KR102564843B1 - 광중합체를 위한 보호 층 - Google Patents

광중합체를 위한 보호 층 Download PDF

Info

Publication number
KR102564843B1
KR102564843B1 KR1020207002448A KR20207002448A KR102564843B1 KR 102564843 B1 KR102564843 B1 KR 102564843B1 KR 1020207002448 A KR1020207002448 A KR 1020207002448A KR 20207002448 A KR20207002448 A KR 20207002448A KR 102564843 B1 KR102564843 B1 KR 102564843B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
photopolymer
hologram
optionally
polyvinyl alcohol
Prior art date
Application number
KR1020207002448A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20200035398A (ko
Inventor
제르귀이 코스트로미네
토마스 뢸레
빌란트 호페스타트
카를 페테를레
테레제 클로부토브슈키
Original Assignee
코베스트로 도이칠란트 아게
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 코베스트로 도이칠란트 아게 filed Critical 코베스트로 도이칠란트 아게
Publication of KR20200035398A publication Critical patent/KR20200035398A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102564843B1 publication Critical patent/KR102564843B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F283/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
    • C08F283/006—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polymers provided for in C08G18/00
    • C08F283/008—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polymers provided for in C08G18/00 on to unsaturated polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/54—Silicon-containing compounds
    • C08K5/544—Silicon-containing compounds containing nitrogen
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/0073—Optical laminates
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • B32B27/306—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising vinyl acetate or vinyl alcohol (co)polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04—Interconnection of layers
    • B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
    • C08K5/0025—Crosslinking or vulcanising agents; including accelerators
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/54—Silicon-containing compounds
    • C08K5/541—Silicon-containing compounds containing oxygen
    • C08K5/5415—Silicon-containing compounds containing oxygen containing at least one Si—O bond
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L29/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical; Compositions of hydrolysed polymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L29/02—Homopolymers or copolymers of unsaturated alcohols
    • C08L29/04—Polyvinyl alcohol; Partially hydrolysed homopolymers or copolymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/29—Laminated material
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/092—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/0005—Adaptation of holography to specific applications
    • G03H1/0011—Adaptation of holography to specific applications for security or authentication
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H1/0252—Laminate comprising a hologram layer
    • G03H1/0256—Laminate comprising a hologram layer having specific functional layer
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
    • G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
    • G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
    • G11B7/245—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing a polymeric component
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H2250/00—Laminate comprising a hologram layer
    • G03H2250/39—Protective layer
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H2260/00—Recording materials or recording processes
    • G03H2260/12—Photopolymer

Abstract

본 발명은 광중합체 층 B 및 적어도 부분적으로 경화된 보호 층 C를 포함하는 층 구조, 본 발명에 따른 층 구조의 제조 방법, 부분들의 키트, 광중합체 층 B의 보호를 위한 적어도 부분적으로 경화된 보호 층 C의 용도, 뿐만 아니라 본 발명에 따른 층 구조를 포함하는 광학 디스플레이 및 보안 문서에 관한 것이다.

Description

광중합체를 위한 보호 층
본 발명은 광중합체 층 B 및 적어도 부분적으로 경화된 보호 층 C를 포함하는 보호 층, 본 발명에 따른 층 구조물의 제조 방법, 부분들의 키트, 광중합체 층 B의 보호를 위한 적어도 부분적으로 경화된 보호 층 C의 용도 및 본 발명에 따른 층 구조물을 포함하는 광학 디스플레이 및 보안 문서에 관한 것이다.
홀로그래픽 매체를 제조하기 위한 광중합체 층은 원칙적으로, 예를 들어 WO2011/054797 및 WO2011/067057에 공지되어 있다. 이들 홀로그래픽 매체의 이점은 그의 높은 광 회절 효율 및 단순화된 공정인데, 이는 홀로그래픽 조사 후에 추가의 화학적 및/또는 열적 현상 단계가 필요하지 않기 때문이다.
홀로그래픽 필름 (코베스트로 도이칠란트 아게(Covestro Deutschland AG)로부터의 베이폴(Bayfol)® HX)은 필름 기재 (A) 및 광 감수성 광중합체 층 (B)으로 이루어진다. 광학 홀로그램은 층 (B)에서 국소 광중합에 의해 형성되고, 면 UV-VIS 조사에 의해 고정된다. 따라서, 층 (B)은 이전에 새겨진 홀로그램을 포함하고 더이상 감광성이 아닌 중합된 층 (B')을 형성한다. 이 홀로그램은 시간 경과에 따라 그 자체로 매우 안정적인 한편, 그의 특성은 기계적 영향 및/또는 예를 들어 유기 물질 (용매)과의 접촉의 결과로서 변할 수 있다. 홀로그래픽-광학적 특성에 대한 이러한 외부 영향을 감소시키기 위해 보호 층의 적용이 고려될 수 있는 해결책이며, 또한 예를 들어 WO 2017081078에 기재되어 있다.
고려가능한 보호 방법은 보호 층 및/또는 보호 필름의 래커링, 적층, 접착제 부착이다. 그러나, 고전적 래커링 또는 접착제 부착은, (B') 층과의 접촉시 홀로그램을 완전히 파괴할 수 있는, 액체 래커 및/또는 접착제 성분과 연관된 매니폴드 문제를 일으킨다. 예를 들어 유리와 같은 고체 기재 상부에 관능화된 필름의 고정 접착제 부착은 일반적으로 이를 위해 특이적으로 개발된 광학적으로 투명한 접착제 (OCA) 필름의 사용을 통해 달성된다.
그러나, 홀로그램에서 이러한 접착제 층의 사용은, 이들이 상기 언급된 조사된 광중합체 필름과 접촉하는 경우 색상 이동을 발생시키고, 따라서 상기 홀로그램을 사용할 수 없게 만든다는 것이 실험에서 확인되었다. 특히 RGB 홀로그램 및 트루 컬러 홀로그램에 대해서는, 홀로그램의 전체적인 색 인상이 왜곡되기 때문에, 심지어 > 20 ㎚ (색 이동)의 작은 파장 이동도 문제가 된다. 이러한 이유로, 익숙한 특성을 완전히 유지하면서, 예를 들어 유리와 같은 캐리어 상부에 홀로그램을 포함하는 B 층의 고정 접착제 부착을 달성하는 것이 실질적으로 불가능하다.
따라서, 본 발명에 의해 해결되는 과제는, 광중합체 필름 내로 광으로 새겨진 홀로그램에서 20 nm 초과의 파장 이동의 발생 없이 기판에 접착 결합될 수 있는, 도입부에 언급된 유형의 층 복합체를 제공하는 것이었다.
과제는 면 광중합체 층 B 및 적어도 부분적으로 경화된 보호 층 C를 포함하는 층 구조물에 의해 해결되었고, 여기서 보호 층 C는
(I) 적어도 1종의 폴리비닐 알콜,
(II) 폴리비닐 알콜에 대한 적어도 1종의 가교제,
(III) 임의로 적어도 1종의 접착 촉진제, 여기서 접착 촉진제는 바람직하게는 아미노알킬 트리알콕시실란의 적어도 1종의 가수분해물임, 및
(IV) 임의로 적어도 1종의 계면활성제
를 포함하는 수성 조성물의 반응에 의해 수득가능하고, 여기서 광중합체 층 B는 층 C에 적어도 부분적으로 결합된다.
놀랍게도, 적어도 부분적으로 경화된 보호 층 C는 OCA의 액체 유기 성분에 대한 장벽 층을 구성하는데, 이는 이 층이 접착제 성분에 대해 투과성이 아니고 따라서 홀로그램에 대한 그의 부정적 영향이 방지되기 때문이다. 놀랍게도, 이러한 장벽 층이 또한 반대 방향으로도 효과적이고, 즉 마찬가지로 광중합체 층의 접착제 층으로의 성분의 탈출 및 가능한 이동을 방지하고, 따라서 홀로그램의 전체 안정성에 결정적인 기여를 하는 것으로 추가로 밝혀졌다.
또한, 비조사 또는 조사된 광중합체 층 상부에 보호 층 C를 수성 제제로서 적용하는 것이 가능하다. 본 발명에 따른 층 C는 어떠한 방식으로도 광중합체 층 내 홀로그램의 기록 공정에 영향을 주지 않으며, 그의 품질을 감소시키지 않는다. 홀로그램의 강도 및 또한 스펙트럼 위치와 유사하게, 본 발명에 따른 층 구조물의 감광도는 임의의 장벽 층/보호 층 C를 갖지 않는 원래의 광중합체 층 B에 대한 값과 거의 다르지 않다. 본 발명에 따른 층 구조물은 임의의 목적하는 상업적 OCA (층 D)를 사용하여 광중합체를 고체 캐리어 (층 E), 예를 들어 유리에 접착 결합시키는 것을 가능하게 한다.
본 발명에 따른 보호 층 C는 물리적 및 화학적 영향, 예컨대 스크래치 및 용매 손상에 대해 광중합체 층 B를 보호하고, 동시에 구조물의 층의 서로에 대한 우수한 접착성 및 본 발명에 따른 층 구조물의 가요성 및 탄성을 갖는다.
본 발명의 문맥에서 용어 "면 (areal)"은 평탄한 영역으로서의 또는 오목 또는 볼록한 아치형 또는 파상 영역으로서의 구성을 의미하는 것으로 이해되어야 한다. 따라서, 본 발명의 문맥에서 홀로그램-함유 광중합체 B는 홀로그램 영역에서 밀봉 층의 적층 적용이 적어도 가능하도록 평탄한 영역, 아치형 영역 또는 파상 영역을 가져야 한다.
계수가능한 파라미터와 관련하여 본 발명의 문맥에서의 단어 단수형은 명시적으로 언급되는 경우에만 (예를 들어, "정확하게 하나"라는 표현에 의해) 숫자 "1"을 의미하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어 "폴리이소시아네이트"에 대해 이하에서 언급할 경우, 단어 단수형은 단지 부정 관사를 의미하고 숫자 1은 아닌 것으로 이해되어야 하며, 이는 따라서 2개 이상, 예를 들어 구조적으로 동일하지 않은 폴리이소시아네이트가 존재하는 실시양태를 또한 포함하는 것을 의미한다.
바람직한 실시양태에서, 광중합체 층 B는
I) 매트릭스 중합체,
II) 기록 단량체,
III) 광개시제,
IV) 임의로 적어도 1종의 비-광중합성 성분, 및
V) 임의로 촉매, 자유-라디칼 안정화제, 용매, 첨가제 및 다른 보조제 및/또는 첨가 물질
을 포함하는 비조사된 광중합체 층이거나, 또는 광중합체 층 B가 홀로그램, 바람직하게는 체적 홀로그램을 함유하는 반-조사된 광중합체 층이며, 여기서 체적 홀로그램은 바람직하게는 인-라인 홀로그램, 오프-액시스 홀로그램, 완전-개구 전사 홀로그램, 백색광 투과 홀로그램, 데니슈크 (Denisyuk) 홀로그램, 오프-액시스 반사 홀로그램, 엣지-릿 홀로그램 및 홀로그래픽 스테레오그램으로 이루어진 군으로부터 선택된다.
적어도 1종의 홀로그램이 본 발명에 따른 층 구조물에서 광으로 새겨지는 경우가 바람직하다.
투과 스펙트럼의 스펙트럼 이동은, 새김 레이저의 파장 (λw)과 새겨진 홀로그램의 스펙트럼 피크 (λ피크) 사이의 차 (Δλ) (ISO 표준 17901-1:2015(E))로서 정의된다:
Δλ = λ피크 - λw (1)
본 발명의 층 구조물 B'-C, A-B'-C, B'-C-D, A-B'-C-D, B'-C-D-E 또는 A-B'-C-D-E에서의 새겨진 홀로그램의 Δλ는 바람직하게는 +/- 10 nm, 보다 바람직하게는 +/-5 nm, 특히 바람직하게는 +/-3 nm이고, 여기서 B'는 새겨진 홀로그램을 포함하는 적어도 반-조사된 광중합체 층이다.
바람직한 실시양태에서, 본 발명에 따른 층 구조물은 추가로 기재 층 A를 함유하고, 여기서 광중합체 층 B는 한 면 상에서 기판 층 A에 적어도 부분적으로 결합되고, 반대 면 상에서 보호 층 C에 적어도 부분적으로 결합된다.
바람직한 실시양태에서, 본 발명에 따른 층 구조물은 접착제 층 D를 추가로 함유하고, 여기서 보호 층 C는 한 면 상에서 접착제 층 D에 적어도 부분적으로 결합되고, 반대 면 상에서 광중합체 층 B에 적어도 부분적으로 결합되고, 여기서 접착제 층 D는 바람직하게는 광학적으로 투명한 접착제 층이다.
본 발명에 따른 층 구조물의 바람직한 실시양태에서, 광중합체 층 B는 기재 층 A 상부에 배치되고, 여기서 광중합체 층 B는 한 면 상에서 기판 층 A에 적어도 부분적으로 결합되고 광중합체 층 B는 반대 면 상에서 보호 층 C에 적어도 부분적으로 결합되고, 보호 층 C는 접착제 층 D 상부에 배치되고, 여기서 보호 층 C는 한 면 상에서 접착제 층 D에 적어도 부분적으로 결합되고, 보호 층 C는 반대 면 상에서 접착제 층 B에 적어도 부분적으로 결합된다. 층은 순서 A-B-C-D로 배열된다. 광중합체 층 B는 비조사, 반-조사 또는 조사된 광중합체 층일 수 있다. 반-조사 또는 조사된 광중합체 층은 상기 언급된 유형의 홀로그램을 함유할 수 있다.
바람직한 실시양태에서, 본 발명에 따른 층 구조물은 추가로 기재 층 E를 함유하고, 여기서 접착제 층 D는 한 면 상에서 기재 층 E에 적어도 부분적으로 결합되고, 반대 면 상에서 보호 층 C에 적어도 부분적으로 결합되고, 여기서 기재 층은 바람직하게는 유리이다.
본 발명에 따른 층 구조물의 바람직한 실시양태에서, 광중합체 층 B는 기재 층 A 상부에 배치되고, 여기서 광중합체 층 B는 한 면 상에서 기재 층 A에 적어도 부분적으로 결합되고 광중합체 층 B는 보호 층 C에 적어도 부분적으로 결합되고, 보호 층 C는 접착제 층 D 상부에 배치되고, 여기서 보호 층 C는 한 면에서 접착제 층 D에 적어도 부분적으로 결합되고 보호 층 C는 반대 면 상에서 광중합체 층 B에 적어도 부분적으로 결합되고, 접착제 층 D는 기재 층 E 상부에 배치되고, 여기서 접착제 층 D는 한 면 상에서 보호 층 C에 적어도 부분적으로 결합되고 접착제 층 D는 반대 면 상에서 기재 층 E에 적어도 부분적으로 결합된다. 층은 순서 A-B-C-D-E로 배열된다. 광중합체 층 B는 비조사, 반-조사 또는 조사된 광중합체 층일 수 있다. 반-조사 또는 조사된 광중합체 층은 상기 언급된 유형의 홀로그램을 함유할 수 있다. 기재 층 E는 바람직하게는 유리이다.
본 발명에 따른 층 구조물의 추가 실시양태에서, 광중합체 층 B의 배면은 적어도 부분적으로 경화된 제2 보호 층 C에 적어도 부분적으로 결합되고, 여기서 층은 순서 C-B-C로 서로 상부에 바로 배열된다.
본 발명에 따른 층 구조물의 추가 실시양태에서, 광중합체 층 B의 배면은 적어도 부분적으로 경화된 제2 보호 층 C에 적어도 부분적으로 결합되며, 제1 및 제2 보호 층 C가 광중합체 층의 양측에 있고, 각각이 접착제 층 D에 적어도 부분적으로 결합되고, 여기서 층은 순서 D-C-B-C-D로 배열된다.
본 발명에 따른 층 구조물의 추가 실시양태에서, 광중합체 층 B의 배면은 적어도 부분적으로 경화된 제2 보호 층 C에 적어도 부분적으로 결합되며, 여기서 제1 및 제2 보호 층 C가 광중합체 층 B의 양측에 있고, 각각은 접착제 층 D에 적어도 부분적으로 결합되고, 제1 및 제2 접착제 층 D는 보호 층 C의 양측에 있고, 각각은 기재 층 D에 적어도 부분적으로 결합되고, 여기서 층은 순서 E-D-C-B-C-D-E로 배열된다. 기재 층 E는 바람직하게는 유리이다.
본 발명에 따른 층 구조물의 상기 언급된 실시양태에서, 제2 보호 층 C는 제1 보호 층 C와 동일하거나 상이할 수 있고, 제2 접착제 층 D는 제1 접착제 층 D와 동일하거나 상이할 수 있고, 제2 기재 층 E는 제1 기재 층 E와 동일하거나 상이할 수 있고, 광중합체 층 B는 비조사, 반-조사 또는 조사된 광중합체 층일 수 있고, 반-조사 또는 조사된 광중합체 층은 상기 언급된 유형의 홀로그램을 함유할 수 있다.
본 발명에 따른 층 구조물의 바람직한 실시양태에서, DIN 53015:2001-02에 따른 적어도 1종의 폴리비닐 알콜은 20℃에서 물 중 4 중량% 용액으로서 ≥ 25 mPa*s, 바람직하게는 ≥ 50 mPa*s의 점도를 갖는다.
본 발명에 따른 층 구조물의 바람직한 실시양태에서, DIN EN ISO 3681:2007-10-01에 따른 폴리비닐 알콜은 ≥ 85 몰%, 보다 바람직하게는 ≥ 95 몰%의 가수분해도를 갖는다.
본 발명에 따른 층 구조물의 바람직한 실시양태에서, 폴리비닐 알콜에 대한 가교제는 수성 글리옥살 용액, 글루타르알데히드, 옥살산, N,N'-디메틸우레아, 수산화마그네슘, 수산화칼슘, 붕산, 보레이트 염, 알루미네이트, 황산알루미늄, 규산, 규산 에스테르 및/또는 이들 중 적어도 2종의 조합으로부터 선택되고, 바람직하게는 수성 글리옥살 용액, 붕산, 보레이트 염 및/또는 이들 중 적어도 2종의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된다.
본 발명에 따른 층 구조물의 바람직한 실시양태에서, 각각 사용된 적어도 1종의 폴리비닐 알콜의 총량 대 적어도 1종의 가교제의 중량비는 70:30 내지 90:10, 보다 바람직하게는 75:25 내지 80:20, 보다 더 바람직하게는 75:25 내지 82:18이다.
본 발명에 따른 층 구조물의 바람직한 실시양태에서, 경화된 보호 층 C는 3 μm 내지 30 μm, 바람직하게는 5 μm 내지 15 μm의 층 두께를 갖는다.
본 발명에 따른 층 구조물의 바람직한 실시양태에서, 층 구조물은 면 광중합체 층 B 및 적어도 부분적으로 경화된 보호 층 C를 포함하고, 여기서 보호 층 C는
(I) DIN 53015:2001-02에 따라 20℃에서 물 중 4 중량% 용액으로서 ≥ 25 mPa*s, 바람직하게는 ≥ 50 mPa*s의 점도를 갖는 적어도 1종의 폴리비닐 알콜,
(II) 수성 글리옥살 용액, 글루타르알데히드, 옥살산, N,N'-디메틸우레아, 수산화마그네슘, 수산화칼슘, 붕산, 보레이트 염, 알루미네이트, 황산알루미늄, 규산, 규산 에스테르 및/또는 이들 중 적어도 2종의 조합으로부터 선택되고, 바람직하게는 수성 글리옥살 용액, 붕산, 보레이트 염 및/또는 이들 중 적어도 2종의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된, 폴리비닐 알콜에 대한 적어도 1종의 가교제,
(III) 임의로 적어도 1종의 접착 촉진제, 여기서 접착 촉진제는 바람직하게는 아미노알킬 트리알콕시실란의 적어도 1종의 가수분해물임, 및
(IV) 임의로 적어도 1종의 계면활성제
를 포함하는 수성 조성물의 반응에 의해 수득가능하고, 여기서 광중합체 층 B는 층 C에 적어도 부분적으로 결합된다.
본 발명에 따른 층 구조물의 바람직한 실시양태에서, 층 구조물은 면 광중합체 층 B 및 적어도 부분적으로 경화된 보호 층 C를 포함하고, 여기서 보호 층 C는
(I) 적어도 1종의 폴리비닐 알콜,
(II) 수성 글리옥살 용액, 글루타르알데히드, 옥살산, N,N'-디메틸우레아, 수산화마그네슘, 수산화칼슘, 붕산, 보레이트 염, 알루미네이트, 황산알루미늄, 규산, 규산 에스테르 및/또는 이들 중 적어도 2종의 조합으로부터 선택되고, 바람직하게는 수성 글리옥살 용액, 붕산, 보레이트 염 및/또는 이들 중 적어도 2종의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된, 폴리비닐 알콜에 대한 적어도 1종의 가교제,
(III) 임의로 적어도 1종의 접착 촉진제, 여기서 접착 촉진제는 바람직하게는 아미노알킬 트리알콕시실란의 적어도 1종의 가수분해물임, 및
(IV) 임의로 적어도 1종의 계면활성제
를 포함하는 수성 조성물의 반응에 의해 수득가능하고, 여기서 광중합체 층 B는 층 C에 적어도 부분적으로 결합되고 층 구조물은 접착제 층 D를 추가로 함유하며, 여기서 보호 층 C는 한 면 상에서 접착제 층 D에 적어도 부분적으로 결합되고, 반대 면 상에서 광중합체 층 B에 적어도 부분적으로 결합된다.
본 발명에 따른 층 구조물의 바람직한 실시양태에서, 층 구조물은 면 광중합체 층 B 및 적어도 부분적으로 경화된 보호 층 C를 포함하고, 여기서 보호 층 C는
(I) DIN 53015:2001-02에 따라 20℃에서 물 중 4 중량% 용액으로서 ≥ 25 mPa*s, 바람직하게는 ≥ 50 mPa*s의 점도를 갖는 적어도 1종의 폴리비닐 알콜,
(II) 폴리비닐 알콜에 대한 적어도 1종의 가교제,
(III) 임의로 적어도 1종의 접착 촉진제, 여기서 접착 촉진제는 바람직하게는 아미노알킬 트리알콕시실란의 적어도 1종의 가수분해물임, 및
(IV) 임의로 적어도 1종의 계면활성제
를 포함하는 수성 조성물의 반응에 의해 수득가능하고, 여기서 광중합체 층 B는 층 C에 적어도 부분적으로 결합되고 층 구조물은 접착제 층 D를 추가로 함유하며, 여기서 보호 층 C는 한 면 상에서 접착제 층 D에 적어도 부분적으로 결합되고, 반대 면 상에서 광중합체 층 B에 적어도 부분적으로 결합된다.
본 발명에 따른 층 구조물의 바람직한 실시양태에서, 층 구조물은 면 광중합체 층 B 및 적어도 부분적으로 경화된 보호 층 C를 포함하고, 여기서 보호 층 C는
(I) DIN 53015:2001-02에 따라 20℃에서 물 중 4 중량% 용액으로서 ≥ 25 mPa*s, 바람직하게는 ≥ 50 mPa*s의 점도를 갖는 적어도 1종의 폴리비닐 알콜,
(II) 수성 글리옥살 용액, 글루타르알데히드, 옥살산, N,N'-디메틸우레아, 수산화마그네슘, 수산화칼슘, 붕산, 보레이트 염, 알루미네이트, 황산알루미늄, 규산, 규산 에스테르 및/또는 이들 중 적어도 2종의 조합으로부터 선택되고, 바람직하게는 수성 글리옥살 용액, 붕산, 보레이트 염 및/또는 이들 중 적어도 2종의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된, 폴리비닐 알콜에 대한 적어도 1종의 가교제,
(III) 임의로 적어도 1종의 접착 촉진제, 여기서 접착 촉진제는 바람직하게는 아미노알킬 트리알콕시실란의 적어도 1종의 가수분해물임, 및
(IV) 임의로 적어도 1종의 계면활성제
를 포함하는 수성 조성물의 반응에 의해 수득가능하고, 여기서 광중합체 층 B는 층 C에 적어도 부분적으로 결합되고 층 구조물은 접착제 층 D를 추가로 함유하며, 여기서 보호 층 C는 한 면 상에서 접착제 층 D에 적어도 부분적으로 결합되고, 반대 면 상에서 광중합체 층 B에 적어도 부분적으로 결합된다.
본 발명은 마찬가지로 적어도 1종의 면 광중합체 층, 및 적어도 부분적으로 경화된 보호 층 C를 생성하기 위한 수성 조성물을 함유하는 부분들의 키트를 제공하며, 여기서 수성 조성물은
(I) 적어도 1종의 폴리비닐 알콜,
(II) 폴리비닐 알콜에 대한 적어도 1종의 가교제,
(III) 임의로 적어도 1종의 접착 촉진제, 여기서 접착 촉진제는 바람직하게는 아미노알킬 트리알콕시실란의 적어도 1종의 가수분해물임, 및
(IV) 임의로 적어도 1종의 계면활성제
를 포함하고, 여기서 광중합체 층 B는 기재 층 A 상부에 임의로 배치된다.
본 발명에 따른 부분들의 키트의 바람직한 실시양태에서, 부분들의 키트는 접착제 층 D를 추가로 함유한다.
본 발명에 따른 부분들의 키트의 바람직한 실시양태에서, 부분들의 키트는 기재 층 E, 바람직하게는 유리를 추가로 함유한다.
본 발명에 따른 부분들의 키트의 바람직한 실시양태에서, 부분들의 키트는 접착제 층 D 및 기재 층 E를 추가로 함유하고, 여기서 접착제 층 D는 바람직하게는 광학적으로 투명한 접착제 층이고 기재 E는 유리이다.
본 발명에 따른 부분들의 키트의 바람직한 실시양태에서, 광중합체 층 B는
I) 매트릭스 중합체,
II) 기록 단량체,
III) 광개시제,
IV) 임의로 적어도 1종의 비-광중합성 성분, 및
V) 임의로 촉매, 자유-라디칼 안정화제, 용매, 첨가제 및 다른 보조제 및/또는 첨가 물질
을 포함하는 비조사된 광중합체 층이거나, 또는 광중합체 층 B가 홀로그램, 바람직하게는 체적 홀로그램을 함유하는 반-조사된 광중합체 층이며, 여기서 체적 홀로그램은 바람직하게는 인-라인 홀로그램, 오프-액시스 홀로그램, 완전-개구 전사 홀로그램, 백색광 투과 홀로그램, 데니슈크 홀로그램, 오프-액시스 반사 홀로그램, 엣지-릿 홀로그램 및 홀로그래픽 스테레오그램으로 이루어진 군으로부터 선택된다.
본 발명에 따른 부분들의 키트의 바람직한 실시양태에서, DIN 53015:2001-02에 따른 적어도 1종의 폴리비닐 알콜은 20℃ 에서 물 중 4 중량% 용액으로서 ≥ 25 mPa*s, 바람직하게는 ≥ 50 mPa*s의 점도를 갖는다.
본 발명에 따른 부분들의 키트의 바람직한 실시양태에서, DIN EN ISO 3681:2007-10-01에 따른 폴리비닐 알콜은 ≥ 85 몰%, 보다 바람직하게는 ≥ 95 몰%의 가수분해도를 갖는다.
본 발명에 따른 부분들의 키트의 바람직한 실시양태에서, 폴리비닐 알콜을 위한 가교제는 수성 글리옥살 용액, 글루타르알데히드, 옥살산, N,N'-디메틸우레아, 수산화마그네슘, 수산화칼슘, 붕산, 보레이트 염, 알루미네이트, 황산알루미늄, 규산, 규산 에스테르 및/또는 이들 중 적어도 2종의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되고, 바람직하게는 수성 글리옥살 용액, 붕산, 보레이트 염 및/또는 이들 중 적어도 2종 이상의 조합으로부터 선택된다.
본 발명에 따른 부분들의 키트의 바람직한 실시양태에서, 각각 사용된 적어도 1종의 폴리비닐 알콜의 총량 대 적어도 1종의 가교제의 중량비는 70:30 내지 90:10, 보다 바람직하게는 75:25 내지 80:20, 보다 더 바람직하게는 75:25 내지 82:18이다.
본 발명에 따른 부분들의 키트의 바람직한 실시양태에서, 경화된 보호 층 C는 3 μm 내지 30 μm, 바람직하게는 5 μm 내지 15 μm의 층 두께를 갖는다.
본 발명에 따른 부분들의 키트의 바람직한 실시양태에서, 부분들의 키트는 적어도 1종의 면 광중합체 층, 및 적어도 부분적으로 경화된 보호 층 C를 제조하기 위한 수성 조성물을 함유하며, 여기서 수성 조성물은
(I) DIN 53015:2001-02에 따라 20℃에서 물 중 4 중량% 용액으로서 ≥ 25 mPa*s, 바람직하게는 ≥ 50 mPa*s의 점도를 갖는 적어도 1종의 폴리비닐 알콜,
(II) 수성 글리옥살 용액, 글루타르알데히드, 옥살산, N,N'-디메틸우레아, 수산화마그네슘, 수산화칼슘, 붕산, 보레이트 염, 알루미네이트, 황산알루미늄, 규산, 규산 에스테르 및/또는 이들 중 적어도 2종의 조합으로부터 선택되고, 바람직하게는 수성 글리옥살 용액, 붕산, 보레이트 염 및/또는 이들 중 적어도 2종의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된, 폴리비닐 알콜에 대한 적어도 1종의 가교제,
(III) 임의로 적어도 1종의 접착 촉진제, 여기서 접착 촉진제는 바람직하게는 아미노알킬 트리알콕시실란의 적어도 1종의 가수분해물임, 및
(IV) 임의로 적어도 1종의 계면활성제
를 포함하고, 여기서 광중합체 층 B는 기재 층 A 상부에 임의로 배치된다.
본 발명에 따른 부분들의 키트의 바람직한 실시양태에서, 부분들의 키트는 적어도 1종의 면 광중합체 층, 접착제 층 D, 기재 층 E, 및 적어도 부분적으로 경화된 보호 층 C를 생성하기 위한 수성 조성물을 함유하며, 여기서 수성 조성물은
(I) DIN 53015:2001-02에 따라 20℃에서 물 중 4 중량% 용액으로서 ≥ 25 mPa*s, 바람직하게는 ≥ 50 mPa*s의 점도를 갖는 적어도 1종의 폴리비닐 알콜,
(II) 폴리비닐 알콜에 대한 적어도 1종의 가교제,
(III) 임의로 적어도 1종의 접착 촉진제, 여기서 접착 촉진제는 바람직하게는 아미노알킬 트리알콕시실란의 적어도 1종의 가수분해물임, 및
(IV) 임의로 적어도 1종의 계면활성제
를 포함하고, 여기서 광중합체 층 B는 기재 층 A 상부에 임의로 배치된다.
본 발명에 따른 부분들의 키트의 바람직한 실시양태에서, 부분들의 키트는 적어도 1종의 면 광중합체 층, 접착제 층 D, 바람직하게는 광학적으로 투명한 접착제 층, 기재 층 E, 바람직하게는 유리, 및 적어도 부분적으로 경화된 보호 층 C를 생성하기 위한 수성 조성물을 함유하며, 여기서 수성 조성물은
(I) 적어도 1종의 폴리비닐 알콜,
(II) 수성 글리옥살 용액, 글루타르알데히드, 옥살산, N,N'-디메틸우레아, 수산화마그네슘, 수산화칼슘, 붕산, 보레이트 염, 알루미네이트, 황산알루미늄, 규산, 규산 에스테르 및/또는 이들 중 적어도 2종의 조합으로부터 선택되고, 바람직하게는 수성 글리옥살 용액, 붕산, 보레이트 염 및/또는 이들 중 적어도 2종의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된, 폴리비닐 알콜에 대한 적어도 1종의 가교제,
(III) 임의로 적어도 1종의 접착 촉진제, 여기서 접착 촉진제는 바람직하게는 아미노알킬 트리알콕시실란의 적어도 1종의 가수분해물임, 및
(IV) 임의로 적어도 1종의 계면활성제
를 포함하고, 여기서 광중합체 층 B는 기재 층 A 상부에 임의로 배치된다.
본 발명은 마찬가지로 적어도 부분적으로 경화된 보호 층 C를 광중합체 층 B 상부에 먼저 적용하고, 여기서 광중합체 층 B는 임의로 기재 층 A 상부에 배치되어 층 복합체 B-C 또는 A-B-C를 제공하고, 여기서 보호 층 C는
(I) 적어도 1종의 폴리비닐 알콜,
(II) 폴리비닐 알콜에 대한 적어도 1종의 가교제,
(III) 임의로 적어도 1종의 접착 촉진제, 여기서 접착 촉진제는 바람직하게는 아미노알킬 트리알콕시실란의 적어도 1종의 가수분해물임, 및
(IV) 임의로 1종 이상의 계면활성제
를 포함하는 수성 조성물의 반응에 의해 수득가능한 것을 특징으로 하는, 본 발명에 따른 층 구조물을 제조하는 방법을 제공한다.
본 발명에 따른 방법의 바람직한 실시양태에서, 추가의 후속 단계에서 접착제 층 D를 적어도 부분적으로 경화된 보호 층 C 상부에 적용하여 층 복합체 B-C-D 또는 A-B-C-D를 제공하고, 이후 추가의 후속 단계에서 기재 층 E를 접착제 층 D 상부에 적용하여 층 복합체 B-C-D-E 또는 A-B-C-D-E를 제공한다.
본 발명에 따른 방법의 바람직한 실시양태에서, 홀로그램은 층 복합체 B-C, A-B-C, B-C-D, A-B-C-D, B-C-D-E 또는 A-B-C-D-E 내로 광으로 새겨지고 고정된다.
본 발명에 따른 방법의 추가의 바람직한 실시양태에서, 이는 하기 단계를 포함한다:
- o 광중합체 층 B의 제조를 위한 코팅 물질을 제조하는 것;
o 기판 A를 이 코팅 물질로 코팅하여 층 복합체 A-B를 형성하는 것
을 포함하는, 층 구조물 A-B를 갖는 감광성 홀로그래픽 필름을 제조하는 단계;
- o (I) 적어도 1종의 폴리비닐 알콜,
(II) 폴리비닐 알콜에 대한 적어도 1종의 가교제,
(III) 임의로 적어도 1종의 접착 촉진제, 여기서 접착 촉진제는 바람직하게는 아미노알킬 트리알콕시실란의 적어도 1종의 가수분해물임, 및
(IV) 임의로 적어도 1종 이상의 계면활성제
를 포함하는, 보호 층 C의 제조를 위한 수성 코팅 물질을 제조하는 것
o 층 구조물 A-B의 광중합체 층 B를 이 코팅 물질로 코팅하여 층 복합체 A-B-C를 형성하는 것;
o 층 복합체 A-B-C를 건조시키는 것;
o 임의로 층 복합체 A-B-C의 광중합체 층 B 내로 홀로그램을 새겨 층 복합체 A-B-C*를 형성하고, 여기서 B*는 새겨진 홀로그램을 포함하는 광중합체 층인 것;
o 임의로 전체 층 구조물 A-B*-C의 면 광대역 UV/VIS 조사에 의해 5-10 J/cm2의 광 에너지 선량으로 광중합체 층 B*에 홀로그램을 고정시켜 층 복합체 A-B'-C를 형성하고, 여기서 B'는 탈색되고 관통-중합되고 더 이상 감광성이 아니며, 고정된 홀로그램을 포함하는 광중합체 층 B인 것
을 포함하는, 층 구조물 A-B-C를 갖는 홀로그래픽 필름을 제조하는 단계;
- o 접착제 층 D를 층 구조물 A-B-C 또는 A-B'-C의 보호 층 C 상부에 적용하여 층 복합체 A-B-C-D 또는 A-B'-C-D를 형성하는 것;
o 임의로 층 복합체 A-B-C-D의 광중합체 층 B 내로 홀로그램을 새겨 층 복합체 A-B*-C-D를 형성하고, 여기서 B*는 새겨진 홀로그램을 포함하는 광중합체 층인 것;
o 임의로 전체 층 구조물 A-B*-C-D의 면 광대역 UV/VIS 조사에 의해 5 - 10 J/cm2의 광 에너지 선량으로 광중합체 층 B*에 홀로그램을 고정시켜 층 복합체 A-B'-C-D를 형성하고, 여기서 B'는 탈색되고 관통-중합되고 더 이상 감광성이 아니며, 고정된 홀로그램을 포함하는 광중합체 층 B인 것
을 포함하는, 층 구조물 A-B-C-D 또는 A-B'-C-D를 갖는 홀로그래픽 필름을 제조하는 단계;
- o 접착제 층 E를 층 구조물 A-B-C-D 또는 A-B'-C-D 상부에 적용하여 층 복합체 A-B-C-D-E 또는 A-B'-C-D-E를 형성하는 것;
o 임의로 층 복합체 A-B-C-D-E의 광중합체 층 B 내로 홀로그램을 새겨 층 복합체 A-B*-C-D-E를 형성하고, 여기서 B*는 새겨진 홀로그램을 포함하는 광중합체 층인 것;
o 임의로 전체 층 구조물 A-B*-C-D-E의 면 광대역 UV/VIS 조사에 의해 5 - 10 J/cm2의 선량으로 광중합체 층 B*에 홀로그램을 고정시켜 층 복합체 A-B'-C-D-E를 형성하고, 여기서 B'는 탈색되고 관통-중합되고 더 이상 감광성이 아니며, 고정된 홀로그램을 포함하는 광중합체 층 B인 것
을 포함하는 층 구조물 A-B-C-D-E 또는 A-B'-C-D-E를 갖는 홀로그래픽 필름을 제조하는 단계.
본 발명에 따른 방법의 추가의 바람직한 실시양태에서, 이는 하기 단계를 포함한다:
- o 광중합체 층 B의 제조를 위한 코팅 물질을 제조하는 것;
o 기재 A를 이 코팅 물질로 코팅하여 층 복합체 A-B를 형성하는 것;
o (I) 적어도 1종의 폴리비닐 알콜,
(II) 폴리비닐 알콜에 대한 적어도 1종의 가교제,
(III) 임의로 적어도 1종의 접착 촉진제, 여기서 접착 촉진제는 바람직하게는 아미노알킬 트리알콕시실란의 적어도 1종의 가수분해물임, 및
(IV) 임의로 적어도 1종 이상의 계면활성제
를 포함하는 보호 층 C의 제조를 위한 수성 코팅 물질을 제조하는 것;
o 층 구조물 A-B의 광중합체 층 B를 이 코팅 물질로 코팅하여 층 복합체 A-B-C를 형성하는 것;
o 층 복합체 A-B-C를 건조시키는 것;
o 층 복합체 A-B-C의 광중합체 층 B 내로 홀로그램을 새겨 층 복합체 A-B*-C를 형성하고, 여기서 B*는 새겨진 홀로그램을 포함하는 광중합체 층인 것;
o 전체 층 구조물 A-B*-C의 면 광대역 UV/VIS 조사에 의해 5 - 10 J/cm2의 광 에너지 선량으로 광중합체 층 B*에 홀로그램을 고정시켜 층 복합체 A-B'-C를 형성하고, 여기서 B'는 탈색되고 관통-중합되고 더 이상 감광성이 아니며, 고정된 홀로그램을 포함하는 광중합체 층 B인 것
을 포함하는 층 구조물 A-B'-C를 갖는 홀로그래픽 필름을 제조하는 단계;
- o 접착제 층 D를 층 구조물 A-B'-C의 보호 층 C 상부에 바람직하게는 코팅 물질의 적층 적용에 의해 적용하여 층 복합체 A-B'-C-D를 형성하고, 여기서 접착제 층 D는 바람직하게는 OCA 필름 (광학적으로 투명한 접착 필름)인 것;
o 임의로 OCA 접착제 층으로부터 라이너 필름을 제거하는 것;
o 기재 층 E를 층 구조물 A-B'-C-D 상부에 적용하여 층 복합체 A-B'-C-D-E를 형성하고, 여기서 기재 층 E는 바람직하게는 유리이고 적층적으로 적용하는 것;
o 임의로 5 - 10 J/cm2의 광 에너지 선량으로 전체 필름 구조물 A-B'-C-D-E의 면 광대역 UV/VIS의 조사
를 포함하는 층 구조물 A-B'-C-D-E를 갖는 홀로그래픽 필름을 제조하는 단계.
