JPH03109750A - 基板の管理及び保管装置 - Google Patents

基板の管理及び保管装置

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Publication number
JPH03109750A
JPH03109750A JP1248520A JP24852089A JPH03109750A JP H03109750 A JPH03109750 A JP H03109750A JP 1248520 A JP1248520 A JP 1248520A JP 24852089 A JP24852089 A JP 24852089A JP H03109750 A JPH03109750 A JP H03109750A
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JP
Japan
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glass substrate
substrate
storage
glass
glass substrates
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Application number
JP1248520A
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English (en)
Inventor
Toru Tanida
谷田 徹
Junji Hazama
間 潤治
Kanefumi Nakahara
兼文 中原
Yoshinobu Kimura
芳信 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/7075Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はLSI等の製造に用いる各種ガラス基板を保管
するのに用いて最適なガラス基板の保管装置に関するも
のである。
〔従来の技術〕
従来、レチクルやマスク等のガラス基板の保管は、市販
のガラス基板用キャリアやガラス基板保管箱(10〜2
0枚)、及び四方形のガラス基板収納容器による保管を
行っている。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記のような従来の保管方法では、ガラス基板の保管に
時間がかかる、必要なガラスを探すのに時間がかかる、
大きな保管スペースが必要である、等の欠点がある。
また、人手を介するガラス基板の保管は多くの場合、塵
の付着によるガラス基板の汚染や誤操作によるガラス基
板の保管間違いを起こすという欠点がある。上記四方形
のガラス基板収納容器による保管は、コストが高価でか
つ大きな保管スペースが必要となる。
〔課題を解決する為の手段〕
本発明に係るガラス基板の保管装置は、ガラス基板を整
列保管するための保管棚と、四方形のガラス基板収納ケ
ースとの間を人手を介することなく自動搬送させ、ガラ
ス基板上の基板識別記号の読み取り装置によって誤収納
管理を防止し、ガラス基板上の異物検査装置と保管ガラ
ス基板への塵付着防止策を計ってガラス基板の汚染防止
を行っている。
〔作 用〕
本発明に於いては、計算機を用いてガラス基板の情報管
理を行うことと、ガラス基板上の識別記号の読み取り装
置を具備しているので、ガラス基板の収納・取り出し時
に誤操作をする不都合はない。
また、本発明に於いてはガラス基板の収納・取り出し時
に防塵カセットを用いることと、装置内の風流を制御す
ることと、保管ガラス基板への塵付着防止を計ることに
より、保管中のガラス基板が塵に汚染されるという不都
合がない。
〔実 施 例〕
以下、本発明の実施例による装置の全体構成を第1図、
第2図、及び第3図を参照して説明する。
第1図は保管、管理装置の外観を示す正面図であり、本
実施例では多数枚の基板を水平に収納する3つのラック
式保管庫(収納ユニット)IA、IB、ICと、基板の
検査、管理、及び取り出し収納を行う管理ユニット2と
