KR19980080098A - 아조 염료 혼합물, 아조 염료, 이들의 제조방법 및 이들의 용도 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 하나 이상의 화학식 1의 염료를 하나 이상의 화학식 2 또는 3의 염료와 함께 포함하는 염료 혼합물에 관한 것이다.
화학식 1
화학식 2
화학식 3
위의 화학식 1, 2 또는 3에서, 치환체는 특허청구의 범위 제1항에서 정의한 바와 같다.
당해 염료 혼합물은 특히 셀룰로즈 섬유 재료용 직접 염료이다. 이들은 고온에 적합하고 폴리에스테르 섬유에 대한 염색 조건하에서 폴리에스테르 섬유용 분산 염료를 사용하여 폴리에스테르/면 혼방물을 단일 욕 속에서 1단계로 염색하는 데 적합하다.
Description
본 발명은 신규한 아조 염료 혼합물, 신규한 아조 염료, 이들의 제조방법 및 섬유 재료, 특히 직물 섬유 재료를 염색 및 날염하기 위한 이들의 용도에 관한 것이다.
본 발명의 목적은 질소 함유 및 하이드록실 함유 섬유 재료, 특히 셀룰로즈 섬유 재료를 염색하는 데 적합하고 견뢰도 특성이 우수하며 고온에서 안정한 염료 혼합물 및 염료를 제공하는 데 있다.
본 발명에 이르러, 다음의 아조 염료 혼합물 및 아조 염료가 위의 필요조건들을 매우 장기간 동안 만족시키는 것으로 밝혀졌다.
따라서, 본 발명은 하나 이상의 화학식 1의 염료를 하나 이상의 화학식 2 또는 3의 염료와 함께 포함하는 염료 혼합물을 제공한다.
[화학식 1]
[화학식 2]
[화학식 3]
위의 화학식 1, 2 및 3에서, A1및 A2는 서로 독립적으로 각각 벤젠 또는 나프탈렌 계열의 커플링 성분의 라디칼 또는 헤테로사이클릭 계열의 커플링 성분의 라디칼이고, n 및 m은 0 또는 1이다.
화학식 1, 2 및 3의 화합물상에 존재하는 커플링 성분 A1-H 및 A2-H는 그 자체로 공지되어 있고, 예를 들면, 문헌[참조: Venkataraman The Chemistry of Synthetic Dyes Volume 6, pages 213-297, Academic Press, New York, London 1972]에 다수가 기재되어 있다.
A1및 A2는 서로 독립적으로 각각 바람직하게는 벤젠, 나프탈렌, 피라졸론, 아미노피라졸, 피리돈, 피리미딘, 인돌, 나프틸이미다졸, 디페닐아민, 피라졸로[2,3-a]피리미딘 또는 테트라하이드로퀴놀린 커플링제의 라디칼인데, 이들 라디칼은 추가로 치환될 수 있다.
A1및 A2는 서로 독립적으로 각각 특히 바람직하게는 벤젠, 나프탈렌, 6-하이드록시-2-피리돈, 1-페닐-5-아미노피라졸, 1-페닐-5-피라졸론 또는 인돌 라디칼이다. A1및 A2는 서로 독립적으로 매우 특히 바람직하게는 벤젠, 나프탈렌, 1-페닐-5-피라졸론 또는 인돌 라디칼, 특히 벤젠, 나프탈렌 또는 인돌 라디칼, 바람직하게는 나프탈렌 또는 인돌 라디칼이다. 이들중 나프탈렌 라디칼이 가장 관심이 있다.
라디칼 A1또는 A2의 치환체로서 언급될 수 있는 예는 다음과 같다: C1-C6알킬, 예를 들면, 통상 메틸, 에틸, n-또는 iso-프로필, n-, iso-, 2급- 또는 3급-부틸, 또는 직쇄 또는 측쇄 펜틸 또는 헥실; C1-C4알콕시, 예를 들면, 통상 메톡시, 에톡시, n-또는 iso-프로폭시, 또는 n-, iso-, 2급- 또는 3급-부톡시, 하이드록시-C1-C4알콕시; 페녹시; 치환되지 않거나 예를 들면 하이드록시- 또는 메톡시-치환된 C2-C6알카노일아미노, 예를 들면, 아세틸아미노, 하이드록시아세틸아미노, 메톡시아세틸아미노 또는 프로피오닐아미노; 아릴 잔기가 예를 들면 하이드록시 또는 메톡시에 의해 치환되거나 치환되지 않은 나프톨릴아미노 또는 벤조일아미노; 알킬 잔기가 예를 들면 하이드록시, 메틸 또는 메톡시에 의해 치환되거나 치환되지 않은 C2-C8알콕시카보닐아미노; 페닐 잔기가 예를 들면 하이드록시, 메틸 또는 메톡시에 의해 치환되거나 치환되지 않은 페녹시카보닐아미노; 아미노; 알킬 잔기가 예를 들면 하이드록시, C1-C4알콕시, 카복실, 시아노, 할로겐, 설포, 설페이토, 페닐 또는 설포페닐에 의해 치환되거나 치환되지 않은 치환체 N-C1-C4알킬- 또는 N,N-디-C1-C4알킬아미노, 예를 들면, 메틸아미노, 에틸아미노, N,N-디메틸아미노, N,N-디에틸아미노, β-시아노에틸아미노, β-하이드록시에틸아미노, N,N-디-β-하이드록시에틸아미노, β-설포에틸아미노, γ-설포-n-프로필아미노, β-설페이토에틸아미노, N-에틸-N-(3-설포벤질)아미노, N-(β-설포에틸)-N-벤질아미노; 사이클로헥실아미노; 페닐 잔기가 예를 들면 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 카복실, 할로겐 또는 설포에 의해 치환되거나 치환되지 않은 N-페닐아미노 또는 N-C1-C4알킬-N-페닐아미노; C2-C4알콕시카보닐, 예를 들면, 메톡시- 또는 에톡시카보닐; 트리플루오로메틸; 니트로; 시아노; 할로겐, 예를 들면, 통상 불소, 브롬 또는 특히 염소; 우레이도; 하이드록실; 카복실; 설포; 설포메틸; 카바모일; 설파모일; 페닐 잔기가 설포 또는 카복실에 의해 치환되거나 치환되지 않은 N-페닐설파모일 또는 N-C1-C4알킬-N-페닐설파모일; 또는 메틸- 또는 에틸설포닐.
본 발명의 특정한 양태에 있어서, A1및 A2는 서로 독립적으로 각각 화학식 4, 5 또는 6의 라디칼이다.
[화학식 4]
[화학식 5]
[화학식 6]
위의 화학식 4, 5 또는 6에서, R1은 치환되거나 치환되지 않은 페닐 또는 나프틸이거나 화학식 -CO-R의 라디칼(여기서, R은 치환되거나 치환되지 않은 C1-C6알킬, C1-C6알콕시, C5-C7사이클로알킬, 페닐, 페녹시 또는 나프틸이다)이고, n 및 m은 0 또는 1이다.
R에 대한 C1-C6알킬의 예는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 2급 부틸, 3급 부틸, 이소부틸, 펜틸 또는 헥실, 특히 C1-C4알킬, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 특히 바람직하게는 메틸이다. 이들 알킬 라디칼은 예를 들면 하이드록실, C1-C4알콕시, 카복실, 시아노, 설포, 설페이토 또는 할로겐에 의해 추가로 치환되거나 치화되지 않을 수 있다.
정의 설포는 통상 유리 산 형태(-SO3H) 또는 염 형태를 포함하는데, 알칼리 금속 염(Li, Na, K) 또는 암모늄 염이 특히 적합하다.
R에 대한 C1-C6알콕시의 예는 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시, 부톡시, 이소부톡시, 펜틸옥시 또는 헥실옥시, 특히 C1-C4알콕시, 바람직하게는 메톡시이다. 이들 알콕시 라디칼은 예를 들면 하이드록실, C1-C4알콕시, 카복실, 시아노, 설포, 설페이토 또는 할로겐에 의해 추가고 치환되거나 치환되지 않을 수 있다.
R에 대한 C5-C7사이클로알킬의 예는 사이클로펜틸, 사이클로헥실 또는 사이클로펜틸, 특히 사이클로헥실 라디칼이다. 이들 사이클로알킬 라디칼은 예를 들면 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 카복실 또는 할로겐, 특히 메틸에 의해 치환되거나 치환되지 않을 수 있다.
R에 대한 적합한 페닐, 페녹시 또는 나프틸 라디칼은 상응하는 치환되지 않은 라디칼 이외에 예를 들면 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 우레이도, 카복실, C2-C4알카노일아미노, 설포 또는 할로겐에 의해 치환된 라디칼이다.
R은 바람직하게는 치환되지 않거나 하이드록실-, C1-C4알콕시-, 설포-, 설페이토- 또는 할로겐-치환된 C1-C6알킬 또는 C1-C6알콕시; 치환되지 않거나 C1-C4알킬- 또는 할로겐-치환된 C5-C7사이클로알킬, 또는 치환되지 않거나 C1-C4알킬-, C1-C4알콕시-, 설포- 또는 할로겐-치환된 페닐, 페녹시 또는 나프틸이다.
R은 특히 바람직하게는 치환되지 않거나 하이드록실-, C1-C4알콕시- 또는 할로겐-치환된 C1-C6알킬 또는 C1-C6알콕시, 또는 치환되지 않거나 C1-C4알킬-, C1-C4알콕시-, 설포- 또는 할로겐-치환된 페닐 또는 페녹시이다.
R은 특히 바람직하게는 C1-C4알킬, 특히 메틸 또는 에틸, C1-C4알콕시, 특히 메톡시 또는 에톡시, 또는 페닐이다.
R1에 대한 적합한 페닐 또는 나프틸 라디칼은 상응하는 치환되지 않은 라디칼 이외에, 예를 들면, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 우레이도, 카복실, 니트로, C2-C4알카노일아미노, 설포 또는 할로겐에 의해 치환된 라디칼이다.
R1은 바람직하게는 치환되지 않거나 C1-C4알킬-, C1-C4알콕시-, C2-C4알카노일아미노-, 니트로-, 할로겐-, 카복실- 또는 설포-치환된 페닐 또는 나프틸이거나 화학식 -CO-R의 라디칼(여기서, R은 치환되지 않거나 하이드록실-, C1-C4알콕시- 또는 할로겐-치환된 C1-C6알킬 또는 C1-C6알콕시이거나 C1-C4알킬-, C1-C4알콕시-, 설포- 또는 할로겐-치환된 페닐 또는 페녹시이다)이다.
R1은 특히 바람직하게는 치환되지 않거나 C1-C4알킬-, C1-C4알콕시-, 할로겐- 또는 설포-치환된 페닐, 특히 페닐이거나 화학식 -CO-R의 라디칼(여기서, R은 C1-C4알킬, 특히 메틸 또는 에틸, C1-C4알콕시, 특히 메톡시 또는 에톡시, 또는 페녹시이다)이다.
본 발명의 매우 특정한 양태에 있어서, A1및 A2는 서로 독립적으로 각각 화학식 4a, 5a, 6a 또는 6b의 라디칼이다.
[화학식 4a]
[화학식 5b]
[화학식 6a]
[화학식 6b]
위의 화학식 4a, 5a, 6a 또는 6b에서, R1은 상기 정의 및 바람직한 정의이다.
하나 이상의 화학식 1a의 염료를 하나 이상의 화학식 2a 또는 3a의 염료와 함께 포함하는 염료 혼합물이 바람직하다.
[화학식 1a]
[화학식 2a]
[화학식 3a]
위의 화학식 1a, 2a 또는 3a에서, 나프탈렌설폰산 성분중의 설포 그룹은 서로 독립적으로 각각 6번 또는 7번 위치에 결합되고, A1또는 A2는 서로 독립적으로 각각 화학식 4a, 5a, 6a 또는 6b의 라디칼, 바람직하게는 화학식 4a, 5a 또는 6b의 라디칼이며, R1은 치환되지 않거나 C1-C4알킬-, C1-C4알콕시-, 할로겐- 또는 설포-치환된 페닐, 바람직하게는 페닐이거나 화학식 -CO-R의 라디칼(여기서, R은 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시 또는 페닐, 바람직하게는 메틸, 에틸 또는 페닐이다)이고, n과 m의 합은 0 또는 1이다.
하나 이상의 화학식 1a의 염료를 하나 이상의 화학식 2a의 염료 및 하나 이상의 화학식 3a의 염료와 함께 포함하는 염료 혼합물이 특히 바람직하다.
본 발명의 염료 혼합물에서, 라디칼 A1및 A2는 상이한 정의를 갖는다.
본 발명은 또한 화학식 7의 화합물을 디아조화시키고, 생성물을 화학식 8의 화합물과 커플링시키며, 생성된 화학식 9의 화합물을 디아조화시킨 다음 생성물을 화학식 10 및 11의 화합물과 커플링시킴을 특징으로하여, 본 발명의 염료 혼합물을 제조하는 방법을 제공한다.
[화학식 7]
[화학식 8]
[화학식 9]
[화학식 10]
A1-H
[화학식 11]
A2-H
위의 화학식 7, 8, 9, 10 또는 11에서, A1, A2, n 및 m은 각각 상기 정의 및 바람직한 정의이다.
화학식 7 및 9의 화합물은 그 자체가 공지된 방법에 따라, 예를 들면, 광산 매질, 예를 들면, 염산 매질속에서 -5 내지 40℃, 바람직하게는 -5 내지 10℃의 온도에서 니트릴, 예를 들면, 알칼리 금속 니트릴(예: 질산나트륨)을 사용하여 디아조화시킨다.
화학식 8, 10 및 11의 커플링 성분에 대한 커플링은 산성 또는 약알칼리 PH, 예를 들면, 5 내지 10의 PH 및 -5 내지 40℃, 바람직하게는 0 내지 30℃의 온도에서 그 자체가 공지된 방법으로 수행한다.
화학식 7, 8, 10 및 11의 화합물은 공지되어 있거나 공지된 화합물과 유사하게 제조할 수 있다.
바람직한 화학식 8의 커플링 성분은 1-아미노나프탈렌-6-설폰산, 1-아미노나프탈렌-7-설폰산, 1-아미노나프탈렌-6-설폰산과 1-아미노나프탈렌-7-설폰산의 혼합물 또는 이들 화합물을 합성할 때 수득된 이성체 혼합물이다.
본 발명의 염료 혼합물을 제조하는 방법중의 특정한 한 양태는 화학식 7의 화합물을 디아조화시키고, 생성물을 화학식 8a 및 8b의 화합물과 연속적으로 또는 임의의 목적하는 순서로 커플링시켜 아미노나프탈렌설폰산 성분중의 설포 그룹의 위치가 비대칭인 화학식 9a의 화합물을 수득한다.
[화학식 8a]
[화학식 8b]
[화학식 9a]
화학식 9a의 화합물은 연속적으로 디아조화시키고 생성물을 화학식 10 및 11의 화합물과 커플링시킨다.
A1및 A2가 화학식 4의 라디칼(여기서, R1은 화학식 -CO-R의 라디칼이다)인 화학식 10 또는 11의 화합물은, 예를 들면, 화학식 5의 화합물을 라디칼 R1이 도입된 화합물, 예를 들면, 화학식 13a의 화합물과 반응시켜 제조할 수 있다.
화학식 4
화학식 5
[화학식 13a]
Hal-R1
위의 화학식 13a에서, Hal은 할로겐, 예를 들면, 염소, 브롬 또는 요오드, 특히 염소이다.
화학식 13a의 화합물은 예를 들면 아세틸 클로라이드, 프로피오닐 클로라이드, 메톡시아세틸 클로라이드, 벤조일 클로라이드, 에틸 클로로포름에이트 및 페닐 클로로포르메이트이다.
라디칼 R1은 예를 들면 쌍극성 비양자성 용매, 예를 들면, 디메틸포름아미드 또는 디메틸 설폭사이드속에서, 피리딘속에서 또는 바람직하게는 물속에서, 예를 들면, 10 내지 80℃, 특히 10 내지 50℃의 온도에서 도입한다.
아세트산 무수물과의 반응은 예를 들면, 20 내지 60℃, 특히 30 내지 50℃의 온도 및 예를 들면, PH 4 내지 7, 특히 PH 5 내지 6에서 염기, 예를 들면, 알칼리 탄산금속 또는 알칼리 수산화금속(예: 탄산나트륨, 탄산칼륨 및 수산화나트륨)의 존재하에 통상 수성 매질속에서 수행한다.
A1및 A2가 화학식 4의 라디칼(여기서, R1은 치환되지 않거나 치환된 페닐 또는 나프틸 라디칼로서 정의된다)인 화학식 10 또는 11의 화합물은, 예를 들면, 화학식 5의 화합물을 라디칼 R1이 도입된 화합물, 예를 들면, 화학식 13b의 화합물과 부체러 반응으로 반응시켜 제조할 수 있다.
[화학식 13b]
H2N-R1
부체러 반응은 그 자체가 공지되어 있고 문헌[참조: Org. Reactions, 1, (1942) 105]에 상세히 기재되어 있다.
본 발명의 염료 혼합물중의 화학식 1, 2 및 3의 염료 비율은 폭넓게 변화되는데, 화학식 9의 디아조 성분과 반응하는 화학식 10 및 11의 커플링 성분의 비율에 좌우된다. 당해 경우에, 화학식 10 및 11의 화합물은 서로 5:95 이상 및 95:5 이하의 몰비로 사용된다. 이와는 대조적으로, 화학식 10 및 11의 화합물은 바람직하게는 10:90 내지 90:10, 특히 20:80 내지 80:20의 몰비로 사용된다.
화학식 1, 2 및 3의 염료의 염료 혼합물은 또한 예를 들면 개개의 염료를 혼합함으로써 제조할 수 있다. 당해 혼합 공정은 예를 들면 적절한 밀, 예를 들면, 볼 밀 및 핀-고정된 디스크 밀속에서, 또한 혼합기 또는 교반 장치속에서 수행한다.
염료 혼합물은 부가적으로, 예를 들면, 수성 염료 혼합물을 분무 건조시킴으로써 제조할 수 있다.
염료 혼합물은 화학식 1, 2 및 3의 염료 총량을 기준으로하여 화학식 1의 염료를 바람직하게는 5 내지 95중량%, 특히 10 내지 90중량%, 보다 바람직하게는 20 내지 80중량%, 특히 바람직하게는 25 내지 75중량% 함유한다.
화학식 5의 라디칼 A1및 화학식 4의 라디칼 A2를 포함하는 본 발명의 염료 혼합물중의 화학식 1, 2 및 3의 염료는 또한 먼저 화학식 7의 화합물을 모두 디아조화시키고, 생성물을 화합물 8의 화합물과 커플링시키며, 생성된 화합물 9의 화합물을 디아조화시키고 생성물을 라디칼 A1이 화학식 5의 라디칼인 화학식 10의 화합물과 커플링시킨 다음 생성된 화학식 2의 염료중의 라디칼 A1의 아미노 그룹중의 일부를 라디칼 R1을 도입한 화합물과 반응시킴으로써 수득할 수 있다.
