KR19990082074A

KR19990082074A - 항균제의 침착성이 개선된 샴푸 조성물

Info

Publication number: KR19990082074A
Application number: KR1019980705796A
Authority: KR
Inventors: 카렌 케이 칼라; 줄리 마리 헌트
Original assignee: 데이비드 엠 모이어; 더 프록터 앤드 갬블 캄파니
Priority date: 1996-01-29
Filing date: 1997-01-06
Publication date: 1999-11-15
Also published as: HUP9900641A3; CZ229698A3; AR013558A1; WO1997026854A1; MX9806050A; BR9707216A; CN1213294A; HUP9900641A2; TR199801453T2; PE56898A1; JPH11503175A; EP0920298A1; AU1691097A; ZA97696B; CO4770889A1; CA2242932A1

Abstract

본 발명은 (a) 음이온성 계면활성제, 양쪽성 계면활성제, 쯔비터이온성 계면활성제 및 이의 혼합물로 구성된 그룹으로부터 선택된, 약 7 중량% 내지 약 30 중량%의 세제 계면활성제; (b) 약 0.1 중량% 내지 약 10 중량%의 항균제; (c) 약 0.5 중량% 내지 약 10 중량%의 현탁제; (d) 약 0.01 meq/g 내지 약 3 meq/g의 전하 밀도를 갖는, 약 0.01 중량% 내지 약 1.0 중량%의 양이온성 구아 중합체; 및

(e) 40 중량% 내지 92 중량%의 물을 포함하고, 이때 상기 양이온성 구아 중합체의 약 50 중량% 이상이 세제 계면활성제 및 양이온성 구아 중합체를 포함하는 코아세르베이트 형태인, 항균제의 침착성이 개선된 비듬 방지 샴푸 조성물에 관한 것이다.

Description

항균제의 침착성이 개선된 샴푸 조성물

여러 비듬 방지 샴푸 조성물은 시판되거나 다르게는 샴푸 분야에 공지되어 있다. 이들 조성물은 전형적으로 조성물을 통해 분산되고 현탁된 미립자 결정성 항균제를 포함한다. 상기 목적을 위해 사용된 항균제는 황, 황화 셀레늄 및 피리딘티온의 중금속 염을 포함한다. 머리를 감는 동안, 이들 항균제는 두피 상에 침착하여 비듬 방지 활성을 제공한다.

그러나, 많은 비듬 방지 샴푸는 머리를 감는 동안 충분한 항균제의 침착을 제공하지 않는다. 이런 침착이 없다면, 항균제는 머리를 감는 동안 단순히 헹궈지고 따라서 비듬 방지 활성을 거의 또는 전혀 제공하지 않는다. 추가로, 오일, 그리스, 먼지 및 미립자 물질을 제거하도록 고안된 이들 샴푸 조성물의 세제 계면활성제는 또한 헹구는 동안 미립자 항균제를 씻어내고 따라서 침착 및 비듬 방지 활성을 감소시킬 것이다.

미립자 항균제의 침착은 특히 결정성 현탁제를 함유한 비듬 방지 샴푸 조성물의 경우 특히 어렵다. 이들 현탁제는 미립자 항균제가 샴푸 조성물에 분산되고 현탁되는 것을 돕는다. 그러나, 이들 현탁제는 발포 성능에 역효과를 준다. 따라서, 세제 계면활성제 농도를 증가시키거나 또는 발포 증진제를 첨가함으로써 이들 샴푸의 발포 성능을 개선시키는 것이 통상적인 실행이 되고, 이들 둘 모두는 샴푸 조성물로부터 미립자 항균제의 침착을 더욱 감소시킨다.

정선된 양이온성 침착 중합체는 샴푸 조성물로부터 항균제, 특히 미립자 항균제의 침착성을 개선시키는데 특히 효과적이라는 것이 본 발명에 이르러 발견되었다. 정선된 중합체는 비듬 방지 샴푸 조성물에 결정성 현탁제 및 높은 수준의 음이온성, 양쪽성 또는 쯔비터이온성 계면활성제를 혼합하여 사용될때 가장 효과적인 것으로 발견된 구아 검의 양이온성 유도체이다.

따라서, 본 발명의 목적은 항균제, 특히 미립자 항균제의 침착성이 개선된 비듬 방지 샴푸 조성물을 제공하고, 추가로 결정성 현탁제 및 고농도의 세제 계면활성제의 존재하에서 이런 개선된 침착성을 제공하는 것이다. 본 발명의 또다른 목적은 우수한 비듬 방지 활성 및 감소된 농도의 항균제를 갖는 비듬 방지 샴푸 조성물을 제공하는 것이다.

발명의 요약

본 발명은 (a) 음이온성 계면활성제, 양쪽성 계면활성제, 쯔비터이온성 계면활성제 및 이의 혼합물로 구성된 그룹으로부터 선택된, 약 7 중량% 내지 약 30 중량%의 세제 계면활성제; (b) 약 0.1 중량% 내지 약 10 중량%의 항균제; (c) 약 0.5 중량% 내지 약 10 중량%의 현탁제; (d) 약 0.1 내지 약 3 meq/gm의 전하 밀도를 갖는, 약 0.01 중량% 내지 약 1.0 중량%의 양이온성 구아 중합체; 및 (e) 약 40 중량% 내지 약 92 중량%의 물을 포함하고, 이때 상기 양이온성 구아 중합체의 약 50 중량% 이상이 세제 계면활성제 및 양이온성 구아 중합체를 포함한 코아세르베이트 형태인 항균제의 침착성이 개선된 높은 발포의 비듬 방지 샴푸 조성물에 관한 것이다.

본 발명은 비듬 방지 활성을 제공하는 항균제를 함유한 샴푸 조성물에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 항균제 침착 보조제로서 양이온성 구아(guar) 중합체와 혼합된 항균제, 바람직하게는 미립자 항균제를 함유한 샴푸 조성물에 관한 것이다.

본 발명의 샴푸 조성물은 본질적인 요소 및 본원에 기술된 본 발명의 제한 뿐만 아니라 추가적인 또는 선택적인 구성요소, 성분 또는 본원에 기술된 제한을 포함하고 이들로 구성되거나 또는 본질적으로 구성될수 있다.

모든 %, 부 및 비율은 달리 특정되지 않는다면, 본 발명의 샴푸 조성물의 전체 중량을 기준으로 한다. 열거된 성분에서의 모든 이런 중량은 활성 수준을 기준으로 하고, 따라서 시판된 물질에 포함될수 있는 담체 또는 부산물은 포함하지 않는다.

세제 계면활성제

본 발명의 샴푸 조성물은 음이온성 계면활성제, 양쪽성 계면활성제, 쯔비터이온성 계면활성제 및 이의 혼합물로 구성된 그룹으로부터 선택된 세제 계면활성제를 포함한다. 샴푸 조성물은 바람직하게는 음이온성 계면활성제를 포함한다. 세제 계면활성제는 샴푸 조성물에 세척 성능을 제공한다.

음이온성 계면활성제

샴푸 조성물의 세제 계면활성제 성분은 바람직하게는 음이온성 계면활성제이다. 음이온성 계면활성제의 농도는 샴푸 조성물의 약 7 중량% 내지 약 30 중량%, 바람직하게는 약 10 중량% 내지 약 25 중량%, 보다 바람직하게는 약 12 중량% 내지 약 22 중량%의 범위일수 있다.

샴푸 조성물에 사용하기 위한 음이온성 계면활성제는 알킬 및 알킬 에테르 설페이트를 포함한다. 이들 물질은 각각 일반식 ROSO₃M 및 RO(C₂H₄O)_xSO₃M(이때, R은 약 8 내지 약 30의 탄소수를 갖는 알킬 또는 알케닐이고 x는 1 내지 10의 정수이고 M은 수소, 알칼리 금속(예를 들면, 리튬, 나트륨, 칼륨), 알칼리토 금속(예를 들면, 베릴륨, 마그네슘, 칼슘, 스트론튬, 바륨), 암모늄 또는 치환된 암모늄이다)를 갖는다.

바람직하게는, R은 알킬 및 알킬 에테르 설페이트 둘 모두에서 약 10 내지 약 18의 탄소수를 갖는다. 알킬 에테르 설페이트는 전형적으로 산화 에틸렌과 약 8 내지 약 24의 탄소수를 갖는 일가 알콜의 축합 생성물로서 제조된다. 알콜은 지방, 예를 들면 코코넛 오일 또는 탈로우로부터 유도될수 있거나 또는 합성물일수 있다. 라우릴 알콜 및 코코넛 오일로부터 유도된 직쇄 알콜이 바람직하다. 이런 알콜은 약 0 내지 약 10 및 특히 약 3의 몰비의 산화 에틸렌과 반응하고 예를 들면 알콜 몰당 평균 3몰의 산화 에틸렌을 갖는 분자종의 생성된 혼합물은 황산화되고 중화된다.

본 발명의 샴푸 조성물에 사용될수 있는 알킬 에테르 설페이트의 특정한 예는 코코넛 알킬 트리에틸렌 글리콜 에테르 설페이트의 나트륨 및 암모늄 염, 탈로우 알킬 트리에틸렌 글리콜 에테르 설페이트 및 탈로우 알킬 헥사옥시에틸렌 설페이트이다. 매우 바람직한 알킬 에테르 설페이트는 각각의 화합물의 혼합물을 포함하고, 상기 혼합물은 약 10 내지 약 16의 탄소수의 평균 알킬 쇄 길이 및 약 1 내지 약 4몰의 산화 에틸렌의 평균 에톡시화도를 갖는다.

다른 적합한 음이온성 계면활성제는 일반식 [R₁-SO₃-M](이때, R₁은 약 8 내지 약 24, 바람직하게는 약 10 내지 약 18의 탄소수를 갖는 직쇄 또는 분지쇄 포화 지방족 탄화수소 라디칼로 구성된 그룹으로부터 선택되고; M은 수소, 알칼리 금속(예를 들면, 리튬, 나트륨, 칼륨), 알칼리토 금속(예를 들면, 베릴륨, 마그네슘, 칼슘, 스트론튬, 바륨), 암모늄 또는 치환된 암모늄이다)의 유기, 황산 반응 생성물의 수용성 염이다. 이런 계면활성제의 예는 이소-, 네오- 및 n-파라핀을 포함하는 약 8 내지 24의 탄소수, 바람직하게는 약 12 내지 약 18의 탄소수를 갖는 메탄 계열의 탄화수소, 및 표백 및 가수분해를 포함하는 공지된 설폰화 방법에 따라 수득된 설폰화제, 예를 들면 SO₃, H₂SO₄의 유기 황산 반응 생성물의 염이다. 알칼리 금속 및 암모늄 설폰화된 C_10-18n-파라핀이 바람직하다.

또다른 적합한 음이온성 계면활성제는 이세티온산으로 에스테화되고 수산화 나트륨으로 중화된 지방산의 반응 생성물이고, 이때 지방산은 코코넛 오일; 예를 들면 지방산이 예를 들면 코코넛 오일로부터 유도된 메틸 타우라이드의 지방산 아미드의 나트륨 또는 칼륨 염으로부터 유도된다. 다른 유사한 음이온성 계면활성제는 본원에 참고로 인용된 미국 특허 제 2,486,921 호; 미국 특허 제 2,486,922 호 및 미국 특허 제 2,396,278 호에 기술되어 있다.

샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 다른 음이온성 계면활성제는 숙시네이트이고, 이의 예는 디나트륨 N-옥타데실설포숙시네이트; 디나트륨 라우릴 설포숙시네이트; 디암모늄 라우릴 설포숙시네이트; 테트라나트륨 N-(1,2-디카복시에틸)-N-옥타데실설포숙시네이트; 나트륨 설포숙신산의 디아밀 에스테르; 나트륨 설포숙신산의 디헥실 에스테르; 및 나트륨 설포숙신산의 디옥틸 에스테르를 포함한다.

다른 적합한 음이온성 계면활성제는 약 10 내지 약 24의 탄소수를 갖는 올레핀 설포네이트를 포함한다. 본원에 사용된 용어 "올레핀 설포네이트"는 비복합된 삼산화 황에 의한 알파-올레핀의 설폰화 후 상기 반응에서 형성된 임의의 설폰이 가수분해되어 상응하는 하이드록시-알칸설포네이트를 수득하는 조건에서 산 반응 혼합물을 중화시켜 생성될수 있는 화합물을 의미한다. 삼산화 황은 액상 또는 기상일수 있고, 반드시 그럴 필요는 없지만 일반적으로 액체 형태로 사용될때 불활성 희석액, 예를 들면 액상 SO₂, 염화 탄화수소 등에 의해 희석되거나 또는 기체 형태로 사용될때 공기, 질소, 기상 SO₂등에 의해 희석된다.

올레핀 설포네이트로 제조되는 알파-올레핀은 약 12 내지 약 24의 탄소수, 바람직하게는 약 14 내지 약 16의 탄소수를 갖는 모노-올레핀으로부터 유도된다. 직쇄 올레핀이 바람직하다.

순수한 알켄 설포네이트 및 일부 하이드록시-알칸설포네이트에 추가하여, 올레핀 설포네이트는 반응 조건, 반응물의 비율, 올레핀 원료에서 출발 올레핀 및 불순물의 성질 및 설폰화 공정 동안 부반응에 따라 소량의 다른 물질, 예를 들면 알켄 디설포네이트를 포함할수 있다.

상기 유형의 특정한 알파-올레핀 설포네이트 혼합물은 본원에 참고로 인용된 미국 특허 제 3,332,880 호에 보다 완전하게 기술된다.

샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 음이온성 계면활성제의 또다른 종은 베타-알킬옥시 알칸 설포네이트이다. 이들 화합물은 하기 화학식 1로 나타낼수 있다:

상기 식에서,

R¹은 약 6 내지 약 20의 탄소수를 갖는 직쇄 알킬 그룹이고,

R²는 약 1(바람직하게는) 내지 약 3의 탄소수를 갖는 저급 알킬 그룹이고,

M은 수소, 알칼리 금속(예를 들면, 리튬, 나트륨, 칼륨), 알칼리토 금속(예를 들면, 베릴륨, 마그네슘, 칼슘, 스트론튬, 바륨), 암모늄 또는 치환된 암모늄이다.

샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 많은 다른 음이온성 계면활성제는 본원에 참고로 인용된, 엠 씨 퍼블리슁 캄파니(M.C.Publishing Co.)에 의해 출판된 문헌[McCutcheon's, Emulsifiers and Detergents, 1989 Annual] 및 미국 특허 제 3,929,678 호에 기술된다.

샴푸 조성물에 사용하기에 바람직한 음이온성 계면활성제는 암모늄 라우릴 설페이트, 암모늄 라우레트 설페이트, 트리에틸아민 라우릴 설페이트, 트리에틸아민 라우레트 설페이트, 트리에탄올아민 라우릴 설페이트, 트리에탄올아민 라우레트 설페이트, 모노에탄올아민 라우릴 설페이트, 모노에탄올아민 라우레트 설페이트, 디에탄올아민 라우릴 설페이트, 디에탄올아민 라우레트 설페이트, 라우릭 모노글리세라이드 나트륨 설페이트, 나트륨 라우릴 설페이트, 나트륨 라우레트 설페이트, 칼륨 라우릴 설페이트, 칼륨 라우레트 설페이트, 나트륨 라우릴 사코시네이트, 나트륨 라우로일 사코시네이트, 라우릴 사코신, 코코일 사코신, 암모늄 코코일 설페이트, 암모늄 라우로일 설페이트, 나트륨 코코일 설페이트, 나트륨 라우로일 설페이트, 칼륨 코코일 설페이트, 칼륨 라우릴 설페이트, 모노에탄올아민 코코일 설페이트, 모노에탄올아민 라우릴 설페이트, 나트륨 트리데실 벤젠 설포네이트, 나트륨 도데실 벤젠 설포네이트 및 이의 혼합물을 포함한다.

양쪽성 및 쯔비터이온성 계면활성제

샴푸 조성물의 세제 계면활성제는 양쪽성 및/또는 쯔비터이온성 계면활성제를 포함할수 있다. 이런 계면활성제의 농도는 샴푸 조성물의 약 0.5 중량% 내지 약 20 중량%, 바람직하게는 약 1 중량% 내지 약 10 중량%의 범위일수 있다.

샴푸 조성물에 사용하기 위한 양쪽성 계면활성제는 지방족 2급 또는 3급 아민의 유도체를 포함하고, 이때 지방족 라디칼은 직쇄 또는 분지되고 하나의 지방족 치환체는 약 8 내지 약 18의 탄소수를 포함하고 하나는 음이온성 수용성 그룹, 예를 들면 카복시, 설포네이트, 설페이트, 포스페이트 또는 포스포네이트를 포함한다.

샴푸 조성물에 사용하기 위한 쯔비터이온성 계면활성제는 지방족 4급 암모늄, 포스포늄 및 설포늄의 유도체를 포함하고, 이때, 지방족 라디칼은 직쇄 또는 분지되고 하나의 지방족 치환체는 약 8 내지 약 18의 탄소수를 포함하고 하나는 음이온성 그룹, 예를 들면 카복시, 설포네이트, 설페이트, 포스페이트 또는 포스포네이트를 포함한다. 이들 화합물은 하기 화학식 2로 나타낼수 있다:

상기 식에서,

R²는 약 8 내지 약 18의 탄소수를 갖고 0 내지 약 10개의 산화 에틸렌 잔기 및 0 내지 약 1개의 글리세릴 잔기를 포함하는 알킬, 알케닐 또는 하이드록시 알킬 라디칼이고;

Y는 질소, 인 및 황 원자로 구성된 그룹으로부터 선택되고;

R³은 약 1 내지 약 3의 탄소수를 포함하는 알킬 또는 모노하이드록시알킬 그룹이고;

X는 Y가 황 원자이면 1이고 Y가 질소 또는 인 원자이면 2이고;

R⁴는 약 1 내지 약 4의 탄소수를 갖는 알킬렌 또는 하이드록시알킬렌이고;

Z는 카복실레이트, 설포네이트, 설페이트, 포스포네이트 및 포스페이트로 구성된 그룹으로부터 선택된 라디칼이다.

양쪽성 및 쯔비터이온성 계면활성제의 예는 또한 설타인 및 아미도설타인을 포함한다. 설타인 및 아미도설타인은 음이온성 계면활성제를 부분적으로 대신하는 눈에 순한 발포 개선 계면활성제로서 사용될수 있다. 아미도설타인을 포함하는 설타인은 예를 들면 코코디메틸프로필설타인, 스테아릴디메틸프로필설타인, 라우릴-비스-(2-하이드록시에틸) 프로필설타인 등; 및 아미도설타인 예를 들면 코코아미도디메틸프로필설타인, 스테아릴아미도디메틸프로필설타인, 라우릴아미도비스-(2-하이드록시에틸) 프로필설타인 등을 포함한다. 아미도하이드록시설타인 예를 들면 C₁₂내지 C₁₈하이드로카빌 아미도프로필하이드록시설타인, 특히 C₁₂내지 C₁₄하이드로카빌 아미도 프로필 하이드록시설타인, 예를 들면 라우릴아미도프로필 하이드록시설타인 및 코카미도프로필 하이드록시설타인이 바람직하다. 다른 설타인은 본원에 참고로 인용된 미국 특허 제 3,950,417 호에 기술된다.

다른 적합한 양쪽성 계면활성제는 식 R-NH(CH₂)_nCOOM의 아미노알카노에이트, 식 R-N[(CH₂)_mCOOM]₂의 이미노디알카노에이트 및 이의 혼합물이고, 이때 n 및 m은 1 내지 4의 정수이고 R은 C₈내지 C₂₂알킬 또는 알케닐이고 M은 수소, 알칼리 금속, 알칼리토 금속, 암모늄 또는 알칸올아민이다.

적합한 아미노알카노에이트의 예는 n-알킬아미노-프로피오네이트 및 n-알킬이미노디프로피오네이트를 포함하고, 이의 특정한 예는 N-라우릴-베타-아미노 프로피온산 또는 이의 염 및 N-라우릴-베타-이미노-디프로피온산 또는 이의 염, 및 이의 혼합물을 포함한다.

다른 적합한 양쪽성 계면활성제는 하기 화학식 3으로 나타낸 것을 포함한다:

상기 식에서,

R¹은 약 8 내지 약 22의 탄소수, 바람직하게는 약 12 내지 약 16의 탄소수를 갖는 알킬 또는 알케닐이고;

R²는 수소 또는 CH₂CO₂M이고;

R³은 CH₂CH₂OH 또는 CH₂CH₂OCH₂CH₂COOM이고;

R⁴는 수소, CH₂CH₂OH 또는 CH₂CH₂OCH₂CH₂COOM이고;

Z는 CO₂M 또는 CH₂CO₂M이고;

n은 2 또는 3의 정수, 바람직하게는 2이고;

계면활성제의 상기 유형은 계면활성제가 반드시 이미다졸린 중간체를 통해 직접적으로 또는 간접적으로 유도될 필요는 없지만 종종 이미다졸린-형 양쪽성 계면활성제로 분류된다.

상기 유형의 적합한 물질은 상표명 미라놀(MIRANOL)로 시판되고 종의 복합 혼합물을 포함하는 것으로 생각되고 R²에서 수소를 가질수 있는 종이란 측면에서 pH에 따라 양성화되거나 비양성화된 종으로 존재할수 있다. 모든 이런 변형 및 종은 상기 화학식 3에 의해 포함된다.

상기 화학식 3의 계면활성제의 예는 모노카복실레이트 및 디카복실레이트이다. 이들 물질의 예는 코코암포카복시프로피오네이트, 코코암포카복시프로피온산, 코코암포카복시글리시네이트(다르게는 코코암포디아세테이트로 불림) 및 코코암포아세테이트를 포함한다.

시판되는 양쪽성 계면활성제는 상표명 미라놀 C2M CONC. N.P., 미라놀 C2M CONC. O.P.,미라놀 C2M SF, 미라놀 CM 스페셜(SPECIAL)(마라놀 인코포레이티드(Miranol, Inc.)); 알카테릭(ALKATERIC) 2CIB(알카릴 케미칼스(Alkaril Chemicals)); 암포터지(AMPHOTERGE) W-2(론자 인코포레이티드(Lonza, Inc.)); 모나테릭(MONATERIC) CDX-38, 모나테릭 CSH-32(모나 인더스트리스(Mona Industries)); 리워테릭(REWOETRIC) AM-2C(리워 케미칼 그룹(Rewo Chemical Group)); 및 셔코테릭(SCHERCOTERIC) MS-2(셔 케미칼스(Scher Chemicals))로 시판된 것을 포함한다.

샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 베타인 계면활성제(쯔비터이온성)는 하기 화학식 4로 나타낸 것이다:

상기 식에서,

R¹은 COOM 또는 CH(OH)CH₂SO₃M이고;

R²는 저급 알킬 또는 하이드록시알킬이고;

R³은 저급 알킬 또는 하이드록시알킬이고;

R⁴는 수소 및 저급 알킬로 구성된 그룹으로부터 선택되고;

R⁵는 고급 알킬 또는 알케닐이고;

Y는 저급 알킬, 바람직하게는 메틸이고;

m은 2 내지 7, 바람직하게는 2 또는 3의 정수이고;

n은 0 또는 1의 정수이고;

M은 수소, 알칼리 금속, 알칼리토 금속, 암모늄 또는 치환된 암모늄이다.

상기 내용에 사용된 용어 "저급 알킬" 또는 "하이드록시알킬"은 약 1 내지 약 3의 탄소수를 갖는 직쇄 또는 분지쇄, 포화 지방족 탄화수소 라디칼 및 치환된 탄화수소 라디탈, 예를 들면 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 하이드록시프로필, 하이드록시에틸 등을 의미한다. 용어 "고급 알킬 또는 알케닐"은 약 8 내지 약 20의 탄소수를 갖는 직쇄 또는 분지쇄 포화(즉, "고급 알킬") 및 불포화(즉, "고급 알케닐") 지방족 탄화수소 라디칼, 예를 들면 라우릴, 세틸, 스테아릴, 올레일 등을 의미한다. 용어 "고급 알킬 또는 알케닐"은 하나 이상의 중간체 결합 예를 들면 에테르 또는 폴리에테르 결합, 또는 비기능성 치환체 예를 들면 하이드록실 또는 할로겐 라디칼을 포함할수 있고, 이때 라디칼은 소수성을 유지하는 것으로 이해되어야 한다.

n이 0인 상기 화학식 4의 적합한 계면활성제 베타인의 예는 알킬베타인, 예를 들면 코코디메틸카복시메틸베타인, 라우릴디메틸카복시메틸베타인, 라우릴 디메틸-알파-카복시에틸베타인, 세틸디메틸카복시메틸베타인, 라우릴-비스-(2-하이드록시에틸)카복시메틸-베타인, 스테아릴-비스-(2-하이드록시프로필)카복시메틸베타인, 올레일-디메틸-감마-카복시프로필베타인, 라우릴-비스-(2-하이드록시프로필)-알파-카복시에틸베타인 등을 포함한다. 적합한 설포베타인은 코코디메틸설포프로필베타인, 스테아릴디메틸설포프로필베타인 및 라우릴-비스-(2-하이드록시에틸)설포프로필베타인을 포함한다.

샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 아미도 베타인 및 아미도설포 베타인은 아미도카복시베타인, 예를 들면 코코아미도디메틸카복시메틸베타인, 라우릴아미도디메틸카복시메틸베타인, 세틸아미도디메틸카복시메틸베타인, 라우릴아미도-비스-(2-하이드록시에틸)-카복시메틸베타인, 코코아미도-비스-(2-하이드록시에틸)-카복시메틸베타인 등을 포함한다. 아미도 설포베타인은 코코아미도디메틸설포프로필베타인, 스테아릴아미도디메틸설포프로필베타인 및 라우릴아미도-비스-(2-하이드록시에틸)-설포프로필베타인을 포함한다.

고용해화 계면활성제

본 발명의 샴푸 조성물은 바람직하게는 고용해화 계면활성제, 예를 들면 N-아실 아미노산 계면활성제가 없다. 본원에 사용된 "실질적으로 없는"은 샴푸 조성물이 바람직하게는 샴푸 조성물의 약 1 중량% 이하, 보다 바람직하게는 약 0.5 중량% 이하, 보다 더 바람직하게는 약 0.25 중량% 이하, 가장 바람직하게는 본질적으로 0 중량%의 고용해화 계면활성제를 포함한다는 것을 의미한다.

덜 바람직하게는, 샴푸 조성물은 제 2의 선택적인 계면활성제로서 또는 샴푸 조성물의 세제 계면활성제 성분으로서 N-아실 아미노산 계면활성제를 포함할수 있다.

N-아실 아미노산 계면활성제는 다양한 제품에서의 용도가 공지된 계면활성제이다. 이들 계면활성제 및 이들의 합성에 대한 설명은 예를 들면 본원에 참고로 인용된 린필드(Warner M. Linfield)에 의해 편집된 문헌[Anionic Surfactants, Part II, Surfactant Science Series, Vol. III, Marcel Dekker, Inc.(New York and Basel),pp 581-617(1976)]에 개시될수 있다.

본원의 샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 N-아실 아미노산 계면활성제는 하기 화학식 5로 나타낼수 있는 N-아실 하이드로카빌 산 및 이의 염을 포함한다:

상기 식에서,

R¹은 약 8 내지 약 24의 탄소수, 바람직하게는 약 12 내지 약 18의 탄소수를 갖는 알킬 또는 알케닐 라디칼이고;

R²는 수소, 약 1 내지 약 4의 탄소수를 갖는 알킬, 페닐 또는 CH₂COOM, 바람직하게는 약 1 내지 약 4의 탄소수를 갖는 알킬, 보다 바람직하게는 약 1 내지 약 2의 탄소수를 갖는 알킬이고;

R³은 (CR⁴)₂또는 약 1 내지 약 2의 탄소수를 갖는 알콕시이고, 이때 각각의 R⁴는 독립적으로 수소 또는 약 1 내지 약 6의 탄소수를 갖는 알킬 또는 이의 알킬에스테르이고;

n은 1 내지 4, 바람직하게는 1 또는 2의 정수이고;

M은 수소, 알칼리 금속(예를 들면, 리튬, 나트륨, 칼륨), 알칼리토 금속(예를 들면, 베릴륨, 마그네슘, 칼슘, 스트론튬, 바륨), 암모늄 또는 치환된 암모늄이다. N-아실 사코시네이트 및 이의 산이 특히 바람직하고, 이의 예는 라우로일 사코시네이트, 미리스토일 사코시네이트, 코코일 사코시네이트 및 올레일 사코시네이트를 바람직하게는 나트륨 또는 칼륨 염으로서 포함한다.

본원에 상기 기술된 고용해화 계면활성제는 이후 기술된 구아 양이온성 중합체와 혼합하여 사용되면, 본원의 샴푸 조성물의 항균제의 침착성을 개선시키는데 덜 효과적이라는 것이 발견되었다. 또한 이들 고용해화 계면활성제의 존재하에서 구아 양이온성 중합체의 양이온 전하 밀도를 증가시킴으로써, 덜 효과적인 항균제 침착성을 실질적으로 개선시킬수 있다. 따라서, 본원의 샴푸 조성물 중의 고용해화 계면활성제의 존재하에서, 양이온성 구아 중합체는 약 0.9 meq/g 내지 약 4 meq/g, 바람직하게는 약 1.0 내지 3 meq/g의 양이온 전하 밀도를 가져야 한다.

항균제

본 발명의 샴푸 조성물은 안전하고 효과적인 양의 항균제를 포함한다. 항균제는 샴푸 조성물에 항미생물 활성을 제공한다. 항균제는 바람직하게는 샴푸 조성물에 불용성이고 이를 통해 분산되는 결정성 미립자이다. 이런 항균제의 효과적인 농도는 일반적으로 샴푸 조성물의 약 0.1 중량% 내지 약 5 중량%, 보다 바람직하게는 약 0.3 중량% 내지 약 5 중량%의 범위이다. 적합한 항균제는 황, 옥토피록스, 황화 셀레늄 및 피리딘티온 염을 포함한다.

황화 셀레늄은 샴푸 조성물에 사용하기에 바람직한 미립자 항균제이고, 이의 효과적인 농도는 샴푸 조성물의 약 0.1 중량% 내지 약 5.0 중량%, 바람직하게는 약 0.3 중량 내지 약 2.5 중량%, 보다 바람직하게는 약 0.5 중량% 내지 약 1.5 중량%의 범위이다. 황화 셀레늄은 또한 환형 구조 Se_xS_y(이때 x + y = 8)일수 있지만, 일반적으로 1몰의 셀레늄 및 2몰의 황을 갖는 화합물로 여겨진다. 황화 셀레늄(이황화 셀레늄)에 대한 평균 입자 직경은 전방 레이저광 산란 장치, 예를 들면 말버른(Malvern) 3600 기구에 의해 측정된 것과 같이 15 ㎛ 이하, 바람직하게는 10 ㎛ 이하이다. 황화 셀레늄 화합물은 샴푸 분야에 공지되고 예를 들면 본원에 참고로 인용된 미국 특허 제 2,694,668 호; 미국 특허 제 3,152,046 호; 미국 특허 제 4,089,945 호; 및 미국 특허 제 4,885,107 호에 기술된다.

피리딘티온 항균제, 특히 1-하이드록시-2-피리딘티온 염은 샴푸 조성물에 사용하기에 매우 바람직한 미립자 항균제이고, 이의 농도는 샴푸 조성물의 약 0.1 중량% 내지 약 3 중량%, 바람직하게는 약 0.3 중량% 내지 약 2 중량%의 범위이다. 바람직한 피리딘티온 염은 중금속 예를 들면 아연, 주석, 카드뮴, 마그네슘, 알루미늄 및 지르코늄으로부터 형성된 것이다. 아연 염 특히 1-하이드록시-2-피리딘티온의 아연 염(아연 피리딘티온, ZPT)이 가장 바람직하다. 나트륨과 같은 다른 양이온은 또한 적합할수 있다. 입자가 약 20 마이크론 이하, 바람직하게는 약 8 마이크론 이하, 가장 바람직하게는 약 5 마이크론 이하의 평균 크기를 갖는 판상 입자 형태의 1-하이드록시-2-피리딘티온 염이 특히 바람직하다.

피리딘티온 항균제는 샴푸 분야에 공지되고 예를 들면, 본원에 참고로 인용된 미국 특허 제 2,809,971 호; 미국 특허 제 3,236,733 호; 미국 특허 제 3,753,196 호; 미국 특허 제 3,761,418 호; 미국 특허 제 4,345,080 호; 미국 특허 제 4,323,683 호; 미국 특허 제 4,379,753 호; 및 미국 특허 제 4,470,982 호에 기술된다.

황은 또한 본원의 샴푸 조성물에 미립자 항균제로서 사용될수 있다. 미립자 황의 효과적인 농도는 조성물의 약 1 중량% 내지 약 5 중량%, 보다 바람직하게는 약 2 중량% 내지 약 5 중량%이다.

옥토피록스 및 관련된 염 및 유도체는 또한 샴푸 조성물에 항균제로서 사용될수 있다. 이런 항균제는 샴푸 조성물에 용해성이고 따라서 본원 이전에 기술된 다른 항균제처럼 결정성 미립자로서 조성물을 통해 분산되지 않는다.

현탁제 또는 증점제

본 발명의 샴푸 조성물은 조성물을 통해 미립자 항균제의 분산을 유지하는데 도움을 주는 현탁제 또는 증점제를 포함한다. 이것이 본원에 기술된 샴푸 조성물의 본질적인 성분과 물리적이고 화학적으로 혼화성이거나 또는 다르게는 제품에 안정성, 심미성 또는 성능을 심하게 손상시키지 않으면, 임의의 공지된 현탁제 또는 증점제는 샴푸 조성물에 사용될수 있다.

결정성 현탁제는 미립자 항균제를 샴푸 조성물에 현탁시키는데 바람직하다. 선택된 농도에서 선택된 현탁제는 주위 온도에서 1달 이상, 바람직하게는 3달 이상, 보다 바람직하게는 약 24달 이상의 기간동안 현탁액을 유지하는데 도움을 주어야 한다. 일반적으로 결정성 현탁제의 효과적인 농도는 샴푸 조성물의 약 0.5 중량% 내지 약 10 중량%, 바람직하게는 약 0.5 중량% 내지 약 5 중량%, 보다 바람직하게는 약 1 중량% 내지 약 4 중량%, 가장 바람직하게는 약 1 중량% 내지 약 3 중량%의 범위이다.

일반적으로 결정성 현탁제의 농도는 목적하는 성질만을 이루기 위해 최소화되어야 한다.

바람직한 결정성 현탁제는 아실 유도체 및 산화 아민, 특히 아실 유도체, 특히 예비혼합 용액에 용해되고 이어서 냉각시 재결정화될수 있는 것이다. 이들 물질은 장쇄(예를 들면, C₈내지 C₂₂, 바람직하게는 C₁₄내지 C₂₂, 보다 바람직하게는 C₁₆내지 C₂₂) 지방족 그룹, 즉 장쇄 아실 유도체 물질 및 장쇄 산화 아민 뿐만 아니라 이런 물질의 혼합물을 포함한다. 에틸렌 글리콜 장쇄 에스테르, 장쇄 지방산의 알칸올 아미드, 장쇄 지방산의 장쇄 에스테르, 글리세릴 장쇄 에스테르, 장쇄 알칸올아미드의 장쇄 에스테르 및 장쇄 알킬 디메틸 아민 옥사이드 및 이의 혼합물이 포함된다.

결정성 현탁제는 예를 들면, 본원에 참고로 인용된 미국 특허 제 4,741,855 호에 기술된다.

본원의 샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 현탁제는 바람직하게는 약 14 내지 약 22의 탄소수, 보다 바람직하게는 16 내지 22의 탄소수를 갖는 지방산의 에틸렌 글리콜 에스테르를 포함한다. 에틸렌 글리콜 스테아레이트, 모노스테아레이트 및 디스테아레이트 둘 모두가 보다 바람직하나, 약 7 % 이하의 모노스테아레이트를 포함한 디스테아레이트가 특히 바람직하다. 다른 현탁제는 바람직하게는 약 16 내지 약 22의 탄소수, 보다 바람직하게는 약 16 내지 약 18의 탄소수를 갖는 지방산의 알칸올 아미드를 포함한다. 바람직한 알칸올 아미드는 스테아릭 모노에탄올아미드, 스테아릭 디에탄올아미드, 스테아릭 모노이소프로판올아미드 및 스테아릭 모노에탄올아미드 스테아레이트이다. 다른 장쇄 아실 유도체는 장쇄 지방산의 장쇄 에스테르(예를 들면, 스테아릴 스테아레이트, 세틸 팔미테이트); 글리세릴 에스테르(예를 들면, 글리세릴 디스테아레이트) 및 장쇄 알칸올 아미드의 장쇄 에스테르(예를 들면, 스테아르아미드 디에탄올아미드 디스테아레이트, 스테아르아미드 모노에탄올아미드 스테아레이트)를 포함한다. 상기 열거된 바람직한 물질에 추가로 장쇄 카복실산의 에틸렌 글리콜 에스테르, 장쇄 아민 옥사이드 및 장쇄 카복실산의 알칸올 아미드는 현탁제로서 사용될수 있다.

현탁제는 또한 알킬(C₁₆내지 C₂₂) 디메틸 아민 옥사이드와 같은 장쇄 산화 아민 옥사이드, 예를 들면 스테아릴 디메틸 아민 옥사이드를 포함한다.

사용될수 있는 다른 장쇄 아실 유도체는 N,N-디하이드로카빌(C₁₂내지 C₂₂, 바람직하게는 C₁₆내지 C₁₈) 아미도 벤조산 및 이의 용해성 염(예를 들면, Na 및 K 염), 특히 상기 족의 N,N-디(C₁₆내지 C₁₈및 수소화된 탈로우) 아미도 벤조산 종을 포함하고, 이들은 스테판 캄파니(Stepan Company)(미국 일리노이주 노쓰필드 소재)로부터 시판된다.

결정성 현탁제는 현탁제의 용융점 이상의 온도에서 물 및 음이온성 설페이트 계면활성제를 포함한 용액내로 이것을 용해시킴으로써 본원의 샴푸 조성물내로 혼입될수 있다. 이어서, 현탁제는 전형적으로 용액을 결정화를 유도하기에 충분한 온도로 냉각시킴으로서 재결정화된다.

사용될수 있는 샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 다른 현탁제는 중합체성 증점제 예를 들면 카복시비닐 중합체를 포함하고 이의 예는 본원에 참고로 인용된 미국 특허 제 2,798,053 호 및 미국 특허 제 4,686,254 호에 기술된다. 적합한 카복시비닐 중합체의 예는 모두 비 에프 굿리치 캄파니(B.F.Goodrich Company)로부터 시판된 카보폴(등록상표(Carbopol)) 934, 940, 941, 956, 980, 981, 1342 및 1382를 포함한다.

다른 적합한 현탁제는 수용성 또는 콜로이드성 수용성 중합체 예를 들면 셀룰로스 에테르(예를 들면, 하이드록시에틸 셀룰로스), 구아 검, 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 피롤리돈, 하이드록시프로필 구아 검, 전분 및 전분 유도체, 및 다른 증점제, 점도 개질제, 겔화제, 크산탄 검 및 이의 혼합물과 같은, 조성물에 겔-같은 점도를 제공하는 것을 포함한다.

다른 적합한 현탁제는 본원에 참고로 인용된 미국 특허 제 4,788,006 호에 기술된다.

양이온성 구아 중합체

본 발명의 샴푸 조성물은 정선된 전하 밀도를 갖는 양이온성 구아 중합체를 포함한다. 조성물의 본질적인 성분과 혼합한 양이온성 구아 중합체는 두피 및 피부의 다른 영역 상으로 항균제의 개선된 침착을 제공한다. 양이온성 침착 중합체의 농도는 샴푸 조성물의 약 0.01 중량% 내지 약 1.0 중량%, 바람직하게는 약 0.01 중량% 내지 약 0.5 중량%, 보다 바람직하게는 약 0.02 중량% 내지 약 0.25 중량%의 범위이다.

샴푸 조성물에 사용하기 위한 양이온성 구아 중합체는 약 0.01 meq/g 내지 약 3 meq/g, 바람직하게는 약 0.1 meq/g 내지 약 2 meq/g, 보다 바람직하게는 약 0.8 meq/g 내지 약 1.8 meq/g의 양이온 전하 밀도를 갖는 것으로 추가로 정의되고 이때 양이온성 구아 중합체의 약 50 중량% 이상, 바람직하게는 약 100 중량%의 양이온성 구아 중합체는 샴푸 조성물에서 세제 계면활성제를 갖는 코아세르베이트를 형성한다. 형성된 코아세르베이트는 샴푸 조성물에 불용성인 수화된 분산된 콜로이드의 형태이다.

샴푸 조성물에 사용하기 위한 양이온성 구아 중합체는 양이온 치환된 갈락토만난(구아) 검 유도체이다. 이런 유도체의 분자량은 일반적으로 약 2,000 내지 약 3,000,000의 범위이다. 이들 구아 검 유도체의 제조에 사용하기 위한 구아 검은 전형적으로 구아 식물의 씨로부터 천연적으로 생기는 물질로서 수득된다. 구아 분자 자체는 선택적인 만노스 단위 상에 단일 원 갈락토스 단위를 갖는 일정 간격으로 분지된 직쇄 만난이다. 만노스 단위는 베타(1-4) 글리코시드 결합에 의해 서로 결합된다. 갈락토스 분지는 알파(1-6) 결합을 통해 일어난다. 구아 검의 양이온성 유도체는 폴리갈락토만난의 하이드록시 그룹과 반응성 4급 암모늄 화합물 간의 반응에 의해 수득된다. 양이온성 그룹의 구아 구조 상으로의 치환도는 이전에 기술된 필요한 양이온 전하 밀도를 제공하기에 충분해야 한다.

구아 양이온성 중합체의 형성에 사용하기에 적합한 4급 암모늄 화합물은 하기 화학식 6의 화합물을 포함한다:

상기 식에서,

R¹, R²및 R³은 메틸 또는 에틸 그룹이고,

R⁴는 하기 화학식 7의 에폭시알킬 그룹이거나 또는 하기 화학식 8의 할로하이드린 그룹이다:

상기 식에서,

R⁵는 C₁내지 C₃알킬렌이고,

X는 염소 또는 브롬이고,

Z는 음이온, 예를들면 Cl^-, Br^-, I^-또는 HSO₄ ^-이다.

이전에 기술된 시약으로부터 형성된 양이온성 구아 중합체(구아 검의 양이온성 유도체)는 하기 화학식 9로 나타난다:

상기 식에서,

R은 구아 검이다.

바람직하게는 양이온성 구아 중합체는 보다 특정하게 하기 화학식 10으로 나타낼수 있는 구아 하이드록시프로필트리메틸암모늄 클로라이드이고, 이의 특정한 예는 미국 뉴저지주 크랜버리 소재의 론-폴렌크 서펙턴츠 앤드 스페셜티스(Rhone-Poulenc Surfactants and Specialties)로부터 시판된 재규어(등록상표(Jaguar)) C-13-S(양이온 전하 밀도 0.8 meq/g) 및 재규어 C-17(양이온 전하 밀도 1.6 meq/g)을 포함한다.

다른 적합한 양이온성 구아 중합체는 하이드록시프로필화된 양이온성 구아 유도체를 포함한다.

물

본 발명의 샴푸 조성물은 조성물의 약 40 중량% 내지 약 92 중량%, 바람직하게는 약 50 중량% 내지 약 85 중량%, 보다 바람직하게는 약 60 중량% 내지 약 80 중량%의 물을 포함하는 수성 시스템이다.

샴푸 조성물의 pH는 일반적으로 약 2 내지 약 10, 바람직하게는 약 3 내지 약 9, 보다 바람직하게는 약 4 내지 약 8, 가장 바람직하게는 약 5.5 내지 약 7.5의 범위이다. 쯔비터이온성 또는 양쪽성 계면활성제 시스템의 경우, pH는 본원에 기술된 양이온성 구아 중합체를 갖는 코아세르베이트를 형성하기 전에 음이온성 종을 선택된 계면활성제 상에 유지시키기 위해 선택된 계면활성제의 등전점에 따라 조정되어야 한다.

선택적인 성분

선택적인 성분이 본원에 기술된 본질적인 성분과 물리적이고 화학적으로 혼화성이거나 또는 다르게는 제품의 안정성, 심미성 또는 성능을 심하게 손상시키지 않으면, 본 발명의 샴푸 조성물은 샴푸 조성물에 사용하기 위한 공지된 하나 이상의 선택적인 성분을 추가로 포함한다. 이런 선택적인 성분의 농도는 전형적으로 샴푸 조성물의 약 0.001 중량% 내지 약 10 중량%의 범위이다.

선택적인 성분은 방부제, 콘디셔닝제, 스타일링 중합체, 유기 용매, 진주광택 보조제, 발포 증진제, 비이온성 계면활성제, pH 조절제, 향료, 단백질, 염료, 피부 활성화제, 일광차단제, 비타민 및 점도 조절제를 포함한다. 선택적인 성분의 상기 목록은 배타적인 것을 의미하지않고 다른 선택적인 성분이 사용될수 있다.

사용 방법

본 발명의 샴푸 조성물은 모발을 세척하고 두피 상에서 비듬을 억제하는 통상적인 방식으로 사용된다. 본원의 샴푸 조성물은 또한 피부 및 신체의 다른 영역 예를 들면 겨드랑이 및 서혜부 영역을 세척하는데 유용하다. 모발, 피부 또는 신체의 다른 영역을 세척하기 위해 효과적인 양의 조성물, 전형적으로 약 1 g 내지 약 20 g의 조성물을 일반적으로 물과 함께 바람직하게는 습윤되는 모발, 피부 또는 다른 영역에 도포하고 이어서 헹궈 낸다. 모발의 도포는 전형적으로 대부분의 또는 모든 모발이 샴푸 조성물과 접촉하도록 샴푸 조성물을 모발 전체에 작용시키는 것을 포함한다.

실시예 1 내지 20에 설명된 조성물은 본 발명의 샴푸 조성물의 특정한 양태를 설명하나 이에 제한되지 않는다. 다른 변형이 본 발명의 진의 및 범위로부터 이탈하지 않고 숙련자에 의해 수행될수 있다. 본 발명의 샴푸 조성물의 이들 예시된 양태는 우수한 모발의 세척 및 비듬 억제를 제공한다.

모든 예시된 조성물은 통상적인 배합 및 혼합 기법에 의해 제조될수 있다. 성분 양은 중량%로서 나타내고 소량의 물질 예를 들면 희석제, 충전제 등을 배제한다. 따라서 열거된 배합물은 열거된 성분 및 이런 성분과 결합된 임의의 소량의 물질을 포함한다.

성분	실시예 1	실시예 2	실시예 3	실시예 4	실시예 5
암모늄 라우레트 설페이트	15.00	15.00	15.00	15.00	7.50
암모늄 라우릴 설페이트	5.00	5.00	5.00	5.00	2.50
나트륨 라우로일 사코시네이트	1.50	1.50	1.50	1.50	0.75
에틸렌 글리콜 디스테아레이트	1.50	1.50	1.50	1.50	1.50
아연 피리티온	1.00	1.00	1.00	---	1.00
황화 셀레늄	---	---	---	1.00	---
재규어 C17S	0.10	0.05	0.50	0.10	0.10
향료	적정량	적정량	적정량	적정량	적정량
색	적정량	적정량	적정량	적정량	적정량
pH 조정(모노/디 나트륨 포스페이트)	적정량	적정량	적정량	적정량	적정량
점도 조정(염화 나트륨)	적정량	적정량	적정량	적정량	적정량
방부제(DMDM 하이단토인); 물	적정량	적정량	적정량	적정량	적정량

성분	실시예 6	실시예 7	실시예 8	실시예 9	실시예 10
암모늄 라우레트 설페이트	7.50	15.00	15.00	10.00	10.00
암모늄 라우릴 설페이트	2.50	5.00	5.00	2.50	2.50
코카미도프로필 베타인	---	---	---	2.50	2.50
나트륨 라우로일 사코시네이트	0.75	---	---	---	---
에틸렌 글리콜 디스테아레이트	1.50	1.50	1.50	1.50	1.50
아연 피리티온	1.00	1.00	1.00	1.00	1.00
재규어 C13S	---	0.10	---	0.10	---
재규어 C17S	0.05	---	0.10	---	0.10
향료	적정량	적정량	적정량	적정량	적정량
색	적정량	적정량	적정량	적정량	적정량
pH 조정(모노/디 나트륨 포스페이트)(나트륨 설페이트, PEG-600암모늄 크실렌 설포네이트)	적정량적정량	적정량적정량	적정량적정량	적정량적정량	적정량적정량
방부제(DMDM 하이단토인); 물	적정량	적정량	적정량	적정량	적정량

성분	실시예11	실시예12	실시예13	실시예14	실시예15	실시예16
암모늄 라울레트 설페이트	15.00	15.00	15.00	15.00	15.00	15.00
암모늄 라우릴 설페이트	5.00	5.00	5.00	5.00	5.00	5.00
코카이도프로필 베타인	2.00	---	---	---	---	---
나트륨 라우로일 사코시네이트	---	1.50	1.50	---	---	---
나트륨 코코일 글루타메이트	---	---	---	---	---	1.50
에틸렌 글리콜 디스테아레이트	1.50	1.50	1.50	1.50	1.50	1.50
스테아릴 알콜	---	---	---	---	---	---
아연 피리티온	1.00	0.30	0.30	0.30	0.30	1.00
재규어 C13S	0.20	---	---	0.10	0.05	---
재규어 C17S	---	0.10	0.05	---	---	0.10
향료	적정량	적정량	적정량	적정량	적정량	적정량
색	적정량	적정량	적정량	적정량	적정량	적정량
pH 조정(모노/디 나트륨 포스페이트)	적정량	적정량	적정량	적정량	적정량	적정량
점도 조정(염화 나트륨)	적정량	적정량	적정량	적정량	적정량	적정량
방부제(DMDM 하이단토인)	적정량	적정량	적정량	적정량	적정량	적정량
물	적정량	적정량	적정량	적정량	적정량	적정량

실시예 1 내지 16에 기술된 각각의 조성물을 제조할때, 약 1/3의 암모늄 라우레트 설페이트(25 중량%의 용액으로서 첨가)를 자켓이 장착된 혼합 탱크에 첨가하고 서서히 진탕을 하면서 약 74℃로 가열시켜 계면활성제 용액을 형성한다. 염(염화 나트륨) 및 pH 조절제(디나트륨 포스페이트, 모노나트륨 포스페이트)를 탱크에 첨가하고 분산시킨다. 에틸렌 글리콜 디스테아레이트(EGDS)를 혼합 용기에 첨가하고 용융시킨다. EGDS를 용융시키고 분산시킨후(예를 들면, 약 5 내지 20분 후) 방부제 및 추가의 점도 개질제를 계면활성제 용액에 첨가한다. 생성된 혼합물을 열교환기에 통과시키고, 여기서 약 35℃로 냉각시키고 최종 탱크에 수거한다. 상기 냉각 단계의 결과로서, EGDS는 결정화하여 생성물 중에 결정 망상을 형성한다. 암모늄 라우레트 설페이트 및 다른 성분의 잔여물을 균질 혼합물이 되도록 진탕하면서 최종 탱크에 첨가한다. 양이온성 구아 중합체를 0.5 내지 2.5 %의 수용액으로서 물에 분산시킨후 최종 혼합물에 첨가한다. 모든 성분을 첨가하면, 점도 및 pH 개질제를 상기 혼합물에 첨가하여 생성물 점도 및 pH를 목적하는 범위로 조정한다.

각각의 예시된 조성물은 우수한 모발 세척, 발포성, 두피 상에 항균제 침착 및 비듬 억제를 제공한다.

성분	실시예 17	실시예 18	실시예 19
암모늄 라우레트 설페이트	14.00	14.00	14.00
코카미도프로필 베타인	---	2.50	2.50
코코암포디아세테이트	2.50	---	---
코카미드 MEA	1.00	1.00	1.00
에틸렌 글리콜 디스테아레이트	1.50	1.50	1.50
세틸 알콜	0.42	0.42	0.42
스테아릴 알콜	0.18	0.18	0.18
아연 피리티온	1.00	1.00	1.00
재규어 C13S	0.15	0.15	---
재규어 C17S	---	---	0.15
향료	적정량	적정량	적정량
색	적정량	적정량	적정량
pH 조정(모노/디 나트륨 포스페이트)	적정량	적정량	적정량
점도 조정(염화 나트륨)	적정량	적정량	적정량
방부제(DMDM 하이단토인); 물	적정량	적정량	적정량

실시예 17 내지 19에 기술된 각각의 조성물을 제조할때, 50 중량% 내지 100 중량%의 세제 계면활성제를 자켓이 장착된 혼합 탱크에 첨가하고 서서히 진탕을 하면서 약 74℃로 가열시켜 계면활성제 용액을 형성한다. 사용한다면, pH 개질제(모노나트륨 포스페이트, 디나트륨 포스페이트)를 탱크에 첨가하고 분산시킨다. 에틸렌 글리콜 디스테아레이트(EGDS)와 지방 알콜(세틸 알콜, 스테아릴 알콜)을 혼합 용기에 첨가하고 용융시킨다. EGDS를 용융시키고 분산시킨후(예를 들면, 약 5 내지 10분 후) 방부제(사용한다면)를 첨가하고 계면활성제 용액에 혼합한다. 필요하다면 추가의 점도 개질제를 계면활성제 용액에 첨가한다. 생성된 혼합물을 열교환기에 통과시키고, 여기서 약 35℃로 냉각시키고 최종 탱크에 수거한다. 상기 냉각 단계의 결과로서, EGDS는 결정화하여 생성물 중에 결정 망상을 형성한다. 임의의 잔여 계면활성제 및 다른 성분을 균질 혼합물이 되도록 진탕하면서 최종 탱크에 첨가한다. 양이온성 구아 중합체를 0.5 내지 2.5 %의 수용액으로서 물에 분산시킨후 최종 혼합물에 첨가한다. 모든 성분을 첨가하면, 점도 및 pH 개질제를 상기 혼합물에 첨가하여 생성물 점도 및 pH를 목적하는 범위로 조정한다.

성분	실시예 20
암모늄 라우레트 설페이트	15.00
암모늄 라우릴 설페이트	5.00
코카미드 MEA	1.00
에틸렌 글리콜 디스테아레이트	1.50
아연 피리티온	1.00
재규어 C13S	0.20
색	적정량
pH 조정(모노/디 나트륨 포스페이트)	적정량
점도 조정(염화 나트륨)	적정량
방부제(DMDM 하이단토인); 물	적정량

실시예 20에 기술된 조성물을 제조할때, 약 1/3 내지 전부의 총 계면활성제를 자켓이 장착된 혼합 탱크에 첨가하고 서서히 진탕을 하면서 약 74℃로 가열시켜 계면활성제 용액을 형성한다. 염을 탱크에 첨가하고 분산시킨다. 이어서 에틸렌 글리콜 디스테아레이트(EGDS)를 혼합 용기에 첨가하고 용융시킨다. EGDS를 용융시키고 분산시킨후(일반적으로 약 5 내지 20분 후), 사용한다면 방부제(DMDM 하이단토인)를 계면활성제 용액에 첨가한다. 생성된 혼합물을 열교환기에 통과시키고, 여기서 약 35℃로 냉각시키고 최종 탱크에 수거한다. 상기 냉각 단계의 결과로서, EGDS는 결정화하여 생성물 중에 결정 망상을 형성한다. 세제 계면활성제 및 다른 성분의 잔여물을 균질 혼합물이 되도록 진탕하면서 최종 탱크에 첨가한다. 양이온성 구아 중합체를 0.5 내지 2.5 %의 수용액으로서 물에 분산시킨후 최종 혼합물에 첨가한다. 모든 성분을 첨가하면, 점도 및 pH 개질제를 상기 혼합물에 첨가하여 생성물 점도 및 pH를 목적하는 범위로 조정한다.

생성된 조성물은 우수한 모발 세척, 발포성, 두피 상에 항균제 침착 및 비듬 억제를 제공한다.

Claims

(a) 음이온성 계면활성제, 양쪽성 계면활성제, 쯔비터이온성 계면활성제 및 이의 혼합물로 구성된 그룹으로부터 선택된, 바람직하게는 음이온성 계면활성제인 7 중량% 내지 30 중량%의 세제 계면활성제;

(b) 0.1 중량% 내지 10 중량%의 항균제;

(c) 0.5 중량% 내지 10 중량%의 현탁제;

(d) 0.01 meq/g 내지 3 meq/g의 전하 밀도를 갖는, 0.01 중량% 내지 1.0 중량%의 양이온성 구아 중합체; 및

(e) 40 중량% 내지 92 중량%의 물을 포함하고,

이때 상기 양이온성 구아 중합체의 50 중량% 이상이 세제 계면활성제 및 양이온성 구아 중합체를 포함하는 코아세르베이트 형태인, 항균제의 침착성이 개선된 샴푸 조성물.
제 1 항에 있어서,

항균제가 황, 황화 셀레늄, 피리딘티온 염 및 이의 혼합물로 구성된 그룹으로부터 선택된, 바람직하게는 1-하이드록시-2-피리딘티온의 아연 염의 결정성 미립자 물질인 샴푸 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

N-아실 아미노산 계면활성제가 실질적으로 없는 샴푸 조성물.
제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서,

양이온성 구아 중합체가 0.1 meq/g 내지 2 meq/g의 양이온 전하 밀도를 갖는 샴푸 조성물.
제 1 항 내지 제 4 항중 어느 한 항에 있어서,

음이온성 세제 계면활성제의 농도가 조성물의 12 중량% 내지 22 중량%인 샴푸 조성물.
제 1 항 내지 제 5 항중 어느 한 항에 있어서,

세제 계면활성제가 N-아실 아미노산 계면활성제를 포함하고, 양이온성 구아 중합체가 0.9 meq/g 내지 3 meq/g의 양이온 전하 밀도를 갖는 샴푸 조성물.
(a) 10 중량% 내지 25 중량%의 음이온성 세제 계면활성제;

(b) 황, 황화 셀레늄, 피리딘티온 염 및 이의 혼합물로 구성된 그룹으로부터 선택된, 바람직하게는 1-하이드록시-2-피리딘티온의 아연 염인 0.1 중량% 내지 10 중량%의 결정성 미립자 항균제;

(c) 0.5 중량% 내지 10 중량%의 결정성 현탁제 ;

(d) 0.1 meq/g 내지 2 meq/g의 전하 밀도를 갖는, 0.01 중량% 내지 0.5 중량%의 양이온성 구아 중합체; 및

(e) 50 중량% 내지 85 중량%의 물을 포함하고,

이때 상기 양이온성 구아 중합체의 50 중량% 이상이 세제 계면활성제 및 양이온성 구아 중합체를 포함하는 코아세르베이트 형태이고, N-아실 아미노산 계면활성제가 실질적으로 없는, 미립자 항균제의 침착성이 개선된 샴푸 조성물.
제 1 항 내지 제 7 항중 어느 한 항에 있어서,

양이온성 구아 중합체가 구아 하이드록시프로필트리메틸암모늄 클로라이드인 샴푸 조성물.