で構成される。
収納ユニットIAは管理ユニット2と常に結合された型
で構成されるが、収納ユニットlB、ICは必要に応じ
て増設して構成される。また収納ユニットIA、IB、
ICの夫々が結合される側部の壁は、全て取り除かれ、
3つのユニットの内部は1つのつながった空間になって
いる。増設用の収納ユニットIB、ICは、正面にヒン
ジで軸支された透明な合成樹脂の扉100を有し、内部
のトラブル等のアシスト時にオペレータが自由に開閉で
きるようにしである。・ また標準収納ユニットIAの正面には、はぼオペレータ
の背丈に合わせた位置で開閉可能な中央層101 (金
属性)と、その上下の部分で開閉可能な透明の上部扉1
02、下部扉103とが設けられる。中央層101の全
面には、前方に可倒式に軸支されたキーボード93と、
平板型デイスプレィ(液晶、EL素子等)94とが設け
られる。
このキーボー93とデイスプレィ94とは、基板の保管
状況を記憶する記憶媒体(フロッピーディスク、ハード
ディスク等)を含む保管庫全体の各種制御用の計算機9
と接続されている。
尚、中央層101は、ここでは単独に水平面内で回動し
て開閉可能としたが、収納ユニッ) I B。
tCと同様に1枚の大きな透明扉にして、その扉の前面
に中央層101と同型状の板状の支持金物を設け、ここ
にキーボード93とデイスプレィ94とを設けても良い
。さらにその支持金物を扉の前面で上下(Z)方向に摺
動可能にガイドすれば、オペレータの個人差によらず、
デイスプレィ94の高さと視線とを最適に調整すること
ができる。
一方、管理ユニット2の正面には、基板が1枚毎に収納
された防塵カセットケースを取り出すための観音開きの
扉201,202が設けられる。
この扉201,202は合成樹脂性であり、外光がその
まま内部に入らないように、茶褐色(スモーク・ブラウ
ン)にして減光する。また管理ユニット2の正面には、
オペレータによって操作できるように配置された文字識
別装置91と磁気カードリーダ装置92とが設けられる
文字識別装置91は、基板の収納された防塵カセットケ
ースの外側面に表記された文字(又はバーコード)等の
識別子を読み取り、その情報を計算機9に送るものであ
り、オペレータは文字識別装置91に付属したライトペ
ン型式のバーコードリーダ部で防塵カセットケースのバ
ーコードを読み取る。磁気カードリーダ装置92は、各
種のレチクルやマスク等を磁気カードで管理する時に使
われる。
以上の装置全体は、所定のクラスのクリーン度に制御さ
れたクリーンルーム内の安定な床の上に設置される。ま
た正面の各種層にはインター・ロック機構が設けられ、
どれか1つでも扉が開けられた場合、装置内部の各種搬
送機構は全て停止するように構成され、基板(レチクル
、マスク等のガラス板)に対する安全性を高めている。
搬送機構の動作復帰は、開いた扉を全て閉じることで中
断点から自動復帰する場合と、キーボード93からのオ
ペレータのコマンドに従って復帰する場合とがある。
第2図は本実施例の装置の斜視図であり、基板保管庫の
内部がわかるように外壁や扉を省略しである。各収納ユ
ニットIA、IB、IC内には、水平にガラス基板を保
管する保管棚TRの複数個が上下方向、水平(X)方向
に一定ピッチで内蔵される。必要に応じ、この保管棚T
Rは増設が可能である。管理ユニット2と収納ユニット
IAとの間の隔壁には、基板受は渡し用の窓部WDが形
成されている。3は収納ユニットIA、  IB、  
IC内でのガラス基板の搬送機構であり、底床にX方向
に延設されたガイド部12、X方向に移動する基台31
.Z方向のガイド部として働くポスト32、及びY方向
のガイド部33等を含み、保管棚TRからのガラス基板
を取り出し・収納の為に用いられる。
搬送機構3からのガラス基板は、窓部WDを介して管理
ユニット2内のローダ機構4に引き渡すことができる。
5はガラス基板のカセットケース11への収納・取り出
し機構(ライブラリ一部)であり、複数のカセットケー
ス11を保持する垂直なポスト52,53、基板の水平
移動のガイド部材54等から成り、必要に応じて増設が
可能である。第2図では正面向かって右側のケース群が
