KR19980080296A - 형광체가 분산되어 있는 감방사선성 조성물 - Google Patents

형광체가 분산되어 있는 감방사선성 조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR19980080296A
KR19980080296A KR1019980008720A KR19980008720A KR19980080296A KR 19980080296 A KR19980080296 A KR 19980080296A KR 1019980008720 A KR1019980008720 A KR 1019980008720A KR 19980008720 A KR19980008720 A KR 19980008720A KR 19980080296 A KR19980080296 A KR 19980080296A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
phosphor
sensitive composition
weight
radiation
parts
Prior art date
Application number
KR1019980008720A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100483881B1 (ko
Inventor
히데아끼 마스꼬
지로 다까하시
다다히꼬 우다가와
아쯔시 구마노
Original Assignee
마쯔모또 에이찌
제이에스알 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 마쯔모또 에이찌, 제이에스알 가부시끼가이샤 filed Critical 마쯔모또 에이찌
Publication of KR19980080296A publication Critical patent/KR19980080296A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100483881B1 publication Critical patent/KR100483881B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/0325—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polysaccharides, e.g. cellulose
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106—Binder containing
    • Y10S430/111—Polymer of unsaturated acid or ester
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106—Binder containing
    • Y10S430/112—Cellulosic

Abstract

본 발명은 (1) 형광체, (2) 적어도 1종의 알칼리 가용성 수지와 적어도 1종의 셀룰로오즈 에테르의 조합으로 이루어지는 유기 고분자 결합제, (3) 광가교성 화합물 및 (4) 광라디칼 발생제로 이루어지는 감방사선성 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 형광체 분산 감방사선성 조성물은 알칼리 현상액을 사용하는 현상 처리에 의해 미세 패턴을 용이하게 형성할 수 있음과 동시에 기판상 및 격벽 측면상에 균일한 형광면을 형성할 수가 있어 표시 휘도가 높은 플라즈마 디스플레이 패널을 제공할 수가 있다. 따라서, 본 발명의 형광체 분산 감방사선성 조성물은 앞으로 더욱 더 진행될 것으로 보여지는 플라즈마 디스플레이 패널의 대형화 및 고정밀 미세화의 진전에 이바지하는 바가 크다.

Description

형광체가 분산되어 있는 감방사선성 조성물
본 발명은 형광체 분산 감방사선성 조성물에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 특히 플라즈마 디스플레이 패널의 기판상 및 격벽 측면상에 균일한 형광면을 형성할 수 있는 형광체 분산 감방사선성 조성물에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이 패널 (PDP)은 대형 패널이면서 제조 공정이 용이하며, 시야각이 넓고, 자체 발광 타입이며 표시 품위가 높다는 것 등의 특성을 가지므로, 플랫 패널 표시 소자 중에서 주목받고 있다. 특히 칼라 PDP는 20인치 이상의 대형 벽걸이 TV용의 고정밀 미세 표시 소자로서 기까운 장래 주류가 될 것으로 기대되고 있다.
칼라 PDP는 가스 방전에 의해 자외선을 발생시키고, 그 자외선에 의해 형광체를 발광시킴으로써 칼라 표시를 가능하게 하는 것이다. 일반적으로 기판상에 적색 발광용, 녹색 발광용 및 청색 발광용의 3색 형광면을 마련하고 각 색의 화소 단위가 전체적으로 균일하게 혼재된 상태로 구성되어 있다.
칼라 PDP를 더욱 구체적으로 설명하면, 유리 등으로 이루어지는 기판의 표면에 배리어 리브라는 절연체로 이루어지는 복수의 격벽이 마련되어 있다. 그 격벽에 의해 다수의 오목부가 구획되고, 그 오목부내에 형광면이 설치됨과 함께 상기 형광면에 플라즈마를 작용시키는 전극을 배치한다. 이렇게 하여 각각의 형광면이 화소 단위를 형성하게 된다.
이와 같은 칼라 PDP의 제조 방법으로서는 종래 페이스트상의 형광체 조성물을, 예를 들면 스크린 인쇄에 의해 기판 표면의 화소 단위 영역마다 배치하여 형광면을 형성하는 스크린 인쇄법과, 감방사선성 형광체 조성물의 층을 형성하여 마스크를 통하여 예를 들면 자외선을 조사한 후 현상함으로써, 기판 표면의 화소 단위 영역마다 형광면을 마련하는 사진 석판법이 알려져 있다. 특히 사진 석판법은 미세 패턴의 형성이 용이하여, 고성능 칼라 PDP 분야에서의 이용이 기대되고 있으며, 이를 위한 형광체 분산 감방사선성 조성물의 개발이 예의 진행되고 있다.
이와 같은 형광체 분산 감방사선성 조성물은 형광체를 분산시킨 페이스트상 조성물이다. 그 예로서는 폴리비닐알코올과 디아조늄 화합물 또는 중크롬산 화합물과의 혼합물, 젤라틴과 유기계 경화제와의 혼합물 등의 비히클 중에 형광체를 분산시킨 조성물 (일본 특허 공개 제93-205632호 공보 참조)이 알려져 있다. 그러나 이 조성물은 PDP의 표시 휘도의 점에서 불충분하다.
그런데, PDP의 표시 휘도를 향상시키기 위해서는 한정된 에너지로 형광체를 효율좋게 발광시킬 필요가 있으며, 이를 위해서는 형광면의 표면적을 크게 하는 것도 하나의 방법이다. 격벽에 의해 구획된 오목부라는 한정된 공간내에서 형광면의 표면적을 크게 하는 방법으로서 유리 기판상 및 격벽 측면상에 형광면을 형성하는 방법이 제안되어 있다 (일본 특허 공개 제94-251703호 공보 참조).
그러나, 일본 특허 공개 제94-251703호 공보에서 채용되고 있는 형광체 분산 감방사선성 조성물에서는 유리 기판에서 격벽 측면에 걸쳐 형광면을 균일하게 형성하기가 곤란하여 PDP로서의 표시 품질의 면에서 만족할 수 없다.
그러므로, 본 발명의 목적은 종래의 형광체 분산 감방사선성 조성물의 결점을 해소한 신규한 형광체 분산 감방사선성 조성물을 제공하는 데에 있다.
본 발명의 다른 목적은 미세 패턴의 형성이 용이하고, 기판상 및 격벽 측면상에 균일한 형광면을 형성할 수 있으며, 표시 휘도가 높은 플라즈마 디스플레이 패널을 부여할 수 있는 형광체 분산 감방사선성 조성물을 제공하는 데에 있다.
본 발명의 또 다른 목적 및 이점은 이하의 설명으로 명확해질 것이다.
본 발명에 의하면, 본 발명의 상기 목적 및 이점은 (1) 형광체, (2) 적어도 1종의 알칼리 가용성 수지와 적어도 1종의 셀룰로오즈 에테르의 조합으로 이루어지는 유기 고분자 결합제, (3) 광가교성 화합물 및 (4) 광라디칼 발생제로 이루어지는 감방사선성 조성물에 의해 달성된다.
이하, 본 발명을 상세히 설명하겠다.
(1) 형광체
본 발명의 형광체로서는 특별히 한정되는 것이 아니며, 적절히 선정하여 사용할 수가 있다.
형광체로서는 적색 발색용 형광체, 녹색 발색용 형광체 및 청색 발색용 형광체를 들 수가 있다.
이와 같은 형광체 중, 적색 발광용 형광체의 대표예로서는 Y2O3:Eu(Ⅲ), Y2SiO5:Eu(Ⅲ), Y3Al5O12:Eu(Ⅲ), YVO4:Eu(Ⅲ), (Y, Gd)BO3:Eu(Ⅲ), Zu3(PO4)2:Mn 등을 들 수가 있다. 이러한 형광체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수가 있다.
또한, 녹색 발광용 형광체의 대표예로서는 Zn2SiO4:Mn, BaAl12O19:Mn, BaMgAl14O23:Mn, LaPO4:(Ce,Tb), Y3(Al,Ga)5O12:Tb 등을 들 수가 있다. 이러한 형광체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수가 있다.
또한, 청색 발광용 형광체의 대표예로서는 Y2SiO5:Ce, BaMgAl10O17:Eu(Ⅱ), BaMgAl14O23:Eu(Ⅱ), (Ca,Sr,Ba)10(PO4)6Cl2:Eu(Ⅱ), Y2SiO5:Ce, (Zn,Cd)S:Ag 등을 들 수가 있다. 이러한 형광체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수가 있다.
형광체의 사용량은 (2) 유기 고분자 결합제 100 중량부에 대하여 통상 10 내지 2000 중량부, 바람직하게는 20 내지 1500 중량부이다. 이 경우, 형광체의 사용량이 10 중량부 미만이면, 형광체면에서의 형광체 밀도가 낮아져 충분한 표시 휘도가 얻어지기 어렵고, 한편 2000 중량부를 초과하면 방사선 비조사부에 오염이나 막 잔류가 발생하기 쉬워진다.
(2) 유기 고분자 결합제
본 발명에서의 유기 고분자 결합제는 적어도 1종의 알칼리 가용성 수지와 적어도 1종 이상의 셀룰로오즈 에테르와의 조합으로 이루어진다. 본 발명에서 말하는 「알칼리 가용성 수지」란 셀룰로오즈 에테르와 다른 수지를 의미히며, 「알칼리 가용성」이란, 후술하는 알칼리 현상액에 의해 용해되어, 목적으로 하는 현상 처리가 수행되는 정도로 용해성을 갖는 성질을 의미한다.
바람직한 알칼리 가용성 수지의 예로서는 (메트)아크릴계 수지, 히드록시스티렌 수지, 노볼락 수지 등을 들 수가 있다.
이와 같은 알칼리 가용성 수지 중, 특히 바람직하게 사용되는 수지의 구체예로서는 하기의 단량체 (A)와 단량체 (B)의 공중합체, 또는 단량체 (A), 단량체 (B) 및 단량체 (C)의 공중합체를 들 수가 있다.
단량체 (A)는 유기 고분자 결합제에 알칼리 가용성을 부여하기 위한 성분이다. 그 예로서는 아크릴산, 메타크릴산, 말레인산, 푸말산, 크로톤산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산, 신남산 등의 카르복실기 함유 단량체, (메트)아크릴산 2-히드록시에틸, (메트)아크릴산 2-히드록시프로필, (메트)아크릴산 3-히드록시프로필 등의 수산기 함유 단량체, o-히드록시스티렌, m-히드록시스티렌, p-히드록시스티렌 등의 페놀성 수산기 함유 단량체 또는 기타 알칼리 가용성 관능기 함유 단량체를 들 수가 있다.
이러한 단량체 (A)는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수가 있다.
단량체 (B)는 유기 고분자 결합제의 알칼리 가용성을 조정하기 위한 성분이다. 그 예로서는 (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 에틸, (메트)아크릴산 n-프로필, (메트)아크릴산 i-프로필, (메트)아크릴산 n-부틸, (메트)아크릴산 i-부틸, (메트)아크릴산 sec-부틸, (메트)아크릴산 t-부틸, (메트)아크릴산 벤질, 글리시딜(메트)아크릴레이트 등의 수산기를 함유하지 않는 (메트)아크릴산 에스테르류, 스티렌, α-메틸스티렌 등의 방향족 비닐계 단량체류, 1,3-부타디엔, 이소프렌 등의 공액 디엔류 등을 들 수가 있다.
이러한 단량체 (B)는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수가 있다.
단량체 (C)는 유기 고분자 결합제에 형광체와의 상용성을 높이는 등의 특성을 부여하기 위한 성분이다. 그 예로서는 폴리스티렌, 폴리(메트)아크릴산 메틸, 폴리(메트)아크릴산 에틸, 폴리(메트)아크릴산 벤질 등의 중합체 쇄의 한쪽 말단에, 예를 들면 (메트)아크릴로일기 등의 중합성 불포화기를 갖는 고분자 중합체류를 들 수가 있다.
이러한 단량체(C)는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수가 있다.
상기 공중합체 중의 반복 단위로서 단량체 (A)에 유래하는 단량체 단위의 함유율은 공중합체 전체에 대하여 바람직하게는 10 내지 90 중량%, 보다 바람직하게는 20 내지 80 중량%이다. 이 경우, 단량체 (A)에 유래하는 단량체 단위의 함유율이 10 중량% 미만이면 유기 고분자 결합제의 알칼리 현상액으로의 용해성이 저하되어 방사선성 비조사부에 오염 또는 막 잔류가 발생하기 쉬워지는 경향이 있고, 한편, 90 중량%를 초과하면 유기 고분자 결합제의 알칼리 형상액으로의 용해성이 과대해져 형광면이 기판에서 떨어지기 쉬워지는 경향이 있다.
알칼리 가용성 수지의 겔 투과 크로마토그래피 (GPC, 캐리어: 테트라히드로푸란)에 의한 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량 (이하, 「Mw」라 함)은 바람직하게는 10,000 내지 1,000,000, 보다 바람직하게는 20,000 내지 700,000이다. 이 경우, 알칼리 가용성 수지의 Mw가 10,000 미만이면 최적 현상을 가져오는 현상 시간의 폭이 좁아져 이른바 현상 마진이 작아지기 쉽고, 한편 1,000,000을 초과하면 현상 후의 방사선 조사부 주변에 스컴이 발생하기 쉬워져 패턴 엣지의 섬세함이 부족되기 쉬워지며, 나아가 방사선 비조사부에 오염 또는 막 잔류가 발생하기 쉬워지는 경향이 있다.
상기 알칼리 가용성 수지와 조합하여 사용되는 셀룰로오즈 에테르로서는, 예를 들면 메틸셀룰로오즈, 에틸셀룰로오즈, 히드록시메틸셀룰로오즈, 2-히드록시에틸셀룰로오즈, 2-히드록시프로필셀룰로오즈, 2-히드록시에틸·메틸셀룰로오즈, 2-히드록시에틸·에틸셀룰로오즈, 2-히드록시프로필·메틸셀룰로오즈, 2-히드록시프로필·에틸셀룰로오즈, 카르복시메틸셀룰로오즈 등을 들 수가 있다.
셀룰로오즈 에테르의 Mw는 통상 10,000 내지 1,000,000, 바람직하게는 20,000 내지 500,000이다. 이 경우, 셀룰로오즈 에테르의 Mw가 10,000 미만이면 격벽 측면에 균일한 형광체층을 형성하기가 곤란해지는 경우가 있고, 한편 1,000,000을 초과하면 현상 후 방사선 비조사부에 잔사가 발생하기 쉬워지는 경향이 있다.
유기 고분자 결합제 (2)는 알칼리 가용성 수지와 셀룰로오즈 에테르가 이 순서의 중량비로 바람직하게는 10:1 내지 10:30, 보다 바람직하게는 10:2 내지 10:20으로 조합하여 이루어진다.
(3) 광가교성 화합물
광가교성 화합물은 광감응성 기를 함유하여 광조사를 받아 가교할 수 있는 성질을 갖는 화합물이다. 광감응성 기로서는, 예를 들면 탄소-탄소 불포화기, 아지드기 등을 들 수가 있다. 광가교성 화합물은 광가교성의 단량체 및 올리고머일 수가 있다.
광가교성 화합물로서는, 예를 들면 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 알킬렌글리콜의 디(메트)아크릴레이트류, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 등의 폴리알킬렌글리콜의 디(메트)아크릴레이트류, 글리세린, 트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨, 디펜타에리스리톨, 트리스히드록시에틸포스페이트 등의 다가 히드록시 화합물의 다가(메트)아크릴레이트류, 폴리에스테르, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지, 실리콘 수지, 스피란 수지 등의 올리고(메트)아크릴레이트류, 양말단 히드록시폴리부타디엔, 양말단 히드록시폴리이소프렌, 양말단 히드록시폴리카프로락톤 등의 양말단 히드록실화 중합체의 디(메트)아크릴레이트류, 4-(메트)아크릴로일페닐신나모일에스테르의 (공)중합 수지, 4-아지드벤즈알데히드와 폴리비닐알코올, 페놀노볼락 수지 등의 수산기 함유 수지와의 축합물 등을 들 수가 있다.
이러한 광가교성 화합물 중, 특히 다가 히드록시 화합물의 다가(메트)아크릴레이트류, 구체적으로는 트리프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 트리스(메트)아크릴로일옥시에틸포스페이트 등이 바람직하다.
이러한 광가교성 화합물은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수가 있다.
광가교성 화합물의 사용량은 (2) 유기 고분자 결합제 100 중량부에 대하여 바람직하게는 5 내지 500 중량부, 특히 바람직하게는 20 내지 200 중량부이다. 이 경우, 광가교성 화합물의 사용량이 5 중량% 미만이면 형광면이 기판에서 떨어지기 쉬워지고, 한편 500 중량부를 초과하면 방사선 비조사부에 오염 또는 막 잔류가 생기기 쉬워지는 경향이 있다.
(4) 광라디칼 발생제
본 발명의 광라디칼 발생제로서는 그 자체 공지된 것을 사용할 수가 있다. 그들 중 예를 들면 벤질, 벤조인, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부타논-1, 2-히드록시-1-메틸-1-페닐프로파논-1, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로파논-1, 4-(2-히드록시에톡시)페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2-메틸-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노-1-프로파논-1, 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 3,3-디메틸-4-메톡시벤조페논, 1,7-비스(9-아크리디닐)헵탄, 4-아지드벤즈알데히드, 4-아지드아세토페논, 4-아지드벤잘아세토페논, 아지드피렌, 4-디아조디페닐아민, 4-디아조-4'-메톡시디페닐아민, 4-디아조-3-메톡시디페닐아민, 4-아지드벤잘아세톤, 4-디아조-3'-메톡시디페닐아민, 디아지드카르콘, 2,6-비스(4'-아지드벤잘)시클로헥사논, 2,6-비스(4'-아지드벤잘)-4-메틸시클로헥사논, 1,3-비스(4'-아지드벤잘)-2-프로파논, 1,3-비스(4'-아지드신나밀리덴)프로파논-2, 4,4'-디아지드스틸벤, 2,4-디에틸티오크산톤, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2, 4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드, 벤조인티오-i-부틸에테르, N-페닐티오아크리딘, 트리페닐필리륨파크로레이트, 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(2'-클로로페닐)-s-트리아진, 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(4'-메톡시페닐)-s-트리아진, 2-[(2'-푸릴)비닐렌]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[(5'-메틸-2'-푸릴)비닐렌]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(4'-클로로페닐)-s-트리아진, 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(2'-메톡시페닐)-s-트리아진, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤조옥사졸, 2-머캅토벤조이미다졸, 2-머캅토-4(3H)-퀴나졸린, 티오크산톤, 치환 티오크산톤 등을 들 수가 있다. 치환 티오크산톤으로서는, 예를 들면 2-클로로티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 2-에틸티오크산톤, 2-n-프로필티오크산톤, 2-i-프로필티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤 등을 들 수가 있다.
이러한 광라디칼 발생제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수가 있다.
광라디칼 발생제의 사용량은 (3) 광가교성 화합물 100 중량부에 대하여 바람직하게는 5 내지 500 중량부, 보다 바람직하게는 10 내지 400 중량부이다. 이 경우, 광라디칼 발생제의 사용량이 5 중량부 미만이면 방사선 조사에 의해 충분히 가교 반응을 진행시킬 수가 없어서 화소 패턴에 언더 커트를 발생시킬 우려가 있고, 한편 500 중량부를 초과하면 형상시에 화소가 기판에서 떨어질 우려가 있으며, 방사선 비조사부에 요염 또는 막 잔류가 발생하기 쉬워지는 경향이 있다.
첨가제
본 발명의 디스플레이 패널용 형광체 분산 감방사선성 조성물은 상기 (1) 내지 (4) 성분 이외에 필요에 따라 열경화성 수지, 열경화성 수지용 경화 촉매, 밀착 촉진제, 충전제, 계면활성제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등의 각종 첨가제를 함유할 수도 있다.
상기 열경화성 수지로서는 예를 들면 에폭시 수지, 멜라민 수지, 요소 수지, 아닐린 수지, 페놀 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 아크릴레이트 수지 등을 들 수가 있다.
또한, 열경화성 수지용 경화 촉매로서는, 예를 들면 에폭시 수지에 대해서는 다가 아민류, 산 무수물류, 플루오르화안티몬 화합물 등을 들 수가 있다. 멜라민 수지, 요소 수지 또는 아닐린 수지에 대해서는 암모늄염류, 알코올아민류, 금속 염류, 유기산류 등을 들 수가 있다. 불포화 폴리에스테르 수지에 대해서는 벤조일퍼옥시드, 메틸에틸케톤퍼옥시드 등의 과산화물류를 들 수가 있다. 또한, 아크릴레이트 수지에 대해서는 아조이소부티로니트릴, 아조이소발레로니트릴 등의 아조 화합물, p,p'-디메톡시벤질, p,p'-디클로로벤질 등의 벤질류, 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디메틸-2-히드록시아세토페논 등의 아세토페논류 등을 들 수가 있다.
상기 밀착 촉진제로서는, 예를 들면 비닐트리메톡실란, 비닐트리에톡실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시드옥시프로필트리메톡시실란, 3-글리시드옥시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수가 있다.
상기 충전제로서는 예를 들면 저융점 유리, 알루미나, 실리카 등을 들 수가 있다.
상기 계면활성제로서는, 예를 들면 음이온계 계면활성제, 양이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제 등을 들 수가 있다.
상기 산화 방지제로서는, 예를 들면 2,2-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸페놀 등을 들 수가 있다.
상기 자외선 흡수제로서는, 예를 들면 2-(3-t-부틸-5-메틸-2-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 알콕시벤조페논 등을 들 수가 있다.
상기 응집 방지제로서는, 예를 들면 폴리아크릴산 나트륨, 폴리에틸렌글리콜 등을 들 수가 있다.
그 밖에 경화 촉진제, 무기 안료, 유기 안료 또는 염료를 배합할 수도 있다.
상기 각 첨가제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.
용매
본 발명의 형광체 분산 감방사선성 조성물은 상기 (1) 내지 (4) 성분을 필수 성분으로 하고, 경우에 따라 상기 첨가제를 함유하는 것인데, 필요에 따라 용매를 첨가하여도 좋다.
이와 같은 용매로서는 적어도 N-메틸-2-피롤리돈을 함유하는 것이 바람직하다. 이 경우, 조성물에서 도막을 형성할 때의 용매의 증발 속도 또는 점도를 조정하기 위하여 N-메틸-2-피롤리돈 이외의 용매를 더욱 함유할 수도 있다.
N-메틸-2-피롤리돈 이외의 용매로서는 예를 들면 에테르류, 에스테르류, 에테르에스테르류, 케톤류, 케톤에스테르류, 아미드류, 아미드에스테르류, 락탐류, 락톤류, 술폭시드류, 술폰류, (할로겐화) 탄화 수소류 등을 들 수가 있으며, 보다 바람직하게는 테트라히드로푸란, 아니솔, 디옥산, 에틸렌글리콜모노알킬에테르류, 에틸렌글리콜디알킬에테르류, 디에틸렌글리콜모노알킬에테르류, 디에틸렌글리콜디알킬에테르류, 프로필렌글리콜모노알킬에테르류, 프로필렌글리콜디알킬에테르류, 아세트산 에스테르류, 히드록시아세트산 에스테르류, 알콕시아세트산 에스테르류, 프로피온산 에스테르류, 히드록시피로피온산 에스테르류, 알콕시프로피온산 에스테르류, 락트산 에스테르류, 에틸렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류, 디에틸렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류, 프로필렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류, 환식 또는 비환식의 케톤류, 아세트아세트산 에스테르류, 피루브산 에스테르류, N,N-디알킬포름아미드류, N,N-디알킬아세트아미드류, γ-락톤류, 디알킬술폭시드류, 디알킬술폰류, α-테르피네올류 등 또는 에탄올과 물의 혼합물 등을 들 수가 있다.
이들 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수가 있다.
용매의 사용량은 형광체 분산 감방사선성 조성물의 전체 고형분 100 중량부에 대하여 바람직하게는 5 내지 1000 중량부, 보다 바람직하게는 10 내지 500 중량부이다.
본 발명의 형광체 분산 감방사선성 조성물은 상기 (1) 내지 (4) 성분을 경우에 따라 첨가되는 상기 첨가제 또는 필요에 따라 사용되는 상기 용매와 함께 예를 들면 볼밀, 페브르밀, 쉐이커, 호모디나이저, 3축 롤, 샌드밀 등의 혼합기를 사용하여 혼합함으로써 제조할 수가 있다.
본 발명의 형광체 분산 감방사선성 조성물은 플라즈마 디스플레이 패널의 형광면의 형성에 매우 적합하게 사용할 수가 있다.
플라즈마 디스플레이 패널은 예를 들면 유리 기판 등의 기판상에 방전 공간을 구획하는 격벽과 표시용 전극을 갖는다. 인접하는 격벽간의 오목부내에 본 발명의 형광체 분산 감방사선성 조성물로 이루어지는 형광체층이 예를 들면 스크린 인쇄 등에 의해 충전되고, 마스크를 통하여 상기 형광체층에 빛이 조사되고, 알칼리 현상액에 의해 현산된 후, 소성 처리를 받음으로써 형광면이 형성된다.
플라즈마 디스플레이 패턴을 제조할 때에 사용되는 방사선으로서는 예를 들면 가시광, 자외선, 원자외선 등이 바람직하다. 방사선 조사량 등의 조사 조건은 조성물의 베합 조성에 따라 적절히 선정된다.
또한, 소성 처리 조건은 가열 온도가 바람직하게는 300 내지 800℃, 보다 바람직하게는 400 내지 600℃이며, 가열 시간은 바람직하게는 1 내지 360분, 보다 바람직하게는 10 내지 240분이다.
플라즈마 디스플레이 패널을 사용할 때에 사용되는 알칼리 현상액으로서는 예를 들면 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 테트라메틸암모늄히드록시드 등의 알칼리성 화합물의 수용액이 바람직하다.
상기 알칼리성 화합물의 수용액의 농도는 바람직하게는 0.01 내지 5 중량%, 보다 바람직하게는 0.02 내지 3 중량%이다. 또한, 알칼리성 화합물의 수용액으로 이루어지는 현상액으로는 예를 들면 메탄올, 에탄올 등의 수용성 유기 용제 또는 계면활성제 등을 적량 첨가할 수도 있다. 또한, 알칼리성 화합물의 수용액으로 이루어지는 현상액을 사용하는 경우에는 일반적으로 현상 후 수세한다.
이하, 실시예를 들어 본 발명의 실시 형태를 더욱 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이러한 실시예에 전혀 제약되는 것은 아니다. 이하의 「%」및「부」는 중량을 기초로 한다.
합성예 1
N-메틸-2-피롤리돈 100부
메틸메타크릴레이트 75부
메타크릴산 25부
아조이소부티로니트릴 1부
의 혼합물을 교반기가 부착된 오토클레이브에 넣고, 실온에서 균일해질때까지 교반한 후, 80℃로 승온하였다. 이어서, 80℃에서 3시간 중합하고, 다시 100℃에서 2시간 중합한 후, 실온까지 냉각하여 중합체 용액을 얻었다. 중합 중에는 질소에 의한 공기 차단과 교반을 계속하였다. 얻어진 중합체 (이를 「중합체 a」라 한다.)의 중합 수율은 98%이며, 도소(주) 제품 GPC (상품명 HLC-802A)로 측정한 중합체 a의 Mw는 150,000이었다.
합성예 2
N-메틸-2-피롤리돈 100부
메타크릴산 n-부틸 50부
메타크릴산 25부
메타크릴산 2-히드록시프로필 25부
아조이소부티로니트릴 1부
의 혼합물을 교반기가 부착된 오토클레이브에 넣고, 실온에서 균일해질때까지 교반한 후, 80℃로 승온하였다. 이어서 80℃에서 3시간 중합하고, 다시 100℃에서 2시간 중합한 후, 실온까지 냉각하여 중합체 용액을 얻었다. 중합 중에는 질소에 의한 공기 차단과 교반을 계속하였다. 얻어진 중합체 (이를 「중합체 b」라 한다.)의 중합 수율은 98%이며, 도소(주) 제품 GPC (상품명 HLC-802A)로 측정한 중합체 b의 Mw는 100,000이었다.
실시예 1
두께 2.0 ㎜의 소정의 전극과 리브를 갖는 유리 기판상에 하기에 나타내는 형광체 분산 감방사선성 조성물을 스크린 인쇄법으로 도포한 후, 110℃의 청정 오븐내에서 건조하여 형광체층을 형성하였다.
형광체 분산 감방사선성 조성물
[형광체]
(Y, Gd)BO3:Eu(적색) 40부
[유기 고분자 결합제]
① 알칼리 가용성 수지
중합체 a (합성예 1) 4부
② 셀룰로오즈 에테르
2-히드록시프로필셀룰로오즈 (Mw=300,000)
1.5부
[광가교성 단량체]
펜타에리스리톨트리아크릴레이트 4부
[광라디칼 발생제]
2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 (이를 「성분 α」라 한다.)
1부
4,4'-디에틸아미노펜조페논 1부
2-머캅토벤조티아졸 0.5부
[용매]
N-메틸-2-피롤리돈 48부
얻어진 형광체층은 리브의 측면상 및 저면상에 균일하게 약 30 ㎛의 막 두께로 형성되어 있었다. 이 형광체층에 대하여 마스크를 통하여 초고압 수은등으로 자외선 (i선, 파장 365 nm)을 200 mJ/㎠의 조사량으로 조사하였다. 이어서, 0.05%의 수산화 칼륨 수용액 (pH 11.7)으로 2분간 현상을 수행하고, 이어서 초순수 물로 1분간 샤워 세정을 수행하여, 자외선 비조사부의 형광체층을 제거한 후, 공기 중에서 건조하였다. 이후 230℃의 청정 오븐 내에서 30분 동안 가열 후, 다시 500℃의 소성로 내에서 30분 동안 소성 처리를 수행하고, 발광용 형광면을 형성하여, 플라즈마 디스플레이 패널을 제작하였다.
얻어진 플라즈마 디스플레이 패널은 형광면의 막 두께가 25 ㎛이었다.
형광면은 유리 기판상과 격벽 측면상에 균일하게 형성되어 있었고, 작동시에 높은 표시 휘도를 나타냈다.
이상의 결과를 표 1에 나타냈다.
실시예 2 내지 3
표 1에 나타내는 성분을 사용한 것 이외는, 실시에 1과 마찬가지로 하여 형광체 분산 감방사선성 조성물의 조제 및 플라즈마 디스플레이 패널의 제작을 수행하였다. 실시예 2에서 광라디칼 발생제 성분으로서 사용한 성분 β는 2-메틸-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로파논-1이다.
얻어진 플라즈마 디스플레이 패널은 형광면의 막 두께가 각각 약 25 ㎛, 약 30 ㎛이며, 유리 기판상과 격벽 측면상에 균일하게 형성되어 있었고, 동작시에 높은 표시 휘도를 나타냈다.
이상의 결과를 표 1에 나타냈다.
[표 1]
실시예
1 2 3
형광체 (Y,Gd)BO3:Eu(III) Zn2SiO4:Mn BaMgAl14O23:Eu(II)
유기 고분자 결합제 중합체 a 중합체 a 중합체 b
2-히드록시프로필셀룰로오즈(Mw=300,000) 2-히드록시에틸메틸셀룰로오즈 (Mw=400,000) 2-히드록시프로필메틸셀룰로오즈 (Mw=400,000)
광가교성 단량체 펜타에리스리톨트리아크릴레이트 펜타에리스리톨트리아크릴레이트 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트
광라디칼 발생제 성분 α 성분 β 성분 α
4,4'-디에틸아미노벤조페논 - 4,4'-디에틸아미노벤조페논
2-머캅토벤조티아졸 - 2-머캅토벤조티아졸
용매 N-메틸-2-피롤리돈 N-메틸-2-피롤리돈 N-메틸-2-피롤리돈
평가
형광면의 막 두께 약 25 ㎛ 약 25 ㎛ 약 30 ㎛
형광면의 형상
실시예 4 내지 5
표 2에 나타내는 성분을 사용한 것 이외는, 실시에 1과 마찬가지로 하여 형광체 분산 감방사선성 조성물의 조제 및 플라즈마 디스플레이 패널의 제작을 행하였다. 실시예 5에서 광라디칼 발생 성분으로서 사용한 성분 β는 2-메틸-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로파논-1이었다.
얻어진 플라즈마 디스플레이 패널은 형광면의 막 두께가 약 25 ㎛이었다.
형광면은 유리 기판상과 격벽 측면에 균일하게 형성되어 있었고, 동작시에 높은 표시 휘도를 나타냈다.
이상의 결과를 표 2에 나타냈다.
비교예 1 내지 2
표 2에 나타내는 성분을 사용한 것 이외는, 실시에 1과 마찬가지로 하여 형광체 분산 감방사선성 조성물의 제조 및 플라즈마 디스플레이 패널의 제작을 행하였다. 그 결과, 비교예 1의 플라즈마 디스플레이 패널은 형광면의 막 두께가 약 30 ㎛이었다. 그러나, 형광면은 유리 기판상에만 형성되고, 격벽 측면상에는 형광면이 형성되지 않았으며, 동작시의 표시 휘도도 낮았다.
또한, 비교예 2의 형광체 분산 감방사선성 조성물의 경우, 방사선 비조사부가 0.05%의 수산화칼륨 수용액 (pH 11.7)에서는 용해되지 않았다.
이상의 결과를 표 2에 나타냈다.
[표 2]
실시예 비교예
4 5 1 2
형광체 (Y,Gd)BO3;Eu(III) Zn2SiO4:Mn Zn2SiO4:Mn BaMgAl14O23:Eu(II)
유기 고분자 결합제 중합체 b 중합체 a 중합체 a -
2-히드록시프로필메틸셀룰로오즈 (Mw=400,000) 2-히드록시프로필메틸셀룰로오즈 (Mw=400,000) - 2-히드록시프로필메틸셀룰로오즈 (Mw=400,000)
광가교성 단량체 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트 펜타에리스리톨트리아크릴레이트 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트
광라디칼 발생제 성분 α 성분 β 성분 α 성분 β
4,4'-디에틸아미노벤조페논 4,4'-디에틸아미노벤조페논 4,4'-디에틸아미노벤조페논 -
2-머캅토벤조티아졸 티오크산톤 2-머캅토벤조티아졸 -
용매 N-메틸-2-피롤리돈 60% α-테르피네올 40% N-메틸-2-피롤리돈 N-메틸-2-피롤리돈 N-메틸-2-피롤리돈
평가
형광면의 막 두께 약 25 ㎛ 약 25 ㎛ 약 30 ㎛ 알칼리 현상액에 의한 현상이 불가능
형광면의 형상
본 발명의 형광체 분산 감방사선성 조성물은 알칼리 현상액을 사용하는 현상 처리에 의해 미세 패턴을 용이하게 형성할 수 있음과 동시에 기판상 및 격벽 측면상에 균일한 형광면을 형성할 수가 있어 표시 휘도가 높은 플라즈마 디스플레이 패널을 제공할 수가 있다. 따라서, 본 발명의 형광체 분산 감방사선성 조성물은 앞으로 더욱 더 진행될 것으로 보여지는 플라즈마 디스플레이 패널의 대형화 및 고정밀 미세화의 진전에 이바지하는 바가 크다.

Claims (9)

  1. (1) 형광체, (2) 적어도 1종의 알칼리 가용성 수지와 적어도 1종의 셀룰로오즈 에테르의 조합으로 이루어지는 유기 고분자 결합제, (3) 광가교성 화합물 및 (4) 광라디칼 발생제로 이루어지는 감방사선성 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 알칼리 가용성 수지가 (메트)아크릴계 수지, 히드록시스티렌 수지 및 노볼락 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 감방사선성 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 알칼리 가용성 수지가 공중합 성분으로서 알칼리 가용성 단량체를 10 내지 90 중량% 함유하는 공중합체인 감방사선성 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 유기 고분자 결합제가 알칼리 가용성 수지 대 셀룰로오즈 에테르의 중량비 10:1 내지 10:30으로 이루어지는 것인 감방사선성 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 광가교성 화합물이 다가 히드록시 화합물의 다가 (메트)아크릴레이트류인 감방사선성 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 유기 고분자 결합제 100 중량부에 대하여 형광체 10 내지 2000 중량부를 함유하는 감방사선성 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 유기 고분자 결합제 100 중량부에 대하여 광가교성 화합물 5 내지 500 중량부를 함유하는 감방사선성 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 광가교성 화합물 100 중량부에 대하여 광라디칼 개시제 5 내지 500 중량부를 함유하는 감방사선성 조성물.
  9. 제1항에 있어서, 용매를 더 함유하는 감방사선성 조성물.
KR10-1998-0008720A 1997-03-17 1998-03-16 형광체가분산되어있는감방사선성조성물 KR100483881B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP08240297A JP3832013B2 (ja) 1997-03-17 1997-03-17 プラズマディスプレイパネル用螢光面の形成方法
JP97-82402 1997-03-17

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR19980080296A true KR19980080296A (ko) 1998-11-25
KR100483881B1 KR100483881B1 (ko) 2005-08-29

Family

ID=13773611

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR10-1998-0008720A KR100483881B1 (ko) 1997-03-17 1998-03-16 형광체가분산되어있는감방사선성조성물

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6051368A (ko)
JP (1) JP3832013B2 (ko)
KR (1) KR100483881B1 (ko)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020011560A (ko) * 2000-08-02 2002-02-09 박이순 광중합형 감광성 형광체 페이스트 조성물 및 이를 이용한형광막의 형성방법
KR20030036017A (ko) * 2001-10-30 2003-05-09 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 플라즈마 디스플레이 표시장치, 발광장치 및 그것을이용한 영상표시 시스템
KR20050096084A (ko) * 2004-03-29 2005-10-05 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널
KR100658714B1 (ko) * 2004-11-30 2006-12-15 삼성에스디아이 주식회사 감광성 조성물, 이를 포함하는 격벽 형성용 감광성페이스트 조성물, 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이패널용 격벽의 제조방법.

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100421214B1 (ko) * 1997-08-23 2004-06-10 삼성에스디아이 주식회사 플라즈마디스플레이패널의형광체페이스트및그제조방법
TWI231293B (en) 1997-11-12 2005-04-21 Jsr Corp Transfer film
US6905634B2 (en) * 1998-10-13 2005-06-14 Peter Burnell-Jones Heat curable thermosetting luminescent resins
US7235192B2 (en) * 1999-12-01 2007-06-26 General Electric Company Capped poly(arylene ether) composition and method
US6905637B2 (en) * 2001-01-18 2005-06-14 General Electric Company Electrically conductive thermoset composition, method for the preparation thereof, and articles derived therefrom
TW533447B (en) * 1999-12-14 2003-05-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd Plasma display apparatus
KR20010098809A (ko) * 2000-04-25 2001-11-08 마쯔모또 에이찌 Ｅｌ 표시 소자의 격벽 형성용 감방사선성 수지 조성물,격벽 및 ｅｌ 표시 소자
KR100583095B1 (ko) * 2000-06-30 2006-05-24 주식회사 하이닉스반도체 광산 발생제와 함께 광 라디칼 발생제(ｐｒｇ)를 포함하는포토레지스트 조성물
JP2002328467A (ja) * 2001-05-01 2002-11-15 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd プラズマディスプレイパネルの製造方法
JP3827196B2 (ja) 2001-05-01 2006-09-27 東京応化工業株式会社 感光性絶縁ペースト組成物及びそれを用いた感光性フィルム
US6827877B2 (en) * 2003-01-28 2004-12-07 Osram Sylvania Inc. Red-emitting phosphor blend for plasma display panels
KR100841171B1 (ko) * 2006-10-28 2008-06-24 삼성전기주식회사 형광체의 유동특성 제어방법, 형광체 및 형광체 페이스트
KR102116971B1 (ko) * 2015-01-23 2020-06-02 삼성디스플레이 주식회사 감광성 수지 조성물 및 표시장치
KR101983426B1 (ko) * 2015-01-23 2019-09-11 삼성디스플레이 주식회사 감광성 수지 조성물 및 표시장치
KR102377521B1 (ko) * 2015-09-11 2022-03-22 삼성디스플레이 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 표시 장치

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4208448A (en) * 1978-10-27 1980-06-17 Westinghouse Electric Corp. Method for improving the performance of low pressure fluorescent discharge lamp which utilizes zinc silicate as a phosphor blend constituent
US4608301A (en) * 1983-08-02 1986-08-26 Fuji Photo Film Co., Ltd. Radiographic intensifying screen
US4752717A (en) * 1984-08-27 1988-06-21 Edwards Industries, Inc. Shielded electroluminescent lamp
JPH07777B2 (ja) * 1988-10-07 1995-01-11 東京応化工業株式会社 螢光体ペースト組成物
JPH0827540B2 (ja) * 1990-09-07 1996-03-21 東京応化工業株式会社 螢光体パターンを形成する方法
JP3229640B2 (ja) * 1992-01-28 2001-11-19 大日本印刷株式会社 プラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法及びそれに使用するプラズマディスプレイパネル用蛍光体スラリー
JP3229639B2 (ja) * 1992-01-28 2001-11-19 大日本印刷株式会社 プラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法及びそれに使用するプラズマディスプレイパネル用蛍光体スラリー
JP3229641B2 (ja) * 1992-01-28 2001-11-19 大日本印刷株式会社 プラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法及びそれに使用するプラズマディスプレイパネル用蛍光体スラリー
US5368976A (en) * 1992-03-27 1994-11-29 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Pigment-dispersed color-filter composition comprising an alkali-soluble block copolymer as a binder
JPH06251703A (ja) * 1993-02-26 1994-09-09 Dainippon Printing Co Ltd プラズマディスプレイ基板の蛍光面形成方法
JP3380044B2 (ja) * 1994-07-01 2003-02-24 三菱電機株式会社 気体放電表示装置の形成方法
US5858616A (en) * 1995-10-13 1999-01-12 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photosensitive resin composition, photosensitive film and process for preparing fluorescent pattern using the same, and phosphor subjected to surface treatment and process for preparing the same

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020011560A (ko) * 2000-08-02 2002-02-09 박이순 광중합형 감광성 형광체 페이스트 조성물 및 이를 이용한형광막의 형성방법
KR20030036017A (ko) * 2001-10-30 2003-05-09 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 플라즈마 디스플레이 표시장치, 발광장치 및 그것을이용한 영상표시 시스템
KR20050096084A (ko) * 2004-03-29 2005-10-05 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널
KR100658714B1 (ko) * 2004-11-30 2006-12-15 삼성에스디아이 주식회사 감광성 조성물, 이를 포함하는 격벽 형성용 감광성페이스트 조성물, 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이패널용 격벽의 제조방법.
US7588877B2 (en) 2004-11-30 2009-09-15 Samsung Sdi Co., Ltd. Photo-sensitive composition, photo-sensitive paste composition for barrier ribs comprising the same, and method for preparing barrier ribs for plasma display panel
US8098012B2 (en) 2004-11-30 2012-01-17 Samsung Sdi Co., Ltd. Photo-sensitive composition, photo-sensitive paste composition for barrier ribs comprising the same, and method for preparing barrier ribs for plasma display panel

Also Published As

Publication number Publication date
JP3832013B2 (ja) 2006-10-11
JPH10261366A (ja) 1998-09-29
US6051368A (en) 2000-04-18
KR100483881B1 (ko) 2005-08-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100483881B1 (ko) 형광체가분산되어있는감방사선성조성물
KR100671986B1 (ko) 알칼리현상형 광경화성 조성물 및 이를 사용하여 얻을 수 있는 소성물(燒成物) 패턴
KR100487480B1 (ko) 형광체분산감방사선성조성물
KR20000015469A (ko) 광중합형 감광성 형광체 페이스트 조성물및 이를 이용한 형광막의 형성방법
JP4092781B2 (ja) 無機粒子含有組成物、転写フィルムおよびそれを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法
JPH1062980A (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びこれを用いた蛍光体パターンの製造法
CN101142526A (zh) 黑色矩阵形成用光固化性树脂组合物、使用该组合物的感光性膜、黑色矩阵的形成方法、黑色矩阵及具有该黑色矩阵的等离子体显示面板
KR100680087B1 (ko) 무기 입자 함유 수지 조성물, 그를 포함하는 전사 필름 및플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법
JPH1072240A (ja) アルカリ現像型光硬化性ガラスペースト組成物及びそれを用いたプラズマディスプレイパネル隔壁の製造方法
JP3814926B2 (ja) 螢光体分散感放射線性組成物
JPH1143522A (ja) 蛍光体分散感放射線性組成物
JPH09329891A (ja) 樹脂組成物、そのフィルム及びその硬化物
JPH09219154A (ja) 螢光体組成物およびプラズマディスプレイパネル
JPH10168108A (ja) 螢光体分散感放射線性組成物
JP3473001B2 (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性フィルム及び蛍光パターンの製造法
JPH11144628A (ja) 隔壁形成用転写フィルムおよびそれを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法
JPH0961996A (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びプラズマディスプレイの背面板の製造法
JP3921755B2 (ja) プラズマディスプレイパネルの製造方法
JP2002220552A (ja) 光硬化性樹脂組成物及びそれを用いてブラックマトリックスを形成したプラズマディスプレイパネル
JPH09125056A (ja) 表面処理された蛍光体及びその製造法
KR100295594B1 (ko) 플라즈마 디스플레이 패널용 감광성 페이스트 조성물
JP2006045270A (ja) 無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法
JP3373119B2 (ja) 光重合性感光性組成物および像形成方法
JPH10228864A (ja) プラズマディスプレイパネルの背面板の製造方法及び背面板形成用組成物
KR100469874B1 (ko) 플라즈마디스플레이패널용격벽의제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120322

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130321

Year of fee payment: 9

LAPS Lapse due to unpaid annual fee