KR20000001192A - 반도체장치의 포토레지스트 필터링 장비 - Google Patents

Abstract

반도체 장치의 포토레지스트 필터링(photoresist filtering) 장비를 개시한다. 본 발명은 포토레지스트가 걸러지는 필터(filter)와, 필터를 담는 필터 하우징(filter housing)과, 필터 하우징의 상부를 덮는 덮개와, 덮개를 관통하며 덮개에 부착되어 필터에 포토레지스트를 공급하는 인 라인(in line) 연결부와, 걸러진 포토레지스트를 배출하는 아웃 라인(out line) 연결부 및 기포 유입 방지 튜브(tube) 등으로 구비된다. 기포 유입 방지 튜브는 일단부가 아웃 라인 연결부의 하단부에 연결되고 다른 일단부가 필터의 표고보다 낮게 필터 하우징 내에 드리워져 필터에서 걸러진 포토레지스트를 상기 아웃 라인 연결부로 유입시킨다.

Description

반도체 장치의 포토레지스트 필터링 장비

본 발명은 반도체 장치에 관한 것으로, 특히 포토레지스트 필터링(photoresist filtering) 장비에 관한 것이다.

반도체 장치를 제조하는 공정 중에는 반도체 기판 상에 패턴을 형성하는 공정이 요구된다. 상기한 패턴 형성 공정에서는 포토레지스트를 이용하여 포토레지스트막을 형성한 후 사진 식각 공정으로 상기 포토레지스트막을 패터닝하는 공정이 이용된다. 상기 포토레지스트로 상기 포토레지스트막을 형성할 때 균일한 포토레지스트막을 구현하기 위해서, 전(前) 공정으로 필터(filter)를 이용하여 포토레지스트를 거르는 필터링 공정이 수반된다.

이때, 상기 필터링 공정은 포토레지스트를 필터링 장비의 필터에 공급하고, 상기 필터를 통과하여 걸려진 포토레지스트를 상기 필터링 장비로부터 배출하는 방법으로 수행된다. 상기 배출된 포토레지스트는 노즐로 분사(dispense)되어 반도체 기판 상에 포토레지스트막이 형성된다.

상기 필터링 장비에서 필터에 의해서 걸려진 포토레지스트를 배출할 때, 상기 배출되는 포토레지스트에 기포가 유입될 수 있다. 상기 기포는 필터에 의해서 포토레지스트가 걸려질 때 발생된 가스 등이 상기 필터링 장비내의 상부에 누적되어 발생될 수 있으며, 상기 걸려진 포토레지스트를 배출하는 공정에서 상기 걸려진 포토레지스트에 유입되어 함께 배출될 수 있다. 이와 같이 기포에 의해서 배출되는 포토레지스트의 토출량이 변화될 수 있다. 이에 따라 형성되는 포토레지스트막에 코팅(coating) 불량이 발생할 수 있다. 또한, 포토레지스트를 노즐(nozzle)을 이용하여 분사(dispense)할 때 상기 기포는 노즐의 흡입 조절(suckback control)에 영향을 미쳐, 상기 기포로 인해 노즐 팁(nozzle tip)이 오염될 수 있어 스피드 보오트(speed boat)가 발생될 수 있다.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 필터에 의해서 걸려진 포토레지스트에 기포의 유입을 방지하며 걸려진 포토레지스트를 배출할 수 있어, 토출량의 변화를 방지하여 형성되는 포토레지스트막의 코팅 불량을 방지할 수 있으며 포토레지스트가 분사되는 노즐의 팁 오염을 방지할 수 있어 스피드 보오트의 발생 등을 방지할 수 있는 반도체 장치의 포토레지스트 필터링 장비를 제공하는 데 있다.

도 1 및 도 2는 본 발명의 실시예 의한 필터링 장비를 설명하기 위해서 개략적으로 도시한 도면들이다.

상기의 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 관점은, 포토레지스트가 걸러지는 필터와, 상기 필터를 담는 필터 하우징과, 상기 필터 하우징의 상부를 덮는 덮개와, 상기 덮개를 관통하며 상기 덮개에 부착되어 상기 필터에 포토레지스트를 공급하는 인 라인 연결부와, 상기 덮개를 관통하며 상기 덮개에 부착되어 상기 필터에서 걸러진 포토레지스트를 배출하는 아웃 라인 연결부 및 기포 유입 방지 튜브 등으로 구비되는 반도체 장치의 포토레지스트 필터링 장비를 제공한다.