標準装備のライブラリ一部であり、左側は増設ライブラ
リ一部である。6は異物検査装置であり、ガラス基板上
の異物、或いはペリクル表面の異物の検査を行う。検査
装置6の下部空間には識別子(バーコード等)の読み取
り装置が設けられるが、詳しくは後述する。また収納ユ
ニットIA、IB内の8A、8Bは、ガラス基板保管庫
内の清浄度を保つためのクリーンユニットであり、複数
の保管棚TRの背後全面から正面に向けて、クリーン・
エアを噴出する。その空気流は保管棚TRの下側部のベ
ンチレータ80A、80Bを介して装置外へ排出される
。クリーン・ユニット8A、8B内には送風器やフィル
ターが設けられ、装置内の空気を常にフローさせる。
第3図は第1図中のA−A’矢視断面を示す。
図中の矢印は空気の流れを示している。保管庫内はその
空気の清浄度を保つための工夫がなされている。すなわ
ち、HEPAフィルターHFを含むクリーンユニット8
Aの直前にガラス基板保管棚TRを配置することによっ
て、搬送機構3や他のガラス基板より発生する塵埃の付
着を防止している。発塵性の高い搬送機構3は風下に配
置し、また保管庫の床面に排気穴13(及び必要に応じ
てファン130)を設けることにより、保管庫内部の空
気をベンチレータ80Aを介して外に逃がし、保管庫内
部の空気の乱流や塵埃の巻き上げを防いでいる。尚、第
3図中の12°はガイド部32の上部を支えるレール部
である。
第4図は保管棚TRの各々に着脱自在に装着される基板
トレイ21を示す。基板トレイ21はガラス基板保管庫
の収納効率を上げる為に作成され、1つの基板トレイ2
1にはガラス基板が1枚収納できる。ガラス基板保管棚
TRには多数の基板トレイ21を水平方向にはめこむこ
とが可能である。
トレイ21は、金属性の底板21A、背板21D1及び
発塵の少ない合成樹脂による両側の側板部材21B、2
1Cで成形されている。側板部材21B、21Cの内側
には段部210B、210Cが形成され、レチクル、マ
スク等のガラス基板は、この段部21OB、210Cで
周辺部が保持される。
さて、段部210B、210Cの正面近傍の上面に一体
成形型(又は埋め込み)により突出したピン211はガ
ラス基板すべり落ち防止ピンで、振動等によってガラス
基板が前面に落ちるのを防いでいる。側板部材21Cの
前端面に形成されたL字状パターン212は、トレイ2
1の位置を正しく検知するための位置決めマークである
。側板部材21Bの前端面のラベル213は、トレイ2
1がガラス基板保管棚TRの中の何列目、何段目に位置
するかを示す表示ラベルである。段部21OB、210
Cに植設されたピン214は、ガラス基板収納時の奥方
向への位置決めピンである。
さらに段部210B、210Cに植設されたピン215
はガラス基板の支持ピンであり、ガラス基板の裏面と段
部21OB、210Cとの間にわずかな隙間をあけて、
段部上の塵埃がガラス基板に付着するのを防ぐ。底板2
1Aの中央と背板21Dに形成された風穴216は、前
述の保管庫内の風流(第3図中の矢印)を形成するよう
に、クリーン・ユニットからの送風を通りやすくするた
めのものである。
次に、第5図を参照して収納ユニットIA、IB、IC
内の基板搬送機構3の詳細な構造を説明する。第5図に
示す如く収納ユニッ)IA、IB。
lCの床板部には、ガイド部12がX方向に延設され、
ガイド部12上には、ガラス基板保管棚TRに対して平
行に固定されたガイドレール121゜123と、ラック
歯付きのレール122とが設けられる。
基台31は、ガイド部12の各レールに沿ってX方向に
自走可能に設けられ、この基台31上には、レール12
2のラック歯と歯合するビニオン歯車を含むギヤトレイ
ン317、駆動用のモータ311、及び基台31のX方
向移動量を計測するエンコーダ312とが固定される。
さらにこの基台31上には、直立状に固定された垂直ガ
イド部材としてのポスト32と、このポスト32に沿っ
て上下方向(Z方向)に摺動自在に支持された水平ガイ
ド部材33と、このガイド部材33を上下方向(Z方向
)に駆動するモータ313と、Z方向移動量を計測する
エンコーダ314と、カバーで密閉されたギヤトレイン
