KR20000057861A - 미용 세정제 조성물 및 그것의 용도 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 미용적으로 허용되는 매질 내에 세정 베이스, 하나 이상의 양이온성 중합체, 및 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열을 함유하는 하나 이상의 수용성 음이온성 중축합물을 포함하는 신규 세정제 조성물, 특히 모발 조성물에 관한 것이다.
상기 조성물은 개선된 스타일링 효과를 가지며, 모발의 클렌징, 케어 및 스타일링에 적용된다.

Description

미용 세정제 조성물 및 그것의 용도 {DETERGENT COSMETIC COMPOSITIONS AND USES THEREOF}
본 발명은 모발과 같은 케라틴 물질의 개선된 클렌징(cleansing), 컨디셔닝(conditioning) 및 스타일링(styling) 특성을 동시에 가지며, 미용적으로 허용가능한 지지체 내에, 세정력을 갖는 계면활성제로 이루어진 세정 베이스를 함유하며, 또한 수용성 음이온성 폴리우레아 또는 폴리우레탄과의 조합으로 양이온성 중합체가 존재하는 신규 미용 조성물에 관한 것이다.
주로 음이온성, 비이온성 및/또는 양쪽성, 특히 더욱 구체적으로 음이온성의 종래 계면활성제 기재의 모발 세정제 조성물 (또는 샴푸) 을 모발의 클렌징 및/또는 세정에 사용하는 것이 일반적이다. 이들 조성물은 젖은 모발에 적용되고, 손으로 맛사지(massage) 또는 마찰시킴으로써 거품을 발생시키고, 물로 헹구어낸 후, 초기에 모발에 존재하는 각종 오염물을 제거한다.
이들 베이스 조성물은 우수한 세정력을 가지는 것이 분명하나, 그럼에도 불구하고, 이들과 관련된 고유한 미용 특성은, 특히 클렌징 처리의 비교적 공격적인 특성이 결국 모발 섬유 표면에 또는 내부에 함유된 지질 또는 단백질의 점진적인 제거와 관련하여 모발 섬유의 손상을 다소 일으킬 수 있다는 사실 때문에 매우 불량하다.
따라서, 특히 민감한 모발 (즉, 특히 대기 제제 및/또는 웨이브 퍼머, 염색 또는 탈색과 같은 모발 처리의 화학 작용 하에 손상 또는 부스러진 모발) 에 적용하기 위한 상기 세정제 조성물의 미용 특성을 개선하기 위해, 주로 모발 섬유가 다소 반복적으로 받게되는 각종 처리 또는 공격에 의해 유도된 바람직하지 못하며, 해로운 효과를 제한 또는 회복시키기 위한 컨디셔너로 알려진 부가 미용 제제를 이들 조성물에 도입하는 것이 상용화되어 있다. 말할 것도 없이, 이들 컨디셔너는 또한 천연 모발의 미용 특성을 개선할 수 있다.
현재 샴푸에 가장 통상적으로 사용되는 컨디셔너는 양이온성 중합체이며, 이는 이들 중합체가 없는 상응하는 클렌징 조성물로 수득한 것과 비교시, 세정, 건조 또는 젖은 모발에 현저히 개선된 용이한 엉킴풀림, 부드러움 및 매끄러움을 제공한다.
또한, 세정된 모발에 상기한 미용 특성의 개선 뿐만 아니라, 다소 강한 스타일링, 볼륨, 셰이핑 및 유지 특성을 부여할 수 있는 컨디셔닝 샴푸를 수득하고자 한다. 개선된 일반 미용 특성을 갖는 세정 샴푸를 종종 단순히 "스타일링 샴푸" 라 하며, 이러한 표현은 이하에 적용된다.
그러나, 양이온성 중합체 기재 스타일링 샴푸 영역에서 최근 이룬 진보에도 불구하고, 이들 샴푸가 전적으로 만족스러운 것은 아니며, 상기한 하나 이상의 미용 특성과 관련된 더욱 우수한 성능 특성을 갖는 신규 제품에 대한 요구가 여전히 존재한다.
본 발명은 이러한 요구를 만족시키기 위한 것이다.
따라서, 이러한 문제에 대해 상당한 연구를 수행한 결과, 본 출원인은 전적으로 놀랍고도 예상밖으로, 하기 정의된 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열을 함유하는 음이온성 중축합물을 세정제 조성물, 특히 양이온성 중합체를 함유하는 모발 조성물에 도입함으로써, 이들 조성물과 관련된 미용 특성을 실질적으로 상당히 개선할 수 있으며, 동시에 우수한 고유 세정력을 유지할 수 있음을 발견하였다.
하기 명세서 및 특허청구범위에서, 용어 "폴리우레탄" 은 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열을 함유하는 중축합물과 동등하게 사용된다.
본 발명이 어떠한 이론에도 한정되지 않기를 바라며, 헹구어내는 동안, 본 발명에 따른 양이온성 중합체와 음이온성 폴리우레탄, 및 모발 사이의 특별한 상호작용 및/또는 친화력이 나타날 것이며, 상기 폴리우레탄 및 양이온성 중합체의 상기 모발 표면 상으로의 침적이 규칙적으로 상당히 오래 지속되도록 촉진하며, 이러한 질적 및 양적 침적은 최종 특성, 특히 처리된 모발의 스타일링의 용이성, 유지, 볼륨의 생생함에 대해 관측된 개선의 원인 중 하나일 것이다. 어느 경우나, 본 발명에 따른 제제의 조합 [양이온성 중합체/폴리우레탄] 을 함유하는 세정 베이스와 관련된 미용 특성은 상응하는 전체 농도로 이들 제제 중 하나만을 사용하여 수득할 수 있는 것보다 훨씬 우수하다.
이러한 모든 발견이 본 발명의 기초를 형성한다.
따라서, 본 발명에 따르면, 미용적으로 허용가능한 매질 내에 세정 베이스, 하나 이상의 양이온성 중합체, 및 하나 이상의 수용성 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열을 함유하는 하나 이상의 음이온성 중축합물을 포함하는 신규 세정제 조성물, 특히 모발 조성물이 제안된다.
본 발명의 요지는 또한 상기 조성물의 케라틴 물질, 특히 모발의 클렌징, 컨디셔닝 및 스타일링을 위한 미용 용도이다.
그러나, 본 발명의 기타 특성, 양태 및 장점이 하기 명세서에서 더욱 분명하며 구체적으로 나타나지만, 본 발명을 예시하는 실시예로 한정시키는 것은 아니다.
상기한 바와 같이, 본 발명의 모발 제품 조성물의 필수 구성 형성부는 (ⅰ) 세정 베이스를 형성하기 위한 세정력을 갖는 계면활성제, (ⅱ) 양이온성 중합체(들), 및 (ⅲ) 수용성 음이온성 폴리우레탄이다.
A. 세정 베이스:
본 발명에 따른 조성물은 일반적으로 수성인 세정 베이스를 반드시 함유해야 한다.
세정 베이스를 형성하는 계면활성제는 음이온성, 양쪽성, 비이온성, 쯔비터이온성 및 양이온성 계면활성제로부터 단독으로 또는 혼합물로서 선택할 수 있다. 그러나, 본 발명에 따르면, 세정 베이스는 음이온성 계면활성제, 또는 음이온성 계면활성제와 양쪽성 계면활성제의 혼합물 또는 비이온성 계면활성제를 함유하는 것이 바람직하다.
세정 베이스의 최소량은 최종 조성물에 만족스러운 거품 및/또는 세정력을 부여하기에 충분한 양이며, 세정 베이스의 과량이 어떠한 부가적인 장점을 제공하는 것은 아니다.
따라서, 본 발명에 따르면, 세정 베이스는 최종 조성물의 총 중량에 대해 4 내지 50 중량%, 바람직하게는 6 내지 25 중량%, 더욱 바람직하게는 8 내지 20 중량% 를 나타낼 수 있다.
본 발명을 수행하기에 적합한 계면활성제는 특히 하기이다:
(ⅰ) 음이온성 계면활성제(들):
본 발명에서 단독으로 또는 혼합물로서 사용할 수 있는 음이온성 계면활성제의 예로서, 하기 화합물들 (비제한적 예) 의 염 (특히, 알칼리 염, 특히 소듐 염, 암모늄 염, 아민 염, 아미노 알콜 염 또는 마그네슘 염) 을 특히 들 수 있다: 알킬 술페이트, 알킬 에테르 술페이트, 알킬아미도에테르 술페이트, 알킬아릴폴리에테르 술페이트, 모노글리세리드 술페이트; 알킬 술포네이트, 알킬 포스페이트, 알킬아미드 술포네이트, 알킬아릴 술포네이트, α-올레핀 술포네이트, 파라핀 술포네이트; (C6-C24)알킬 술포숙시네이트, (C6-C24)알킬 에테르 술포숙시네이트, (C6-C24)알킬아미드 술포숙시네이트, (C6-C24)알킬 술포아세테이트; (C6-C24)아실 사르코시네이트 및 (C6-C24)아실 글루타메이트. 또한 (C6-C24)알킬 폴리글리코시드 카르복실 에스테르, 예컨대, 알킬글루코시드 시트레이트, 알킬폴리글리코시드 타르트레이트 및 알킬폴리글리코시드 술포숙시네이트; 알킬술포숙시나메이트; 아실 이세티오네이트 및 N-아실타우레이트가 사용가능하며, 상기 각종 화합물의 모든 알킬 또는 아실 라디칼은 바람직하게는 탄소수 12 내지 20 이며, 아릴 라디칼은 바람직하게는 페닐 또는 벤질기를 나타낸다. 또한, 사용가능한 음이온성 계면활성제로서, 지방산 염, 예컨대 올레산, 리시놀레산, 팔미트산 및 스테아르산, 코코넛 오일 산, 수소화 코코넛 오일 산의 염; 아실 라디칼이 탄소수 8 내지 20 인 아실 락틸레이트를 들 수 있다. 또한, 알킬-D-갈락토시듀론산 및 이의 염, 폴리옥시알킬렌화 (C6-C24)알킬 에테르 카르복실산, 폴리옥시알킬렌화 (C6-C24)알킬아릴 에테르 카르복실산, 폴리옥시알킬렌화 (C6-C24)알킬아미도 에테르 카르복실산 및 이들의 염, 특히 2 내지 50 의 알킬렌 옥시드기, 특히 에틸렌기를 함유하는 것들, 및 이들의 혼합물이 사용가능하다.
