KR19980080489A - 수용성 섬유-반응성 염료, 이의 제조 방법 및 용도 - Google Patents

수용성 섬유-반응성 염료, 이의 제조 방법 및 용도 Download PDF

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Abstract

섬유-반응성 기로서 5,6-디플루오로피리미딘-4-일 라디칼을 함유한 염료는 셀룰로즈 섬유, 모 및 폴리아미드와 같은 섬유 물질을 포함하는 하이드록시- 및/또는 카복스아미도-함유 물질을 염색하는데 유용하다.

Description

수용성 섬유-반응성 염료, 이의 제조 방법 및 용도
본 발명은 섬유-반응성 염료의 기술 분야에 관한 것이다.
섬유-반응성 염료의 염색 분야에서, 염료의 질에 대한 기대치 및 염색 공정의 비용이 계속 증가하고있다는 점을 고려할 때 우수한 견뢰성 뿐만 아니라 염색할 물질에 대한 높은 고착도와 같은 개선된 성질을 갖는 신규한 섬유-반응성 염료가 요구된다. 예를 들면 미국 특허 제 5,319,074 호, 제 5,340,928 호, 제 5,342,927 호 및 제 5,401,277 호는 섬유-반응성 성분으로서 2,4-디플루오로피리미딘-6-일 라디칼 및 또한 섬유-반응성 헤테로사이클릭 라디칼을 함유하는 섬유 반응성 염료를 개시한다.
이들 공지된 염료는 언급된 기대치의 증가 때문에 특히 염료의 고착도 및 색 강도 및 상기 염료를 이용하여 수득되는 날염을 개선시킬 필요가 있다.
본 발명은 섬유-반응성 기로서 5,6-디플루오로피리미딘-4-일 라디칼을 갖고 바람직하게는 공지된 염료보다 출중하며 높은 색 강도의 염색 및 날염을 제공하는 하기 화학식 1을 갖는 신규한 섬유 반응성 염료를 제공한다.
상기 식에서,
Fb는 모노-, 디스- 트리스- 또는 폴리아조 염료, 1:1 구리, 1:2 크롬 또는 1:2 코발트 착물 모노-, 디스- 또는 트리스아조 염료 또는 안트라퀴논, 프탈로시아닌, 금속 프탈로시아닌(예를 들면 구리 프탈로시아닌 및 니켈 프탈로시아닌), 포르마잔(예를 들면 구리 포르마잔), 아조메틴, 디옥사진, 트리펜디옥사진, 페나진, 스틸벤, 트리페닐메탄, 크산텐, 티옥산톤, 니트로아릴, 나프토퀴논, 피렌퀴논 또는 페릴렌테트라카브이미드 염료의 라디칼이고;
B는 각각 서로 독립적으로 직접적인 공유 결합, 또는 Fb의 방향족 카보사이클릭 라디칼의 고리 탄소 원자 또는 방향족 헤테로사이클릭 라디칼의 고리 탄소 또는 질소 원자에 결합된 가교 구성원이고, 바람직하게는 직접적인 공유 결합이고;
R은 각각 서로 독립적으로 수소, 또는 예를 들면 할로겐, 하이드록시, 카복시, 설포 및 설페이토로 구성된 군에서 선택된 치환체로 선택적으로 치환된 탄소수 1 내지 6의 알킬, 바람직하게는 탄소수 1 내지 4의 알킬, 예를 들면 메틸 또는 에틸이고, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 또는 특히 수소이고;
X는 5,6-디플루오로피리미딘-4-일 기이고;
Z는 X와 동일하거나 또는 다른 헤테로사이클릭 섬유-반응성 라디칼이고;
n은 1 또는 2, 바람직하게는 1이다.
전술한 화학식 1 및 후속적인 화학식의 화합물에서 임의의 하나의 화학식 내에서 동일하거나 상이한 표기를 갖는 화학식의 개별적인 요소는 서로 동일하거나 상이한 정의하의 의미를 가질 수 있다.
용어 설포, 티오설페이토, 카복시, 포스페이토 및 설페이토는 상기 및 하기에서 각각의 기의 산 형태 뿐만 아니라 염 형태를 포함한다. 따라서, 설포 기는 일반식 -SO3M을 갖고, 티오설페이토 기는 일반식 -S-SO3M을 갖고, 카복시 기는 일반식 -COOM을 갖고, 포스페이토 기는 일반식 -OP3OM2를 갖고, 설페이토 기는 일반식 -OSO3M을 가지며, 이때 M은 수소, 또는 나트륨, 칼륨 또는 리튬과 같은 알칼리 금속이거나, 또는 몰 당량의 칼슘과 같은 알칼리 토금속이고, 바람직하게는 수소 또는 알칼리 금속이다.
적합한 가교 구성원 B는 하기 화학식 1aa 내지 1al을 포함한다:
상기 식에서,
*는 Fb에 결합되는 부위를 나타내고;
R은 상기 정의된 바와 같고;
Alk는 탄소수 1 내지 6의 알킬렌, 또는 NH, N, O 또는 S와 같은 1 또는 2개의 이종 기 또는 1, 2, 또는 3개의 이종 기를 함유하는 1 또는 2개의 그룹단으로 차단되는 탄소수 2 내지 8, 바람직하게는 2 내지 6의 알킬렌이고;
Ar은 페닐렌 또는 나프틸렌, 또는 비페닐 또는 스틸벤의 라디칼이고, 치환되지않거나 방향족 핵이 불소, 염소, 브롬, 탄소수 1 내지 4의 알킬, 탄소수 1 내지 4의 알콕시, 카복시 및 설포로 구성된 군에서 선택되는 치환체에 의해 치환되며;
Lo는 Alk 또는 Ar와 동일한 의미를 갖거나 화학식 1al(이때, Alk 및 Ar는 각각 상기 정의한 바와 같다)의 기이고;
L은 불소, 염소, 브롬, 치환될 수 있는 아미노, 하이드록시, 탄소수 1 내지 4의 알콕시, 치환될 수 있는 페녹시 또는 (C1-C4-알킬)티오이다.
알킬렌은 본원에서 직쇄 또는 분지쇄일 수 있다.
적합한 섬유 반응성 라디칼 Z는 특히 5- 내지 6-원 방향족 헤테로사이클릭 고리, 예를 들면 모노아진, 디아진 또는 트리아진 고리, 특히 피리딘, 피리미딘, 피리다진, 피라진, 티아진, 옥사진 또는 비대칭 또는 대칭 트리아진 고리, 또는 하나이상의 축합된 방향족 카보사이클릭 고리, 예를 들면 퀴놀린, 프탈라진, 시놀린, 퀴나졸린, 퀴녹살린, 아크리딘, 페나진 또는 페난트리딘 고리 시스템을 갖는 이런 고리 시스템에 결합된 하나이상의 반응성 치환기를 포함하는 섬유-반응성 라디칼이다.
헤테로사이클상에서의 반응성 치환기의 예는 할로겐(Cl, Br 또는 F), 하이드라지늄을 포함하는 암모늄, 피리디늄, 피콜리늄, 카복시피리디늄, 설포늄, 설포닐, 아지도(Z3), 티오시아네이토, 티오에테르, 옥시에테르, 설핀산 및 설폰산을 포함한다.
Z 라디칼은 예를 들면 2,4-디플루오로트리아진-6-일, 2,4-디클로로트리아진-6-일 및 모노할로-대칭성 트리아지닐 라디칼, 특히 모노클로로- 및 모노플루오로-트리아지닐 라디칼이고, 이는 알킬, 아릴, 아미노, 모노알킬아미노, 디알킬아미노, 아르알킬아미노, 아릴아미노, 모르폴리노, 피페리디노, 피롤리디노, 피페라지노, 알콕시, 아릴옥시, 알킬티오 및 아릴티오로 구성된 군에서 선택된 치환체에 의해 치환되고, 이때 알킬은 바람직하게는 치환되거나 또는 비치환된 C1-C4알킬이고, 아르알킬은 바람직하게는 치환되거나 비치환된 페닐-C1-C4알킬이고, 아릴은 바람직하게는 치환되거나 비치환된 페닐 또는 나프틸이고, 이때 알킬의 바람직한 치환체는 할로겐, 하이드록시, 시아노, 비닐설포닐, 치환된 알킬설포닐, 디알킬아미노, 모르폴리노, C1-C4알콕시, 비닐설포닐-C2-C4알콕시, 치환된 알킬설포닐-C2-C4알콕시, 카복시, 설포 또는 설페이토이고, 페닐 또는 나프틸의 바람직한 치환체는 설포, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 카복시, 할로겐, 아실아미노, 비닐설포닐, 치환된 알킬설포닐, 하이드록시 및 아미노이다.
Z 라디칼의 구체적인 예는 2-아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-메틸아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-에틸아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-이소프로필아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-디메틸아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-디에틸아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-β-메톡시에틸아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-β-하이드록시에틸아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-디(β-하이드록시에틸아미노)-4-플루오로트리아진-6-일, 2-β-설포에틸아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-β-설포에틸-메틸아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-카복시메틸아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-디(카복시메틸아미노)-4-플루오로트리아진-6-일, 2-설포메틸메틸아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-β-시아노에틸아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-벤질아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-β-페닐에틸아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-벤질메틸아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(4'-설포벤질)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-사이클로헥실아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(o-, m-, p-메틸페닐)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(o-, m-, p-설포페닐)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(2', 5'-디설포페닐)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(o-, m-, p-클로로페닐)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(o-, m-, p-메톡시페닐)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(2'-메틸-4'-설포페닐)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(2'-메틸-5'-설포페닐)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(2'-클로로-4'-설포페닐)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(2'-클로로-5'-설포페닐)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(2'-메톡시-4'-설포페닐)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(o-, m-, p-카복시페닐)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(2',4'-디설포페닐)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(3',5'-디설포페닐)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(2'-카복시-4'-설포페닐)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(2'-카복시-5'-설포페닐)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(6'-설포나프트-2'-일)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(4',8'-디설포나프트-2'-일)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(6',8'-디설포나프트-2'-일)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(N-메틸-N-페닐)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(N-에틸-N-페닐)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(N-β-하이드록시에틸-N-페닐)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(N-이소프로필-N-페닐)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-모르폴리노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-피페리디노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(4',6',8'-트리설포나프트-2'-일)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(3',6',8'-트리설포나프트-2'-일)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(3',6'-디설포나프트-1'-일)아미노-4-플루오로트리아진-6-일, N-메틸-N-(2,4-디클로로트리아지닐)카바밀, N-메틸-N-(2-메틸아미노-4-클로로트리아진-6-일)카바밀, N-메틸-N-(2-디메틸아미노-4-클로로트리아진-6-일)카바밀, N-메틸- 또는 N-에틸-N-(2,4-디클로로트리아진-6-일)아미노아세틸, 2-메톡시-4-트리플루오로트리아진-6-일, 2-에톡시-4-플루오로트리아진-6-일, 2-페녹시-4-플루오로트리아진-6-일, (2-(o-, m- 또는 p-설포페녹시)-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(o-, m- 또는 p-메틸- 또는 메톡시페녹시)-4-플루오로트리아진-6-일, 2-β-하이드록시에틸머캡토-4-플루오로트리아진-6-일, 2-페닐머캅토-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(4'-메틸페닐)머캅토-4-플루오로트리아지닐, 2-(2',4'-디니트로페닐)머캅토-4-플루오로트리아진-6-일, 2-메틸-4-플루오로트리아진-6-일, 2-페닐-4-플루오로트리아진-6-일 및 또한 상응하는 4-클로로- 또는 4-브로모-트리아지닐 라디칼, 및 3차 염기, 예를 들면 트리메틸아민, 트리에틸아민, 디메틸-β-하이드록시에틸아민, 트리에탄올아민, N,N-디메틸하이드라진, 피리딘, α-, β- 또는 γ-피콜린, 니코틴산 및 이소니코틴산 또는 설피네이트 특히 벤젠설핀산 또는 비설파이트와 할로겐 교환하여 수득되는 상응하는 라디칼이다.
할로트리아지닐 라디칼은 또한 제 2 할로트리아지닐 라디칼 또는 할로디아지닐 라디칼 또는 하나이상의 비닐설포닐 또는 설페이토에틸설포닐 라디칼에, 예를 들면 하기 화학식 1am 내지 1ao의 가교 구성원에 의해 또는 설페이토에틸설포닐 또는 비닐설포닐 기의 경우 하기 화학식 1ap 또는 1aq의 가교 구성원에 의해 결합될 수 있다:
또한 Z 라디칼은 예를 들면 하기 화학식 (2aa) 내지 (2ar)의 기이다:
상기 식에서,
M은 상기 정의된 바와 같고;
Rβ는 수소, 또는 예를 들면 할로겐, 하이드록시, 카복시, 설페이토 또는 설포로 치환될 수 있는 탄소수 1 내지 4의 알킬이고;
Ro는 수소, 할로겐, 예를 들면 염소, 불소 및 브롬, 탄소수 1 내지 4의 알킬, 예를 들면 에틸, 특히 메틸, 또는 탄소수 1 내지 4의 알콕시, 예를 들면 에톡시, 특히 메톡시이다.
또다른 Z 라디칼은 예를 들면 2,4-디클로로피리미딘-6-일, 2,4,5-트리클로로피리미딘-6-일, 2,4-디클로로-5-니트로- 또는 -5-메틸- 또는 -5-카복시메틸- 또는 -5-카복시- 또는 -5-시아노- 또는 -5-비닐- 또는 -5-설포- 또는 -5-모노-, -디- 또는 -트리클로로메틸- 또는 -5-카브알콕시-피리미딘-6-일, 2,6-디클로로피리미딘-4-카보닐, 2,4-디클로로피리미딘-5-카보닐, 2-클로로-4-메틸피리미딘-5-카보닐, 2-메틸-4-클로로피리미딘-5-카보닐, 2-메틸티오-4-플루오로피리미딘-5-카보닐, 6-메틸-2,4-디클로로피리미딘-5-카보닐, 2,4,6-트리클로로피리미딘-5-카보닐, 2,4-디클로로피리미딘-5-설포닐, 2-클로로퀴녹살린-3-카보닐, 2- 또는 3-모노클로로퀴녹살린-6-카보닐, 2- 또는 3-모노클로로퀴녹살린-6-설포닐, 2,3-디클로로퀴녹살린-5- 또는 -6-카보닐, 2,3-디클로로퀴녹살린-5- 또는 -6-설포닐, 1,4-디클로로프탈라진-6-설포닐 또는 -6-카보닐, 2,4-디클로로퀴나졸린-7- 또는 -6-설포닐 또는 -카보닐, 2- 또는 3- 또는 4-(4',5'-디클로로-6'-피리다존-1'-일)페닐-설포닐 또는 -카보닐, β-(4',5'-디클로로-6'-피리다존-1'-일)에틸카보닐, N-메틸-N-2,3-디클로로퀴녹살린-6-설포닐)아미노아세틸 및 N-메틸-N-(2,3-디클로로퀴녹살린-6-카보닐)아미노아세틸 및 또한 상기 언급된 염소-치환된 헤테로사이클릭 라디칼의 상응하는 브롬 및 불소 유도체, 예를 들면 2-플루오로-4-피리미디닐, 2,6-디플루오로-4-피리미디닐, 2,6-디플루오로-5-클로로-4-피리미디닐, 2-플루오로-5,6-디클로로-4-피리미디닐, 2,6-디플루오로-5-메틸-4-피리미디닐, 2-플루오로-5-메틸-6-클로로피리미디닐, 2-플루오로-5-니트로-6-클로로-4-피리미디닐, 5-브로모-2-플루오로-4-피리미디닐, 2-플루오로-5-시아노-4-피리미디닐, 2-플루오로-5-메틸-4-피리미디닐, 2,5,6-트리플루오로-4-피리미디닐, 5-클로로-6-클로로메틸-2-플루오로-4-피리미디닐, 5-클로로-6-디클로로메틸-2-플루오로-4-피리미디닐, 5-클로로-6-트리클로로메틸-2-플루오로-4-피리미디닐, 5-클로로-2-클로로메틸-6-플루오로-4-피리미디닐, 5-클로로-2-디클로로메틸-6-플루오로-4-피리미디닐, 5-클로로-2-트리클로로메틸-6-플루오로-4-피리미디닐, 5-클로로-2-플루오로디클로로메틸-6-플루오로-4-피리미디닐, 2,6-디플루오로-5-브로모-4-피리미디닐, 2-플루오로-5-브로모-6-메틸-4-피리미디닐, 2-플루오로-5-브로모-6-클로로메틸-4-피리미디닐, 2,6-디플루오로-5-클로로메틸-4-피리미디닐, 2,6-디플루오로-5-니트로-4-피리미디닐, 2-플루오로-6-메틸-4-피리미디닐, 2-플루오로-5-클로로-6-메틸-4-피리미디닐, 2-플루오로-5-클로로-4-피리미디닐, 2-플루오로-6-클로로-4-피리미디닐, 6-트리플루오로메틸-5-클로로-2-플루오로-4-피리미디닐, 6-트리플루오로메틸-2-플루오로-4-피리미디닐, 2-플루오로-5-트리플루오로메틸-4-피리미디닐, 2-플루오로-5-페닐- 또는 -5-메틸설포닐-4-피리미디닐, 2-플루오로-5-카복스아미도-4-피리미디닐, 2-플루오로-5-카보메톡시-4-피리미디닐, 2-플루오로-5-브로모-6-트리플루오로메틸-4-피리미디닐, 2-플루오로-6-카복스아미도-4-피리미디닐, 2-플루오로-6-카보메톡시-4-피리미디닐-, 2-플루오로-6-페닐-피리미디닐, 2-플루오로-6-시아노-4-피리미디닐, 5-클로로-6-플루오로-2-메틸-4-피리미디닐, 5,6-디플루오로-4-피리미디닐, 5-클로로-6-플루오로-2-디클로로플루오로메틸-4-피리미디닐, 2-플루오로-5-클로로피리미딘-4-일, 2-메틸-4-플루오로-5-메틸설포닐피리미딘-6-일, 2,6-디플루오로-5-메틸설포닐-4-피리미디닐, 2,6-디클로로-5-메틸설포닐-4-피리미디닐, 2-플루오로-5-설폰아미도-4-피리미디닐, 2-플루오로-5-클로로-6-카보메톡시-4-피리미디닐 및 2,6-디플루오로-5-트리플루오로메틸-4-피리미디닐, 설포닐-함유 트리아진 라디칼, 예를 들면, 2,4-비스(페닐설포닐)-6-트리아지닐, 2-(3'-카복시페닐)-설포닐-4-클로로트리아진-6-일, 2-(3'-설포페닐)설포닐-4-클로로트리아진-6-일 및 2,4-비스(3'-카복시페닐설포닐)-6-트리아지닐, 설포닐-함유 피리미딘 라디칼, 예를 들면 2-카복시메틸설포닐피리미딘-4-일, 2-메톡시설포닐-6-메틸피리미디닐, 2-메틸설포닐-6-에틸피리미딘-4-일, 2-페닐설포닐-5-클로로-6-메틸피리미딘-4-일, 2,6-비스메틸설포닐피리미딘-4-일, 2,6-비스메틸설포닐-5-클로로피리미디닐, 2,4-비스메틸설포닐피리미딘-5-설포닐, 2-메틸설포닐피리미딘-4-일, 2-페닐설포닐피리미딘-4-일, 2-트리클로로메틸설포닐-6-메틸피리미딘-4-일, 2-메틸설포닐-5-클로로-6-메틸피리미딘-4-일, 2-메틸설포닐-5-브로모-6-메틸피리미딘-4-일, 2-메틸설포닐-5-클로로-6-에틸피리미딘-4-일, 2-메틸설포닐-5-클로로-6-클로로메틸피리미딘-4-일, 2-메틸설포닐-4-클로로-6-메틸피리미딘-5-설포닐-, 2-메틸설포닐-5-니트로-6-메틸피리미딘-4-일, 2,5,6-트리스메틸설포닐피리미딘-4-일, 2-메틸설포닐-5,6-디메틸피리미딘-4-일, 2-에틸설포닐-5-클로로-6-메틸피리미딘-4-일, 2-메틸설포닐-6-클로로피리미딘-4-일, 2,6-비스메틸설포닐설포닐-5-클로로피리미디닐, 2-메틸설포닐-6-카복시피리미딘-4-일, 2-메틸설포닐-5-설포피리미딘-4-일, 2-메틸설포닐-6-카보메톡시피리미딘-4-일, 2-메틸설포닐-5-카복시피리미딘-4-일, 2-메틸설포닐-5-시아노-6-메톡시피리미딘-4-일, 2-메틸설포닐-5-클로로피리미딘-4-일, 2-β-설포에틸설포닐-6-메틸-피리미딘-4-일, 2-메틸설포닐-5-브로모피리미딘-4-일, 2-페닐설포닐-5-클로로피리미딘-4-일, 2-카복시메틸설포닐-5-클로로-6-메틸피리미딘-4-일, 2-메틸설포닐-6-클로로피리미딘-4-일 및 -5-카보닐, 2,6-비스(메틸설포닐)피리미딘-4- 또는 -5-카보닐, 2-에틸설포닐-6-클로로피리미딘-5-카보닐, 2,4-비스(메틸설포닐)피리미딘-5-설포닐, 2-메틸설포닐-4-클로로-6-메틸피리미딘-5-설포닐- 또는 -카보닐, 2-클로로벤조티아졸-5- 또는 -6-카보닐 또는 -5- 또는 -6-설포닐, 2-아릴설포닐- 또는 알킬설포닐-벤조티아졸-5- 또는 -6-카보닐 또는 -5- 또는 -6-설포닐, 예를 들면 2-메틸설포닐- 또는 2-에틸설포닐-벤조티아졸-5- 또는 -6-설포닐 또는 -카보닐, 2-페닐설포닐벤조티아졸-5- 또는 -6-설포닐 또는 -카보닐 및 축합 벤젠 고리에 설포 기를 함유하는 상응하는 2-설포닐벤조티아졸-5- 또는 -6-카보닐 또는 -설포닐 유도체, 유사하게는 2-클로로벤족사졸-5- 또는 -6-카보닐 또는 -설포닐, 2-클로로벤즈이미다졸-5- 또는 -6-카보닐 또는 -설포닐, 2-클로로-1-메틸-벤즈이미다졸-5- 또는 6-카보닐- 또는 -설포닐, 2-클로로-4-메틸-1,3-티아졸-5-카보닐 또는 -4- 또는 -5-설포닐 또는 4-클로로 또는 4-니트로퀴놀린-5-카보닐의 N-옥사이드이다.
화학식 1의 염료에서 Fb가 모노- 또는 디스아조 염료 또는 금속 착물 아조 염료의 라디칼인 경우가 바람직하다. 이들 염료에서는, 라디칼 -B-N(R)-X 및 -B-N(R)-Z는 출발 성분, 즉 디아조 및 커플링 성분의 상이하거나 동일한 라디칼에 결합되어있다. 바람직하게는, 라디칼 -B-N(R)-X 및 -B-N(R)-Z는 개별적인 성분, 디아조 성분 또는 커플링 성분에 결합되어있다. 염료는 예를 들면 하기 화학식 1a, 1b, 1c 및 1d를 갖는다:
상기 식에서,
D, D1및 D2는 각각 벤젠 또는 나프탈렌 계열의 디아조 성분의 라디칼이고;
K는 벤젠, 나프탈렌, 아세토아세트아릴리드 또는 헤테로사이클릭 계열의 커플링 성분의 라디칼이고, 헤테로사이클릭 계열에는 바람직하게는 피라졸론 또는 피리돈 라디칼이고;
B는 각각 동일하거나 서로 상이하고 상기 정의된 바와 같고;
R는 각각 동일하거나 서로 상이하고 상기 정의된 바와 같고;
Ko는 이중-커플링 커플링 성분의 라디칼이다.
만약 두 개의 라디칼 -B-N(R)-X 및 -B-N(R)-Z가 출발 성분 D 또는 K의 동일한 라디칼에 결합되어있다면, 이는 특히 커플링 성분 K의 라디칼이다. 염료는 하기 화학식 1e의 형태를 취한다:
상기 식에서,
D, K, B, R, X 및 Z는 각각 화학식 1a 내지 1d에서 정의된 바와 같다.
라디칼 D, D1및 D2는 화학식 1의 라디칼 Fb에 대해 상기 언급된 바와 유사하게 또다른 아조 기 또는 아조 기를 함유한 라디칼로 치환될 수 있고, 이 경우 X, Z, B 및 R은 각각 상기 정의되어있다.
D, D1및 D2의 예는 바람직하게는 비치환되거나 또는 설포-, 클로로-, C1-C4-알킬-, 카브알콕시- 또는 설폰아미도-치환된 페닐 또는 페닐렌; 비치환되거나 또는 설포-, 클로로-, C1-C4-알콕시- 또는 C1-C4-알킬-치환된 나프틸 또는 나프틸렌; 비치환되거나 또는 설포-치환된 4-(페닐아조)페닐; 및 비치환되거나 또는 설포-치환된 비페닐렌이다.
K는 예를 들면 하이드록시벤젠, 하이드록시나프탈렌, 아미노벤젠, 아미노나프탈렌 또는 아미노하이드록시나프탈렌 계열의 커플링 성분의 라디칼 또는 5-하이드록시-3-메틸- 또는 -카복시-피라졸론, 6-하이드록시-2-피리돈 또는 비치환되거나 또는 C1-C4-알킬- 또는 C1-C4-알콕시-고리-치환된 아세토아세트아릴리드 라디칼이다. 라디칼 K는 통상적인 치환체, 특히 설폰산 기를 가질 수 있다.
또한 흥미로운 염료는 화학식 1a 내지 1e의 화합물이고, 이때 라디칼 D, D1, D2및 K는 또한 다른 반응성 라디칼을 함유할 수 있다. 따라서 삼- 및 사-반응성 염료가 포함되고, 단 5,6-디플루오로-4-피리미디닐은 반응성 라디칼중 하나이다. D 또는 K에 포함된 추가의 반응성 라디칼은 Z 및 X와 같이 아미노 기에 결합되거나 또는 다른 방식, 예를 들면 직접 결합으로 D 또는 K에 결합될 수 있다. 상기 내용은 또한 화학식 1 또는 1a 내지 1e의 모노- 및 디스아조 염료의 금속 착물에도 변형되어 적용될 수 있다.
Z가 하기 화학식 2의 라디칼인 화학식 1 또는 1a 내지 1e의 신규한 염료가 특히 바람직하다:
상기 식에서,
R1및 R2는 각각 서로 독립적으로 수소; 또는 할로겐, 시아노, C1-C4알콕시, 하이드록시, 카복시, 설포 및 설페이토로 구성된 군에서 선택된 치환체로 선택적으로 치환된 C1-C4알킬; 벤질; 펜에틸; 사이클로헥실; 페닐; 일반식 -CH2CH2-SO2-W(이때, W는 비닐 또는 일반식 -CH2-CH2-V(이때 V는 알칼리-제거성 라디칼이다)의 기이다)의 기; 할로겐, 니트로, 시아노, 트리플루오로메틸, 설파모일, 카바모일, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C2-C5알카노일아미노, 벤조일아미노, 우레이도, 하이드록시, 카복시, 설포메틸 및 설포로 구성된 군에서 선택된 치환체로 치환될 수 있는 페닐; 또는 할로겐, 니트로, C1-C4알콕시, C2-C5알카노일아미노, 하이드록시, 카복시 및 설포로 구성된 군에서 선택된 치환체로 치환될 수 있는 나프틸이거나; 또는
-NR1R2는 모르폴리노, 피페리디노 또는 피페라지노 기이고;
Y는 염소, 불소 또는 치환되거나 비치환된 피리디늄 라디칼이다.
Y가 F인 염료가 바람직하다. Y가 Cl인 것중에서는 -NR1R2가 상기 정의된 바와 같은 것이 바람직하지만, 설포페닐아미노는 제외된다.
X 및 Z가 둘모두 5,6-디플루오로피리미딘-4-일인 신규한 염료가 특히 바람직하다.
또한 라디칼 -B-N(R)-Z가 하기 화학식 2a의 라디칼인 화학식 1의 염료가 바람직하다:
상기 식에서,
Y는 염소, 불소, 피리디늄 또는 치환되거나 비치환된 피리디늄, 예를 들면 탄소수 1 내지 4의 알킬, 카복시, 설포, 시아노 또는 카바모일로 치환된 피리디늄이고;
W는 비닐 또는 일반식 -CH2-CH2-V(이때, V는 알칼리 제거성 라디칼, 예를 들면 설페이토, 티오설페이토, 아세틸옥시, 포스페이토, 메틸설포닐옥시, 우레이도, 메틸설포닐아미노, 염소, 브롬, 불소, 벤조일옥시, 페닐설포닐옥시(이 페닐 라디칼은 -[N(CH3)3](+)음이온(-)기로 치환된다), 또는 예를 들면 탄소수 1 내지 4의 알킬, 카복시, 설포, 시아노 또는 카바모일 등으로 치환될 수 있는 피리디늄이다)의 기이고;
R3은 수소, 염소, 브롬, 탄소수 1 내지 4의 알킬, 탄소수 1 내지 4의 알콕시, 카복시 또는 설포이다.
하기 화학식 10 및 11의 염료가 바람직하다:
상기 식에서,
M은 상기 정의된 바와 같고;
A는 각각 X이거나 또는 하나의 A는 X이고 다른 A는 Z(X 및 Z는 각각 상기 정의된 바와 같다)이고;
R4는 수소, 메틸 또는 에틸이고;
벤젠 고리 E는 추가로 치환될 수 있지만, 바람직하게는 더 이상 치환되지않고;
r은 1 또는 2이고;
s는 0 또는 1이고;
p는 0 또는 1이다.
화학식 12의 염료가 또한 바람직하다:
상기 식에서,
M, A 및 r은 각각 상기 정의된 바와 같다.
상기 개시된 화학식 10, 11 및 12의 염료뿐만 아니라, 본 발명의 유용한 염료는 또한 화학식 13 내지 42의 화합물을 더욱 포함한다:
상기 식에서,
A, M, R, K, E, p, r 및 s는 각각 상기 정의된 바와 같고;
R5는 수소, 탄소수 1 내지 4의 알킬, 예를 들면 메틸 및 에틸, 탄소수 1 내지 4의 알콕시, 예를 들면 메톡시 및 에톡시, 탄소수 2 내지 5의 알카노일아미노, 예를 들면 프로피오닐아미노 및 아세틸아미노, C1-C4-알킬설포닐아미노, 아미노카보닐아미노, 염소, 브롬 또는 치환되거나 비치환된 페닐카보닐아미노이고;
R7은 수소, 탄소수 1 내지 4의 알킬, 예를 들면 메틸 및 에틸, 탄소수 1 내지 4의 알콕시, 예를 들면 메톡시 및 에톡시, 하이드록시 또는 설포이고;
R8은 메틸 또는 카복시이고;
R9는 탄소수 2 내지 4의 알카노일, 예를 들면 프로피오닐 및 아세틸, 또는 아미노카보닐이고;
R9는 시아노, 아미노카보닐, 설포메틸, 설포 또는 수소이고;
t는 2 또는 3이고;
k는 1, 2 또는 3이고;
화학식 22, 25, 29 및 37의 위치가 명시되지않은 -SO3M 기는 3 또는 4 위치의 8-하이드록시나프탈렌 라디칼에 결합된다.
또한 하기 화학식 43 및 44의 염료가 바람직하다:
상기 식에서,
M, A, R, p, r 및 s는 각각 상기 정의된 바와 같고;
PC는 구리 또는 니켈 프탈로시아닌 라디칼이고;
R10은 수소, 또는 할로겐, 예를 들면 염소 및 브롬, 하이드록시, 카복시, 설포 또는 설페이토로 치환될 수 있는 탄소수 1 내지 4의 알킬이고;
R11은 수소, 또는 할로겐, 예를 들면 염소 및 브롬, 하이드록시, 카복시, 설포 또는 설페이토로 치환될 수 있는 탄소수 1 내지 4의 알킬이고;
a는 1 또는 2이고;
b는 1 또는 2이고;
c는 0, 1 또는 2이고;
d는 0 또는 1이고;
단 (a+b+c+d)의 합은 4이하이고, (a+b)의 합은 2이상이다.
또한 하기 화학식 45 내지 48의 화합물의 염료가 바람직하다:
상기 식에서,
A, R, Rβ및 M은 각각 상기 정의된 바와 같고;
T는 각각 염소, 브롬 또는 메톡시, 바람직하게는 염소이고;
G는 -NH-, -O-, -NH-CO- 또는 -CO-NH-와 같은 1 또는 2개의 이종 기로 차단되는 지방족 가교 구성원, 예를 들면 탄소수 2 내지 6, 바람직하게는 탄소수 2 내지 4의 알킬렌 또는 탄소수 3 내지 8의 알킬렌이고;
Alk는 탄소수 1 내지 4의 알킬렌이다.
벤젠 핵 E를 갖는 디아조 성분은 예를 들면 1,3-페닐렌-4-설폰산, 1,4-페닐렌디아민-2-설폰산, 1,4-페닐렌디아민-2,5-디설폰산 및 1,3-페닐렌디아민디설폰산이다. 화학식 10의 화합물에서 라디칼 R4는 특히 수소, 메틸 또는 에틸이다.
화학식 10 내지 48의 염료에서 하나의 A는 바람직하게는 하기 화학식 3의 라디칼이다:
상기 식에서,
Q는 아미노; 모르폴리노; N-β-하이드록시에틸아미노; N,N-디-β-하이드록시-에틸아미노; β-설포에틸아미노; 페닐 핵에서 예를 들면 염소, 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 아세틸아미노, 하이드록시, 카복시, 설포메틸 및 설포로 구성된 군에서 선택된 치환체로 치환될 수 있는 페닐아미노; 페닐 핵에서 염소, 메틸 및 에틸로 구성된 군에서 선택된 치환체로 치환될 수 있는 N-(C1-C4-알킬)-N-페닐아미노; 페닐 핵에서 염소, 메틸 및 에틸로 구성된 군에서 선택된 치환체로 치환될 수 있는 N-설포(C1-C4-알킬)-N-페닐아미노; N-하이드록시-C1-C4-알킬-N-페닐아미노 또는 설포나프틸아미노이고;
제 2 반응성 라디칼 A는 5,6-디플루오로피리미드-4-일이다.
이런 종류의 염료는 예를 들면 하기 화학식 49의 염료이다:
상기 식에서,
M, R, Q 및 s는 각각 상기 정의된 바와 같다.
각각의 A가 X인 염료 10 내지 48, 및 하나의 A가 X이고, 다른 것이 상기 언급된 화학식 2a의 라디칼인 것과 유사한 것이 바람직하다.
본 발명은 또한 하기 화학식 5의 화합물 또는 상응하는 염료 중간체(중간체가 사용되는 경우, 이들은 후속적으로 바람직한 최종 염료로 전환되고 선택적으로 추가로 전환시킬 수 있다)를 1 내지 2몰의 화합물 4,5,6-트리플루오로피리미딘 및 선택적으로 1 내지 2몰의 화학식 6의 화합물과 반응킴으로써 화학식 1의 염료의 제조 방법을 제공한다:
Z-Hal
상기 식에서,
Fb, B, R 및 n은 각각 상기 정의된 바와 같고;
Z는 2 또는 3이고;
Hal은 염소, 브롬 또는 불소이고
Z는 상기 정의된 바와 같다.
바람직한 아조 염료를 제조하기위해서는, 디아조 성분 및 커플링 성분은 함께 2개의 아미노 기 -N(R)H 및 선택적으로 또한 아실화될 수 있는 아미노 기를 함유해야만한다. 경우에 따라, 적절한 아세틸아미노 또는 니트로 화합물이 사용되고, 할로트리아진, 할로피리미딘 등으로 축합되기전에, 아세틸아미노 또는 니트로 기는 각각 가수분해 또는 환원에 의해 NH2기로 전환된다. 반응성 라디칼 X 및 Z는 염료 또는 아실화될 수 있는 아미노 기를 갖는 염료 중간체와 섬유-반응성 할로겐화 아실화제를 축합시켜 도입된다. 중간체로부터 최종 염료를 제조하기위한 반응은 일반적으로 아조 염료를 생성하는 커플링 반응이다.
상기 규정된 개별적인 반응 단계가 다양한 순서로 수행될 수 있기 때문에 다양한 버전의 공정이 가능하다. 일반적으로, 반응은 순차적인 단계로 수행되고 개별적인 반응 성분내의 성분 반응의 순서는 유리하게는 특정한 조건에 의존한다. 특정한 예비조건하에서는 할로트리아진 또는 할로피리미딘 라디칼이 가수분해될 것이므로, 아세틸아미노기를 함유한 중간체는 가수분해되어 아미노디플루오로트리아진 또는 트리플루오로트리아진 등과의 축합전에 아세틸 기를 제거한다. 가능한 다른 전환 반응은 예를 들면 디할로트리아지닐 라디칼과 아민과의 후속 반응을 포함한다. 일반식 HNR1R2(이때, R1및 R2는 각각 상기 정의된 바와 같고, 2,4,6-트리할로-s-트리아진 및 디아미노벤젠설폰산이다)의 제 2 축합 생성물의 제조시에 이 반응은 현명하게 수행되고, 트리할로트리아진과 아민 또는 디아미노벤젠설폰 산과의 반응은 경우에 따라 다르고, 특히 포함되는 아미노 화합물의 용해도 및 아실화되는 아미노 기의 염기성에 의존한다. 공정의 가장 중요한 버전은 예시적인 양태에 예시되어있다.
본 발명에 따른 화학식 (1)의 모노- 또는 폴리아조 염료의 제조에 적합한 출발 화합물은 하기와 같다.
디아조 성분(D, D1및 D2):
1,3-디아미노벤젠, 1,4-디아미노벤젠, 1,3-디아미노-4-클로로벤젠, 1,3-디아미노-4-메틸벤젠, 1,3-디아미노-4-에틸벤젠, 1,3-디아미노-4-메톡시벤젠, 1,3-디아미노-4-에톡시벤젠, 1,4-디아미노-2-메틸벤젠, 1,4-디아미노-2-메톡시벤젠, 1,4-디아미노-2-에톡시벤젠, 1,4-디아미노-2-클로로벤젠, 1,4-디아미노-2,5-디메틸벤젠, 1,4-디아미노-2,5-디에틸벤젠, 1,4-디아미노-2-메틸-5-메톡시벤젠, 1,4-디아미노-2,5-디메톡시벤젠, 1,4-디아미노-2,5-디에톡시벤젠, 2,6-디아미노나프탈렌, 1,3-디아미노-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,4-디아미노-2,3,5,6-테트라메틸벤젠, 1,3-디아미노-4-니트로벤젠, 4,4'-디아미노스틸벤, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노비페닐(벤지딘), 3, 3'-디메틸벤지딘, 3,3'-디메톡시벤지딘, 3,3'-디클로로벤지딘, 3,3'-디카복시벤지딘, 3,3'-디카복시메톡시벤지딘, 2,2'-디메틸벤지딘, 4,2'-디아미노페닐(디페닐린), 2,6-디아미노나프탈렌-4,8-디설폰산, 1,4-디아미노벤젠-2-설폰산, 1,4-디아미노벤젠-2,5-디설폰산, 1,4-디아미노벤젠-2,6-디설폰산, 1,3-디아미노벤젠-4-설폰산, 1,3-디아미노벤젠-4,6-디설폰산, 1,4-디아미노-2-클로로벤젠-5-설폰산, 1,4-디아미노-2-메틸벤젠-5-설폰산, 1,5-디아미노-6-메틸벤젠-3-설폰산, 1,3-디아미노-6-메틸벤젠-4-설폰산, 3-(3'- 또는 4'-아미노벤조일아미노)-1-아미노벤젠-6-설폰산, 1-(4'-아미노벤조일아미노)-4-아미노벤젠-2,5-디설폰산, 1,4-디아미노벤젠-2-카복실산, 1,3-디아미노벤젠-4-카복실산, 1,2-디아미노벤젠-4-카복실산, 1,3-디아미노벤젠-5-카복실산, 1,4-디아미노벤젠-2-메틸벤젠, 4,4'-디아미노디페닐 옥사이드, 4,4'-디아미노디페닐우레아-2,2'-디설폰산, 4,4'-디아미노디페닐옥시에탄-2,2'-디설폰산, 4,4-디아미노스틸벤-2,2'-디설폰산, 2-아미노-5-아미노메틸나프탈렌-1-설폰산, 2-아미노-5-아미노메틸나프탈렌-1,7-디설폰산 및 1-아미노-4-메톡시-5-아미노메틸벤젠-6-설폰산이고, 사용되는 디아조 성분이 디아민이 아니고 방법의 버전의 설명에서 상기 개시된 바와 같이 가수분해에 의해 후속적으로 다시 아세틸 기가 제거되는 아미노아세틸아미노 화합물인 경우, 상기 언급된 디아조 성분의 모노아세틸 화합물이 적합하고, 예를 들면 1-아세틸아미노-3-아미노벤젠-4-설폰산 및 1-아세틸아미노-4-아미노벤젠-3-설폰산이다.
커플링 성분 K:
1-아미노-3-메틸벤젠, 1-아미노-2-메톡시-5-메틸벤젠, 1-아미노-2,5-디메틸벤젠, 3-아미노페닐우레아, 1-아미노-3-아세틸아미노벤젠, 1-아미노-3-하이드록시아세틸아미노벤질, 1,3-디아미노벤젠-4-설폰산, 1-아미노나프탈렌-6- 또는 -8-설폰산, 1-아미노-2-메톡시나프탈렌-6-설폰산, 2-아미노나프탈렌-5,7-디설폰산, 1-아미노-8-하이드록시나프탈렌-6-설폰산, 1-아미노-8-하이드록시나프탈렌-2,4-디설폰산, 2-하이드록시-3-아미노나프탈렌-5,7-디설폰산, 1-아미노-8-하이드록시나프탈렌-2,4,6-트리설폰산, 1-하이드록시-8-아세틸아미노나프탈렌-3-설폰산, 1-벤조일아미노-8-하이드록시나프탈렌-3,6- 또는 -4,6-디설폰산, 2-벤조일아미노-5-하이드록시나프탈렌-7-설폰산, 2-아미노-5-하이드록시나프탈렌-7-설폰산, 2-메틸- 또는 2-에틸-아미노-5-하이드록시나프탈렌-7-설폰산, 2-(N-아세틸-N-메틸아미노)-5-하이드록시나프탈렌-7-설폰산, 2-아세틸아미노-5-하이드록시나프탈렌-7-설폰산, 2-아미노-5-하이드록시나프탈렌-1,7-디설폰산, 2-아미노-8-하이드록시나프탈렌-6-설폰산, 2-메틸- 또는 2-에틸-아미노-8-하이드록시-나프탈렌-6-설폰산, 2-(N-아세틸-N-메틸아미노)-8-하이드록시나프탈렌-6-설폰산, 2-아세틸아미노-8-하이드록시나프탈렌-6-설폰산, 2-아미노-8-하이드록시나프탈렌-3,6-디설폰산, 2-아세틸아미노-8-하이드록시나프탈렌-3,6-디설폰산, 1-아미노-5-하이드록시나프탈렌-7-설폰산, 1-아미노-8-하이드록시나프탈렌-3,6- 또는 -4,6-디설폰산, 1-아세틸아미노-8-하이드록시나프탈렌-3,6- 또는 -4,6-디설폰산, 1-(4'-아미노벤조일아미노)-8-하이드록시나프탈렌-3,6- 또는 -4,6-디설폰산, 1-(4'-니트로벤조일아미노)-8-하이드록시나프탈렌-3,6- 및 -4,6-디설폰산, 1-(3'-아미노벤조일아미노)-8-하이드록시나프탈렌-3,6- 및 -4,6-디설폰산, 1-(3'-니트로벤조일아미노)-8-하이드록시나프탈렌-3,6- 및 -4,6-디설폰산, 2-(4'-아미노-3'-설포페닐아미노)-5-하이드록시나프탈렌-7-설폰산, 1-아미노-8-하이드록시-나프탈렌-4-설폰산, 2,4,6-트리아미노-3-시아노피리딘, 1-β-아미노에틸-3-시아노-4-메틸-6-하이드록시피리드-2-온, 1-γ-아미노프로필-3-설포메틸-4-메틸-6-하이드록시피리드-2-온 및 1,3-디아미노벤젠.
만약 화학식 (1)의 2개의 라디칼 -B-N(R)-X 및 -B-N(R)-Z가 상기 개시된 바와 같이 동일한 성분, 예를 들면 커플링 성분에 결합되어있다면, 디아조화되는 아미노 기 이외에 아실화될 수 있는 아미노 기를 함유하지않는 디아조 성분을 사용하는 것이 가능하며, 이들은 예를 들면, 아미노벤젠, 1-아미노-2-, -3- 또는 -4-메틸벤젠, 1-아미노-2-, -3- 또는 -4-메톡시벤젠, 1-아미노-2-, -3- 또는 -4-클로로벤젠, 1-아미노-2,5-디클로로벤젠, 1-아미노-2,5-디메틸벤젠, 1-아미노-3-메틸-6-메톡시벤젠, 1-아미노-2-메톡시-4-니트로벤젠, 1-아미노비페닐, 1-아미노벤젠-2-, -3- 또는 -4-카복실산, 2-아미노디페닐 에테르, 1-아미노벤젠-2-, -3- 또는 -4-설폰아미드, 1-아미노벤젠-2-, -3- 또는 -4-설폰산, 1-아미노벤젠-2,4- 및 -2,5-디설폰산, 1-아미노-4-메틸벤젠-2-설폰산, 1-아미노-3-메틸벤젠-6-설폰산, 1-아미노-6-메틸벤젠-3- 또는 -4-설폰산, 1-아미노나프탈렌, 2-아미노나프탈렌, 1-아미노나프탈렌-2-, -4-, -5-, -6-, -7- 또는 -8-설폰산, 2-아미노나프탈렌-1-, -3-, -4-, -5-, -6-, -7- 또는 -8-설폰산, 1-아미노나프탈렌-3,6- 또는 -5,7-디설폰산, 2-아미노나프탈렌-1,5-, -1, 7-, -3,6-, -5,7-, -4,8- 또는 -6,8-디설폰산, 1-아미노나프탈렌-2,5,7-트리설폰산, 2-아미노나프탈렌-1,5,7-, -3,6,8- 또는 -4,6,8-트리설폰산, 4-아미노벤젠-3,4'-디설폰산 및 3-메톡시-4-아미노-6-메틸아조벤젠-2',5'-디설폰산이다.
디아조 성분, 또는 디아조화될 수 있는 아미노기를 함유하는 중간체는 일반적으로 저온에서 수성 무기산 용액중의 아질산의 작용에 의해 이 반응에 통상적인 방법으로 디아조화된다. 커플링 성분 등으로의 커플링은 커플링 성분의 유형에 따라 강산 또는 약산 내지 약한 알칼리 pH에서 통상적인 방법으로 수행된다.
반응성 성분과 디아조 성분 및 커플링 성분과 아민 또는 아실화될 수 있는 모노아조 또는 디아조 중간체 또는 아미노-함유 염료와의 축합은 바람직하게는 저온 및 약한 산성, 중성 pH에서의 수용액 또는 현탁액에서 수행된다. 유리하게는 축합 중에 방출되는 할로겐화 수소는 수성 수산화 알칼리 금속, 탄산 알칼리 금속 또는 중탄산 알칼리 금속을 첨가하여 연속적으로 중화된다.
본 발명의 염료는 천연 및 합성 하이드록시- 및/또는 아미노-함유 물질, 특히 셀룰로즈 및 폴리아미드로 구성된 물질을 염색 및 날염하기에 매우 유용하다. 이들은 특히 염착 및 콜드 패드-배치 방법에 의한 셀룰로즈 물질의 염색 및 면 및 비스코스 레이온의 날염에 특히 유용하다. 우수한 축적능 및 높은 고착율로서 염색이 수득되고 우수한 전천후 견뢰성, 특히 습윤 견뢰성을 갖는다.
하기 실시예는 본 발명을 예시한다. 부 및 %는 달리 언급되지않으면 중량기준이다. 중량부 대 부피부는 ㎏/ℓ이다.
화학식이란 측면에서 실시예에서 개시된 화합물은 유리 산의 형태로 보고된다; 일반적으로 이들은 리튬, 나트륨 또는 칼륨 염과 같은 알칼리 금속 염의 형태로 제조되고 단리되고, 염의 형태로 염색에 사용된다. 유사하게는, 하기 실시예, 특히 표 1 내지 39의 실시예에서 언급된 유기 산의 형태인 출발 물질 및 성분은 그대로 또는 염, 바람직하게는 알칼리 금속 염의 형태로 합성에 사용될 수 있다.
본 발명의 염료에 대해 보고된 가시 영역에서의 최대 흡광(λmax)은 알칼리 금속 염의 수성 용액에서 결정된다. 실시예의 표에서, λmax는 보고된 색상 다음에 괄호안에서 표기되고 보고된 파장은 nm 단위이다.
염색 방법 1
2부의 염료를 100부의 물에 용해시킨다. 용액을 1900부의 냉수에 첨가하고, 60부의 염화 나트륨을 첨가하고 이 염료 욕에 100부의 면 패브릭을 넣는다. 온도를 60℃로 증가시키고 30분후에 40부의 무수 탄산 나트륨 및 또한 60부의 염화 나트륨을 첨가한다. 온도를 60℃에서 30분간 유지시킨후 염색물을 세정하고 0.3% 농도의 비이온성 계면활성제의 비등 용액에서 15분간 비눗기를 제거하고, 다시 세정하고 건조시켰다.
염색 방법 2
4부의 염료를 50부의 물에 용해시킨다. 50부를 ℓ당 5g의 수산화 나트륨 및 10g의 무수 탄산 나트륨을 포함하는 용액에 첨가한다. 사용되는 용액을 중량의 70%의 습윤 픽업(pick-up)으로 면 패브릭을 패딩시키는데 사용하고 그런다음 패딩된 패브릭을 롤러에 감고 실온에서 3 내지 12시간동안 방치한다. 그런다음, 염색된 물질을 세정하고 비이온성 계면활성제를 포함하는 비등 수성 욕에서 비눗기를 제거하고 한 번더 세정한 후 건조시킨다.
실시예 1
a) 0.2몰의 1-아미노-8-하이드록시나프탈렌-3,6-디설폰산을 pH 6.5의 350㎖의 물에 용해시키고 350g의 얼음을 이용하여 0℃로 냉각시킨다. 0.21몰의 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진(불화 시아누르산)을 첨가하고 Na2CO3용액을 이용하여 pH를 3.5 내지 4 사이로 유지시킨다. 5분후에 0.2몰의 모르폴린을 첨가하고, pH는 탄산 나트륨 용액으로 7로 조절하고 온도를 약 10℃로 증가시킨다.
b) 0.2몰의 5,6-디플루오로-4-(3'-아미노-4'-설포페닐)피리미딘(2,4-디아미노벤젠설폰산 및 2,4,6-트리플루오로피리미딘으로부터 제조됨)을 물에 현탁시키고 65㎖의 30% 농도의 염산 및 300g의 얼음과 혼합시킨다. 그런 다음 46㎖의 30% 농도의 아질산 나트륨 용액을 첨가하고 욕을 0℃에서 1시간동안 교반한다. 과다한 아질산 나트륨은 아미도설폰산에 의해 파괴된다. 생성된 디아조늄 염 현탁액을 a)에 의해 제조된 커플링 성분의 용액에 첨가한다. 탄산 나트륨 용액으로 pH를 6 내지 7로 고정시킨다. 커플링이 완료된 후, 염료를 염석하고, 단리하고 건조시키고 분쇄한다. 이는 하기 화학식(유리 산의 형태로 도시됨)을 갖고 면을 밝은 적색 색상으로 염색시킨다:
실시예 2
a) 0.2몰의 1,4-디아미노벤젠-2,5-디설폰산을 중성 조건하에서 농축 수산화 나트륨 용액을 이용하여 500㎖의 물에 용해시킨다. 용액을 50℃로 가열시키고 0.3몰의 4,5,6-트리플루오로피리미딘을 첨가한다. 동시에 탄산 나트륨 용액(20g/100㎖)을 첨가하여 pH 7을 유지시킨다. 반응은 3시간후에 종결된다. 욕을 0℃로 냉각시키고 55㎖의 30% 농도의 HCl을 첨가한다. 30분동안 47㎖의 아질산 나트륨 용액을 0 내지 5℃에서 30g/100㎖의 속도로 적가하고, 후속적으로 욕을 0 내지 5℃에서 30분동안 교반한다. 과다한 아질산염은 아미도설폰산으로 파괴시킨다.
b) 0.2몰의 6-아미노-1-나프톨-3-설폰산을 38㎖의 11% 농도의 수산화 리튬 용액의 존재하에 pH 7 내지 7.5의 물 600㎖에 용해시킨다. 0.21몰의 불화 시아누르산을 30초동안 적가하고, 이동안 11% 농도의 수산화 리튬 용액을 동시에 적가하여 pH를 3.7 내지 4.1로 유지시킨다. 욕을 후속적으로 5분동안 교반하고 0.2몰의 모르폴린을 첨가한다. 이 탄산 나트륨 용액(20g/100㎖)을 이용하여 pH를 7로 고정시키고 욕을 후속적으로 5 내지 8℃에서 15분동안 교반하고 a)에서 제조된 디아조늄 염 현탁액을 한시간동안 적가한다. 1M 중탄산 나트륨 용액을 사용하여 pH를 5.5 내지 6.5로 유지시킨다. 커플링을 종료한 후에, 염료를 NaCl을 이용하여 염석시키고 단리하고 건조시킨다. 이는 하기 화학식(유리 산의 형태로 도시됨)을 갖고 면을 적색 색상으로 염색시킨다:
실시예 3
0.2몰의 1-아미노-8-하이드록시나프탈렌-3,6-디설폰산을 수산화 나트륨을 이용하여 pH 8 내지 9인 물 450㎖에 용해시키고 0.22몰의 4,5,6-트리플루오로피리미딘과 혼합시킨다. 축합은 35 내지 40℃에서 일어나고 이동안 중탄산 나트륨 용액을 이용하여 pH를 유지시킨다.
동일한 조건하에서 실시예 1에서 개시된 디아조늄 염 현탁액과 커플링시켜 염석, 단리 및 건조시킨후에 하기 화학식(유리 산의 형태로 도시됨)을 갖고 면을 적색 색상으로 염색시키는 염료를 제공한다:
실시예 4
0.2몰의 8-(4'-아미노벤조일아미노)-1-나프톨-3,6-디설폰산을 중탄산 나트륨 용액(20g/100㎖)을 이용하여 pH가 7인 물 800㎖에 용해시킨다. 10% 농도의 HCl 용액을 사용하여 pH를 4.5로 고정시킨다. 2.2몰의 4,5,6-트리플루오로피리미딘을 첨가하고 욕을 30℃로 가열하고 탄산 나트륨 용액(20g/100㎖)을 이용하여 pH를 4.5 내지 6으로 유지시킨다. 반응은 4시간후에 종결된다.
그런 다음 실시예 1의 디아조늄 염 0.2몰을 첨가하고, 동시에 중탄산 나트륨 용액(20g/100㎖)을 적가하여 pH를 7.5 내지 8로 유지시킨다. 커플링이 종료된 후에, 염료를 NaCl로 염석시키고 단리 및 건조시킨다. 이는 하기 화학식(유리 산의 형태로 도시됨)을 갖고 면을 적색 색상으로 염색시킨다:
실시예 5
a) 0.25몰의 3-(β-설페이토에틸)설포닐아닐린을 중성 조건하에서 1M 중탄산 나트륨 용액과 함께 250㎖의 물에 용해시킨다. 250g의 얼음을 첨가하고 0.27몰의 불화 시아누르산을 적가하고 1M 중탄산 나트륨 용액을 이용하여 pH를 4 내지 5로 유지시키고 욕을 후속적으로 약 10분간 교반한다.
b) 0.2몰의 8-(4'-아미노벤조일아미노)-1-나프톨-3,6-디설폰산을 300㎖의 물에 현탁시키고 중성 조건하에서 11% 농도의 수산화 리튬 용액에 용해시켰다. 이 용액을 a)에서 제조한 용액에 첨가하면서 탄산 나트륨 용액을 이용하여 pH를 6.5 내지 7로 유지시키고, 온도를 약 10℃로 증가시켰다. 반응이 종료된 후에 0.2몰의 실시예 1의 디아조늄 염을 첨가하면서 동시에 탄산 나트륨 용액(20g/100㎖)을 적가하면서 pH를 7.5 내지 8로 유지시켰다. 3시간후에, 본 발명의 염료를 NaCl로 염석시키고 단리하였다. 이는 하기 화학식(유리 산의 형태로 도시됨)을 갖고 면을 적색 색상으로 염색시킨다:
실시예 6
a) 0.2몰의 2-아미노-4-(아미노메틸)벤젠설폰산을 농축 수산화 나트륨 용액을 이용하여 pH 8의 물 500㎖에 용해시킨다. 4,5,6-트리플루오로피리미딘을 첨가하고 반응을 pH 8 내지 8.5 및 30 내지 40℃에서 11% 농도의 수산화 리튬 용액을 동시에 첨가하여 수행한다. 그런다음, 욕을 0℃로 냉각시키고 56㎖의 30% 농도의 염산을 첨가하고 47㎖의 아질산 나트륨 용액(30g/100㎖)을 1시간동안 0 내지 5℃에서 적가하고 이어서 욕을 1시간동안 0 내지 5℃에서 교반한다. 그런 다음 과다한 아질산염은 아미도설폰산의 첨가에 의해 파괴된다.
b) 0.2몰의 1-아미노-8-하이드록시나프탈렌-4,6-디설폰산을 농축 수산화 나트륨 용액을 첨가하여 pH 5 내지 7인 300㎖의 물에 용해시킨다. 300g의 얼음을 첨가하고 0.21몰의 염화 시아누르산을 살수한다. 탄산 나트륨 용액(20g/100㎖)을 이용하여 pH를 0℃에서 pH 4 내지 4.5로 유지시킨다. 축합을 종료한 후 약 200㎖의 물중의 4-클로로아닐린의 0.2몰의 중성 용액을 첨가하고 욕을 20 내지 30℃로 가열하고 pH를 탄산 나트륨 용액(20g/100㎖)를 이용하여 6 내지 7로 유지시킨다. 약 1 시간후에, 욕을 10℃로 냉각시키고 a)에서 제조한 디아조늄 염 용액을 7 내지 7.5로 유지되는 pH에서 첨가한다.
커플링이 완료된 후에, 염료를 NaCl을 이용하여 염석시키고 단리 및 건조시킨다. 이는 유기 산 형태의 하기 화학식을 갖고 면을 적색 색상으로 염색시킨다:
실시예 7 내지 99
하기의 표 1 내지 표 27은 또한 이들 성분의 측면에서 하기 화학식 4a를 갖는 신규한 염료를 개시한다:
X-D-N=N-K-Z
상기 식에서,
X는 5,6-디플루오로피리미딘-4-일이다.
이들은 각각의 표에서 명시된 성분을 갖고 예를 들면 상기 실시예중 하나와 유사한 본 발명의 방법에 의해 제조될 수 있고 언급된 색상으로 면을 염색시킨다.
실시예 100
0.2몰의 1-아미노-8-하이드록시나프탈렌-3,6-디설폰산을 pH 6.5의 650㎖의 물에 용해시킨다. 용액을 35℃로 가열하고 0.2몰의 2,3-디클로로퀴녹살린-6-카보닐 클로라이드와 혼합시키고 탄산 나트륨 용액으로 pH를 6 내지 7로 고정시키고 반응을 약 6시간동안 35℃에서 수행한다. 그런 다음 실시예 1과 유사한 5,6-디플루오로-4-(3'-아미노-4'-설포페닐아미노)피리미딘 디아조늄 염으로 커플링 반응을 수행한다.
염료를 염석, 단리, 건조 및 분쇄한다. 이는 유리 산의 형태로 도시된 하기 화학식을 갖고 면을 적색 색상으로 염색시킨다:
실시예 101 내지 111
하기 표 28 및 29는 성분의 측면에서 하기 화학식 4b를 갖는 신규한 염료를 개시한다:
X-D-N=N-K-Z1
상기 식에서,
X는 5,6-디플루오로피리미딘-4-일이고 Z1은 2,3-디클로로퀴녹살린-6-카보닐이다.
이들은 각각의 실시예의 표에서 명시된 성분을 이용하여 유사한 방식으로 제조될 수 있고 언급된 색상으로 면을 염색시킨다.
실시예 112
0.2몰의 2-아미노나프탈렌-1-설폰산 및 530g의 빙수의 중성 용액을 0.21몰의 불화 시아누르산과 혼합하면서 탄산 나트륨 용액을 이용하여 pH를 4로 유지시킨다. 생성된 현탁액을 0.2몰의 2,4-디아미노벤젠설폰산의 중성 수성 용액과 혼합시키고 pH를 7 내지 7.5로 증가시킨다. 욕을 20℃로 가온시키고 약 1시간동안 교반한 후 0℃로 냉각시키고 생성된 반응 생성물을 pH 2 내지 2.2에서 HCl 및 아질산 나트륨 용액으로 디아조화시킨다. 과다한 아질산염을 아미도설폰산으로 파괴시키고 실시예 3에서 개시된 커플링 성분에서 pH 7 내지 8 및 10 내지 15℃에서 커플링을 수행한다. 염석시키고 단리하고 건조시켜 하기 화학식(유리 산의 형태로 도시된다)을 갖고 면을 적색 색상으로 염색시키는 염료를 제공한다:
실시예 113 내지 124
하기 표 30 내지 33은 하기 화학식 4a를 갖는 신규한 염료를 개시한다:
화학식 4a
X-D-N=N-K-Z
상기 식에서,
X는 5,6-디플루오로피리미딘-4-일이다.
이들은 언급된 디아조 및 커플링 성분 및 아민을 이용하여 유사한 방식으로 제조될 수 있다. 이들은 면을 언급된 색상으로 염색시킨다.
실시예 125
0.24몰의 염화 시아누르산을 400g의 빙수중의 0.22몰의 N-에틸아닐린의 중성 용액에 살수하고 탄산 나트륨 용액(20g/100㎖)을 이용하여 pH를 6 내지 7로 유지시킨다. 0℃에서 약 1시간후에 축합을 종료한다. 농축 아질산 나트륨 용액의 첨가에 의해 250㎖의 물에 용해된 0.2몰의 2,4-디아미노벤젠설폰산을 첨가하고 이동안 탄산 나트륨 용액(20g/100㎖)을 이용하여 pH를 6 내지 7로 유지시킨다. 욕을 25 내지 35℃로 가온시킨다. 축합이 종료된 후에 0℃로 냉각시키고 56㎖의 30%의 농도의 염산을 첨가하고 47㎖의 아질산 나트륨 용액(30g/100㎖)을 적가하고 욕을 후속적으로 0℃에서 1시간동안 교반한다.
아질산 나트륨을 아미도설폰산으로 파괴하고 생성된 디아조늄 염 용액을 실시예 3의 커플링 성분에 첨가하고, 커플링 반응은 7 내지 8의 pH 및 10 내지 15℃에서 수행된다. 커플링이 완료된 후에 염료를 NaCl을 이용하여 염석하고 단리하고 건조시킨다. 이는 하기 화학식을 갖고 면을 적색 색상으로 염색시킨다:
실시예 126 내지 131
하기 표 34 및 35는 하기 화학식 4b를 갖는 신규한 염료를 개시한다:
화학식 4b
Z-D-N=N-K-X
상기 식에서,
X는 5,6-디플루오로피리미딘-4-일이다.
이들은 언급된 디아조 및 커플링 성분 및 아민을 이용하여 유사한 방식으로 제조될 수 있다. 이들은 면을 언급된 색상으로 염색시킨다.
실시예 132 내지 143
하기 표 36 내지 39는 하기 화학식 4c를 갖는 신규한 염료를 개시한다:
A1-D-N=N-K-A2
이들은 언급된 디아조 및 커플링 성분 및 아민을 이용하여 유사한 방식으로 제조될 수 있다. 이들은 면을 언급된 색상으로 염색시킨다.
실시예 144 내지 167
상기 개시된 제조 방법 또는 통상적인 방법을 상응하는 출발 화합물을 하기 표 40 내지 52의 더욱 신규한 염료로 전환시키는데 사용할 수 있다.
섬유-반응성 기로서 5,6-디플루오로피리미딘-4-일 라디칼을 갖는 화학식 1을 갖는 본 발명의 신규한 섬유 반응성 염료를 이용하여 셀룰로즈 섬유, 모 및 폴리아미드와 같은 섬유 물질을 포함하는 하이드록시- 및/또는 카복스아미도-함유 물질을 우수한 고착도 및 색 강도로 염색하고 개선되게 날염시킬 수 있다.

Claims (19)

  1. 하기 화학식 1의 염료:
    화학식 1
    상기 식에서,
    Fb는 모노-, 디스- 트리스- 또는 폴리아조 염료, 1:1 구리, 1:2 크롬 또는 1:2 코발트 착물 모노-, 디스- 또는 트리스아조 염료 또는 안트라퀴논, 프탈로시아닌, 금속 프탈로시아닌, 포르마잔, 아조메틴, 디옥사진, 트리펜디옥사진, 페나진, 스틸벤, 트리페닐메탄, 크산텐, 티옥산톤, 니트로아릴, 나프토퀴논, 피렌퀴논 또는 페릴렌테트라카브이미드 염료의 라디칼이고;
    B는 각각 서로 독립적으로 직접적인 공유 결합, 또는 Fb의 방향족 카보사이클릭 라디칼의 고리 탄소 원자 또는 방향족 헤테로사이클릭 라디칼의 고리 탄소 또는 질소 원자에 결합된 가교 구성원이고;
    R은 각각 서로 독립적으로 수소 또는 비치환되거나 치환된 탄소수 1 내지 6의 알킬이고;
    X는 5,6-디플루오로피리미딘-4-일 기이고;
    Z는 X와 동일하거나 또는 다른 헤테로사이클릭 섬유-반응성 라디칼이고;
    n은 1 또는 2이다.
  2. 제 1 항에 있어서,
    하기 화학식 1a, 1b, 1c, 1d 또는 1e의 염료:
    화학식 1a
    화학식 1b
    화학식 1c
    화학식 1d
    화학식 1e
    상기 식에서,
    X 및 Z는 각각 제 1 항에서 정의된 바와 같고;
    D, D1및 D2는 각각 벤젠 또는 나프탈렌 계열의 디아조 성분의 라디칼이고;
    K는 벤젠, 나프탈렌, 아세토아세트아릴리드 또는 헤테로사이클릭 계열의 커플링 성분의 라디칼이고;
    B는 각각 동일하거나 서로 상이하고 제 1 항에서 정의된 바와 같고;
    R는 각각 동일하거나 서로 상이하고 제 1 항에서 정의된 바와 같고;
    Ko는 이중-커플링 성분의 라디칼이다.
  3. 제 1 항에 있어서,
    하기 화학식 10 또는 11의 염료:
    화학식 10
    화학식 11
    상기 식에서,
    M은 수소 또는 알칼리 금속이고;
    A는 각각 X이거나 또는 하나의 A는 X이고 다른 A는 Z(X 및 Z는 각각 제 1 항에서 정의된 바와 같다)이고;
    R4는 수소, 메틸 또는 에틸이고;
    벤젠 고리 E는 추가로 치환될 수 있고;
    r은 1 또는 2이고;
    s는 0 또는 1이고;
    p는 0 또는 1이다.
  4. 제 1 항에 있어서,
    하기 화학식 12의 염료:
    화학식 12
    상기 식에서,
    M은 수소 또는 알칼리 금속이고;
    A는 각각 X이거나 또는 하나의 A는 X이고 다른 A는 Z(X 및 Z는 각각 제 1 항에서 정의된 바와 같다)이고;
    r은 각각 서로 동일하거나 상이하며 1 또는 2이다.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항중 어느 한 항에 있어서,
    Z가 하기 화학식 2의 기인 염료:
    화학식 2
    상기 식에서,
    R1및 R2는 각각 서로 독립적으로 수소, 또는 치환될 수 있는 C1-C4알킬이거나, 또는 벤질, 펜에틸, 사이클로헥실, 페닐 또는 일반식 -CH2CH2-SO2-W(이때, W는 비닐 또는 일반식 -CH2-CH2-V(이때 V는 알칼리-제거성 라디칼이다)의 기이다)의 기이거나, 또는 비치환되거나 치환된 페닐 또는 비치환되거나 치환된 나프틸이거나; 또는
    -NR1R2는 모르폴리노, 피페리디노 또는 피페라지노 기이고;
    Y는 염소, 불소 또는 치환되거나 비치환된 피리디늄 라디칼이다.
  6. 제 1 항 내지 제 4 항중 어느 한 항에 있어서,
    Z가 5,6-디플루오로피리미딘-4-일인 염료.
  7. 제 1 항 내지 제 4 항중 어느 한 항에 있어서,
    -B-N(R)-Z가 하기 화학식 2a의 기인 염료:
    화학식 2a
    상기 식에서,
    Y는 염소, 불소, 피리디늄 또는 치환된 피리디늄이고;
    W는 비닐 또는 일반식 -CH2-CH2-V(이때, V는 알칼리 제거성 치환체이다)의 기이고;
    R3은 수소, 염소, 브롬, 탄소수 1 내지 4의 알킬, 탄소수 1 내지 4의 알콕시, 카복시 또는 설포이다.
  8. 제 1 항 내지 제 6 항중 어느 한 항에 있어서,
    B가 직접적인 공유 결합인 염료.
  9. 제 1 항 내지 제 6 항중 어느 한 항에 있어서,
    B가 화학식 1aa 내지 1al의 기를 갖는 염료:
    화학식 1aa
    화학식 1ab
    화학식 1ac
    화학식 1ad
    화학식 1ae
    화학식 1af
    화학식 1ag
    화학식 1ah
    화학식 1ai
    화학식 1aj
    화학식 1ak
    화학식 1al
    상기 식에서,
    *는 Fb에 결합되는 부위를 나타내고;
    R은 제 1 항에서 정의된 바와 같고;
    Alk는 탄소수 1 내지 6의 알킬렌, 또는 1 또는 2개의 이종 기 또는 1, 2 또는 3개의 이종 기를 함유하는 1 또는 2개의 그룹단으로 차단되는 탄소수 2 내지 8의 알킬렌이고;
    Ar은 페닐렌 또는 나프틸렌, 또는 비페닐 또는 스틸벤의 라디칼이고, 방향족 핵에서 비치환되거나 치환되며;
    Lo는 Alk 또는 Ar와 동일한 의미를 갖거나 일반식(이때, Alk 및 Ar는 각각 상기 정의된 바와 같다)의 기이고;
    L은 불소, 염소, 브롬, 비치환되거나 치환된 아미노, 하이드록시, 탄소수 1 내지 4의 알콕시, 비치환되거나 치환된 페녹시, 또는 (C1-C4-알킬)티오이다.
  10. 제 1 항 내지 제 9 항중 어느 한 항에 있어서,
    R이 메틸, 에틸 또는 수소인 염료.
  11. 제 1 항 내지 제 9 항중 어느 한 항에 있어서,
    R이 수소인 염료.
  12. 제 1 항 내지 제 11 항중 어느 한 항에 있어서,
    n이 1인 염료.
  13. 제 7 항에 있어서,
    W가 비닐 또는 β-설페이토에틸인 염료.
  14. 제 5 항 또는 제 7 항에 있어서,
    Y가 불소인 염료.
  15. 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,
    하나의 A가 하기 화학식 3의 기인 염료:
    화학식 3
    상기 식에서,
    Q는 아미노, 모르폴리노, N-β-하이드록시에틸아미노, N,N-디-β-하이드록시에틸아미노, β-설포에틸아미노, 또는 페닐 부분이 비치환되거나 치환된 페닐아미노이거나, 또는 페닐 부분이 비치환되거나 치환된 N-(C1-C4-알킬)-N-페닐아미노이거나, 또는 페닐 부분이 비치환되거나 치환된 N-설포(C1-C4-알킬)-N-페닐아미노이거나, 또는 N-하이드록시-C1-C4-알킬-N-페닐아미노 또는 설포나프틸아미노이고;
    제 2 반응성 라디칼 A는 5,6-디플루오로피리미드-4-일이다.
  16. 제 1 항에 있어서,
    하기 화학식 49의 염료:
    화학식 49
    상기 식에서,
    M은 수소 또는 알칼리 금속이고;
    s는 0 또는 1이고;
    R은 수소, 메틸 또는 에틸이고;
    Q는 아미노, 모르폴리노, N-β-하이드록시에틸아미노, N,N-디-β-하이드록시-에틸아미노, β-설포에틸아미노, 또는 페닐 부분이 비치환되거나 치환된 페닐아미노이거나, 또는 페닐 부분이 비치환되거나 치환된 N-(C1-C4-알킬)-N-페닐아미노이거나, 또는 페닐 부분이 비치환되거나 치환된 N-설포(C1-C4-알킬)-N-페닐아미노이거나, 또는 N-하이드록시-C1-C4-알킬-N-페닐아미노 또는 설포나프틸아미노이다.
  17. 하기 화학식 5의 화합물 또는 상응하는 염료 중간체를 1 내지 2몰의 4,5,6-트리플루오로피리미딘 화합물 및 선택적으로 1 내지 2몰의 화학식 6의 화합물과 반응시키고, 중간체를 사용하는 경우, 이들을 후속적으로 원하는 최종 염료로 전환시키고 선택적으로 추가로 전환시킴을 포함하는 제 1 항의 화학식 1의 염료의 제조 방법:
    화학식 5
    화학식 6
    Z-Hal
    상기 식에서,
    Fb, B, R 및 n은 각각 제 1 항에서 정의된 바와 같고;
    z는 2 또는 3이고;
    Hal은 염소, 브롬 또는 불소이고;
    Z는 제 1 항에서 정의된 바와 같다.
  18. 하이드록시- 및/또는 카복스아미도-함유 물질, 특히 섬유 물질을 염색하기위한 제 1 항의 염료의 용도.
  19. 염료를 섬유 물질에 가하고 열 또는 알칼리제를 이용하거나 또는 이들 두 가지 수단을 모두 이용하여 상기 염료를 상기 물질에 고착시키는 하이드록시- 및/또는 카복스아미도-함유 물질, 특히 섬유 물질의 염색 방법으로, 제 1 항의 염료를 사용하는 것을 포함하는 염색 방법.
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