316とが設けられる。
ポスト32の内部下側にはモータ313で回転するプー
リが配置され、ポスト32の最上部内側に配置されたプ
ーリとの間には、タイミングベルト321がかけ渡され
る。このベルト321の1ケ所が水平ガイド部材33と
結合されている。ガイド部材33には、L字状の部材3
33を介してX方向に摺動自在に支持されたガラス基板
搬送用の一対のフォークアーム34A、34Bと、この
フォーク34A、34BをX方向に駆動するモータ33
1と、フォークのX方向移動量を計測するエンコーダ3
32と、カバーで密閉されたギヤトレイン335とが設
けられる。
またガイド部材33の内部には、ギヤトレイン335を
介して回転するプーリとタイミングベルトとが設けられ
、フォーク34A、34Bを水平に支持する部材333
は、このタイミングベルトの一部に固定され、X方向に
移動する。ガイド部材33の先端には、フォーク34A
、34Bを1つのトレイ21に対して正確に位置決めを
行うために、トレイ21のマーク212(第4図参照)
を光電的に検出するファイバーセンサ(ファイバーを用
いた反射型フォトカプラ)334が固定されている。フ
ォーク34A、34Bには、ガラス基板を真空圧を用い
て吸着するための吸着孔341が設置されている。ガラ
ス基板搬送機構3にはガラス基板上への塵埃付着防止策
として、モータカップリング、ギヤトレイン及び回転軸
等の発塵部分を覆うカバー315.316.335が設
置されている。
次に、第2図中に示したローダ機構4とカセット収納・
取り出し機構5について第6図を参照して説明するが、
基本構造は特開昭57−64930号公報に開示された
ものと同じである。カセット収納・取り出し機構(ライ
ブラリ一部)5は架台51と、それに垂直に固定された
2本のポスト52.53とを宵し、ポスト52と53と
の間には、装置正面から水平に着脱可能に防塵カセット
ケース11が垂直方向に複数個保持される。ポスト52
には、上下方向(Z方向)に摺動自在に支持された垂直
移動部材54Aが設けられ、これにはX方向に延びたガ
イド部材54と、基板の収納・取り出し時に防塵カセッ
トケース11の扉11Aの開閉を行う開閉機構55とが
固設される。ガイド部材54には、X方向に摺動自在に
支持された水平移動部材57A、57Bを介してレチク
ルR等のガラス基板を搬送するフォークアーム56が水
平にX方向移動可能に設けられている。このカセット収
納・取り出し機構5の動作についても、特開昭57−6
4930号公報に詳しく開示されているため、ここでは
それ以上の詳細な説明は省略する。
一部ローダ機構4は、X方向に延びるローダガイド部材
(第2図では図示せず)に摺動自在に支持されたL字状
のローダ移動部材64と、この移動部材64の先端に懸
架されたローダ部65とにより構成されている。第6図
に示すようにローダ部65の内部には、ガラス基板(レ
チクル)とほぼ相似形をなす支持板653が懸架されて
いる。
そして支持板653の四辺に対応する位置に各辺と平行
な軸(不図示)によって揺動可能に軸支された4つの爪
部材655がそれぞれ設けられている。また、爪部材6
55の支持板653の上に出た部分には、それぞれ4つ
のエアシリンダ657のピストンが係合して爪部材65
5の揺動を行う。
さらに、爪部材655の支持板653の下方に出た部分
には、ガラス基板Rの端面部を傷付けないような合成樹
脂のローラが回転自在に設けられている。
爪655やエアシリンダ657等が設けられた支持板6
53の下方には、ガラス基板Rとほぼ同じ大きさの吸着
板654が不図示のばね部材を介して支持板653に懸
架されている。この吸着板654の裏面には、ガラス基
板Rの上面4隅に接触する真空吸着のための吸気孔が設
けられており、吸気孔の位置に対応した4つの吸気管6
58が支持板653を貫通して吸気板654に固定され
ている。ローダ機構4についてもすでに特開昭57−6
4930号公報により広く知られており、ここではそれ
らの詳細の説明は省略する。
さて、ローダ機構4のローダ部65は移動部材64(第
2図参照)によってX方向に移動するが、第2図のよう
に増設ライブラリ一部が並置される場合は、この増設ラ
