KR102575896B1 - 실리콘-상용성 화합물 - Google Patents
실리콘-상용성 화합물 Download PDFInfo
- Publication number
- KR102575896B1 KR102575896B1 KR1020187019346A KR20187019346A KR102575896B1 KR 102575896 B1 KR102575896 B1 KR 102575896B1 KR 1020187019346 A KR1020187019346 A KR 1020187019346A KR 20187019346 A KR20187019346 A KR 20187019346A KR 102575896 B1 KR102575896 B1 KR 102575896B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- silicone
- group
- compound
- composition
- formula
- Prior art date
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 92
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 27
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- XRUGBBIQLIVCSI-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trimethylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C)=C1C XRUGBBIQLIVCSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 73
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 72
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 claims description 17
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 15
- -1 CH 3 CH 2 O- Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 11
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000001723 curing Methods 0.000 claims description 9
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 claims description 9
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical group CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims description 5
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 claims description 4
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 4
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 claims description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 21
- 125000004648 C2-C8 alkenyl group Chemical group 0.000 abstract description 17
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 abstract description 17
- GJVFBWCTGUSGDD-UHFFFAOYSA-L pentamethonium bromide Chemical compound [Br-].[Br-].C[N+](C)(C)CCCCC[N+](C)(C)C GJVFBWCTGUSGDD-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 16
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 abstract description 11
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 abstract description 11
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 10
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 abstract description 7
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 abstract description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000047 product Substances 0.000 description 19
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 14
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 8
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical class CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 7
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical group C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 6
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 6
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 6
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 6
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 6
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical group [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000019439 ethyl acetate Nutrition 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 3
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 3
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 3
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 3
- QSDSNNSKORVORL-UHFFFAOYSA-N acetic acid;silver Chemical compound [Ag].CC(O)=O QSDSNNSKORVORL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 3
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 3
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 3
- 229950005499 carbon tetrachloride Drugs 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 3
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 3
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 3
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 3
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 3
- 125000006273 (C1-C3) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229960000549 4-dimethylaminophenol Drugs 0.000 description 2
- SFHYNDMGZXWXBU-LIMNOBDPSA-N 6-amino-2-[[(e)-(3-formylphenyl)methylideneamino]carbamoylamino]-1,3-dioxobenzo[de]isoquinoline-5,8-disulfonic acid Chemical compound O=C1C(C2=3)=CC(S(O)(=O)=O)=CC=3C(N)=C(S(O)(=O)=O)C=C2C(=O)N1NC(=O)N\N=C\C1=CC=CC(C=O)=C1 SFHYNDMGZXWXBU-LIMNOBDPSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 238000005580 one pot reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 230000002730 additional effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006704 dehydrohalogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000003683 electrophilic halogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000012682 free radical photopolymerization Methods 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000006120 scratch resistant coating Substances 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004447 silicone coating Substances 0.000 description 1
- 239000004590 silicone sealant Substances 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 238000007655 standard test method Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/30—Phosphinic acids [R2P(=O)(OH)]; Thiophosphinic acids ; [R2P(=X1)(X2H) (X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/32—Esters thereof
- C07F9/3205—Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
- C07F9/3247—Esters of acids containing the structure -C(=X)-P(=X)(R)(XH) or NC-P(=X)(R)(XH), (X = O, S, Se)
- C07F9/3252—Esters of acids containing the structure -C(=X)-P(=X)(R)(XH) or NC-P(=X)(R)(XH), (X = O, S, Se) containing the structure -C(=X)-P(=X)(R)(XR), (X = O, S, Se)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/50—Organo-phosphines
- C07F9/53—Organo-phosphine oxides; Organo-phosphine thioxides
- C07F9/5337—Phosphine oxides or thioxides containing the structure -C(=X)-P(=X) or NC-P(=X) (X = O, S, Se)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/06—Preparatory processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/06—Preparatory processes
- C08G77/08—Preparatory processes characterised by the catalysts used
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/20—Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
하기 화학식 I에 의해 나타내어진 화합물, 이들 화합물의 제조 방법, 및 광개시제로서의 이들의 용도.
여기서, R1, R2, R3, R4, 및 R5는 동일하거나 상이하고, SIL1-X, 수소, C1-C20 알킬, C2-C8 알케닐, C5-C8 시클로알킬, 페닐 C1-C3 알킬, 및 플루오린으로 이루어진 군으로부터 선택되고; X는 임의적이고, 존재하는 경우 C1-C12 알킬이고; SIL1은 화학식: (R7 SiO3/2)a(R7 2 SiO2/2)b(R7 3 SiO1/2)c를 갖고, 여기서, R7은 C1-C20 알킬, C2-C8 알케닐, C5-C8 시클로알킬, 알콕실, 페닐, 및 페닐 C1-C3 알킬로 이루어진 군으로부터 선택되고; a는 양수이고, b는 0 또는 양수이고, c는 0 또는 양수이고, b/a는 0 내지 100이고, c/a는 0 내지 10이고, 여기서 R1, R2, R3, R4, 및 R5 중 적어도 하나는 SIL1-X이고; R6은 C1-C20 알킬, C2-C8 알케닐, C5-C8 시클로알킬, 페닐, 페닐 C1-C3 알킬, 트리메틸페놀, 및 플루오린으로 이루어진 군으로부터 선택된다.
여기서, R1, R2, R3, R4, 및 R5는 동일하거나 상이하고, SIL1-X, 수소, C1-C20 알킬, C2-C8 알케닐, C5-C8 시클로알킬, 페닐 C1-C3 알킬, 및 플루오린으로 이루어진 군으로부터 선택되고; X는 임의적이고, 존재하는 경우 C1-C12 알킬이고; SIL1은 화학식: (R7 SiO3/2)a(R7 2 SiO2/2)b(R7 3 SiO1/2)c를 갖고, 여기서, R7은 C1-C20 알킬, C2-C8 알케닐, C5-C8 시클로알킬, 알콕실, 페닐, 및 페닐 C1-C3 알킬로 이루어진 군으로부터 선택되고; a는 양수이고, b는 0 또는 양수이고, c는 0 또는 양수이고, b/a는 0 내지 100이고, c/a는 0 내지 10이고, 여기서 R1, R2, R3, R4, 및 R5 중 적어도 하나는 SIL1-X이고; R6은 C1-C20 알킬, C2-C8 알케닐, C5-C8 시클로알킬, 페닐, 페닐 C1-C3 알킬, 트리메틸페놀, 및 플루오린으로 이루어진 군으로부터 선택된다.
Description
본 발명은, 실리콘에 화학적으로 결합된 α-히드록시-알킬페논 모이어티를 기재로 하는 신규한 실리콘-상용성 화합물, 간단한 반응식에 의한 그의 제조, 및 광개시제로서의 그의 용도에 관한 것이다. 본 발명의 화합물은, 광학적으로 투명한 디스플레이 응용물에서의 커버 층에 의해 흡수되지 않는 보다 긴 자외선 광 범위 (UVV) (즉, 약 390 나노미터 이상의 파장)에서 광을 흡수한다. 본 발명의 화합물은 또한 투명하고 실리콘 중에서 고도로 가용성이다. 따라서, 본 발명의 화합물은 불포화 자유-라디칼 경화성 관능기를 갖는 실리콘을 포함하는 조성물의 광경화를 개시하기에 특히 유용하다. 본 발명의 화합물은, 그의 현저한 안정성으로 인해, 헤이징(hazing) 또는 황변을 일으키지 않고, 예를 들어 광학적으로 투명한 실리콘 실란트 및 코팅 및 광학적으로 투명한 디스플레이의 제조에 사용될 수 있다.
