KR20000028990A - 기화장치 - Google Patents

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Abstract

필름-피복설비에서 필름(8) 위에 길다란 띠 모양으로 이형제 띠를 기화증착(氣化蒸着) 시키기 위한 기화장치(氣化裝置)는 전열기(5)로 가열되는 이형제(離型劑) 기화용기(氣化容器)(1)와 증발하는 이형제 증기를 필름 쪽으로 분사하기 위한 배출구(7)들이 형성되어있는 노즐헤드(nozzle head)(3)를 갖고 있다. 상기 노즐헤드(3)는 폐쇄된 중공체(中空體)로서 형성되고, 상기 기화용기(1)는 폐쇄장치(4)를 갖고있는 연결관을 통하여 노즐헤드(3)와 연결되며, 그 폐쇄장치(4)에 의하여 폐쇄될 수 있다.

Description

기화장치{VAPORIZATION EQUIPMENT}
본 발명은 전열기로 가열되는 이형제(離型劑) 기화용기(氣化容器)와 증발하는 이형제 증기를 필름 쪽으로 분사하기 위한 배출구들이 형성되어있는 노즐헤드(nozzle head)를 갖고있는 필름-피복설비에서 필름 위에 길다란 띠 모양으로 이형제 띠를 기화증착(氣化蒸着) 시키기 위한 기화장치(氣化裝置)에 관한 것이다.
독일특허 DE 43 09 717은 상기와 같은 종류의 기화장치를 대상으로 하고 있다. 상기 특허증서에서 제시된 기화장치는 수평으로 장치된 하나의 실린더 모양의 기화용기로 이루어져 있으며, 상기 실린더는 필름 쪽으로 향한 면에 구멍을 가지고 있고, 그 구멍은 가로대(ledge)로 성형된 노즐헤드와 결합되어 있다. 상기 가로대를 따라 기화증착될 필름이 안내된다. 따라서 상기 기화용기는 최소한 필름 너비 만큼 길게 만들어야 한다. 피복설비는 특히 피복할 필름이 감겨있는 새로운 필름 공급 릴(reel)을 장착할 때 이형제가 넘치면 다시 보충해야할 양 만큼 기존의 이형제 재고량이 충분하도록 기화용기의 부피를 크게 설계한다.
상기 공지된 기화장치에 있어서는 이형제가 넘치는 동안 기화용기 속에 다량의 이형제 재고량 때문에, 그리고 이어서 피복설비를 비운 다음에 비교적 많은 양의 이형제 재고량이 완전히 불필요하게 증발하고, 응축하여 설비부품들이 습기가 차게되는 단점이 있다. 이 때, 피복설비를 비우는 동안 압력이 낮아짐에 따라 이형제의 비등(沸騰) 온도가 낮아지며, 따라서 기화용기의 가열을 상응하게 낮추지 않으면 이형제의 증발량이 증가하게 된다는 것을 고려해야 한다. 그러나 그것은 기화장치의 대용량 설비 때문에 실제에 있어서는 충분히 신속한 조치가 불가능하다. 상기 공지된 기화장치의 또 다른 단점은 다량의 이형제 재고량과 대용량의 기화장치 때문에 기화장치의 가열시간이 예상외로 오래 걸리게 되므로, 따라서 설비의 가동 준비를 위하여 장시간이 소요된다.
본 발명은 모두에 언급한 종류의 기화장치를 피복설비의 이형제가 넘치는 동안, 그리고 피복설비를 비우는 동안 이형제의 손실을 가능한 한 최소화하고, 기화장치를 가능한 한 신속히 가동 준비할 수 있도록 형성시키는 문제의 해결에 기초를 두고 있다.
이러한 문제는 본 발명에 따라 상기 노즐헤드를 폐쇄된 중공체(中空體)로서 형성시키고, 상기 기화용기(1)는 폐쇄장치(4)가 설치된 연결관을 통하여 노즐헤드(3)와 연결되며, 상기 폐쇄장치(4)에 의하여 폐쇄할 수 있게 함으로써 해결한다.
상기 기화용기는 본 발명에 따라 노즐헤드와 결합되어 폐쇄될 수 있고, 분리 결합식 구성부품으로서 형성되기 때문에 필름 상에 응축될 증기가 필요 없는 경우에는 기화장치로부터 증기배출을 적은 비용으로 확실하게 방지할 수 있다. 그렇게 함으로써 피복설비가 넘쳐흐르고, 피복설비를 비우는 동안에 증기가 설비 안으로 유입되어, 그로 인하여 설비 구성부분 상에 응축하는 것을 방지할 수 있으므로 피복공정에서 이형제의 소모를 현저히 감소시킬 수 있다. 기화용기와 노즐헤드의 공간적인 분리는 통제되지 않은 응축으로 인하여 필름 상에 이형제가 튀겨 더럽혀짐 또는 기타 얼룩이 나타나는 것을 방지한다. 또한 기화용기를 계속 가열함으로써 기화장치를 연속적으로 가동상태로 유지할 수 있다. 상기 설비를 시동할 때, 즉각 피복 처리될 필름 쪽으로 증기를 분사시키기 위하여 단지 폐쇄장치를 개방하기만 하면 된다. 본 발명에 따른 기화장치는 특히 콘덴서 필름의 제조에 적합하다. 필름 위에 길다란 띠 모양으로 이형제를 증착시키는 대신에 필름 위에 길이 방향으로 필름 표면을 단속적(斷續的)으로 이형제를 도포하기 위하여 상기 폐쇄식 기화용기를 통상적인 모형판(模型板)에 병열로 장치할 수도 있다. 예를 들어 DE 43 11 581에서 기화용기와 모형판의 장치를 보여주고 있다.
본 발명에 따라 기화용기와 노즐헤드가 서로 분리된 구성부품이기 때문에, 기화용기가 피복될 필름과 똑같은 폭을 가질 필요가 없다. 그러므로, 특히 부피가 작아질 수 있기 때문에 예를 들어 금속 기화속도 변화 또는 필름속도의 변화 등과 같은 변화된 공정조건에 대한 증발율의 신속한 반응이 가능하다. 본 발명에 의하여, 예를 들어 증착되는 이형제 띠의 폭을 기화용기의 온도를 변경함으로써 정확히 조절할 수 있다.
노즐헤드를 눕혀서 장치한 실린더로서 형성한 경우에는 노즐헤드를 종래의 기화용기의 하우징(housing)과 일치하게 형성시킬 수 있다.
본 발명의 또 다른 장점에 따라 기화용기를 노즐헤드 아래쪽에 장치하고 차단장치를 갖는 연결관을 통하여 노즐헤드와 연결할 때는 폐쇄장치로서 일반적으로 파이프 등에 사용되는 차단밸브를 사용할 수 있다. 연결관 속에 사용되는 그와 같은 차단밸브는 또한 피복설비에서 처리 중에 일어나는 진공 하에서도 확실하게 작용할 수 있다.
상기 기화용기는 특히 부피를 작게 만들 수 있으므로, 기화용기에 분리액의 사후보충을 위한 분리액 저장탱크가 연결되어 있을 때에는 기화장치의 출력조절이 신속히 이루어질 수 있다.
상기 저장용기가 분리액의 보충 공급관 및 압력 조절관을 통하여 기화용기와 연결되어 있을 때는 설비 가동 중에도 기화용기에 분리액의 보충이 가능하다.
상기 저장용기가 기화용기 보다 높은 곳에 장치되고, 보충공급관에 차단밸브가 장치되어 있을 때는, 강제로 압송(押送)할 필요 없이 필요에 따라 간단히 밸브를 개방함으써 분리액의 보충이 이루어질 수 있다.
그러나, 만약 본 발명의 또 다른 장점에 따라 저장용기와 기화용기를 동일한 높이로 설치하고, 상기 보충 공급관을 항상 개방하여 놓으면, 차단밸브를 작동시킬 필요 없이 계속적으로 분리액의 보충이 이루어질 수 있다.
만약 배출구가 구형(矩形) 단면으로 형성되면, 기화장치의 기름 소모가 특히 적어진다. 그 밖에, 그와 같이 배출구를 형성시킴으로써, 피복할 필름 상에 기름 잔류분이 적으며, 특히 증착된 범위의 윤곽이 선명하게 나타난다.
노즐헤드에 전열기를 장치함으로써 노즐헤드 속에 증기의 응축을 간단히 방지할 수 있다.
본 발명은 여러 가지의 실시예로 실시할 수 있다. 본 발명의 기본원리를 명확히 이해하기 위하여 두 가지의 실시예를 개략도로 예시하고, 아래와 같이 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 기화장치의 제1실시예를 도시한 사시도이다.
도 2는 본 발명에 따른 기화장치의 제2실시예를 도시한 측면도이다.
※도면의 주요부분에 대한 부호설명※
1 : 기화용기 2 : 파이프
3 : 노즐헤드 4 : 폐쇄장치
5 : 전열기 6 : 온도감지기
7 : 배출구 8 : 필름
9 : 저장탱크 10 : 보충 파이프
11 : 차단밸브 12 : 압력 조절관
도 1에 도시한 기화장치는 하나의 기화용기(1)를 가지고 있으며, 그 기화용기(1)는 파이프(2)를 통하여 노즐헤드(3)와 연결되어 있다. 상기 파이프(2)에는 폐쇄장치(4)가 설치되어 있으며, 그 폐쇄장치(4)에 의하여 기화용기(1)로부터 노즐헤드(3) 속으로 증기의 유입을 차단할 수 있다.
상기 기화용기(1)는 하나의 전열기(5)가 장치되어 있으며, 이형제의 온도를 조절하여, 이형제 기화속도를 조절하기 위한 온도감지기(6)가 장착되어 있다.
상기 노즐헤드(3)는 구형 단면을 갖는 배출구(7)들이 상부면에 한 줄로 나란히 형성되어 있으며, 이형제 증기가 그 배출구(7)들을 통하여 도면에서 점선으로 표시한 필름(8)에 도달하여 필름(8) 표면 위에 길이 방향으로 응축하여 길다란 띠들을 형성한다. 상기 이형제는 피복처리 동안에 증발 함으로써 도금을 방지하기 때문에, 그 띠들은 다음의 피복공정에서 금속으로 피복되지 않는다. 도면에 도시된 바와 같이, 상기 필름(8)은 배출구(7) 부분에서 노즐헤드(3)와 접촉하여, 노즐헤드의 외부표면의 매우 작은 범위를 감싸면서 이동한다. 상기 노즐헤드(3)를 가열하기 위하여 케이싱에 전류를 흐르게 할 수도 있다. 그러나 유입되는 증기가 노즐헤드 내에서 응축되는 것을 방지하기 위하여 노즐헤드(3)의 간접가열도 가능하다.
상기 기화용기(1)는 그 속에 충전할 이형제 재고량이 적어도 1회의 공정 사이클 동안에 피복할 장입량을 충족할 만큼 큰 부피로 형성시킬 수 있다. 한편, 가열하지 않는 이형제 저장탱크(9)를 장치하여, 보충 파이프(10)를 통하여 기화용기(1)와 연결하는 것도 가능하다. 도 1에 도시한 실시예에 있어서, 상기 보충 파이프(10)에 차단밸브(11)를 장치한다. 상기 저장탱크(9)는 일정한 기압으로 압축 밀폐되어 있으며, 한편 이형제 표면 위쪽 공간을 압력 조절관(12)을 통하여 기화용기(1)의 상부 공간과 연결되어 있다. 상기 저장탱크(9)를 기화용기(1) 보다 높게 장치하여, 차단밸브(11)를 개방하면 이형제가 저장탱크(9)로부터 기화용기(1)로 유입된다. 상기 저장탱크(9)는 상기 기화용기(1)를 특히 적은 양의 이형제로 작동시키고, 공정 진행 중에 이형제를 기화용기(1)로 보충할 수 있게 하여준다.
도 2에 따른 실시예에 있어서는 기화용기(1)와 저장탱크(9)는 동일한 높이에 위치한다. 따라서 상기 보충 파이프(10)에 차단밸브를 설치할 필요가 없다. 바로 앞에서 설명한 실시예에 있어서와 마찬가지로 압력 조절관(12)은 항상 개방하여 놓는다. 상기 이형제 용액 표면은 기화용기(1)와 저장탱크(9)의 보충 파이프(10)을 통하여 항상 동일한 높이를 유지한다. 기화속도를 변경하기 위해서는 이형제 용액의 전체 양이 아니라, 기화용기(1) 속에서 다만 비교적 적은 양의 가열 온도를 조절하기만 하면 된다.

Claims (9)

  1. 전열기로 가열되는 이형제 기화용기와 증발하는 이형제 증기를 필름 쪽으로 분사하기 위한 배출구들이 형성되어있는 노즐헤드를 갖고있는 필름-피복설비에서 필름 위에 길다란 띠 모양으로 이형제 띠를 기화 증착시키기 위한 기화장치에 있어서,
    상기 노즐헤드(3)는 폐쇄된 중공체로서 형성되고, 상기 기화용기(1)는 폐쇄장치(4)가 설치된 연결관을 통하여 노즐헤드(3)와 연결되며, 상기 폐쇄장치(4)에 의하여 폐쇄될 수 있는 것을 특징으로 하는 기화장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 노즐헤드(3)는 눕혀서 장치한 실린더 모양으로 형성되는 것을 특징으로 하는 기화장치.
  3. 제1항 및 제2항에 있어서, 상기 기화용기(1)는 노즐헤드(3)의 아래쪽에 장치되고, 폐쇄장치가 설치된 파이프(2)를 통하여 상기 노즐헤드(3)와 연결되는 것을 특징으로 하는 기화장치.
  4. 선행 청구항중 최소한 한 항에 있어서, 상기 기화용기(1)로 이형제 용액을 보충하기 위한 이형제 용액 저장탱크(9)가 기화용기(1)에 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 기화장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 저장탱크(9)는 보충 파이프(10)과 압력 조절관(12)을 통하여 기화용기(1)와 연결되는 것을 특징으로 하는 기화장치.
  6. 제4항에 있어서, 상기 저장탱크(9)는 기화용기(1) 보다 높은 위치에 장치되고, 상기 보충 파이프(10)에는 차단밸브(11)가 장치되는 것을 특징으로 하는 기화장치.
  7. 제5항에 있어서, 상기 저장탱크(9)와 기화용기(1)가 동일한 높이에 위치하고, 상기 보충 파이프(10)는 항상 개방되어 있는 것을 특징으로 하는 기화장치.
  8. 선행 청구항중 최소한 한 항에 있어서, 상기 배출구(7)들은 구형 단면을 형성하는 것을 특징으로 하는 기화장치.
  9. 선행 청구항중 최소한 한 항에 있어서, 상기 노즐헤드(3)에 전열기를 장치하는 것을 특징으로 하는 기화장치.
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10128091C1 (de) * 2001-06-11 2002-10-02 Applied Films Gmbh & Co Kg Vorrichtung für die Beschichtung eines flächigen Substrats
DE10330401B3 (de) * 2003-07-04 2005-02-24 Applied Films Gmbh & Co. Kg Verfahren und Vorrichtung zum bereichsweisen Auftragen von Trennmitteln
CN100412226C (zh) * 2004-10-18 2008-08-20 中华映管股份有限公司 等离子体显示器之前基板的制造方法、蒸镀工艺与蒸镀装置
CN100491584C (zh) * 2005-09-22 2009-05-27 中国科学院半导体研究所 不同折射率膜层的制备方法
ATE520799T1 (de) * 2005-10-26 2011-09-15 Applied Materials Gmbh & Co Kg Vorrichtung zum bedampfen von substraten
ATE509131T1 (de) 2005-10-26 2011-05-15 Applied Materials Gmbh & Co Kg Verdampfervorrichtung mit einem behälter für die aufnahme von zu verdampfendem material
DE102008026001B4 (de) * 2007-09-04 2012-02-16 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung und Bearbeitung von Schichten auf Substraten unter definierter Prozessatmosphäre und Heizelement
WO2011065998A1 (en) * 2008-12-18 2011-06-03 Veeco Instruments Inc. Linear deposition source
US20100285218A1 (en) * 2008-12-18 2010-11-11 Veeco Instruments Inc. Linear Deposition Source
EP2507402A4 (en) * 2009-11-30 2013-10-23 Veeco Instr Inc LINEAR DEPOSIT SOURCE
FR2956412B1 (fr) * 2010-02-16 2012-04-06 Astron Fiamm Safety Vanne d'obturation a volume constant d'une source de depot en phase vapeur
TWI600470B (zh) * 2016-05-19 2017-10-01 康廷 熊 鍍膜裝置及方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3922187A1 (de) * 1989-07-06 1991-01-17 Leybold Ag Vorrichtung zum herstellen von metallfreien streifen bei im vakuum beschichteten folienbahnen, insbesondere fuer kondensatoren
DE4309717C2 (de) * 1993-03-25 2002-03-28 Unaxis Deutschland Holding Verfahren zum Aufdampfen einer Schicht
US5863336A (en) * 1996-04-08 1999-01-26 General Electric Company Apparatus for fabrication of superconductor

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JP4230068B2 (ja) 2009-02-25
DE19848177A1 (de) 2000-04-27
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GB2342929A (en) 2000-04-26
JP2000129429A (ja) 2000-05-09
ITMI992081A1 (it) 2001-04-06
KR100614131B1 (ko) 2006-08-22
CN1240872C (zh) 2006-02-08
GB9924608D0 (en) 1999-12-22
ITMI992081A0 (it) 1999-10-06
IT1313766B1 (it) 2002-09-17

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