본 발명의 염료 혼합물중의 염료는 이들의 유리산 형태로 또는 이의 염으로서 존재한다.
적합한 염은 예를 들면 알칼리 금속, 알칼리 토금속 또는 암모늄 염이거나 유기 아민의 염이다. 예를 들면, 나트륨, 리튬, 칼륨 또는 암모늄 염 또는 모노-, 디- 또는 트리에탄올아민의 염이다.
본 발명은 부가적으로 화학식 12의 아조 염료를 제공한다.
[화학식 12]
위의 화학식 12에서, A1및 A2는 서로 독립적으로 각각 화학식 4, 5 또는 6의 라디칼인데, 단 A1및 A2가 화학식 5의 동일한 라디칼이고 n과 m의 합이 1인 경우, 라디칼 A1및 A2가 동시에 2-, 3- 또는 4-아미노-8-하이드록시-6-설포나프트-7-일 또는 1-아미노-8-하이드록시-3,6-디설포나프트-7-일이 아니다.
화학식 4
화학식 5
화학식 6
위의 화학식 4, 5 또는 6에서,
R1, n 및 m은 상기 정의 및 바람직한 정의와 같다.
화학식 12의 아조 염료는 특히 바람직하게는 화학식 12a의 염료이다.
[화학식 12a]
위의 화학식 12a에서, 나프탈렌설폰산 성분중의 설포 그룹은 서로 독립적으로 각각 6위치 또는 7위치에 존재하고, A1및 A2는 서로 독립적으로 각각 화학식 4a, 5a, 6a 또는 6b의 라디칼이고, n과 m의 합은 0 또는 1이다.
화학식 4a
화학식 5a
화학식 6a
화학식 6b
위의 화학식 4a, 5a, 6a 또는 6b에서, R1은 치환되지 않거나 C1-C4 알킬-, C1-C4 알콕시-, 할로겐- 또는 설포-치환된 페닐, 특히 페닐이거나 화학식 -CO-R의 라디칼(여기서, R은 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시 또는 페닐이다)이다.
본 발명의 아조 염료에 있어서, 라디칼 A1및 A2는 상이하거나 동일한 의미를 갖는다.
하나의 특정한 양태에 있어서, 본 발명의 아조 염료중의 라디칼 A1및 A2는 상이한 의미를 갖는다.
화학식 12의 아조 염료는 주로 본 발명의 염료 혼합물중의 화학식 1, 2 또는 3의 염료와 동일한 방법으로, 예를 들면, 화학식 7의 화합물을 디아조화시키고, 생성물을 화학식 8의 화합물과 커플링시키며, 생성된 화학식 9의 화합물을 디아조화시킨 다음 생성물을 화학식 10 및 11의 화합물과 커플링시켜 수득할 수 있다. A1및 A2가 동일하지 않은 경우, 예를 들면, 화학식 10 및 11의 화합물의 몰비는 라디칼 A1및 A2측면에서 비대칭성인 화학식 1의 화합물의 수율이 가능한한 크도록, 예를 들면, 1:1의 몰비가 되도록 선택하고 라디칼 A1및 A2측면에서 비대칭성인 화학식 2 및/또는 3의 화합물은 적절한 정제 방법에 의해, 예를 들면, 재결정화 또는 재침전에 의해 화학식 1의 비대칭성 화합물로부터 분리한다.
본 발명은 또한 질소 함유, 특히 하이드록실 함유 섬유 재료를 날염 또는 염색시키기 위한 본 발명의 염료 혼합물의 용도를 제공한다.
따라서, 본 발명의 염료 혼합물은 질소 함유 섬유 재료, 특히 셀룰로즈 섬유 재료, 바람직하게는 직물 섬유 재료, 예를 들면, 실크, 울 또는 합성 폴리아미드, 바람직하게는 셀룰로즈 섬유(예: 레이욘, 면 또는 헴프)를 염색 및 날염시키는데 적합하다.
상기 염료 혼합물은 이들의 염색 특성 측면에서 C. I. 다이렉트 염료라 칭할 수 있다.
또한, 혼합 섬유, 예를 들면, 울/면, 나일론/면, 폴리아크릴산/면 또는 특히 폴리에스테르/면 블랜드를 포함하는 직물 섬유 재료를 각각의 상이한 종류의 섬유에 대한 염료의 존재하에서 단일 욕 염색 방법에 의해 염색할 수 있다.
직물 섬유 재료는 매우 다양한 가공 상태, 예를 들면, 섬유, 사, 직포 또는 편물 상태로 존재할 수 있다.
직물 기재 뿐만 아니라 가죽 및 종이를 본 발명의 염료 혼합물로 염색할 수도 있다.
균염은 모든 주위환경에 대한 견뢰도 특성이 우수한, 특히 마찰, 습윤, 습윤 마찰, 발한 및 광 견뢰도가 우수한 음영하에서 수득된다. 필요한 경우, 생성된 다이랙트 염색물 및 날염물의 습윤 견뢰도 특성, 특히 세척 견뢰도는 고착제를 사용하여 후처리함으로써 사실상 향상될 수 있다.
본 발명의 염료 혼합물은 다른 염료, 특히 분산 염료와 용이하게 혼합할 수 있다. 본 발명의 염료 혼합물은 상당한 고온 안정성을 갖기 때문에, 폴리에스테르 섬유에 대한 염색 조건하에, 예를 들면, 약 100 내지 150℃, 바람직하게는 110 내지 130℃의 온도 및 PH 4 내지 7.5, 바람직하게는 PH 5 내지 7에서 수성 액으로부터 염색할 수 있다.
따라서, 통상의 분산 염료는 본 발명의 염료 혼합물과 함께 폴리에스테르/면 혼합 섬유(블랜드 섬유)를 염색시키기 위한 1단계 단일 욕 공정에서 사용할 수 있는데, 두 종류의 섬유 각각은 각각의 염료에 의해 균일하고 변색되지 않는 방법으로 염색된다.
본 발명의 염료 혼합물은 직물 혼성 섬유(블랜드 섬유), 예를 들면, 폴리에스테르 섬유 및 셀룰로즈 섬유를 포함하는 섬유를 사실상 간단히 염색할 수 있다. 따라서, 상이한 염색 조건를 사용하는 별도의 공정에서 섬유 블랜드중의 각각의 섬유를 염색시키는 통상의 방법은 더 이상 필요하지 않다.
하기 실시예는 본 발명을 설명하기 위해 제공된다. 부 및 %는 달리 언급되지 않는한 중량기준이다. 중량부와 용적부와의 관계는 kg과 ℓ와의 관계와 동일하다. 온도는 ℃로서 나타낸다.
실시예 1
4,4＇-디아미노디페닐아민-2-설폰산 27.9부를 물 400부와 함께 교반하고 진한 염산 47.5부를 가한다. 0 내지 5℃로 냉각시킨 후, 4M 질산나트륨 용액 58.5부를 적가한다. 디아조화를 종결시킨 후, 용해되지 않은 잔사를 정제 여과하여 분리한다. 생성된 용액을 PH 8에서 물 600부중의 1-아미노나프탈렌-6-설폰산 44.6부로 이루어진 용액에 적가한다. 커플링 동안에, 수산화나트륨 용액을 가하여 PH 8 내지 8.5로 유지시킨다. 커플링을 종결시킨 후, 반응 혼합물을 산성화시키고 침전된 생성물을 여과하여 분리한다. 건조시키면 유리 산의 형태의 화학식 101의 화합물이 수득된다.
[화학식 101]
실시예 2
실시예 1과 동일한 방법으로 수행하되, 1-아미노나프탈렌-6-설폰산 44.6부 대신에 1-아미노나프탈렌-7-설폰산 44.6부를 커플링 성분으로서 사용할 수 있다. 이로 인해 유리 산 형태의 화학식 102의 화합물이 수득된다.
[화학식 102]
실시예 3
실시예 1에 기재된 바와 같은 1-아미노나프탈렌-6-설폰산 44.6부 대신에, 1-아미노나프탈렌-6-설폰산과 1-아미노나프탈렌-7-설폰산의 혼합물 44.6부를 커플링 성분으로서 사용함으로서 유리 산 형태의 화학식 101, 102, 103 및 104의 화합물들의 혼합물을 수득한다.
[화학식 103]
[화학식 104]
실시예 4
4,4＇-디아미노디페닐아민-2-설폰산 27.9부를 물 400부와 함께 교반하고 진한 염산 47.5부를 가한다. 0 내지 5℃로 냉각시킨 후, 4M 질산나트륨 용액 58.5부를 적가한다. 디아조화를 종결시킨 후, 용해되지 않은 잔사를 정제 여과하여 분리한다. 생성된 용액에 물 400부중의 1-아미노나프탈렌-6-설폰산 22.7부로 이루어진 용액을 적가한다. 커플링 동안에, PH 3에서 유지시킨다. 2 내지 3시간 동안 계속 반응시킨다. 이어서, PH 6에서 물 400부중의 1-아미노나프탈렌-7-설폰산 22.7부로 이루어진 용액을 적가하고 4M 수산화나트륨 용액을 사용하여 PH 6으로 조절한다. 밤새 반응시킨다. 생성물을 염화나트륨을 가하여 침전시킨 다음 여과하여 분리한다. 건조시키면 유리 산 형태의 화학식 103의 화합물이 수득된다.
실시예 5
실시예 4에 기재된 방법과 같이 수행하되, 물 400부중의 1-아미노나프탈렌-7-설폰산 22.7부 대신에 물 400부중의 1-아미노나프탈렌-7-설폰산 11.35부와 1-아미노나프탈렌-6-설폰산 11.35부로 이루어진 혼합물을 적가하여 유리 산 형태의 화학식 101 및 103의 화합물들의 혼합물을 수득한다.
실시예 6
실시예 1로부터 수득된 화학식 101의 화합물 22.4부를 75℃에서 물 400부에 용해시키고 4M 질산나트륨 용액 17.6부를 가한다. 용액을 0 내지 5℃에서 얼음 400부와 진한 염산 14.3부에 20분에 걸쳐 적가한다. 생성된 갈색 현탁액을 1시간 동안 교반하고 이의 PH를 탄산나트륨 용액(10%)을 사용하여 6으로 조절한다. 디아조 현탁액을 0 내지 5℃에서 물 400부중의 2-아미노-8-나프톨-6-설폰산 7.2부 및 2-아미노-5-나프톨-7-설폰산 7.2부와 1M 수산화나트륨 용액 63.5부를 함유하는 커플링 용액에 60분에 걸쳐 적가한다. 커플링 동안, PH 5에서 유지된다. 0 내지 5℃에서 2시간 동안 반응시킨 다음 실온에서 밤새 반응시킨다. 암청색 현탁액을 여과하고 여과 생성물을 물로 세척한다. 대부분의 잔사를 물 1000부와 교반하고 1M 수산화나트륨 용액 약 67부를 사용하여 PH 8로 조절한다. 염화나트륨 70부를 60℃에서 가하고 미세 현탁액을 50℃에서 여과한다. 건조시키면 유리 산 형태의 화학식 105, 106, 107 및 108의 화합물들의 혼합물을 수득하는데, 당해 혼합물은 화학식 105의 화합물을 약 50중량% 함유하고 암청색 음영속에서 면을 염색한다. 염료 혼합물의 λmax는 578nm이다.
[화학식 105]
[화학식 106]
[화학식 107]
[화학식 108]
실시예 7
실시예 6에 기재된 방법과 같이 수행하되, 화학식 101의 화합물 22.4부 대신에 실시예 2로부터 수득된 화학식 102의 화합물 22.4부를 사용하여 유리 산 형태의 화학식 109, 110, 111 및 112의 화합물들의 혼합물을 수득하는데, 당해 혼합물은 화학식 109 및 110의 화합물들을 약 50중량% 함유하고 암청색 음영속에서 면을 염색한다. 염료 혼합물의 λmax는 590nm이다.
[화학식 109]
[화학식 110]
[화학식 111]
[화학식 112]
실시예 8
실시예 6에 기재된 방법과 같이 수행하되, 화학식 101의 화합물 22.4부 대신에 실시예 4로부터 수득된 화학식 103의 화합물 22.4부를 사용하여 유리 산 형태의 화학식 113, 114, 115 및 116의 화합물들의 혼합물을 수득하는데, 당해 혼합물은 화학식 113 및 114의 화합물들을 약 50중량% 함유하고 암청색 음영속에서 면을 염색한다.
[화학식 113]
A1-L-L'-A2
[화학식 114]
A2-L-L'-A1
[화학식 115]
A1-L-L'-A1
[화학식 116]
A2-L-L'-A2
위의 화학식 113, 114, 115 및 116에서,
-L-L'-는이고,
A1은이며,
A2는이다.
실시예 9
실시예 6에 기재된 방법과 같이 수행하되, 화학식 101의 화합물 22.4부 대신에 실시예 5로부터 수득된 화합물의 혼합물 22.4부를 사용하여 유리 산 형태의 화학식 105, 106, 107, 108, 113, 114, 115 및 116의 화합물들의 혼합물을 수득하는데, 당해 혼합물은 화학식 105, 106, 113 및 114의 화합물들을 약 50중량% 함유하고 암청색 음영속에서 면을 염색한다. 염료 혼합물의 λmax는 583nm이다.
실시예 10
실시예 6에 기재된 방법과 같이 수행하되, 화학식 101의 화합물 22.4부 대신에 실시예 3으로부터 수득된 화합물의 혼합물 22.4부를 사용하여 유리 산 형태의 화학식 117, 118 및 119의 화합물들의 혼합물을 수득한다.
[화학식 117]
A1-B-A2
[화학식 118]
A1-B-A1
[화학식 119]
A2-B-A2
위의 화학식 117, 118 및 119에서,
B는이고,
A1은이며,
A2는이다.
성분 B의 아미노나프탈렌설폰산 성분중의 설포 그룹은 서로 독립적으로 각각 6위치 또는 7위치에 존재하고 n과 m의 합은 1이다. 화학식 117, 118 및 119의 화합물들의 혼합물은 화학식 117의 화합물을 약 50중량% 함유하고 암청색 음영속에서 면을 염색한다. 염료 혼합물의 λmax는 589nm이다.
실시예 11
실시예 6에 기재된 방법과 같이 수행하되, 2-아미노-8-나프톨-6-설폰산 7.2부와 2-아미노-5-나프톨-7-설폰산 7.2부 대신에 2-아미노-5-나프톨-7-설폰산 7.2부와 2-페닐아미노-5-나프톨-7-설폰산 9.9부의 혼합물을 사용하여 유리 산 형태의 화학식 120, 121, 122 및 123의 화합물들의 혼합물을 수득하는데, 당해 혼합물은 화학식 120 및 121의 화합물들을 약 50중량% 함유하고 암청색 음영속에서 면을 염색한다. 염료 혼합물의 λmax는 584nm이다.
[화학식 120]
[화학식 121]
[화학식 122]
[화학식 123]
실시예 12
실시예 6에 기재된 방법과 같이 수행하되, 화학식 101의 화합물 22.4부 대신에 실시예 5로부터 수득된 화합물들의 혼합물 22.4부를 사용하고, 2-아미노-8-나프톨-6-설폰산 7.2부와 2-아미노-5-나프톨-7-설폰산 7.2부 대신에 2-아미노-5-나프톨-7-설폰산 7.2부와 2-페닐아미노-5-나프톨-7-설폰산 9.9부의 혼합물을 사용하여 유리 산 형태의 화학식 120, 121, 122, 123, 124, 125, 126 및 127의 화합물들의 혼합물을 수득하는데, 당해 혼합물은 화학식 120, 121, 124 및 125의 화합물들을 약 50중량% 함유하고 암청색 음영속에서 면을 염색한다. 염료 혼합물의 λmax는 590nm이다.
[화학식 124]
A1-L-L'-A2
[화학식 125]
A2-L-L'-A1
[화학식 126]
A1-L-L'-A1
[화학식 127]
A2-L-L'-A2
위의 화학식 124, 125, 126 및 127에서,
-L-L'-는이고,
A1은이며,
A2는이다.
실시예 13
실시예 6에 기재된 방법과 같이 수행하되, 화학식 101의 화합물 22.4부 대신에 실시예 5로부터 수득된 화합물들의 혼합물 22.4부를 사용하고, 2-아미노-8-나프톨-6-설폰산 7.2부와 2-아미노-5-나프톨-7-설폰산 7.2부 대신에 2-아미노-5-나프톨-7-설폰산 11.5부와 2-페닐아미노-5-나프톨-7-설폰산 3.9부의 혼합물을 사용하여 유리 산 형태의 화학식 120, 121, 122, 123, 124, 125, 126 및 127의 화합물들의 혼합물을 수득하는데, 당해 혼합물은 화학식 120, 121, 124 및 125의 화합물들을 약 33중량% 함유하고 암청색 음영속에서 면을 염색한다. 염료 혼합물의 λmax는 590nm이다.
실시예 14 내지 22
실시예 6에 기재된 방법과 같이 수행하되, 2-아미노-8-나프톨-6-설폰산 7.2부와 2-아미노-5-나프톨-7-설폰산 7.2부 대신에 표 1에 기재된 커플링 성분의 혼합물의 각각 동몰량을 사용하여 유리 산 형태의 화학식 A1-B-A2, A1-B-A1및 A2-B-A2의 화합물(여기서, B는이다)의 혼합물을 수득한다.
[표 1]
표 1에서 화살표는 각각의 경우에 커플링 위치를 나타낸다. 실시예 14 내지 22의 혼합물은 암청색 음영속에서 면을 염색한다.
실시예 14 내지 22에 기재된 바와 유사하게 수행하되, 화학식 101의 화합물 22.4부 대신에 실시예 2로부터 수득된 화학식 102의 화합물 22.4부, 실시예 4로부터 수득된 화학식 103의 화합물 22.4부, 실시예 3으로부터 수득된 화학식 101, 102, 103 및 104의 화합물들의 혼합물 또는 실시예 5로부터 수득된 화학식 101 및 103의 화합물들의 혼합물을 사용하여 염료 혼합물을 수득하고, 당해 혼합물은 암청색 음영속에서 면을 염색한다.
실시예 23
실시예 6에 기재된 방법과 같이 수행하되, 2-아미노-8-나프톨-6-설폰산 7.2부와 2-아미노-5-나프톨-7-설폰산 7.2부 대신에 2-페닐아미노-5-나프톨-7-설폰산을 사용하여 유리 산 형태의 화학식 128의 화합물을 수득하는데, 당해 화합물은 암청색 음영속에서 면을 염색한다.
[화학식 128]
위의 화학식에서,
A1및 A2는이다.
실시예 24 내지 27
실시예 23에 기재된 방법과 같이 수행하되, 2-페닐아미노-5-나프톨-7-설폰산 19.7부 대신에 표 2에 기재된 동몰량의 커플링 성분을 사용하여 유리 산 형태의 하기 화학식의 화합물을 수득한다.
A1-B-A2
위의 화학식에서,
B는이고,
A1및 A2는 동일하다.
[표 2]
표 2에서 화살표는 각각의 경우에 커플링 위치를 나타낸다. 실시예 24 내지 27의 염료는 암청색 음영속에서 면을 염색한다.
실시예 23 내지 27에 기재된 바와 유사하게 수행하되, 화학식 101의 화합물 22.4부 대신에 실시예 2로부터 수득된 102의 화합물 22.4부, 실시예 4로부터 수득된 화학식 103의 화합물 22.4부, 실시예 3으로부터 수득된 화학식 101, 102, 103 및 104의 화합물들의 혼합물, 또는 실시예 5로부터 수득된 화학식 101 및 103의 화합물들의 혼합물을 사용하여 염료 또는 염료 혼합물을 수득할 수 있는데, 당해 염료 또는 염료 혼합물은 암청색 음영속에서 면을 염색한다.
염색 방법 1
면직물(표백 및 가공 처리된) 10부를 물 200부 및 실시예 5에서 수득된 염료 혼합물 0.2부를 함유하는 염욕속에 약 30℃에서 도입한다. 염료액을 30분에 걸쳐 95℃로 가열하고 당해 온도에서 15분 동안 정치시킨다. 이어서, 황산나트륨 4부를 가하고 95℃에서 45분 동안 계속 염색시킨다. 이어서, 염욕을 15분에 걸쳐 80℃로 냉각시키고 당해 온도에서 15분 동안 정치시킨다. 이어서, 염색물을 냉수로 완전히 세정하고 건조시킨다.
염색 방법 2
폴리에스테르와 면의 50:50 섬유 블랜드 10부를 물 200부, C. I. 분산 블루 79 0.1부와 실시예 5로부터 수득된 염료 혼합물 0.1부의 염료 혼합물, 황산암모늄 0.4부 및 음이온성 분산제(예: 나프탈렌설폰산의 포름알데히드 축합 생성물) 0.2부를 함유하는 염욕속에 약 50℃에서 도입한다. 염욕의 PH를 포름산을 사용하여 5.5로 조절하고, 황산나트륨 2부를 가한 다음 욕을 45분에 걸쳐 약 130℃로 가열한다. 130℃에서 45분 동안 계속 염색시킨 다음, 염욕을 30분에 걸쳐 약 80℃로 냉각시키고 당해 온도에서 45분 동안 추가로 정치시킨다. 염색물을 냉수를 사용하여 완전히 세정하고 건조시킨다.
염색 방법 3
염색 방법 1 또는 2에 따라 수행하되, 염색 공정을 종료한 후, 냉수 세정된 염색물을 온도가 약 30℃이고 물 200부와 양이온성 후처리제(아민-포름알데히드-디시안디아미드 축합 생성물 또는 디시안디아미드 및 디에틸렌트리아민계 제제) 0.2 내지 0.6부를 함유하는 새로운 욕에 위치시킨다. 염색물을 30℃에서 30분 동안 후처리한 다음 추가의 세정 공정 없이 건조시키면, 습윤 견뢰도가 향상된 염색물이 수득된다.
염색 방법 4
염색 방법 1 또는 2에 따라 수행하되, 염색 공정을 종료한 후, 냉수 세정된 염색물을 온도가 약 25℃이고 물 200부, 황산나트륨 1부 및 섬유 반응성 양이온성 N-메틸디알킬아민 및 에피클로로하이드린계 후처리제 0.6부를 함유하는 새로운 욕에 위치시킨다. 온도를 15분에 걸쳐 40℃로 상승시키고, 30% 수산화나트륨 용액 0.8부를 가한 다음 염색물을 40℃에서 45분 동안 추가로 처리한다. 최종적으로 염색물을 고온 세정하고 건조시키면 습윤 견뢰도가 향상된다.
본 발명의 염료 혼합물은 직물 혼성 섬유(블랜드 섬유), 예를 들면, 폴리에스테르 섬유 및 셀룰로즈 섬유를 포함하는 섬유를 사실상 간단히 염색할 수 있다.
Claims (17)
- 하나 이상의 화학식 1의 염료를 하나 이상의 화학식 2 또는 3의 염료와 함께 함유하는 염료 혼합물.화학식 1화학식 2화학식 3위의 화학식 1, 2 또는 3에서, A1및 A2는 서로 독립적으로 각각 벤젠 또는 나프탈렌 계열의 커플링 성분의 라디칼 또는 헤테로사이클릭 계열의 커플링 성분의 라디칼이고, n 및 m은 0 또는 1이다.
- 제1항에 있어서, A1및 A2가 서로 독립적으로 각각 화학식 4, 5 또는 6의 라디칼인 염료 혼합물.화학식 4화학식 5화학식 6위의 화학식 4, 5 또는 6에서, R1은 치환되지 않거나 치환된 페닐 또는 나프틸이거나, 화학식 -CO-R의 라디칼(여기서, R은 치환되지 않거나 치환된 C1-C6알킬, C1-C6알콕시, C5-C7사이클로알킬, 페닐, 페녹시 또는 나프틸이다)이다.
- 제2항에 있어서, R이 치환되지 않거나 하이드록실-, C1-C4알콕시-, 설포-, 설페이토- 또는 할로겐-치환된 C1-C6알킬 또는 C1-C6알콕시; 치환되지 않거나 C1-C4알킬- 또는 할로겐-치환된 C5-C7사이클로알킬이거나, 치환되지 않거나 C1-C4알콕시-, 설포- 또는 할로겐-치환된 페닐, 페녹시 또는 나프틸인 염료 혼합물.
- 제2항 또는 제3항에 있어서, R이 치환되지 않거나 하이드록실-, C1-C4알콕시- 또는 할로겐-치환된 C1-C6알킬 또는 C1-C6알콕시이거나, 치환되지 않거나 C1-C4알킬-, C1-C4알콕시-, 설포- 또는 할로겐-치환된 페닐 또는 페녹시인 염료 혼합물.
- 제2항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, R이 C1-C4알킬, 특히 메틸 또는 에틸, C1-C4알콕시, 특히 메톡시 또는 에톡시, 또는 페닐인 염료 혼합물.
- 제2항에 있어서, R1이 치환되지 않거나 C1-C4알킬-, C1-C4알콕시-, C2-C4알카노일아미노-, 니트로-, 할로겐-, 카복시- 또는 설포-치환된 페닐 또는 나프틸이거나, 화학식 -CO-R의 라디칼(여기서, R은 치환되지 않거나 하이드록실-, C1-C4알콕시- 또는 할로겐-치환된 C1-C6알킬 또는 C1-C6알콕시이거나, 치환되지 않거나 C1-C4알킬-, C1-C4알콕시-, 설포- 또는 할로겐-치환된 페닐 또는 페녹시이다)인 염료 혼합물.
- 제2항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 있어서, R1이 치환되지 않거나 C1-C4알킬-, C1-C4알콕시-, 할로겐- 또는 설포-치환된 페닐, 특히 페닐이거나, 화학식 -CO-R의 라디칼(여기서, R은 C1-C4알킬, 특히 메틸 또는 에틸, C1-C4알콕시, 특히 메톡시 또는 에톡시, 또는 페닐이다)인 염료 혼합물.
- 제1항 내지 제7항 중의 어느 한 항에 있어서, A1및 A2가 서로 독립적으로 각각 화학식 4a, 5a, 6a 또는 6b의 라디칼인 염료 혼합물.화학식 4a화학식 5a화학식 6a화학식 6b위의 화학식 4a, 5a, 6a 또는 6b에서, R1은 치환되지 않거나 치환된 페닐 또는 나프틸이거나, 화학식 -CO-R의 라디칼(여기서, R은 치환되지 않거나 치환된 C1-C6알킬, C1-C6알콕시, C5-C7사이클로알킬, 페닐, 페녹시 또는 나프틸이다)이다.
- 제1항 내지 제8항 중의 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 화학식 1a의 염료를 하나 이상의 화학식 2a 또는 3a의 염료와 함께 포함하는 염료 혼합물.화학식 1a화학식 2a화학식 3a위의 화학식 1a, 2a 또는 3a에서, 나프탈렌설폰산 성분중의 설포 그룹은 서로 독립적으로 각각 6위치 또는 7위치에 결합되고, A1및 A2는 서로 독립적으로 각각 화학식 4a, 5a, 6a 또는 6b의 라디칼이며, R1은 치환되지 않거나 C1-C4알킬-, C1-C4알콕시-, 할로겐- 또는 설포-치환된 페닐이거나, 화학식 -CO-R의 라디칼(여기서, R은 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시 또는 페닐이다)이고, n과 m의 합은 0 또는 1이다.
- 제9항에 있어서, A1및 A2가 서로 독립적으로 각각 화학식 4a, 5a 또는 6b의 라디칼이고 R1이 페닐이거나 화학식 -CO-R의 라디칼(여기서, R은 메틸, 에틸 또는 페닐이다)인 염료 혼합물.
- 제9항 또는 제10항에 있어서, 하나 이상의 화학식 1a의 염료를 하나 이상의 화학식 2a의 염료 및 하나 이상의 화학식 3a의 염료와 함께 포함하는 염료 혼합물.
- 화학식 7의 화합물을 디아조화시키고, 생성물을 화학식 8의 화합물과 커플링시키며, 생성된 화학식 9의 화합물을 디아조화시킨 다음, 생성물을 화학식 10 및 11의 화합물과 커플링시킴을 특징으로 하여, 제1항에 따르는 염료 혼합물을 제조하는 방법.화학식 7화학식 8화학식 9화학식 10A1-H화학식 11A2-H위의 화학식 7, 8, 9, 10 또는 11에서,A1, A2, n 및 m은 각각 제1항에서 정의한 바와 같다.
- 화학식 12의 아조 염료.화학식 12위의 화학식에서,A1및 A2는 서로 독립적으로 각각 화학식 4, 5 또는 6의 라디칼인데, 단 A1및 A2가 화학식 5의 동일한 라디칼이고 n과 m의 합이 1인 경우, 라디칼 A1및 A2가 동시에 2-, 3- 또는 4-아미노-8-하이드록시-6-설포나프트-7-일 또는 1-아미노-8-하이드록시-3,6-디설포나프트-7-일이 아니다.화학식 4화학식 5화학식 6위의 화학식 4, 5 또는 6에서, n 및 m은 0 또는 1이고, R1은 제2항에서 정의한 바와 같다.
- 제13항에 있어서, 화학식 12a의 아조 염료.화학식 12a위의 화학식에서, 나프탈렌설폰산 성분중의 설포 그룹은 서로 독립적으로 각각 6위치 또는 7위치에 결합되고, A1및 A2는 서로 독립적으로 각각 화학식 4a, 5a, 6a 또는 6b의 라디칼이며, n과 m의 합은 0 또는 1이다.화학식 4a화학식 5a화학식 6a화학식 6b위의 화학식 4a, 5a, 6a 또는 6b에서, R1은 치환되지 않거나 C1-C4알킬-, C1-C4알콕시-, 할로겐- 또는 설포-치환된 페닐, 특히 페닐이거나 화학식 -CO-R의 라디칼(여기서, R은 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시 또는 페닐이다)이고, n과 m은 0 또는 1이다.
- 질소 함유 또는 하이드록실 함유 섬유 재료를 염색 또는 날염하기 위한, 제1항 내지 제11항 중의 어느 한 항에 따르는 염료 혼합물 또는 제12항에 따라 수득된 염료 혼합물의 용도.
- 제15항에 있어서, 합성 섬유 및 셀룰로즈 섬유 재료의 섬유 혼합물, 특히 폴리에스테르/면 혼방물(混紡物)이 폴리에스테르 섬유에 대한 염색 조건하에서 폴리에스테르 섬유용 분산 염료의 존재하에서 염색되는 용도.
- 1단계 단일 욕 공정하에서 분산염료 이외에 제1항에 따르는 염료 혼합물을 사용하여 100 내지 150℃, 바람직하게는 120 내지 130℃의 온도 및 PH 4 내지 7.5에서 수성 염액으로부터 염색함을 특징으로 하여, 폴리에스테르/면 혼방물을 분산염료와 직접 염료로 염색하는 방법.
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