓰레기 검사장치 (305) 의 수수장소 (305a) 로 마스크 케이스 (10) 를 반송하고, 또한 도시하지 않은 노광장치로 마스크 케이스 (10) 를 반송하도록 되어 있다.
도 20 은 도 10 의 반송장치를 OHT (Over Head Transportation) 에 적용한 실시 형태를 나타내는 도면이다. 도 10 에 나타낸 반송장치 (20) 를 구비한 OHT400 은 무선유도에 기초하여 연직방향으로 연장되는 폴 (400a) 을 따라 상하이동 가능하고, 또한 폴 (400a) 과 함께 안내레일 (401) 을 따라 이동ㆍ정지 가능하게 되어 있다. 안내로 (401) 를 따라 각종 처리장치 (303 내지 305) 가 배치되어 있다.
그리고, OHT400 은 AGV300 에 대하여 안내레일 (401) 을 따라 이동하는 것만이 다를 뿐이므로, 그 동작에 대해서는 설명을 생략한다.
그런데, 마스크 케이스를 수수장소에 탑재하지 않고, 반송장치끼리에서 수수를 행하는 경우도 있다. 도 21, 22 는 서로간에 마스크 케이스의 수수를 행할 수 있는 반송장치의 실시 형태를 나타내는 도면이고, 도 21 은 그 상면도, 도 22 는 그 사시도이다.
도 21 에서, 이점쇄선으로 나타내는 마스크 케이스 (310) 는 도 13 의 마스크 케이스 (10) 에 대하여 동일한 단면형상을 갖는데 길이방향으로 긴 V 자 홈 (310a) 을 3 개 갖고 있다. 스콥(scoop)형상의 아암을 갖는 제 1 반송장치 (321) 는 120 도 등간격으로 핀 (321a) 을 3 개 형성하고 있다. U 자형의 아암을 갖는 제 2 반송장치 (322) 는 동위상에서 120 도 등간격으로 핀 (322a) 을 3 개 갖고 있다. 그리고, 핀 (321a, 322a) 의 형상은 도 13, 14 의 핀 (31) 의 형상과 동일하다.
여기에서, 제 1 반송장치 (321) 만이 마스크 케이스 (310) 를, 그 핀 (321a) 을 V 자 홈 (310a) 에 닿게 하여 지지하고 있는 것으로 한다. 이 상태에서, 제 2 반송장치 (322) 가 하측으로부터 마스크 케이스 (310) 에 접근해 가면, 핀 (321a) 이 V 자 홈 (310a) 에 닿는다. 제 2 반송장치 (322) 가 더욱 상승함에 의해 제 1 반송장치 (321) 의 핀 (221a) 이 V 자 홈 (310a) 으로부터 떨어지고, 그 단계에서 제 2 반송장치 (322) 에 마스크 케이스 (310) 가 수수되게 된다.
이 경우, 도 13, 14 를 참조하여 설명한 바와 같이, 구형상 머리부의 핀과 V 자 홈의 관계로부터, 제 2 반송장치 (322) 와 마스크 케이스 (310) 의 위치결정이 달성되게 된다. 따라서, 설령 반송장치 (321 과 322) 의 상대위치관계에 어긋남이 생기고 있었다고 해도, 제 2 반송장치 (322) 에 마스크 케이스 (310) 가 수수된 순간에 마스크 케이스 (310) 의 제 2 반송장치 (222) 에 대한 위치결정이 달성되며, 그에 의해 이후의 처리가 용이하게 된다. 그리고, 제 2 반송장치 (322) 로부터 제 1 반송장치 (321) 로 마스크 케이스 (310) 를 수수하는 경우에도 동일한 작용이 이루어진다.
이상, 설명한 바와 같이, 상기 실시 형태에 관계되는 마스크 케이스는 기판에 전사해야 할 패턴이 형성된 마스크 (M) 를 수납하는 마스크 케이스 (210) 이고, 이 마스크 케이스 (210) 의 1 개의 외벽면 (210c) 에 제 1 및 제 2 오목부 (211, 211a, 212) 가 형성되어 있고, 제 1 오목부 (211, 211a) 의 형상이 원추형상 및 삼각추형상의 어느 일측의 형상이며, 제 2 오목부 (212) 의 형상이 V 자 홈 형상인 것을 특징으로 한다.
이 마스크 케이스 (210) 에 의하면, 제 1 오목부 (211, 211a) 의 형상이 원추형상 및 삼각추형상의 어느 일측의 형상이고, 제 2 오목부 (212) 의 형상이 V 자 홈 형상이므로, 제 1 오목부 및 제 2 오목부 (211, 211a, 212) 에 볼록부로서 예컨대 2 개의 핀 (31) 을 삽입함으로써 핀 (31) 에 대하여 마스크 케이스 (210) 가 위치결정되게 된다. 따라서, 예컨대 마스크 케이스 (210) 의 저면에 제 1 오목부 (211, 211a) 및 제 2 오목부 (212) 를 형성하면, 마스크 케이스 (210) 를 핀 (31) 이 배치된 장소에 탑재하는 것만으로 그 위치결정이 달성되게 된다.
또, 마스크 케이스 (10) 는 기판에 전사해야 할 패턴이 형성된 마스크 (M) 를 수납하는 마스크 케이스 (10) 이고, 마스크 케이스 (10) 의 서로 대향하는 제 1 및 제 2 외벽면 (10a, 10b) 에 볼록부와 오목부의 적어도 일측의 형상의 끼워맞춤부 (1b, 1c) 가 있고, 제 1 외벽면 (10a) 에는 끼워맞춤부 (1b, 1c) 를 적어도 1 개 가지며, 제 2 외벽면 (10b) 에는 끼워맞춤부 (1b, 1c) 를 적어도 2 개 갖는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 마스크 케이스에 의하면, 마스크 케이스 (10) 의 서로 대향하는 제 1 및 제 2 외벽면 (10a, 10b) 에 볼록부와 오목부의 적어도 일측의 형상의 끼워맞춤부 (1b, 1c) 가 있고, 제 1 외벽면 (10a) 에는 끼워맞춤부 (1b, 1c) 를 적어도 1 개 가지며, 제 2 외벽면 (10b) 에는 끼워맞춤부 (1b, 1c) 를 적어도 2 개 가지므로, 제 1 및 제 2 외벽면 (10a, 10b) 에 각각 대향하는 면에 지지부재 (21a, 22a) 를 형성한 반송장치 (20) 에 의해 양 외벽면 (10a, 10b) 을 끼우고 들어 올리면, 끼워맞춤부 (1b, 1c) 와 지지부재 (21a, 22a) 가 서로 끼워 맞춰지고, 그에 의해 반송장치 (20) 에 대하여 마스크 케이스 (10) 를 위치결정할 수 있다.
또한, 반송장치 (20) 는 기판 (M) 을 수납하여 반송 가능한 기판 케이스 (10) 의 제 1 외벽면 (10a, 10b) 과 상기 제 1 외벽면 (10a, 10b) 에 인접하는 제 2 외벽면 (10c) 에 끼워맞춤부 (1b, 1c, 11) 를 형성한 기판 케이스 (10) 를 반송하는 반송장치 (20) 로서, 제 1 외벽면 (10a, 10b) 의 제 1 끼워맞춤부 (1b, 1c) 와 제 2 외벽면 (10c) 의 제 2 끼워맞춤부 (11) 의 적어도 일측을 끼워맞춤 지지하는 지지부재 (21a, 22a, 31) 를 갖는 것을 특징으로 한다.
반송장치 (20) 에 의하면, 기판 케이스 (10) 의 제 1 외벽면 (10a, 10b) 의 제 1 끼워맞춤부 (1b, 1c) 와 제 2 외벽면 (10c) 의 제 2 끼워맞춤부 (11) 의 적어도 일측을 끼워맞춤 지지하는 끼워맞춤 지지부재 (21a, 22a, 31) 를 가지므로, 이 반송장치 (20) 에 의해 기판 케이스 (10) 의 다른 외벽면 (10a, 10b, 10c) 을 지지할 수 있고, 그에 의해 반송장치 (20) 끼리에서 기판 케이스 (10) 를 위치결정하면서 그 수수를 달성할 수 있다.
상기 반송방법은 기판을 수납하여 반송 가능한 기판 케이스 (10) 의 제 1 외벽면 (10a, 10b) 과, 제 1 외벽면 (10a, 10b) 에 인접하는 제 2 외벽면 (10c) 에 끼워맞춤부 (1b, 1c, 11) 를 형성한 기판 케이스 (10) 를 반송하는 반송방법으로서, 제 1 외벽면 (10a, 10b) 의 제 1 끼워맞춤부 (1b, 1c) 를 끼워맞춤 지지하여 기판 케이스 (10) 를 위치결정 반송하고, 제 2 외벽면 (10c) 의 제 2 끼워맞춤부 (11) 를 끼워맞춤 지지하여 기판 케이스 (10) 를 위치결정 지지하고, 제 1 끼워맞춤부 (1b, 1c) 와 제 2 끼워맞춤부 (11) 사이에서 기판 케이스 (10) 를 수수하는 것을 특징으로 한다.
이 반송방법에 의하면, 제 1 외벽면 (10a, 10b) 의 제 1 끼워맞춤부 (1b, 1c) 를 끼워맞춤 지지하여 기판 케이스 (10) 를 위치결정 반송하고, 제 2 외벽면 (10c) 의 제 2 끼워맞춤부 (11) 를 끼워맞춤 지지하여 기판 케이스 (10) 를 위치결정 지지하고, 제 1 끼워맞춤부 (1b, 1c) 와 제 2 끼워맞춤부 (11) 사이에서 기판 케이스 (10) 를 수수하므로, 기판 케이스 (10) 의 반송시 및 수수시에 동시에 위치결정을 달성할 수 있다. 그에 의해 기판 케이스 (10) 의 반송시 또는 수수시에 위치결정동작을 별개로 행할 필요가 없어져 처리의 간소화를 도모할 수 있다.
본 발명의 마스크 케이스 및 이 마스크 케이스를 반송하는 반송장치 및 반송방법은 반도체 또는 액정표시소자 등을 포토리소그래피 공정으로 제조할 때에 사용할 수 있다.

Claims (17)

  1. 포토마스크를 수납함과 동시에, 기준면으로부터 세워 설치한 3 개의 지지부재상에 배치되는 포토마스크 케이스로서, 상기 지지부재 중 적어도 2 개가 끼워지는 적어도 2 개의 오목부를 그 이면에 구비하는 것을 특징으로 하는 포토마스크 케이스.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 2 개의 오목부의 최심부는 상기 포토마스크의 외측가장자리보다도 외측에 위치하는 것을 특징으로 하는 포토마스크 케이스.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 포토마스크가 삽입되어야 할 삽입구를 전면에 가지며, 삽입방향으로 평행한 대향하는 2 개의 가이드판을 내부에 갖는 것을 특징으로 하는 포토마스크 케이스.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 2 개의 오목부의 일측은 원추형상, 삼각추형상 및 사각추의 어느 하나이고, 타측은 V 자 홈 형상인 것을 특징으로 하는 포토마스크 케이스.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 오목부와는 다른 오목부를 상기 이면에 더 구비하고, 상기 3 개의 오목부는 상기 이면의 임의의 1 점을 중심으로 하여 방사형상으로 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 포토마스크 케이스.
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 3 개의 오목부는 각각 V 홈을 구성하는 것을 특징으로 하는 포토마스크 케이스.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 포토마스크 케이스의 측면에 볼록부 또는 오목부로 구성되는 끼워맞춤부를 갖는 것을 특징으로 하는 포토마스크 케이스.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 끼워맞춤부의 형상은 삼각기둥형상의 오목부, 오각기둥형상의 오목부 또는 원기둥형상의 볼록부인 것을 특징으로 하는 포토마스크 케이스.
  9. 제 7 항에 있어서, 상기 끼워맞춤부의 수는 2 개이고, 이들 끼워맞춤부의 중간위치의 점을 통과하며, 이들 끼워맞춤부를 연결하는 선에 직교한 평면에 대하여 이들 끼워맞춤부는 면대칭인 것을 특징으로 하는 포토마스크 케이스.
  10. 제 1 항에 기재된 포토마스크 케이스를 지지하는 지지부를 구비한 반송장치로서, 상기 지지부는 상기 오목부에 끼워지는 상기 지지부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 반송장치.
  11. 제 7 항에 기재된 포토마스크 케이스를 지지하는 지지부를 구비한 반송장치로서, 상기 지지부는 상기 끼워맞춤부에 끼워지는 끼워맞춤 지지부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 반송장치.
  12. 제 10 항에 있어서, 상기 지지부재의 이동제어를 행하는 제어부를 구비한 것을 특징으로 하는 반송장치.
  13. 제 11 항에 있어서, 상기 끼워맞춤 지지부재의 이동제어를 행하는 제어부를 구비한 것을 특징으로 하는 반송장치.
  14. 제 13 항에 있어서, 상기 끼워맞춤 지지부재 중의 대향하는 2 개를 연동시켜 이동시키고, 상기 제어부에 제어되는 구동부를 구비하는 것을 특징으로 하는 반송장치.
  15. 기판을 수납하여 반송 가능한 기판 케이스의 제 1 외벽면과, 상기 제 1 외벽면에 인접하는 제 2 외벽면에 끼워맞춤부를 형성한 기판 케이스를 반송하는 반송방법으로서, 상기 제 1 외벽면의 제 1 끼워맞춤부를 끼워맞춤 지지하여 상기 기판 케이스를 위치결정 반송하고, 상기 제 2 외벽면의 제 2 끼워맞춤부를 끼워맞춤 지지하여 상기 기판 케이스를 위치결정 지지하고, 상기 제 1 끼워맞춤부와 상기 제 2 끼워맞춤부 사이에서 상기 기판 케이스를 수수하는 것을 특징으로 하는 반송방법.
  16. 제 15 항에 있어서, 상기 위치결정 지지한 기판 케이스내의 기판을 상기 기판을 처리하는 기판처리위치에 반송하는 것을 특징으로 하는 반송방법.
  17. 포토마스크를 수납하는 포토마스크 케이스로서, 그 외면의 소정 위치에 적어도 2 개의 오목부를 구비하는 것을 특징으로 하는 포토마스크 케이스.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190077565A (ko) * 2016-11-25 2019-07-03 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드 마스크 박스