イブラリ一部のフォーク(56)の上方空間位置まで移
動可能である。さらに、第6図において本実施例では標
準ライブラリ一部のケース11の保持部下方空間に異物
検査装置6を設けるが、この検査装置6の構造について
は、例えば特開昭57−80546号公報、特開昭61
−176129号公報等に開示されている。また検査装
置6の下側の空間には、基板Rに形成された識別子を読
み取るための読み取り装置7が設けられ、フォーク56
に保持された基板RをY方向に走査することで識別子(
バーコード)を読み込み、その情報を計算機9へ送る。
尚、第6図において、防塵カセットケース11の扉11
Aは装置の奥に向かって位置し、開閉機構55の動作で
扉llAがほぼ水平に開かれた状態において、フォーク
56がケースll内に進入して基板RをケースIIへ収
納したり、ケースllから基板Rを取り出したりする。
またポスト52内には、垂直方向に掛は渡されたタイミ
ングベルトが設けられ、垂直移動部材54Aがこのベル
トの一部に固設されて、モータによって駆動される。同
様に、ガイド部材54の内部にもモータによって駆動さ
れるタイミングベルトが設けられ、水平移動部材57A
はこのベルトの一部に固設される。
次に、ガラス基板R上の識別子の読み取り装置7につい
て、第7図〜第9図を用いて説明する。
読み取り装置7は、ガラス基板Rの下面側からパターン
面に形成された識別子を読み取る固定式識別機構70と
、ガラス基板Rの上面よりガラスを介してパターン面側
の識別子を読み取る可動式識別機構71とを備えている
。これらの識別機構は共に発光素子701.711と受
光素子702.712とを備えており、発光素子701
,711からの発光をガラス基板Rのパターン面にて反
射させ、これを受光素子702.712にて検出する。
可動式識別機構71は、ペンシリンダ72により矢印の
如くX方向に出し入れすることができる。
第8図に識別機構の配置をガラス基板上面より見た様子
を示し、第9図は正面から見た様子を示す。−ガラス基
板R上の識別子73が、フォーク56の位置と重なる位
置にある時は、まず可動式識別機構71を同図中の右側
のフォーク56の真上に来るように、ペンシリンダ72
を用いてX方向に矢印のように位置決めする。次に、ガ
ラス基板Rを載せたフォーク56をY方向に移動させ、
ガラス基板上の識別子73を読み取る。ガラス基板の識
別子74がフォーク56の内側の位置にある時は固定式
識別機構70を用いる。この場合もガラス基板Rを載せ
たフォーク56をY方向に移動させることにより゛ガラ
ス基板上の識別子74を読み取る。尚、可動式識別機構
71によって識別子74を読み取ることも可能である。
以上、ライブラリ一部5とローダ機構4とについて説明
したが、ライブラリ一部5のフォークアーム56は基板
Rを確実に保持するために真空吸着を行うための吸気孔
を有する。また収納ユニットIA、IB、IC内のトレ
イ21に収納する基板はペリクル付きレチクルでも良く
、その場合はトレイ21の厚みをペリクル枠のスタンド
オフに合わせて変更しておけば良い。さらにペリクル付
きレチクルの搬送が混在する場合、ローダ部65の吸着
板654はペリクル枠と接触しないような平面形状に形
成される。また異物検査装置6は、ペリクル上面のみの
検査を行うもの、ペリクル内部のレチクル表面の検査を
行うもの、或いはその両方の検査を行うもの等のいずれ
であっても良い。
尚、ローダ部65は各ライブラリ一部に装着される最上
段のケース11よりも高い位置をX方向に移動する。
次に、ガラス基板Rのトレイ21への収納方法、取り出
し方法について、第1O図、第11図、第12図、第1
3図を用いて説明する。その前にまず、ガラス基板を収
納するため、搬送機構3を正確に目標とするトレイ21
に対し位置決めを行う手順について、第11図を参照し
て説明する。まず第5図に示した搬送機構3のフォーク
アーム34A、34Bの位置を、モータ311を用いて
X方向に、またモータ313を用いてZ方向に同時に駆
動する。予め定められた目標値に対して計算機9はエン
コーダ312及び314を監視しながらモータ311.
313を制御する。目標値近傍に達したら、ファイバー
センサ334を用いて、第11図の如く位置決めマーク
212の上辺2I21と下辺2122を検出するため、
モータ313を用いてガイド部材33をZ方向に微速で
一定距離だけ矢印2125の如く移動させる。そして計
算機9は、上辺2121のエンコーダ読み値と下辺21
22のエンコーダ読み値を記憶する。
次に、ファイバーセンサ334を用いて、位置決めマー
ク212の左辺2123と右辺2124を検出するため
、モータ311を用いて基台31(ポスト32)をY方
向に微速で一定距離だけ矢印2126の如く移動させる
。そして、計算機9は左辺2123と右辺2124のエ
ンコーダ読み値を記憶する。次に、読み取ったエンコー
ダ値よりマーク中点2127のエンコーダ値を算出し、
そのエンコーダ値を目標値(基準位置)としてモータ3
11とモータ313を駆動して搬送機構3のフォーク3
4A、34Bを位置決めする。以上の手順により、搬送
機構3のフォーク34A、34Bは、正確に目標とする
ガラス基板収納棚TR内のトレイ21に対して正確に位
置決めされる。
次に、ガラス基板Rをトレイ21に収納する手順を述べ
る。ガラス基板収納時において上記搬送機構3の位置決
めをする際には、真空圧を用いてガラス基板Rをフォー
ク34A、34Bに確実に吸着しておく。これは搬送中
にガラス基板Rを落下させないためである。さて、上記
搬送機構3の正確な位置決めが完了した時点で、フォー
ク34A、34Bの上面は、トレイ21内に収納されて
いるガラス基板の上面(即ち、ビン211の上端面)よ
りもわずかに高くなるように設計されている。ガラス基
板収納時は上記搬送機構3の正確な位置決めの終了後、
まず真空圧によるガラス基板Rのフォーク34A、34
Bへの吸着を解除し、モータ331を用いて微速でフォ
ーク34A、34Bをトレイ21の方向に向けて駆動す
る。もしこの時、トレイ21の中にすでにガラス基板が
入っていた場合は、フォーク34A、34Bの前方端面
(合成樹脂製)342は、トレイ21内のガラス基板R
の前端面と衝突し、フォーク34A。
34Bはそれ以上前進できない。この時、フォーり34
A、34Bを駆動しているモータ331には過電流が流
れる。本実施例ではこの過電流を検出し、トレイ21内
のガラス基板の存在を検知する。この方法を用いること
により、トレイ21にはガラス基板の存在を検知するた
めのセンサ類が不要となり、ガラス基板収納棚TRへの
トレイ21の収納効率が上げられ、かつ装置製造コスト
を下げることができる。
さて、トレイ21内にガラス基板が存在しない時は、フ
ォーク34A、34Bの前進と共に、ガラス基板Rはト
レイ21内にピン211や側板2IB、21Gと接触す
ることなく挿入され、ガラス基板Rの後端面がトレイ2
1の奥方向の位置決めピン214に当たることにより、
ガラス基板のトレイ21内での位置決めが行われる。次
に、フォーク34A、34BはY方向の移動を停止し、
モータ313を用いてZ方向下方向にフォーク34A、
34B(ガイド部材33)を一定量移動する。これによ
って基板Rはトレイ21内のピン215上に載置される
。この時のフォーク34A。
34Bとガラス基板Rの位置関係は第12図の如(であ
る。即ち、第1O図のようにフォークの厚みH2をトレ
イ21内の段部210Cと底板21Aとの高さ方向の間
隔H5よりも小さくしておくことで、第12図のように
フォーク34A、34Bを非接触状態にすることができ
る。この状態からフォーク34A、34BをY方向手前
に移動させる。以上がガラス基板のトレイ21への収納
手順である。
次に、ガラス基板をトレイ21より取り出す方法につい
て説明する。まずガラス基板を取り出すため、搬送機構
3のフォーク34A、34Bを正確に目標とするトレイ
21に対し位置決めを行う。
この位置決めの方法は、搬送機構3のX方向及びZ方向
の移動中にガラス基板がフォーク34A。
34Bに載っていないことと、真空圧によるガラス基板
の吸着を行わないことを除いては、上述のガラス基板の
トレイ21への収納時と同様である。
この位置決め完了後、モータ313を用いてフォーク3
4をZ方向下方向に一定量移動する。次に、フォーク3
4A、34Bをモータ331を用いてY方向奥に移動す
る。この時のフォーク34A。
34Bとトレイ21内のガラス基板Rとの位置関係は先
の第12図の如くである。ここで、フォーク34A、3
4BをZ方向上方に一定量移動し、真空圧を用いてガラ
ス基板Rをフォーク3.4 A。
34B上に吸着する。ガラス基板Rの有無はバキューム
センサを用いて検知し、もし検知できない場合は真空圧
による吸着を中止して計算機9へ警告を送る。次に、こ
の状態でフォーク34A、34BをY方向手前に移動し
てガラス基板Rをトレイ21より取り出す。
こうして、保管棚TRの全面に引き出された基板Rは、
搬送機構3のモータ311,313の駆動によって、管
理ユニット2の方へ平行移動される。そして、第13図
に示すように隔壁の窓部WDを介してフォーク34A、
34Bが、管理ユニット2側へ突出するように位置決め
する。一方、管理ユニット2内のローダ部65は、ロー
ダ機構4内のX方向のガイド部材63に沿って基板の受
は渡し位置で待機している。そして、第13図の状態で
搬送機構3のモータ313を駆動して、フォーク34A
、34B(ガイド部材33)を上方(Z方向)に一定量
だけ移動させる。この時、ローダ部65の爪部材655
は外側に開かれており、基板Rが吸着板654にソフト
コンタクトした時点で、爪部材655を内側に閉じて基
板Rを挟み込むと共に、吸気管658による吸気を開始
する。
吸気管658のバキュームセンサが作動したら、フォー
ク34A、34Bの方の真空吸着を解除し、フォーク3
4A、34Bは一定量だけ下方に退避する。これによっ
て基板Rは、ローダ部65の爪部材655の内側にある
ローラと吸着板654とによって確実に挟持される。
その後、ローダ部65はX方向に移動して第6図のよう
な位置で停止する。するとライブラリー部側のフォーク
56が上昇してきて、基板Rの下面とソフトコンタクト
する。同時にフォーク56の真空吸着を開始して、バキ
ュームセンサが作動したら、ローダ部65の爪部材65
5を開放して吸着板654の吸着を解除する。これによ
って基板Rは、爪部材655の働きによってフォーク5
6上に位置決めして載置される。その後、ライブラリー
側の各モータの駆動によって、基板Rは異物検査装置6
や読み取り装置7に順次送られ、所定の検査、チエツク
が行われる。そして、基板Rは計算機9で指定された防
塵カセットケース11内へ収納される。
こうして、所望の基板Rは防塵カセットケース11に収
納された状態で保管装置外へ人手で運び出され、露光装
置(ステッパー、アライナ−等)やレチクル洗浄装置等
のレチクルライブラリーにセットされる。この際、オペ
レータがキーボード93を介して、その基板Rの使用先
(ステッパー号機番号等)を入力すると、計算機9はそ
の基板Rの経歴を記憶するファイルに、使用先のコード
ネーム、日付、時間等のデータを書き込む。この経歴の
ファイルは、収納ユニットIA、IB、IC内に保管さ
れる全ての基板について登録が可能であり、各基板毎に
レチクルネーム、パターン領域の寸法、露光装置用のブ
ラインド領域の寸法、アライメントマークの配置、及び
パターン領域のデンシティ(濃度)に関する値、使用回
数、積算使用時間、レチクル厚み、及び使用するトレイ
21の座標位置等の情報が登録できる。
また計算機9は、防塵カセットケース11の表面に付設
されたバーコード等の識別子を識別装置91(第1図参
照)を使って読み込んでいるため、そのカセットケース
11のネームと、その内部に収納された基板Rのネーム
との対応関係もあわせて管理することができる。
通常、ステッパーを複数台用いた半導体工場では、レチ
クルはカセットケース11で管理されることが多く、1
枚のレチクルにはコード付けされた特定のカセットケー
スが割り当てられている。
従って、カセットケースとレチクルとの対応関係を常に
把握することは作業効率上、極めて有意義である。
さて、ステッパーや洗浄機等での作業が終わった基板は
、カセットケースごと管理ユニット2のライブラリ一部
5に装着される。そして先に述べた搬出動作と逆のシー
ケンスで、基板はカセットケースから取り出され、ロー
ダ部65を介して搬送機構3のフォーク34A、34B
に受は渡され、そして所定のトレイ21内に戻される。
この場合も、確認のために読み取り装置7で戻ってきた
基板Rのネームをチエツクしてからトレイ21へ戻すの
が良い。
以上、本発明の詳細な説明したが、搬送機構等は各種の
変更が可能である。そこで、次にこれらの変更について
簡単に述べる。実施例では、ガラス基板搬送機構3につ
いてはX方向、Z方向の移動はベルト駆動方式とし、ま
たX方向の移動はラックピニオン駆動方式としたが、本
発明はこれらの駆動方式に限定されるものではない。ま
た、本実施例では各フォークアームのX方向、X方向、
Z方向の移動量計測はエンコーダを用いたが、それに限
定されるものではない。また、管理ユニット2、収納ユ
ニットIA、IB、IC内はクリーン・ユニットによっ
て洗浄度を高めるだけで十分であるが、必要に応じて温
度制御を行うようにしても良い。また、実施例の保管庫
(レチクルストッカー)では、庫内の洗浄度が低下する
と、全ての基板に異物が付着する危険性がある。そこで
、庫内の適当な位置(複数ケ所)に、ダストカウンタへ
接続するためのチューブを配設しておき、庫内に浮遊す
るダストの数や大きさを適宜モニターすると良い。
〔発明の効果〕
以上のように本発明によれば、誤操作のないレチクル、
マスク等の基板の収納・取り出しが自動的に行え、小さ
なスペースにて多くのガラス基板を保管可能で、しかも
収納中の基板の塵汚染を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例による基板保管装置の外観を示
す正面図、第2図は第1図の保管装置の内部構成を概略
的に示す斜視図、第3図は保管装置中の標準収納ユニッ
ト内の構成と風流を説明する断面図、第4図は1枚の基
板を保管するためのトレイの構成を示す斜視図、第5図
は収納ユニット内に設伊られた基板搬送機構の構成を示
す斜視図、第6図は管理ユニット内に設けられたローダ
機構と収納・取り出し機構(ライブラリ一部)との構造
を示す斜視図、第7図は基板の識別子の読み取り装置の
配置を示す斜視図、第8図は読み取り装置と基板との配
置関係を示す平面図、第9図は第8図を正面から見た図
、第10図は収納ユニット内のトレイと搬送フォークア
ームとの関係を説明する図、第11図はトレイに設けら
れた位置決めマークの検出手順を説明する図、第12図
はトレイ、基板、及びフォークアームの配置関係を正面
から見た図、第13図は収納ユニット側の搬送機構と管
理ユニット側のローダ機構との間での基板の受は渡しの
様子を示す斜視図である。 〔主要部分の符号の説明〕 IA、IB、IC・・・基板収納ユニット、2・・・管
理ユニット、3・・・基板搬送機構、4・・・ローダ機
構、5・・・収納・取り出し機構(ライブラリ一部)、
6・・・異物検査装置、7・・・読み取り装置、8A、
8B・・・クリーン・ユニット、9・・・計算機、11
・・・防塵カセットケース、12,12°・・・ガイド
レール部材、21・・・基板トレイ、34A、34B、
56・・・フォークアーム、65・・・ローダ部、70
.71・・・識別装置(バーコードセンサー)、73.
74・・・識別子(バーコード)、R・・・レチクル。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ガラス基板を整列保管するための保管棚と、該ガラス基
    板を搬送するための搬送手段と、前記ガラス基板上、又
    はガラス基板に装着したペリクル面上に付着した異物を
    検査する異物検査装置と、前記ガラス基板上の基板識別
    記号を読み込む読み取り装置と、前記ガラス基板を収納
    する防塵ケースと、ガラス基板情報管理用の計算機とを
    具備した基板の管理、保管装置において、 前記搬送手段によって前記保管棚に保管された前記ガラ
    ス基板を、前記防塵ケースと前記検査装置と前記読み取
    り装置との間で相互に搬送し、該搬送制御とガラス基板
    の情報管理を前記計算機を用いて統括的に行うことを特
    徴とする基板の管理及び保管装置。
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