KR19980068040A - 웨이퍼 캐리어 - Google Patents

웨이퍼 캐리어 Download PDF

Info

Publication number
KR19980068040A
KR19980068040A KR1019970004472A KR19970004472A KR19980068040A KR 19980068040 A KR19980068040 A KR 19980068040A KR 1019970004472 A KR1019970004472 A KR 1019970004472A KR 19970004472 A KR19970004472 A KR 19970004472A KR 19980068040 A KR19980068040 A KR 19980068040A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wafer
wafer carrier
cleaning liquid
carrier
present
Prior art date
Application number
KR1019970004472A
Other languages
English (en)
Inventor
박임수
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 김광호, 삼성전자 주식회사 filed Critical 김광호
Priority to KR1019970004472A priority Critical patent/KR19980068040A/ko
Publication of KR19980068040A publication Critical patent/KR19980068040A/ko

Links

Landscapes

  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

웨이퍼 캐리어에 관하여 개시한다. 본 발명에 따른 웨이퍼 캐리어는 웨이퍼를 수직으로 장착하여 웨이퍼의 세정 작업에 사용되는 웨이퍼 캐리어에 있어서, 상기 웨이퍼 캐리어의 아래 측으로 상기 웨이퍼가 나오지 않도록 설계된 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 정류판과 웨이퍼 캐리어 사이의 틈을 좁게 함으로서 대부분의 세정액이 웨이퍼 캐리어에 장착된 웨이퍼들 사이로 흘러들어가게 하고, 특히 맨 바깥 쪽에 위치하는 웨이퍼에 흐르는 세정액의 유량을 많게 함으로써 웨이퍼들 사이에 흐르는 유량을 일정하게 할 수 있다.

Description

웨이퍼 캐리어
본 발명은 웨이퍼 캐리어에 관한 것으로서, 특히 웨이퍼 사이에 흐르는 세정액의 유동을 균일하게 할 수 있는 웨이퍼 캐리어에 관한 것이다.
반도체 제조 공정 중 효율적인 세정 공정을 진행하기 위해서는 웨이퍼 캐리어에 장착된 웨이퍼틀 사이에 세정액이 많이 흘러 들어가야 할 뿐만 아니라 웨이퍼들 사이에 흐르는 세정액의 유동이 균일해야 한다. 그러나, 실제로는 웨이퍼 캐리어에 장착된 웨이퍼들 사이에 흐르는 세정액의 양이 전체적으로 제공되는 세정액의 10%도 넘지 못한다. 또한, 웨이퍼와 정류판의 간격에 비해 웨이터 캐리어와 정류판의 간격이 크기 때문에 맨 바깥쪽에 위치하는 웨이퍼로 흘러들어가야 할 세정액이 저항이 더욱 적은 캐리어 바깥 쪽으로 흘러 들어가 맨 바깥쪽 웨이퍼에 흐르는 유량이 다른 곳에 비해 작게 된다. 따라서, 웨이퍼 캐리어에 장착된 웨이퍼들 사이에 흐르는 세정액의 유동이 균일하지 않다.
도 1 및 도 2는 종래의 웨이퍼 캐리를 설명하기 위한 단면도로서, 도 1은 좌측면도, 도 2는 우측면도를 각각 나타낸다. 구체적으로, 웨이퍼(20)는 웨이퍼 캐리어(10)의 밑으로 나오도록 장착된다. 따라서, 상기 웨이퍼 캐리어(10)과 정류판(도시되지 않음) 사이에는 많은 공간이 존재하게 된다. 상기와 같이 정류판과 상기 웨이퍼 캐리어(10) 사이의 간격이 크므로 상기 웨이퍼 캐리어(10) 내에 장착된 웨이퍼틀 사이로 흘러들어가야 할 세정액이 상기 정류판과 상기 웨이퍼 캐리어(10) 사이로 흘러들어가 버린다. 따라서, 특히 맨 바깥 쪽에 장착된 웨이퍼에는 다른 곳에 비해서 세정액이 적게 흐르게 되어 바람직한 세정 작업이 진행되지 않는다.
상술한 바와 같이 종래의 웨이퍼 캐리어는 정류판과 많은 틈이 생기도록 설계되어 있으므로 웨이퍼 캐리어 내에 장착된 웨이퍼 들 사이에 흐르는 세정액의 유동이 불균일하게 된다. 특히 맨 바깥쪽 웨이퍼에 흐르는 세정액의 유량이 적게 되는 문제점이 발생한다.
따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 웨이퍼 캐리어 내에 장착된 웨이퍼들 사이에 흐르는 세정액의 유동을 일정하게 할 수 있는 웨이퍼 캐리어를 제공하는 데 있다.
도 1은 종래의 웨이퍼 캐리어의 좌측면도
도 2는 종래의 웨이퍼 캐리어의 우측면도.
도 3은 본 발명에 따른 웨이퍼 캐리어의 좌측면도,
도 4는 본 발명에 따른 웨이퍼 캐리어의 좌측면도.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 웨이퍼 캐리어는 웨이퍼를 수직으로 장착하여 웨이퍼의 세정 작업에 사용되는 웨이퍼 캐리어에 있어서, 상기 웨이퍼 캐리어의 아래 측으로 상기 웨이퍼가 나오지 않도록 설계된 것을 특징으로 한다.
이하에서, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면들을 참조하여 상세히 설명한다.
도 3 및 도 4는 본 발명에 따른 웨이퍼 캐리어를 설명하기 위한 개략도로서, 도 3은 웨이퍼 캐리어의 좌측면도, 도 4는 웨이퍼 캐리어의 우측면도를 각각 나타낸다. 구체적으로, 종래와는 달리 웨이퍼 캐리어(110)의 밑 부분을 통해서 웨이퍼(120)가 나오지 않는다. 따라서, 종래보다 상기 웨이퍼 캐리어(110)와 정류판(도시되지 않음) 사이의 간격이 좁아지게 된다.
이와 같이 정류판과 상기 웨이퍼 캐리어(110) 사이의 간격이 좁기 때문에 상기 웨이퍼(120)를 세정하기 위하여 제공되는 세정액의 대부분이 상기 웨이퍼 캐리어(110) 내로 흘러들어가게 된다. 특히, 상기 웨이퍼 캐리어(110)의 맨 바깥 쪽에 위치하는 웨이퍼에 흐르는 유량이 증가하게 되어 상기 웨이퍼(120)들 사이에 흐르는 세정액의 유동이 전반적으로 균일하게 된다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따른 웨이퍼 캐리어에 의하면, 정류판과 웨이퍼 캐리어 사이의 틈을 좁게 함으로서 대부분의 세정액이 웨이퍼 캐리어에 장착된 웨이퍼들 사이로 흘러들어가게 하고, 특히 맨 바깥 쪽에 위치하는 웨이퍼에 흐르는 세정액의 유량을 많게 함으로써 웨이퍼들 사이에 흐르는 유량을 일정하게 할 수 있다.
본 발명은 상기 실시예에만 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 많은 변형이 가능함은 명백하다.

Claims (1)

  1. 웨이퍼를 수직으로 장착하여 웨이퍼의 세정 작업에 사용되는 웨이퍼 캐리어에 있어서,
    상기 웨이퍼 캐리어의 아래 측으로 상기 웨이퍼가 나오지 않도록 설계된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 캐리어.
KR1019970004472A 1997-02-14 1997-02-14 웨이퍼 캐리어 KR19980068040A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970004472A KR19980068040A (ko) 1997-02-14 1997-02-14 웨이퍼 캐리어

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970004472A KR19980068040A (ko) 1997-02-14 1997-02-14 웨이퍼 캐리어

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR19980068040A true KR19980068040A (ko) 1998-10-15

Family

ID=65983771

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019970004472A KR19980068040A (ko) 1997-02-14 1997-02-14 웨이퍼 캐리어

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR19980068040A (ko)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5850841A (en) Cleaning apparatus of semiconductor device
US6532976B1 (en) Semiconductor wafer cleaning apparatus
US5503171A (en) Substrates-washing apparatus
JP2912538B2 (ja) 浸漬型基板処理装置
KR0144949B1 (ko) 웨이퍼 카세트 및 이를 사용한 세정장치
KR19980068040A (ko) 웨이퍼 캐리어
JPH05152273A (ja) 枚葉洗浄用オーバーフロー槽
JPS6242372B2 (ko)
JP3223020B2 (ja) 洗浄/エッチング装置およびその方法
JP3012210B2 (ja) 流水式洗浄装置
JPS6242373B2 (ko)
JPS6242374B2 (ko)
JP2001054766A (ja) 多段式洗浄槽
JPH052739B2 (ko)
JP2000195834A (ja) 洗浄装置
JPH10189524A (ja) 洗浄処理装置および洗浄処理方法
JP2000070886A (ja) 基板処理装置
KR19980065667A (ko) 습식 세정장치의 세정조
KR0178000B1 (ko) 웨이퍼의 세정 장치
JP2000012496A (ja) 基板処理装置
JPS60113433A (ja) 薄板状体の洗浄装置
KR940001618Y1 (ko) 웨이퍼 세정배쓰의 탈이온수 가이드 장치
JP2000012497A (ja) 被処理体処理装置
JPH10163212A (ja) ウェハメッキ装置
JPH10340879A (ja) 洗浄槽及びこれを用いた洗浄方法

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination