KR19980047651A - 고밀도 자기기록매체용 이축배향 폴리에스테르필름 - Google Patents

Abstract

본 발명은 제1성분입자로 표면처리하여 분산성이 향상된 평균입경 0.01~0.5㎛의 미세 구형실리카졸 입자를 0.05~2.0중량% 포함하여 폴리머와 입자간의 친화력을 향상시킴으로써 필름제조시 연신에 의해 입자주위에 발생하는 보이드를 감소시켜서 입자탈락현상을 줄이고 이로 인해 백분 및 스크래치 발생을 현저히 개선하고, 제2성분으로 비활성무기입자를 사용하여 자기업체의 코팅속도 증가시(700rpm 이상) 발생하는 코팅얼룩을 개선할 수 있는 표면형상을 실현하여 코팅주행성을 향상시킴으로써 생산성 및 주행성을 향상시키며 입자의 탈락 발생을 억제하는 내마모성이 향상된 고밀도 자기기록매체 이축배향 폴리에스테르 필름에 관한 것이다.

Description

고밀도 자기기록매체용 이축배향 폴리에스테르필름

제1도는 필름의 주행성 및 내스크래치성

제2도는 내마모성을 평가하는 주행계를 표시한 것이다.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *

1 : 직경 6mm의 스텐레스 고정핀

2, 3 : 필름의 장력 측정기

본 발명은 고밀도 자기기록매체용 이축배향 폴리에스테르필름에 관한 것으로, 보다 상세하게는 내마모성이 우수하고 표면 평활도가 미끄럼도가 우수하며 자기테이프업체의 고속코팅시의 자기기록재로서 적합한 고밀도 자기기록매체용 이축배향 폴리에스테르필름에 관한 것이다.

폴리에스테르필름은 비디오 테이프, 오디오 테이프, 컴퓨터 테이프, 플로피 디스크와 같은 자기 응용과 콘덴서, 전기절연 파이프와 같은 전기응용, 적층필름 및 금속증기 부착 필름과 같은 포장응용, 그리고 마이크로필름, 방사선 사진필름, 설계차트 및 스탬핑 포일 등과 같은 기타의 여러가지 응용에 널리 사용되는 것이다.

특히 자기응용에 있어서 매우 높은 수준의 표면 편평도 및 미끄럼도가 요구된다. 최근들어 자기기록매체의 개량이 급속도로 이루어지고, 생산성 향상을 위해 베이스필름의 품질향상을 요구하게 되었다. 예를 들면, 비디오 테이프와 같은 자기 테이프에 사용되기 위해서는 고밀도의 기록이 요구되며 고평활의 표면을 갖는 베이스필름이 요구된다. 그러나 필름의 공정주행성, 이활성 및 내마모성을 개선하기 위해서는 탄산칼슘, 실리카, 알루미나, 지르코니아, 이산화티탄, 불황성 고분자입자와 같은 외부입자를 필름내에 첨가하는 방법이 이미 잘 알려져 있으며, 이런 이유로 사용된 입자로 인해 나타나는 필름의 표면조도는 적절한 수준으로 유지되어야 하며, 그렇지 않고 너무 작은 입경의 입자를 사용하여 필름의 표면조도를 적정수준 이하로 낮추게 되면 자기 테이프로 사용될 때 테이프의 전자 변환특성은 향상시킬 수 있으나, 필름제조공정에서의 주행성이 떨어지고 필름과 필름 사이의 마찰과 마모로 인해 다량의 백분과 스크래치가 발생할 수 있다. 그리고 큰 입자를 사용할 때에는 필름의 주행성을 향상시킬 수 있으나 필름내의 큰 입자로 인해 생성되는 거대돌기는 필름의 표면조도를 상승시켜 자기 테이프의 드롭아웃 등의 전자 변환 특성을 악화시킬 수 있다. 그래서 기존 기술은 입자 크기가 서로 다른 두 종 이상의 입자를 혼합 사용하여 개선하려 하였으나 이들 입자 모양이 균일하지 못할뿐만 아니라, 입자 크기 분포가 넓음으로서 표면조도가 균일하지 못하고, 필름내에 거대돌기를 형성하여 테이프의 전자변환특성의 악화를 가져오게 된다. 또한 자기테이프업체의 생산성 향상을 위한 코팅속도 증가와 원가 절감을 위해 코팅두께 감소에 적합한 표면형상을 지닌 폴리에스테르필름을 사용하지 않으면 고속코팅시 코팅얼룩이나 코팅결점이 발생하여 자기테이프에 치명적인 문제를 야기시킨다.

