KR19980702049A - 신규한 파르네실 트랜스퍼라아제 억제제, 이의 제조방법 및 이를 함유하는 약학 조성물 - Google Patents

신규한 파르네실 트랜스퍼라아제 억제제, 이의 제조방법 및 이를 함유하는 약학 조성물 Download PDF

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프랑수아 클레르
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미쉬엘 스테판
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Abstract

화학식 1의 신규한 파르네실 트랜스퍼라아제, 이의 제조 방법 및 이를 함유하는 약학 조성물.
화학식 1에서, R1은 Y-S-A1-(Y는 수소원자, 아미노산 잔기, 지방산 잔기, 알킬 또는 알콕시카보닐 라디칼 이거나 R4가 페닐 라디칼 또는 화학식 2의 라디칼(화학식 2에서 A1, X1, Y1, R2, R'2, X2, Y2, X, R3, R'3및 R은 화학식 1에서 정의하는 바와 같다.)에 의해 임의로 치환된 C1-6알킬라디칼인 R4-S-A1이며, A1은 아미노, 알킬아미노, 알카노일아미노 또는 알콕시카보닐아미노 라디칼에 의해 C(X1)(Y1) 그룹내 임의로 알파-치환된 C1-4알킬렌 라디칼)이며; X1및 Y1은 각각 수소원자이거나 이들이 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 C=O 그룹을 형성하며; R2는 시클로헥실 라디칼에 의하여 임의로 치환된 C1-4알킬 라디칼이며; R'2는 수소 또는 알킬이며; X2및 Y2는 각각 수소 원자이거나 이들이 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 C=O 그룹을 형성하며; R3는 히드록시, 알콕시, 머캡토, 알킬티오, 알킬설피닐 또는 알킬설포닐에 의하여 임의로 치환된 C1-4알킬 라디칼이며 단, R3가 히드록시 라디칼로 치환된 알킬 라디칼일때, R3는 알파-카복실 라디칼과 함께 락톤을 형성할 수 있으며; R'3는 수소 또는 알킬이며; X는 산소 또는 황 원자이며; R은 수소 원자이거나 임의로 치환된 알킬 라디칼 또는 임의로 치환된 페닐 라디칼이다. 상기 신규 생성물은 항암성질을 가진다.
화학식 1
화학식 2

Description

신규한 파르네실 트랜스퍼라아제 억제제, 이의 제조 방법 및 이를 함유하는 약학 조성물.
파르네실 트랜스퍼라아제의 억제 및 결과적인 Ras 단백질의 파르네실화의 억제는 변이된 Ras 단백질이 정상적인 세포를 암세포로 전환시키는 능력을 방해한다.
ras 유전자의 C-말단 서열은 CAAX 또는 Cys-Aaa1-Aaa2-Xaa 단위를 포함하며, 여기서 Aaa는 지방족 아미노산을, Xaa는 임의의 아미노산을 가리킨다.
CAAX 서열을 가진 테트라펩티드는 Ras 단백질의 파르네실화를 방해할 수 있는 것으로 알려져 있다. 예를 들면, 10-6M 또는 10-7M 의 농도에서 억제 활성을 보이는 펩티드 Cys-Val-Leu-Ser, Cys-Val-Ile-Met 및 Cys-Val-Val-Met로 대표되는 파르네실 트랜스퍼라아제의 펩티드 억제제인 Cys-Aaa1-Aaa2-Xaa는 PCT 출원 WO 91/16340 및 EP 출원 0,461,869 에 기술되어 있다.
본 발명은 하기의 화학식 1을 가지는 신규한 파르네실 트랜스퍼라아제 억제제, 이의 제조 방법 및 이를 함유하는 약학 조성물에 관한 것이다.
화학식 1의 펩티드가 10-8M 정도의 농도에서 그들의 억제 활성(IC50)을 보이는 것으로 밝혀졌으며, 이는 본 발명의 요지를 이룬다.
상기 화학식 1에서,
R1은 화학식 Y-S-A1-의 라디칼을 나타내며, 여기서 Y는 수소 원자 또는 아미노산 잔기 또는 지방산 잔기 또는 알킬 또는 알콕시카보닐 라디칼이거나 또는 R4가 페닐 라디칼 또는 하기의 화학식 2의 라디칼로 임의로 치환된 1 내지 6개의 탄소 원자를 함유하는 알킬 라디칼을 나타내는 R4-S-라디칼을 나타내며, A1은 ＞C(X1)(Y1) 그룹에 대한 알파 위치에서 아미노 라디칼, 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알킬아미노 라디칼, 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알카노일아미노 라디칼, 또는 알킬부가 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알콕시카보닐아미노 라디칼에 의해 임의로 치환된 1 내지 4개의 탄소 원자를 포함하는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌 라디칼을 나타내며,
(상기식에서, A1, X1, Y1, R2, R'2, X2, Y2, X, R3, R'3및 R은 화학식 1에서 정의하는 바와 같다.)
X1및 Y1은 각각 수소 원자를 가리키거나 이들이 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 C=O 그룹을 형성하며,
R2는 시클로헥실 라디칼에 의해 임의로 치환된 1 내지 4개의 탄소 원자를 포함하는 직쇄 또는 측쇄 알킬 라디칼을 나타내며,
R'2는 수소 원자 또는 1 내지 6개의 탄소 원자를 포함하는 직쇄 또는 측쇄 알킬 라디칼을 나타내며,
X2및 Y2는 각각 수소 원자를 가리키거나 이들이 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 C=O 그룹을 형성하며,
R3는 히드록실 라디칼, 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알콕시 라디칼, 머캡토 라디칼, 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알킬티오 라디칼, 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알킬설피닐 라디칼 또는 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알킬설포닐 라디칼에 의해 임의로 치환된 1 내지 4개의 탄소 원자를 포함하는 직쇄 또는 측쇄 알킬 라디칼이며, R3가 히드록실 라디칼로 치환된 알킬 라디칼을 나타낼때, R3는 알파 위치에서 카복실 라디칼과 함께 락톤을 형성할 수 있으며,
R'3는 수소 원자이거나 1 내지 6개의 탄소 원자를 포함하는 직쇄 또는 측쇄 알킬 라디칼을 나타내며,
X는 산소 또는 황 원자를 나타내며,
R은 수소 원자이거나 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알콕시 라디칼, 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알킬티오 라디칼, 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알킬설피닐 라디칼, 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알킬설포닐 라디칼, 페닐 라디칼, 페녹시 라디칼, 페닐티오 라디칼, 페닐 설피닐 라디칼, 페닐설포닐 라디칼, 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알킬아미노 라디칼 또는 각각의 알킬 부분이 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 디알킬아미노 라디칼에 의해 임의로 치환된 알킬 라디칼이거나, 할로겐 원자 및 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알킬, 알콕시, 알킬티오 또는 알카노일 라디칼로부터 선택되는, 동일하거나 상이한 하나 이상의 원자 또는 라디칼에 의해 임의로 치환된 페닐 라디칼을 나타낸다.
보다 상세하게는,
R1은 화학식 Y-S-A1-의 라디칼을 나타내며, 여기서 Y는 수소 원자 또는 리신 잔기 또는 20개 이하의 탄소 원자를 함유하는 지방산 잔기를 나타내며, A1은 아미노 라디칼에 의해 임의로 치환된 에틸렌 또는 프로필렌 라디칼을 나타내며,
X1및 Y1은 각각 수소 원자를 가리키거나 이들이 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 C=O 그룹을 형성하며,
R2는 이소프로필, 1-메틸프로필, 3급-부틸 또는 시클로헥실메틸 라디칼을 나타내며,
R'2는 수소 원자 또는 메틸 라디칼을 나타내며,
X2및 Y2는 각각 수소 원자를 가리키거나 이들이 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 C=O 그룹을 형성하며,
R3는 히드록실, 메톡시, 머캡토, 메틸티오, 메틸설피닐 또는 메틸설포닐 라디칼에 의해 치환된 메틸 또는 에틸 라디칼을 나타내며,
R'3는 수소 원자 또는 메틸 라디칼을 나타내며,
X는 산소 원자를 나타내며,
R은 수소 원자이거나 알콕시 라디칼에 의해 임의로 치환된 1 내지 4개의 탄소 원자를 포함하는 알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼을 나타낸다.
더욱 상세하게는,
R1은 Y가 수소 원자를 나타내고, A1이 아미노 라디칼에 의해 임의로 치환된 에틸렌 또는 프로필렌 라디칼을 나타내는 화학식 Y-S-A1-의 라디칼을 나타내며,
X1및 Y1은 각각 수소 원자를 나타내거나 이들이 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 CO그룹을 형성하며,
R2는 이소프로필, 1-메틸프로필, 3급-부틸 또는 시클로헥실메틸 라디칼을 나타내며,
R'2는 수소 원자를 나타내며,
X2및 Y2는 각각 수소 원자를 가리키거나 이들이 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 C=O 그룹을 형성하며,
R3는 히드록실, 메톡시, 머캡토 또는 메틸티오 라디칼에 의해 치환된 메틸 또는 에틸 라디칼을 나타내며,
R'3는 수소 원자를 나타내며,
R은 수소 원자이거나 1 내지 4개의 탄소 원자를 포함하는 알킬 라디칼을 나타낸다.
R1이 2-머캡토에틸 또는 1-아미노-2-머캡토에틸 라디칼을 나타내며, X1및 Y1이 각각 수소 원자를 나타내거나 이들이 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 CO그룹을 형성하며, R2가 이소프로필 라디칼을 나타내며, X2및 Y2가 각각 수소 원자를 나타내거나 이들이 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 C=O그룹을 형성하며, R'2가 수소 원자를 나타내며, R3가 2-(메틸티오)에틸 또는 2-(메틸설피닐)에틸 라디칼을 나타내며, R'3가 수소 원자를 나타내고, R이 수소 원자를 나타내는 화학식 1의 생성물이 특히 매우 유리하다.
본 발명은 또한 화학식 1의 생성물의 입체 이성체에 관한 것이다. R1C(X1)(Y1), R2CH(NR'2)[C(X2)(Y2)] 및 R3CH(NR'3)CO-OH로 나타내어지는 아미노산 잔기는 바람직하게는 천연 아미노산의 배열을 가진다.
본 발명은 또한 화학식 1의 생성물의 무기 또는 유기염 및 에스테르에 관한 것이다.
본 발명에 따라 화학식 1의 신규한 생성물은 9-플루오레닐메톡시카보닐(FMOC) 합성 전략을 이용한 고체상 위에서의 합성에 의해 수득될 수 있다. 이 경우에 있어서, 티올그룹은 트리틸 또는 아세트아미도메틸그룹으로, 아민 작용 그룹은 Boc(t-부톡시카보닐)그룹으로 및 산 작용 그룹은 t-부틸 에스테르의 형태로, 알코올 작용 그룹은 t-부틸그룹으로, 아미드 및 이미다졸 작용 그룹은 트리틸그룹으로 보호된다. 합성은 테플론 필터가 설치된 고밀도의 폴리에틸렌으로 만들어진 3㎤ 고체-상 추출 주사기내에 유폐된 레진상에서 수행될 수 있다. 주사기는 2-방향 테플론 밸브상에 장착되며, 일회용의 고밀도 폴리에틸렌 플러그에 의해 닫힌다. 주사기의 교반은 용혈 튜브용 회전식 장치상에서 수행된다. 세척과 여과 작동은 고체-상 추출 작업 스테이션상에서 수행된다.
합성은 이후, 50μmol의 레진상에서 수행된다. 아미노산의 연결은 N-메틸-2-피롤리딘(NMP)/디메틸포름아미드(1/1의 부피) 혼합물 1.2㎤ 내에 2-(1H-벤조트리아졸-1-일)-1,1,3,3-테트라메틸우로늄, 헥사플루오로포스페이트(BTUH) 250μmol, N-히드록시벤조트리아졸 250μmol 및 디이소프로필에틸아민 750μmol의 존재하에서레진을 적절하게 보호되는 아미노산 250μmol로 1시간동안 처리함에 의해 수행된다. FMOC그룹의 탈보호는, 레진을 NMP 내의 2% (v/v) 용액으로서 피페리딘 2㎤ 로 1분간 2회 및 그리고나서 20분 동안 3회 연속적으로 처리로 수행된다.
예를 들면, Cys-(NMe)Val-[(R,S)-1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴-1-카보닐]-Met 는 하기의 방법에 의해 제조될 수 있다.
Fmoc-Met 레진 [Wang 레진; Wang et al.,J. Amer. Chem. Soc.,95, 1328 (1973)] 50μmol을 연속적으로 하기의 처리에 놓이게 한다:
- FMOC 그룹의 탈보호,
- NMP 2㎤ 로 5회 세척,
- FMOC-(R,S)-1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀린-1-카복실산의 연결,
- NMP 2㎤ 로 5회 세척,
- FMOC 그룹의 탈보호,
- NMP 2㎤ 로 5회 세척,
- FMOC-N-메틸발린의 연결,
- NMP 2㎤ 로 5회 세척,
- FMOC 그룹의 탈보호,
- NMP 2㎤ 로 5회 세척,
- FMOC-시스테인(S-트리틸)의 연결,
- NMP 2㎤ 로 5회 세척,
- FMOC 그룹의 탈보호,
- NMP 2㎤ 로 5회 세척.
합성이 완성되면, 레진을 트리플루오로아세트산/페놀/에탄디티올/티오애니솔/-물 (40/3/1/2/2의 부피) 혼합물 10㎤로 1시간동안 처리함으로써 생성물을 분리한다. 이후, 레진을 여과에 의해 제거한다. 여과액을 베인(vane) 펌프 및 트랩이 설치된 원심증발기(RC10-10 Jouan)에 의해 1.5시간동안 -90℃의 감압하에서 농축하며, 증발실의 온도는 50℃로 유지시킨다. 농축액의 최종 부피는 대략 1㎤ 이다. 이후, 상기 생성물을 메틸 3급-부틸 에테르 및 석유 에테르(2/1의 부피)의 혼합물 15㎤ 를 첨가하여 침전시키고 원심분리기에 의해 수집한다. 이후, 펠렛을 트리플루오로아세트산 1㎤ 내에 용해시키고, 메틸 3급-부틸 에테르 15㎤ 를 첨가하여 침전시키고 나서, 메틸 3급-부틸 에테르 15㎤ 로 세척한다. 이후, 생성물을 감압(3.5 kPa)하에서 건조시킨다. 최종적으로 생성물을 C18100 Å 컬럼 (250 x 10 mm, BioRad) 상의 고압액체크로마토그래피(HPLC)에 의해 정제하고, 트리플루오로아세트산 0.07 %(부피)를 함유하는 물 내 트리플루오로아세트산 0.07% (부피)를 함유하는 아세토니트릴의 구배로 6 ㎤/min 의 속도로 용출하고, 이후 동결건조한다. 수득된 생성물은 질량 스펙트럼 (일렉트로스프레이)에 의해 규명된다.
1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀린-1-카복실산은 문헌[참조: R.T. Shuman et al., J. Med. Chem.,36, 314 (1993)]에 기술된 조건하에서 이소퀴놀린-1-카복실산의 수소첨가에 의해 라세미 형태로 제조될 수 있다.
아미노산으로의 FMOC 보호 그룹의 도입은 아미노산을 염기의 존재하에서 9-플루오레닐메틸 클로로포름산염(FMOC-클로라이드)과 반응함에 의해 수행된다.
파르네실 트랜스퍼라아제 및 Ras 단백질의 파르네실화에 관한 억제 활성은 하기의 시험에서 설명될 수 있다:
파르네실 트랜스퍼라아제 활성은 [3H]파르네실 피로포스페이트 [[3H]FPP)로부터 p21 H-ras 단백질로 전이된 [3H]파르네실의 양(量)에 의해 결정한다. 표준 반응 혼합물은 최종부피 60㎕에 대해, 50mM Tris-HCL, 5mM MgCl2, 5mM 디티오트레이톨, 0.2% 옥틸 β-D-글루코피라노시드, 200pM(피코몰) p21 H-ras, 4.5pM [3H]FPP (활성 61000 dpm/pM)로 이루어진다.
THP1 세포 배양체로부터 정제된 인간 파르네실 트랜스퍼라아제를 대략 5ng 첨가함으로써 반응을 개시한다. 플레이트당 96개의 1-㎤ 웰을 함유하는 마이크로타이트레이션 플레이트(Titer PlateR, Beckman)내에서 37℃에서 20분동안 배양한 후에, 0℃에서 메탄올 중의 0.1% SDS 0.4㎤을 첨가하여 반응을 종결한다. 그리고나서, 상기 혼합물을 메탄올내 30% 트리클로로아세트산R(TCA) 0.4㎤로 처리한다. 플레이트를 1시간동안 아이스에서 방치한다. 그리고나서, 침전된 내용물을 여과 장치(Combi Cell HarvesterR, Skatron)로 FiltermatR(Pharmacia)유리 섬유막 위에 보지시키고, 증류수내 6% 트리클로로아세트산으로 세정한다. 막을 전자오븐에서 건조시키고나서, 고온공기하에서 MeltilexR(Pharmacia)의 용융에 의해 신틸레이션 배지로 함침시키고 최종적으로 β-플레이트 카운터R(LKB)내의 cpm으로 카운트한다. 각각의 시험은 3회 반복한다.
활성 단위는 20분내에 p21 H-Ras로 전이된 [3H]FPP의 1pM로 정의한다.
블랭크를 공제한 후에 억제제가 있는 시험과 없는 시험을 비교함으로써 억제 %값을 수득하며, IC50값은 EnzfitterR또는 GrafitR소프트웨어를 사용한 9개의 상이한 농도로 수득된 억제에 기초하여 측정한다.
수득된 결과는 하기의 표 1 에서 대조된다.
생성물 억제 활성 IC50
Cys-(N-Me)Val-[(R,S)-1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀릴-1-카보닐]-Met 2.6 x 10-8M
화학식 1의 신규 펩티드는 비-독성 및 약학적으로 허용가능한 염의 형태일 수 있다. 이들 비-독성 염은 화학식 1의 펩티드의 구성 아미노산의 특성에 의존하여, 무기산(염산, 황산, 브롬산, 인산 및 질산) 또는 유기산(아세트산, 프로피온산, 숙신산, 말레산, 하이드록시말레산, 벤조산, 푸마르산, 메탄술폰산, 트리플루오로아세트산 또는 옥살산) 또는 무기염기(수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬, 수산화칼슘) 또는 유기염기(트리에틸아민, 피페리딘, 벤질아민과 같은 3급 아민)와의 염을 포함한다.
파르네실 트랜스퍼라아제 및 Ras 단백질의 파르네실화를 억제하는 본 발명에 따른 신규한 펩티드는 충실성 종양 및 비-충실성 종양에 관하여 효험이 있는 뛰어난 항암제이다.
본 발명은 또한 화학식 1의 펩티드 하나 이상을 불활성 또는 생리적으로 활성인 하나 또는 그 이상의 약학적으로 허용가능한 희석제 또는 보조제와 함께 함유하는 약학 조성물에 관한 것이다.
이러한 조성물은 경구, 비경구 또는 직장 투여될 수 있다.
경구 투여용 조성물은 정제, 환제, 산제 또는 입제를 포함한다. 이들 조성물에서, 본 발명에 따른 활성 생성물은 하나 또는 그 이상의 수크로스, 락토스 또는 전분과 같은 불활성 희석제와 혼합한다. 이들 조성물은 희석제외의 물질, 예를 들면, 마그네슘 스테아레이트와 같은 윤활제를 포함할 수 있다.
경구 투여용 액체조성물로서, 물 또는 액체 파라핀과 같은 불활성 희석제를 함유한 용액, 현탁액, 시럽, 엘릭서 및 약학적으로 허용가능한 에멀젼이 사용될 수 있다. 이들 조성물은 또한 희석제외의 물질, 예를 들면, 습윤제, 감미제 또는 향미제를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 비경구 투여용 조성물은 멸균 용액, 수성 또는 비-수성, 현탁액 또는 에멀젼일 수 있다. 용매 또는 비이클로서, 프로필렌 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜, 식물성 기름, 특히 올리브 기름, 또는 예를 들면 에틸 올리에이트와 같은 주사가능한 유기 에스테르가 사용될 수 있다. 이들 조성물은 또한 보조제, 특히 습윤제, 에멀젼화제 및 분산제를 함유할 수 있다. 멸균은 예를 들면, 박테리아 필터를 사용하거나 조성물내에 멸균제를 혼입함에 의해 또는 가열에 의해 다양한 방식으로 행해질 수 있다. 이들은 또한, 멸균수 또는 임의의 다른 멸균 주사가능한 매질내에서 사용시간에 용해가능한 멸균 고체 조성물의 형태로 제조될 수 있다.
직장 투여용 조성은 활성 생성물외에 코코아 버터와 같은 부형제를 포함할 수 있는 좌제이다.
본 발명에 따른 조성물은 다양한 기원의 암 치료에서의 인간 요법에 특히 유용하다.
인간 요법에서, 복용량은 희구하는 효과, 치료 기간 및 치료받는 환자의 특정 인자에 좌우된다.
일반적으로, 남자의 경우, 복용량은 복강내 경로를 통해 하루당 0.1 내지 20mg/kg이다.

Claims (5)

  1. 화학식 1의 신규 펩티드.
    화학식 1
    화학식 2
    상기식에서,
    R1은 화학식 Y-S-A1-의 라디칼을 나타내며, 여기서 Y는 수소 원자 또는 아미노산 잔기 또는 지방산 잔기 또는 알킬 또는 알콕시카보닐 라디칼이거나 또는 R4가 페닐 라디칼 또는 화학식 2의 라디칼로 임의로 치환된 1 내지 6개의 탄소 원자를 함유하는 알킬 라디칼을 나타내는 R4-S-라디칼을 나타내며, A1은 ＞C(X1)(Y1) 그룹에 대한 알파 위치에서 아미노 라디칼, 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알킬아미노 라디칼, 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알카노일아미노 라디칼, 또는 알킬부가 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알콕시카보닐아미노 라디칼에 의해 임의로 치환된 1 내지 4개의 탄소 원자를 포함하는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌 라디칼을 나타내며,
    X1및 Y1은 각각 수소 원자를 가리키거나 이들이 결합되어 있는 탄소 원자와 함께
    C=O 그룹을 형성하며,
    R2는 시클로헥실 라디칼에 의해 임의로 치환된 1 내지 4개의 탄소 원자를 포함하는 직쇄 또는 측쇄 알킬 라디칼을 나타내며,
    R'2는 수소 원자이거나 1 내지 6개의 탄소 원자를 포함하는 직쇄 또는 측쇄 알킬 라디칼을 나타내며,
    X2및 Y2는 각각 수소 원자를 가리키거나 이들이 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 C=O 그룹을 형성하며,
    R3는 히드록실 라디칼, 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알콕시 라디칼, 머캡토 라디칼, 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알킬티오 라디칼, 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알킬설피닐 라디칼 또는 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알킬설포닐 라디칼에 의해 임의로 치환된 1 내지 4개의 탄소 원자를 포함하는 직쇄 또는 측쇄 알킬 라디칼이며, R3가 히드록실 라디칼로 치환된 알킬 라디칼을 나타낼때, R3는 알파 위치에서 카복실 라디칼과 함께 락톤을 형성할 수 있으며,
    R'3는 수소 원자이거나 1 내지 6개의 탄소 원자를 포함하는 직쇄 또는 측쇄 알킬 라디칼을 나타내며,
    X는 산소 또는 황 원자를 나타내며,
    R은 수소 원자이거나 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알콕시 라디칼, 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알킬티오 라디칼, 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알킬설피닐 라디칼, 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알킬설포닐 라디칼, 페닐 라디칼, 페녹시 라디칼, 페닐티오 라디칼, 페닐 설피닐 라디칼, 페닐설포닐 라디칼, 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알킬아미노 라디칼 또는 각각의 알킬 부분이 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 디알킬아미노 라디칼에 의해 임의로 치환된 알킬 라디칼이거나, 할로겐 원자 및 1 내지 4개의 탄소 원자를 함유하는 알킬, 알콕시, 알킬티오 또는 알카노일 라디칼로부터 선택되는 동일하거나 상이한 하나 이상의 원자 또는 라디칼에 의해 임의로 치환된 페닐 라디칼을 나타낸다.
  2. 제 1항에 있어서,
    R1은 화학식 Y-S-A1-의 라디칼을 나타내며, 여기서 Y는 수소 원자 또는 리신 잔기 또는 20개 이하의 탄소 원자를 함유하는 지방산 잔기를 나타내며, A1은 아미노 라디칼에 의해 임의로 치환된 에틸렌 또는 프로필렌 라디칼을 나타내며,
    X1및 Y1은 각각 수소 원자를 가리키거나 이들이 결합되어 있는 탄소 원자와 함께
    C=O 그룹을 형성하며,
    R2는 이소프로필, 1-메틸프로필, 3급-부틸 또는 시클로헥실메틸 라디칼을 나타내며,
    R'2는 수소 원자 또는 메틸 라디칼을 나타내며,
    X2및 Y2는 각각 수소 원자를 가리키거나 이들이 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 C=O 그룹을 형성하며,
    R3는 히드록실, 메톡시, 머캡토, 메틸티오, 메틸설피닐 또는 메틸설포닐 라디칼에 의해 치환된 메틸 또는 에틸 라디칼을 나타내며,
    R'3는 수소 원자 또는 메틸 라디칼을 나타내며,
    X는 산소 원자를 나타내며,
    R은 수소 원자이거나 알콕시 라디칼에 의해 임의로 치환된 1 내지 4개 의 탄소 원자를 포함하는 알킬 라디칼이거나 또는 페닐 라디칼을 나타내는 신규 펩티드.
  3. 제 1항에 있어서,
    R1은 Y가 수소 원자를 나타내고, A1이 아미노 라디칼로 임의로 치환된 에틸렌 또는 프로필렌 라디칼을 나타내는 화학식 Y-S-A1-의 라디칼을 나타내며,
    X1및 Y1은 각각 수소 원자를 나타내거나 이들이 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 CO그룹을 형성하며,
    R2는 이소프로필, 1-메틸프로필, 3급-부틸 또는 시클로헥실메틸 라디칼을 나타내며,
    R'2는 수소 원자를 나타내며,
    X2및 Y2는 각각 수소 원자를 가리키거나 이들이 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 C=O 그룹을 형성하며,
    R3는 히드록실, 메톡시, 머캡토 또는 메틸티오 라디칼에 의해 치환된 메틸 또는 에틸 라디칼을 나타내며,
    R'3는 수소 원자를 나타내며,
    R은 수소 원자이거나 1 내지 4개의 탄소 원자를 포함하는 알킬 라디칼을 나타내는 신규 펩티드.
  4. 제 1항에 있어서, R1이 2-머캡토에틸 또는 1-아미노-2-머캡토에틸 라디칼을 나타내며, X1및 Y1이 각각 수소 원자를 나타내거나 이들이 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 CO그룹을 형성하며, R2가 이소프로필 라디칼을 나타내며, X2및 Y2가 각각 수소 원자를 나타내거나 이들이 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 C=O그룹을 형성하며, R'2가 수소 원자를 나타내며, R3가 2-(메틸티오)에틸 또는 2-(메틸설피닐)에틸 라디칼을 나타내며, R'3가 수소 원자를 나타내고, R이 수소 원자를 나타내는 신규 펩티드.
  5. 불활성 또는 생리적으로 활성인 약학적으로 허용되는 희석제 또는 보조제 하나 또는 수개와 조합하여, 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 따른 펩티드를 충분한 양으로 함유함을 특징으로 하는 약학 조성물.
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