카르복실기 함유 음이온성 계면활성제가 특히 바람직하다.
(ⅱ) 비이온성 계면활성제(들):
비이온성 계면활성제는 또한 그 자체로 문헌 [Handbook of Surfactants, M.R. Porter, Blackie & Son, 글래스고우 및 런던, 1991, pp.116-178] 에 공지된 화합물이며, 그 종류는 중요하지 않다. 따라서, 이들은 특히 폴리에톡실화, 폴리프로폭실화 또는 폴리글리세롤화 지방산, 예컨대, 탄소수 8 내지 18 의 지방산 함유 알콜, 알킬페놀 또는 α-디올이며, 에틸렌 옥시드 또는 프로필렌 옥시드기의 수는 특히 2 내지 50 의 범위이며, 글리세롤기의 수는 특히 2 내지 30 의 범위이다. 또한, 에틸렌 옥시드와 프로필렌 옥시드의 공중합체, 에틸렌 옥시드 및 프로필렌 옥시드와 지방 알콜의 축합물; 바람직하게는 에틸렌 옥시드 2 내지 30 몰의 폴리에톡실화 지방 아미드, 평균 1 내지 5, 특히 1.5 내지 4 의 글리세롤기 함유 폴리글리세롤화 지방 아미드; 바람직하게는 2 내지 30 몰의 에틸렌 옥시드를 갖는 폴리에톡실화 지방 아민; 에틸렌 옥시드 2 내지 30 몰의 소르비탄의 옥시에틸렌화 지방산 에스테르; 수크로오스의 지방산 에스테르, 폴리에틸렌 글리콜의 지방산 에스테르, 알킬폴리글리코시드, N-알킬글루카민 유도체, 아민 옥시드, 예컨대 (C10-C14)알킬아민 옥시드 또는 N-아실아미노프로필모르폴린 옥시드를 들 수 있다. 알킬폴리글리코시드가 본 발명에 특히 적당한 비이온성 계면활성제를 구성함이 주목된다.
(ⅲ) 양쪽성 또는 쯔비터이온성 계면활성제(들):
양쪽성 또는 쯔비터이온성 계면활성제의 종류는 본 발명에서는 중요하지 않으며, 특히 (비제한적 예), 지방족 라디칼이 탄소수 8 내지 18 및 하나 이상의 수용성 음이온성기 (예를 들면, 카르복실레이트, 술포네이트, 술페이트, 포스페이트 또는 포스포네이트) 함유 선형 또는 분지형 사슬인 지방족 2차 또는 3차 아민 유도체일 수 있으며; (C8-C20)알킬베타인, 술포베타인, (C8-C20)알킬아미도(C1-C6)알킬베타인 또는 (C8-C20)알킬아미도(C1-C6)알킬술포베타인을 언급할 수 있다.
아민 유도체로서, US 특허 2,528,378 및 2,781,354 에 기재되어 있으며, [CTFA 사전, 제3판, 1982] 에 각각 하기 구조를 갖는 암포카르복시글리시네이트 및 암포카르복시프로피오네이트로서 분류된 상표명 Miranol 로 시판되는 제품을 언급할 수 있다:
R2-CONHCH2CH2-N(R3)(R4)(CH2COO-)
(식 중, R2는 가수분해된 코코넛 오일에 존재하는 산 R2-COOH 의 알킬 라디칼, 헵틸, 노닐 또는 운데실 라디칼을 나타내며, R3은 β-히드록시에틸기를 나타내며, R4는 카르복시메틸기를 나타낸다);
R2'-CONHCH2CH2-N(B)(C)
(식 중, B 는 -CH2CH2OX' 를 나타내며, C 는 -(CH2)z-Y' (z 는 1 또는 2) 를 나타내며, X' 는 -CH2CH2-COOH 기 또는 수소원자를 나타내며, Y' 는 -COOH 또는 -CH2-CHOH-SO3H 라디칼을 나타내며, R2'는 코코넛 오일 또는 가수분해된 아마인유에 존재하는 산 R9-COOH 의 알킬 라디칼을 나타내며, 특히 C7, C9, C11또는 C13알킬 라디칼, C17알킬 라디칼 및 그것의 이소 형태 및 불포화 C17라디칼을 나타낸다).
이들 화합물은 [CTFA 사전, 제5판, 1993] 에서 디소듐 코코암포디아세테이트, 디소듐 라우로암포디아세테이트, 디소듐 카프릴암포디아세테이트, 디소듐 카프릴로암포디아세테이트, 디소듐 코코암포디프로피오네이트, 디소듐 라우로암포디프로피오네이트, 디소듐 카프릴암포디프로피오네이트, 디소듐 카프릴로암포디프로피오네이트, 라우로암포디프로피온산, 코코암포디프로피온산이라는 이름 하에 분류된다.
예로서, Miranol C2M Conc. (상표명, Rhodia Chimie) 하에 시판되는 코코암포디아세테이트를 언급할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물에서, 계면활성제의 혼합물이 바람직하게 사용되며, 특히 음이온성 계면활성제의 혼합물, 및 양쪽성 또는 비이온성 계면활성제의 혼합물이 바람직하게 사용된다. 특히 바람직한 혼합물은 하나 이상의 카르복실 음이온성 계면활성제, 및 하나 이상의 양쪽성 또는 비이온성 계면활성제로 이루어진 혼합물이다.
사용된 음이온성 계면활성제는 바람직하게는 폴리옥시알킬렌화 (C6-C24)알킬 에테르 카르복실산, 폴리옥시알킬렌화 (C6-C24)알킬아릴 에테르 카르복실산, 폴리옥시알킬렌화 (C6-C24)알킬아미도 에테르 카르복실산, 및 술폰화 또는 술페이트화 계면활성제와의 혼합물, 예컨대 소듐, 트리에탄올아민 또는 암모늄 (C12-C14)알킬 술페이트, 에틸렌 옥시드 2.2 몰로 옥시에틸렌화된 소듐 (C12-C14)알킬 에테르 술페이트, 소듐 코코일 이세티오네이트, 및 하기와의 혼합물로부터 선택될 수 있다:
- 양쪽성 계면활성제, 예컨대 특히 38 % 활성 물질 함유 수용액으로서 "Miranol C2M Conc." (상표명, Rhodia Chimie), 또는 Miranol C32 (상표명) 하에 시판되는 디소듐 코코암포디프로피오네이트 또는 소듐 코코암포프로피오네이트로서 공지된 아민 유도체; 또는
- 쯔비터이온계 양쪽성 계면활성제, 예컨대 알킬베타인, 특히 32 % AM 함유 수용액으로서 "Dehyton AB 30" (상표명, Henkel 사) 하에 시판되는 코코일베타인, 또는 알킬아미도알킬베타인, 예컨대 Tegobetaine F50 (상표명, Goldschmidt 사), 또는
- 알킬폴리글루코시드계 비이온성 계면활성제.
(ⅳ) 양이온성 계면활성제:
양이온성 계면활성제로서 (비제한적 예), 임의 폴리옥시알킬렌화된 1차, 2차 또는 3차 지방 아민의 염; 4차 암모늄 염, 예컨대 테트라알킬암모늄, 알킬아미도알킬트리알킬암모늄, 트리알킬벤질암모늄, 트리알킬히드록시알킬암모늄 또는 알킬피리디늄 클로라이드 또는 브로마이드; 이미다졸린 유도체; 또는 양이온성 종류의 아민 옥시드를 언급할 수 있다.
양이온성 계면활성제는 그 사용은 배제되지 않으나, 본 발명을 실행하기에 바람직한 계면활성제는 구성하지 않음이 주목된다.
B. 양이온성 중합체(들):
본 발명에 따른 조성물은 또한 양이온성 중합체를 함유해야 한다.
본 발명에 사용가능한 양이온성 중합체계 컨디셔너는 그 자체로 세정제 조성물로 처리된 모발의 미용 특성을 강화할 수 있는 것으로 이미 공지된 임의의 것으로부터 형성되며, 즉, 특허 출원 EP-A-0,337,354 및 프랑스 특허 출원 FR-A-2,270,846, 2,383,660, 2,598,611, 2,470,596 및 2,519,863 에 기재된 것이다.
더욱 일반적으로, 본 발명의 목적을 위한 용어 "양이온성 중합체" 는 양이온성기로 이온화될 수 있는 기 및/또는 양이온성기를 함유하는 임의의 중합체를 나타낸다.
바람직한 양이온성 중합체는 중합체 주쇄의 일부를 형성하거나 또는 거기에 직접적으로 연결된 측치환체를 지닐 수 있는 1차, 2차, 3차 및/또는 4차 아민기 함유 단위를 함유하는 것들로부터 선택된다.
사용된 양이온성 중합체는 일반적으로 수평균 분자량 대략 500 내지 5 ×106, 바람직하게는 대략 103내지 3 ×106을 갖는다.
양이온성 중합체로서, 더욱 특히 폴리 4차 암모늄, 폴리아미노 아미드 및 폴리아민계를 언급할 수 있다. 이들은 공지된 제품이다.
본 발명에서 사용가능한 폴리 4차 암모늄, 폴리아미노 아미드 및 폴리아민계의 중합체는 프랑스 특허 2,505,348 또는 2,542,997 에 기재된 것을 들 수 있다. 이들 중합체로서 하기를 언급할 수 있다:
(1) 하기 화학식의 단위들을 하나 이상 함유하는 아크릴 또는 메트아크릴 에스테르 또는 아미드로부터 유도된 호모중합체 또는 공중합체:
(식들 중, R3은 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소원자 또는 CH3라디칼을 나타내며; A 는 동일하거나 상이할 수 있으며, 탄소수 1 내지 6, 바람직하게는 탄소수 2 또는 3 의 선형 또는 분지형 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 4 의 히드록시알킬기를 나타내며; R4, R5및 R6은 동일하거나 상이할 수 있으며, 탄소수 1 내지 18 의 알킬기 또는 벤질 라디칼, 바람직하게는 탄소수 1 내지 6 의 알킬기를 나타내며; R1및 R2는 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소원자 또는 탄소수 1 내지 6 의 알킬기, 바람직하게는 메틸 또는 에틸을 나타내며; X 는 무기 또는 유기산으로부터 유도된 음이온, 예컨대 메토술페이트 음이온 또는 할라이드, 예컨대 클로라이드 또는 브로마이드를 나타낸다).
(1) 군의 공중합체는 또한 아크릴아미드, 메트아크릴아미드, 디아세톤 아크릴아미드 및 질소 원자 상에 저급 알킬 (C1-C4) 로 치환된 아크릴아미드 및 메트아크릴아미드, 아크릴 또는 메트아크릴산 또는 이들의 에스테르, 비닐락탐, 예컨대 비닐피롤리돈 또는 비닐카프로락탐, 및 비닐 에스테르의 군으로부터 선택가능한 공단량체로부터 유도된 하나 이상의 단위를 함유할 수 있다.
따라서, (1) 군의 공중합체로서 하기를 언급할 수 있다:
- 아크릴아미드와, 디메틸 술페이트 또는 디메틸 할라이드로 4차화된 디메틸아미노에틸 메트아크릴레이트의 공중합체, 예컨대 Hercofloc (상표명, Hercules 사) 하에 시판되는 것,
- 예를 들면, 특허 출원 EP-A-080976 에 기재되며 Bina Quat P100 (상표명, Ciba Geigy) 하에 시판되는 아크릴아미드와 메트아크릴로일옥시에틸트리메틸암모늄 클로라이드의 공중합체,
- Renten (상표명, Hercules 사) 하에 시판되는 아크릴아미드와 메트아크릴로일옥시에틸트리메틸암모늄 메토술페이트의 공중합체,
- 4차화된 또는 4차화되지 않은 비닐피롤리돈/디알킬아미노알킬 아크릴레이트 또는 메트아크릴레이트 공중합체, 예컨대 "Gafquat" (상표명, ISP 사) 하에 시판되는 제품, 예를 들면 "Gafquat 734" 또는 "Gafquat 755", 또는 "Copolymer 845, 958 및 937" 로서 공지된 제품 (이들 중합체는 프랑스 특허 2,077,143 및 2,393,573 에 기재되어 있다),
- 디메틸아미노에틸 메트아크릴레이트/비닐카프로락탐/비닐피롤리돈 삼중합체, 예컨대 Gaffix VC 713 (상표명, ISP 사) 하에 시판되는 제품,
- 특히 Styleze CC 10 (상표명, ISP 사) 하에 시판되는 비닐피롤리돈/메트아크릴아미도프로필 디메틸아민 공중합체, 및
- 4차화 비닐피롤리돈/디메틸아미노프로필 메트아크릴아미드 공중합체, 예컨대 "Gafquat HS 100" (상표명, ISP 사) 하에 시판되는 제품.
(2) 프랑스 특허 1,492,597 에 기재되며, 특히 "JR" (JR 400, JR 125 및 JR 30M) 또는 "LR" (LR 400 또는 LR 30M) (상표명, Union Carbide Corporation) 하에 시판되는 4차 암모늄기 함유 셀룰로오스 에테르 유도체. 이들 중합체는 또한, CTFA 사전에 트리메틸암모늄기로 치환된 에폭시드와 반응한 히드록시에틸셀룰로오스의 4차 암모늄으로서 정의되어 있다.
(3) 특히, US 특허 4,131,576 에 기재된 4차 암모늄의 수용성 단량체로 그라프트된 셀룰로오스 유도체 또는 셀룰로오스 공중합체와 같은 양이온성 셀룰로오스 유도체, 예컨대 히드록시알킬셀룰로오스, 예를 들면, 특히 메트아크릴로일에틸트리메틸암모늄, 메트아크릴아미도프로필트리메틸암모늄 또는 디메틸디알릴암모늄 염으로 그라프트된 히드록시메틸-, 히드록시에틸- 또는 히드록시프로필셀룰로오스.
상기 정의에 상응하는 시판 제품은 특히 "Celquat L 200" 및 "Celquat H 100" (상표명, National Starch) 하에 시판되는 제품이다.
(4) 더욱 특히, US 특허 3,589,578 및 4,031,307 에 기재된 양이온성 다당류, 예컨대 양이온성 트리알킬암모늄기 함유 구아 검. 예를 들면, 2,3-에폭시프로필트리메틸암모늄의 염 (예, 클로라이드) 으로 개질된 구아검이 사용가능하다.
상기 제품들은 특히 Jaguar C13 S, Jaguar C15, Jaguar C17 또는 Jaguar C162 (상표명, Meyhall 사) 으로 시판된다.
(5) 산소, 황 또는 질소 원자, 또는 방향족 또는 헤테로시클릭 고리로 임의 차단된, 선형 또는 분지형 사슬 함유 2가 알킬렌 또는 히드록시알킬렌 라디칼, 및 피페라지닐 단위로 이루어진 중합체, 및 이들 중합체의 산화 및/또는 4차화 생성물. 이들 중합체는 프랑스 특허 2,162,025 및 2,280,361 에 기재되어 있다.
(6) 특히 산성 화합물과 폴리아민의 중축합화로 제조된 수용성 폴리아미노 아미드; 이들 폴리아미노 아미드는 에피할로히드린, 디에폭시드, 디안히드리드, 불포화 디안히드리드, 비스-불포화 유도체, 비스-할로히드린, 비스-아제티디늄, 비스-할로아실디아민, 비스-알킬 할라이드, 또는 대안적으로, 비스-할로히드린, 비스-아제티디늄, 비스-할로아실디아민, 비스-알킬 할라이드, 에피할로히드린, 디에폭시드 또는 비스-불포화 유도체와 반응성인 2작용성 화합물의 반응으로부터 생성된 올리고머와 가교결합될 수 있으며; 가교결합제는 폴리아미노 아미드의 아민기 당 0.025 내지 0.35 몰의 비율로 사용되며; 이들 폴리아미노 아미드는 알킬화될 수 있거나, 또는 하나 이상의 3차 아민 작용기를 함유하는 경우, 4차화될 수 있다. 상기 중합체는 프랑스 특허 2,252,840 및 2,368,508 에 기재되어 있다.
(7) 폴리알킬렌 폴리아민과 폴리카르복실산을 축합한 후, 2작용화제로 알킬화하여 수득한 폴리아미노 아미드 유도체. 예를 들면, 알킬 라디칼이 탄소수 1 내지 4 를 함유하며, 바람직하게는 메틸, 에틸 또는 프로필을 나타내는 아디프산/디알킬아미노히드록시알킬디알킬렌트리아민 중합체를 들 수 있다. 이들 중합체는 프랑스 특허 1,583,363 에 기재되어 있다.
이들 유도체 중, "Cartaretine F, F4 또는 F8" (상표명, Sandoz 사) 하에 시판되는 아디프산/디메틸아미노히드록시프로필/디에틸렌트리아민 중합체를 언급할 수 있다.
(8) 2 개의 1차 아민기 및 하나 이상의 2차 아민기를 함유하는 폴리알킬렌 폴리아민과, 디글리콜산 및 탄소수 3 내지 8 의 포화 지방족 디카르복실산으로부터 선택된 디카르복실산의 반응에 의해 수득한 중합체. 폴리알킬렌 폴리아민과 디카르복실산의 몰 비는 0.8 : 1 내지 1.4 :1 이며; 이로부터 생성된 폴리아미노 아미드는 에피클로로히드린과 반응하며, 폴리아미노 아미드의 2차 아민기에 대한 에피클로로히드린의 몰 비는 0.5 : 1 내지 1.8 : 1 이다. 이들 중합체는 특히 US 특허 3,227,615 및 2,961,347 에 기재되어 있다.
이러한 종류의 중합체는 특히 "Hercosett 57" (상표명, Hercules 사), 또는 대안적으로 아디프산/에폭시프로필/디에틸렌트리아민 공중합체의 경우, "PD 170" 또는 "Delsette 101" (상표명, Hercules 사) 하에 시판된다.
(9) 알킬디알릴아민 또는 디알킬디알릴암모늄의 시클로중합체, 예컨대 하기 화학식 6 또는 화학식 6a 에 상응하는 단위를 사슬의 주요 구성성분으로서 함유하는 호모중합체 또는 공중합체:
(식들 중, k 및 t 는 0 또는 1 이며, k + t 는 1 이고; R12는 수소원자 또는 메틸 라디칼을 나타내며; R10및 R11은 각각 독립적으로, 탄소수 1 내지 22 의 알킬기, 알킬기가 바람직하게는 탄소수 1 내지 5 인 히드록시알킬기, 또는 저급 아미도 (C1-C4) 알킬기를 나타내거나, 또는 R10및 R11은 이들이 결합된 질소원자와 함께 헤테로시클릭기, 예컨대 피페리딜 또는 모르폴리닐을 나타낼 수 있으며; Y-는 음이온, 예컨대 브로마이드, 클로라이드, 아세테이트, 보레이트, 시트레이트, 타르트레이트, 비술페이트, 비술파이트, 술페이트 또는 포스페이트이다). 이들 중합체는 특히 프랑스 특허 2,080,759 및 부가 증명서 2,190,406 에 기재되어 있다.
R10및 R11은 각각 독립적으로, 바람직하게는 탄소수 1 내지 4 의 알킬기를 나타낸다.
상기 정의한 중합체 중, 특히 "Merquat 100" (상표명, Calgon 사) 하에 시판되는 디메틸디알릴암모늄 클로라이드 호모중합체 및 그의 저 질량 평균 분자량 동종체, 및 "Merquat 550" (상표명) 하에 시판되는 디알릴디메틸암모늄 클로라이드와 아크릴아미드의 공중합체를 언급할 수 있다.
(10) 하기 화학식 7 에 상응하는 반복 단위를 함유하는 4차 디암모늄 중합체:
{식 중,
R13, R14, R15및 R16은 동일 또는 상이할 수 있으며, C1-C20의 지방족, 지환족 또는 아릴지방족 라디칼, 또는 저급 히드록시알킬지방족 라디칼을 나타내거나, 대안적으로 R13, R14, R15및 R16은 함께 또는 별도로, 이들이 결합된 질소원자와 함께 질소 원자 외의 제 2 헤테로원자를 임의 함유하는 헤테로사이클을 구성하거나, 또는 대안적으로 R13, R14, R15및 R16은 니트릴, 에스테르, 아실 또는 아미드기로 치환된 선형 또는 분지형 C1-C6알킬 라디칼, 또는 -CO-O-R17-D 또는 -CO-NH-R17-D (식 중, R17은 알킬렌이며, D 는 4차 암모늄기이다) 기를 나타내며;
A1및 B1은 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화일 수 있으며, 주쇄에 연결 또는 내위(內位)결합된 하나 이상의 방향족 고리 또는 하나 이상의 산소 또는 황원자 또는 술폭시드, 술폰, 디술피드, 아미노, 알킬아미노, 히드록실, 4차 암모늄, 우레이도, 아미드 또는 에스테르기를 함유할 수 있는 C2-C20폴리메틸렌기를 나타내며;
X-는 무기 또는 유기산으로부터 유도된 음이온을 나타내며;
A1, R13및 R15는 이들이 연결된 2 개의 질소원자와 피페라진 고리를 형성할 수 있으며; 또한, A1이 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 알킬렌 또는 히드록시알킬렌 라디칼을 나타내면, B1또한 (CH2)n-CO-D-OC-(CH2)n- 을 나타낼 수 있으며,
여기서, D 는 하기를 나타낸다:
a) 화학식 -O-Z-O- 의 글리콜 잔기 (여기서, Z 는 선형 또는 분지형 탄화수소 라디칼, 또는 화학식 -(CH2-CH2-O)x-CH2-CH2- 또는 -[CH2-CH(CH3)-O]y-CH2-CH(CH3)- 중 하나에 상응하는 기 (여기서, x 및 y 는 고유하게 정의된 중합화도를 나타내는 1 내지 4 의 정수, 또는 평균 중합화도를 나타내는 1 내지 4 의 임의의 수) 를 나타낸다);
b) 비스 2차 디아민 잔기, 예컨대 피페라진 유도체;
c) 화학식 -NH-Y-NH- 의 비스 1차 디아민 잔기 (여기서 Y 는 선형 또는 분지형 탄화수소 라디칼, 또는 대안적으로 2가 라디칼 -CH2-CH2-S-S-CH2-CH2- 를 나타낸다);
d) 화학식 -NH-CO-NH- 의 우레일렌기}.
바람직하게는 X-는 클로라이드 또는 브로마이드와 같은 음이온이다.
이들 중합체는 일반적으로 1000 내지 100,000 의 수평균 분자량을 갖는다.
이러한 종류의 중합체는 특히 프랑스 특허 2,320,330, 2,270,846, 2,316,271, 2,336,434 및 2,413,907 및 US 특허 2,273,780, 2,375,853, 2,388,614, 2,454,547, 3,206,462, 2,261,002, 2,271,378, 3,874,870, 4,001,432, 3,929,990, 3,966,904, 4,005,193, 4,025,617, 4,025,627, 4,025,653, 4,026,945 및 4,027,020 에 기재되어 있다.
더욱 특히 하기 화학식 7a 에 상응하는 반복 단위로 이루어진 중합체를 사용할 수 있다:
(식 중, R1, R2, R3및 R4는 동일하거나 상이할 수 있으며, 탄소수 1 내지 4 의 알킬 또는 히드록시알킬 라디칼을 나타내며, n 및 p 는 대략 2 내지 20 의 정수이며, X-는 무기 또는 유기산으로부터 유도된 음이온이다).
특히 바람직한 화학식 7a 의 화합물 중 하나는 R1, R2, R3및 R4가 메틸 라디칼을 나타내며, n = 3, p = 6 이고, X = Cl 인 것이며, INCI (CTFA) 명명에 따라 헥사디메트린 클로라이드라 불리는 것이다.
(11) 하기 화학식 8 의 단위로 이루어진 4차 폴리암모늄 중합체:
(식 중, R18, R19, R20및 R21은 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소원자 또는 메틸, 에틸, 프로필, β-히드록시에틸, β-히드록시프로필 또는 -CH2CH2(OCH2CH2)pOH 라디칼을 나타내며, p 는 0 또는 1 내지 6 의 정수이며, 단 R18, R19, R20및 R21은 동시에 수소원자를 나타내지 않으며, r 및 s 는 동일 또는 상이할 수 있으며, 1 내지 6 의 정수이고, q 는 0 또는 1 내지 34 의 정수이며, X 는 할로겐 원자이고, A 는 디할라이드 라디칼, 또는 바람직하게는 -CH2-CH2-O-CH2-CH2- 를 나타낸다).
상기 화합물들은 특허 출원 EP-A-122,324 에 기재되어 있다.
이들 화합물 중, "Mirapol A 15", "Mirapol AD1", "Mirapol AZ1" 및 "Mirapol 175" (상표명, Miranol 사) 하에 시판되는 제품들을 언급할 수 있다.
(12) 예를 들면, Luviquat FC 905, FC 550 및 FC 370 (상표명, BASF 사) 하에 시판되는 비닐이미다졸 및 비닐피롤리돈의 4차 중합체.
(13) CTFA 사전에서 "폴리에틸렌 글리콜 (15) 탈로우 폴리아민" 이라 언급되는, 예컨대 Polyquart H (상표명, Henkel 사) 으로 시판되는 폴리아민.
(14) 예컨대 메틸 클로라이드로 4차화된 디메틸아미노에틸 메트아크릴레이트의 호모중합화, 또는 메틸 클로라이드로 4차화된 디메틸아미노에틸 메트아크릴레이트와 아크릴아미드의 공중합화, 연속해서, 올레핀 불포화물 함유 화합물, 특히 메틸렌비스아크릴아미드와 가교결합함으로써 수득된 메트아크릴로일옥시(C1-C4)알킬트리(C1-C4)알킬암모늄 염의 가교결합된 중합체. 더욱 특히, 가교결합된 아크릴아미드/메트아크릴로일옥시에틸트리메틸암모늄 클로라이드 공중합체 (20/80 중량부) 를 50 중량% 함유하는 미네랄 오일 내 분산액 형태가 사용될 수 있다. 상기 분산액은 "Salcare SC 92" (상표명, Allied Colloids 사) 하에 시판된다. 가교결합된 메트아크릴로일옥시에틸트리메틸암모늄 클로라이드 호모중합체 50 중량% 를 미네랄 오일 또는 액체 에스테르 내에 함유하는 것 또한 사용될 수 있다. 이들 분산액은 "Salcare SC 95" 및 "Salcare SC 96" (상표명, Allied Colloids 사) 하에 시판된다.
본 발명에 관련하여 사용가능한 기타 양이온성 중합체는 폴리알킬렌이민, 특히 폴리에틸렌이민, 비닐피리딘 또는 비닐피리디늄 단위 함유 중합체, 폴리아민 및 에피클로로히드린의 축합물, 4차 폴리우레일렌 및 키틴 유도체이다.
본 발명에 관련하여 사용가능한 양이온성 중합체로서, 예컨대 "JR 400" (상표명, Union Carbide Corporation) 하에 시판되는 4차 셀룰로오스 에테르 유도체, 시클로중합체, 특히 "Merquat 100", "Merquat 550" 및 "Merquat S" (상표명, Calgon 사) 하에 시판되는 디메틸디알릴암모늄 클로라이드와 아크릴아미드의 중합체 또는 공중합체, 양이온성 다당류, 예컨대 "Jaguar C13S" (상표명, Meyhall 사) 하에 시판되는 2,3-에폭시프로필트리메틸암모늄 클로라이드로 개질된 구아검, 및 Styleze CC 10 (상표명, ISP 사) 하에 시판되는 비닐피롤리돈/메트아크릴아미도프로필디메틸아민 공중합체, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
본 발명에 따르면, 양이온성 중합체는 최종 조성물 총 중량에 대해 0.01 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.05 내지 5 중량%, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 3 중량% 를 나타낼 수 있다.
C. 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아:
본 발명에 따른 모발 세정제 조성물의 필수적인 특성에 따라, 이들은 또한 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열을 함유하며 수용성인 하나 이상의 중축합물을 함유한다.
본 발명이 특히 지적하는 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열을 함유하는 중축합물은 특허 EP 0,751,162, EP 0,637,600, FR 2,743,297 및 EP 0,648,485 (본 출원인), 및 특허 EP 0,656,021 또는 WO 94/03510 (BASF 사), 및 EP 0,619,111 (National Starch 사) 에 기재된 것들이다.
본 발명에 따라 사용된 중축합물은 수용성이며, 산 형태로, 또는 유기 또는 무기 염기로 부분적으로 또는 전체적으로 중화한 후 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 수용성 중합체는 물에 용해시, (실온 (20 내지 25 ℃) 및 활성 물질 1 % 이상의 농도에서) 육안으로 투명한 조성물을 제공하는 것이다.
예로써, 중축합물은 블럭의 배열에 의해 형성될 수 있으며, 이들 배열은 특히 하기로부터 수득된다:
(1) 분자 당 2 개 이상의 활성 수소 원자를 함유하는 하나 이상의 화합물;
(2) 하나 이상의 디올, 또는 산 라디칼 또는 그것의 염함유 디올의 혼합물;
(3) 하나 이상의 디- 또는 폴리이소시아네이트.
화합물 (1) 은 디올, 디아민, 폴리에스테롤, 폴리에테롤, 또는 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이 유리하다.
바람직한 화합물 (1) 은 선형 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌 글리콜이며, 특히 촉매로서 수산화나트륨 존재 하에 에틸렌 옥시드 또는 프로필렌 옥시드와, 물 또는 디에틸렌 글리콜 또는 디프로필렌 글리콜의 반응에 의해 수득한 것이다. 이들 폴리글리콜은 일반적으로, 약 600 내지 20,000 의 분자량을 갖는다.
기타 바람직한 유기 화합물은 메르캅토, 아미노, 카르복실 또는 히드록실기를 함유하는 것이다. 이들 중, 폴리히드록시 화합물, 예컨대 폴리에테르 디올, 폴리에스테르 디올, 폴리아세탈 디올, 폴리아미드 디올, 폴리에스테르 폴리아미드 디올, 폴리(알킬렌 에테르)디올, 폴리티오에테르 디올 및 폴리카르보네이트 디올을 언급할 수 있다.
바람직한 폴리에테르 디올은, 예를 들면 에틸렌 옥시드, 프로필렌 옥시드 또는 테트라히드로푸란의 축합생성물, 그것의 그라프트화 또는 블록 공중합화 또는 축합생성물, 예컨대 에틸렌 옥시드와 프로필렌 옥시드 축합물의 혼합물, 및 올레핀의 고압 하 알킬렌 옥시드 축합물과의 중합생성물이다. 적합한 폴리에테르는 알킬렌 옥시드와 다가 알콜, 예컨대 에틸렌 글리콜, 1,2-프로필렌 글리콜 및 1,4-부탄디올과의 축합에 의해 제조된다.
폴리에스테르 디올, 폴리에스테르 아미드 및 폴리아미드 디올은 바람직하게는 포화되며, 예를 들면, 포화 또는 불포화 폴리카르복실산과 다가 알콜, 디아민 또는 폴리아민의 반응으로부터 수득된다. 아디프산, 숙산산, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 및 말레산이 예를 들면, 이들 화합물을 제조하는데 사용될 수 있다. 폴리에스테르의 제조에 적합한 다가 알콜은 예를 들면, 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 1,2-프로필렌 글리콜, 1,4-부탄디올, 네오펜틸 글리콜 및 헥산디올을 포함한다. 아미노 알콜, 예를 들면 에탄올아민 또한 사용가능하다. 폴리에스테르 아미드 제조에 적합한 디아민은 에틸렌디아민 및 헥사메틸렌디아민이다.
적당한 폴리아세탈은 예를 들면, 1,4-부탄디올 또는 헥산디올 및 포름알데히드로부터 제조될 수 있다. 적당한 폴리티오에테르는 예를 들면, 티오글리콜 단독으로, 또는 기타 글리콜, 예컨대 에틸렌 글리콜, 1,2-프로필렌 글리콜과, 또는 폴리히드록실화 화합물과 조합하여 축합 반응함으로써 제조될 수 있다. 우레아 또는 우레탄기를 함유하는 폴리히드록실화 화합물, 부가 개질될 수 있는 천연 폴리올, 예를 들면, 카스터 오일 및 탄수화물 또한 사용될 수 있다.
더욱 바람직하게는 화합물 군 (1) 은 폴리에스테롤, 특히 하나 이상의 (디)폴리올 (1a) 및 하나 이상의 산 (1b) 의 반응에 의해 형성된 폴리에스테르 디올이다. (디)폴리올 (1a) 는 특히 네오펜틸 글리콜, 1,4-부탄디올, 헥산디올, 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 부틸렌 글리콜, 네오펜틸 글리콜 및 (디)폴리에틸렌 글리콜로 이루어진 군으로부터 선택된다. 산 (1b) 는 특히 프탈산, 이소프탈산, 아디프산 및 (폴리)락트산으로 이루어진 군으로부터 선택된다.
사용가능한 화합물 (2) 는 히드록시카르복실산, 예컨대 디메틸올프로판산 (DMPA) 또는 2,2-히드록시메틸카르복실산이다. 일반적으로, 화합물 (2) 는 커플링 블록으로서 유용하다.
본 발명에 특히 바람직한 화합물 (2) 는 2,2-디(히드록시메틸)아세트산, 2,2-디히드록시메틸프로피온산, 2,2-디히드록시메틸부티르산 및 2,2-디히드록시메틸펜탄산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이다.
디- 또는 폴리이소시아네이트 (3) 는 특히 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트 (IPDI), 톨릴렌 디이소시아네이트, 디페닐메탄 4,4'-디이소시아네이트 (DPMD) 및 디시클로헥실메탄 4,4'-디이소시아네이트 (DCMD), 메틸렌비스(p-페닐)디이소시아네이트, 메틸렌비스 (4-시클로헥실 이소시아네이트), 톨루엔 디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌 디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 2,2'-디메틸-4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 1,3-페닐렌 디이소시아네이트, 1,4-페닐렌 디이소시아네이트, 2,4- 및 2,6-톨루엔 디이소시아네이트의 혼합물, 2,2'-디클로로-4,4'-디이소시나아토디페닐메탄, 2,4-디브로모-1,5-디이소시아나토나프탈렌, 부탄 1,4-디이소시아네이트, 헥산 1,6-디이소시아네이트 및 시클로헥산 1,4-디이소시아네이트로 이루어진 군으로부터 선택된다.
중축합물은 일반적으로 중축합물 사슬을 신장시키는 부가 화합물 (4) 를 사용하여 형성될 수 있다. 이들 화합물 (4) 는 특히, 포화 또는 불포화 글리콜, 예컨대 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 네오펜틸 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 아미노 알콜, 예컨대 에탄올아민, 프로판올아민 또는 부탄올아민, 헤테로시클릭, 방향족, 시클로지방족 및 지방족 1차 아민, 디아민, 카르복실산, 예컨대 지방족, 방향족 및 헤테로시클릭 카르복실산, 예를 들면, 옥살산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 세박산 또는 테레프탈산, 및 아미노카르복실산으로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다. 바람직한 화합물 (4) 는 지방족 디올이다.
특히 바람직한 음이온성 폴리우레탄은 Luviset Pure (상표명, BASF 사) 하에 시판되는 폴리우레탄-1 (ICNI 명) 이다.
본 발명에 따른 중축합물은 또한 실리콘 주쇄, 예컨대 폴리실록산, 폴리알킬실록산 또는 폴리아릴실록산, 특히 폴리에틸실록산, 폴리메틸실록산 및 폴리페닐실록산을 가지며, 규소 원자 상에 그라프트된 탄화수소 기재 사슬을 임의 함유하는 부가 화합물 (5) 로부터 형성될 수 있다.
유리하게 사용되는 중합체의 폴리우레탄 및/또는 풀리우레아 서열은 하기 화학식 1a 에 상응하는 베이스 반복 단위를 함유한다:
-X'-B-X'-CO-NH-R-NH-CO-
(식 중, X' 는 O 및/또는 NH 이며, B 는 치환 또는 비치환된 2가 탄화수소 기재 라디칼이며, R 은 치환 또는 비치환된 방향족, C1-C20지방족 또는 C1-C20시클로지방족 알킬렌 라디칼로부터 선택된다).
바람직하게는, 라디칼 B 는 C1-C30라디칼이며, 하나 이상의 카르복실 작용기 및/또는 하나 이상의 술폰 작용기를 함유하며, 상기 카르복실 및/또는 술폰 작용기는 유리 형태이거나, 무기 또는 유기 염기로 부분적으로 또는 전체적으로 중화된다.
라디칼 R 은 하기 화학식에 상응하는 라디칼로부터 선택되는 것이 유리하다:
(식 중, b 는 0 내지 3 의 정수이며, c 는 1 내지 20, 바람직하게는 2 내지 12 의 정수이다).
특히, 라디칼 R 은 헥사메틸렌, 4,4'-비페닐렌메탄, 2,4- 및/또는 2,6-톨릴렌, 1,5-나프틸렌, p-페닐렌 및 메틸렌-4,4-비스(시클로헥실)라디칼 및 이소포론으로부터 유도된 2가 라디칼로부터 선택된다.
본 발명에 사용된 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열을 함유하는 중축합물은 또한 베이스 반복 단위가 하기 화학식 2a 에 상응하는 하나 이상의 폴리실록산 서열을 함유한다:
-X'-P-X'-CO-NH-R-NH-CO-
(식 중, P 는 폴리실록산 단편이며, X' 는 O 및/또는 NH 를 나타내며, R 은 치환 또는 비치환된 방향족, C1-C20지방족 또는 C1-C20시클로지방족 알킬렌 라디칼로부터 선택된 2가 라디칼이다).
유리하게는 폴리실록산 단편 P 는 하기 화학식 3a 에 상응한다:
(식 중, 라디칼 A 는 동일하거나 상이할 수 있으며, 한편으로는 에틸렌성 불포화물이 없거나 실질적으로 없는 C1-C201가 탄화수소 기재 라디칼, 및 다른 한편으로는 방향족 라디칼로부터 선택되며, Y 는 2가 탄화수소 기재 라디칼을 나타내며, z 는 폴리실록산 단편의 평균 분자량이 300 내지 10,000 이도록 선택되는 정수를 나타낸다).
일반적으로, 2가 라디칼 Y 는 화학식 -(CH2)a- (식 중, a 는 1 내지 10 의 정수이다) 의 알킬렌 라디칼로부터 선택된다.
라디칼 A 는 알킬 라디칼, 특히 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 옥틸, 데실, 도데실 및 옥타데실 라디칼, 시클로알킬 라디칼, 특히 시클로헥실 라디칼, 아릴 라디칼, 특히 페닐 및 나프틸, 아릴알킬 라디칼, 특히 벤질 및 페닐에틸, 및 톨릴 및 자일릴 라디칼로부터 선택될 수 있다.
본 발명에 따른 모발 조성물은 상기 정의한 폴리우레탄 (중축합물) 을 조성물 총 중량에 대해 0.05 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 5 중량% 로 함유할 수 있다.
일반적으로, 양이온성 중합체/폴리우레탄 비는 0.001 내지 200, 바람직하게는 0.02 내지 50, 더욱 특히 0.1 내지 20 이다.
미용적으로 허용가능한 수성 매질은 물 단독으로, 또는 물과 미용적으로 허용가능한 용매, 예컨대 C1-C4저급 알콜, 예를 들면, 에탄올, 이소프로판올, tert-부탄올 또는 n-부탄올; 알킬렌 글리콜, 예컨대 프로필렌 글리콜 및 글리콜 에테르와의 혼합물일 수 있다.
본 발명에 따른 세정제 조성물은 일반적으로 3 내지 10 의 최종 pH 를 가지며, 바람직하게는 pH 는 4 내지 9 이다. 목적하는 값으로의 pH 조정은 통상 조성물에 염기 (유기 또는 무기 염기), 예를 들면 수성 암모니아 또는 1차, 2차 또는 3차 (폴리)아민, 예컨대 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 이소프로판올아민 또는 1,3-프로판디아민을 첨가하거나, 또는 대안적으로 무기 또는 유기 산, 바람직하게는 카르복실산, 예컨대 시트르산을 첨가함으로써 통상 수행될 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 상기 정의한 조합 외에, 점성 개질제, 예컨대 전해질 또는 증점제를 함유할 수 있다. 특히 염화나트륨, 소듐 자일렌술포네이트, 스클레로글루칸, 잔탄 검, 지방산 알칸올아미드, 5 몰 이하의 에틸렌 옥시드로 임의 옥시에틸렌화된 알킬 에테르 카르복실산 알칸올아미드, 예컨대 "Aminol A15" (상표명, Chem Y 사) 하에 시판되는 제품, 가교된 폴리아크릴산 및 가교된 아크릴산/C10-C30알킬 아크릴레이트 공중합체를 언급할 수 있다. 이들 점성 조절제는 조성물 총 중량에 대해 10 중량% 이하의 비율로 본 발명에 따른 조성물에 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 당 분야에 공지된 진주광택제 또는 불투명화제, 예를 들면, C16이상의 지방 알콜, 소듐 또는 마그네슘 팔미테이트, 소듐 또는 마그네슘 스테아레이트 또는 히드록시스테아레이트, 지방쇄 함유 아실 유도체, 예컨대 에틸렌 글리콜 또는 폴리에틸렌 글리콜의 모노스테아레이트 또는 디스테아레이트, 및 지방쇄 함유 에테르, 예컨대 디스테아릴 에테르 또는 1-(헥사데실옥시)-2-옥타데칸올을 5 % 이하로 함유할 수 있다.
말할 것도 없이, 본 발명에 따른 세정제 조성물은 또한 샴푸에 통상 사용되는 임의의 보조제, 예를 들면, 향료, 보존제, 금속이온봉쇄제, 증점제, 유연제, 발포 개질제, 염료, 진주광택제, 보습제, 비듬방지제, 피지과다증 방지제, 일광차단제 등을 함유할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 또한 조성물의 안정성에는 역효과를 주지 않으면서, 모발 또는 피부의 미용 특성을 개선하는데 효과적인 기타 제제를 임의로 함유할 수 있다. 양이온성 계면활성제, 음이온성 또는 비이온성 또는 양쪽성 중합체, 단백질, 단백질 가수분해물, 세라미드, 유사세라미드, 선형 또는 분지형 C18-C40사슬 함유 지방산, 예컨대 18-메틸에이코사노산, 히드록시산, 비타민, 판테놀, 매질에 가용성 또는 불용성인 휘발성 또는 비휘발성 실리콘, 식물성 오일, 합성 오일, 및 이들의 혼합물을 언급할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 또한 발포 상승제, 예컨대 C10-C181,2-알칸디올 또는 모노 또는 디에탄올아민으로부터 유도된 지방 알칸올아미드를 함유할 수 있다.
말할 것도 없이, 당 분야의 기술자들은 이들 임의 첨가 화합물 및/또는 그의 양을 본 발명에 따른 조합물 (본 발명에 따른 세정 베이스 + 양이온성 중합체 + 폴리우레탄) 과 결부된 고유한 장점이 첨가제에 의해 역효과를 갖지 않거나 실질적으로 갖지 않도록 주의하여 선택해야 한다.
이들 조성물은 다소 증점된 액체, 크림 또는 겔 형태일 수 있으며, 이들은 모발의 세정, 케어 및/또는 스타일링에 주로 적합하다.
본 발명에 따른 조성물이 통상의 샴푸로서 사용되는 경우, 이들은 단순히 젖은 모발에 적용되며, 손으로 마사지 또는 마찰함으로써 비누거품을 발생시킨 다음, 임의로 일정 기간 동안 모발 상에 샴푸를 남긴 후 제거하며, 물로 헹구고, 상기 조작을 1 회 이상 반복한다.
상기한 바와 같이, 본 발명에 따른 조성물은 헹굼 후에, 스타일링이 용이하고 유지(hold)가 증가할 뿐만 아니라, 현저히 개선된 볼륨 및 경량감을 갖는 현저한 스타일링 효과를 제공할 수 있다.
본 발명의 요지는 또한 모발과 같은 케라틴 물질의 세정 및 콘디셔닝 방법이며, 이는 상기 정의한 유효량의 조성물을 상기 젖은 물질에 적용한 다음, 일정 기간 동안 조성물을 모발 상에 임의로 남긴 후 물로 헹구어내는 것으로 이루어진다.
하기 주어진 실시예는 본 발명을 예시하기 위함이며, 한정하는 것은 아니다.
실시예에서 하기 화합물이 사용된다:
Luviset Pure (BASF)
30 % 활성물질 수용성 폴리우레탄 함유 수-알콜성 용액으로서의 폴리우레탄-1 (INCI 명)
Avalure UR 450 (Goodrich)
38 % 활성물질 수불용성 폴리우레탄 함유 수분산액으로서의 프로필렌 글리콜/이소포론 디이소시아네이트/디메틸올프로판산 공중합체
Akyposoft 45 NV (KAO)
22 % 활성물질 함유 수용액으로서 에틸렌 옥시드 4.5 몰 함유 소듐 라우릴 에테르 카르복실레이트
AG 10 LK (KAO)
40 % 활성물질 함유 수용액으로서 (C9/C11) 알킬 폴리글루코시드 (1.4)
282930 (National Starch)
비닐 아세테이트/크로톤산/비닐 네오데카노에이트 삼중합체
Styleze CC 10 (ISP)
10 % 활성물질 함유 수용액으로서 비닐피롤리돈/메트아크릴아미도프로필디메틸아민 공중합체 (80/20 중량부)
Merquat 100 (Calgon)
40 % 활성물질 함유 수용액으로서 디알릴디메틸암모늄 클로라이드 호모중합체
Merquat 550 (Calgon)
8 % 활성물질 함유 수용액으로서 디알릴디메틸암모늄 클로라이드/아크릴아미드 공중합체 50/50 (중량부)
Jaguar C 13 S (Rhodia Chimie)
히드록시프로필구아 트리메틸암모늄 클로라이드
Dehyton AB 30 (Henkel)
30 % 활성물질 함유 수용액으로서 코코일베타인.
실시예 1
본 발명에 따른 조성물 A 및 비교 조성물 B 의 두 가지 샴푸 조성물을 제조하며, 이들은 단지 사용된 음이온성 중합체의 종류가 상이하다:
A (본 발명) B
Akyposoft 45 NV (KAO) 12 g AM 12 g AM
AG 10 LK (KAO) 2 g AM 2 g AM
NaCl 2 g 2 g
Styleze CC 10 (ISP) 1 g AM 1 g AM
Luviset Pure (BASF) 3 g AM -
282930 (National Starch) - 3 g AM
물 적량 100 g 100 g
pH 6.9 6.9
조성물의 외관 투명 혼탁
27 cm 길이의 천연 모발 타래 2.5 g 을 미리 적신 다음, 본 발명에 따른 조성물 A 1 g 과 5 분 동안 접촉시키고, 물로 헹군다. 이어서, 타래를 65 ℃ 에서 20 분 동안 후드 하 건조시킨다. 동일한 절차를 비교 조성물 B 를 사용하여 수행한다.
모발의 감촉 평가
상기 나타낸 바와 같이 제조한 모발을 10 명의 패널에게 제시하고, 어느 모발이 더 부드럽고 매끄러운지 지시하도록 요구한다.
10 명의 패널이 만장일치로 조성물 A 로 처리된 모발이 더욱 부드럽고 매끄럽다고 판정하였다.
고정 특성 평가
"고정 특성" 이란 표현은 형성된 모발체의 시간 경과에 따른 안정성 뿐만 아니라, 모발의 상대적인 전위를 제한하는 물질의 침적에 의해 모발체에 제공된 응집력을 의미한다.
이들 특성을 결정하는 단순한 방법은 모발 타래의 이완을 연구하는 것이다.
이를 위해, 미리 적신 길이 L027 cm 의 천연 모발 타래 2.5 g 을 본 발명에 따른 조성물 A 1 g 과 5 분 동안 접촉시킨 다음 물로 헹구어낸다. 이어서 모발 타래를 젖은 채로 직경 2 cm 및 길이 7 cm 의 롤러로 만다. 이어서 모발을 20 분 동안 후드 건조시킨다. 건조 후, 롤러로부터 모발 타래를 주의하여 풀고, 고정된 지지체에 연결체를 통해 매달아서 모발이 그 자체 중량에 의해 자유로이 늘어지도록 한다.
상기와 동일한 절차를 비교 조성물 B 로 수행한다.
이이서, 그 자체 중량에 의해 늘어진 말린 머릿단의 길이 (L) 를 눈금을 매긴 패널로 측정한다.
이어서, 모발 타래를 여전히 늘어진 상태로 실온에서 2 시간 동안 이완시킨다.
늘어진 모발 타래의 길이는 특정 길이 (ΔL) 로 증가한다. 이 신장 (ΔL) 이 적을수록 시간 경과에 따른 헤어스타일 유지가 우수한 것이다.
즉, 조성물 B 를 사용한 신장은 3 cm (모발 타래 2 개의 평균) 인 반면, 조성물 A (모발 타래 2 개의 평균) 는 2.55 cm 였다, 즉, 15 % 이상의 신장 감소 개선이 나타났으며, 이는 본 발명에 따른 샴푸로 수득한 헤어스타일 유지가 더욱 우수함을 반영한다.
실시예 2
본 발명에 따른 조성물 A 및 기타 비교 조성물 C 의 두가지 조성물을 제조하며, 이들은 단지 사용된 음이온성 폴리우레탄의 용해도가 상이하다:
A (본 발명) C
Akyposoft 45 NV (KAO) 12 g AM 12 g AM
AG 10 LK (KAO) 2 g AM 2 g AM
NaCl 2 g 2 g
Styleze CC 10 (ISP) 1 g AM 1 g AM
Luviset Pure (BASF) 3 g AM -
Avalure UR 450* (Goodrich) - 3 g AM
물 적량 100 g 100 g
pH 6.9 6.9
조성물의 외관 투명 혼탁
Avalure UR 450 은 수불용성 음이온성 폴리우레탄이다.
27 cm 길이의 천연 모발 타래 2.5 g 을 미리 적신 다음, 본 발명에 따른 조성물 A 1 g 과 5 분 동안 접촉시킨 후, 물로 헹군다. 이어서 모발을 65 ℃ 에서 20 분 동안 후드 건조시킨다. 비교 조성물 C 를 사용하여 상기 절차를 수행한다.
모발의 감촉 평가
상기 나타낸 바에 따라 제조된 모발 타래를 10 명의 시험자 페널에게 제시하고, 더욱 부드럽고 매끄럽다고 생각되는 모발을 지시하도록 요구한다.
10 명의 패널은 만장일치로 조성물 A 로 처리된 모발이 더욱 부드럽고 매끄럽다고 판정하였다.
고정 특성 평가
실시예 1 과 동일한 방법의 과정을 수행하였다.
매달린 모발 타래의 길이가 특정 길이 (ΔL) 만큼 증가하였다. 이 길이가 짧을수록 시간 경과에 따른 헤어스타일의 유지가 우수한 것이다.
따라서, 조성물 C 를 사용한 길이신장은 3.6 cm (모발 타래 2 개의 평균)인 반면, 조성물 A 는 단지 2.55 cm (모발 타래 2 개의 평균), 즉 29 % 이상의 신장 감소의 향상을 나타내며, 이는 본 발명에 따른 샴푸에 의해 수득된 헤어스타일 유지가 더 우수함을 의미한다.
실시예 3
하기 조성을 갖는 본 발명에 따른 샴푸를 제조하였다:
Akyposoft 45 NV (KAO) 12 g AM
AG 10 LK (KAO) 2 g AM
Styleze CC-10 (ISP) 1 g AM
Luviset Pure (BASF) 1.23 g AM
염화나트륨 2 g
물 적량 100 g
pH 7
실시예 4
하기 조성을 갖는 본 발명에 따른 샴푸를 제조하였다:
소듐 라우릴 에테르 술페이트 (2.2 EO) 15.5 g AM
코코일베타인 (Dehyton AB 30, Henkel) 2.4 g AM
Jaguar C 13 S (Rhodia) 0.05 g AM
Luviset Pure (BASF) 1 g AM
폴리디메틸실록산 2.7 g AM
1-(헥사데실옥시)-2-옥타데카놀/세틸 알콜 2.5 g AM
코코넛산 모노이소프로판올아미드 1 g AM
소듐 세토스테아릴 술페이트 0.75 g AM
보존제 적량
물 적량 100 g
pH 7
실시예 5
하기 조성을 갖는 본 발명에 따른 샴푸를 제조하였다:
Beaulight Shaa (Sanyo Kasei) 3 g AM
AG 10 LK (KAO) 12 g AM
Merquat 100 (Calgon) 1 g AM
Luviset Pure (BASF) 3 g AM
염화나트륨 1.5 g
옥시에틸렌화 메틸 글루코시드 디올리에이트 (120 EO) 1 g AM
물 적량 100 g
pH (NaOH/HCl) 7
실시예 6
하기 조성을 갖는 본 발명에 따른 샴푸를 제조하였다:
Beaulight Shaa (Sanyo Kasei) 4.5 g AM
AG 10 LK (KAO) 6 g AM
Styleze CC 10 (ISP) 1 g AM
Luviset Pure (BASF) 4.05 g AM
염화나트륨 1.5 g
옥시에틸렌화 메틸 글루코시드 디올리에이트 (120 EO) 1.5 g
물 적량 100 g
pH (NaOH/HCl) 7
본 발명에 따라, 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열을 함유하는 음이온성 중축합물을 세정제 조성물, 특히 양이온성 중합체를 함유하는 모발 조성물에 도입함으로써, 이들 조성물과 관련된 미용 특성을 실질적으로 상당히 개선할 수 있으며, 동시에 우수한 고유 세정력을 유지할 수 있었다.

Claims (24)

  1. 미용적으로 허용가능한 매질 내에 세정 베이스, 하나 이상의 양이온성 중합체, 및 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열을 함유하는 하나 이상의 수용성 음이온성 중축합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 세정제 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서, 세정 베이스가 음이온성, 양쪽성, 비이온성 및 쯔비터이온성 계면활성제, 및 이들의 혼합물로부터 선택된 하나 이상의 계면활성제를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 세정 베이스가 조성물 총 중량에 대해 4 내지 50 중량% 로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 중축합물이 하기로부터 수득된 블럭 배열에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 조성물:
    (1) 분자 당 2 이상의 활성 수소 원자를 함유하는 하나 이상의 화합물;
    (2) 하나 이상의 디올, 또는 산 라디칼 또는 그것의 염을 함유하는 디올 혼합물;
    (3) 하나 이상의 디- 또는 폴리이소시아네이트.
  5. 제 4 항에 있어서, 화합물 (1) 이 디올, 디아민, 폴리에스테롤, 폴리에테롤 또는 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  6. 제 4 항에 있어서, 화합물 (2) 가 2,2-히드록시메틸카르복실산인 것을 특징으로 하는 조성물.
  7. 제 4 항에 있어서, 화합물 (3) 이 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 톨릴렌 디이소시아네이트, 디페닐메탄 4,4'-디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄 4,4'-디이소시아네이트, 메틸렌비스 (p-페닐) 디이소시아네이트, 메틸렌비스 (4-시클로헥실 이소시아네이트), 이소포론 디이소시아네이트, 톨루엔 디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌 디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 2,2'-디메틸-4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 1,3-페닐렌 디이소시아네이트, 1,4-페닐렌 디이소시아네이트, 2,4- 및 2,6-톨루엔 디이소시아네이트의 혼합물, 2,2'-디클로로-4,4'-디이소시아나토디페닐메탄, 2,4-디브로모-1,5-디이소시아나토나프탈렌, 부탄 1,4-디이소시아네이트, 헥산 1,6-디이소시아네이트 및 시클로헥산 1,4-디이소시아네이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  8. 제 4 항에 있어서, 중축합물이 실리콘 주쇄를 가지며, 규소 원자 상에 그라프트된 탄화수소 기재 사슬을 임의 함유하는 폴리실록산, 폴리알킬실록산 또는 폴리아릴실록산으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 부가 화합물로 형성되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  9. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 중합체의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열이 하기 화학식 1a 에 상응하는 베이스 반복 단위를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물:
    [화학식 1a]
    -X'-B-X'-CO-NH-R-NH-CO-
    (식 중, X' 는 O 및/또는 NH 를 나타내며, B 는 치환 또는 비치환된 탄화수소 기재 라디칼이며, R 은 치환 또는 비치환된 방향족, C1-C20지방족 또는 C1-C20시클로지방족 알킬렌 라디칼로부터 선택된 2가 라디칼이다).
  10. 제 9 항에 있어서, B 가 2가 C1-C30탄화수소기재 라디칼인 것을 특징으로 하는 조성물.
  11. 제 9 항에 있어서, 라디칼 R 이 헥사메틸렌, 4,4'-비페닐렌메탄, 2,4- 및/또는 2,6-톨릴렌, 1,5-나프틸렌, p-페닐렌 및 메틸렌-4,4-비스(시클로헥실)라디칼, 및 이소포론으로부터 유도된 2가 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  12. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 중축합물이 하기 화학식 2a 에 상응하는 베이스 반복 단위를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물:
    [화학식 2a]
    -X'-P-X'-CO-NH-R-NH-CO-
    (식 중, P 는 폴리실록산 단편을 나타내며, X' 는 O 및/또는 NH 를 나타내며, R 은 치환 또는 비치환된 방향족, C1-C20지방족 또는 C1-C20시클로지방족 알킬렌 라디칼로부터 선택된 2가 라디칼이다).
  13. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 양이온성 중합체가 하기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:
    (1) 하기 화학식의 하나 이상의 단위를 함유하며, 아크릴 또는 메트아크릴 에스테르 또는 아미드로부터 유도된 호모중합체 또는 공중합체:
    (식들 중, R3은 동일 또는 상이할 수 있으며, 수소원자 또는 CH3라디칼을 나타내며; A 는 동일 또는 상이할 수 있으며, 선형 또는 분지형 C1-C6알킬기, 또는 C1-C4히드록시알킬기를 나타내며; R4, R5및 R6은 동일 또는 상이할 수 있으며, C1-C18알킬기 또는 벤질 라디칼을 나타내며; R1및 R2는 동일 또는 상이할 수 있으며, 수소 또는 C1-C6알킬기를 나타내며; X 는 무기 또는 유기산으로부터 유도된 음이온을 나타낸다),
    (2) 4차 암모늄기를 함유하는 셀룰로오스 에테르 유도체,
    (3) 양이온성 셀룰로오스 유도체,
    (4) 양이온성 다당류,
    (5) 산소, 황 또는 질소 원자, 또는 방향족 또는 헤테로시클릭 고리로 임의 차단된, 선형 또는 분지형 사슬 함유 2가 알킬렌 또는 히드록시알킬렌 라디칼 및 피페라지닐 단위로 이루어진 중합체, 및 이들 중합체의 산화 및/또는 4차화 생성물,
    (6) 산성 화합물과 폴리아민의 중축합화로 제조된 수용성 폴리아미노 아미드 (이들 폴리아미노 아미드는 에피할로히드린, 디에폭시드, 디안히드리드, 불포화 디안히드리드, 비스-불포화 유도체, 비스-할로히드린, 비스-아제티디늄, 비스-할로아실디아민, 비스-알킬 할라이드, 또는 대안적으로, 비스-할로히드린, 비스-아제티디늄, 비스-할로아실디아민, 비스-알킬 할라이드, 에피할로히드린, 디에폭시드 또는 비스-불포화 유도체와 반응성인 2작용성 화합물의 반응으로부터 생성된 올리고머와 가교결합할 수 있으며; 가교결합제는 폴리아미노 아미드의 아민기 당 0.025 내지 0.35 몰의 비율로 사용되며; 이들 폴리아미노 아미드는 알킬화될 수 있거나, 또는 하나 이상의 3차 아민 작용기를 함유하는 경우, 4차화될 수 있다),
    (7) 폴리알킬렌 폴리아민과 폴리카르복실산을 축합한 후, 2작용화제로 알킬화하여 수득한 폴리아미노 아미드 유도체,
    (8) 2 개의 1차 아민기 및 하나 이상의 2차 아민기를 함유하는 폴리알킬렌 폴리아민과, 디글리콜산 및 C3-C8의 포화 지방족 디카르복실산으로부터 선택된 디카르복실산의 반응에 의해 수득한 중합체,
    (9) 알킬디알릴아민 또는 디알킬디알릴암모늄의 시클로중합체,
    (10) 하기 화학식 7 에 상응하는 반복 단위를 함유하는 4차 디암모늄 중합체:
    [화학식 7]
    {식 중,
    R13, R14, R15및 R16은 동일 또는 상이할 수 있으며, C1-C20의 지방족, 지환족 또는 아릴지방족 라디칼, 또는 저급 히드록시알킬지방족 라디칼을 나타내거나, 대안적으로 R13, R14, R15및 R16은 함께 또는 별도로, 이들이 결합된 질소원자와 함께 질소 원자 외의 제 2 헤테로원자를 임의 함유하는 헤테로사이클을 구성하거나, 또는 대안적으로 R13, R14, R15및 R16은 니트릴, 에스테르, 아실 또는 아미드기로 치환된 선형 또는 분지형 C1-C6알킬 라디칼, 또는 -CO-O-R17-D 또는 -CO-NH-R17-D (식 중, R17은 알킬렌이며, D 는 4차 암모늄기이다) 기를 나타내며;
    A1및 B1은 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화일 수 있으며, 주쇄에 연결 또는 주쇄 내에 내위(內位)결합된 하나 이상의 방향족 고리 또는 하나 이상의 산소 또는 황원자 또는 술폭시드, 술폰, 디술피드, 아미노, 알킬아미노, 히드록실, 4차 암모늄, 우레이도, 아미드 또는 에스테르기를 함유할 수 있는 C2-C20폴리메틸렌기를 나타내며;
    X-는 무기 또는 유기산으로부터 유도된 음이온을 나타내며;
    A1, R13및 R15는 이들이 연결된 2 개의 질소원자와 피페라진 고리를 형성할 수 있으며; 또한, A1이 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 알킬렌 또는 히드록시알킬렌 라디칼을 나타내면, B1또한 (CH2)n-CO-D-OC-(CH2)n- 기를 나타낼 수 있으며,
    여기서, D 는 하기를 나타낸다:
    a) 화학식 -O-Z-O- 의 글리콜 잔기 (여기서, Z 는 선형 또는 분지형 탄화수소 라디칼, 또는 화학식 -(CH2-CH2-O)x-CH2-CH2- 또는 -[CH2-CH(CH3)-O]y-CH2-CH(CH3)- 중 하나에 상응하는 기를 나타내며, 여기서, x 및 y 는 고유하게 정의된 중합화도를 나타내는 1 내지 4 의 정수, 또는 평균 중합화도를 나타내는 1 내지 4 의 임의의 수를 나타낸다);
    b) 비스-2차 디아민 잔기;
    c) 화학식 -NH-Y-NH- 의 비스-1차 디아민 잔기 (여기서 Y 는 선형 또는 분지형 탄화수소 라디칼, 또는 대안적으로 2가 라디칼 -CH2-CH2-S-S-CH2-CH2- 를 나타낸다);
    d) 화학식 -NH-CO-NH- 의 우레일렌기}.
    (11) 하기 화학식 8 의 단위로 이루어진 4차 폴리암모늄 중합체:
    [화학식 8]
    {식 중,
    R18, R19, R20및 R21은 동일 또는 상이할 수 있으며, 수소원자 또는 메틸, 에틸, 프로필, β-히드록시에틸, β-히드록시프로필 또는 -CH2CH2(OCH2CH2)pOH 라디칼 (p 는 0 또는 1 내지 6 의 정수) 을 나타내며, 단, R18, R19, R20및 R21은 동시에 수소원자를 나타내지는 않으며,
    r 및 s 는 동일 또는 상이할 수 있으며, 1 내지 6 의 정수이고,
    q 는 0 또는 1 내지 34 의 정수이며,
    X 는 할로겐원자를 나타내며,
    A 는 디할라이드 라디칼, 또는 -CH2-CH2-O-CH2-CH2- 를 나타낸다},
    (12) 비닐피롤리돈 및 비닐이미다졸의 4차 중합체,
    (13) CTFA 참고명 "폴리에틸렌 글리콜 (15) 탈로우 폴리아민" 의 폴리아민,
    (14) 메트아크릴로일옥시(C1-C4)알킬트리(C1-C4)알킬암모늄 염의 가교결합된 중합체,
    (15) 폴리알킬렌이민, 비닐피리딘 또는 비닐피리디늄 단위를 함유하는 중합체, 폴리아민 및 에피클로로히드린의 축합물, 4차 폴리우레일렌 및 키틴 유도체.
  14. 제 13 항에 있어서, 양이온성 중합체가 4차 셀룰로오스 에테르 유도체, 시클로중합체, 양이온성 다당류, 비닐피롤리돈/메트아크릴아미도프로필디메틸아민 공중합체 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  15. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 양이온성 중합체가 조성물 총 중량에 대해 0.01 내지 10 중량% 로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  16. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 중축합물이 조성물 총 중량에 대해 0.05 내지 10 중량% 로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  17. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, pH 가 4 내지 9 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  18. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 케라틴 물질의 클렌징 및/또는 케어 및/또는 컨디셔닝 및/또는 스타일링용 조성물.
  19. 하나 이상의 양이온성 중합체를 함유하는 세정제 모발 조성물의 스타일링 효과를 개선하기 위한 제 1 항 또는 제 2 항 기재의 중축합물.
  20. 제 3 항에 있어서, 세정 베이스가 조성물 총 중량에 대해 6 내지 25 중량% 로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  21. 제 8 항에 있어서, 폴리실록산, 폴리알킬실록산 또는 폴리아릴실록산이 폴리에틸실록산, 폴리메틸실록산 또는 폴리페닐실록산인 것을 특징으로 하는 조성물.
  22. 제 13 항에 있어서, (3) 의 양이온성 셀룰로오스 유도체가 4차 암모늄의 수용성 단량체로 그라프트된 셀룰로오스 유도체 또는 셀룰로오스 공중합체이며, (10) 의 b) 의 비스-2차 디아민 잔기가 피페라진 유도체이며, (15) 의 폴리알킬렌이민이 폴리에틸렌이민인 것을 특징으로 하는 조성물.
  23. 제 15 항에 있어서, 양이온성 중합체가 조성물 총 중량에 대해 0.05 내지 5 중량% 로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  24. 제 16 항에 있어서, 중축합물이 조성물 총 중량에 대해 0.1 내지 5 중량% 로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
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