KR102646416B1 - 잠재지문 현출 실험을 위한 인공적인 잠재지문 생성 방법 - Google Patents

잠재지문 현출 실험을 위한 인공적인 잠재지문 생성 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR102646416B1
KR102646416B1 KR1020210051765A KR20210051765A KR102646416B1 KR 102646416 B1 KR102646416 B1 KR 102646416B1 KR 1020210051765 A KR1020210051765 A KR 1020210051765A KR 20210051765 A KR20210051765 A KR 20210051765A KR 102646416 B1 KR102646416 B1 KR 102646416B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
fingerprint
latent
shape
paper
etching plate
Prior art date
Application number
KR1020210051765A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20220145105A (ko
Inventor
박남규
문병선
고재모
김진표
서영일
주은아
이제현
이상윤
이재혁
Original Assignee
대한민국
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 대한민국 filed Critical 대한민국
Priority to KR1020210051765A priority Critical patent/KR102646416B1/ko
Priority to US17/360,813 priority patent/US11530487B2/en
Publication of KR20220145105A publication Critical patent/KR20220145105A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102646416B1 publication Critical patent/KR102646416B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06KGRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
    • G06K19/00Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings
    • G06K19/06Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M1/00Inking and printing with a printer's forme
    • B41M1/26Printing on other surfaces than ordinary paper
    • B41M1/36Printing on other surfaces than ordinary paper on pretreated paper, e.g. parchment, oiled paper, paper for registration purposes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/10Etching compositions
    • C23F1/14Aqueous compositions
    • C23F1/16Acidic compositions
    • C23F1/18Acidic compositions for etching copper or alloys thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06VIMAGE OR VIDEO RECOGNITION OR UNDERSTANDING
    • G06V40/00Recognition of biometric, human-related or animal-related patterns in image or video data
    • G06V40/10Human or animal bodies, e.g. vehicle occupants or pedestrians; Body parts, e.g. hands
    • G06V40/12Fingerprints or palmprints

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Measurement Of The Respiration, Hearing Ability, Form, And Blood Characteristics Of Living Organisms (AREA)

Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 잠재지문 현출 실험을 위한 인공적인 잠재지문 생성 방법은, 대상표면에 적용하기 위하여 인공적으로 만든 지문 형태를 종이에 인쇄하는 단계, 상기 지문 형태가 인쇄된 종이에 일정 범위의 열과 압력을 가하여 상기 종이에 인쇄된 지문 형태를 에칭판(etching plate)으로 전사하는 열 전사 단계, 상기 에칭판에 전사된 지문 형태를 따라 에칭 공정을 수행하여 상기 에칭판에 입체적인 지문 형태를 형성하는 단계, 상기 에칭판에 형성된 입체적인 지문 형태를 조형부재로 본뜨는 단계 및 상기 조형부재에 본을 떠서 형성된 입체적인 지문 형태로부터 인공지문액을 이용하여 상기 대상 표면에 잠재지문을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.

Description

잠재지문 현출 실험을 위한 인공적인 잠재지문 생성 방법{Artificial latent fingerprint generation method for latent fingerprint emergence experiment}
본 발명의 실시예들은, 잠재지문 현출 실험을 위한 인공적인 잠재지문 생성 방법에 관한 것이다.
범죄현장에서 발견되는 지문증거는 용의자를 특정할 수 있는 중요한 증거이다.
잠재지문은 사람 피부의 자연 분비물에 의하여 증거물에 유류되어, 육안으로 확인되지 않는 지문의 형태를 의미한다. 범죄 현장에서 생성되는 지문은 대부분 잠재지문의 형태로 존재한다. 따라서, 이러한 잠재지문을 육안으로 보이도록 현출하는 기법이 매우 중요하다.
이와 같이, 잠재지문을 육안으로 보이도록 하는 잠재지문 현출기법은 현출되는 대상 표면 및 환경에 따라 다양한 방법이 존재한다. 잠재지문 현출기법 개발을 위한 지문 시약 또는 방법 평가 실험 시에, 사람의 손가락을 대상 표면에 직접 접촉하여 지문을 생성하는 방법을 사용하고 있다. 이러한 실험 시에 불필요한 개인의 지문 정보를 포함하게 되어, 모든 실험에 생명윤리연구위원회(IRB, Institutional Review Board)의 허가를 얻어야 하는 소모적 절차를 거치고 있는 상황이다.
사람의 지문이 아닌 인공적으로 만들어내는 지문 형태는 현재 인터넷에서 간단한 검색만으로 찾을 수가 있다. 이와 같이, 잠재지문 현출기법 개발을 위한 실험 시에 인공적으로 만들어낸 지문 형태를 사용하면 생명윤리연구위원회(IRB)의 허가 절차를 생략할 수 있다.
현재 인공적으로 생성할 수 있는 잠재지문은 잉크젯 프린터를 통하여 인쇄용 종이나 투명 라벨지 등의 평면 상에서만 생성할 수 있으므로, 범죄 현장에서 발견되는 것과 같이, 금속, 유리, 골판지, 목재 등의 다양한 대상 표면에서 인공적인 잠재지문이 생성되지 않는 문제점이 있다.
한국등록특허 제10-1612343호(2016.04.07. 등록일)
본 발명의 실시예들은, 잠재지문 현출 실험을 위한 인공적인 잠재지문 생성 방법을 제공하고자 한다. 상세하게는, 실리콘 또는 젤라틴 등의 조형부재에 사람의 지문 형태를 형성하여, 범죄 현장에서 발견되는 것과 같이 평면이 아닌 다양한 대상 표면에 잠재지문을 생성할 수 있도록 하는 방법을 제공하고자 한다.
나아가 본 발명의 실시예들은, 사람의 지문을 직접 이용하지 않고 인공적으로 만들어낸 지문을 이용하여, 생명윤리연구위원회(IRB)의 허가 절차를 생략하여 잠재지문 현출 실험 절차를 간소화할 수 있는 방법을 제공하고자 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 잠재지문 현출 실험을 위한 인공적인 잠재지문 생성 방법은, 대상표면에 적용하기 위하여 인공적으로 만든 지문 형태를 종이에 인쇄하는 단계, 상기 지문 형태가 인쇄된 종이에 일정 범위의 열과 압력을 가하여 상기 종이에 인쇄된 지문 형태를 에칭판(etching plate)으로 전사하는 열 전사 단계,상기 에칭판에 전사된 지문 형태를 따라 에칭 공정을 수행하여 상기 에칭판에 입체적인 지문 형태를 형성하는 단계, 상기 에칭판에 형성된 입체적인 지문 형태를 조형부재로 본뜨는 단계 및 상기 조형부재에 본을 떠서 형성된 입체적인 지문 형태로부터 인공지문액을 이용하여 상기 대상 표면에 잠재지문을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
이때, 상기 지문 형태를 종이에 인쇄하는 단계는, 레이저 프린터 또는 잉크젯 프린터로 수행될 수 있다.
이때, 상기 열 전사 단계는, 상기 에칭판이 구리 재질인 경우 200℃ 이상의 가열 온도에서 수행될 수 있다.
이때, 상기 에칭판에 입체적인 지문 형태를 형성하는 단계는, 상기 에칭판이 구리 재질인 경우, 23% 염산, 35% 과산화수소 및 물이 1:1:1 비율로 혼합된 에칭액을 사용하여 수행될 수 있다.
이때, 상기 조형부재는, 젤라틴 또는 실리콘을 포함할 수 있다.
이때, 상기 대상 표면이 형성되는 대상부재는, 금속, 유리, 골판지, 또는 목재를 포함할 수 있다.
이때, 상기 인공지문액은 사람의 체액 성분을 포함할 수 있다.
전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점이 이하의 도면, 특허청구범위 및 발명의 설명으로부터 명확해질 것이다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 실리콘 또는 젤라틴 등의 조형부재에 지문 형태를 형성함으로써 사람의 손가락 끝에 위치된 지문 형태를 재현해 내어, 범죄 현장에서 발견되는 것과 같이 다양한 대상 표면에 잠재지문을 생성할 수 있어, 더욱 효과적인 범죄 사건 해결을 기대할 수 있다.
본 발명의 실시예들은, 실리콘 또는 젤라틴 등의 조형부재에 지문 형태를 형성함으로써 사람의 손가락 끝에 위치된 지문 형태를 재현해 내어, 일정한 힘을 가하여 균일한 잠재지문을 생성할 수 있다.
본 발명의 실시예들은, 사람의 지문을 직접 이용하지 않고 인공적으로 만들어낸 지문을 이용하여, 생명윤리연구위원회(IRB)의 소모적인 허가 절차를 거치지 않아, 실험 절차 면에서 효율성과 경제성을 기대할 수 있다.
도 1은 물체의 표면에서 발견되는 일반적인 지문 형태 및 이의 색상 반전 지문 형태를 나타낸 예시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 잠재지문 현출 실험을 위한 인공적인 잠재지문 생성 방법을 나타내는 순서도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 잠재지문 현출 실험을 위한 인공적인 잠재지문 생성 방법의 각 단계를 개략적으로 나타낸 도면이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
이하의 실시예에서, 제1, 제2 등의 용어는 한정적인 의미가 아니라 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하는 목적으로 사용되었다.
이하의 실시예에서, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
이하의 실시예에서, '포함하다' 또는 '가지다' 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다.
이하의 실시예에서, 막, 영역, 구성 요소 등의 부분이 다른 부분 위에 또는 상에 있다고 할 때, 다른 부분의 바로 위에 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 막, 영역, 구성 요소 등이 개재되어 있는 경우도 포함한다.
도면에서는 설명의 편의를 위하여 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.
어떤 실시예가 달리 구현 가능한 경우에 특정한 공정 순서는 설명되는 순서와 다르게 수행될 수도 있다. 예를 들어, 연속하여 설명되는 두 공정이 실질적으로 동시에 수행될 수도 있고, 설명되는 순서와 반대의 순서로 진행될 수 있다.
이하의 실시예에서, 막, 영역, 구성 요소 등이 연결되었다고 할 때, 막, 영역, 구성 요소들이 직접적으로 연결된 경우뿐만 아니라 막, 영역, 구성요소들 중간에 다른 막, 영역, 구성 요소들이 개재되어 간접적으로 연결된 경우도 포함한다. 예컨대, 본 명세서에서 막, 영역, 구성 요소 등이 전기적으로 연결되었다고 할 때, 막, 영역, 구성 요소 등이 직접 전기적으로 연결된 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 막, 영역, 구성 요소 등이 개재되어 간접적으로 전기적 연결된 경우도 포함한다.
본 명세서에서, '지문(fingerprint)'은 사람의 손가락 끝마디 안쪽에 있는 살갗의 무늬 또는 그것이 남는 흔적을 의미한다. 지문의 '융선(ridge)'은 사람의 손가락 끝 피부에 있는 땀샘의 입구가 융기한 선을 의미하고, '골(valley)'은 융선 사이의 패인 부분을 의미한다.
도 1은 물체의 표면에서 발견되는 일반적인 지문 형태 및 이의 색상 반전 지문 형태를 나타낸 도면이다. 도 2는 본 발명의 잠재지문 현출 실험을 위한 인공적인 잠재지문 생성 방법을 나타내는 순서도이고, 도 3은 본 발명의 잠재지문 현출 실험을 위한 인공적인 잠재지문 생성 방법의 각 단계를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 잠재지문 현출 실험을 위한 인공적인 지문 생성 방법은 다음과 같다.
S100 단계는, 대상 표면(550)에 적용하기 위하여 인공적으로 만든 지문 형태를 종이에 인쇄하는 단계이다.
도 1(a)는 물체의 표면에서 발견되는 일반적인 지문 형태이고, 도 1(b)는 도 1(a)를 색상 반전시킨 지문 형태이다.
사람의 손가락을 잉크, 페인트 등의 유색 물질에 접촉한 후 물체의 표면에 접촉시켜 육안 확인이 가능하게 만든 경우, 도 1(a)와 같이 물체의 표면에서 발견되는 일반적인 지문 형태에서 융선(1)은 유색(또는 흑색)으로 나타날 수 있으며, 골(3)은 여백(또는 흰색)으로 나타날 수 있다.
도 1(b)는 도 1(a)를 색상 반전시킨 것으로, 융선(1)은 여백(또는 흰색)으로 나타날 수 있으며, 골(3)은 유색(또는 흑색)으로 나타날 수 있다.
이때 대상 표면(550)에 적용하기 위하여 인공적으로 만든 지문 형태는, 물체의 표면에서 발견되는 일반적인 지문 형태의 색상을 반전시킨 형태이다. 이와 같이 물체의 표면에서 발견되는 일반적인 지문 형태의 색상을 반전시킨 지문 형태를 사용하여야, 최종적으로 적용하고자 하는 대상 표면(550) 상에 범죄현장에서 발견될 수 있는 형태와 같은 잠재지문이 형성될 수 있으며, 이에 대해서는 후술하도록 한다.
여기서, 대상 표면(550)에 적용하기 위하여, 인공적으로 만든 지문 형태는 잠재지문 현출기법 연구를 위한 실험을 하기 위한 것이다. 잠재지문 현출기법의 개발을 위한 실험 시의 시약이나 방법의 평가는, 사람의 개별 지문의 특성 판단과는 무관하게 잠재지문 현출의 정도를 판단하게 되므로, 사람의 손가락을 직접 접촉해서 지문을 생성하지 않고 인공적으로 만든 지문 형태를 이용하여도 충분하다. 이와 같이 인공적으로 만든 지문 형태는 인터넷으로 검색하여 손쉽게 찾아내어 만들어 낼 수 있으며, 직접적인 사람의 정보를 포함하지 않으므로 생명윤리연구위원회(IRB)의 허가를 거치지 않아도 되는 장점이 있다.
한편, 도 3(a)와 같이, 상기 지문 형태를 종이에 인쇄하는 단계(S100)는 프린터(100)를 이용하여 수행할 수 있다. 예를 들어, 프린터(100)는 레이저 프린터 또는 잉크젯 프린터를 포함할 수 있다. 프린터(100)는 상기 예시에 한정되지 않고, 다양한 종류의 프린터를 사용하여 수행될 수 있다. 한편, 지문 형태를 종이에 인쇄할 때 사용되는 프린터(100)에 사용되는 잉크 또는 토너의 종류는 특정한 종류에 한정되지 않는다.
이때 대상 표면(550)에 적용하기 위하여 인공적으로 만든 지문 형태와 종이(200)에 인쇄되는 지문 형태는 동일한 형태를 유지하게 된다.
이때 인쇄에 사용되는 종이(200)는, 프린터(100)에서 사용될 수 있는 전용 인쇄용지 이외에, 포토용지, 광택지 등을 포함할 수 있으며, 이들 예시에 한정되지 않는다. 예를 들어, 인쇄에 사용되는 종이(200)로 무광택 용지를 사용하는 것보다 광택용지를 사용하는 것이, 후술하는 열 전사 단계(S200)를 더 용이하게 수행할 수 있다.
S200 단계는, 지문 형태가 인쇄된 종이(200)에 일정 범위의 열과 압력을 가하여 종이에 인쇄된 지문 형태를 에칭판(etching plate)(300)으로 전사하는 열 전사 단계이다.
도 3(b)를 참조하면, 지문 형태가 인쇄된 종이(200)를 에칭판(300) 상에 올려 두고, 일정 범위의 열과 압력을 가하면, 종이(200)에 인쇄된 지문 형태가 에칭판(300)으로 전사(傳寫)될 수 있다.
종이(200)에 인쇄된 지문 형태 중에서 잉크(또는 토너)가 묻은 부분이 에칭판(300)으로 그대로 전사되어 선으로 나타날 수 있다. 따라서, 종이(200)에 인쇄된 지문 형태와 에칭판(300)으로 전사된 지문 형태는 동일한 형태를 유지할 수 있다.
대상 표면(550)에 적용하기 위하여 인공적으로 만든 지문 형태는, 동일한 형태를 유지하면서 종이(200)에 인쇄되고, 에칭판(300)으로 동일한 형태를 유지하면서 전사될 수 있다.
이때 에칭판(300)은 구리 등과 같은 금속을 사용할 수 있으며, 이에 대해서는 이하의 단계에서 후술한다.
예를 들어, 에칭판(300)이 구리 재질인 경우 에칭판(300) 위에 종이(200)를 놓고, 종이(200) 위에서 다리미를 이용하여 일정 압력과 온도를 가할 수 있다. 이때 가열온도는 200℃ 이상에서 수행될 수 있다.
S300 단계는, 에칭판(300)에 전사된 지문 형태를 따라 에칭 공정을 수행하여, 상기 에칭판(300)에 입체적인 지문 형태를 형성하는 단계이다.
에칭(etching)은 화학적 부식작용을 이용한 소형(塑型)이나 표면가공의 방법이다. 에칭은, 필요로 하는 형태에 방식(防蝕) 처리를 한 후, 불필요한 부분을 부식시켜 제거하여 원하는 형태를 얻는 방법이다.
에칭 공정에 사용되는 에칭판(300)은, 구리, 스테인레스 스틸, 아연 등의 금속판을 사용할 수 있다. 그러나, 에칭판(300)은 이와 같은 예시에 한정되지 아니하며, 부식성이 있다면 어떠한 재질로 이루어져도 무관하다.
에칭판(300)에 전사된 지문 형태에, 전사된 지문 형태를 모두 덮을 수 있는 양의 에칭액(etchant)을 조금씩 떨어뜨려 화학 반응을 시킨다. 여기서 일회용 스포이드 또는 일회용 피펫을 이용하여 에칭액을 일정량씩 떨어뜨릴 수 있다. 이 과정에서 에칭판(300)과 일정량의 에칭액 사이에 화학 반응이 일어난다. 에칭판(300)과 에칭액의 화학 반응이 멈추면 휴지와 같은 흡습성 용지를 사용하여 화학 반응 후 남아 있는 에칭액을 제거할 수 있다.
에칭액은 에칭판(300)에 전사된 지문 형태 중에서 선을 제외한 부분에 대해서 부식을 발생시킬 수 있다. 화학 반응 이후에 에칭판(300)의 선은 에칭판(300)에 양각을 형성하고, 선 이외의 부분은 음각을 형성할 수 있다. 이와 같이 에칭판(300)에 양각과 음각이 형성되어 입체적인 지문 형태를 이루게 된다.
예를 들어, 에칭판(300)이 구리 재질인 경우에 에칭 공정에서 나타나는 화학 반응식은 다음과 같다.
에칭판(300)의 종류에 따라 특성과 미세조직이 다양하므로, 에칭판(300) 부식을 위해 사용되는 에칭액도 에칭판(300)의 종류에 따라 다양하게 사용될 수 있다.
예를 들어 에칭판(300)이 구리 재질인 경우, 사용되는 에칭액은 23% 염산, 35% 과산화수소 및 물이 1:1:1 비율로 혼합된 용액일 수 있다.
S400 단계는, 에칭판(300)에 형성된 입체적인 지문 형태를 조형부재(400)로 본뜨는 단계이다.
이때, 조형부재(400)는 에칭판(300)에 형성된 입체적인 지문 형태를 따라 본을 뜰 수 있는 성질을 가진 부재이다. 예를 들어, 조형부재(400)는 실리콘, 젤라틴, 각종 인상재 등을 포함할 수 있다. 조형부재(400)는 이들 예시에 한정되지 않는다. 조형부재(400)는 액체의 형상으로 에칭판(300)상의 입체적인 지문 형태의 음각과 양각 부분을 따라 형태를 형성하여 점차적으로 굳어지면서, 입체적인 지문 형태를 따라 본을 뜰 수 있게 된다.
예를 들어, 조형부재(400)로 실리콘을 사용할 경우를 설명한다.
에칭판(300)의 입체적인 지문 형태를 감싸도록, 에칭판(300) 위에 틀(미도시)을 위치시킨다. 이와 같은 틀 내부에 실리콘과 경화제를 혼합하여 투입하면, 유동성을 가진 실리콘이 입체적인 지문 형태의 음각과 양각 부분을 따라 형태를 형성하게 된다. 시간이 경과함에 따라 실리콘이 점차 경화되면서 입체적인 지문 형태를 따라 실리콘으로 본을 뜰 수 있게 된다. 이때, 에칭판(300)에 형성된 입체적인 지문 형태의 음각 부분은 본을 뜬 조형부재(400)에서 양각으로 표현되고, 에칭판(300)에 형성된 입체적인 지문 형태의 양각 부분은 본을 뜬 조형부재(400)에서 음각으로 표현될 수 있다.
실리콘은 높은 내열성을 가지고 있으며, 일반 고무에 비하여 높은 인장 강도와 신축율을 가지고 있다. 따라서, 실리콘에 입체적인 지문 형태를 본뜬 후에, 실리콘에 일정한 힘을 가하여 반복적으로 잠재지문을 형성할 수 있다.
예를 들어 조형부재(400)로 젤라틴을 사용할 경우, 젤라틴 수용액이, 에칭판(300)의 입체적인 지문 형태의 음각과 양각 부분을 따라 형태를 형성하면서 겔(gel)화되면서 본을 뜰 수 있게 된다. 젤라틴은 가역적인 열특성을 가지고 있으므로, 온도에 따라 수용액과 겔의 상태를 가역적으로 변화시킬 수 있는 장점이 있다.
S500 단계는, 조형부재(400)에 본을 떠서 형성된 입체적인 지문 형태로부터 인공지문액을 이용하여 대상 표면(550)에 잠재지문을 형성하는 단계이다.
여기서, 인공지문액은 사람의 체액 성분을 포함할 수 있다. 예를 들어, 인공지문액은 사람의 체액 성분인 세린(Serine), 글리신(Glycine), 알라닌(Alanine), 라이신(Lysine), 류신(Leucine), 트레오닌(Threonine), 아스파라긴산(Asparagin Acid), 히스티딘(Histidine), 발린(Valine) 등의 아미노산 성분을 포함할 수 있다. 여기에 염화 나트륨(Sodium chloride), 증류수 등의 성분을 더 포함할 수 있다. 이와 같이, 인공지문액은 사람의 체액과 유사한 특성을 갖도록 제조될 수 있다.
대상 표면(550)이 형성되는 대상부재(500)는 금속, 유리, 골판지 또는 목재를 포함할 수 있다. 대상부재(500)는 종이와 같은 평면으로 된 부재 이외에, 표면이 거칠거나, 표면에 요철이 형성되어 있는 부재도 가능하다. 범죄현장에서 잠재지문이 발견될 수 있는 재질로 되어 있으면, 대상부재(500)는 특정한 부재에 한정되지 않는다.
본 발명의 실시예에 따른 잠재지문 현출 실험을 위한 인공적인 잠재지문 생성 방법에서, 각 단계에 따라서 나타나는 지문 형태에 대해서 설명한다.
S100 단계는, 대상 표면(550)에 적용하기 위하여 인공적으로 만든 지문 형태를 종이에 인쇄하는 단계이다.
S100 단계에서, 대상 표면(550)에 적용하기 위하여 인공적으로 만든 지문 형태는 물체의 표면에서 발견되는 일반적인 지문 형태를 색상 반전시킨 형태로 적용된 것이다. 따라서, 도 1(b)와 같이 물체의 표면에서 발견되는 일반적인 지문을 색상 반전시킨 형태는 지문의 융선(1)이 여백(또는 흰색), 지문의 골(3)이 유색(또는 흑색)이 된다. 대상 표면(550)에 적용하기 위하여 인공적으로 만든 지문 형태가 종이(200)에 동일하게 인쇄되므로, 종이(200)에 인쇄된 상태의 지문 형태도 동일하게 융선이 여백(또는 흰색), 골이 유색(또는 흑색)으로 나타난다.
S200 단계는, 지문 형태가 인쇄된 종이(200)에 일정 범위의 열과 압력을 가하여 종이(200)에 인쇄된 지문 형태를 에칭판(300)으로 전사하는 열 전사 단계이다.
종이(200)에 인쇄된 지문 형태는, 일반적인 지문 형태를 색상 반전시킨 형태를 적용한 것이다. 따라서, 종이(200)에 잉크(또는 토너)가 묻어서 출력된 부분은 골 부분이고, 여백으로 출력이 되는 부분은 융선 부분이 된다. S200 단계에 의하여, 종이(200)에 인쇄된 지문 형태에서 잉크(또는 토너)가 묻어서 출력된 부분이 에칭판(300)에 그대로 전사되어 선을 형성하게 된다. 따라서, 에칭판(300)에 전사된 지문 형태는 골 부분이 선을 형성하며, 융선 부분은 여백을 형성하게 된다.
S300 단계는, 에칭판(300)에 전사된 지문 형태를 따라 에칭 공정을 수행하여, 상기 에칭판(300)에 입체적인 지문 형태를 형성하는 단계이다.
에칭 공정을 수행하면, 에칭액과 에칭판(300) 사이에 화학 반응이 일어나게 된다. 에칭액은 에칭판 상의 잉크(또는 토너)가 묻은 선을 제외한 부분에 대해서 부식을 발생시킬 수 있다. 따라서, 에칭판(300)에 전사된 지문 형태 중 여백을 형성하는 융선 부분은 부식이 발생되고, 선을 형성하는 골 부분은 남아 있게 된다. 이와 같이 에칭 공정을 거치면서, 에칭판(300)에 전사된 지문 형태가 입체적인 지문 형태를 형성하게 된다. 이때, 에칭판(300)에 선으로 형성되었던 골 부분은 양각으로 형성되고, 에칭판(300)에 여백으로 형성되었던 융선 부분은 음각으로 형성된다.
S400 단계는, 에칭판(300)에 형성된 입체적인 지문 형태를 조형부재(400)로 본뜨는 단계이다.
예를 들어, 조형부재(400)로 실리콘을 사용할 경우에 액체 상태의 실리콘은 에칭판(300)에 양각과 음각으로 형성된 부분과 맞닿게 된다. 시간이 경과함에 따라 실리콘이 굳어지면서, 본을 뜬 실리콘은 에칭판(300)의 음각과 양각이 서로 바뀐 형태로 형성된다. 따라서, 실리콘에는 골 부분이 음각으로 형성되고, 융선 부분이 양각으로 형성되게 된다.
이와 같이 본을 뜬 조형부재(400)에서는 융선이 융기되어 양각으로 형성되어 있고, 골 부분이 패여 있어 음각으로 형성되어 있다. 이는 실제 사람의 손가락에서 융기된 부분이 융선으로 나타나고, 패여 있는 부분이 골로 나타나는 것과 같은 형태로 형성된 구조이다.
S500 단계는, 조형부재(400)에 본을 떠서 형성된 입체적인 지문 형태로부터 인공지문액을 이용하여 대상 표면(550)에 잠재지문을 형성하는 단계이다.
인공지문액은 사람의 땀과 같이 체액과 유사한 성분으로 만드는 것으로, 조형부재(400)에 본을 떠서 형성된 입체적인 지문 형태에 인공지문액을 묻혀서 대상 표면(550)에 그대로 찍어 낼 수 있다. 이는, 사람의 손가락에서 땀이 흘러나와 대상 표면에 잠재지문을 형성하는 것과 동일한 지문 형태를 형성할 수 있다.
현재 사람의 체액 성분과 유사한 인공지문액을 잉크젯 프린터의 잉크로 사용하여 일반 인쇄용 종이나 투명 라벨지상에 잠재지문을 형성하는 방법이 사용되고 있다. 그러나 전술한 바와 같이 본 발명의 실시예들에 따른 잠재지문 현출 실험을 위한 인공적인 잠재지문 생성 방법은, 젤라틴이나 실리콘과 같은 조형부재(400) 상에 실제 사람의 손가락 끝의 지문 형태를 동일하게 형성한 후에, 조형부재(400)에 인공지문액을 묻혀 유리, 골판지, 목재 등의 다양한 대상 표면(550)에 잠재지문을 형성할 수 있다. 평면으로 된 종이에만 지문 형태를 형성하는 것이 아니라, 표면이 매끈하지 않은 금속, 유리, 골판지, 목재 등과 같은 다양한 대상부재(500)의 대상 표면(550)에 잠재지문을 형성할 수 있게 된다.
이와 같이 사람의 손가락 지문을 이용하지 않고 젤라틴이나 실리콘과 같은 조형부재(400)에 지문 형태가 형성되는 경우, 사람의 손가락과는 달리 조형부재(400)에 일정한 힘을 가하여 반복적으로 균일한 형태의 잠재지문을 생성할 수 있게 된다. 이를 통하여, 잠재지문 현출 실험의 신뢰성을 개선할 수 있게 된다.
또한, 사람의 지문을 이용해 실험을 할 때 발생하는 인체 정보에 관한 생명윤리위원회(IRB)의 허가절차를 생략할 수 있어서 실험 절차를 간소화시킬 수 있게 된다.
이와 같이 본 발명의 실시예에 따라, 잠재지문 현출 실험을 더욱 효율적으로 수행할 수 있어 범죄 사건의 효과적인 해결에 기여할 수 있다.
본 발명의 일 측면들은 첨부된 도면에 도시된 실시 예들을 참고로 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시 예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 보호 범위는 첨부된 청구 범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.
100: 프린터
200: 종이
300: 에칭판
400: 조형부재
500: 대상부재
550: 대상 표면

Claims (7)

  1. 대상 표면에 적용하기 위하여 직접적인 사람의 정보를 포함하지 않고 인공적으로 만든 지문 형태를 종이에 인쇄하는 단계;
    상기 지문 형태가 인쇄된 종이에 일정 범위의 열과 압력을 가하여 상기 종이에 인쇄된 지문 형태를 에칭판(etching plate)으로 전사하는 열 전사 단계;
    상기 에칭판에 전사된 지문 형태를 따라 에칭 공정을 수행하여 상기 에칭판에 입체적인 지문 형태를 형성하는 단계;
    상기 에칭판에 형성된 입체적인 지문 형태를 조형부재로 본뜨는 단계; 및
    상기 조형부재에 본을 떠서 형성된 입체적인 지문 형태로부터 인공 지문액을 이용하여 상기 대상 표면에 잠재지문을 형성하는 단계;를 포함하고,
    상기 조형부재는, 젤라틴 또는 실리콘을 포함하고,
    상기 대상 표면이 형성되는 대상부재는, 금속, 유리, 골판지, 또는 목재를 포함하고,
    상기 인공지문액은, 아미노산이 포함된 사람의 체액 성분을 포함하는, 잠재지문 현출 실험을 위한 인공적인 잠재지문 생성 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 지문 형태를 종이에 인쇄하는 단계는,
    레이저 프린터 또는 잉크젯 프린터로 수행되는, 잠재지문 현출 실험을 위한 인공적인 잠재지문 생성 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 열 전사 단계는,
    상기 에칭판이 구리 재질인 경우 200℃ 이상의 가열 온도에서 수행되는, 잠재지문 현출 실험을 위한 인공적인 잠재지문 생성 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 에칭판에 입체적인 지문 형태를 형성하는 단계는,
    상기 에칭판이 구리 재질인 경우, 23% 염산, 35% 과산화수소 및 물이 1:1:1 비율로 혼합된 에칭액을 사용하여 수행되는, 잠재지문 현출 실험을 위한 인공적인 잠재지문 생성 방법.
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
KR1020210051765A 2021-04-21 2021-04-21 잠재지문 현출 실험을 위한 인공적인 잠재지문 생성 방법 KR102646416B1 (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210051765A KR102646416B1 (ko) 2021-04-21 2021-04-21 잠재지문 현출 실험을 위한 인공적인 잠재지문 생성 방법
US17/360,813 US11530487B2 (en) 2021-04-21 2021-06-28 Method of generating artificial latent fingerprints for latent fingerprint development experiments

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210051765A KR102646416B1 (ko) 2021-04-21 2021-04-21 잠재지문 현출 실험을 위한 인공적인 잠재지문 생성 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20220145105A KR20220145105A (ko) 2022-10-28
KR102646416B1 true KR102646416B1 (ko) 2024-03-12

Family

ID=83695185

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210051765A KR102646416B1 (ko) 2021-04-21 2021-04-21 잠재지문 현출 실험을 위한 인공적인 잠재지문 생성 방법

Country Status (2)

Country Link
US (1) US11530487B2 (ko)
KR (1) KR102646416B1 (ko)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100902192B1 (ko) * 2008-07-18 2009-06-10 윤석원 실사무늬가 형성되는 금속판의 제조방법
US20140170321A1 (en) * 2012-12-18 2014-06-19 Whirlpool Corporation Artificial fingerprint material, process of application, and method of evaluating fingerprint resistance qualities of a surface

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4407842A (en) * 1982-04-21 1983-10-04 Shepard Billy H Method and composition for rapidly developing latent fingerprints
US5611279A (en) * 1993-10-02 1997-03-18 Mitsubishi Pencil Kabushiki Kaisha Process of producing a printing plate for a stamp
KR20040011788A (ko) * 2002-07-30 2004-02-11 주식회사 혼쥬얼리 지문이 형성된 장신구 및 그 지문의 형성방법
US7182817B1 (en) * 2005-04-18 2007-02-27 Weaver David E Apparatus and method for developing latent fingerprints
KR101111186B1 (ko) * 2009-07-31 2012-02-16 충남대학교산학협력단 잠재지문 현출제의 현출효능 평가방법
KR101612343B1 (ko) 2015-02-11 2016-04-15 순천향대학교 산학협력단 인공땀을 이용한 인공지문의 제조방법

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100902192B1 (ko) * 2008-07-18 2009-06-10 윤석원 실사무늬가 형성되는 금속판의 제조방법
US20140170321A1 (en) * 2012-12-18 2014-06-19 Whirlpool Corporation Artificial fingerprint material, process of application, and method of evaluating fingerprint resistance qualities of a surface

Also Published As

Publication number Publication date
US11530487B2 (en) 2022-12-20
KR20220145105A (ko) 2022-10-28
US20220342298A1 (en) 2022-10-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3133326B2 (ja) 転写フィルム
CN102776541B (zh) 一种提高铝合金表面二维码耐盐雾腐蚀性的激光标刻方法
DE602005000884D1 (de) Warmeempfindliches reversibles Aufzeichnungsmedium, sowie Verfahren und Vorrichtung zur Bildverarbeitung
WO2002067055A3 (en) Template for room temperature, low pressure micro- and nano-imprint lithography
KR102646416B1 (ko) 잠재지문 현출 실험을 위한 인공적인 잠재지문 생성 방법
KR20100003419A (ko) 초발수 필름 및 이의 제조 방법
JP2004503399A (ja) 型押しされた画像受容面を有するセキュリティ保護されたラミネート構造物
CN107002268A (zh) 用于圆形材料的光学铭刻和/或标记的方法
JPH08216489A (ja) 印版およびその製造方法
US20190030946A1 (en) Method to create 3d holographic and other visual and texture effects on curable cosmetic coatings
GB2119314A (en) Method of recording prints of parts of the body
Chen et al. Beam pen lithography based on arrayed polydimethylsiloxane (PDMS) micro-pyramids spin-coated with carbon black photo-resist
JPH05147395A (ja) 転写シート
KR100353482B1 (ko) 양각 홀로그램 스탬핑 방법
JP4308605B2 (ja) 中間転写印刷方法
JPH0350719B2 (ko)
JPS5835490Y2 (ja) 熱可塑性合成樹脂板を基板とした箔押し転写表示板
JP5863008B2 (ja) 異種材料が接合した重合体、及びその製造方法
JPS5836449A (ja) 塩ビ鋼板の製造方法
JP2006256273A (ja) 記録媒体、印刷物、idカード、記録媒体の製造方法
JPS6318015Y2 (ko)
US664909A (en) Method of making overlays.
JP2000127662A (ja) リライタブルカード
KR860003116A (ko) 인쇄 방법 및 인쇄판
KR200403967Y1 (ko) 지문인장

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant