KR20010020548A - 적층체의 예열방법, 적층체의 제조방법 및 제조장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 복수의 폴리머판과 도전성 금속판을 교대로 적층하여 이루는 적층체를 예열하기 위한 방법, 적층체의 제조방법 및 제조장치에 관한 것으로서, 본 발명은 적층체의 적층방향에 전극을 통하여 고주파 전압을 인가함으로써 폴리머판을 유전가열하는 예열방법, 적층체의 적층면을 위요하는 고리형상의 수용체에 수용한 상태에서 적층체의 적층방향에 전극을 통하여 고주파 전압을 인가함으로써 폴리머판을 유전가열함과 동시에, 적어도 고주파 전압의 인가 종료후에 적층체를 적층방향으로 가압하는 적층체의 제조방법 및 장치에 관한 것을 특징으로 한다.

Description

적층체의 예열방법, 적층체의 제조방법 및 제조장치{METHOD OF PREHEATING LAMINATE, AND METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING THE SAME}

상기 적층체로서는 예를 들면 적층고무가 있다. 적층체에는 내진장치용 등 다양한 용도가 있다.

적층고무는 금형 내에 강판과 생고무판을 교대로 겹쳐 쌓아 수용하고 금형을 가열한 상태에서 프레스기에 의해 가압하도록 하여 제조되고 있다.

그러나, 적층고무를 구성하는 생고무판은 열전도률이 작기 때문에 열원에 근접하는 부분과 떨어져 있는 부분에서는 승온속도가 크게 다르고, 이 때문에 가황의 불균일한 진행에 의해 생고무와 강판과의 접착력이나 적층고무의 물성(物性) 등에 불균일이 생기는 문제가 있었다. 또한 금형을 완만하게 승온시킴으로써 어느 정도의 물성 등을 확보할 수 있게 되지만, 이 경우 성형 시간이 상당히 길어지게 된다.

그래서, 최근에는 가압성형 시간의 단축 및 물성 등의 안정화를 도모하기 위해, 이하의 (1),(2)에 나타나는 생고무판과 강판을 가황접착하기 전에 미리 생고무판 및 강판을 물성이나 작업성에 문제가 없는 온도까지 가열해두는 방법을 채택하고 있지만, 이것에 대해서도 각각에 결점이 있다.

(1)방법 1

이것은 적층되는 생고무판, 강판을 한층마다 예열하는 방법이다.

도 4에 도시한 바와 같이 건조로(K') 속에 설치한 복수의 선반(t)에 생고무판(1)과 강판(2')으로 이루어지는 한층분을 얹어놓고, 열풍(오른쪽 화살표로 나타냄)에 의해 각각 승온시키는 방법이다.

이 방법의 경우, 다음 공정의 가압성형을 위해서 예열 후, 금형으로 생고무판(1) 및 강판(2')의 장입이나 조립이 필요하게 되지만, 온도가 올라가면 생고무판(1)의 연화에 의해 장입작업이 곤란해지기 때문에 예열온도가 제한된다. 따라서, 가황 초기 온도가 올라가지 않고, 가황시간 단축의 효과가 약해진다.

(2)방법 2

이것은 생고무판과 강판을 교대로 적층 후, 일체로 예열하는 방법이다.

도 5에 도시한 바와 같이 건조로(K') 속에 설치한 중심(中芯)(A1')과 외부틀(A2')을 이용하여 복수의 생고무판(1)과 강판(2')을 교대로 적층하여, 열풍(오른쪽 화살표로 나타냄)에 의해 일체로 승온시키는 방법이다.

이 방법의 경우, 예열 후의 적층공정을 생략하는 것이 가능하기 때문에 예열온도를 비교적 높게 할 수 있지만, 가열방식이 열풍 등의 외부가열이기 때문에 외부에 비하여 내부의 승온속도가 늦어진다. 이것은 도 2에서 알 수 있고, 가열개시로부터 120분 경과하여 외측 고무가 예열제한 온도인 80℃에 도달하지만, 이 때의 내부고무의 온도는 60℃정도까지밖에 올라가고 있지 않다. 따라서, 적층체의 온도분포를 거의 균일하게 하기 위해서는 급속가열하지 않고 완만하게 가열하지 않으면 안되고, 예열시간을 길게 하지 않으면 안된다. 즉, 가압성형시간 단축의 효과가 약해진다.

또한 도 2의 데이터는 생고무판(1)이나 강판(2') 등을 이하와 같이 설정한 경우이다.

(생고무판(1)) 직경:520㎜, 두께:6㎜, 구멍직경:90㎜

(강판(2')) 직경:500㎜, 두께:3㎜, 구멍직경:90㎜

(플랜지) 직경:500㎜, 두께 25㎜, 구멍직경:90㎜

(열풍온도) 80℃

여기에서 내진장치용 이외의 용도로 사용되는 적층체에서는 생고무 이외의 폴리머판이 채용되는 경우가 있지만, 이 경우에 있어서도 상기 폴리머판을 균일 온도분포이고 동시에 단시간에서 원하는 온도까지 승온시킬 필요가 생기는 경우가 있다.

다음에, 적층고무는 ①고무유동온도(80∼95℃)까지 가열하여, 프레스압에 의해 적층고무의 성형을 실시하고, ②적층고무의 수직방향의 열팽창을 억제하여 제품크기를 확보함과 동시에, 항시 가압상태로서 고무의 가황(加硫), 강판-고무의 가황접착(가황접착온도 110∼125℃)을 실시하는 공정에 의해 제조되지만, 적층고무를 구성하는 생고무판은 열전도율이 작기 때문에 열원에 근접하는 부분과 떨어져 있는 부분에서는 승온속도가 크게 다르고, 이 때문에 가황의 불균일한 진행에 의해 적층고무의 물성(수직탄성율, 전단탄성율, 생고무판과 강판간의 접착력 등)에 불균일이 생기는 문제가 있었다.

이들의 대책으로서 이제까지 다양한 방법이 시험되어 왔지만, 내외부 상호간의 온도차를 해소할 수 없어, 결과적으로 제품으로의 영향을 억제하기 위해서 성형시간을 길게 하지 않을 수 없었다. 또, 시정안을 강구한다고 해도 아주 많은 공정수를 요하게 되기 때문에, 혁신적인 방법은 아직 발견되고 있지 않다.

또한, 그 밖에 적층체, 예를 들면 합성수지판이나 세라믹판 등과 도전성 금속판의 접착에 대해서도 내외부간의 온도차가 문제가 되는 경우가 있다.

본 발명은 복수의 폴리머판과 도전성 금속판을 교대로 적층하여 이루는 적층체를 예열하기 위한 방법, 적층체의 제조방법 및 제조장치에 관한 것이다.

도 1은 본 발명의 실시형태인 적층체의 예열장치의 설명도,

도 2는 종래의 방법 2로 예열한 경우와, 본 발명의 예열방법으로 예열한 경우의 예열결과(온도-가열시간)를 비교한 그래프,

도 3은 본 발명의 다른 실시형태의 적층체의 예열장치의 설명도,

도 4는 종래에서 어떤 적층체의 예열방법(방법 1)을 나타내는 설명도,

도 5는 종래에서 어떤 적층체의 예열방법(방법 2)을 나타내는 설명도,

도 6은 본 발명의 실시형태인 적층고무의 제조장치의 설명도,

도 7은 도 6의 제조장치에 채용되고 있는 성형틀 및 이것의 내부공간에 수용시킨 적층체의 설명도,

도 8은 종래 기술의 방법 및 장치에서 적층고무를 제조한 경우와, 본 발명의 실시형태의 적층고무의 제조방법 및 장치에서 제조한 경우와의 적층체의 내외온도와 가열시간과의 관계를 비교한 그래프,

도 9는 본 발명의 다른 형태의 적층고무를 제조하기 위한 성형틀 및 이것의 내부공간에 형성된 적층고무를 나타내는 설명도,

도 10은 본 발명의 제조방법 및 장치에 의해 제조되는 다른 형태의 적층고무 단면도, 및

도 11은 본 발명의 제조방법 및 장치에 의해 제조되는 다른 형태의 적층고무 단면도이다.

그래서, 본 발명은 적층체 중의 폴리머판을 거의 균일한 온도분포로 동시에 단시간에서 원하는 온도까지 승온시킬 수 있는 적층체의 예열방법을 제공하는 것을 과제로 하고, 또 내외부 상호간에서 거의 온도차없이 동시에 단시간에서 원하는 온도역까지 승온시킬 수 있는 적층체의 제조방법 및 제조장치를 제공하는 것을 과제로 한다.

상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명에는 하기의 수단이 강구되고 있다.

(청구항 1 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 예열방법은 복수의 폴리머판과 도전성 금속판을 교대로 적층하여 이루어지지는 적층체의 적층방향에 전극을 통해서 고주파 전압을 인가함으로써 상기 폴리머판을 유전가열하는 것으로 하고 있다.

(청구항 2 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 예열방법은, 청구항 1 기재의 발명의 적층체의 예열방법에 관하여, 복수의 도전성 금속판 상호가 평행 배치되어 있는 것으로 하고 있다.

(청구항 3 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 예열방법은 청구항 1 또는 2 기재의 발명의 적층체의 예열방법에 관하여, 복수의 도전성 금속판 상호의 간격이 대략 동일한 것으로 하고 있다.

(청구항 4 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 예열방법은 청구항 1 내지 3 중 어느 하나에 기재된 발명의 적층체의 예열방법에 관하여, 고주파 전압은 적층체의 적층방향 양측에 배치되는 전극간에 인가되는 것으로 하고 있다.

(청구항 5 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 예열방법은 청구항 4 기재의 발명의 적층체의 예열방법에 관하여, 전극은 적층체의 양 가장바깥측의 도전성 금속판인 것으로 하고 있다.

(청구항 6 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 예열방법은 청구항 4 기재의 발명의 적층체의 예열방법에 관하여, 전극은 적층체의 양 가장바깥측에 형성된 도전성 금속판으로 이루어지는 플랜지인 것으로 하고 있다.

(청구항 7 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 예열방법은 청구항 4 기재의 발명의 적층체의 예열방법에 관하여, 전극은 적층체의 양 가장바깥측면에 맞닿은 상태에서 배치 설치되는 도전성 금속판인 것으로 하고 있다.

(청구항 8 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 예열방법은 청구항 6 또는 7 기재의 발명의 적층체의 예열방법에 관하여, 전극을 가열수단으로 가열하도록 하고 있다.

(청구항 9 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 예열방법은 청구항 1 내지 8 중 어느 하나에 기재된 발명의 적층체의 예열방법에 관하여, 적층체의 적층방향에 형성된 관통구멍에 비도전성부재로 구성한 심재가 내부 삽입된 상태에서 상기 복수의 폴리머판과 도전성 금속판을 위치 결정하는 것으로 하고 있다.

(청구항 10 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 예열방법은 청구항 1 내지 9 중 어느 하나에 기재된 발명의 적층체의 예열방법에 관하여, 적층체의 적층면을 위요(圍繞)하는 고리형상의 수용체로 상기 복수의 폴리머판과 도전성 금속판을 위치 결정하는 것으로 하고 있다.

(청구항 11 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 예열방법은 청구항 9 또는 10 기재의 발명의 적층체의 예열방법에 관하여, 수용체 또는 심재의 적어도 한쪽은 유전손실 계수가 0.3 이하인 것으로 하고 있다.

(청구항 12 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조방법은 복수의 폴리머판과 도전성 금속판을 교대로 적층하여 이루어지는 적층체를 비도전성부재로서 상기 적층체의 적층면을 위요하는 고리형상의 수용체에 수용한 상태에서, 상기 적층체의 적층방향에 전극을 통하여 고주파 전압을 인가함으로써 폴리머판을 유전가열함과 동시에 적어도 고주파전압의 인가종료후에 상기 적층체를 적층방향으로 가압수단에 의해 가압하는 것으로 하고 있다.

(청구항 13 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조방법은 청구항 12 기재의 적층체의 제조방법에 관하여, 상기 복수의 도전성 금속판 상호가 평행 배치되어 있다.

(청구항 14 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조방법은 청구항 12 또는 13 중 어느 하나에 기재된 적층체의 제조방법에 관하여, 복수의 도전성 금속판 상호의 간격이 대략 동일한 것으로 하고 있다.