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE60219844T2 (de) * 2001-03-01 2008-01-17 Asml Netherlands B.V. Verfahren zur Übernahme einer lithographischen Maske
ITMI20012014A1 (it) 2001-09-27 2003-03-27 Lpe Spa Utensile per maneggiare fette e stazione per crescita epitassiale
US7304720B2 (en) * 2002-02-22 2007-12-04 Asml Holding N.V. System for using a two part cover for protecting a reticle
TWI286674B (en) * 2002-12-27 2007-09-11 Asml Netherlands Bv Container for a mask, method of transferring lithographic masks therein and method of scanning a mask in a container
US20050133158A1 (en) * 2003-12-19 2005-06-23 Applied Materials, Inc. Mask handler apparatus
TW200614411A (en) * 2004-09-04 2006-05-01 Applied Materials Inc Substrate carrier having reduced height
JP2006173273A (ja) 2004-12-14 2006-06-29 Miraial Kk レチクル搬送容器
JP2006173276A (ja) * 2004-12-14 2006-06-29 Miraial Kk レチクル処理システム
US20070116545A1 (en) * 2005-11-21 2007-05-24 Applied Materials, Inc. Apparatus and methods for a substrate carrier having an inflatable seal
US20070141280A1 (en) * 2005-12-16 2007-06-21 Applied Materials, Inc. Substrate carrier having an interior lining
TWI315765B (en) * 2007-05-16 2009-10-11 Avision Inc Separable shaft coupler and transmission device using the same
US8492283B2 (en) 2007-08-28 2013-07-23 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Method and structure for automated inert gas charging in a reticle stocker
CN105702601B (zh) * 2011-06-23 2020-02-07 布鲁克斯Ccs有限公司 清洁系统和方法
US8641353B2 (en) * 2011-08-25 2014-02-04 King Saud University System for storing and retrieving shoes
KR102502727B1 (ko) * 2015-11-09 2023-02-23 삼성전자주식회사 레티클 및 그를 포함하는 노광 장치
TWI685711B (zh) * 2018-08-27 2020-02-21 家登精密工業股份有限公司 光罩盒及其作動方法
CN111621743A (zh) * 2020-06-10 2020-09-04 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板
US11569108B2 (en) * 2020-06-15 2023-01-31 Globalfoundries U.S. Inc. Reticle pod conversion plate for interfacing with a tool

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3968885A (en) * 1973-06-29 1976-07-13 International Business Machines Corporation Method and apparatus for handling workpieces
US4723353A (en) * 1984-05-14 1988-02-09 Monforte Mathew L Exchangeable multi-function end effector tools
JPS6311636U (ko) * 1986-07-08 1988-01-26
JPS63178958A (ja) * 1986-12-27 1988-07-23 キヤノン株式会社 防塵容器
JP2625707B2 (ja) * 1987-03-04 1997-07-02 株式会社ニコン ホルダ
US4851692A (en) * 1987-12-18 1989-07-25 Master Images, Inc. Cassette improved to reduce particle contamination of reticles during photolithographic processing operations
JPH03109750A (ja) * 1989-09-25 1991-05-09 Nikon Corp 基板の管理及び保管装置
ATE141422T1 (de) * 1991-03-07 1996-08-15 Univ Washington Blindleistungskompensator
ES2101070T3 (es) 1992-08-04 1997-07-01 Ibm Recipientes portatiles estancos a presion para almacenar una rebanada de semiconductor en un ambiente gaseoso protector.
JP3200776B2 (ja) * 1992-08-06 2001-08-20 大日本印刷株式会社 基板保持用ケース
JP2619811B2 (ja) * 1994-06-27 1997-06-11 株式会社種橋器械店 基板収納容器

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190077565A (ko) * 2016-11-25 2019-07-03 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드 마스크 박스
US10908497B2 (en) 2016-11-25 2021-02-02 Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. Mask box

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AU8749698A (en) 1999-03-22
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EP1022615A4 (en) 2001-01-03
TW510004B (en) 2002-11-11

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