상기 기포 유입 방지 튜브는 일단부가 상기 아웃 라인 연결부의 하단부에 연결되고 다른 일단부가 상기 필터의 표고보다 낮게 상기 필터 하우징 내에 드리워져 상기 필터에서 걸러진 포토레지스트를 상기 아웃 라인부 연결부로 유입시킨다. 상기 필터는 상기 기포 유입 방지 튜브가 드리워지는 홈을 가진다. 더욱이, 상기 기포 유입 방지 튜브는 상기 다른 일단부가 상기 필터 하우징에 채워지는 포토레지스트의 표고 보다 낮게 드리워진다. 상기 덮개에는 상기 포토레지스트에서 발생되는 기포를 배출하는 드레인 연결부가 추가로 부착된다.

본 발명에 따르면, 필터에 의해서 걸려진 포토레지스트에 기포의 유입을 방지하며 걸려진 포토레지스트를 배출할 수 있어, 토출량의 변화를 방지하여 형성되는 포토레지스트막의 코팅 불량을 방지할 수 있으며 포토레지스트가 분사되는 노즐의 팁 오염을 방지할 수 있어 스피드 보오트의 발생 등을 방지할 수 있는 반도체 장치의 포토레지스트 필터링 장비를 제공할 수 있다.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어져서는 안 된다. 본 발명의 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. 따라서, 도면에서의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어지거나 간략화된 것이며, 도면상에서 동일한 부호로 표시된 요소는 동일한 요소를 의미한다.

도 1 및 도 2는 본 발명의 실시예에 의한 필터링 장비를 설명하기 위하여 개략적으로 도시한 도면들이다.

도 1은 본 발명의 실시예 의한 필터링 장비의 단면 형상을 개략적으로 나타내고, 도 2는 도1의 아웃 라인 연결부(430) 및 기포 유입 방지 튜브(tube;435)를 개략적으로 나타낸다.

구체적으로, 본 발명의 실시예에 의한 포토레지스트 필터링 장비는, 필터(300)를 담는 필터 하우징(filter housing;100)과, 상기 필터 하우징(100)을 덮는 덮개(200), 상기 덮개(200)에 부착되는 인 라인(in line) 연결부(410), 아웃 라인(out line) 연결부(430), 드레인(drain) 연결부(450) 및 기포 유입 방지 튜브(435) 등으로 구비된다.

상기 덮개(200)는 연결 고정부(250)에 의해서 상기 필터 하우징(100)에 고정된다. 상기 인 라인 연결부(410), 아웃 라인 연결부(430) 및 드레인 연결부(450) 등은 상기 덮개(200)를 관통하여 부착된다. 상기 인 라인 연결부(410)를 통해서 포토레지스트는 상기 필터(300)에 공급되고, 상기 아웃 라인 연결부(430)로 필터(300)에 의해서 걸러진 포토레지스트는 배출된다.

상기 필터(300)에 의해서 공급되는 포토레지스트가 걸러질 때, 가스 등이 발생할 수 있다. 상기 가스 등은 상기 필터 하우징(100)의 상부에 누적된다. 이와 같은 가스는 기포의 원인으로 작용한다. 이에 따라, 상기 누적되는 가스, 즉, 기포를 제거하기 위해서 드레인 연결부(450)가 설치된다. 상기 드레인 연결부(450)는 일반적으로 닫힌 상태로 유지된다. 그리고, 1달 또는 2달 정도의 주기로 상기 드레인 연결부(450)을 수동으로 열어 기포를 제거한다. 이때, 상기 드레인 연결부(450)을 열 때, 노즐의 흡입(suckback) 상태를 재확인하는 것이 필수적이다.

기포 유입 방지 튜브(435)는 일단부가 상기 아웃 라인 연결부(430)의 하단부에 연결되고 다른 일단부가 상기 필터(300)의 표고보다 낮게 필터 하우징(100) 내에 드리워진다. 상기 필터(300)는 그 가운데 부분 등에 걸러진 포토레지스트가 고이는 홈을 가지며, 상기 홈에 상기 기포 유입 방지 튜브(435)가 도입된다. 상기 기포 유입 방지 튜브(435)는 필터 하우징(100) 내에 채워지는, 보다 상세하게는 상기 홈에 채워지는 걸러진 포토레지스트의 표면(500) 보다 낮은 위치에 상기 다른 일단부가 드리워지도록 도입된다. 바람직하게는 상기 다른 일단부가 상기 필터(300)의 하단에 위치하여 상기 걸러진 포토레지스트의 양이 감소하여 그 표면의 높이가 감소하더라도 상기 걸러진 포토레지스트의 표면 상부에 상기 다른 일단부가 노출되지 않도록 한다.