(청구항 15 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조방법은 청구항 12 내지 14 중 어느 하나에 기재된 적층체의 제조방법에 관하여, 가열수단에 의한 가열은 고주파 전압의 인가 중에도 실시되는 것으로 하고 있다.

(청구항 16 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조방법은 청구항 12 내지 15 중 어느 하나에 기재된 적층체의 제조방법에 관하여, 고주파 전압의 극성을 소정 시간마다 교체하도록 하고 있다.

(청구항 17 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조방법은 청구항 12 내지 15 중 어느 하나에 기재된 적층체의 제조방법에 관하여, 고주파전압은 적층체의 적층방향 양측에 배치 설치되는 전극사이에 인가되는 것으로 하고 있다.

(청구항 18 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조방법은 청구항 17 기재의 적층체의 제조방법에 관하여, 전극은 적층체의 양 가장바깥측의 도전성 금속판인 것으로 하고 있다.

(청구항 19 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조방법은 청구항 17 기재의 적층체의 제조방법에 관하여, 전극은 적층체의 양 가장바깥측에 형성된 도전성 금속판으로 이루어지는 플랜지인 것으로 하고 있다.

(청구항 20 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조방법은 청구항 17 기재의 적층체의 제조방법에 관하여, 전극은 적층체의 양 가장바깥측면에 맞닿은 상태에서 배치 설치되는 도전성 금속판인 것으로 하고 있다.

(청구항 21 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조방법은 청구항 17 기재의 적층체의 제조방법에 관하여, 전극은 가압수단의 도전성 금속판으로 이루어지는 가압판인 것으로 하고 있다.

(청구항 22 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조방법은 청구항 20 또는 21 기재의 적층체의 제조방법에 관하여, 전극을 가열수단으로 가열하도록 하고 있다.

(청구항 23 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조방법은 청구항 12 내지 22 중 어느 하나에 기재된 적층체의 제조방법에 관하여, 적층체의 적층방향에 형성된 관통구멍에 비도전성부재로 구성한 중심이 내부 삽입된 상태에서 유전가열을 실시하는 것으로 하고 있다.

(청구항 24 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조장치는 복수의 폴리머판과 도전성 금속판을 교대로 적층하여 이루어지는 적층체를 가열 일체화하는 장치로서, 비도전성부재로 구성되고, 상기 적층체의 적층면을 위요하는 고리형상의 수용체, 상기 적층체의 적층방향에 전극을 통해서 고주파전압을 인가함으로써 상기 폴리머판을 유전가열하는 유전가열수단 및 상기 적층체를 적층방향으로 가압하는 가압수단을 갖는 것으로 하고 있다.

(청구항 25 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조장치는 청구항 24 기재의 적층체의 제조장치에 관하여, 가압수단은 적어도 고주파 전압의 인가 종료후에 가압을 실시하는 것으로 하고 있다.

(청구항 26 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조장치는 청구항 24 또는 25 중 어느 하나에 기재된 적층체의 제조장치에 관하여, 유전가열수단은 고주파전압의 극성을 소정시간마다 교체하는 스위치수단을 갖는 것으로 하고 있다.

(청구항 27 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조장치는 청구항 24 내지 26 중 어느 하나에 기재된 적층체의 제조장치에 관하여, 적층체의 적층방향 양측에 고주파전압을 인가하는 전극이 설치되어 있는 것으로 하고 있다.

(청구항 28 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조장치는 청구항 27 기재의 적층체의 제조장치에 관하여, 전극은 적층체의 양 가장바깥측의 도전성 금속판으로서 유전가열수단은 상기 적층체의 양 가장바깥측의 도전성 금속판사이에 고주파전압을 인가 가능하게 구성되어 있다.

(청구항 29 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조장치는 청구항 27 기재의 적층체의 제조장치에 관하여, 전극은 적층체의 양 가장바깥측의 도전성 금속판으로 이루어지는 플랜지로서, 유전가열수단은 상기 플랜지사이에 고주파 전압을 인가 가능하게 구성되어 있다.

(청구항 30 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조장치는 청구항 27 기재의 적층체의 제조장치에 관하여, 전극은 적층체의 양 가장바깥측면에 맞닿은 상태에서 배치 설치되는 도전성 금속판으로서, 유전가열수단은 상기 적층체의 양 가장바깥측면에 맞닿은 상태에서 배치 설치되는 도전성 금속판 사이에 고주파 전압을 인가 가능하게 구성되어 있다.

(청구항 31 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조장치는 청구항 27 기재의 적층체의 제조장치에 관하여, 가압수단은 도전성 금속판으로 이루어지는 가압판에 의해 유전가열 기간에 적층체를 가압함과 동시에 상기 유전가열수단은 상기 가압판 사이에 고주파전압을 인가 가능하게 구성되어 있다.

(청구항 32 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조장치는 청구항 30 또는 31 기재의 적층체의 제조장치에 관하여, 전극에 가열수단을 구비시킨 것으로 하고 있다.

(청구항 33 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조장치는 청구항 24 내지 32 중 어느 하나에 기재된 적층체의 제조장치에 관하여, 상기 복수의 폴리머판과 도전성 금속판을 위치결정하기 위한 비도전성부재로 구성된 위치결정수단을 갖고, 상기 위치결정수단은 상기 적층체의 적층방향에 따라서 형성된 관통구멍에 내부 삽입되는 심재인 것으로 하고 있다.

(청구항 34 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조장치는 청구항 33 기재의 적층체의 제조장치에 관하여, 수용체 또는 심재의 적어도 한쪽은 유전손실 계수가 0.3 이하인 것으로 하고 있다.

(청구항 35 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조장치는 청구항 24 내지 34 중 어느 하나에 기재된 적층체의 제조장치에 관하여, 수용체는 분할형인 것으로 하고 있다.

(청구항 36 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조장치는 청구항 33 또는 34 중 어느 하나에 기재된 적층체의 제조장치에 관하여, 상기 위치결정수단은 적층체의 적층면을 지지하는 구성으로 되어 있다.

(청구항 37 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조장치는 청구항 33 또는 34 중 어느 하나에 기재된 적층체의 제조장치에 관하여, 적층체는 그 적층방향에 관통구멍을 갖는 것으로 하고 있고, 상기 위치결정수단은 적층체의 관통구멍구성 벽면을 지지하는 구성으로 되어 있다.

(청구항 38 기재의 발명)

본 발명의 적층체의 제조장치는 청구항 36 또는 37 기재의 적층체의 제조장치에 관하여, 위치결정수단은 유전손실 계수가 0.3 이하인 것으로 하고 있다.

이하, 본 발명의 실시형태를 도면에 따라서 설명한다.

(A)적층체의 예열

도 1에 본 발명의 실시형태인 플랜지를 갖는 적층체의 고무층을 유전가열방식으로 예열하는 장치가 나타나 있고, 적층체(S)를 그 적층방향(도 1에 있어서 상하방향)에 평행전극판(P1, P2)에 끼워넣고, 고주파 발진기(8)에 발생시킨 고주파 전압을 평향 전극(P1, P2) 상호간에 가하여 각 층의 생고무판(1)에 각각 내부 발열을 생기게 하도록 하고 있다. 또한 상기 적층체(S)는 중앙부에 구멍(h)을 갖는 것으로 하고 있고, 적층체(S)의 위치결정은 비도전성부재로 이루어지는 중심(Al')을 상기 구멍(h)에 삽입하는 태양으로 실시하는 것으로 하고 있다.

이하에 이 예열장치에 채용되고 있는 주요 구성에 대하여 상술한다.

(a)적층체(S)

적층체(S)는 도 1에 도시한 바와 같이 구멍(10)을 갖는 원형상의 생고무판(1)과 구멍(20)을 갖는 강판(2')(도전성 금속판(2)에 대응)을 교대로 적층하고, 그 상하측에 구멍(30)을 갖는 플랜지(3)를 배치시켜 구성하고 있다.

여기에서 상기한 구멍(h)이 되는 구멍(10, 20, 30)은 모두 동일 직경으로 하고, 강판(2')과 플랜지(3)는 동일 직경으로 하고, 생고무판(1)은 강판(2')이나 플랜지(3)보다도 조금 큰 직경으로 하고 있다. 생고무판(1), 강판(2'), 플랜지(3)의 구체적인 크기에 대해서는 배경기술에서 기재한 도 2의 데이터와 동일하다.

(b)고주파 발진기(8)

고주파 발진기(8)는 공지의 회로로 구성시키고 있고, 발생시키는 주파수를 13.6㎒로 설정하고 있다. 또한 고주파 유전가열에 사용되는 고주파는 일반적으로는 4∼80㎒의 범위이지만, 1∼300㎒의 범위라면 사용 가능하다.

또, 이 고주파 발진기(8)에서는 도 1에 도시한 바와 같이 생고무판(1)의 온도를 검지하는 온도센서(80)를 설치하고 있고, 85℃에 도달하면 출력이 정지하도록 설정하고 있다.

(c)중심(A1')

중심(A1')의 재료로서는 손실계수(유전율×유전정접(正接))가 0.3 이하, 바람직하게는 0.15 이하[측정법:JIS K6911, 시험조건:온도 20±2℃, 상대습도 65±5%, 측정용 고주파:1㎒]이고, 강도·내열성이 우수하고, 선팽창계수가 작고, 흡수율이 낮고, 저비용인 것이 채용된다. 구체적으로는 페놀수지, 에폭시수지, 에스테르수지 및 각각의 유리섬유 등의 복합체나 세라믹 등을 사용할 수 있다. 또한, 상술한 바와 같이 손실계수를 0.3 이하로 설정하고 있는 것은 이 이상 크게 되면, 중심(A1')의 내부 발열이 생고무판(1)의 그것보다 훨씬 커져 중심(A1')의 주변이 국부적으로 온도 상승하고, 이에 의해 생고무판(1)의 균일 가열이 불가능하게 되기 때문이다.

(d)이 예열장치의 기능 등

도 1에 도시한 바와 같이 적층체(S)를 평행전극판(P1, P2) 상호간에 위치시켜, 고주파 발진기(8)에 발생시킨 고주파 전압을 평행전극(P1, P2) 상호간에 가하면, 등간격으로 적층된 강판(2')이 중간 전극판으로서 움직이고, 모든 생고무판(1)은 내외부분에 관계없이 동시에 가열될 수 있게 되고, 따라서 단시간이며 동시에 거의 균일하게 가열시킬 수 있다. 이것은 도 2에서도 알 수 있다. 즉, 이 장치를 채용하면, 고주파 발진기(8)를 12분간 출력시킴으로써 생고무판(1)을 70℃정도까지 상승시킬 수 있고, 또한 그 때 생고무판(1)의 내외부분의 온도차가 5℃정도로 작은 것을 알 수 있다.

(e)그 외

(1)상기한 평행 전극판(P1, P2)인 상하 플레이트에 외부가열방식을 병용하는 것이 바람직하고, 이와 같이 한 경우, 상하방향에 있어서 균일가열이 보다 향상한다. 이 외부가열방식으로서는 예를 들면 상하 플레이트 내에 각각 증기나 오일 등이 가열된 유체를 흐르게 하거나, 상하 플레이트 내에 전열선을 매설하는 방식이 있다. 이 경우, 상하방식에 있어서 균일가열이 보다 향상하는 것은 적층체(S)의 상하부로부터의 방열에 의한 온도저하를 방지할 수 있기 때문이다. 이것은 평행전극판(P1, P2)에 열반을 열이동 가능하게 접촉시키는 구성을 채용한 경우도 동일하다.

또한 상기 상하 플레이트 및 열반을 사용한 경우의 이들 온도는 85℃로 설정된다.

(2)상시 실시형태에서는 적층체(S)의 위치결정에 중심(A1')을 사용하였지만, 이것에 한정되는 것이 아니고, 도 5에서 나타난 외부틀(A2')과 동일한 형상의 외부틀로 적층체(S)의 외부를 누르는 태양으로 위치 결정시켜도 좋다. 이 장치는 구멍(h)을 갖지 않는 적층체(S)를 예열하는 경우에 유효하다.

(3)도 3에 도시한 바와 같은 플랜지(3)를 갖는 적층체(S)를 예열하는 경우는 다음 공정인 가황성형공정의 장입에 분할형식의 중형을 세트하기 위해 한쪽의 플랜지를 떼내어 실시한다.

(4)플랜지의 유무, 생고무판(1), 강판(2')의 두께 및 크기에 관계없이, 복수의 생고무판(1)과 강판(2')이 교대로 적층되어 이루어지는 적층체라면, 상기 실시형태와 동일하게 균일하고 동시에 단시간에 원하는 온도까지 예열할 수 있다.

또한, 상기 실시형태의 적층체(S)는 생고무판(1):11장, 강판(2'):10장으로 구성되어 있지만, 이에 한정되는 것은 아니고, 이보다 작아도 많아도 동일한 우수한 효과를 나타낸다. 특히, 생고무판(1) 및 강판(2')의 장수가 많은 경우(예를 들면 생고무판(1):41장, 강판(2'):40장 정도)에는 종래의 것과 비교하면 효과는 아주 크다.

(5)내진장치용 이외의 용도에 사용되는 적층체에 대해서는 생고무판도 포함하여, 디엔(diene)계 에라스토머(elastomer)(예를 들면, 천연고무), 비디엔계 에라스토머, 열가소성 에라스토머계, 액상 고무계, 열가소성수지, 열경화성수지 등의 폴리머판을 사용할 수 있다.

(6)적층체(S)의 강판(2')은 서로 평행한 것이, 인가되는 고주파 전압에 의해 생기는 전계강도가 강판(2')의 판면상에서 보다 균일화하여 바람직하지만, 적층체(S)의 용도 등에 따라서 평행하지 않은 구조인 것에 대해서는 2장의 강판(2')사이의 간격이 좁은 측에 더미(비도전성부재로 구성) 등을 개재시켜 간격차를 고주파적으로 정합시켜 가열하면 좋다.

(7)고주파전압은 적층체(S)의 적층방향에 전극을 통하여 인가할 수 있다면, 다양한 접속태양을 채용할 수 있다. 예를 들면 고주파 발진기로부터의 2개의 출력선을 도전성 금속재에 접속 가능(예를 들면 선단부에 그립구조를 갖는 등)하게 구성하고, 전용의 전극(P1, P2)에 접속하는 본 실시형태나, 적층체(S)가 도전성 금속으로 이루어지는 플랜지를 갖는 것은 이 플랜지에 접속하거나, 또는 가장바깥측의 강판(2')에 접속하여 이것을 전극으로서 채용하도록 하여도 좋다. 또, 출력단자의 한쪽을 적층방향의 거의 중간에 위치하는 강판(2')에 접속하고, 다른 쪽의 출력단자를 접지된 적층체(S) 양단 개소에 접속하여도 좋다(비평행결전방식). 또는 적층체(S) 양단을 접지하고, 적층방향 약 1/3, 약 2/3의 위치에 있는 2장의 강판(2')에 각 출력단자를 접속하도록 하여도 좋다(평행결전방식).

이렇게 하여도 각 생고무판(1)에 균일하게 유전가열을 실시할 수 있다.

(B)적층체의 제조

도 6에 도시한 실시형태는 길게 돌출한 플랜지(3)를 상하로 갖는 적층체(S)를 유전가열방식을 이용하여 제조하는 장치이다.

이 제조장치는 도 7에 도시한 바와 같이 중형(A3) 및 중심(A4)과 상하형(A1, A2)에 의해 형성되는 내부공간(K)에 적층체(S)를 수용시키고, 도 6에 도시한 바와 같이 고주파 발진기(8)에 발생시킨 고주파 전압을 평행전극판(P1, P2)을 통해서 상하형(A1, A2)사이에 가하면서, 상하형(A1, A2)이 접근하는 방향에 프레스기에 의해 압력을 가하도록 하는 것이다.

이하에 이 적층고무의 제조방치에 채용되고 있는 주요구성 등에 대해서 후술한다.

(a)적층체(S)

적층체(S)는 도 7에 도시한 바와 같이, 구멍(10)을 갖는 원형상의 생고무판(1)과 구멍(20)을 갖는 강판(2')(도전성 금속판(2)에 대응)을 교대로 적층하고, 그 상하에 구멍(30)을 갖는 플랜지(3)를 배치시켜 구성하고 있다. 또한 생고무판(1)과 강판(2')의 사이에 접착재를 개재시켜 두는 것이 바람직하다. 접착재로서는 예를 들면 페놀계 폴리머와 염소계 폴리머 등을 조합시킨 것이 있다.

여기에서 생고무판(1), 강판(2') 및 플랜지(3)의 구체적 크기는 이하와 같다.

(생고무판(1)) 직경:520㎜, 두께:6㎜, 구멍직경:90㎜

(강판(2')) 직경:500㎜, 두께:3㎜, 구멍직경:90㎜

(플랜지(3)) 직경:600㎜, 두께:25㎜, 구멍직경:90㎜

(b)고주파 발진기(8)

고주파 발진기(8)는 공지의 회로로 구성되고, 발생시키는 주파수를 13.6㎒로 설정하고 있다. 또한, 고주파 유전가열에 사용되는 주파수는 일반적으로는 4∼80㎒의 범위이지만, 1∼300㎒의 범위라면 사용가능하다.

또, 이 고주파 발진기(8)에서는 생고무판(1)의 온도를 검지하는 온도센서를 설치하고 있고, 140℃에 도달하여 2시간후에 출력이 정지하도록 설정하고 있다.

(c)상·하형(A1, A2)

상하형(A1, A2)은 원형상의 강판에 의해 구성되고 있고, 짜맞추어진 중형(A3)보다도 조금 큰 직경으로 하고 있다.

(d)중형(A3) 및 중심(A4)

중형(A3) 및 중심(A4)의 재료로서는 손실계수(유전율×유전정접)가 0.3 이하, 바람직하게는 0.15 이하[측정방법:JIS K6911, 시험조건:온도20±2℃, 상대습도 65±5%, 측정용 주파수:1㎒]이고, 강도·내열성이 우수하고, 선팽창계수가 작고, 흡수율이 낮고, 저비용인 것이 채용된다. 구체적으로 페놀수지, 에폭시수지, 에스테르수지 및 각각의 유리섬유 등의 복합체나 세라믹 등을 사용할 수 있다. 또한 상술한 바와 같이 손실계수를 0.3 이하로 설정하고 있는 것은, 이 이상 커지면, 중형(A3) 및 중심(A4)의 내부발열이 생고무판(1)의 그것보다는 훨씬 커져 중형(A3) 및 중심(A4)의 주변이 국부적으로 온도상승하여, 이에 의해 생고무판(1)의 균일 가열이 불가능하게 되기 때문이다.

여기에서 상기 중형(A3)을 분할형으로 함으로써(도시하지 않음), 적층고무(적층체(S)를 가황접착한 것)의 중형으로부터 빼내기가 가능하도록 하고 있다.

(e)평행전극판(P1, P2)

평행전극판(P1, P2)은 상기 상하형(A1, A2)보다도 조금 큰 직경의 강판에 의해 구성되어 있고, 도시하지 않은 가열수단을 구비시킴으로써 열반(熱盤)으로서 기능하도록 하고 있다. 또한, 가열수단으로서는 예를 들면 평행전극판(P1, P2) 속에 각각 증기나 오일 등의 가열된 유체를 흐르게 하거나, 평행전극판(P1, P2)내에 열전선을 매설한 구성을 채용할 수 있다. 여기에서 이렇게 가열수단을 설치하는 것은 상하형(A1, A2)으로부터의 방열을 방지하고 적층체(S)에서 외부와 내부와의 사이에서 온도차가 생기지 않도록 하기 위함이고, 따라서 평행전극판(P1, P2)의 온도는 고주파 발진기(8)에 구비시킨 온도센서의 검지온도에 맞춰서 상승하도록 설정하고 있다.

(f)이 유전가열장치의 기능 등

도 6에 도시한 바와 같이 적층체(S)를 평행전극판(P1, P2) 상호간에 위치시켜, 고주파 발진기(8)에 발생시킨 고주파 전압을 평행전극판(P1, P2) 상호간에 가하면, 등간격으로 적층된 강판(2')이 중간 전극판으로서 움직이고, 모든 생고무판(1)은 내외부분에 관계없이 동시에 가열되고, 이것과 평행전극판(P1, P2)에 구부시킨 가열수단의 기능을 겸해서 적층체(S)는 가황온도까지 단시간에 동시에 거의 균일하게 가열시킨다. 이것은 도 8에서도 알 수 있다. 즉, 이 장치를 채용하면 적층체(S)는 고주파 발진기(8)를 30분간 출력시킴으로써 내외부 모두 고무유동성형 온도역(80∼95℃)에 도달하고, 1.5시간정도 출력시킴으로써 내외 모두 가황접착 온도역(110∼125℃)에 도달하고, 3시간 정도 출력시킴으로써 내외 모두 가황완성 온도역(140℃)에 도달한다.

그리고, 상기 내용 및 도 8로부터 이하의 것을 알 수 있다.

(1)종래 기술의 외부가열방식만에 의한 제조방법 및 장치에서는 적층고무의 제조에 15시간 이상이 걸리는 것에 대하여, 본 발명의 실시형태의 제조방법 및 장치에서는 5시간 정도의 짧은 시간에서 적층고무를 완성시킬 수 있다.

(2)종래 기술의 외부가열방식만에 의한 제조방법 및 장치에서는 내외 온도차가 큰 상태에서 가황이 진행하기 때문에 그 물성은 떨어지는 것이 되는 것에 대하여, 본 발명의 실시형태의 제조방법 및 장치에서는 내외 온도차가 없는 상태에서 가황이 진행되기 때문에 그 물성은 우수한 것이 된다.

(g)프레스기

프레스기는 도 6에 도시한 바와 같이 기초대(40), 기초대(40)의 위쪽에 설치된 유압실린더(41), 상기 유압실린더(41)의 출력축단에 설치되어 있는 압압판(42), 상기 압압판(42)에 수직하게 늘어뜨려 고정된 비도전성 부재제의 봉형상 압압부(43)를 구비하는 것으로 하고 있다. 또한 이 실시형태에서는 상기한 평행전극판(P1)은 봉형상 압압부(43)의 하단에 평행전극판(P2)은 기초대(40)의 상면에 각각 설치되어 있는 것으로 하고 있다.

또한, 상기한 유전가열 및 평행전극판(P1, P2)에 의한 가열이 개시되면 동시에 프레스기에 의해 상하형(A1, A2)이 접근하는 방향에 압력이 가해지게 되지만, 적층체(S)의 내외온도가 상기한 고무유동성형 온도역에 도달한 시점에 있어서 제품크기 확보를 위해서 설정압력 중 가장 높은 프레스압이 된다.

(h)적층고무의 다른 실시형태

(1)이 실시형태에 있어서 각층의 생고무판(1)의 유전가열은 적층체(S)를 평행전극판(P1, P2) 상호간에 생고무판(1) 및 도전성 금속판(2)과 평행전극판(P1, P2)이 평행하게 되는 태양으로 배치시켜, 상기 평행전극판(P1, P2)사이에 고주파 전압을 가함으로써 실시되도록 하고 있지만, 이 구성에 더하여 생고무판(1) 및 도전성 금속판(2)과 평행한 상하형(A1, A2)사이에 고주파 전압을 가함으로써 생고무판(1)을 유전가열하도록 하여도 좋다. 이 경우, 상하형(A1, A2)에 가열수단을 설치함으로써 열반으로서 기능시키도록 한다.

또, 상기 구성에 더하여 평행전극판(P1, P2)에 열반을 열이동 가능하게 접촉시키는 구성이나 상하형(A1, A2)에 열반을 열이동 가능하게 접촉시키는 구성으로 하여도 좋다.

(2)본 발명의 제조방법 및 장치를 사용하면, 도 9에 도시한 바와 같은 적층고무(S')라도 동일하게 단시간에서 제조할 수 있고 동시에 물성이 우수한 것이 된다. 이것은 플랜지를 갖고 있지 않은 적층고무(S')(도 10)나 중앙의 관통구멍을 갖고 있지 않은 적층고무(S')(도 11)에 대해서도 동일하다.

(3)플랜지의 유무, 생고무판(1), 강판(2')의 두께 및 크기에 관계없이 복수의 생고무판(1)과 강판(2')이 교대로 적층시켜 이루어지는 적층고무라면, 상기 실시형태와 동일하게 단시간에서 제조 동시에 물성이 우수한 것이 된다.

또한, 상기 실시형태의 적층고무(S')(도 9, 도 11)는 생고무판(1):11장, 강판(2'):10장으로 구성된 것이지만, 이것에 한정되지 않고, 이보다 적어도 많아도 동일하게 우수한 것이 된다.

(4)많은 장수의 생고무판(1) 및 강판(2')에 의해 두께가 큰 적층고무를 제조하는 경우, 평행전극판(P1, P2) 또는 상하형(A1, A2)의 극성이 일정시간마다 교체하도록 함으로써 내외부 상호간에서 거의 온도차가 없고 동시에 단시간에서 가황온도역까지 승온시킬 수 있다. 이 경우에는 프레스기에서 기초대(40)의 상면부분을 비도전성부재에 의해 구성시키는 것이 필요하다.

(5)상기 실시형태의 생고무판(1)에 더하여 디엔계 에라스토머(예를 들면 천연고무), 비디엔계 에라스토머, 열가소성 에라스토머계, 액상 고무계 등의 폴리머판을 사용할 수 있다.

(6)적층체(S)의 강판(2')은 서로 평행하지만, 인가되는 고주파 전압에 의해 생기는 전계강도가 강판(2')의 판면상에서 보다 균일화하여 바람직하지만, 적층체(S)의 용도 등에 따라서 평행하지 않은 구조의 것에 대해서는 2장의 강판(2') 사이의 간격이 좁은 측에 더미(비도전성부재로 구성)등을 개재시키고 간격차를 고주파적으로 정합시켜 가열하면 좋다.

(7)고주파 전압은 적층체(S)의 적층방향에 전극을 통해서 인가할 수 있다면, 다양한 접속태양을 채용할 수 있다. 예를 들면 고주파 발진기로부터의 2개의 출력선을 도전성 금속재에 접속 가능(예를 들면, 선단부에 그립구조를 갖는 등)하게 구성하고, 전용의 전극(P1, P2)에 접속하는 본 실시형태나 적층체(S)가 도전성 금속으로 이루어지는 플랜지를 갖는 것으로는 이 플랜지에 접속하거나, 또는 가장바깥측의 강판(2')에 접속하여 이것을 전극으로서 겸용하도록 하여도 좋다. 또, 출력단자의 한쪽을 적층방향의 거의 중간에 위치하는 강판(2')에 접속하고, 다른쪽의 출력단자를 접지된 적층체(S) 양단 개소에 접속하여도 좋다(비평행결전방식). 또는 적층체(S) 양단을 접지하고, 적층방향 약 1/3, 약 2/3의 위치에 있는 2장의 강판(2')에 각 출력단자를 접속하도록 하여도 좋다(평행결전방식). 이렇게 하여도 각 생고무판(1)에 균일하게 유전가열을 실시할 수 있다.

또한, 프레스기의 프레스판을 전극으로서 겸용하도록 하여도 좋다.

(i)그 밖의 적층체의 실시형태

(1)생고무 이외의 폴리머판과 도전성 금속판을 교대로 적층하여 이루어지는 적층체를 본 발명의 제조장치에 따라 유사한 방법을 사용하여 제조할 수 있다.

폴리머판으로서는 예를 들면 범용의 열가소성 합성수지, 열경화성 합성수지, 범용의 고무재, 열가소성 에라스토머 등의 재료를 채용할 수 있다.

(2)적층고무의 경우는 프레스기를 유전가열처리의 당초부터 동작시켰지만, 적층체의 종류에 따라서는 이것에 한정된 것은 아니다. 즉, 적어도 유전가열 종료후에 작동시키는 것이라면 좋은 것이다.

본 발명은 상기와 같은 구성이기 때문에 적층체 중의 폴리머판을 거의 균일한 온도분포로 동시에 단시간에서 원하는 온도까지 승온시킬 수 있는 적층체의 예열방법을 제공할 수 있었다. 또, 본 발명은 내외부 상호간에서 거의 온도차없이 동시에 단시간에서 원하는 온도역까지 승온시킬 수 있는 적층체의 제조방법 및 제조장치를 제공할 수 있었다.

Claims (38)

1. 복수의 폴리머판과 도전성 금속판을 교대로 적층하여 이루어지는 적층체의 적층방향에 전극을 통해서 고주파 전압을 인가함으로써 상기 폴리머판을 유전가열하는 것을 특징으로 하는 적층체의 예열방법.
2. 제 1 항에 있어서,

   복수의 도전성 금속판 상호가 평행 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 적층체의 예열방법.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

   복수의 도전성 금속판 상호의 간격이 대략 동일한 것을 특징으로 하는 적층체의 예열방법.
4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,

   고주파 전압은 적층체의 적층방향 양측에 배치되는 전극간에 인가되는 것을 특징으로 하는 적층체의 예열방법.
5. 제 4 항에 있어서,

   전극은 적층체의 양 가장바깥측의 도전성 금속판인 것을 특징으로 하는 적층체의 예열방법.
6. 제 4 항에 있어서,

   전극은 적층체의 양 가장바깥측에 형성된 도전성 금속판으로 이루어지는 플랜지인 것을 특징으로 하는 적층체의 예열방법.
7. 제 4 항에 있어서,

   전극은 적층체의 양 가장바깥측면에 맞닿은 상태에서 배치 설치되는 도전성 금속판인 것을 특징으로 하는 적층체의 예열방법.
8. 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,

   전극을 가열수단으로 가열하도록 한 것을 특징으로 하는 적층체의 예열방법.
9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,

   적층체의 적층방향에 형성된 관통구멍에 비도전성 부재로 구성한 심재가 내부 삽입된 상태에서 상기 복수의 폴리머판과 도전성 금속판을 위치 결정하는 것을 특징으로 하는 적층체의 예열방법.
10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,

    적층체의 적층면을 위요하는 고리형상의 수용체에서 상기 복수의 폴리머판과 도전성 금속판을 위치결정하는 것을 특징으로 하는 적층체의 예열방법.
11. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,

    수용체 또는 심재의 적어도 한쪽은 유전손실 계수가 0.3 이하인 것을 특징으로 하는 적층체의 예열방법.
12. 복수의 폴리머판과 도전성 금속판을 교대로 적층하여 이루어지는 적층체를 비도전성부재로서 상기 적층체의 적층면을 위요하는 고리형상의 수용체에 수용한 상태에서, 상기 적층체의 적층방향에 전극을 통하여 고주파 전압을 인가함으로써 폴리머판을 유전가열함과 동시에, 적어도 고주파전압의 인가 종료후에 상기 적층체를 적층방향으로 가압수단에 의해 가압하는 것을 특징으로 하는 적층체의 제조방법.
13. 제 12 항에 있어서,

    복수의 도전성 금속판 상호가 평행 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 적층체의 제조방법.
14. 제 12 항 또는 제 13 항에 있어서,

    복수의 도전성 금속판 상호의 간격이 대략 동일한 것을 특징으로 하는 적층체의 제조방법.
15. 제 12 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,

    가열수단에 의한 가열은 고주파 전압의 인가 중에도 실시되는 것을 특징으로 하는 적층체의 제조방법.
16. 제 12 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,

    고주파 전압의 극성을 소정 시간마다 교체하도록 한 것을 특징으로 하는 적층체의 제조방법.
17. 제 12 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,

    고주파전압은 적층체의 적층방향 양측에 배치 설치되는 전극사이에 인가되는 것을 특징으로 하는 적층체의 제조방법.
18. 제 17 항에 있어서,

    전극은 적층체의 양 가장바깥측의 도전성 금속판인 것을 특징으로 하는 적층체의 제조방법.
19. 제 17 항에 있어서,

    전극은 적층체의 양 가장바깥측에 형성된 도전성 금속판으로 이루어지는 플랜지인 것을 특징으로 하는 적층체의 제조방법.
20. 제 17 항에 있어서,

    전극은 적층체의 양 가장바깥측면에 맞닿은 상태에서 배치 설치되는 도전성 금속판인 것을 특징으로 하는 적층체의 제조방법.
21. 제 17 항에 있어서,

    전극은 가압수단의 도전성 금속판으로 이루어지는 가압판인 것을 특징으로 하는 적층체의 제조방법.
22. 제 20 항 또는 제 21 항에 있어서,

    전극을 가열수단으로 가열하도록 한 것을 특징으로 하는 적층체의 제조방법.
23. 제 12 항 내지 제 22 항 중 어느 한 항에 있어서,

    적층체의 적층방향에 형성된 관통구멍에 비도전성부재로 구성한 중심이 내부 삽입된 상태에서 유전가열을 실시하는 것을 특징으로 하는 적층체의 제조방법.
24. 복수의 폴리머판과 도전성 금속판을 교대로 적층하여 이루어지는 적층체를 가열 일체화하는 장치로서, 비도전성부재로 구성되고, 상기 적층체의 적층면을 위요하는 고리형상의 수용체, 상기 적층체의 적층방향에 전극을 통해서 고주파전압을 인가함으로써 상기 폴리머판을 유전가열하는 유전가열수단 및 상기 적층체를 적층방향으로 가압하는 가압수단을 갖는 것을 특징으로 하는 적층체의 제조장치.
25. 제 24 항에 있어서,

    가압수단은 적어도 고주파 전압의 인가 종료후에 가압을 실시하는 것을 특징으로 하는 적층체의 제조장치.
26. 제 24 항 또는 25 항에 있어서,

    유전가열수단은 고주파전압의 극성을 소정시간마다 교체하는 스위치수단을 갖는 것을 특징으로 하는 적층체의 제조장치.
27. 제 24 항 내지 제 26 항 중 어느 한 항에 있어서,

    적층체의 적층방향 양측에 고주파전압을 인가하는 전극이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 적층체의 제조장치.
28. 제 27 항에 있어서,

    전극은 적층체의 양 가장바깥측의 도전성 금속판으로서 유전가열수단은 상기 적층체의 양 가장바깥측의 도전성 금속판사이에 고주파전압을 인가 가능하게 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 적층체의 제조장치.
29. 제 27 항에 있어서,

    전극은 적층체의 양 가장바깥측의 도전성 금속판으로 이루어지는 플랜지로서, 유전가열수단은 상기 플랜지사이에 고주파 전압을 인가 가능하게 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 적층체의 제조장치.
30. 제 27 항에 있어서,

    전극은 적층체의 양 가장바깥측면에 맞닿은 상태에서 배치 설치되는 도전성 금속판으로서, 유전가열수단은 상기 적층체의 양 가장바깥측면에 맞닿은 상태에서 배치 설치되는 도전성 금속판 사이에 고주파 전압을 인가 가능하게 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 적층체의 제조장치.
31. 제 27 항에 있어서,

    가압수단은 도전성 금속판으로 이루어지는 가압판에 의해 유전가열기간에 적층체를 가압함과 동시에 상기 유전가열수단은 상기 가압판 사이에 고주파전압을 인가 가능하게 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 적층체의 제조장치.
32. 제 30 항 또는 제 31 항에 있어서,

    전극에 가열수단을 구비시킨 것을 특징으로 하는 적층체의 제조장치.
33. 제 24 항 내지 제 32 항 중 어느 한 항에 있어서,

    상기 복수의 폴리머판과 도전성 금속판을 위치결정하기 위한 비도전성부재로 구성된 위치결정부재를 갖고, 상기 위치결정부재는 상기 적층체의 적층방향에 따라서 형성된 관통구멍에 내부 삽입되는 심재인 것을 특징으로 하는 적층체의 제조장치.
34. 제 33 항에 있어서,

    수용체 또는 심재의 적어도 한쪽은 유전손실 계수가 0.3 이하인 것을 특징으로 하는 적층체의 제조장치.
35. 제 24 항 내지 제 34 항 중 어느 한 항에 있어서,

    수용체는 분할형으로 한 것을 특징으로 하는 적층체의 제조장치.
36. 제 33 항 또는 제 34 항에 있어서,

    상기 위치결정수단은 적층체의 적층면을 지지하는 구성으로 되어 있는 것을 특징으로 하는 적층체의 제조장치.
37. 제 33 항 또는 제 34 항에 있어서,

    적층체는 그 적층방향에 관통구멍을 갖는 것으로 하고, 상기 위치결정수단은 적층체의 관통구멍 구성벽면을 지지하는 구성으로 되어 있는 것을 특징으로 하는 적층체의 제조장치.
38. 제 36 항 또는 제 37 항에 있어서,

    위치결정수단은 유전손실 계수가 0.3 이하인 것을 특징으로 하는 적층체의 제조장치.