본 발명자는 이러한 문제를 해결하기 위하여 연구 노력한 결과 제1성분입자로 표면처리하여 분상성이 향상된 평균입경 0.01~0.5㎛의 미세 구형 실리카졸 입자를 0.05~2.0중량% 포함하여 폴리머와 입자간의 친화력을 향상시킴으로써 필름제조시 연신에 의해 입자주위에 발생하는 보이드를 감소시켜서 입자탈락 현상을 줄이고 이로 인해 백분 및 스크래치 발생이 현저히 개선되었고, 제2성분으로 비활성무기입자를 사용하여 자기업체의 코팅속도 증가시(700rpm이상) 발생하는 코팅얼룩을 개선할 수 있는 표면형상을 실현하여 코팅주행성을 향상시킴으로써 생산성 및 주행성을 향상시키며 입자의 탈락 발생을 억제하는 내마모성이 향상된 고밀도 자기기록매체용 이축배향 폴리에스테르필름을 개발하였다.

본 발명을 자세하게 설명하면 폴리에스테르는 테레프탈산, 2, 6-나프탈렌 디카르본산 등과 같은 방향족 디카르본산 또는 이의 에스테르화와 에틸렌글리콜을 출발 원료로 하여 만들어지지만 또다른 제3성분을 포함할 수도 있다. 이때 본 발명의 출발원료인 디카르본산성분은, 예를 들면 이소프탈산, 테레프탈산, 2, 6-나프탈렌디카르본산, 프탈산, 아디프산, 세바스산을 포함한다. 이러한 산성분은 1종 또는 2종 이상으로 사용될 수 있다.

또 다른 출발원료인 글리콜 성분은 예를 들면 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올, 1,4-사이클로헥산디메탄올, 네오펜틸글리콜 등을 포함하며, 이중 1종 또는 2종 이상으로 사용될 수 있다. 본 발명에서는 반복되는 구조단위의 80% 또는 그 이상이 에틸렌테레프탈레이트 또는 에틸렌 2,6-나프탈렌 구조로 구성된 폴레에스테르를 사용하는 것이 더 좋은 폴리에스테르 필름을 얻을 수 있었다.

본 발명에서의 폴리에스테르는 열안정제, 블로킹방지제, 산화방지제, 대전방지제, 자외선흡수제 등과 같은 첨가제를 포함할 수도 있다.

일반적으로 폴리에스테르필림의 이활성 및 내마모성을 개선하기 위해 필름의 표면에 돌기를 부여하여 필름과 필름 및 필림과 롤과의 접촉 면적을 감소시키는 방법이 사용되었다. 이러한 돌기 부여방식으로는 일본특공소 52-32914호의 촉매잔사 성분을 활용한 내부입자법과 일본특공소 56-19263호의 비활성미립자를 첨가하는 외부입자법 등이 알려져 있다.

상기의 방법들은 내부입자 생성방식의 경우 입자가 플리머와의 친화력이 높아 마모성은 향상되지만 석출입자의 입경조절이 어렵고 배치간의 차이가 발생하기 쉬워 물성재현성에 문제가 있다. 또한 외부입자 첨가방식의 경우 탄산칼슘, 황산바륨, 황산칼슘, 실리카, 카올린 등 비활성무기입자의 선택이 용이하고 첨가량 및 입자경의 선정도 용이하여 장기운전시 풀리머특성 및 입자상태를 안정되게 할 수 있어 유리하지만, 입자의 종류 및 입자크기에 따라서 입자간의 응집에 의한 조대입자가 생성되어 자기테이프용 필름으로 사용시 드롭아웃 등에 결점이 발생하는 단점이 있다.

따라서 본 발명의 목적은 입자의 분산성을 향상시킨 미세 구형실리카졸 입자를 첨가함으로 폴리에스테르필름의 표면을 보강하는 보강재로 사용하여 폴리에스테르필름의 내마모성을 향상시켰고 제2성분의 비활성 입자를 동시에 사용하여 표면조도를 조절함으로써 자기테이프업체의 고속코팅시 발생하는 코팅얼룩을 개선하는 고속코팅주행용 폴리에스테르필름을 제공하는 것이다.

본 발명의 가장 큰 특징은 제1성분입자의 제조방법은 미국특허 제 5,382,651호 제조법에 의해 제조된 표면처리를 실시한 미세 구형시리카졸 입자를 사용함으로써 미세 입자 사용시 발생하기 쉬운 입자간의 응력에 의한 응집을 최소화 하였고, 경제적으로도 저렴한 공법이므로 상업적으로도 유리하다. 또한 자기테이프업체의 고속코팅시 발생하는 코팅얼룩을 해결하기 위하여 자기테이프의 전자변환 특성 및 드롭아웃에 영향을 주지 않고 주행 및 코팅특성을 향상시킬 수 있는 적절한 표면특성을 개발함으로써 본 발명을 완성하였다.

본 발명에서 사용한 표면처리를 실시하여 분산성을 향상시킨 제1성분입자인 미세 구형실리카졸 입자의 평균입경은 0.01~0.5㎛, 좋기로는 0.05~2.0㎛이고 첨가량은 0.05~2.0중량%, 좋기로는 0.1~1.0중량%을 포함하는 것이 바람직하다.

미세 구형실리카졸 입자의 평균입경이 0.01㎛ 이하일 경우 이활성이 감소하며 0.5㎛ 이상일 경우에는 내마모성이 감소한다. 폴리에스테르필름중의 미세 구형실리카졸 입자의 첨가량은 생성폴리머에 대해 0.05~2.0중량%가 효과적이며 함량이 0.05중량% 이하일 경우에는 필름의 이활성과 내마모성이 감소하며 2.0중량% 이상일 경우에는 입자의 함량이 너무 많아 입자가 필름으로부터 쉽게 탈락하여 내마모성이 감소한다.

본 발명에 사용되는 제2성분입자로는 탄산칼슘, 황산칼슘, 황산바륨, 카올린, 탈크, 이산화티탄, 구형실리카, 산화알루미나 등의 바활성입자중에서 1종 또는 1종 이상을 선택하여 사용하여도 좋으며 제2성분입자의 평균입경은 0.1~3.0㎛, 좋기로는 0.5~1.4㎛이고 첨가량은 0.05~5.0중량%, 좋기로는 0.1~1.0중량% 포함하며 입자의 크기 분포비(γ)는 다음 식으로 결정되며 1.0≤γ≤2.0의 값을 만족하는 값이다.

γ=d₂90 / d₂10

위의 식에서 d₂10은 제2성분입자의 누적 중량이 전체 중량을 기준으로 하여 10%일 때의 미세입자 직경이며, d₂90은 누적중량이 전체 중량을 기준으로 하여 90%일 때의 입자직경이다(d₂100이 가장 큰 크기의 직경이다).

제2성분입자의 평균입경이 0.1㎛ 이하일 경우에는 공정주행성이 감소하며 3.0㎛ 이상의 경우에는 내마모성이 감소하고 자기테이프의 전자변환 특성의 저하 및 드롭아웃 등의 발생요인으로 나타난다. 또한 입자 크기의 분포비는 1.1 내지 1.9㎛의 범위가 더욱 바람직하다. 이 범위의 입자를 사용하였을 때 거대돌기의 발생이 나타나지 않았다. 입자크기 분포비가 2.0 이상인 경우 다중간섭 현미경을 사용하여 필름 표면을 관찰하면 높이 0.75㎛를 초과하는 조대돌기가 나타난다.

또, 본 발명에 있어서 미세 구형실리카졸 입자의 평균입경보다 제2성분입자의 평균입경이 큰 것을 사용함으로써 이활성 및 내마모성의 증가효과가 나타난다. 즉 사용입자의 평균입경비(β)는 다음식으로 결정되며 5.0≤ β ≤ 20.0의 값을 만족하는 값이다.

β= d₂50 / d₁50

위의 식에서 d₂50은 제2성분입자의 누적 중량이 전체 중량을 기준으로 하여 50%일 때 입자의 직경을 평균입경으로 하며, d₁50은 미세 구형실리카졸 입자의 누적중량이 전체 중량을 기준으로 하여 50%일 때의 입자직경을 평균입경으로 한다.

사용입자의 평균입경비는 10.0 내지 15.0의 범위가 더욱 바람직하다. 평균입경비가 5.0 이하일 경우 폴리에스테르필름의 이활성 및 주행성이 부족하여 롤과 필름의 마찰로 인한 블로킹 발생으로 필름의 파단을 초래하여 생산성이 저하되고 20.0 이상일 경우 필름의 미끄러짐성은 우수하지만 필름 표면상에 돌출 및 함몰 부위의 빈도가 많아져 표면 거칠기가 증가하여 최종 필름제품의 품질이 저하된다.

또한, 본 발명에 있어서 고속주행성 및 내마모성이 우수하고 자기테이프업체의 고속 생산에 적합한 폴레에스테르필름을 얻기 위해서 하기식을 만족하는 표면형상을 지니므로 고속자기코팅시 발생하는 코팅얼룩 및 코팅결점 발생을 방지할 수 있었다.

0.010㎛ ≤ Ra(㎛) ≤ 0.035㎛

15.0 ≤ Rz / Ra ≤ 30.0

Ra : 산술평균조도 (JIS B0601-1994)

Rz : 십점평균조도 (JIS B0601-1994)

산술평균조도(Ra)의 값이 좋기로는 0.015~0.020㎛이 바람직하다. 즉 0.010㎛ 이하일 경우 필름의 미끄럼성이 불량하고 내마모성이 감소하여 생산성이 저하되고 0.035㎛ 이상의 경우 필름의 표면거칠기가 거칠어 입자 탈락이 쉬워져 내마모성이 감소하며 자기테이프의 전자변환특성이 저하되고 드롭아웃이 증가한다.

또한 Rz/Ra의 비가 자기테이프업체의 생산성 향상을 위한 고속코팅에 주요한 요인으로 바람직하기는 20 내지 30의 범위가 양호하다. 15 이하의 경우 공정 주행성이 불량하여 고속코팅시 코팅얼룩이 발생하여 생산성이 저하되고 30 이상의 경우도 표면형상의 차이에 의해 고속코팅시 코팅얼룩 및 코팅결점이 발생하여 생산성이 저하된다.

본 발명에서는 폴리에스테르 필름을 제조하기 위하여 미세구형실리카졸 입자 및 제2성분의 비활성무기입자는 에틸렌글리콜에 분산된 상태로 슬러리화하여 분급이나 분쇄터리 없이 필터 처리만으로도 충분하였으며, 이 입자를 포함하는 폴리에스테르 중합체를 합성하였으며 이를 적당한 비율로 혼합한 후 270~300℃로 용융 압출하여 40~70℃로 냉각, 고화시켜 비결정성의 미연신 필름을 얻었으며, 이를 90~120℃에서 3.0~4.0배의 종방향 연신을 하고, 180~220℃에서 4.0~5.0배의 횡방향연신을 한 후 200~240℃에서 열처리를 실시하여 폴리에스테르 필름을 얻을 수 있었다. 또한 본 발명에서는 횡방향 연신비를 종래의 연신비보다 증가시켜 횡방향 굴절율을 저하시켰으며 이로 인하여 필름의 긁힘방지와 절단성을 향상시켰고 우수한 표면특성으로 인해 고속주행성 및 내마모성이 향상된 고밀도 자기기록 매체용 자기테이프의 베이스필름을 얻을 수 있었다.

본 발명에서 폴리에스테르 필림 및 자기테이프의 제반 물성의 측정은 다음의 방법에 따라 실시하였다.

(1) 입자의 평균입경

입자 슬러리 d10, d90, d50 크기는 입도분포측정기(실라스, 그라뉼로미터 850, 프랑스)를 이용하였고 d50을 평균 입경으로 하였다.

(2) 주행성

도면과 같이 고정된 경질 크롬으로 도금한 금속롤(6mm의 직경)에 필름을 권취하는 부분의 각이 180°(3.142rad(θ))로 접촉되며, 한쪽 끝에 50g(T₂)의 하중을 주며 1.1m/초의 속도로 주행할 때 다른 한쪽 끝에서의 저항력(T_1,g)을 측정하여 다음 식에 따라 주행중 마찰계수(μk)를 구하였다.

μk=1/θ ln (T₁/ T₂)=0.318 ln (T₁/50)

(3) 표면조도(Ra)

고사카 연구소에서 제작한 고정밀 3차원 표면조도계(ET-10)를 이용하여 아래의 조건에 따라 20회 측정하여 평균값으로 평가한다.

- 촉침 선단 반경 : 0.5㎛

- 촉침 하중 : 5 mg

- 촉침 길이 : 1mm

- 컷-어프 값 : 0.08㎛

(4) 내마모성

헤이돈 표면측정기를 이용하여 속도 300mm/분, 하중 500g의 조건으로 200회 왕복주행시킨 후 3차원 조도계를 이용하여 표면조도의 높이변화(슬라이스 레벨)를 다음식에 대입하면 표면돌기들의 높이를 지름으로 하는 체적의 변화율이 마모율로 환산되어 5개의 측정치 중 상한값과 하한값을 제거한 3개의 평균치로 아래와 같이 판정한다.

단, N1 : 마찰전의 슬라이스 레벨

N1' : 마찰후의 슬라이스 레벨

n : 각 슬라이스 레벨별 갯수

30 이하 : 매우 양호(◎)

40 이하 : 양호(○)

50 이하 : 보통(◇)

50 이상 : 불량(◆)

(5) 내스크래치성

필름을 1/2인치 폭의 테이프상으로 절단하여, 테이프 주행성 시험기 TBT -300 D/H형((주)요코하마 시스템연구소)을 사용하여 20℃, 60% RH에서 장력 50g, 주행속도 1.1 m/s로 비디오 카세트의 테이프 가이드핀(표면조도 Ra가 500mm, Rt가 2500mm 정도의 스테인레스 가이드핀) 위를 권취각 180°로 50회 주행시켜 발생한 스크래치의 양을 기준으로 광학 현미경으로 판정한다.

A 등급 : 스크래치 발생 없음

B 등급 : 스크래치 약간 발생

C 등급 : 스크래치 많이 발생

(6) 필름 표면의 조대돌기 평가

필름 표면을 다중 간섭 현미경을 사용하여 높이 0.75㎛을 초과하는 조대돌기수(측정면적 100cm²이내의 갯수)를 카운트하여 다음과 같이 판정 하였다.

1급 : 0개2급 : 1~2개 3급 : 3~5개

4급 : 6~8개5급 : 9개 이상

(7) 자성체 코팅성 평가

자기테이프업체의 자성체코팅 속도가 700rpm 이상으로 폴리에스테르필름을 코팅할때 발생하는 코팅얼룩 및 코팅결점을 육안으로 판정한다.

○ : 우수 (코팅얼룩 및 코팅결점 없음)

△ : 보통 (코팅얼룩 및 코팅결점 약간 있음)

× : 불량 (코팅얼룩 및 코팅결점 많이 발생 : 산맥무늬 발생)

[실시예 1]

100부의 디메틸 테레프탈레이트, 70부의 에틸렌 글리콜, 0.09부의 망간 아세테이트 테트라하이드레이트와 0.04부의 안티몬 트리옥사이드를 반응기에서 가열하여 메탄올을 유출시키며 에스테르 교환반응을 실시하였다. 반응 혼합물을 4시간에 걸쳐 에스테르 교환반응을 완료하였다. 그 반응 혼합물에 0.06부의 에틸에시드 포스페이트와 1.0부의 평균입경이 0.05㎛인 표면처리된 미세 구형실리카졸 입자를 첨가한 후 4시간동안 중축한 반응을 실시하여 폴리에스테르(I)을 얻었다. 또한 폴리에스테르(I)과 같은 방법으로 반응을 실시하고 반응혼합물에 미세 구형실리카졸 입자 대신에 1.0부의 평균 입경이 0.6㎛인 무정형 탄산칼슘입자를 첨가하여 중축한 반응을 실시하여 폴리에스테르(II)를 얻었다.

폴리에스테르(I) 32%와 폴리에스테르(II) 38%, 여기에 무입자 폴리에스테르 중합체 30%를 혼합한 후, 290℃로 용융 압출 및 냉각 고화하여 무정형의 미연신 필름을 만들었으며, 이것을 120℃ 종방향으로 4배, 135℃에서 횡방향으로 4.5배 연신하고 220℃에서 약 3초간 열처리를 하여 두께가 14.5㎛인 이축연신 폴리에스테르 필름을 제조하여 그 결과를 다음 표 1에 나타내었다.

[실시예 2]

폴리에스테르(I)과 같은 방법으로 반응을 실시하고 반응 혼합물에 표면처리된 미세구형 실리카졸 입자 대신에 1.0부의 평균입경이 0.7㎛인 침강법 구형실리카 입자를 첨가하여 중축합 반응을 실시하여 폴리에스테르(II)를 얻었다.

위에서 합성한 폴리에스테르(I) 32%와 폴리에스테르(III) 25%, 무입자 폴리에스테르 중합체 45%를 혼합하여 실시예 1과 같은 방법으로 실시하여 그 결과를 다음 표 1에 나타내었다.

[실시예 3]

폴리에스테르(I)과 같은 방법으로 반응을 실시하고 반응 혼합물에 미세구형 실리카졸 입자 대신에 1.0부의 평균입경이 0.8㎛인 무정형 탄산칼슘 입자를 첨가하여 중축합 반응을 실시하여 폴리에스테르(IV)를 얻었다.

위에서 합성한 폴리에스테르(I) 28%와 폴리에스테르(IV) 25%, 무입자 폴리에스테르 중합체 47%를 혼합하여 실시예 1과 같은 방법으로 실시하여 그 결과를 다음 표 1에 나타내었다.

[실시예 4]

평균입경이 0.01㎛인 미세 구형실리카졸 입자를 폴리에스테르(I)과 같은 방법으로 중축합하여 첨가량 1.0부의 폴리에스테르(V)를 얻고, 미세 구형실리카졸 입자 대신에 1.0부의 평균입경 0.8㎛인 판상 카올린 입자를 첨가하여 중축한 반응을 실시하여 폴리에스테르(VI)를 얻었다. 폴리에스테르(V) 24%, 폴리에스테르(VI) 30%, 무입자 폴리에스테르 46%를 혼합하여 실시예 1과 같은 방법으로 실시하여 그 결과를 다음 표 1에 나타내었다.

[비교예 1]

평균입경이 0.05㎛인 산화알루미나 입자를 폴리에스테르(I)과 같은 방법으로 중축합하여 첨가량 1.0부의 폴리에스테르(VII)를 얻어, 이것 40%와 폴리에스테르(II) 35%, 여기에 무입자 폴리에스테르 중합체 25%를 혼합하여 실시예 1과 같은 방법으로 실시하여 그 결과를 다음 표 2에 나타내었다.

[비교예 2]

폴리에스테르(VII) 32%와 폴리에스테르(IV) 30%, 여기에 무입자 폴리에스테르 중합체 38%를 혼합하여 실시예 1과 같은 방법으로 실시하여 그 결과를 다음 표 2에 나타내었다.

[비교예 3]

평균 입경이 0.2㎛ 산화알루미나 입자를 폴리에스테르(I)과 같은 방법으로 중축합하여 첨가량 1.0부의 폴리에스테르(VIII)를 얻어, 이것 32%와 폴리에스테르(III) 20%, 무입자 폴리에스테르 중합체 48%를 혼합하여 실시예 1과 같은 방법으로 실시하여 그 결과를 다음 표 2에 나타내었다.

[비교예 4]

폴리에스테르(VIII) 25%와 폴리에스테르(VI) 25%, 무입자 폴리에스테르 중합체 50%를 혼합하여 실시예 1과 같은 방법으로 실시하여 그 결과를 다음 표 2에 나타내었다.

[비교예 5]

폴리에스테르(VII) 36%와 여기에 무입자 폴리에스테르 중합체 64%를 혼합하여 실시예 1과 같은 방법으로 실시하여 그 결과를 다음 표 2에 나타내었다.

[표 1]

[표 2]

Claims (6)

1. 표면처리를 실시하여 분산성을 향상된 평균입경 0.01~0.5㎛의 미세구형실리카졸 입자를 0.05~2.0중량% 포함하는 고밀도 자기기록매체용 이축배양 폴리에스테르 필름.
2. 제1항에 있어서, 상기 미세 구형실리카졸 입자를 제1성분입자로 사용하고 동시에 제2성분입자로 비활성 무기입자를 사용하는 고밀도 자기기록매체용 이축배향 폴리에스테르 필름.
3. 제2항에 있어서, 제2성분입자로 탄산칼슘, 황산칼슘, 황상바륨, 카올린, 탈크, 이산화티탄, 구형실리카 또는 산화알루미나 중에서 최소한 1종 이상을 선택하여 사용하는 것을 특징으로 하는 고밀도 자기기록매체용 이축배향 폴리에스테르 필름.
4. 제2항에 있어서, 상기 제2성분입자는 하기의 일반식을 만족하는 비활성 무기입자로서 평균입경이 0.1~3.0㎛이고, 첨가량이 0.05~5.0중량% 포함하는 것을 특징으로 하는 고밀도 자기기록매체용 이축배향 폴리에스테르 필름.

   1.00 ≤ d₂90 / d₂10 ≤ 2.00

   5.00 ≤ d₂50 / d₁50 ≤ 20.00

   (상기식에서 d₂10,

   d₂50 및 d₂90은 제2성분입자의 적산 중량이 전체 중량의 10%, 50% 및 90%에 해당될 때의 입자직경(㎛)을 나타내며 d₁50은 제1성분인 미세 구형실리카졸 입자의 적산중량이 입자 전체 중량의 50%에 해당될 때의 입자직경(㎛)을 나타낸다.)
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 제1 및 제2 성분의 입자를 사용하여 하기식을 만족하는 표면형상을 지닌 고밀도 자기기록매체용 이축배향 폴리에스테르 필름.

   0.010㎛ ≤ Ra(㎛) ≤ 0.035㎛

   15.0 ≤ Rz/ Ra ≤ 30.0

   Ra : 산술평균조도

   Rz : 십점평균조도
6. 제1항에 있어서, 폴리에스테르는 열안정성, 블로킹방지제, 산화방지제, 대전방지제 또는 자외선흡수제 중 최소한 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 고밀도 자기기록매체용 이축배향 폴리에스테르 필름.