상기한 기포 유입 방지 튜브(435)의 다른 일단부로 필터(300)에 의해서 걸러진 포토레지스트가 유입되어 상기 아웃 라인 연결부(430)를 통과하여 분사 노즐로 공급된다. 상기 아웃 라인 연결부(430)에는 펌프(pump;도시되지 않음), 예컨대 벨로우즈 펌프(bellows pump)가 연결되어 상기 포토레지스트를 배출시키는 구동력을 제공한다. 한편, 기포는 필터 하우징(100) 내의 상부, 보다 상세하게는 상기 걸러진 포토레지스트 표면(500) 상부에 누적되거나 잔존한다. 상기 걸러진 포토레지스트를 유입하는 상기 기포 유입 방지 튜브(435)는 상기 걸러진 포토레지스트의 표면(500) 아래에서 상기 걸러진 포토레지스트를 유입한다. 따라서, 상기 기포 유입 방지 튜브(435) 내로 기포가 유입될 수 없다.

상기한 바와 같이 아웃 라인 연결부(430)를 통해 배출되는 필터(300)에 의해서 걸러진 포토레지스트가 기포를 함유하지 않으므로 배출되는 포토레지스트의 토출량의 변화를 방지할 수 있다. 따라서, 포토레지스트의 토출량을 정밀하게 제어할 수 있어, 포토레지스트막을 형성하는 공정에서 포토레지스트의 사용량을 줄일 수 있다. 예컨대, 대략 3㏄ 이하로 포토레지스트의 사용량을 줄일 수 있다.

더욱이, 형성되는 포토레지스트막의 코팅 불량의 발생을 방지할 수 있다. 또한, 배출되는 포토레지스트에 기포가 함유되는 것을 방지할 수 있어, 노즐의 흡입 조절(suckback control)의 틀어짐 및 이로 인한 코팅 불량을 방지할 수 있다. 더욱이, 노즐 팁 오염을 억제하여 이로 인한 스피드 보오트를 방지할 수 있다.

이상, 본 발명을 구체적인 실시예를 통해서 상세히 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.

상술한 본 발명에 따르면, 필터에 의해서 걸러진 포토레지스트를 필터링 장비에서 배출하여 노즐로 공급할 때, 포토레지스트에 기포가 섞이어 함유되는 것을 방지할 수 있다. 이에 따라, 포토레지스트에 함유된 기포에 의해서 발생하는 토출량의 변화, 노즐의 흡입 조절의 틀어짐, 노즐 팁의 오염 및 스피드 보트 등의 발생을 방지할 수 있다. 따라서, 반도체 기판 상에 포토레지스트막을 균일하게 형성할 수 있다. 더욱이, 낭비되는 포토레지스트의 양을 줄일 수 있어 비용 절감을 구현할 수 있다.

Claims (4)

1. 포토레지스트가 걸러지는 필터;

   상기 필터를 담는 필터 하우징;

   상기 필터 하우징의 상부를 덮는 덮개;

   상기 덮개를 관통하며 상기 덮개에 부착되어 상기 필터에 포토레지스트를 공급하는 인 라인 연결부;

   상기 덮개를 관통하며 상기 덮개에 부착되어 상기 필터에서 걸러진 포토레지스트를 배출하는 아웃 라인 연결부; 및

   일단부가 상기 아웃 라인 연결부의 하단부에 연결되고 다른 일단부가 상기 필터의 표고보다 낮게 상기 필터 하우징 내에 드리워져 상기 필터에서 걸러진 포토레지스트를 상기 아웃 라인 연결부로 유입시키는 기포 유입 방지 튜브를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 포토레지스트 필터링 장비.
2. 제1항에 있어서, 상기 필터는 상기 기포 유입 방지 튜브가 드리워지는 홈을 가지는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 포토레지스트 필터링 장비.
3. 제1항에 있어서, 상기 기포 유입 방지 튜브는 상기 다른 일단부가 상기 필터 하우징에 채워지는 포토레지스트의 표고 보다 낮게 드리워지는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 포토레지스트 필터링 장비.
4. 제1항에 있어서, 상기 덮개에는 상기 포토레지스트에서 발생되는 기포를 배출하는 드레인 연결부가 추가로 부착되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 포토레지스트 필터링 장비.