KR19990082025A - 안료 입자의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 옵셋 인쇄법에 의한 콜레스테르계 액정 크기의 구조를 갖는 안료 입자의 제조를 제외한 안료 입자 제조 방법으로서, 염료 또는 착색제를 함유하는 중합성 혼합물을 소정의 안료 입자 형태의 굴곡이 있는 표면에 도포하여, 상기 혼합물을 중합시킨 다음 그 중합된 안료 입자를 상기 굴곡으로부터 제거하거나, 또는 상기 중합성 혼합물을 소정의 안료 입자 형태, 즉 인쇄 기술 수단에 의해 알려진 방식으로 미리 결정된 형태의 평활한 표면에 도포하여, 상기 혼합물을 중합시킨 다음 그 중합된 안료 입자를 상기 표면으로부터 제거하는 단계를 포함하는 안료 입자의 제조 방법을 제공한다.

Description

안료 입자의 제조 방법
보통, 안료는 침전 반응 또는 크기가 큰 착색된 단편의 기계적 분쇄에 의하여 제조한다. 이러한 안료 제조 방법은 입도와 형태가 서로 다른 안료 입자를 생산산하게 된다.
선행 독일 특허 출원 제19532419.6호에서는 옵셋 인쇄법에 의한 콜레스테르계 액정 배열 구조를 갖는 안료를 제조하는 방법을 개시하고 있다. 이러한 방법에 따르면, 규칙적인 형태의 안료 입자를 얻을 수 있다. 그러나, 상기 특허에서는 다른 인쇄 기술에 의한 안료의 제조 뿐만 아니라 액정 안료를 제외한 다른 안료의 제조에 대한 언급이 전혀 없다.
고품질의 착색된 도장(塗裝) 재료, 특히 간섭 효과를 기본으로 하여 색을 감지할 수 있는 도장 재료를 제조하기 위해서는 입도와 형태가 한정되고 규칙적인 안료 입자를 사용하는 것이 유리하다.
그러므로, 본 발명의 목적은 한정된 형태의 안료 입자를 제조하는 방법을 찾아내는 데 있다.
본 발명자들은 상기 목적이 서두에 기재한 방법에 의해 달성할 수 있다는 사실을 발견하게 되었다.
본 발명은 옵셋 인쇄에 의한 콜레스테르계 액정(液晶) 배열 구조를 갖는 안료 입자의 제조를 제외한 안료 입자의 제조 방법으로서, 상기 방법은 염료 또는 간섭 착색제를 함유하는 중합성 혼합물을 소정의 안료 입자 형태의 굴곡(identations)이 있는 표면에 도포하고, 상기 혼합물을 중합시킨 다음 그 중합된 안료 입자를 상기 굴곡으로부터 제거하거나, 또는 상기 중합성 혼합물을 소정의 입자 형태, 즉 인쇄 기술에 의한 알려진 방식으로 미리 결정된 형태의 평활한 표면에 도포하고, 상기 혼합물을 중합시킨 다음 그 중합된 안료 입자를 상기 표면으로부터 제거하는 단계를 포함한다.
또한, 본 발명은 안료 입자를 제조하는 장치, 전술한 방법에 의해 얻을 수 있는 신규한 안료 입자 및 이 신규한 안료 입자를 포함하는 도료 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 신규한 제조 방법은 중합성 혼합물로부터 시작한다. 이러한 중합성 혼합물은, 예를 들면 유기 염료 또는 무기 염료를 포함한다. 이들 염료는 예를 들면 발색단(發色團)에 있는 중합성 측쇄를 통해 그들 자체가 중합성이거나, 또는 이들 염료는 중합성 결합제와 혼합하여 중합체 망상 구조 내에 결합될 수 있다. 본 발명에서 염료의 선택은 안료의 연속적인 사용에 의해 좌우된다. 원칙상, 모든 염료를 본 발명의 신규한 방법에 사용할 수 있다. 사용되는 염료는 불용성이거나 중합체 망상 구조 내로 공유 결합되는 것이 유리하다.
적합한 염료는 아래에서 더욱 상세히 설명된다.
특히 적합한 아조 염료로는 모노아조 염료 또는 디아조 염료, 예를 들면 아닐린으로부터 유도되거나, 헤테로사이클 고리가 질소, 산소 및 황으로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 내지 3개의 헤테로 원자를 포함하는 5원 고리의 방향족 헤테로사이클 아민으로부터 유도된 디아조 성분을 갖는 것들이 있으며, 아조 성분의 화합물은 벤젠 고리, 티오펜 고리, 피리딘 고리 또는 피리미딘 고리와 융합될 수 있다.
중요한 모노아조 염료와 디아조 염료의 예로는, 예를 들면 아닐린으로부터 유도되거나, 피롤, 푸란, 티오펜, 피라졸, 이미다졸, 옥사졸, 이소옥사졸, 티아졸, 이소티아졸, 트리아졸, 옥사디아졸, 티아디아졸, 벤조푸란, 벤조티오펜, 벤즈이미다졸, 벤즈옥사졸, 벤조티아졸, 벤즈이소티아졸, 피리도티오펜, 피리미도티오펜, 티엔오티오펜 또는 티엔오티아졸 등으로 이루어진 군으로부터 선택된 헤테로사이클 아민으로부터 유도된 디아조 성분을 지닌 것들이 있다.
특히 언급할 만한 디아조 성분으로는 아닐린으로부터 유도되거나, 피롤, 티오펜, 피라졸, 티아졸, 이소티아졸, 트리아졸, 티아디아졸, 벤조티오펜, 벤조이소티아졸, 피리도티오펜, 피리미도티오펜, 티엔오티오펜 또는 티엔오티아졸 등으로 이루어진 군으로부터 선택된 헤테로사이클 아민으로부터 유도되는 것들이 있다.
또한, 아닐린, 아미노나프탈렌, 아미노티아졸, 디아미노피리딘 또는 히드록시피리돈 등으로부터 선택된 커플링 성분을 지닌 아조 염료도 중요하다.
모노아조 염료는 원래부터 알려져 있었고, 그 대다수는, 예를 들면 참고 문헌[케이. 벤카타라만, "The Chemistry of Synthestic Dyes", Vol.Ⅵ, 아카데미 프레스, 뉴욕, 런던, 1972; 또는 EP-A-201 896호]에 개시되어 있다.
유리하게 사용할 수 있는 기타 염료로는 안트라퀴논 염료, 쿠마린 염료, 메틴 염료, 아자메틴 염료 및 퀴노프탈론 염료가 있다.
적합한 안트라퀴논 염료는, 예를 들면 참고 문헌[디.알. 워링, 지. 할라스, "The Chemistry and Application of Dyes", pp. 107-118, 플레늄 프레스, 뉴욕, 런던, 1990]에 개시되어 있다.
적합한 쿠마린 염료는, 예를 들면 참고 문헌[Ullmanns Encyklopadie der technichen Chemie, 4th edtion, Volume 17, page 469]에 개시되어 있다.
적합한 메틴 염료 또는 아자메틴 염료는, 예를 들면 US-A-5 079 365호와WO-A-9219684호에 개시되어 있다.
적합한 퀴노프탈론 염료는, 예를 들면 EP-83 553호에 개시되어 있다.
중합이라는 용어는 일종의 중합체 합성 반응, 예를 들면 사슬 첨가 중합, 단계적 성장 중합 및 축중합을 포함하는 것으로서 이해하여야 한다.
염료 또는 간섭 착색제 이외에도, 중합성 혼합물은 표면 도장 또는 인쇄 잉크의 기술 분야에 있어서 통상적인 다양한 첨가제, 예를 들면 중합성 결합제, 반응성 희석제, 분산 보조제, 중합체 결합제, 충전제, 희석제 및 중합 개시제를 포함할 수 있다.
특히 적합한 첨가제로는 중합체 결합제 및/또는 중합에 의해 중합체 결합제로 전환될 수 있는 단량체 화합물이 있다. 그러한 물질의 적합한 예로는 실리콘(이 실리콘은 폴리에테르 개질화 실리콘과 폴리에스테르 개질화 실리콘일 수 있음), 폴리우레탄, 셀룰로오스 에스테르 및 유기 용매에 용해성인 폴리에스테르가 있다. 특히, 셀룰로오스 에스테르, 예를 들면 셀룰로오스 아세토부티레이트를 사용하는 것이 좋다.
특히 적당한 중합체 결합제로는 가교 가능한 반응성기, 예를 들면 아크릴기, 메타크릴기, α-클로로아크릴기, 비닐기, 비닐 에테르기, 에폭시기, 시아네이트기, 이소시아네이트기 또는 이소티오시아네이트기를 함유하는 것들이 있다. 또한, 단량체 물질로는 결합제, 특히 페인트 제제 분야에서 알려져 있는 반응성 희석제, 예를 들면 헥산디올 디아크릴레이트 또는 비스페놀 A 디아크릴레이트가 적합하다. 그러한 물질은 소량, 보통 0.1 중량% 내지 1 중량%로도 유동 점도를 현저하게 개선시킬 수 있다. 동시에, 이러한 물질들은 경화된 안료 입자의 기계적 성질에 커다란 영향을 미친다.
적합한 용매 또는 희석제의 예로는 에스테르, 특히 아세트산 에스테르, 알콜, 락톤, 지방족 탄화수소, 방향족 탄화수소, 아미드, N-알킬피롤리돈, 특히 N-메틸피롤리돈, 테트라히드로푸란 및 디옥산이 있다. 물도 역시 어떤 경우에는 희석제로서 유리하게 사용할 수 있다.
나아가, 중합성 혼합물은 열적으로 또는 광화학적으로 분해되어 도막(塗膜)을 경화시키는 중합 개시제를 포함할 수 있다. 열중합 개시제 중에는 양호하게는 20℃ 내지 180℃, 특히 양호하게는 50℃ 내지 80℃에서 분해되어 중합을 개시할 수 있는 것이 우선한다. 광화학적 경화의 경우, 원칙상 모든 광개시제를 사용할 수 있다. 특히, 상이한 개시제의 혼합물도 사용하여 경화를 완전히 개선시킬 수 있다. 매우 적합한 광개시제의 예로는 벤조페논과 이것의 유도체, 예를 들면 알킬 벤조페논, 할로메틸화된 벤조페논 또는 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 벤조인과 벤조인 에테르, 예를 들면 에틸 벤조인 에테르, 벤질 케탈, 예를 들면 벤질 디메틸 케탈, 아세토페논 유도체, 예를 들면 히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온 및 히드록시시클로헥실 페닐 케톤이 있다. 아실포스핀 옥사이드, 예를 들면 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀 옥사이드가 특히 바람직하다. 광화학적으로 활성 가능한 중합 개시제는 황변(黃變) 효과를 나타내지 않는 것들을 사용하는 것이 우선한다.
기타 특히 양호한 중합 개시제로는 붕소 알킬 화합물과 퍼옥사이드, 예를 들면 디벤조일 퍼옥사이드와 디-tert-부틸 퍼옥사이드가 있다.
상기 신규한 안료의 목적하는 용도에 따라, 광개시제는 중합성 성분을 기준으로 하여 0.01 중량% 내지 15 중량%의 양으로 사용하는 것이 유리하고, 유리한 상승 효과를 고려하여 각개 물질 단독으로 또는 상호 혼합물 형태로 배합하여 사용할 수 있다.
양이온 중합의 경우, 전하를 띤 구조를 갖는 개시제를 사용하는 것이 좋다. 특히, 일부 경우에서는 아실포스핀 옥사이드와 조합하여 사용되는 물질, 예를 들면 아래의 화합물과 이들 화합물의 유도체를 사용할 수 있다.
필요하다면, UV 안정화제 및 기후 안정화제도 상기 중합성 혼합물에 첨가할 수 있다. 이러한 화합물의 적합한 예로는 2,4-디히드록시벤조페논의 유도체, 2-시아노-3,3-디페닐 아크릴레이트의 유도체, 2,2',4,4'-테트라히드로옥시벤조페논의 유도체, 오르토히드록시페닐벤조트리아졸의 유도체, 살리실 에스테르, 오르토히드록시페닐-S-트리아진 또는 입체 장해형 아민이 있다. 이러한 물질은 단독으로 또는 바람직하게는 혼합물 형태로 사용할 수 있다.
적합한 충전제로는 금홍석, 예추석, 백악, 활석 및 황산바륨이 있다.
분산 보조제는 중합성 혼합물의 유동 점도과 그 중합성 혼합물 내의 각 성분의 혼화성에 긍적적으로 영향을 미친다. 모든 통상적인 분산 보조제를 사용할 수 있다.
특히 적합한 분산 보조제로는 참고 문헌[선행 독일 특허 출원 제19532419.6호]에 개시되어 있는 바와 같이, 숙신아미드, 숙신에이트 또는 숙신산 무수물을 기본으로 하는 것들이 있다.
중합성 혼합물은 염료 및/또는 간섭 착색제를 포함할 수 있다. 그러한 간섭 안료의 형태는 특히 중요하기 때문에, 본 발명의 신규한 방법은 그러한 안료를 제조하는 데 특히 적합하다.
특히 유리한 간섭 착색제로는 콜레스테르계 액정 조성물이 있다.
콜레스테르계 액정 조성물은 키랄성 액정 화합물을 사용하거나, 비키랄성 액정 화합물에 적합한 키랄성 도프제(dopants)를 첨가함으로써 제조할 수 있다.
본 발명의 신규한 제조 방법에 사용되는 콜레스테르계 액정 조성물은 다음의 성분 a) 또는 b)를 포함하는 것이 좋다.
a) 1종 이상의 키랄성 액정 중합성 단량체, 또는
b) 1종 이상의 비키랄성 액정 중합성 단량체와 키랄성 화합물.
이와 관련하여, 각 경우에 특히 적합한 그러한 성분들은 이들 성분이 중합체 망상 구조로 전환되거나 그 구조 내로 결합될 수 있다는 것을 의미하는 반응성기를 지닌 성분이다.
특히 적합한 키랄성 액정 중합성 단량체 a)로는 하기 화학식Ⅰ로 표시되는 것들이 있다.
상기 식 중,
Z1는 중합성기 또는 중합성기를 함유하는 라디칼이고,
Y1, Y2및 Y3는 화학적 결합, 산소, 황, -CO-0-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-N(R)- 또는 -N(R)-CO-이며,
A1는 스페이서이고,
M1는 메조겐기(mesogenic group)이며,
X는 n가(價) 키랄성 라디칼이고,
R은 수소 또는 C1-C4-알킬이며,
n은 1 내지 6이고,
Z1, Y1, Y2, Y3, A1및 M1은 동일하거나 상이할 수 있다.
바람직한 라디칼 Z1로는 다음과 같은 것이 있다.
H2C=CH-, HC≡C-,,,,,,,, -N=C=O, -N=C=S, -O-C≡N, -COOH, -OH 또는 -NH2.
상기 각 식에서,
R는 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 또는 C1-C4-알킬, 예를 들면 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, sec-부틸 또는 tert-부틸이다. 중합 가능한 반응성기 중, 시아네이트는 자발적으로 삼량체화(三量體化)하여 시아누레이트를 형성할 수 있어서 바람직하다. 언급된 기타 기의 중합은 보조 반응성기를 갖는 화합물을 더 필요로 한다. 예를 들면, 이소시아네이트는 알콜과 반응하여 우레탄을 형성하고, 아민과 반응하여 우레아 유도체를 형성할 수 있다. 티이란과 아지리딘의 경우에도 유사한 설명을 덧붙일 수 있다. 카르복실기는 축합되어 폴리에스테르와 폴리이미드를 형성할 수 있다. 말레이미도기는 올레핀 화합물, 예를 들면 스티렌과 자유 라디칼 공중합하는 데 특히 적합하다. 이러한 보조 반응성기는 제1 화합물과 혼합되는 제2 신규한 화합물 형태로 존재하거나, 또는 이러한 보조 반응성기를 2개 이상 포함하는 보조 화합물에 의해 중합체 망상 구조에 결합될 수 있다.
Y1-Y3는 앞에서 정의한 바와 같이, 화학적 결합이라는 용어는 단일 공유 결합을 의미한다.
특히 양호한 Z1-Y1기로는 아크릴레이트와 메타크릴레이트가 있다.
적합한 스페이서 A1은 본 발명의 목적을 위해 알려진 모든 기로서, 일반적으로 2개 내지 30개, 바람직하게는 2개 내지 12개의 탄소 원자를 함유하며, 선형 지방족기로 이루어져 있다. 이들 사슬은, 예를 들면 인접하지 않게 O, H, NH 또는 NH3로 치환될 수 있다. 스페이서 사슬에 대한 적합한 치환체로는 플루오로, 브롬, 시아노, 메틸 및 에틸이 있다.
대표적인 스페이서의 예로는 다음과 같은 것들이 있다.
-(CH2)p-, -(CH2CH2O)mCH2CH2-, -CH2CH2SCH2CH2-, -CH2CH2NHCH2CH2-,,,.
상기 각 식에서 m은 1 내지 3이고, p는 1 내지 12이다.
메조겐기 M1은 다음 구조식인 것이 좋다.
(T-Y8)S-T
상기 식에서, Y8은 Y1에 관한 가교 연결부이고, s는 1 내지 3이며, T는 각각의 경우에 동일하거나 상이할 수 있고, 2가의 이소시클로 지방족 라디칼, 헤테로시클로 지방족 라디칼, 이소 방향족 라디칼 또는 헤테로 방향족 라디칼이다.
또한, T는 불소, 염소, 브롬, 시아노, 히드록시 또는 니트로, 바람직하게는 다음의 기로 치환되는 고리계일 수 있다.
특히 바람직한 메조겐기 M1로는 다음과 같은 것들이 있다.
무엇보다도 구득 용이성 때문에, 화학식 Ⅰ의 화합물의 특히 양호한 키랄성 라디칼 X로는 당으로부터 유도된 것, 비나프틸 유도체 또는 비페닐 유도체 및 광학 활성 글리콜, 디알콜 또는 아미노산이 있다. 특히 언급할 만한 당으로는 5탄당, 6탄당 및 이들의 유도체가 있다.
라디칼 X의 예로는 하기 구조의 것들이 있는데, 각 경우에 말단선은 자유 원자가를 나타낸다.
특히 바람직한 라디칼 X로는 다음과 같은 것들이 있고,
또한, 하기 구조를 포함하는 키랄성기도 적합하다.
추가의 예들은 EP-A 0 738 403호에 개시되어 있다.
R는 수소 또는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, sec-부틸 및 tert-부틸일 수 있고,
n은 2인 것이 좋다.
비키랄성 액정 중합성 단량체 b) 중에서, 콜레스테르계 액정 조성물에 대한 특히 적합한 예로는 하기 화학식 Ⅱ로 표시된 것들이 있다.
상기 식 중,
Z2와 Z3은 중합성 기이거나 중합성기를 포함하고,
Y4, Y5, Y6및 Y7는 화학적 결합, 산소, 황, -C0-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-N(R)- 또는 -N(R)-C0-이다.
중합성기, 가교 연결부 Y4-Y7, 스페이서 및 메조겐기는 화학식 Ⅰ에서의 대응하는 변수와 관련하여 동일한 것이 바람직하다.
비키랄성 액정 단량체 이외에도, 콜레스테르계 액정 조성물 b)는 키랄성 화합물, 바람직하게는 하기 화학식 Ⅰa로 표시되는화합물을 포함한다.
상기 식 중, Z1, Y1, Y2, Y3, A1, X 및 n은 앞에서 정의한 바와 같고, Ma는 1개 이상의 헤테로사이클 고리계 또는 이소사이클 고리계를 포함하는 2가의 라디칼이다.
이와 관련하여, 분자 부분 Ma는 상기 메조겐기와 유사한데, 그 이유는 Ma가 이러한 방식으로 액정 화합물과 매우 양호한 상용성을 이루기 때문이다. 그러나, Ma는 실제로 메조겐기일 필요는 없다. 그 이유는 화합물 Ⅰa가 키랄성 구조에 의해서만 액정 결정상을 적합하게 비틀 수 있기 때문이다. Ma에서 바람직한 고리계로는 앞에서 정의한 구조 T가 있다.
상기 중합성 혼합물은 2 가지 방식으로 정의된 구조의 안료 입자를 생산할 수 있다. 즉, 상기 중합성 혼합물을 굴곡이 있는 표면에 도포한 다음 중합시키거나, 또는 상기 혼합물을 평활한 표면 위에 인쇄한 다음 중합시키는 방식이 있다.
후자의 경우에는 안료에 대한 소정의 입도와 형태로 잉크를 도포할 수 있는 다양한 인쇄법이 적합하다. 적합한 예로는 옵셋 인쇄법, 스크린 인쇄법, 릴리이프 인쇄법, 그래뷰 인쇄법 및 플렉소그래픽 인쇄법이 있다. 중요한 인자로는 상기 혼합물이 유동하지 않고 인쇄될 수 있는 수준까지 적합한 보조제를 사용하여 점도를 조절하여야 한다는 점이 있다. 콜레스테르계 액정 안료의 경우, 보조제가 액정 구조에 역영향을 미치지 않도록 하고, 표면 위에서의 액정의 자발적인 배향이 가능할 수 있도록 유의해야 한다. 적합한 보조제는 선행 독일 특허 출원 제19532419.6호에 개시되어 있다.
평활한 표면이라는 용어는 제조하고자 하는 안료 입자의 입도의 배열에 있어서 거의 굴곡이 없고, 흡수성이 없는 표면을 의미한다. 적합한 표면의 예로는 플라스틱 필름 또는 금속 시이트가 있다.
중합성 혼합물을 굴곡이 있는 표면에 도포하여 안료 입자를 제조하는 경우, 표면으로는 필름 표면, 특히 플라스틱 필름 표면이 특히 적합한데, 그 이유는 이들 필름이 원하는 방식으로 용이하게 구조화할 수 있기 때문이다. 구조화, 즉 굴곡을 생성시키는 적합한 방법으로는, 예를 들면 인쇄판을 제조하는 경우에 알려져 있는 방법이 있다.
굴곡은 평탄한 표면에 존재할 수 있을 뿐만 아니라 바람직하게는 회전 로울러의 표면 위에도 존재할 수 있다. 이러한 방식으로, 안료 입자는 연속적인 방법으로 제조할 수 있다. 안료 입자를 제조하는 바람직한 방법은 중합성 혼합물을 회전 로울러 표면 또는 로울러 벨트 표면의 굴곡 내로 연속적으로 도입시키는 단계, 상기 중합성 혼합물을 노광시켜 중합시키는 단계, 이어서 흡입 장치 또는 브러싱 장치에 의해 로울러 표면 또는 로울러 벨트 표면으로부터 상기 중합성 혼합물을 제거하는 단계를 포함한다. 이와 관련하여, 로울러의 치수와 로울러의 회전 속도는 도포되는 액상 중합성 혼합물이 최종적인 흡입 구역 또는 브러싱 구역에 도달하기 전에 그 액상 중합성 혼합물을 충분하게 완전히 경화시킬 수 있도록 선택되어야 한다. 물론, 이러한 것에 영향을 미치는 다른 인자로서는, 예를 들면 노광 강도, 노광 영역의 길이 및 온도가 있다. 양호한 작업 처리량과 빠른 중합 속도를 얻기 위해서는, 비교적 고온, 예를 들면 30℃ 내지 150℃, 특히 50℃ 내지 100℃에서 중합을 수행하는 것이 유리한 경우가 있다. 그러나, 본 방법은 보통 충분한 상온을 비롯하여 기타 온도에서도 수행할 수 있다.
노출 광원은 중합성기의 성질에 따라 좌우되고, 가능한 한 광개시제를 사용한다. 적합한 광원으로는 플라스틱 기술 분야에서 사용 가능한 모든 것들은 사용할 수 있다.
중합성 혼합물은 광원의 노출 뿐만 아니라 전자빔에 의하여 중합될 수 있을 뿐만 아니라 적합한 중합성기를 제공하여 열적으로 유도할 수 있다.
신규한 방법에 의해 제조되는 안료 입자는 다양한 형태와 입도를 가질 수 있다. 작은 판상(板狀) 구조는 간섭 효과에 의하여 색상이 인식되는 안료의 경우 특히 유리하다. 이러한 안료의 경우에 있어서, 인식된 색상은 시각에 따라 좌우된다. 작은 판상 구조는 색상층에 안료 입자의 배열을 균일하게 하여 수개의 안료 입자로부터 동일한 형태의 반사율을 형성시킴으로써, 인식되는 색상을 균질하게 한다.
상기 신규한 안료는 도료 조성물, 예를 들면 인쇄 잉크, 유화 페인트 및 락커의 색상 부여 성분으로서 사용하는 것이 적합하다. 그러한 도료 조성물은 통상적인 첨가제를 더 포함할 수 있다. 적합한 첨가제의 예는 참고로 인용하고 있는 선행 독일 측허 출원 제19532419.6호에 개시되어 있다. 상기 신규한 안료를 함유하는 페인트는 일용품, 특히 차량, 예를 들면 자동차, 오토바이 등을 도장하는데 특히 적합하다.
상기 안료 입자를 제조하는 데 양호 장치에는 다음과 같은 것이 포함된다.
- 표면에 소정의 안료 입자 형태의 굴곡이 있는 회전 로울러 또는 로울러 벨트,
- 염료 또는 간섭 착색제를 함유하는 중합성 혼합물을 로울러 또는 로울러 벨트에 도포하는 장치,
- 중합성 혼합물을 노광시키는 장치,
- 로울러 또는 로울러 벨트에서 중합된 안료 입자를 굴곡으로부터 제거하여 안료 입자를 수집하는 장치.

Claims (14)

  1. 옵셋 인쇄법에 의한 콜레스테르계 액정 배열 구조를 갖는 안료 입자의 제조를 제외한 안료 입자 제조 방법으로서, 염료 또는 착색제를 함유하는 중합성 혼합물을 소정의 안료 입자 형태의 굴곡이 있는 표면에 도포하고, 상기 중합성 혼합물을 중합시킨 다음, 그 중합된 안료 입자를 상기 굴곡으로부터 제거하거나, 또는 상기 중합체 혼합물을 소정의 안료 입자 형태, 즉 인쇄 기술 수단에 의해 알려진 방식으로 미리 결정된 형태의 평활한 표면에 도포하고, 상기 혼합물을 중합시킨 다음 그 중합된 안료 입자를 상기 표면으로부터 제거하는 것을 특징으로 하는 안료 입자의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 중합성 혼합물은 콜레스테르계 액정 조성물을 간섭 착색제로서 포함하는 것인 안료 입자의 제조 방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 콜레스테르계 액정 조성물은 다음의 a) 또는 b) 성분을 포함하는 것인 안료 입자의 제조 방법.
    a) 1종 이상의 키랄성 콜레스테르계 액정 중합성 단량체 또는
    b) 1종 이상의 비키랄성 콜레스테르계 액정 중합성 단량체와 키랄성 화합물.
  4. 제3항에 있어서, 상기 키랄성 액정 중합성 단량체 a)는 하기 화학식 Ⅰ의 구조를 갖는 것인 안료 입자의 제조 방법.
    화학식 Ⅰ
    상기 식 중,
    Z1는 중합성기 또는 중합성기를 함유하는 라디칼이고,
    Y1, Y2및 Y3는 화학적 결합, 산소, 황, -CO-0-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-N(R)- 또는 -N(R)-CO-이며,
    A1는 스페이서이고,
    M1는 메조겐기(mesogenic group)이며,
    X는 n가(價) 키랄성 라디칼이고,
    R은 수소 또는 C1-C4-알킬이며,
    n은 1 내지 6이고,
    Z1, Y1, Y2, Y3, A1및 M1은 동일하거나 상이할 수 있다.
  5. 제3항에 있어서, 상기 비키랄성 액정 중합성 단량체 b)는 하기 화학식 Ⅱ의 구조를 갖는 것인 안료 입자의 제조 방법:
    화학식 Ⅱ
    상기 식 중,
    Z2와 Z3은 중합성기이거나 중합성기를 포함하고,
    Y4, Y5, Y6및 Y7는 화학적 결합, 산소, 황, -C0-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-N(R)- 또는 -N(R)-C0-이며,
    A2와 A3는 스페이서이고,
    M2는 메조겐기이다.
  6. 제3항에 있어서, 상기 키랄성 화합물 b)는 하기 화학식 Ⅰa인 안료 입자의 제조 방법.
    화학식 Ⅰa
    상기 식 중,
    Z1, Y1, Y2, Y3, A1, X 및 n은 앞에서 정의한 바와 같고, Ma는 1개 이상의 헤테로사이클 고리계 또는 이소사이클 고리계를 포함하는 2가의 라디칼이다.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 하나의 항에 있어서, 굴곡이 있는 표면은 필름인 것인 안료 입자 제조 방법.
  8. 제1항 내지 제6항 중 어느 하나의 항에 있어서, 굴곡은 회전 로울러 표면에 존재하는 것인 안료 입자의 제조 방법.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 하나의 항에 있어서, 중합성 혼합물은 광에 의해 중합되는 것인 안료 입자의 제조 방법.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 중합성 혼합물을 회전로울러 표면 또는 로울러 벨트 표면의 굴곡 내로 연속적으로 도입시키고, 노광시켜 중합시킨 다음 흡입 장치 또는 브러싱 장치에 의해 로울러 표면 또는 로울러 벨트 표면으로부터 제거하는 것인 안료 입자의 제조 방법.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 하나의 항에 있어서, 안료 입자는 작은 판상 구조인 것인 안료 입자의 제조 방법.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 하나의 항에 기재된 방법에 의해 얻을 수 있는 안료 입자.
  13. 제12항에 기재된 안료 입자를 포함하는 도료 조성물.
  14. 표면에 소정의 안료 입자 형태의 굴곡이 있는 회전 로울러 또는 로울러 벨트와, 염료 또는 간섭 착색제를 함유하는 중합성 혼합물을 로울러 또는 로울러 벨트에 도포하는 장치와, 상기 중합성 혼합물을 노광시키는 장치 및 로울러 또는 로울러 벨트에서 중합된 안료 입자를 굴곡으로부터 제거하여 안료 입자를 수집하는 장치를 포함하는 안료 입자의 제조 장치.
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