라디칼 반응의 경향이 있는 관능기를 포함하는 단량체 또는 올리고머의 광유도된 광중합은 중합체의 제조에서 폭넓게 사용되는 기술이다. 반응을 개시하기 위해, 통상적으로 단량체 또는 올리고머에 광개시제를 첨가하고, 이어서 혼합물을 전자기 방사선에 노출시킨다. 불포화 유기 수지 중에서 용이하게 가용성이고 이들을 효과적으로 경화시키는 많은 광개시제가 이용가능하다. 그러나, 이들 광개시제 중 다수는 실리콘 중에서 불량한 용해도를 갖고, 따라서 만족스럽지 않은 경화 유효성을 갖는다. 이러한 광개시제는 저장 동안 실리콘 매트릭스로부터 분리되어, 생성된 임의의 경화 생성물에서 심각한 헤이즈(haze)를 일으킨다. 이는, 생성물이 광학적으로 투명한 디스플레이 응용물에 사용되도록 의도되는 경우, 허용가능하지 않다. 실리콘 중 용해도 및 그에 따른 실리콘과의 상용성을 증가시키기 위해, 광개시제를 오르가노폴리실록산 또는 실란과 화학적으로 결합시키는 것이 제안되었다.
미국 특허 번호 4,273,907은, 오르가노폴리실록산 분자의 규소 원자에 화학적으로 결합된 적어도 하나의 벤조인 기를 포함하는 신규한 부류의 오르가노폴리실록산 화합물을 개시한다. 이러한 화합물은, 적합한 반응 촉진제 또는 축합 촉매의 존재 하에, 규소-결합된 할로겐 원자, 수소 원자, 히드록실 기 또는 알콕시 기를 갖는 상응하는 오르가노폴리실록산과 벤조인 화합물 사이의 탈할로겐화수소화, 탈수소화, 탈수 또는 탈알콜화 축합 반응에 의해 제조될 수 있다. 이들은 실리콘 조성물 중에서 가용성이고, 광경화성 오르가노폴리실록산 조성물에서 감광제로서 유용하다. 그러나, 화합물은 충분한 안정성을 나타내지 않고, 보다 장기간에 걸쳐 열 및/또는 UV 방사선에 노출시 황변을 일으키는 경향이 있다. 따라서, 이들은 고성능 투명 코팅, 캡슐화제 또는 실란트에 사용되기에 적합하지 않다.
미국 특허 번호 4,391,963은 또한, 적어도 하나의 화학적으로 결합된 벤조인 기를 갖는 오르가노폴리실록산 화합물인 신규한 감광제를 개시한다. 그러나, 여기서, 화합물은 알케닐-치환된 벤조인 및 적어도 하나의 규소-결합된 수소 원자를 함유하는 규소 화합물의 히드로실릴화에 의해 제조된다. 따라서, 오르가노폴리실록산 모이어티 및 벤조인 기는 2가 탄화수소 기를 통해 결합된다. 이는 가수분해에 대한 증가된 안정성을 제공하지만, 알케닐-치환된 벤조인이 용이하게 이용가능하지 않으면서 별도의 반응 단계에서 합성되어야 하기 때문에 비교적 정교한 제조 공정을 필요로 한다.
미국 특허 번호 4,536,265는 또한, 오르가노폴리실록산 광개시제를 개시한다. 분자 당 적어도 하나의 실록산 단위는 2 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 2가 탄화수소 기를 통해 실록산 단위의 규소 원자에 결합된 아세토페논 포토모이어티를 포함한다. 이러한 결합 기는 가수분해에 대하여 높은 안정성을 나타낸다. 그러나, 알케닐-치환된 아세토페논은 용이하게 이용가능하지 않으면서 별도의 반응 단계에서 합성되어야 하고, 이는 오르가노폴리실록산 광개시제를 제조하는 전체적 공정을 복잡하게 만든다. 또한, 아세토페논 모이어티는 보다 장기간에 걸쳐 열 및/또는 UV 방사선에 노출시 황변을 일으키는 경향이 있다.
미국 특허 번호 5,776,658은, 광개시제 또는 감광제 활성 중 하나 이상을 갖고 방향족 핵 상에 위치한 적어도 하나의 카르보닐 기를 갖는 화합물의 화학적으로 결합된 라디칼을 갖는 실란 또는 오르가노폴리실록산 잔기를 포함하는 실리콘-상용성 광개시제를 기재한다. 또한, 실란 또는 오르가노폴리실록산 잔기 및 포토모이어티의 결합은 2가 탄화수소 기를 통해 달성된다. 이러한 2가 탄화수소 기는, 포토모이어티의 카르보닐 기에 대해 오르토에 위치하는 방향족 탄소 원자에 부착된다. 광개시제는 가수분해에 대하여 우수한 안정성을 나타낸다. 실시예는, 1-포트(one-pot) 반응을 통한 광개시제의 제조를 개시한다. 그러나, 생성된 생성물 혼합물은 농축되고 크로마토그래피에 의해 후처리(working up)되어야 한다. 따라서, 전체적 공정이 복잡하고 시간-소모적이다. 또한, 광개시제의 수율이 다소 낮으며, 예를 들어 실시예 5에서 단지 17%이다.
EP 1072326 A2는, 배합물의 표면 상에 농축된 실록산-함유 표면-활성 광개시제를 제공한다. 이들 광개시제는, 에틸렌계 화합물을 함유하는 배합물로부터 내스크래치성 코팅을 제조하는 방법에 사용된다. 포토모이어티는 브릿징 단위 (Y)를 통해 실록산 잔기의 규소 원자에 연결된 방향족 고리를 포함한다. 이들 광개시제의 표면-활성 특성으로 인해, 이들은 배합물 전반에 걸쳐 균질하게 분포되지 않을 것이고, 따라서 고성능 투명 코팅, 캡슐화제 또는 실란트에 적합하지 않다.
미국 특허 출원 공개 번호 2015/0266907은, 간단한 1-단계 반응을 통해 용이하게 이용가능한 출발 물질로부터 제조되는 실리콘-상용성 광개시제를 제공한다. 이들 광개시제는 광경화성 실리콘 중에서 고도로 가용성이고, 임의의 경화 생성물의 황변을 피하도록 열 응력, UV 방사선 및 가수분해에 대하여 안정적이다. 그러나, 이들 광개시제는 보다 짧은 자외선 광 범위 (즉, 390 나노미터 미만의 파장)에서 광을 흡수한다. 광학적으로 투명한 디스플레이의 커버 층은, 이들 보다 짧은 파장이 커버 층 사이에 위치하는 광경화성 실리콘으로 투과하는 것을 방해할 수 있다. 따라서, 이들 광개시제는, 광학적으로 투명한 디스플레이 응용물에 사용시 광경화성 실리콘의 경화를 촉진시키기에 덜 효과적일 수 있다.
투명하고 광경화성 실리콘 중에서 고도로 가용성이며, 경화 생성물의 헤이징 및 황변을 피하도록 열 응력, UV 방사선 및 가수분해에 대하여 안정적이며, 약 390 나노미터 이상의 자외선 파장이 광경화성 실리콘의 경화를 개시하기에 효과적인 화합물을 제조하고 사용하는 것이 유리할 것이다.
본 발명은, 간단한 반응식을 통해 용이하게 이용가능한 출발 물질로부터 접근가능한, 실리콘-상용성 광개시제로서 작용할 수 있는 신규한 화합물을 제공한다. 이들은 투명하고 광경화성 실리콘 중에서 고도로 가용성이며, 이러한 광개시제를 포함하는 임의의 경화 생성물의 헤이징 및 황변을 피하도록 열 응력, UV 방사선 및 가수분해에 대하여 안정적이다. 또한, 본 발명의 화합물은 실리콘 측쇄의 포함으로 인해, 경화 동안 소분자 부산물을 생성시키지 않는다. 따라서, 본 발명의 화합물은 경화 생성물의 헤이징 및 황변에 기여하지 않는다. 이러한 화합물은, 예를 들어, 광학적으로 투명한 디스플레이의 제조에서 광개시제로서 특히 유용하다.
광학적으로 투명한 디스플레이의 커버 층은 종종 자외선 광의 보다 짧은 파장 (즉, 390 나노미터 미만의 파장)을 흡수한다. 그러나, 본 발명의 신규한 실리콘-상용성 화합물은 자외선 광의 보다 긴 파장 (UVV) (즉, 약 390 나노미터 이상의 파장)을 흡수한다. 따라서, 이러한 추가의 특성은, 본 발명의 화합물을 광학적으로 투명한 디스플레이의 제조에서 광개시제로서 특히 유용하게 만든다.
본 발명자들은, 페닐 기에서 실리콘 측쇄에 결합된 α-히드록시-알킬페논 포토모이어티를 기재로 하는 특정한 화합물이 요망되는 특성을 제공함을 발견하였다.
본 발명의 하나의 측면에서는, 하기 화학식 I에 의해 나타내어진 화합물이 제공된다.
여기서,
R1, R2, R3, R4, 및 R5는 동일하거나 상이하고, SIL1-X, 수소, C1-C20 알킬, C2-C8 알케닐, C5-C8 시클로알킬, 페닐 C1-C3 알킬, 및 플루오린으로 이루어진 군으로부터 선택되고;
X는 임의적이고, 존재하는 경우 C1-C12 알킬이고;
SIL1은 화학식: (R7 SiO3/2)a(R7 2 SiO2/2)b(R7 3 SiO1/2)c를 갖고,
여기서,
R7은 C1-C20 알킬, C2-C8 알케닐, C5-C8 시클로알킬, 알콕실, 페닐, 및 페닐 C1-C3 알킬로 이루어진 군으로부터 선택되고;
a는 양수이고,
b는 0 또는 양수이고,
c는 0 또는 양수이고,
b/a는 0 내지 100이고,
c/a는 0 내지 10이고,
여기서 R1, R2, R3, R4, 및 R5 중 적어도 하나는 SIL1-X이고;
R6은 C1-C20 알킬, C2-C8 알케닐, C5-C8 시클로알킬, 페닐, 페닐 C1-C3 알킬, 트리메틸페놀, 및 플루오린으로 이루어진 군으로부터 선택된다.
본 발명의 또 다른 측면에서는, 하기 화학식 I에 의해 나타내어진 화합물을 합성하는 방법이며,
여기서,
R1, R2, R3, R4, 및 R5는 동일하거나 상이하고, SIL1-X, 수소, C1-C20 알킬, C2-C8 알케닐, C5-C8 시클로알킬, 페닐 C1-C3 알킬, 및 플루오린으로 이루어진 군으로부터 선택되고;
X는 임의적이고, 존재하는 경우 C1-C12 알킬이고;
SIL1은 화학식: (R7 SiO3/2)a(R7 2 SiO2/2)b(R7 3 SiO1/2)c를 갖고,
여기서,
R7은 C1-C20 알킬, C2-C8 알케닐, C5-C8 시클로알킬, 알콕실, 및 페닐 C1-C3 알킬로 이루어진 군으로부터 선택되고;
a는 양수이고,
b는 0 또는 양수이고,
c는 0 또는 양수이고,
b/a는 0 내지 100이고,
c/a는 0 내지 10이고,
여기서 R1, R2, R3, R4, 및 R5 중 적어도 하나는 SIL1-X이고;
R6은 C1-C20 알킬, C2-C8 알케닐, C5-C8 시클로알킬, 페닐, 페닐 C1-C3 알킬, 트리메틸페놀, 및 플루오린으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인,
1) 화학식 A의 화합물을 활성화시켜 화학식 B의 화합물을 생성시키는 단계,
(여기서, R1, R2, R3, R4, 및 R5는 상기와 같지만, 어떠한 것도 SIL1-X일 수는 없음)
2) 화학식 B의 화합물을 친핵성 아세테이트 치환 반응에 적용하여 화학식 C의 화합물을 생성시키는 단계,
3) 화학식 C의 화합물을 가수분해 반응에 적용하여 화학식 D의 화합물을 생성시키는 단계, 및
4) 화학식 D의 화합물을 화학식 SIL1-X-Cl 또는 SIL1-X-H를 갖는 화합물과의 축합 반응에 적용하여 화학식 I의 화합물을 생성시키는 단계
를 포함하는, 화학식 I에 의해 나타내어진 화합물을 합성하는 방법이 제공된다.
본 발명의 추가의 측면에서는,
a) 약 70 내지 약 99.9 중량 퍼센트의 광경화성 실리콘; 및
b) 약 0.1 내지 약 10.0 중량 퍼센트의 하기 화학식 I에 의해 나타내어진 화합물
을 포함하는 조성물이며,
여기서,
R1, R2, R3, R4, 및 R5는 동일하거나 상이하고, SIL1-X, 수소, C1-C20 알킬, C2-C8 알케닐, C5-C8 시클로알킬, 페닐 C1-C3 알킬, 및 플루오린으로 이루어진 군으로부터 선택되고;
X는 임의적이고, 존재하는 경우 C1-C12 알킬이고;
SIL1은 화학식: (R7 SiO3/2)a(R7 2 SiO2/2)b(R7 3 SiO1/2)c를 갖고,
여기서,
R7은 C1-C20 알킬, C2-C8 알케닐, C5-C8 시클로알킬, 알콕실, 페닐, 및 페닐 C1-C3 알킬로 이루어진 군으로부터 선택되고;
a는 양수이고,
b는 0 또는 양수이고,
c는 0 또는 양수이고,
b/a는 0 내지 100이고,
c/a는 0 내지 10이고,
여기서 R1, R2, R3, R4, 및 R5 중 적어도 하나는 SIL1-X이고;
R6은 C1-C20 알킬, C2-C8 알케닐, C5-C8 시클로알킬, 페닐, 페닐 C1-C3 알킬, 트리메틸페놀, 및 플루오린으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인
조성물이 제공된다.
본 발명의 또 다른 측면에서는,
A) i) 약 70 내지 약 99.9 중량 퍼센트의 광경화성 실리콘; 및
ii) 약 0.1 내지 약 10.0 중량 퍼센트의 하기 화학식 I에 의해 나타내어진 화합물
을 포함하는 광경화성 실리콘 조성물을 제공하는 단계이며,
여기서,
R1, R2, R3, R4, 및 R5는 동일하거나 상이하고, SIL1-X, 수소, C1-C20 알킬, C2-C8 알케닐, C5-C8 시클로알킬, 페닐 C1-C3 알킬, 및 플루오린으로 이루어진 군으로부터 선택되고;
X는 임의적이고, 존재하는 경우 C1-C12 알킬이고;
SIL1은 화학식: (R7 SiO3/2)a(R7 2 SiO2/2)b(R7 3 SiO1/2)c를 갖고,
여기서,
R7은 C1-C20 알킬, C2-C8 알케닐, C5-C8 시클로알킬, 알콕실, 페닐, 및 페닐 C1-C3 알킬로 이루어진 군으로부터 선택되고;
a는 양수이고,
b는 0 또는 양수이고,
c는 0 또는 양수이고,
b/a는 0 내지 100이고,
c/a는 0 내지 10이고,
여기서 R1, R2, R3, R4, 및 R5 중 적어도 하나는 SIL1-X이고;
R6은 C1-C20 알킬, C2-C8 알케닐, C5-C8 시클로알킬, 페닐, 페닐 C1-C3 알킬, 트리메틸페놀, 및 플루오린으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 단계; 및
B) 광경화성 실리콘 조성물을 자외 방사선 또는 가시 광에 노출시켜 광경화성 실리콘 조성물의 광경화를 개시하여 실리콘 중합체 생성물을 생성시키는 단계
를 포함하는, 실리콘 중합체 생성물을 제조하는 방법이 제공된다.
본 발명에 따른 화합물은 광개시제로서 사용될 수 있고, 광경화성 실리콘을 기재로 하는 조성물에 사용되는 경우에 특히 효과적이다.
본 발명의 화합물에서 SIL1-X 기는 하기 화학식에 의해 나타내어진다.
R7 SiO3/2)a(R7 2 SiO2/2)b(R7 3 SiO1/2)c
여기서, R7은 C1-C20 알킬, C2-C8 알케닐, C5-C8 시클로알킬, 알콕실, 페닐, 또는 페닐 C1-C3 알킬 기이다. 또한, a는 양수이고, b는 0 또는 양수이고, c는 0 또는 양수이고, b/a는 0 내지 100이고, c/a는 0 내지 10이다. X는 임의적이고, 존재하는 경우 C1-C12 알킬 기이다.
바람직하게는, X는 존재하지 않고, R7은 메틸 기 또는 메톡시 기이고, a는 1이고, b는 0이고, c는 2 또는 3이다.
본 발명의 화합물은 R1 내지 R5에 각각 하나씩 최대 5개의 SIL1-X 기를 함유할 수 있다. 바람직하게는, 본 발명의 화합물은 R1, R2, 또는 R3 중 하나 이상에서 1, 2, 또는 3개의 SIL1-X 기를 함유한다. 하나의 실시양태에서, 본 발명의 화합물은 R3에서 단일 SIL1-X 기를 함유한다. 바람직하게는, SIL1-X 기로 점유되지 않는 경우, R1 및 R5는 메틸 기이고, R2 및 R4는 수소이다.
본 발명에 따른 화합물은, R3이 SIL1-X이고, SIL1-X가
이고, R1 및 R5가 메틸 기이고, R2 및 R4가 수소인 경우에 유리한 특성을 나타낸다.
R6은 C1-C20 알킬 기, C2-C8 알케닐 기, C5-C8 시클로알킬 기, 페닐 기, 페닐 C1-C3 알킬 기, 트리메틸페놀 기, 또는 플루오린이다. 바람직하게는, R6은 페닐 기, CH3CH2O-, 또는 트리메틸페놀 기이다.
본 발명에 따른 화합물은, R3이 SIL1-X이고, SIL1-X가
이고, R1 및 R5가 메틸 기이고, R2 및 R4가 수소이고, R6이 페닐 기, CH3CH2O-, 또는 트리메틸페놀 기인 경우에 특히 유리한 특성을 나타낸다.
바람직하게는, 본 발명의 화합물은 하기 중 하나이다.
이들 화합물은 단독으로 또는 조합되어 본 발명의 조성물 및 방법에 사용될 수 있다.
본 발명의 화합물은, 생성될 수 있는 가능한 실리콘-상용성 광개시제에서의 다양성을 가능하게 하도록 맞춤화가능한 4-단계 공정을 통해 합성될 수 있다. 4개의 합성 단계는 일반적으로 하기와 같이 기재될 수 있다:
단계 1) 친전자성 할로겐화를 통한 페닐 기에 대한 브로민의 첨가에 의해 α-히드록시-알킬페논 출발 물질의 페닐 기를 활성화시키는 단계;
단계 2) 이어서, 친핵성 아세테이트 치환 반응에 의해 브로민을 아세테이트로 치환하는 단계;
단계 3) 이어서, 가수분해 반응을 통해 아세테이트를 히드록시 기로 가수분해시키는 단계; 및
단계 4) 이어서, 축합 반응을 통해 실리콘 측쇄를 α-히드록시-알킬페논의 페닐 기에 부착시켜 본 발명의 화합물을 생성시키는 단계.
본 발명의 화합물의 합성에 대한 반응식은 일반적으로 하기와 같이 나타내어질 수 있다:
본 발명의 화합물의 합성에 대한 바람직한 일반적 파라미터는 표 1에 제시되어 있다.
표 1
바람직하게는, 본 발명의 화합물의 합성에 대한 출발 물질은 α-히드록시-알킬페논이고, 그의 예는 화학식 A의 화합물에 의해 나타내어질 수 있다.
여기서, R1, R2, R3, R4, 및 R5는 본 발명의 화합물 (상기에 기재된 바와 같음)에서와 동일하지만, 어떠한 것도 SIL1-X일 수는 없고, R6은 본 발명의 화합물에서와 동일하다.
바람직하게는, R1, R2, R3, R4, 및 R5는 독립적으로 수소 또는 메틸 기이다. 바람직한 출발 물질에서, R1, R3, 및 R5는 메틸 기이고, R2 및 R4는 수소이다. 바람직하게는, 출발 물질에서 R6은 페닐 기, CH3CH2O-, 또는 트리메틸페놀 기이다.
바람직한 출발 물질은 하기 화합물을 포함한다.
본 발명의 추가의 측면은 광개시제로서의 이들 화합물의 용도이다. 본 발명의 특정한 측면은, 본 발명에 따른 화합물을 광경화성 실리콘, 예컨대 광중합성 오르가노폴리실록산 또는 실리콘 수지와 혼합하는 단계, 및 생성된 혼합물을 전자기 방사선에 노출시키는 단계를 포함하는, 본 발명에 따른 화합물을 광개시제로서 사용하는 방법이다.
광경화성 실리콘에 대해 특별한 제한은 없지만, 단독으로 또는 주로 (메트)아크릴옥시실록산, 예를 들어 (메트)아크릴 말단캡핑된 실라놀 종결 폴리디메틸실록산을 기재로 하는 조성물에, 본 발명에 따른 화합물을 첨가하는 것이 바람직한데, 이는 이러한 혼합물을 광경화시키면 약 2 미만, 바람직하게는 약 1 미만의 헤이즈 정도, 약 2 미만, 바람직하게는 약 1 미만의 황변 정도를 갖고 매우 우수한 열, 가수분해 및 UV 안정성을 나타내는 생성물이 생성되기 때문이다. 바람직하게는, 광경화성 실리콘은 오르가노폴리실록산 또는 실리콘 수지, (메트)아크릴 말단캡핑된 실리콘, (메트)아크릴옥시실록산, 또는 (메트)아크릴 말단캡핑된 실라놀 종결 폴리디메틸실록산이다.
유용한 전자기 방사선은, 라디칼 형성을 유발하고, 따라서 광경화성 실리콘의 자유-라디칼 광중합을 개시하는 임의의 방사선이다. 이러한 전자기 방사선의 일례는 UVV 방사선 (약 390 나노미터 이상의 파장의 자외선 광)이다.
본 발명의 추가의 측면은, a) 적어도 하나의 광경화성 실리콘 및 b) 본 발명에 따른 화합물을 포함하는 조성물이다. 바람직하게는, 광경화성 실리콘은 오르가노폴리실록산 또는 실리콘 수지, (메트)아크릴 말단캡핑된 실리콘, (메트)아크릴옥시실록산, 또는 (메트)아크릴 말단캡핑된 실라놀 종결 폴리디메틸실록산이다. 바람직한 광경화성 실리콘은 자외선 경화성 오르가노실리콘 및 자외선 및 수분 이중 경화 실리콘을 포함한다.
이러한 조성물 중 본 발명에 따른 화합물의 양은 폭넓은 한계 내에서 달라질 수 있다. 바람직하게는, 본 발명의 조성물은 본 발명에 따른 화합물 또는 본 발명에 따른 여러 화합물의 혼합물을, 조성물의 중량을 기준으로 하여 0.1 내지 30 중량%, 바람직하게는 0.2 내지 15 중량%, 보다 바람직하게는 0.5 내지 10 중량%의 총량으로 포함한다. 나머지는 일반적으로 단독으로 또는 주로 광경화성 실리콘으로 이루어진다.
본 발명의 또한 또 다른 측면은, a) 적어도 하나의 광경화성 실리콘 및 b) 본 발명에 따른 화합물을 포함하는 조성물을 전자기 방사선에 노출시켜 광경화를 개시하여 실리콘 중합체 생성물을 생성시키는 것에 의해, 실리콘 중합체 생성물을 제조하는 방법이다. 바람직하게는, 전자기 방사선은 UVV 방사선 (약 390 나노미터 이상의 파장의 자외선 광), 보다 바람직하게는 약 405 나노미터의 파장의 자외 방사선이다.
바람직한 실시양태에서, 실리콘 중합체 생성물을 제조하는 방법은, 광경화 개시 전에, 광경화성 실리콘 조성물을 광학적으로 투명한 조성물의 적어도 1개의 층과 접촉하도록 배치하는 추가의 단계를 포함한다. 따라서, 광경화성 실리콘 조성물의 경화시, 실리콘 중합체 생성물이 광학적으로 투명한 디스플레이에 사용하기에 적합하다. 바람직하게는, 본 발명의 실리콘 중합체 생성물을 제조하는 방법은, 광경화 개시 전에, 광경화성 실리콘 조성물을 광학적으로 투명한 조성물의 2개의 층 사이에 배치하는 단계를 포함한다.
본 발명의 방법에 사용하기 위한 광학적으로 투명한 조성물은 약 95% 초과, 바람직하게는 약 98% 초과, 훨씬 더 바람직하게는 약 99% 초과의 가시 광 투과율을 제공하는 임의의 물질을 포함한다. 바람직하게는, 광학적으로 투명한 조성물은 유리이다.
바람직하게는, 본 발명의 중합체 생성물은 탁월한 투명성을 나타내고, 장기간의 노화(aging)에 직면하여도 이러한 투명성을 유지한다. 바람직하게는, 본 발명의 실리콘 중합체 생성물은, QUV 시험 기계에서 500시간 동안 노화시 또는 85℃ 및 85% 상대 습도에서 오븐 내에서 500시간 동안 노화시, 광학적으로 투명한 조성물의 층 사이의 750 마이크로미터의 갭에서, 약 2 이하, 보다 바람직하게는 약 1 이하의 헤이즈 값, 및 약 2 이하, 보다 바람직하게는 약 1 이하의 황색도 값을 갖는다. 바람직하게는, 본 발명의 실리콘 중합체 생성물은 약 95% 초과, 바람직하게는 약 98% 초과, 훨씬 더 바람직하게는 약 99% 초과의 가시 광 투과율을 제공한다.
하기에, 일련의 실시예를 사용하여 본 발명의 특정한 측면을 설명하지만, 본 발명은 어떠한 방식으로든 하기에 제공된 실시예로 제한되지는 않는다.
실시예
합성예 1
단계 1:
다로큐어(Darocur) TPO (17.5 g, 50.3 mmol), N-브로모숙신이미드 (12.5 g, 70.4 mmol), AIBN (201 mg), 및 테트라클로로메탄 (100 ml)의 혼합물을 250 ml 3구 플라스크 내에 충전시키고, 80℃에서 5시간 동안 아르곤 하에 환류시켰다. 반응 혼합물을 냉각 후 여과하였다. 여액을 증발시켜 조 생성물을 수득하였다.
단계 2:
단계 1의 조 생성물 (추가 정제 없이), 아세트산은 (10.07 g, 60.35 mmol), 및 150 ml 빙초산의 혼합물을 500 ml 3구 플라스크 내에 충전시키고, 100℃에서 3시간 동안 아르곤 하에 환류시켰다. 혼합물을 여과하고, 여액에 500 ml의 물을 첨가하였다. 생성된 혼합물을 CH2Cl2 (50 ml)로 3회 추출하였다. 합한 유기 층을 50 ml의 물로 세척하고, 무수 Na2SO4 상에서 건조시키고, 용매를 감압 하에 제거하였다. 조 생성물을 칼럼 크로마토그래피 (헥산 중 50% EtOAc)로 정제하여 7.4 g의 중간체 화합물 (단계 1 및 2를 합하여 36% 수율)을 생성시켰다.
단계 3:
정제된 단계 2의 중간체 (7.4 g, 18.2 mmol), THF (44 ml), HCl (10.5 ml), 및 물 (52 ml)의 혼합물을 250 ml 3구 플라스크 내에 충전시키고, 80℃에서 밤새 아르곤 하에 환류시켰다. THF를 감압 하에 제거하고, 15 ml의 물을 첨가하였다. 생성된 혼합물을 CH2Cl2 (30 ml)로 3회 추출하였다. 합한 유기 층을 10 ml의 물로 세척하였다. 이어서, 유기 층을 무수 Na2SO4 상에서 건조시키고, 용매를 증발시켰다. 상기 조 생성물 (9.1 g, 황색 고체)을 다음 단계에서 추가 정제 없이 사용하였다.
단계 4:
CH2Cl2 (100 ml) 중의 단계 3의 조 생성물 (9 g, 24.7 mmol), 이미다졸 (3.36 g, 49.4 mmol), 및 DMAP (40 mg)의 용액을 250 ml 3구 플라스크 내에 충전시키고, ClSi(CH3SiO)3 (9.82 g, 29.63 mmol)을 첨가하였다. 혼합물을 실온에서 밤새 아르곤 하에 교반하였다. 물 첨가에 의해 반응을 켄칭시켰다. 수성 상을 CH2Cl2 (20 ml)로 3회 추출하였다. 합한 유기 상을 물 및 염수로 세척하였다. 유기 상을 무수 Mg2SO4로 건조시켰다. 감압 하에 용매 제거 후, 잔류물을 칼럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 10.98 g의 본 발명의 화합물 (67% 수율, 밝은 황색 고체)을 생성시켰다.
합성예 2
단계 1:
화합물 A2 (상기) (12.65 g, 40.0 mmol), N-브로모숙신이미드 (8.54 g, 48.0 mmol), AIBN (160.0 mg), 및 테트라클로로메탄 (80 ml)의 혼합물을 250 ml 3구 플라스크 내에 충전시키고, 80℃에서 5시간 동안 아르곤 하에 환류시켰다. 반응 혼합물을 냉각 후 여과하였다. 여액을 증발시켜 조 생성물을 수득하였다.
단계 2:
단계 1의 조 생성물 (추가 정제 없이), 아세트산은 (8.01 g, 48.0 mmol), 및 100 ml 빙초산의 혼합물을 250 ml 3구 플라스크 내에 충전시키고, 120℃에서 3시간 동안 아르곤 하에 환류시켰다. 혼합물을 여과하고, 여액에 500 ml의 물을 첨가하였다. 생성된 혼합물을 CH2Cl2 (50 ml)로 3회 추출하였다. 합한 유기 층을 50 ml의 물로 세척하고, 무수 Na2SO4 상에서 건조시키고, 용매를 감압 하에 제거하였다. 조 생성물을 칼럼 크로마토그래피 (헥산 중 50% EtOAc)에 의해 정제하여 6.18 g의 중간체 화합물 (단계 1 및 2를 합하여 41% 수율)을 생성시켰다.
단계 3:
정제된 단계 2의 중간체 (6.18 g, 16.5 mmol), THF (40 ml), HCl (9.5 ml), 및 물 (47 ml)의 혼합물을 250 ml 3구 플라스크 내에 충전시키고, 80℃에서 밤새 아르곤 하에 환류시켰다. THF를 감압 하에 제거하고, 15 ml의 물을 첨가하였다. 생성된 혼합물을 CH2Cl2 (30 ml)로 3회 추출하였다. 합한 유기 층을 10 ml의 물로 세척하였다. 이어서, 유기 층을 무수 Na2SO4 상에서 건조시키고, 용매를 증발시켰다. 상기 조 생성물 (4.8 g, 황색 액체)을 다음 단계에서 추가 정제 없이 사용하였다.
단계 4:
CH2Cl2 (60 ml) 중의 단계 3의 조 생성물, 이미다졸 (2.24 g 33.5 mmol), DMAP (25 mg)의 용액을 250 ml 3구 플라스크 내에 충전시키고, ClSi(CH3SiO)3 (8.2 g, 27.4 mmol)을 첨가하였다. 혼합물을 실온에서 밤새 아르곤 하에 교반하였다. 물 첨가에 의해 반응을 켄칭시켰다. 수성 상을 CH2Cl2 (20 ml)로 3회 추출하였다. 합한 유기 상을 물 및 염수로 세척하였다. 유기 상을 무수 Mg2SO4로 건조시켰다. 감압 하에 용매 제거 후, 잔류물을 칼럼 크로마토그래피 (헥산 중 20% EtOAc)로 정제하여 4.76 g의 본 발명의 화합물 (45% 수율, 밝은 황색 액체)을 생성시켰다.
합성예 3
단계 1:
화합물 A2 (상기) (12.65 g, 40.0 mmol), N-브로모숙신이미드 (8.54 g, 48.0 mmol), AIBN (160.0 mg), 및 테트라클로로메탄 (80 ml)의 혼합물을 250 ml 3구 플라스크 내에 충전시키고, 80℃에서 5시간 동안 아르곤 하에 환류시켰다. 반응 혼합물을 냉각 후 여과하였다. 여액을 증발시켜 조 생성물을 수득하였다.
단계 2:
단계 1의 조 생성물 (추가 정제 없이), 아세트산은 (8.01 g, 48.0 mmol), 및 100 ml 빙초산의 혼합물을 250 ml 3구 플라스크 내에 충전시키고, 120℃에서 3시간 동안 아르곤 하에 환류시켰다. 혼합물을 여과하고, 여액에 500 ml의 물을 첨가하였다. 생성된 혼합물을 CH2Cl2 (50 ml)로 3회 추출하였다. 합한 유기 층을 50 ml의 물로 세척하고, 무수 Na2SO4 상에서 건조시키고, 용매를 감압 하에 제거하였다. 조 생성물을 칼럼 크로마토그래피 (헥산 중 50% EtOAc)에 의해 정제하여 6.18 g의 중간체 화합물 (단계 1 및 2를 합하여 41% 수율)을 생성시켰다.
단계 3:
정제된 단계 2의 중간체 (6.18 g, 16.5 mmol), THF (40 ml), HCl (9.5 ml), 및 물 (47 ml)의 혼합물을 250 ml 3구 플라스크 내에 충전시키고, 80℃에서 밤새 아르곤 하에 환류시켰다. THF를 감압 하에 제거하고, 15 ml의 물을 첨가하였다. 생성된 혼합물을 CH2Cl2 (30 ml)로 3회 추출하였다. 합한 유기 층을 10 ml의 물로 세척하였다. 이어서, 유기 층을 무수 Na2SO4 상에서 건조시키고, 용매를 증발시켰다. 상기 조 생성물 (4.8 g, 황색 액체)을 다음 단계에서 추가 정제 없이 사용하였다.
단계 4:
톨루엔 (40 ml) 중의 단계 3의 조 생성물 (3.0 g, 9.0 mmol), 이미다졸 (1.36 g, 20.0 mmol), 및 DMAP (20 mg)의 용액을 250 ml 3구 플라스크 내에 충전시키고, (CH3SiO)2SiCH3H (18.0 mmol)를 첨가하였다. 혼합물을 실온에서 밤새 아르곤 하에 교반하였다. 물 (30 ml) 첨가에 의해 반응을 켄칭시켰다. 수성 상을 CH2Cl2 (30 ml)로 3회 추출하였다. 합한 유기 상을 물 및 염수로 세척하였다. 유기 상을 무수 Mg2SO4로 건조시켰다. 감압 하에 용매 제거 후, 잔류물을 칼럼 크로마토그래피 (PE:EA = 5:1)로 정제하여 3.55 g의 본 발명의 화합물 (71% 수율, 밝은 황색 액체)을 생성시켰다.
실시예 4
광개시제의 평가
상기 실시예 2 및 3의 화합물 및 비교용 광개시제 다로큐어 TPO 및 SPI-7을, 적용가능한 경화 개시 광원, UV 저항성, 황변 방지, 헤이즈 방지 특성에 대해 평가하였다. 다로큐어 TPO는 경화를 위해 UVV 방사선과 함께 사용되는 것으로 공지된 광개시제이다. SPI-7은 실리콘 치환된 UVA 광개시제이다. 각각의 화합물의 구조를 하기에 나타내었다.
실시예 2의 화합물:
실시예 3의 화합물:
다로큐어 TPO:
SPI-7:
사용된 기재는 아크릴레이트 실리콘 매트릭스 (15MDMA:60DMA = 6.4)였다. 광개시제를 각각 별도로 기재와 혼합하였다. 이어서, 이들 혼합물을 750 마이크로미터 떨어져 있는 유리의 2개의 층 사이에 배치하고, 자외선 광에 노출시켰다. 경화의 개시를, 경화를 유발하기 위해 중압 수은 아크 (MPMA) 시스템 UV 챔버를 30초 동안 75 mW/cm2로 2회 사용하여 UV 방사선으로 평가하였다. 별도로, 경화 개시를 또한, 405 나노미터 LED 광원을 사용하여 평가하였다.
경화 후, 샘플을 QUV 시험 기계에서 500시간 동안 노화시켰다. 노화 후, ASTM D1003 표준 시험 방법에 따라, 데이터컬러 코포레이션(Datacolor Corporation)으로부터 입수가능한 데이터컬러(Datacolor) 650 장치를 사용하여 각각의 샘플의 헤이징 및 황변을 측정하였다.
경화를 개시할 수 있는 광원(들) 및 헤이징 및 황변에 대한 결과는 표 2에 보고되어 있다.
표 2
헤이징 및 황변 값은 750 마이크로미터의 갭에서 측정하였다. 약 2 이하의 헤이징 및 황변 값은 허용가능한 것으로 고려되었고, 약 1 이하의 값은 탁월한 것으로 고려되었다.
표 2에 보고된 결과에 기초하면, 본 발명의 화합물만이 허용가능한 헤이징 및 황변 값을 생성시켰고, 405 nm 자외선 광을 사용하여 경화를 개시할 수 있었다. 실시예 2의 화합물은 헤이징 및 황변 둘 다에 있어서 탁월한 값을 나타내었다. 실리콘 측쇄가 없는 다로큐어 TPO는 노화시 허용불가능한 헤이징을 유발하였고, SPI-7의 경우에는 405 nm 자외선 광을 사용하여 경화가 개시될 수 없었다.
Claims (29)
- 화학식 I의 화합물.
여기서,
R1 및 R5는 메틸 기이고, R2 및 R4는 수소이고;
R3은 SIL1-X이고, SIL1-X는
로 이루어진 군으로부터 선택되고;
R6은 페닐 기, CH3CH2O-, 및 트리메틸페놀 기로 이루어진 군으로부터 선택된다. -
로 이루어진 군으로부터 선택된 화합물. - 화학식 I의 화합물을 합성하는 방법이며,
여기서,
R1 및 R5는 메틸 기이고, R2 및 R4는 수소이고;
R3은 SIL1-X이고, SIL1-X는
로 이루어진 군으로부터 선택되고;
R6은 페닐 기, CH3CH2O-, 및 트리메틸페놀 기로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인,
1) 화학식 A의 화합물을 활성화시켜 화학식 B의 화합물을 생성시키는 단계,
(여기서, R1, R2, R4, 및 R5는 상기와 같고, R3은 메틸 기임)
2) 화학식 B의 화합물을 친핵성 아세테이트 치환 반응에 적용하여 화학식 C의 화합물을 생성시키는 단계,
3) 화학식 C의 화합물을 가수분해 반응에 적용하여 화학식 D의 화합물을 생성시키는 단계, 및
4) 화학식 D의 화합물을 화학식 SIL1-X-Cl 또는 SIL1-X-H를 갖는 화합물과의 축합 반응에 적용하여 화학식 I의 화합물을 생성시키는 단계
를 포함하는, 화학식 I의 화합물을 합성하는 방법. - a) 70 내지 99.9 중량 퍼센트의 광경화성 실리콘; 및
b) 0.1 내지 10.0 중량 퍼센트의 화학식 I의 화합물
을 포함하는 조성물이며,
여기서,
R1 및 R5는 메틸 기이고, R2 및 R4는 수소이고;
R3은 SIL1-X이고, SIL1-X는
로 이루어진 군으로부터 선택되고;
R6은 페닐 기, CH3CH2O-, 및 트리메틸페놀 기로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인
조성물. - a) 70 내지 99.9 중량 퍼센트의 광경화성 실리콘; 및
b) 0.1 내지 10.0 중량 퍼센트의
로 이루어진 군으로부터 선택된 화합물
을 포함하는 조성물. - 제4항에 있어서, 광경화성 실리콘이 UV 경화성 오르가노실리콘 또는 UV 및 수분 이중 경화 실리콘인 조성물.
- 제4항에 있어서, 광경화성 실리콘이 (메트)아크릴 말단캡핑된 실리콘인 조성물.
- 제4항에 있어서, 광경화성 실리콘이 (메트)아크릴 말단캡핑된 실라놀 종결 폴리디메틸실록산인 조성물.
- A) i) 70 내지 99.9 중량 퍼센트의 광경화성 실리콘; 및
ii) 0.1 내지 10.0 중량 퍼센트의 화학식 I의 화합물
을 포함하는 광경화성 실리콘 조성물을 제공하는 단계이며,
여기서,
R1 및 R5는 메틸 기이고, R2 및 R4는 수소이고;
R3은 SIL1-X이고, SIL1-X는
로 이루어진 군으로부터 선택되고;
R6은 페닐 기, CH3CH2O-, 및 트리메틸페놀 기로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 단계; 및
B) 광경화성 실리콘 조성물을 자외 방사선 또는 가시 광에 노출시켜 광경화성 실리콘 조성물의 광경화를 개시하여 실리콘 중합체 생성물을 생성시키는 단계
를 포함하는, 실리콘 중합체 생성물을 제조하는 방법. - 제9항에 있어서, 광경화성 실리콘이 UV 경화성 오르가노실리콘 또는 UV 및 수분 이중 경화 실리콘인 방법.
- 제9항에 있어서, 광경화성 실리콘이 (메트)아크릴 말단캡핑된 실리콘인 방법.
- 제9항에 있어서, 광경화성 실리콘이 (메트)아크릴 말단캡핑된 실라놀 종결 폴리디메틸실록산인 방법.
- 제9항에 있어서, 자외 방사선이 390 나노미터 이상의 파장을 갖는 것인 방법.
- 제9항에 있어서, 자외 방사선이 405 나노미터의 파장을 갖는 것인 방법.
- 제9항에 있어서, 광경화 개시 전에, 광경화성 실리콘 조성물을 광학적으로 투명한 조성물의 적어도 1개의 층과 접촉하도록 배치하는 단계를 추가로 포함하며, 여기서 광경화성 실리콘 조성물의 경화시, 실리콘 중합체 생성물이 광학적으로 투명한 디스플레이에 사용하기에 적합한 것인, 실리콘 중합체 생성물을 제조하는 방법.
- 제15항에 있어서, 광학적으로 투명한 조성물이 유리인, 실리콘 중합체 생성물을 제조하는 방법.
- 제15항에 있어서, 광경화 개시 전에, 광경화성 실리콘 조성물을 광학적으로 투명한 조성물의 2개의 층 사이에 배치하는 단계를 추가로 포함하며, 여기서 광경화성 실리콘 조성물의 경화시, 실리콘 중합체 생성물이 광학적으로 투명한 디스플레이에 사용하기에 적합한 것인, 실리콘 중합체 생성물을 제조하는 방법.
- 제17항에 있어서, 광학적으로 투명한 조성물이 유리인, 실리콘 중합체 생성물을 제조하는 방법.
- 제17항에 있어서, 실리콘 중합체 생성물이, QUV 시험 기계에서 500시간 동안 노화시 또는 85℃ 및 85% 상대 습도에서 오븐 내에서 500시간 동안 노화시, 광학적으로 투명한 조성물의 2개의 층 사이의 750 마이크로미터의 갭에서, 1 이하의 헤이즈 값 및 1 이하의 황색도 값을 갖는 것인, 실리콘 중합체 생성물을 제조하는 방법.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/CN2016/070609 WO2017120743A1 (en) | 2016-01-11 | 2016-01-11 | Silicone-compatible compounds |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20180103877A KR20180103877A (ko) | 2018-09-19 |
| KR102575896B1 true KR102575896B1 (ko) | 2023-09-07 |
Family
ID=59310512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020187019346A KR102575896B1 (ko) | 2016-01-11 | 2016-01-11 | 실리콘-상용성 화합물 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10597413B2 (ko) |
| EP (1) | EP3402829B1 (ko) |
| JP (1) | JP6703118B2 (ko) |
| KR (1) | KR102575896B1 (ko) |
| CN (1) | CN108779192B (ko) |
| ES (1) | ES2804199T3 (ko) |
| TW (1) | TWI712610B (ko) |
| WO (1) | WO2017120743A1 (ko) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI782066B (zh) | 2017-08-03 | 2022-11-01 | 德商漢高股份有限及兩合公司 | 可固化的聚矽氧光學透明黏著劑及其用途 |
| KR20230148381A (ko) | 2017-12-27 | 2023-10-24 | 헨켈 아게 운트 코. 카게아아 | 광학적으로 투명한 감압성 접착제 및 그의 용도 |
| WO2020072270A1 (en) * | 2018-10-01 | 2020-04-09 | Dow Toray Co., Ltd. | Photo-curable organopolysiloxane composition, and cured product thereof |
| TW202340331A (zh) * | 2022-04-06 | 2023-10-16 | 美商陶氏全球科技公司 | 聚矽氧可溶性醯基膦氧化物光起始劑 |
| TW202340221A (zh) | 2022-04-06 | 2023-10-16 | 美商陶氏全球科技公司 | 醯基膦氧化物光起始劑 |
| JP2023160306A (ja) * | 2022-04-22 | 2023-11-02 | 信越化学工業株式会社 | 光反応性オルガノポリシロキサン、その製造方法および光硬化性組成物 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102924509A (zh) | 2011-08-09 | 2013-02-13 | 陈婷 | 双膦酰膦酸酯化合物 |
| CN103333276A (zh) | 2013-06-08 | 2013-10-02 | 广州市博兴化工科技有限公司 | 一种含硅氧烷基团的长波吸收光引发剂及其制备方法 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4273907A (en) * | 1979-07-18 | 1981-06-16 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Benzoin-bonded organopolysiloxanes and method for the preparation thereof |
| JPS57207622A (en) | 1981-06-18 | 1982-12-20 | Toray Silicone Co Ltd | Photopolymerization sensitizer and its preparation |
| US4536265A (en) | 1984-04-19 | 1985-08-20 | Loctite Corporation | Siloxane polyphotoinitiators of the substituted acetophenone type |
| DE4435487A1 (de) | 1994-10-04 | 1996-04-11 | Hoechst Ag | Mit Silikonen kompatible Photoinitiatoren und diese enthaltende lichtempfindliche Gemische |
| US6376568B1 (en) | 1999-07-29 | 2002-04-23 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Surface-active photoinitiators |
| GB2360283B (en) | 2000-02-08 | 2002-08-21 | Ciba Sc Holding Ag | Monoacylarylphosphines and acylphosphine oxides and sulphides |
| US6627672B1 (en) * | 2001-05-16 | 2003-09-30 | Henkel Loctite Corporation | UV/moisture dual cure silicone potting compound with improved depth of cure |
| US7618766B2 (en) * | 2005-12-21 | 2009-11-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Flame retardant photoimagable coverlay compositions and methods relating thereto |
| JP2010217438A (ja) * | 2009-03-16 | 2010-09-30 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
| JP6279603B2 (ja) | 2012-12-05 | 2018-02-14 | ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェンＨｅｎｋｅｌ ＡＧ ＆ Ｃｏ． ＫＧａＡ | シリコーン相溶性光開始剤 |
| EP3459957A1 (en) * | 2012-12-19 | 2019-03-27 | IGM Group B.V. | Derivatives of bisacylphosphinic acid, their preparation and use as photoinitiators |
| US20150116415A1 (en) * | 2013-10-30 | 2015-04-30 | Xerox Corporation | Photocurable inks for indirect printing |
| KR102336227B1 (ko) * | 2014-08-29 | 2021-12-07 | 헨켈 아게 운트 코. 카게아아 | 유기규소 개질된 광개시제 및 그의 광경화성 접착제 조성물 |
| CN104829841B (zh) * | 2015-05-21 | 2017-11-10 | 山东大学 | 一种有机硅高分子材料及其制备方法 |
-
2016
- 2016-01-11 KR KR1020187019346A patent/KR102575896B1/ko active IP Right Grant
- 2016-01-11 JP JP2018536176A patent/JP6703118B2/ja active Active
- 2016-01-11 EP EP16884306.8A patent/EP3402829B1/en active Active
- 2016-01-11 WO PCT/CN2016/070609 patent/WO2017120743A1/en active Application Filing
- 2016-01-11 ES ES16884306T patent/ES2804199T3/es active Active
- 2016-01-11 CN CN201680078591.1A patent/CN108779192B/zh active Active
-
2017
- 2017-01-10 TW TW106100745A patent/TWI712610B/zh active
-
2018
- 2018-07-10 US US16/031,023 patent/US10597413B2/en active Active
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102924509A (zh) | 2011-08-09 | 2013-02-13 | 陈婷 | 双膦酰膦酸酯化合物 |
| CN103333276A (zh) | 2013-06-08 | 2013-10-02 | 广州市博兴化工科技有限公司 | 一种含硅氧烷基团的长波吸收光引发剂及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2019502717A (ja) | 2019-01-31 |
| JP6703118B2 (ja) | 2020-06-03 |
| CN108779192A (zh) | 2018-11-09 |
| TW201739754A (zh) | 2017-11-16 |
| KR20180103877A (ko) | 2018-09-19 |
| EP3402829A1 (en) | 2018-11-21 |
| EP3402829B1 (en) | 2020-06-17 |
| TWI712610B (zh) | 2020-12-11 |
| US20180312532A1 (en) | 2018-11-01 |
| ES2804199T3 (es) | 2021-02-04 |
| EP3402829A4 (en) | 2019-06-05 |
| CN108779192B (zh) | 2021-01-26 |
| WO2017120743A1 (en) | 2017-07-20 |
| US10597413B2 (en) | 2020-03-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102575896B1 (ko) | 실리콘-상용성 화합물 | |
| CA1164875A (en) | Silane-functionalized ultra-violet screen precursors | |
| US4665147A (en) | Novel methacrylated siloxanes | |
| US9409932B2 (en) | Silicone-compatible photoinitiators | |
| JPS60252604A (ja) | オルガノポリシロキサン光開始剤 | |
| US10189867B2 (en) | Organosilicon modified photoinitiator and a photo-curable adhesive composition comprising the same | |
| JP4941657B2 (ja) | 有機ケイ素化合物及びその製造方法並びに光重合性組成物及び無機材料 | |
| JPH09183782A (ja) | 紫外線及び電子ビーム硬化性のプロペニルエーテルシリコーン系剥離組成物 | |
| JP5224260B2 (ja) | ケイ素含有アダマンタン化合物 | |
| JP4846267B2 (ja) | 水酸基を有するシリコーン共重合体及びその製造方法 | |
| KR101965194B1 (ko) | 불소계 모노머 및 올리고머 화합물, 광중합형 조성물, 및 이들을 이용한 소수성 필름 | |
| JP2021017424A (ja) | 有機ケイ素化合物及びエネルギー線硬化型樹脂組成物 | |
| KR20210124274A (ko) | 광경화성 실리콘 수지 조성물 및 그것을 경화시킨 실리콘 수지 성형체, 및 상기 성형체의 제조 방법 | |
| CA1242447A (en) | Methacrylated siloxanes | |
| JPWO2019221195A1 (ja) | カリックスアレーン化合物、硬化性組成物及び硬化物 | |
| JPH068335B2 (ja) | 紫外線硬化性ゲル組成物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant |