KR19990018403A - 배출 및 세정기능을 갖는 배기라인 - Google Patents

Abstract

본 발명은 배기중간관의 일측에 케미컬 공급라인 및 가스 공급라인을 구비하고 있고, 타측에 탬퍼가 구비된 배기관이 구비되어 있으며, 아래쪽에는 에어 밸브가 장착된 배출관을 구비하는 중간계류지가 구비되어 있다. 이와 같은 구성을 갖는 배기라인은 정해진 시간이 되면, 상기 각 공급라인을 이용하여 상기 배기 중간관내에 부착되거나 고여있는 케미컬 적층물이나 미세 입자물등을 상기 중간계류지를 통해 배출관으로 배출시킬 수 있다. 이후, 정해진 시간이 지나면, 상기 배기중간관을 통해서 케미컬이나 순수의 공급이 정상적으로 제개된다. 이와 같이, 상기 배기 중간관내부를 깨끗이 클리닝함으로써 케미컬이나 순수의 유입과 유출과정에서 상기 배기 중간관이 부식되어 배기율이 저하되는 것을 방지할 수 있고, 배기중간관의 부식을 통해 케미컬이나 순수가 누수되는 것도 방지할 수 있다.

Description

배출 및 세정기능을 갖는 배기라인

본 발명은 반도체장치의 제조설비에서 배기라인에 관한 것으로서 특히, 자동설정된 클리닝 및 드레인 수단을 구비하는 배기라인에 관한 것이다.

일반적으로, 반도체장치의 제조설비의 배기라인으로 케미컬 또는 순수(DI w ater)가 배기라인으로 그대로 유입되고 다시 동일한 배기라인을 이용하여 배출한다.

도 1은 이와 같이 사용되는 종래 기술에 의한 배기라인을 나타내는데, 여기서, 참조번호 10은 배기중간관으로서 연결관 역할을 한다. 배기 중간관(10)의 일측은 프로세스 유닛(process unit)으로 이어지는 연결관(12)이 연결되어 있고, 타측에는 배기 파이프(14)가 연결되어 있다. 또한, 배기중간관(10)의 아래쪽에는 중간 계류지(16)가 존재한다. 중간계류지(16)에는 배기중간관(10)을 통해서 포로세스 유닛으로 케미컬이나 순수가 공급되고 유출되는 과정에서 관내에 부착되는 잔류물들의 집결지 역할을 한다.

종래 기술에서 이와 같은 배기라인은 프로세스 유닛으로부터 케미컬이나 순수를 배출시키는 배출관의 역할 뿐만 아니라 상기 물질들을 프로세스 유닛으로 유입시키는 유입관의 역할도 한다. 케미컬이나 순수의 배출과정에서 배기중간관(10)내에 프로세스 유닛에서 흡입된 미세분자나 케미컬의 잔류물이 남게된다. 따라서 배기중간관(10)에는 적층물이 쌓이게 되고 이로인해 배기중간관(10)이 부식되고 그속을 통해서 케미컬이나 순수의 누수가 있을 수 있다. 뿐만 아니라 배기라인의 배기성능을 저하시킬 수도 있고, 케미컬이나 순수를 프로세스 유닛으로 유입하는 과정에서 이러한 잔류물들이 함께 유입될 수 있어 공정불량을 일으킬 수도 있다.

따라서 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상술한 종래 기술에 나타나는 문제점을 해소하기 위한 것으로서, 배출 및 세정기능을 갖는 배기라인을 제공함에 있다.

도 1은 종래 기술에 의한 배기라인을 나타낸다.

도 2는 본 발명의 실시예에 의한 배기라인을 나타낸다.

도면의 주요 부분에 대한 부호설명

40:배기중간관. 42:연결관.

44:배기관. 46:중간계류지.

48, 50:케미컬 공급라인, 가스 공급라인.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 의한 배기라인은 배기중간관, 상기 배기중간관의 일측에 구비되어 프로세스 유닛과 연결된 연결관과 케미컬 공급라인 및 가스공급라인, 상기 배기중간관의 타측에 구비된 배기관, 상기 배기관에 구비된 댐퍼, 상기 배기중간관의 아래쪽에 구비된 중간계류지 및 상기 중간계류지에 구비된 에어 밸브를 구비한다.

본 발명의 실시예에 의하면, 상기 가스 공급라인은 질소가스 공급라인이고, 상기 케미컬 공급라인은 유기용제공급라인이다.

본 발명은 배기중간관의 일측에 케미컬 공급라인 및 가스 공급라인을 구비하고 있고, 타측에 탬퍼가 구비된 배기관이 구비되어 있으며, 아래쪽에는 에어 밸브가 장착된 배출관을 구비하는 중간계류지가 구비되어 있다. 이와 같은 구성을 갖는 배기라인은 정해진 시간이 되면, 상기 각 공급라인을 이용하여 상기 배기 중간관내에 부착되거나 고여있는 케미컬 적층물이나 미세 입자물등을 상기 중간계류지를 통해 배출관으로 배출시킬 수 있다. 이후, 정해진 시간이 지나면, 상기 배기중간관을 통해서 케미컬이나 순수의 공급이 정상적으로 제개된다. 이와 같이, 상기 배기 중간관내부를 깨끗이 클리닝함으로써 케미컬이나 순수의 유입과 유출과정에서 상기 배기 중간관이 부식되어 배기율이 저하되는 것을 방지할 수 있고, 배기중간관의 부식을 통해 케미컬이나 순수가 누수되는 것도 방지할 수 있다.

이하, 본 발명의 실시예에 의한 배기라인을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.

도 2는 본 발명의 실시예에 의한 배기라인을 나타낸다. 도 2를 참조하면, 배기중간관(40)의 일측에 프로세스 유닛과 연결된 연결관(42)이 구비되어 있다. 그리고 상기 배기 중간관(40)의 타측에는 배기관(44)이 구비되어 있으며, 상기 배기중간관(40)의 아래쪽에는 케미컬 계류지(46)가 장착되어 있다. 이외에도 상기 배기중간관(40)의 일측에는 케미컬 공급라인(48)과 가스 공급라인(50)이 구비되어 있다. 상기 케미컬 공급라인(48)과 가스 공급라인(50) 및 상기 연결관(42)은 각각 독립된 라인이거나 관이다. 상기 케미컬 공급라인(48)은 유기용제 공급라인이고, 상기 가스 공급라인(50)은 질소가스 공급라인이다. 상기 배기관(44)에는 오토 댐퍼(Damper)(44a)가 구비되어 있다. 상기 오토 댐퍼(44a)는 상기 배기관(44)의 개폐를 담당한다. 상기 오토 댐퍼(44a)의 동작은 상기 케미컬 공급라인(48)과 가스 공급라인(50)의 동작과 연계되어 있다. 곧, 상기 댐퍼(44a)가 동작될 동안 따라서 상기 배기관이 오픈되는 동안 상기 각 공급라인들(48, 50)은 닫히게 되고 아울러 상기 중간계류지(46)를 통한 배출도 중지된다.

한편, 상기 중간계류지(46)에는 도 2에 도시한 바와 같이, 배출관(46a)이 구비되어 있고, 상기 배출관(46a)의 중간지점에는 에어 밸브(air operated valve) (46b)가 설치되어 있다.

따라서 상기 댐퍼(44a)의 동작과 상기 에어 밸브(46b)의 동작은 반대되는 결과를 낮는다. 곧, 상기 댐퍼(44a)의 오픈시 상기 에어 밸브(46b)는 닫히게 되고 그 반대의 경우도 성립한다.

상기 배기중간관(40)을 통해서 케미컬이나 순수가 유입 또는 유출되는 경우, 상기 댐퍼(44a)는 오픈된다. 이때, 상기 에어 밸브(46b)나 상기 각 공급라인(48, 50)은 닫혀서 유기용제나 가스의 공급이 차단됨과 아울러 상기 중간계류지(46)에 구비된 배출관(46a)이 닫히게 된다.

한편, 상기 배기 중간관(40)을 통해서 케미컬의 유입 또는 유출이 이루어지지 않고, 상기 배기 중간관(40)에 케미컬 적층물이나 상기 프로세스 유닛으로부터 흡입된 미세분자가 적층되어 있을 경우, 상기 배기관(44)에 장착된 오토 댐퍼(44a)를 닫고, 상기 에어 밸브(46b)를 오픈하여 상기 배출관(46a)을 통해서 적층물들을 밖으로 배출한다. 상기 배기중간관(40)내에 엉킨입자등이 있어서, 배출이 쉽게 이루어지지 않은 경우, 상기 각 공급라인(48, 50)을 통해서 유기용제 또는 질소가스등을 상기 배기중간관(40)으로 분출시켜 상기 배기 중간관(40)을 세정한다. 이러한 모든 기능을 자동설정에 의해 동시에 이루어지며, 설정된 시간이 지나면, 상기 배기중간관(40)을 통해서 케미컬이나 순수의 유입과 유출이 정상적으로 이루어진다. 이때, 상기 에어밸브(46b)와 상기 각 공급라인들(48, 50)은 닫힌 상태가 된다.

이와 같이, 본 발명은 배기중간관의 일측에 케미컬 공급라인 및 가스 공급라인을 구비하고 있고, 타측에 탬퍼가 구비된 배기관이 구비되어 있으며, 아래쪽에는 에어 밸브가 장착된 배출관을 구비하는 중간계류지가 구비되어 있다. 이와 같은 구성을 갖는 배기라인은 정해진 시간이 되면, 상기 각 공급라인을 이용하여 상기 배기 중간관내에 부착되거나 고여있는 케미컬 적층물이나 미세 입자물등을 상기 중간계류지를 통해 배출관으로 배출시킬 수 있다. 이후, 정해진 시간이 지나면, 상기 배기중간관을 통해서 케미컬이나 순수의 공급이 정상적으로 제개된다. 이와 같이, 상기 배기 중간관내부를 깨끗이 클리닝함으로써 케미컬이나 순수의 유입과 유출과정에서 상기 배기 중간관이 부식되어 배기율이 저하되는 것을 방지할 수 있고, 배기중간관의 부식을 통해 케미컬이나 순수가 누수되는 것도 방지할 수 있다.

본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 많은 변형이 본 발명의 기술적 사상내에서 당분야에서의 통상의 지식을 가진자에 의하여 실시가능함은 명백하다.

Claims (2)

1. 배기중간관;

   상기 배기중간관의 일측에 구비되어 프로세스 유닛과 연결된 연결관, 케미컬 공급라인 및 가스공급라인;

   상기 배기중간관의 타측에 구비된 배기관;

   상기 배기관에 구비된 댐퍼(damper);

   상기 배기중간관의 아래쪽에 구비된 중간계류지;

   상기 중간계류지에 구비된 배출관; 및

   상기 배출간에 설치된 에어 밸브를 구비하는 것을 특징으로 하는 배기라인.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 가스 공급라인은 질소가스 공급라인이고, 상기 케미컬 공급라인은 유기용제 공급라인인 것을 특징으로 하는 배기라인.