KR20000048837A - 치환된 프탈로시아닌 및 이의 용도 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 구형의 탄소 골격에 부착된 하나 이상의 비치환되거나 치환된 포밀, 카보닐, 하이드록시메틸 또는 카복실 그룹을 포함하는, 프탈로시아닌, 또는 2가 금속, 옥소금속, 할로게노금속 또는 하이드록시금속과 이의 금속 착물에 관한 것이다.
이러한 프탈로시아닌 또는 이의 유도체는 광학 기록 매체의 기록층에 사용된다.
또한 본 발명은 화학식 Ⅳ의 화합물을 디메틸포름아미드 및 포스포릴 클로라이드 각각 z㏖과 반응시켜 화학식 Ⅲ에 상응하는 화합물의 일부를 제조하는 신규한 방법에 관한 것이다.
화학식 Ⅲ
화학식 Ⅳ
상기식에서,
M은 2가 금속, 옥소금속, 할로게노금속 또는 하이드록시금속 또는 2개의 수소 원자이고,
X는 할로겐이거나, 페닐 환 상의 인접 위치에 존재하는 2개의 X는 부가적인 페닐 환이 수득될 수 있도록 -C=C-C=C- 브릿지를 형성하고,
Y는 -OR1, -OOC-R2, -NHR1, -N(R1)R2또는 -SR1이고,
x는 0 또는 1 내지 8이고,
z에 따르는 y는 z 내지 4이고,
z는 1 내지 4이다.

Description

치환된 프탈로시아닌 및 이의 용도 {Substituted phthalocyanines and their use}
본 발명은 1-4개의 포밀, 카보닐, 하이드록시메틸 또는 카복실 그룹으로 치환된 신규한 프탈로시아닌 또는 이의 유도체, 광학 기록 매체의 기록층에서의 이들의 용도 뿐만 아니라 이들 화합물 중 일부의 신규한 제조방법에 관한 것이다.
본 발명의 분야는 라이트-원스(write-once) 기록 매체에 대한 정보의 광학 기록 분야로, 정보 비트는 기록되거나 기록되지 않은 부분상의 염료의 상이한 광학적 특성에 따라 상이하다. 이러한 기술은 일반적으로 WORM(예를 들면, CD-R, SD-R, DVD-R 또는 MMCD-R)이라 지칭되는데, 이 약어는 본원에서 사용된다.
WORM(write once read many) 시스템에서 정보를 기록하기 위해 근적외선 범위(NIR 범위)의 방사선을 흡수하는 염료의 사용이 한동안 공지되어 왔었고 특히 엠멜리우스(Emmelius)에 의해 문헌[참조: Angewandte Chemie, No.11, pages 1475-1502 (1989)]에 기술되어 있다. 이러한 기록 물질을 레이저로 조사시킴으로 인해, 정보 기록에 요구되는 흡수시 변화를 물리적 변화(예를 들면, 승화 또는 확산) 또는 화학적 변화(예를 들면, 광색성, 이성질화 또는 열 분해)를 통해 2가지 형태로 수득할 수 있다.
치환된 프탈로시아닌은 중심 금속 원자에 따라 상응하게 주변이 치환될 경우에 700nm 내지 900nm 범위에서 NIR 흡수가 높기 때문에 이러한 WORM 시스템용 염료의 중요한 부류이다.
사용되는 기록층에 있어서 높은 굴절 지수, 높은 초기 반사율, 고체 상태에서의 좁은 흡수 밴드, 상이한 펄스 주기에서의 정보기록 폭의 균일성, 일광 뿐만 아니라 강한 레이저 조사(내접)에 매우 민감하게 커플링된 약한 레이저 조사(판독)하에서의 높은 광안정성, 저소음, 고해상도 뿐만 아니라, 가장 중요하게는, 최적의 정보기록 작동시 목적하는 수치에 대한 피트의 거의 약간 안정적인 지터(jitter)와 같은 점이 가장 급박하게 요구된다.
일반적으로 기록층은 용액으로부터 전형적으로 스핀 코팅에 의해 적용되기 때문에 염료는 유용하게는 통상적인 용매에 신속하게 용해되어야 하는데, 이는 문헌[참조: EP 제511 598호]에 기술되어 있다.
알콕시-다치환되고 할로겐화된 프탈로시아닌은 문헌[참조: EP 제373 643호 및 EP 제513 370호]으로부터 공지되어 있다. 그러나, 이러한 화합물은 단독으로 뿐만 아니라 다양한 이성체의 혼합물로서 사용될 수 있다. 용해도가 충분히 개선된 동족 이성체 혼합물이 문헌[참조: EP 제703 280호]으로부터 공지되어 있다.
또한, 문헌[참조: EP 제712 904호]에는 분해 온도가 낮고 흡수 밴드가 비교적 좁으며 780nm에서 굴절 지수가 높고 정보기록된 부분과 정보기록되지 않은 부분사이의 대조가 확실한, 인 그룹으로 치환된 프탈로시아닌이 기술되어 있다.
그러나, 신속하게 용해될 수 있는 프탈로시아닌 염료를 갖는 공지된 기록층은 요구되는 특성을 만족스럽지 않은 정도로만 가지며, 특히 광 해상도는 빈번하게 그다지 만족스럽지 않다. 더구나, 최상의 제품은 귀금속 프탈로시아닌으로, 이는 고가의 재료비로 인해 폐품 처리될 수 있는 저가의 대량 생산품에 대한 필요성에 대립될 수 있다.
또한, 공지된 가용성 생성물은 예외적으로 복잡한 이성체 혼합물이므로, 품질 관리를 위해 극도로 정교한 분석법의 사용이 불가피하다.
특정한 프탈로시아닌 유도체를 기록층으로 사용할 경우, 놀랍게도 그 특성이 현재까지 알려진 기록 매체의 특성보다 월등하게 우수한 광학 기록 매체를 제공할 수 있다. 또한, 본 발명의 프탈로시아닌 유도체는 쉽게 분석될 수 있고 중심 금속 원자로서 귀금속을 선택할 필요가 없다.
이의 양상 중 하나로, 본 발명은 구형의 탄소 골격에 부착된 하나 이상의 비치환되거나 치환된 포밀, 카보닐, 하이드록시메틸 또는 카복실 그룹을 포함하는, 프탈로시아닌, 또는 2가 금속, 옥소금속, 할로게노금속 또는 하이드록시금속과 이의 금속 착물에 관한 것이다.
2가 옥소금속, 할로게노금속 또는 하이드록시금속은 부가적으로 하나의 중성 분자에 배위될 수 있고, 2가 금속은 부가적으로 하나 또는 둘의 중성 분자에 배위될 수 있는데, 이들 중성 분자는 서로에 대해 독립적이거나 예속적이고 N, O 및 S로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유한다.
2가 금속은 예를 들어, Cu(Ⅱ), Zn(Ⅱ), Fe(Ⅱ), Ni(Ⅱ), Ru(Ⅱ), Rh(Ⅱ), Pd(Ⅱ), Pt(Ⅱ), Mn(Ⅱ), Mg(Ⅱ), Be(Ⅱ), Ca(Ⅱ), Ba(Ⅱ), Cd(Ⅱ), Hg(Ⅱ), Sn(Ⅱ), Co(Ⅱ) 또는 Pd(Ⅱ)이다. 2가 옥소금속은 예를 들어, V(Ⅳ)O, Mn(Ⅳ)O, Zr(Ⅳ)O 또는 Ti(Ⅳ)O이다. 2가 할로게노금속은 예를 들어, Fe(Ⅲ)Cl, In(Ⅲ)Cl 또는 Ce(Ⅲ)Cl이다. 2가 하이드록시금속은 예를 들어, Al(Ⅲ)OH, Cr(Ⅲ)OH, Bi(Ⅲ)OH 또는 Zr(Ⅳ)(OH)2이다.
구형 탄소 골격에 부착된 그룹은 -CHO, -CO-KW라디칼, -CH2OH 또는 -COOH, 또는 동일 반응계에 공지된 방법에 의해 -CHO, -CO-KW라디칼, -CH2OH 또는 -COOH로부터 제조될 수 있는 비치환되거나 치환된 포밀, 하이드록시메틸 또는 카복실 그룹일 수 있다. 치환된 포밀 또는 카보닐 그룹은 전형적으로 이들의 아세탈, 옥심 또는 하이드라존이다. 치환된 하이드록시메틸 그룹은 전형적으로 -CH2-OOC-KW라디칼또는 -CH2-O-KW라디칼이다. 치환된 카복실 그룹은 전형적으로 에스테르 또는 티오에스테르, 예를 들어 -OO-KW라디칼또는 -COS-KW라디칼로, KW라디칼은 각각 포화, 불포화 또는 방향족의 비치환되거나 치환된 탄화수소 라디칼, 예를 들어 C1-C20알킬, C1-C20사이클로알킬, C1-C20알케닐, C1-C20사이클로알케닐, C1-C20알키닐, C1-C20사이클로알키닐, C6-C18아릴 또는 C7-C18아르알킬이다.
바람직한 화합물은 화학식 Ⅰ의 화합물이다.
상기식에서,
M은 2가 금속, 옥소금속, 할로게노금속 또는 하이드록시금속 또는 2개의 수소 원자이고,
X는 할로겐이거나, 페닐 환 상의 인접 위치에 존재하는 2개의 X는 부가적인 페닐 환이 수득될 수 있도록 -C=C-C=C- 브릿지를 형성하고,
Y는 -OR1, -OOC-R2, -NHR1, -N(R1)R2또는 -SR1이고,
Z는 -CHO, -CH(OR3)OR4, -CH=N-OH, -CH=N-OR3, -CH=N-NHR5, -CH=N-N(R3)R5, -CH2OH, -CH2OR3, -CH2OOC-R3, -CO-R3, -COOH 또는 -COOR3이고,
x는 0 또는 1 내지 8이고,
z에 따르는 y는 z 내지 4이고,
z는 1 내지 4이고,
R1내지 R5는 각각 서로 독립적으로 비치환되거나 할로겐, 하이드록시, C1-C20알콕시, C1-C20알킬아미노 또는 C2-C20디알킬아미노로 치환되고 -O-, -S-, -NH- 또는 -NR6-에 의해 연결될 수 있는 C1-C20알킬; C1-C20사이클로알킬, C1-C20알케닐, C1-C20사이클로알케닐, C1-C20알키닐, C1-C20사이클로알키닐, C6-C18아릴 또는 C7-C18아르알킬이거나,
R1및 R2는 함께 비치환되거나 옥소, 하이드록시 또는 C1-C20카복시에 의해 치환되고 -O-, -S-, -NH- 또는 -NR6-에 의해 연결될 수 있는 C2-C20알킬렌이거나,
R3및 R4는 함께 비치환되거나 할로겐, 하이드록시, C1-C20알콕시, C1-C20알킬아미노 또는 C2-C20디알킬아미노로 치환된 C2-C20알킬렌이고,
R6은 C1-C20알킬, C1-C20사이클로알킬, C1-C20알케닐, C1-C20사이클로알케닐, C1-C20알키닐, C1-C20사이클로알키닐, C6-C18아릴 또는 C7-C18아르알킬이고,
2가 옥소금속, 할로게노금속 또는 하이드록시금속은 부가적으로 하나의 중성 분자에 배위될 수 있고, 2가 금속 원자는 부가적으로 하나 또는 둘의 중성 분자에 배위될 수 있는데, 이들 중성 분자는 서로에 대해 독립적이거나 예속적이고 N, O 및 S로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유한다.
알킬, 알케닐 또는 알키닐, 예를 들면, C1-C20알킬, C2-C20알케닐 또는 C2-C20알키닐은 직쇄, 측쇄, 일환 또는 다환일 수 있다. 따라서, C1-C6알킬은 전형적으로 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급-부틸, 이소부틸, 3급-부틸, 사이클로부틸, n-펜틸, 2-펜틸, 3-펜틸, 2,2-디메틸프로필, 사이클로펜틸, n-헥실, 사이클로헥실이고, 또한 C1-C20알킬은 전형적으로 n-옥틸, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, 2-에틸헥실, 노닐, 트리메틸사이클로헥실, 데실, 멘틸, 투우질, 보르닐, 1-아다만틸, 2-아다만틸, 도데실, 테트라데실, 헥사데실, 옥타데실 또는 에이코실이다.
C2-C20알케닐은 일- 또는 다불포화된 C2-C20알킬(여기서, 둘 이상의 이중결합은 분리되거나 공액될 수 있다), 전형적으로 비닐, 알릴, 2-프로펜-2-일, 2-부텐-1-일, 3-부텐-1-일, 1,3-부타디엔-2-일, 2-사이클로부텐-1-일, 2-펜텐-1-일, 3-펜텐-2-일, 2-메틸-1-부텐-3-일, 2-메틸-3-부텐-2-일, 3-메틸-2-부텐-1-일, 1,4-펜타디엔-3-일, 2-사이클로펜텐-1-일, 2-사이클로헥센-1-일, 3-사이클로헥센-1-일, 2,4-사이클로헥사디엔-1-일, 1-p-멘텐-8-일, 4(10)투우젠-10-일, 2-노르보르넨-1-일, 2,5-노르보르나디엔-1-일, 7,7-디메틸-2,4-노르카라디엔-3-일 또는 헥세닐, 옥테닐, 노네닐, 데세닐, 도데세닐, 테트라데세닐, 헥사데세닐, 옥타데세닐, 에이코세닐, 헨에이코세닐, 도코세닐, 테트라코세닐, 헥사디에닐, 옥타디에닐, 노나디에닐, 데카디에닐, 도데카디에닐, 테트라데카디에닐, 헥사데카디에닐, 옥타데카디에닐 또는 에이코사디에닐의 상이한 이성체이다.
C2-C20알키닐은 이중으로 일- 또는 다불포화되고, 이때 삼중 결합이 분리되거나 서로간에 또는 이중 결합으로 공액될 수 있는 C2-C20알킬 또는 C2-C20알케닐, 전형적으로 1-프로핀-3-일, 1-부틴-4-일, 1-펜틴-5-일, 2-메틸-3-부틴-2-일, 1,4-펜타디인-3-일, 1,3-펜타디인-5-일, 1-헥신-6-일, 시스-3-메틸-2-펜텐-4-인-1-일, 트랜스-3-메틸-2-펜텐-4-인-1-일, 1,3-헥사디인-5-일, 1-옥틴-8-일, 1-노닌-9-일, 1-데신-10-일 또는 1-에이코신-20-일이다.
C7-C18아르알킬은 전형적으로 벤질, 2-벤질-2-프로필, β-페닐에틸, 9-플루오레닐, α,α-디메틸벤질, ω-페닐부틸, ω-페닐옥틸, ω-페닐도데실 또는 3-메틸-5-(1',1',3',3'-테트라메틸)-부틸벤질이다. 또한, C7-C24아르알킬은 전형적으로 2,4,6-트리-3급-부틸벤질 또는 1-(3,5-디벤질페닐)-3-메틸-2-프로필일 수도 있다. C7-C18아르알킬이 치환될 경우, 아르알킬 그룹의 알킬 잔기 뿐만 아니라 아릴은 치환될 수 있고, 또한 후자가 바람직하다.
C6-C18아릴은 전형적으로 페닐, 나프틸, 비페닐릴, 2-플루오레닐, 페난트릴, 안트라세닐 또는 테르페닐릴이다.
C1-C20알킬아미노는 -NH-C1-C20알킬, 전형적으로 메틸아미노, 에틸아미노, 프로필아미노, 헥실아미노 또는 옥틸아미노이다. C2-C20디알킬아미노는(여기서, 알킬 그룹 둘 다에서 탄소 원자의 수는 총 2 내지 20이다), 예를 들면, 디메틸아미노, 디에틸아미노, 디프로필아미노, 디부틸아미노, 메틸헥실아미노, 에틸헥실아미노, 옥틸도데실아미노 또는 에틸옥타데실아미노이다.
할로겐은 클로로, 브로모, 플루오로 또는 요오도이다.
배위된 중성 분자는 전이 금속에 적합한 통상적인 리간드, 예를 들면, 물, 아민, 암모니아, 하이드라진, 트리에틸아민, 일산화탄소, 일산화질소, 아세톤 또는 피리딘, 퀴놀린, 푸란, 피롤, 티오펜 또는 메틸이미다졸과 같은 헤테로방향족 화합물일 수 있다.
M은 바람직하게는 H2, Cu(Ⅱ), Zn(Ⅱ), Ni(Ⅱ), Pd(Ⅱ), Pt(Ⅱ), Mn(Ⅱ) 또는 Co(Ⅱ), 특히 바람직하게는 H2, Cu(Ⅱ), Zn(Ⅱ) 또는 Pd(Ⅱ), 매우 특히 바람직하게는 Cu(Ⅱ)이다.
X는 바람직하게는 클로로 또는 브로모, 특히 바람직하게는 브로모이다.
Y는 바람직하게는 -OR1또는 -OOC-R2, 특히 바람직하게는 -OR1이다.
Z는 바람직하게는 -CHO, -CH(OR3)OR4, -CH2OH, -CH2OOC-R3, -CO-R3, -COOH 또는 -COOR3, 특히 바람직하게는 -CHO, -CH(OR3)OR4, -CH2OH, -CH2OOC-R3또는 -CO-R3이다.
x는 바람직하게는 0 또는 1 내지 8, 특히 바람직하게는 0 또는 2 내지 4이다.
y는 바람직하게는 2,3 또는 4, 특히 바람직하게는 4이다.
z는 바람직하게는 1 또는 2, 특히 바람직하게는 1이다.
R1은 바람직하게는 -O-에 의해 연결될 수 있는 비치환된 C4-C8알킬, 특히 바람직하게는 여러 측쇄를 갖는 2급 비치환된 C4-C8알킬이다.
R2는 바람직하게는 -O-에 의해 연결될 수 있는 비치환된 C1-C8알킬, 특히 바람직하게는 비치환된 C1-C3알킬이다.
R1및 R2가 함께 그룹을 형성할 경우, 이러한 그룹은 바람직하게는 비치환되거나 옥소, 하이드록시 또는 C1-C20카복시에 의해 치환되고 -O-, -NH- 또는 -NR6-, 특히 바람직하게는 -(CH2)4-, -(CH2)5-, -(CH2)2O(CH2)2-, -(CH2)2N(CH3)(CH2)2-, -(CH2)2NH(CH2)2-, -C(CH3)2CH2COCH2C(CH3)2-, -C(CH3)2CH2CH(OH)CH2C(CH3)2- 또는 -C(CH3)2CH2CH(OCOCH3)CH2C(CH3)2-, 매우 특히 바람직하게는 -(CH2)4-, -(CH2)5- 또는 -(CH2)2O(CH2)2-에 의해 연결될 수 있는 C4-C8알킬렌이다.
R3은 바람직하게는 -O-에 의해 연결될 수 있는 비치환된 C1-C4알킬, 특히 바람직하게는 메틸, 에틸 또는 3-옥사-1-펜틸이다.
R4는 바람직하게는 -O-에 의해 연결될 수 있는 비치환된 C1-C4알킬, 특히 바람직하게는 메틸, 에틸 또는 3-옥사-1-펜틸이다.
R3및 R4가 함께 환을 형성할 경우, 이러한 그룹은 바람직하게는 비치환되거나 하이드록시- 또는 C1-C8알콕시-치환된 C2-C20알킬렌, 특히 바람직하게는 -(CH2)2-, -(CH2)3- 또는 -CH2-CH(CH2OH)-이다.
R5는 바람직하게는 비치환되거나 할로겐, 하이드록시, C1-C20알콕시, C1-C20알킬아미노 또는 C2-C20디알킬아미노로 치환된 3급 C4-C12알킬 또는 페닐이다.
R6은 바람직하게는 C1-C4알킬, 특히 바람직하게는 메틸 또는 에틸이다.
특히 바람직한 화합물은 화학식 Ⅱa, Ⅱb, Ⅱc 또는 Ⅱd의 화합물, 또는 화학식 Ⅱa, Ⅱb, Ⅱc 및 Ⅱd의 화합물로부터 선택된 둘 이상의 화합물의 혼합물이다.
상기식에서,
M은 2가 금속, 옥소금속, 할로게노금속 또는 하이드록시금속, 또는 2개의 수소 원자이고,
X1내지 X4및 X1' 내지 X4'는 각각 서로 독립적으로 수소 또는 할로겐이고,
Y1내지 Y4는 각각 서로 독립적으로 수소 또는 -OR1이고,
Z1은 -CHO, -CH(OR3)OR4, -CH=N-OH, -CH=N-OR3, -CH=N-NHR5, -CH=N-N(R3)R5, -CH2OH, -CH2OR3, -CH2OOC-R3, -CO-R3, -COOH 또는 -COOR3이고,
Z2내지 Z4는 각각 서로 독립적으로 수소 또는 그룹 Z1이되, 단 수소가 아닌 치환체 Y1내지 Y4의 수는 수소가 아닌 치환체 Z1내지 Z4의 수와 적어도 동일하고,
R1내지 R5는 화학식 Ⅰ에 대해 정의된 바와 같고, 2가 옥소금속, 할로게노금속 또는 하이드록시금속은 부가적으로 하나의 중성 분자에 배위될 수 있고, 2가 금속 원자는 부가적으로 하나 또는 둘의 중성 분자에 배위될 수 있는데, 이들 중성 분자는 서로에 대해 독립적이거나 예속적이며 N, O 및 S로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유한다.
화학식 Ⅱa, Ⅱb, Ⅱc 및/또는 Ⅱd의 화합물에 상응하는 2 내지 8개의 이성체 화합물의 혼합물이 특히 바람직하다.
-CHO, -CH2OH 또는 -COOH 그룹을 포함하는 신규한 프탈로시아닌은 특히 문헌[참조: Nouveau Journal de Chimie, 6, 653-8(1982), Tetrahedron Letters 30/41, 5555-8(1989), J. Am. Chem. Soc. 112, 9640-1(1990), EP 373 643 및 EP 492 508]에 기술된 동일 반응계에 공지된 방법에 유사하게 일반적으로 제조될 수 있다. 이러한 반응은 예를 들어, 그 중 하나 이상이 -CHO, -CH2OH, -COOH 또는 이의 유도체에 의해 치환되는 하나 또는 몇몇 치환된 프탈로디니트릴 또는 디이미노이소인돌린으로부터 출발하여 수행된다. 에덕트 및 반응 조건에 따라, 순수 화합물 또는 생성물 혼합물을 수득하고 이로부터 목적하는 화합물을 크로마토그래피와 같은 통상적인 분리 방법에 의해 분리할 수 있다. 이들을 프탈로시아닌으로 축합시키기 전 또는 후에, -CHO, -CH2OH 및 -COOH 그룹은 공지된 방법에 의해 환원적으로 또는 산화적으로 서로 전환될 수 있거나 치환될 수 있다. 그러나, 이러한 방법의 단점은 이들의 수율이 일반적으로 만족스럽지 못하고 겨우 소수의 성분만을 갖는 잘 정제된 생성물을 수득하는 것이 매우 어렵다는 것이다.
따라서 -CHO, -CH2OH 또는 -COOH 그룹을 포함하는 신규한 프탈로시아닌은 바람직하게는 이후 기술되는 신규한 합성 방법에 의해 제조되는데, 매우 놀랍게도 이를 통해 본 발명에 따르는 바람직한 프탈로시아닌이 우수한 선택률과 함께 현저하게 우수한 수율로 제공된다. 소수의 성분을 고려해볼 때, 이러한 생성물은 통상적인 스핀 코팅 용매에서 용해도가 놀라울 만큼 우수하다.
일반적으로, 하나 몇몇 포밀 그룹은 치환된 프탈로시아닌으로 도입되는데, 포밀 그룹은 후속적으로 공지된 방법에 의해 하이드록시메틸 또는 카복실 그룹 뿐만 아니라 다른 유도체로 산화적 또는 환원적으로 전환될 수 있다.
프탈로시아닌의 포밀화는 신규하다. 그 이유는 아마도 비치환되거나 염소화된 구리 프탈로시아닌과 같은 통상적인 공지된 프탈로시아닌의 포밀화가 일반적으로 완전하지 못하거나 분리될 수 없는 포밀화 생성물의 흔적만을 제공하기 때문일 것이다.
포밀 그룹은 일반적으로 특히 널리 알려진 열람[참조: "Compedium of Organic Synthetic Methods"(I.T. Harrison+ Sh. Harrison, John Wiley & Sons)]에서 발견할 수 있는 다수의 상이한 합성 방법에 의해 도입될 수 있다. 이러한 방법 중 하나는 디메틸포름아미드 및 포스포릴 클로라이드를 사용하는 방향족 화합물의 포밀화로, 이는 또한 빌츠마이어(Vilsmeier) 반응으로 알려져 있다. 문헌[참조: Tetrahedron 27, 3323-30(1971)]에 따르면, 3-메틸푸란의 경우에 이러한 반응을 통해 이성체 2개의 혼합물이 14:1의 비로 제공된다.
매우 놀랍게도, 빌츠마이어 반응은 특정 치환된 프탈로시아닌에서 우수한 선택률로 진행되며 탁월한 수율을 나타내는 것으로 밝혀졌다. 생성물은 광학 기록 매체에 사용하기에 충분히 순수한 형태로 쉽게 분리될 수 있다.
따라서, 본 발명은 또한 화학식 Ⅳ의 화합물 1㏖을 디메틸포름아미드 및 포스포릴 클로라이드 각각 z㏖과 반응시킴으로써 화학식 Ⅲ의 화합물을 제조하는 방법에 관한 것이다.
상기식에서,
M, X, Y, x, y 및 z는 화학식 Ⅰ에 대해 정의된 바와 같다.
또한 화학식 Ⅲ의 화합물은 바람직하게는 화학식 Ⅱa, Ⅱb, Ⅱc 또는 Ⅱd의 화합물에 상응하고, 그룹 X 및 Y의 정체, 수 및 위치는 Ⅳ에서 Ⅲ로의 반응에서 변하지 않는다.
이러한 방법에 사용되는 화학식 Ⅳ의 에덕트는 예를 들어, 문헌[참조: Nouveau Journal de Chimie, 6, 653-8(1982), Tetrahedron Letters 30/41, 5555-8(1989), J. Am. Chem. Soc. 112, 9640-1(1990), EP 373 643, EP 492 508 또는 EP 703 281]에 기술된 방법에 따라 또는 이와 유사하게 제조될 수 있는 공지된 물질이다.
이러한 반응은 방향족 화합물에 대한 빌츠마이어 반응에 대해 숙련인에게 공지된 조건하에 수행될 수 있는데, 이는 특히 문헌[참조: Houben-Weyl, Vols. 7/1, 16-44(1954) 및 E3, 3-115(1983)(Georg Thieme Verlag)]에 기술되어 있다. 이는 바람직하게는 불활성 용매 및 불활성 기체하에, 전형적으로 방향족 용매에서, 바람직하게는 클로로벤젠내 질소하에 수행된다. 먼저 동몰량의 디메틸포름아미드와 포스포릴 클로라이드를 불활성 기체하에 반응시킨 후, 불활성 용매에 용해된 포밀화되는 프탈로시아닌을 가한 다음, 온도를 상승시킨다. 첫번째 반응 단계에서, 온도는 바람직하게는 -100 내지 50℃, 특히 바람직하게는 -30 내지 25℃이고, 마지막 반응 단계에서는, 바람직하게는 0 내지 150℃, 특히 바람직하게는 50 내지 100℃로 상승된다.
또한 아실화된 프탈로시아닌은 동일 반응계에 공지된 방법에 의해 제조될 수 있다. 통상적으로 알려진 방법인 프리이델-크라프츠(Friedel-Crafts) 아실화를 사용하는 것이 바람직하다. 아실화는 문헌[참조: JP 제02/92963호]에 기술된 나프탈로시아닌의 아실화에 동일한 프리이델-크라프츠 조건하에 수행될 수 있다. 놀랍게도, 신규한 프탈로시아닌의 프리이델-크라프츠 아실화가 유리하게 선택적으로 수행됨이 밝혀졌다.
신규한 프탈로시아닌을 사용하여 광학 기록 매체용 염료로서 탁월한 결과를 수득할 수 있다.
따라서, 본 발명은 또한 기판, 신규한 프탈로시아닌을 함유하는 기록층 및 반사 또는 부분적 반사층을 포함하는 광학 기록 매체에 관한 것이다. 물론 창의적인 광학 기록 매체는 또한 하나 이상의 기록층 및/또는 하나 이상의 반사 또는 부분적 반사(반투명)층을 함유할 수 있다.
적용되는 층에 대한 지지체로서 작용하는 기판은 편의상 반투명(T≥10%), 또는 바람직하게는 투명(T≥90%)하다. 지지체의 두께는 0.01 내지 10mm, 바람직하게는 0.1 내지 5mm일 수 있다.
기록층은 바람직하게는 투명한 기판과 반사층 사이에 배열된다. 기록층의 두께는 10 내지 1000nm, 바람직하게는 50 내지 500nm, 특히 바람직하게는 약 100nm, 예를 들면 80 내지 150nm이다. 기록층의 흡수률은 전형적으로 최대 흡수치에서 0.1 내지 1.5이다. 매우 특히 바람직하게는, 층 두께는 판독 파장에서 정보기록되거나 정보기록되지 않은 부분에서의 개별적인 굴절 지수에 따라 공지된 방법으로 선택되어, 정보기록되지 않은 부분에는 보강 간섭 및 정보기록된 부분에는 상쇄 간섭이, 또는 그 역으로 존재한다.
두께가 10 내지 150nm일 수 있는 반사층은 바람직하게는 투명도(T≤10%)가 낮으면서 반사율(R≥70%)이 높다.
층 구조에 가장 좌우되는 층, 예를 들어, 반사층 또는 기록층에는 편의상 두께가 0.1 내지 1000μm, 바람직하게는 0.1 내지 50μm, 특히 바람직하게는 0.5 내지 15μm인 보호층이 부가적으로 제공된다. 이러한 보호층은 필요할 경우에 이에 적용되는 이차 기판층용 정착제로서 사용될 수 있는데, 이의 두께는 바람직하게는 0.1 내지 5mm이고 지지체 기판과 동일한 물질로 이루어진다.
전체적인 기록 매체의 반사율은 바람직하게는 45% 이상, 특히 바람직하게는 60% 이상이다.
본 발명의 염료의 용도는 유리하게는 균질하고 무정형의 저-산란성 기록층에 기인하는데, 이의 흡수 모서리는 고체상에서 날카롭다. 추가의 장점은 일광 및 저밀도 레이저 조사하에서 매우 안정하고 동시에 고밀도의 레이저 조사하에서 매우 민감하며, 균일한 정보기록폭, 우수한 열안정성 및 저장 안정성 뿐만 아니라 특히 고도의 광 해상도 및 지터가 거의 없다는 것이다.
적합한 기판의예는 유리, 광물, 세라믹 및 열경화성 또는 열가소성 플라스틱이다. 바람직한 지지체는 유리 및 단일- 또는 공중합체성 플라스틱이다. 적합한 플라스틱의 예는 열가소성 폴리카보네이트, 폴리아미드, 폴리에스테르, 폴리아크릴레이트 및 폴리메타크릴레이트, 폴리우레탄, 폴리올레핀, 폴리비닐 클로라이드, 폴리비닐리덴 플루오라이드, 폴리이미드, 열경화성 폴리에스테르 및 에톡시 수지이다. 기판은 순수한 형태일 수 있거나 또한 통상적인 부가제, 특히 기록층용 광 보호제로서 문헌[참조: JP 제04/167 239호]에 제시된 바와 같은, 예를 들어 자외선 흡수제 또는 염료를 함유할 수 있다. 후자의 경우에 편의상 지지체 기판에 가해진 염료는 기록층의 염료에 비교하여 10nm 이상, 바람직하게는 20nm 이상 이동되는 최대 흡수치를 갖는다.
기판은 유리하게는 적어도 600 내지 830nm 범위의 부분에서 투명하여, 정보기록 또는 판독 파장의 부수적인 광 중 90% 이상을 투과시킬 수 있다. 피막의 면상에서 기판은 바람직하게는 홈 깊이가 50 내지 500nm, 홈의 폭이 0.2 내지 0.8㎛이고 2개의 근접 회전의 반경 거리가 0.4 내지 1.6㎛, 특히 바람직하게는 홈의 깊이가 100 내지 300nm이고 홈의 폭이 0.3 내지 0.6㎛인 입체 가이드 홈을 갖는다.
기판 대신에, 기록층 그 자체는 특히 문헌[참조: EP 제392 531호]에 기술된 바와 같이, 가이드 홈을 가질 수 있다.
기록층은 예외적으로 또는 필수적으로 하나 이상의 신규한 프탈로시아닌으로 이루어질 수 있다. 그러나, 안정성을 훨씬 더 증가시키기 위해 필요할 경우 통상적인 양의 공지된 안정화제, 예를 들어 광 안정화제로서 문헌[참조: JP 제04/025 493호]에 기술된 니켈 디티오레이트를 또한 가할 수 있다. 필요할 경우, 염료의 양이 기록층을 기본으로하여 편의상 50중량% 미만, 바람직하게는 10중량% 미만임에도 불구하고, 부가적인 염료를 가할 수 있다. 신규한 기록 매체의 장점이 신규한 프탈로시아닌을 기본으로 하기 때문에, 임의로 가해진 염료를 신규한 프탈로시아닌과 비교하여 측색적으로 최대 흡수치 이동되게 하고 가해진 염료의 양을 적게 하여 600 내지 830nm의 범위에서 기록층의 총흡수시 후자의 비가 20% 미만, 바람직하게는 10% 미만인 것이 유리하다. 그러나, 부가적인 염료를 가하지 않는 것이 특히 바람직하다.
반사층용으로 특히 적합한 반사 물질은 기록 및 재생에 사용되는 방사선 조사의 우수한 반사체인 금속을 포함하는데, 그 예는 원소 주기율표의 3, 4 및 5족 및 아족 금속이다. 특히 적합한 금속은 Al, In, Sn, Pb, Sb, Bi, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Hg, Sc, Y, La, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Pd, Os, Ir, Pt 및 란탄계 금속 Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb 및 Lu, 및 또한 이들의 합금이다. 반사율이 높고 제조가 용이한 원인으로, 알루미늄, 은, 구리, 금 또는 이들의 합금의 반사층이 특히 바람직하다.
보호층으로 적합한 재료는 주로 플라스틱으로, 이를 직접 또는 접착층을 사용해 지지체 또는 최상단층에 얇은 층으로 적용시킨다. 표면 특성이 우수하고, 기계적 또는 열적으로 안정한 플라스틱을 선택하는 것이 관건으로, 이를 부가적으로 개질, 예를 들어 정보기록할 수 있다. 플라스틱은 열경화성 또는 열가소성일 수 있다. 방사선-처리(예를 들어, UV 조사 사용)된 보호층이 바람직한데, 이는 특히 제조하기에 용이하고 경제적이다. 다수의 방사선-처리 재료가 공지되어 있다. 방사선-처리된 단량체 및 중량체의 예는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트 또는 디올, 트리올 및 테트롤, 아미노 그룹에 둘 이상의 오르토 위치에서 C1-C4알킬 그룹을 갖는 방향족 테트라카복실산 및 방향족 디아민의 폴리이미드, 및 디알킬 그룹, 예를 들어 디메틸말레이미딜 그룹을 함유하는 중량체이다.
신규한 기록 매체는 또한 부가적인 층, 예를 들어 간섭 층을 특징지울 수 있다. 또한 다수(예를 들면, 2개)의 기록층을 갖는 기록 매체를 제조할 수 있다. 이러한 재료의 제조 및 용도는 숙련인에게 공지되어 있다. 이러한 층이 존재할 경우, 기록층과 반사층 사이 및/또는 기록층과 기판 사이에 점착되고 예를 들어, 문헌[참조: EP 제353 393호]에 기술된 바와 같이 TiO2, Si3N4, ZnS 또는 실리콘 수지와 같은 절연재로 이루어진 간섭 층이 바람직하다.
신규한 기록 매체는 동일 반응계에 공지된 방법에 의해 제조될 수 있으며, 사용되는 재료 및 이들의 작용에 따라 다양한 피복법을 사용할 수 있다.
적합한 피복법의 예는 침지, 플로우 코팅, 스프레딩, 나이프 코팅 및 스핀 코팅, 및 또한 고도의 진공 증착법이다. 예를 들어, 플로우 코팅법을 사용할 경우에는 유기 용매내 용액이 일반적으로 사용된다. 용매를 사용할 경우, 사용되는 지지체가 이러한 용매에 민감하지 않도록 처리해야 한다. 심지어 순수 화합물 또는 단지 몇몇 성분의 혼합물로서 신규한 염료가 덜 극성인 용매에 충분히 가용성이라는 점이 특별한 장점으로, 이는 아세톤과 같은 극성 용매의 사용을 가능하게 한다. 적합한 피복법 및 용매의 예는 문헌[참조: EP 제401 791호]에 기술되어 있다.
기록층은 바람직하게는 염료 용액, 특히 2-메톡시-에탄올, 이소프로판올, 이소부탄올 또는 n-부탄올과 같은 알콜 또는, 바람직하게는 2,2,2-트리플루오로에탄올 또는 2,2,3,3-테트라플루오로-1-프로판올과 같은 불소화된 알콜과 같은 용매, 및 이들의 혼합물을 스핀 코팅시킴으로써 적용된다.
금속성 반사층은 바람직하게는 진공하에 스퍼터링(sputtering) 또는 증착에 의해 적용된다. 스퍼터링 기술은 특히 금속성 반사층 용도의 지지체로의 고도의 접착시 바람직하다. 이러한 기술은 문헌[참조: J.L. Vossen and W. Kern, "Thin Film Processes", Academic Press, 1978] 뿐만 아니라 당해 기술 분야[참조 문헌: EP 제712 904호]에 상세히 기술되어 있다.
신규한 기록 매체의 구조는 원칙적으로 판독 방법에 따르는데; 공지된 작용 원칙은 투과 또는, 바람직하게는 반사에서의 변화 측정이다.
기록 물질이 반사에서의 변화에 따라 제조될 경우, 다음의 구조: 투명한 지지체/기록 층(하나 이상의 층)/반사층 및, 유용할 경우, 보호층(반드시 투명할 필요는 없음), 또는 지지체(반드시 투명할 필요는 없음)/반사층/기록층 및, 유용할 경우, 투명한 보호층이 사용가능한 구조의 예이다. 전자의 경우에 광은 지지체 쪽으로부터 조사되는 반면, 후자의 경우에 조사는 기록층 쪽으로부터 또는, 적합할 경우, 보호층 쪽으로부터 일어나기 쉽다. 둘 다의 경우에 광검파기는 광원과 동일한 면에 존재한다. 본 발명에 따라 사용될 기록 물질을 전자에 따라 제조하는 것이 일반적으로 바람직하다.
기록 물질이 광 투과에서의 변화에 따라 제조될 경우, 다음의 대체 구조: 투명한 지지체/기록 층(하나 이상의 층) 및, 유용할 경우, 투명한 보호층이 적합한 예이다. 또한 기록용 및 판독용 광은 지지체 쪽 또는 기록층 쪽으로부터 또는, 적합할 경우, 보호층 쪽으로부터 조사될 수 있는데, 이러한 경우에 광검파기는 항상 반대편에 존재한다.
정보의 기록(새김, 정보기록) 및 판독은 바람직하게는 레이저 조사를 사용하여 수행된다. 적합한 레이저의 예는 통상적인 반도체 이극관 레이저, 전형적으로 635, 650, 670, 680, 780 또는 830nm 또는 390 내지 430nm의 파장을 사용하는 GaAsAI, InGaAIP, GaAs 또는 GaN 레이저 이극관, 또는 기체/이온 레이저, 전형적으로 602, 612, 633, 647 또는 442 및 457nm의 파장을 사용하는 He/Ne, Kr, HeCd 또는 Ar 레이저이다.
기록은 바람직하게는 펄스 주기-변조되고 기록층에 집속되는 레이저 조사를 사용하여 길이가 다양한 피트를 새김으로써 수행된다. 촛점 구조 및 레이저 효능에 따라, 기록층은 예를 들어, 0.01 내지 100m/s, 바람직하게는 1 내지 10m/s이다.
정보의 판독은 바람직하게는 저용량의 레이저 조사 및 광검파기를 사용하여 반사 또는 투과의 입체적 분해 측정에 의해 수행되는데, 기록용 파장의 레이저 조사를 사용할 수 있다는 점이 특히 유리하므로, 2차 레이저 장치를 사용할 필요가 없다. 따라서, 본 발명의 바람직한 양태에서 정보는 동일한 파장에서 기록되고 판독된다. 판독시, 레이저의 용량은 일반적으로 기록용 레이저 조사에 대해, 예를 들어, 10 내지 50배로 감소한다. 본 발명에 따라 사용되는 기록 물질에서, 정보는 1회 또는 수 회에 걸쳐 판독될 수 있다. 적합한 광검파기는 바람직하게는 PIN 및 AV 광이극관 뿐만 아니라 CCD(전자 결합 소자; charge-coupled device)를 포함한다.
신규한 방법을 통해 정보를 높은 신뢰성 및 내구성으로 기록할 수 있고 이러한 기록물은 탁월한 기계적 및 열적 안정성, 높은 광안정성 및 광학 피트의 날카로운 모서리 영역에 의해 구별된다. 특별한 장점은 높은 신호/잡음 비 뿐만 아니라 심지어는, 놀랍게도, 고속(≥4×)에서도 신호를 흠집없이 기록 및 판독하게끔 하는 높은 광 해상도이다(지터가 거의 없음).
신규한 매체는 특히 WORM 유형의 광학 정보 매체이다. 이는 예를 들어, 작동성 CD(콤팩트 디스크; compact disc)로서, 컴퓨터용 저장 물질로서 또는 신분증 및 안전 카드로서, 또는 홀로그램과 같은 회절 광학 소자의 생산용으로 사용될 수 있다.
따라서 본 발명은 또한 정보의 광학적 기록, 저장 및 재생을 위한, 회절 광학 소자의 제조를 위한 또는 홀로그램의 기록을 위한 신규한 기록 매체의 용도에 관한 것이다. 기록 및 재생은 바람직하게는 400 내지 500nm 또는 특히 바람직하게는 600 내지 830nm의 파장 범위에서 발생한다.
하기 실시예는 본 발명을 보다 상세히 예증한다:
실시예 A1
온도계, 적가 깔때기, 환류 냉각기 및 질소 입구가 장착된 100㎖ 용량의 3구-플라스크를 분자 시이브 4A에서 건조된 디메틸포름아미드(DMF) 2.19g(30m㏖)로 충전시키고, 불활성 기체 대기하에 교반과 동시에 3℃로 냉각시킨다. 10분에 걸쳐, 신선하게 증류된 포스포릴 클로라이드(POCl3) 4.60g(30m㏖)을 적가한 후에 청정한 무색 액체를 23℃에서 30분동안 교반한다. 이어서, 클로로벤젠(분자 시이브 4A 에서 건조됨) 50㎖내 테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐 프탈로시아닌(문헌[참조: EP 제712 904호]에 따라 제조됨) 5.38g(5m㏖)을 가하고 혼합물을 6시간동안 95℃로 가열한다. 23℃로 냉각시킨 후, 물 20㎖내 아세트산나트륨 5.5g을 가하고 혼합물을 15분동안 교반한다. 혼합물을 에틸 아세테이트 200㎖로 추출하고 유기상을 10% NaHCO3용액 50㎖ 및 NaCl 포화 용액 3×50㎖로 세정한 후에 MgSO4에서 건조시키고 여과시켜 증발 농축시킨다. 녹색 잔사를 섬광 크로마토그래피(Ø 9㎝, 헥산/에틸 아세테이트=9:1)로 정제시켜 N-메틸피롤리돈(NMP)에서 λ최대가 703nm인 녹색 고체 모노포밀-테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐 프탈로시아닌 4.62g을 수득한다.
IR 스펙트럼(KBr): 2960-2880(s), 1680(s), 1590(s), 1490(s).
MALDI MS: (M+H)+=1104.7 Da
NMR(500MHz, CDCl3)은 생성물이 선택적으로 모노포밀화되고, 하나의 단일 알데히드 그룹이 알콕시 라디칼 중 하나의 파라-위치에 존재함을 보여준다.
실시예 A2
전자 교반기, 온도계, 적가 깔때기, 환류 냉각기 및 질소 입구가 장착된 50㎖ 용량의 3구-플라스크를 DMF(분자 시이브 4A에서 건조됨) 1.14g(15.56m㏖)로 충전시킨 후에 불활성 기체 대기하에 교반과 동시에 3℃로 냉각시킨다. 10분에 걸쳐, POCl3(신선하게 증류됨) 2.39g(15.56m㏖)을 적가한 후에 청정한 무색 액체를 23℃에서 30분동안 교반한다. 이어서, 클로로벤젠(분자 시이브 4A 에서 건조됨) 20㎖내 테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)구리 프탈로시아닌(문헌[참조: EP 제712 904호]에 따라 제조됨) 2g(1.95m㏖)을 가하고 혼합물을 6.5시간동안 95℃로 가열한다. 23℃로 냉각시킨 후, 물 8㎖내 아세트산나트륨 2g을 가하고 혼합물을 30분동안 교반한다. 혼합물을 에틸 아세테이트 100㎖로 추출하고 유기상을 10% NaHCO3용액 50㎖ 및 NaCl 포화 용액 2×50㎖로 세정한 후에 MgSO4에서 건조시키고 여과시켜 증발 농축시킨다. 녹색 잔사를 섬광 크로마토그래피(Ø 4㎝, 헥산/에틸 아세테이트=11:1)로 정제시켜 λ최대(NMP)가 714nm인 녹색 고체 모노포밀-테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)구리 프탈로시아닌 0.79g(이론치의 38.5%)을 수득한다.
IR 스펙트럼(KBr): 3700-3300(vw), 2960-2880(s), 1680(s), 1590(s), 1490(s).
실시예 A3
전자 교반기, 온도계, 적가 깔때기, 환류 냉각기 및 질소 입구가 장착된 50㎖ 용량의 3구-플라스크를 DMF(분자 시이브 4A에서 건조됨) 1.20g(16.47m㏖)로 충전시키고 불활성 기체 대기하에 교반과 동시에 3℃로 냉각시킨다. 10분에 걸쳐, POCl3(신선하게 증류됨) 2.53g(16.47m㏖)을 적가한 후에 청정한 무색 액체를 23℃에서 30분동안 교반한다. 이어서, 클로로벤젠(분자 시이브 4A 에서 건조됨) 20㎖내 테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)프탈로시아닌(문헌[참조: M. J. Cook, J. Chem. Soc. Perkin Trans.Ⅰ, 2453 (1988)]에 따라 제조됨) 2g(2.06m㏖)을 가하고 혼합물을 5.5시간동안 95℃로 가열한다. 23℃로 냉각시킨 후, 물 8㎖내 아세트산나트륨 2g을 가하고 혼합물을 30분동안 교반한다. 혼합물을 에틸 아세테이트 100㎖로 추출하고 유기상을 10% NaHCO3용액 50㎖ 및 NaCl 포화 용액 2×50㎖로 세정한 후에 MgSO4에서 건조시키고 여과시켜 증발 농축시킨다. 녹색 잔사를 섬광 크로마토그래피(Ø 4㎝, 헥산/에틸 아세테이트=12:1)로 정제시켜 λ최대(NMP)가 728nm인 녹색 고체 금속을 함유하지 않은 모노포밀-테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)프탈로시아닌 1.21g(이론치의 58.9%)을 수득한다.
IR 스펙트럼(KBr): 3700-3300(vw), 2960-2880(s), 1680(s), 1590(s), 1490(s).
실시예 A4
전자 교반기, 온도계 및 질소 입구가 장착된 250㎖ 용량의 3구-플라스크를 1:1의 에탄올/테트라하이드로푸란(THF)내 실시예 A1의 모노포밀화된 생성물 1.58g(1.43m㏖)로 충전시킨 후에 불활성 기체 대기하에 교반과 동시에 3℃로 냉각시킨다. 이어서 붕수소화나트륨 189㎎(5.00m㏖)을 가하고 용액을 23℃로 가온하고 상기 온도에서 1.5시간동안 교반한다. 반응 혼합물을 물 100㎖에 붓고 침전된 생성물을 여과하고 물 3×50㎖로 세정한다. 녹색 잔사를 섬광 크로마토그래피(Ø 4㎝, 헥산/에틸 아세테이트=4:1)로 정제시켜 λ최대(NMP)가 706nm인 녹색 고체 모노(하이드록시메틸)-테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐 프탈로시아닌 1.27g(이론치의 80.1%)을 수득한다.
IR 스펙트럼(KBr): 3700-3120(w), 2960-2880(s), 1740(w), 1600(s), 1590(s).
MALDI MS: (M+H)+=1106.7 Da
NMR(500MHz, CDCl3)은 알콕시 라디칼 중 하나의 파라-위치에 존재하는 하나의 단일 알데히드 그룹을 보여준다.
실시예 A5
전자 교반기, 온도계 및 질소 입구가 장착된 250㎖ 용량의 3구-플라스크를 1:1의 에탄올/THF내 실시예 A2의 모노포밀화된 생성물 0.79g(0.74m㏖)로 충전시키고 불활성 기체 대기하에 교반과 동시에 5℃로 냉각시킨다. 이어서 붕수소화나트륨 98㎎(2.59m㏖)을 가하고 용액을 23℃로 가온하고 상기 온도에서 2.5시간동안 교반한다. 이어서 반응 혼합물을 물 100㎖에 붓고 에틸 아세테이트 200㎖로 추출한다. 유기상을 NaCl 포화 용액 3×50㎖로 세정한 후에 MgSO4에서 건조시키고 여과하여 증발 농축시킨다. 녹색 잔사를 섬광 크로마토그래피(Ø 4㎝, 헥산/에틸 아세테이트=5:1)로 정제시켜 λ최대(NMP)가 716nm인 녹색 고체 모노(하이드록시메틸)-테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)구리 프탈로시아닌 0.57g(이론치의 72.5%)을 수득한다.
시차 열량계[퍼킨 엘머(Perkin Elmer) DSC-7, ,알루미늄 도가니, 가열 속도 10℃/분]에서, 수득된 화합물은 140 내지 177℃에서 유리 전이를 일으키는 적은 내재성 열 유동을 나타낸다.
IR 스펙트럼(KBr): 3700-3120(w), 2960-2880(s), 1590(s), 1500(s), 1490(s).
실시예 A6
전자 교반기, 온도계 및 질소 입구가 장착된 250㎖ 용량의 3구-플라스크를 1:1의 에탄올/THF내 실시예 A3의 모노포밀화된 생성물 1.21g(1.21m㏖)로 충전시키고 불활성 기체 대기하에 교반과 동시에 4℃로 냉각시킨다. 이어서, 붕수소화나트륨 160㎎(4.24m㏖)을 가하고 용액을 23℃로 가온하고 상기 온도에서 1시간동안 교반한다. 반응 혼합물을 물 100㎖에 붓고 에틸 아세테이트 200㎖로 추출한다. 유기상을 NaCl 포화 용액 3×50㎖로 세정한 후에 MgSO4에서 건조시키고 여과시켜 증발 농축시킨다. 녹색 잔사를 섬광 크로마토그래피(Ø 4㎝, 헥산/에틸 아세테이트=6:1)로 정제시켜 λ최대(NMP)가 716nm이고 사이드 밴드가 742nm인 녹색 고체 모노(하이드록시메틸)-테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)프탈로시아닌 1.11g(이론치의 91.6%)을 수득한다.
IR 스펙트럼(KBr): 3700-3120(w), 2960-2880(s), 1590(s), 1490(s).
NMR(300MHz, CDCl3)은 알콕시 라디칼 중 하나의 파라-위치에 존재하는 하나의 단일 알데히드 그룹을 보여준다.
실시예 A7
전자 교반기, 온도계 및 질소 입구가 장착된 50㎖ 용량의 3구-플라스크를 실시예 A5의 생성물 0.5g(0.47m㏖), 4-디메틸아미노피리딘 10㎎, 피리딘 10㎖ 및 무수아세트산 5㎖로 충전시키고 녹색 용액을 23℃에서 2시간동안 교반한다. 이어서 상기 혼합물을 물 30㎖에 붓고 침전된 생성물을 여과 분리시키고 물로 완전 세정한다. 녹색 잔사를 섬광 크로마토그래피(Ø 4㎝, 헥산/에틸 아세테이트=9:1)로 정제시켜 λ최대(NMP)가 714nm인 녹색 고체 모노(아세톡시메틸)-테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)구리 프탈로시아닌 0.42g(이론치의 80.9%)을 수득한다.
IR 스펙트럼(KBr): 2960-2880(s), 1740(m), 1590(s), 1500(s), 1490(s).
실시예 A8
전자 교반기, 온도계, 환류 냉각기, 질소 입구 및 오일욕이 장착된 50㎖ 용량의 3구-플라스크를 실시예 A6의 생성물 0.5g(0.50m㏖), 아세트산아연 2수화물 1.10g(5m㏖) 및 디클로로메탄 20㎖로 충전시키고 녹색 용액을 불활성 기체 대기하에 교반과 동시에 5시간동안 환류시킨다. 이어서 용액을 증발 농축시키고 잔사를 섬광 크로마토그래피(Ø 4㎝, 헥산/에틸 아세테이트=10:1)로 정제시켜 λ최대(NMP)가 715nm인 녹색 고체 모노(하이드록시메틸)-테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)아연 프탈로시아닌 0.28g(이론치의 52.2%)을 수득한다.
IR 스펙트럼(KBr): 3700-3100(m), 2960-2880(s), 1590(s), 1490(s).
원소 분석: 이론치 6.1% 아연, 실측치 5.99% 아연.
실시예 A9
전자 교반기, 온도계, 적가 깔때기, 환류 냉각기 및 질소 입구가 장착된 250㎖ 용량의 3구-플라스크를 DMF(분자 시이브 4A에서 건조됨) 4.40g(60.2m㏖)로 충전시키고 불활성 기체 대기하에 교반과 동시에 3℃로 냉각시킨다. 5분에 걸쳐, POCl3(신선하게 증류됨) 5.5㎖(60.2m㏖)을 적가한 후에 청정한 무색 액체를 23℃에서 30분동안 교반한다. 클로로벤젠(분자 시이브 4A 에서 건조됨) 80㎖내 테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)아연 프탈로시아닌(문헌[참조: EP 제492 508호]에 따라 제조됨) 7.8g(7.53m㏖)을 가한 후, 혼합물을 6시간동안 95℃로 가열한다. 23℃로 냉각시킨 후, 물 34㎖내 아세트산나트륨 7.8g을 가하고 혼합물을 30분동안 교반한다. 혼합물을 에틸 아세테이트 250㎖로 추출하고 유기상을 10% NaHCO3용액 100㎖ 및 NaCl 포화 용액 3×50㎖로 세정한 후에 MgSO4에서 건조시키고 여과시켜 증발 농축시켜 λ최대(NMP)가 728nm인 녹색 고체 6.89g을 수득하는데, 이는 모노- 및 디포밀-테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)프탈로시아닌의 금속-비함유 혼합물이다.
전자 교반기, 온도계 및 질소 입구가 장착된 1ℓ 용량의 3구-플라스크를 조 생성물 6.89g(6.89m㏖) 및 1:1의 에탄올/THF 500㎖로 충전시키고 불활성 기체 대기하에 교반과 동시에 4℃로 냉각시킨다. 이어서, 붕수소화나트륨 164g(38.7m㏖)을 가하고 용액을 23℃로 가온하고 상기 온도에서 30분동안 교반한다. 반응 혼합물을 물 250㎖에 붓고 에틸 아세테이트 400㎖로 충전시킨다. 유기상을 NaCl 포화 용액 3×100㎖로 세정한 후에 MgSO4에서 건조시키고 여과시켜 증발 농축시킨다. 녹색 잔사를 섬광 크로마토그래피(Ø 9㎝, 헥산/에틸 아세테이트=6:1)로 정제시켜 녹색 고체 모노하이드록시메틸-테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)프탈로시아닌 4.70g(이론치의 61.5%)를 수득하는데, 이는 DC, UV 및 NMR에 따라 실시예 A6의 생성물 뿐만 아니라 디(하이드록시메틸)-테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)프탈로시아닌 0.19g(이론치의 2.4%)에 동일하다[MALDI-MS: (M+H)+=1033.2 Da].
실시예 A10
전자 교반기, 온도계, 적가 깔때기, 질소 입구 및 환류 냉각기가 장착된 50㎖ 용량의 3구-플라스크를 DMF(분자 시이브 4A에서 건조됨) 0.83㎖(10.9m㏖)로 충전시키고 불활성 기체 대기하에 교반과 동시에 3℃로 냉각시킨다. 5분에 걸쳐, POCl3(신선하게 증류됨) 1㎖(10.9m㏖)을 적가한 후에 청정한 무색 액체를 23℃에서 30분동안 교반한다. 이어서, 클로로벤젠 20㎖내 실시예 A1의 모노포밀화된 생성물 2g(1.81m㏖)을 적가하고 반응 혼합물을 95℃에서 3.5시간동안 가열한다. 23℃로 냉각시킨 후, 물 8㎖내 아세트산나트륨 2g을 가하고 혼합물을 30분동안 교반한다. 혼합물을 에틸 아세테이트 250㎖로 추출하고 유기상을 10% NaHCO3용액 50㎖ 및 NaCl 포화 용액 3×50㎖로 세정한 후에 MgSO4에서 건조시키고 여과시켜 증발 농축시킨다. 녹색 잔사를 섬광 크로마토그래피(Ø 9㎝, 헥산/에틸 아세테이트=8:1)로 정제시켜 λ최대(NMP)가 704nm이고 Rf(실리카 겔, 헥산/에틸 아세테이트 4:1)가 0.16인 녹색 고체 디포밀-테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐 프탈로시아닌 0.5g(이론치의 24.4%)을 수득한다.
IR (KBr): 3000-2840(s), 1690(s), 1590(s), 1500(s).
MALDI-MS: (M+H)+=1132.9 Da.
NMR(300MHz, CDCl3)은 2개의 알데히드 작용을 보여준다(12.55-12.49ppm, m, 2H).
실시예 A11
전자 교반기, 기체 입구관 및 온도계가 장착된 50㎖ 용량의 3구-플라스크를 THF 20㎖내 실시예 A1의 모노포밀화된 생성물 1g(0.91m㏖) 및 피라졸 37㎎(0.54m㏖)로 충전시키고 교반과 동시에 3℃로 냉각시킨다. 10분에 걸쳐, 수소화나트륨 48㎎(1.09m㏖)을 증가분에 가한 후에 녹색 용액을 23℃에서 기류하에 24시간동안 교반한다. 용액을 1N HCl로 산성화된 빙수 60㎖에 붓는다. 여액을 섬광 크로마토그래피(Ø 2㎝, 헥산/에틸 아세테이트=4:1)로 정제시켜 λ최대(NMP)가 707nm인 녹색 고체 모노카복시-테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐 프탈로시아닌 0.3g(이론치의 29.6%)을 수득한다.
IR (KBr): 3640-3100(s), 2980-2820(m), 1710(m), 1630(m), 1590(m), 1480(m).
MALDI-MS: (M+H)+=1121.1 Da.
실시예 A12
전자 교반기, 온도계 및 질소 입구가 장착된 250㎖ 용량의 3구-플라스크를 클로로벤젠 50㎖내 테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐 프탈로시아닌(문헌[참조: EP 제703 280호]) 및 아세틸 클로라이드 0.47g(6m㏖)으로 충전시킨다. 혼합물을 아르곤 대기하에 교반과 동시에 3℃로 냉각시킨다. 이어서, 클로로벤젠 15㎖내 삼염화주석 0.65g(2.5m㏖)을 30분에 걸쳐 적가하고 혼합물을 23℃에서 5시간동안 교반한다. 이어서 3N HCl 50㎖를 가하고 5분동안 교반한다. 여액을 에틸 아세테이트 300㎖에 용해시키고, 상을 분리하고 유기상을 1N NaOH 100㎖ 및 NaCl 포화 용액 3×100㎖으로 중화될 때까지 세정한다. 용액을 MgSO4에서 건조시키고 여과시켜 증발 농축시킨다. 여전히 에덕트를 함유하는 조 생성물을 섬광 크로마토그래피(Ø 9㎝, 헥산/에틸 아세테이트=6:1)로 정제시켜 λ최대(NMP)가 704nm인 녹색 고체 모노아세틸-테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐 프탈로시아닌 0.59g(이론치의 10.5%)을 수득한다.
IR (KBr): 3000-2840(m), 1690(m), 1590(m), 1490(m).
MALDI-MS: (M+H)+=1120.0 Da.
NMR(500MZ, CDCl3)은 아세틸 그룹이 알콕시 그룹 중 하나에 파라-위치에서 선택적으로 혼입되었음을 보여준다.
실시예 B1
메틸사이클로헥산내 실시예 A7의 생성물의 2% 용액을 깊이 180nm 및 폭 0.5㎛의 홈을 사용하여 직경이 12㎝인 1.2mm 폴리카보네이트 기판에 서로 1.6㎛ 거리에서 스핀 코팅시킨다. 금 층을 상기 피층에 증착시킨 후에 자외선-처리 보호막을 이에 적용시킨다. 780nm에서 방출하는 반도체 이극관을 사용하여 2배(2×) 또는 4배(4×)의 기록 속도로 필립스(Philips) CD-R 동력 장치상의 기록층에 표시를 새긴다. 1배(1×)의 판독 속도로 필립스 CD920JT 판독 시험 장치에서 측정된 최대 지터(jitter)는 문헌[참조: EP 제703 281호]에 따라 제조된 테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)구리 프탈로시아닌의 경우보다 현저하게 우수하다:
광학 밀도 2×: 지터최대[ns] 4×: 지터최대[ns]
0.50 42 35
0.57 35 30
실시예 B2
메틸사이클로헥산내 실시예 A5의 생성물의 2% 용액을 깊이 180nm 및 폭 0.5㎛의 홈을 사용하여 직경이 12㎝인 1.2mm 폴리카보네이트 기판에 서로 1.6㎛ 거리에서 스핀 코팅시킨다. 금 층을 상기 피층에 증착시킨 후에 자외선-처리 보호막을 이에 적용시킨다. 780nm에서 방출하는 반도체 이극관을 사용하여 1배(1×)의 기록 속도로 필립스 CD-R 동력 장치상의 기록층에 표시를 새긴다. 1배(1×)의 판독 속도로 필립스 CD920JT 판독 시험 장치에서 측정된 최대 지터는 문헌[참조: EP 제703 281호]에 따라 제조된 테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)구리 프탈로시아닌의 경우보다 현저하게 우수하다:
레이저 강도[mW] 1×: 지터최대[ns]
5.0 35
5.6 30
6.2 30
6.8 27
7.5 27
8.1 27
8.8 26
9.5 25

Claims (14)

  1. 구형의 탄소 골격에 부착된 하나 이상의 비치환되거나 치환된 포밀, 카보닐, 하이드록시메틸 또는 카복실 그룹을 포함하는, 프탈로시아닌, 또는 2가 금속, 옥소금속, 할로게노금속 또는 하이드록시금속과 이의 금속 착물.
  2. 제1항에 있어서, 화학식 Ⅰ의 화합물.
    화학식 Ⅰ
    상기식에서,
    M은 2가 금속, 옥소금속, 할로게노금속 또는 하이드록시금속, 또는 2개의 수소 원자이고,
    X는 할로겐이거나, 페닐 환 상의 인접 위치에 존재하는 2개의 X는 부가적인 페닐 환이 수득될 수 있도록 -C=C-C=C- 브릿지를 형성하고,
    Y는 -OR1, -OOC-R2, -NHR1, -N(R1)R2또는 -SR1이고,
    Z는 -CHO, -CH(OR3)OR4, -CH=N-OH, -CH=N-OR3, -CH=N-NHR5, -CH=N-N(R3)R5, -CH2OH, -CH2OR3, -CH2OOC-R3, -CO-R3, -COOH 또는 -COOR3이고,
    x는 0 또는 1 내지 8이고,
    z에 따르는 y는 z 내지 4이고,
    z는 1 내지 4이고,
    R1내지 R5는 각각 서로 독립적으로 비치환되거나 할로겐, 하이드록시, C1-C20알콕시, C1-C20알킬아미노 또는 C2-C20디알킬아미노로 치환되고 -O-, -S-, -NH- 또는 -NR6-에 의해 연결될 수 있는 C1-C20알킬; C1-C20사이클로알킬, C1-C20알케닐, C1-C20사이클로알케닐, C1-C20알키닐, C1-C20사이클로알키닐, C6-C18아릴 또는 C7-C18아르알킬이거나,
    R1및 R2는 함께 비치환되거나 옥소, 하이드록시 또는 C1-C20카복시에 의해 치환되고 -O-, -S-, -NH- 또는 -NR6-에 의해 연결될 수 있는 C2-C20알킬렌이거나,
    R3및 R4는 함께 비치환되거나 할로겐, 하이드록시, C1-C20알콕시, C1-C20알킬아미노 또는 C2-C20디알킬아미노로 치환된 C2-C20알킬렌이고,
    R6은 C1-C20알킬, C1-C20사이클로알킬, C1-C20알케닐, C1-C20사이클로알케닐, C1-C20알키닐, C1-C20사이클로알키닐, C6-C18아릴 또는 C7-C18아르알킬이고,
    2가 옥소금속, 할로게노금속 또는 하이드록시금속은 부가적으로 하나의 중성 분자에 배위될 수 있고, 2가 금속 원자는 부가적으로 하나 또는 둘의 중성 분자에 배위될 수 있는데, 이들 중성 분자는 서로에 대해 독립적이거나 예속적이고 N, O 및 S로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유한다.
  3. 제2항에 있어서, M이 H2, Cu(Ⅱ), Zn(Ⅱ), Ni(Ⅱ), Pd(Ⅱ), Pt(Ⅱ), Mn(Ⅱ) 또는 Co(Ⅱ), 바람직하게는 H2, Cu(Ⅱ), Zn(Ⅱ) 또는 Pd(Ⅱ), 특히 바람직하게는 Cu(Ⅱ)인 화합물.
  4. 제2항에 있어서, X가 클로로 또는 브로모, 바람직하게는 브로모인 화합물.
  5. 제2항에 있어서, Y가 -OR1또는 -OOC-R2, 바람직하게는 -OR인 화합물.
  6. 제2항에 있어서, Z가 -CHO, -CH(OR3)OR4, -CH2OH, -CH2OOC-R3, -CO-R3, -COOH 또는 -COOR3, 바람직하게는 -CHO, -CH(OR3)OR4, -CH2OH, -CH2OOC-R3또는 -CO-R3인 화합물.
  7. 제2항에 있어서, x가 0이고, y가 2, 3 또는 4이고, z가 1 또는 2이고, Y가 -OR1이고, 이때 R1은 여러 측쇄를 갖는 2급 비치환된 C4-C8알킬인 화합물.
  8. 제7항에 있어서, y가 4인 화합물.
  9. 제2항에 있어서, 화학식 Ⅱa, Ⅱb, Ⅱc 또는 Ⅱd의 화합물, 또는 화학식 Ⅱa, Ⅱb, Ⅱc 및 Ⅱd의 화합물로부터 선택된 둘 이상의 화합물의 혼합물.
    화학식 Ⅱa
    화학식 Ⅱb
    화학식 Ⅱc
    화학식 Ⅱd
    상기식에서,
    M은 2가 금속, 옥소금속, 할로게노금속 또는 하이드록시금속, 또는 2개의 수소 원자이고,
    X1내지 X4및 X1' 내지 X4'는 각각 서로 독립적으로 수소 또는 할로겐이고,
    Y1내지 Y4는 각각 서로 독립적으로 수소 또는 -OR1이고,
    Z1은 -CHO, -CH(OR3)OR4, -CH=N-OH, -CH=N-OR3, -CH=N-NHR5, -CH=N-N(R3)R5, -CH2OH, -CH2OR3, -CH2OOC-R3, -CO-R3, -COOH 또는 -COOR3이고,
    Z2내지 Z4는 각각 서로 독립적으로 수소 또는 그룹 Z1이되, 단 수소가 아닌 치환체 Y1내지 Y4의 수는 수소가 아닌 치환체 Z1내지 Z4의 수와 적어도 동일하고,
    R1내지 R5는 제2항에서 정의된 바와 같고, 2가 옥소금속, 할로게노금속 또는 하이드록시금속은 부가적으로 하나의 중성 분자에 배위될 수 있고, 2가 금속 원자는 부가적으로 하나 또는 둘의 중성 분자에 배위될 수 있는데, 이들 중성 분자는 서로에 대해 독립적이거나 예속적이며 N, O 및 S로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유한다.
  10. 화학식 Ⅳ의 화합물 1㏖을 디메틸포름아미드 및 포스포릴 클로라이드 각각 z㏖과 반응시켜 화학식 Ⅲ의 화합물을 제조하는 방법.
    화학식 Ⅲ
    화학식 Ⅳ
    상기식에서,
    M, X, Y, x, y 및 z는 화학식 Ⅰ에서 정의된 바와 같다.
  11. 제10항에 있어서, 먼저 동몰량의 디메틸포름아미드와 포스포릴 클로라이드를 불활성 기체하에 반응시킨 후, 불활성 용매에 용해된 포밀화되는 프탈로시아닌을 가한 다음, 온도를 상승시키는 방법.
  12. 제11항에 있어서, 온도를 50 내지 100℃로 상승시키는 방법.
  13. 기판, 제1항에 따른 화합물을 포함하는 기록층 및 반사 또는 부분적 반사층을 포함하는 광학 기록 매체.
  14. 정보의 광학적 기록, 저장 및 재생을 위한, 회절 광학 소자의 제조를 위한 또는 홀로그램의 기록을 위한, 제13항에 따른 기록 매체의 용도.
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Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000017275A1 (de) 1998-09-21 2000-03-30 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Substituierte phthalocyanine
EP1247655B1 (en) * 1999-12-28 2006-05-31 Mitsui Chemicals, Inc. Optical recording medium and novel azaporphyrin compounds
JP2002074740A (ja) * 2000-08-25 2002-03-15 Hayashibara Biochem Lab Inc 光記録媒体
WO2002025648A1 (de) * 2000-09-21 2002-03-28 Bayer Aktiengesellschaft Optischer datenträger enthaltend in der informationsschicht einen phthalocyaninfarbstoff als lichtabsorbierende verbindung
DE60234687D1 (de) * 2001-04-17 2010-01-21 Basf Se Metallocenylphthalocyanine als optische aufzeichnungsmedien
EP1271500A1 (en) * 2001-06-28 2003-01-02 Fuji Photo Film Co., Ltd. Optical information recording method and medium
US6726755B2 (en) 2002-02-08 2004-04-27 Xerox Corporation Ink compositions containing phthalocyanines
US6472523B1 (en) 2002-02-08 2002-10-29 Xerox Corporation Phthalocyanine compositions
US6476219B1 (en) * 2002-02-08 2002-11-05 Xerox Corporation Methods for preparing phthalocyanine compositions
JP4390707B2 (ja) * 2002-11-28 2009-12-24 チバ ホールディング インコーポレーテッド ハロゲンを含まない着色剤を含む感光性樹脂組成物
CN100336870C (zh) * 2003-04-07 2007-09-12 丰笙科技工业股份有限公司 酞菁染料及其制法
US7077896B2 (en) * 2003-06-13 2006-07-18 Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. Pigment composition and use thereof in plastic
EP1621584B1 (en) 2004-07-29 2007-01-24 Clariant Finance (BVI) Limited Amino antipyrine based azo ligands and their metal complexes for use as optical recording media
US8057589B2 (en) * 2006-12-21 2011-11-15 Xerox Corporation Phase change inks
US20080154032A1 (en) * 2006-12-21 2008-06-26 Xerox Corporation Colorant compounds
JP4840179B2 (ja) * 2007-02-09 2011-12-21 Ｔｄｋ株式会社 ホログラム記録材料、その製造方法及びホログラム記録媒体
JP2008260248A (ja) * 2007-04-13 2008-10-30 Fujifilm Corp 光情報記録媒体および情報記録再生方法
US20080293932A1 (en) * 2007-05-25 2008-11-27 Tube Smith Technology Co.,Ltd. Phthalocyanine recording layer of optical recording media
DE102009043862A1 (de) * 2009-08-26 2011-08-04 Karlsruher Institut für Technologie, 76131 Acylierte Phthalocyanine
WO2023241950A1 (en) 2022-06-13 2023-12-21 Basf Se Mixtures of compounds having improved solubility for use as markers

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE726227C (de) * 1938-02-16 1942-10-09 Ig Farbenindustrie Ag Verfahren zur Herstellung von Carbonsaeurechloriden und Carbonsaeuren
DE1074175B (de) * 1954-11-11 1960-01-28 Bergwerksverband G.m.b.H., Essen-Kray Verfahren zur Herstellung basenlöslicher Pigmentfarbstoffe
NL229728A (ko) * 1957-07-19
US3006921A (en) * 1957-12-31 1961-10-31 Du Pont Trifluoromethyl substituted phthalocyanines
CH384114A (de) * 1959-09-29 1964-11-15 Ciba Geigy Verfahren zur Herstellung flockulationsbeständiger Phthalocyaninpigmente
GB1194220A (en) * 1967-10-16 1970-06-10 Ici Ltd Crystallisation Process.
DE2020812B2 (de) * 1970-04-28 1974-08-08 Mita Industrial Co. Ltd., Osaka (Japan) Elektrophotographischer Suspensionsentwickler
JPS61162396A (ja) * 1985-01-10 1986-07-23 Sumitomo Chem Co Ltd 昇華転写体
JPS63188148A (ja) * 1987-01-30 1988-08-03 Mita Ind Co Ltd 電子写真感光体用電荷輸送材料
DE3856472T2 (de) * 1987-08-05 2001-10-31 Canon K.K., Tokio/Tokyo Datenaufzeichnungsträger
DE68928559T2 (de) * 1988-12-15 1998-06-18 Mitsui Toatsu Chemicals Absorbiermittel im nahen Infrarot und Anzeige-/Aufzeichnungsmaterialien, die daraus hergestellt sind
US5350843A (en) * 1990-11-06 1994-09-27 Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated Halogenated phthalocyanine compound, method for preparing same
CA2072261C (en) * 1990-11-06 1995-12-12 Hisato Itoh Halogenated phthalocyanine compound, method for preparing same and optical recording medium using same
CA2058227C (en) * 1990-12-26 2001-03-06 Takahisa Oguchi Method of preparing alkoxyphthalocyanine
SG52477A1 (en) * 1991-04-26 1998-09-28 Mitsui Chemicals Inc Optical recording medium
DE59508223D1 (de) * 1994-09-23 2000-05-31 Ciba Sc Holding Ag Mit Phosphorhaltigen Gruppen substituierte Phthalocyanine
DE59507879D1 (de) * 1994-09-23 2000-04-06 Ciba Sc Holding Ag Verfahren zur Herstellung von bromierten, Alkoxy-substituierten Metall-Phthalocyaninen
EP0703280B1 (de) * 1994-09-23 2000-03-01 Ciba SC Holding AG Isomerengemische von alkoxysubstituierten Phtalocyaninen und Verfahren zu deren Herstellung

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