전체 필름 구조물 A-B'-C-D-E의 최종 임의적인 UV/VIS 조사는 접착제 층 D로서의 UV-경화성의 광학적으로 투명한 접착제, 예를 들어 독일 노르더스테트 소재의 테사 에스이(Tesa SE)로부터의 OCA-69604가 경화 및 최종 고정되도록 하는 이점을 갖는다.
본 발명에 따른 방법의 추가의 바람직한 실시양태에서, 이는 하기 단계를 포함한다:
- o 광중합체 층 B의 제조를 위한 코팅 물질을 제조하는 것;
o 기재 A를 이 코팅 물질로 코팅하여 층 복합체 A-B를 형성하는 것;
o (I) 적어도 1종의 폴리비닐 알콜,
(II) 폴리비닐 알콜에 대한 적어도 1종의 가교제,
(III) 임의로 적어도 1종의 접착 촉진제, 여기서 접착 촉진제는 바람직하게는 아미노알킬 트리알콕시실란의 적어도 1종의 가수분해물임, 및
(IV) 임의로 적어도 1종 이상의 계면활성제
를 포함하는 보호 층 C의 제조를 위한 수성 코팅 물질을 제조하는 것;
o 층 구조물 A-B의 광중합체 층 B를 이 코팅 물질로 코팅하여 층 복합체 A-B-C를 형성하는 것;
o 층 복합체 A-B-C를 건조시키는 것;
o 접착제 층 D의 제조를 위한 코팅 물질을 제조하고, 여기서 코팅 물질은 바람직하게는 OCA 필름 (광학적으로 투명한 접착 필름)인 것;
o 암소에서 접착제 층 D를 층 구조물 A-B-C의 보호 층 C 상부에 바람직하게는 암소에서 코팅 물질의 적층 적용에 의해 적용하여 층 복합체 A-B-C-D를 형성하는 단계;
o 임의로 암소에서 OCA 접착제 층으로부터 라이너 필름을 제거하는 것;
o 암소에서 기재 층 E를 층 구조물 A-B-C-D 상부에 바람직하게는 적층 적용에 의해 적용하여 감광성 층 복합체 A-B-C-D-E를 형성하고, 여기서 기재 층 E는 바람직하게는 유리인 것
을 포함하는, 층 구조물 A-B-C를 갖는 감광성 홀로그래픽 필름을 제조하는 단계;
- o 층 복합체 A-B-C-D-E의 광중합체 층 B 내로 홀로그램을 새겨 층 복합체 A-B*-C-D-E를 형성하고, 여기서 B*는 새겨진 홀로그램을 포함하는 광중합체 층인 것;
o 전체 층 구조물 A-B*-C의 면 광대역 UV/VIS 조사에 의해 5 - 10 J/cm2의 광 에너지 선량으로 광중합체 층 B*에 홀로그램을 고정시켜 층 복합체 A-B'-C-D-E를 형성하고, 여기서 B'는 탈색되고 관통-중합되고 더 이상 감광성이 아니며, 고정된 홀로그램을 포함하는 광중합체 층 B인 것
을 포함하는, 층 구조물 A-B'-C-D-E를 갖는 홀로그래픽 필름을 제조하는 단계.
본 발명에 따른 방법의 바람직한 실시양태에서, DIN 53015:2001-02에 따라 적어도 1종의 폴리비닐 알콜은 20℃에서 물 중 4 중량% 용액으로서 ≥ 25 mPa*s, 바람직하게는 ≥ 50 mPa*s의 점도를 갖는다.
본 발명에 따른 방법의 바람직한 실시양태에서, DIN EN ISO 3681:2007-10-01에 따른 폴리비닐 알콜은 ≥ 85 몰%, 보다 바람직하게는 ≥ 95 몰%의 가수분해도를 갖는다.
본 발명에 따른 방법의 바람직한 실시양태에서 폴리비닐 알콜에 대한 가교제는 수성 글리옥살 용액, 글루타르알데히드, 옥살산, N,N'-디메틸우레아, 수산화마그네슘, 수산화칼슘, 붕산, 보레이트 염, 알루미네이트, 황산알루미늄, 규산, 규산 에스테르 및/또는 이들 중 적어도 2종의 조합으로부터 선택되고, 바람직하게는 수성 글리옥살 용액, 붕산, 보레이트 염 및/또는 이들 중 적어도 2종의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된다.
본 발명에 따른 방법의 바람직한 실시양태에서, 각각 사용된 적어도 1종의 폴리비닐 알콜 총량 대 적어도 1종의 가교제의 중량비는 70:30 내지 90:10, 보다 바람직하게는 75:25 내지 80:20, 보다 더 바람직하게는 75:25 내지 82:18이다.
본 발명에 따른 방법의 바람직한 실시양태에서, 경화된 보호 층 C는 3 μm 내지 30 μm, 바람직하게는 5 μm 내지 15 μm의 층 두께를 갖는다.
본 발명은 마찬가지로 본 발명에 따른 방법에 의해 수득가능한 층 구조물을 제공한다.
기재 층 A
기재 층 A는 바람직하게는 열가소성 기재 층/기재 필름 또는 또 다른 캐리어, 예를 들어 유리, 플라스틱, 금속 또는 목재이다. 열가소성 기재 층 A의 물질 또는 물질 복합체는 폴리카르보네이트 (PC), 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET), 무정형 폴리에스테르, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 셀룰로스 아세테이트, 셀룰로스 수화물, 셀룰로스 니트레이트, 시클로올레핀 중합체, 폴리스티렌, 수소화 폴리스티렌, 폴리에폭시드, 폴리술폰, 열가소성 폴리우레탄 (TPU), 셀룰로스 트리아세테이트 (CTA), 폴리아미드 (PA), 폴리메틸 메타크릴레이트 (PMMA), 폴리비닐 클로라이드, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐부티랄 또는 폴리디시클로펜타디엔 또는 그의 혼합물을 기재로 한다. 이들은 특히 바람직하게는 PC, PET, PA, PMMA 및 CTA를 기재로 한다. 물질 복합체는 필름 라미네이트 또는 공압출물일 수 있다. 바람직한 물질 복합체는 체계 A/B, A/B/A 또는 A/B/C 중 1개에 따라 구성된 이중 및 삼중 필름이다. PC/PMMA, PC/PA, PC/PET, PET/PC/PET 및 PC/TPU이 특히 바람직하다. 기재 층 A가 400-800 nm의 스펙트럼 영역에서 투명한 것이 바람직하다.
광중합체 층 B
홀로그램은 비조사된 광중합체 층 B 내로 새긴 다음, 바람직하게는 새겨진 홀로그램을 포함하는 광중합체 층의 면 광대역 UV/VIS 조사에 의해 5-10 J/cm2의 광 에너지 선량으로 홀로그램을 광학적으로 고정시킬 수 있다. 고정 동안, 홀로그램의 국소 형성에 관여하지 않는 기록 단량체의 잔기는 전체 광중합체 층에서 관통-중합된다. 증감제로서 사용된 염료는 마찬가지로 광화학적으로 파괴된다. 염료에 의해 초래되는 광중합체 층 B의 강한 기술적 변색은 완전히 사라진다. 광중합체 층 B는 고정에 의해 탈색되고, 더 이상 감광성이 아니고 염료 무함유의 안정한 새겨진 홀로그램을 포함하는 광중합체 층 B로 전환된다.
광중합체 층에서, 1개 이상의 홀로그램은 동일한 위치에서 또는 서로 옆에 광으로 새겨질 수 있고/있었다. 동일한 위치에서 광으로 새김을 수행하는 경우, 상이한 이미지 내용을 광으로 새길 수 있다. 마찬가지로, 약간 다양한 재구성 각도를 갖는 물체의 상이한 측면을 광으로 새겨 스테레오그램을 형성하는 것이 가능하다. 마찬가지로, 숨겨진 홀로그램 및 마이크로텍스트를 광으로 새기는 것이 가능하다. 마찬가지로, 투과 홀로그램의 경우에 여러 스펙트럼 범위에 대해 여러 광 가이드 기능 및/또는 광 가이드 기능을 광으로 새기는 것도 가능하다.
광중합체 층 B는 바람직하게는 가교된 매트릭스 중합체, 특히 3차원적으로 가교된 매트릭스 중합체를 포함하고, 여기서 매트릭스 중합체는 바람직하게는 폴리우레탄이다.
광중합체 층 B는 매트릭스 중합체, 기록 단량체 및 광개시제를 포함한다. 사용가능한 매트릭스 중합체는 무정형 열가소성 물질, 예를 들어 폴리아크릴레이트, 폴리메틸 메타크릴레이트 또는 메틸 메타크릴레이트, 메타크릴산 또는 다른 알킬 아크릴레이트와 알킬 메타크릴레이트, 및 또한 아크릴산의 공중합체, 예를 들어 폴리부틸 아크릴레이트, 및 또한 폴리비닐 아세테이트 및 폴리비닐 부티레이트, 그의 부분 가수분해된 유도체, 예컨대 폴리비닐 알콜, 및 에틸렌 및/또는 추가의 (메트)아크릴레이트와의 공중합체, 젤라틴, 셀룰로스 에스테르 및 셀룰로스 에테르, 예컨대 메틸 셀룰로스, 셀룰로스 아세토부티레이트, 실리콘, 예를 들어 폴리디메틸실리콘, 폴리우레탄, 폴리부타디엔 및 폴리이소프렌, 및 또한 폴리에틸렌 옥시드, 에폭시 수지, 특히 지방족 에폭시 수지, 폴리아미드, 폴리카르보네이트 및 US 4994347A 및 그 안에 언급된 시스템이다.
에폭시 수지는 양이온성 내부가교될 수 있다. 또한, 가교제로서 산/무수물, 아민, 히드록시알킬 아미드 및 티올을 사용하는 것이 가능하다. 실리콘은 물의 존재 하에 (및 임의로 브뢴스테드 산 촉매작용 하에) 축합을 통해 1-성분 시스템으로서, 또는 규산 에스테르 또는 유기주석 화합물의 첨가에 의해 2-성분 시스템으로서 가교될 수 있다. 비닐-실란 시스템에서의 히드로실릴화가 또한 가능하다.
불포화 화합물, 예를 들어 아크릴로일-관능성 중합체 또는 불포화 에스테르는 아민 또는 티올과 가교될 수 있다. 양이온성 비닐 에테르 중합이 또한 가능하다.
그러나, 매트릭스 중합체가 가교되고, 바람직하게는 3차원 가교되고, 매우 특히 바람직하게는 3차원 가교된 폴리우레탄인 경우가 특히 바람직하다.
폴리우레탄 매트릭스 중합체는 특히 적어도 1종의 폴리이소시아네이트 성분 a)와 적어도 1종의 이소시아네이트-반응성 성분 b)의 반응에 의해 수득가능하다.
폴리이소시아네이트 성분 a)는 적어도 2개의 NCO 기를 갖는 적어도 1종의 유기 화합물을 포함한다. 이들 유기 화합물은 특히 단량체 디- 및 트리이소시아네이트, 폴리이소시아네이트 및/또는 NCO-관능성 예비중합체일 수 있다. 폴리이소시아네이트 성분 a)는 또한 단량체 디- 및 트리이소시아네이트, 폴리이소시아네이트 및/또는 NCO-관능성 예비중합체의 혼합물을 함유하거나 또는 이로 이루어질 수 있다.
사용가능한 단량체 디- 및 트리이소시아네이트는 관련 기술분야의 통상의 기술자에게 그 자체로 널리 공지된 모든 화합물 또는 그의 혼합물을 포함한다. 이들 화합물은 방향족, 아르지방족, 지방족 또는 시클로지방족 구조를 가질 수 있다. 단량체 디- 및 트리이소시아네이트는 모노이소시아네이트, 즉 1개의 NCO 기를 갖는 유기 화합물을 또한 소량으로 포함할 수 있다.
적합한 단량체 디- 및 트리이소시아네이트의 예는, 부탄 1,4-디이소시아네이트, 펜탄 1,5-디이소시아네이트, 헥산 1,6-디이소시아네이트 (헥사메틸렌 디이소시아네이트, HDI), 2,2,4-트리메틸헥사메틸렌 디이소시아네이트 및/또는 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌 디이소시아네이트 (TMDI), 이소포론 디이소시아네이트 (IPDI), 1,8-디이소시아네이토-4-(이소시아네이토메틸)옥탄, 비스(4,4'-이소시아네이토시클로헥실)메탄 및/또는 비스(2',4-이소시아네이토시클로헥실)메탄 및/또는 임의의 이성질체 함량을 갖는 그의 혼합물, 시클로헥산 1,4-디이소시아네이트, 이성질체 비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 2,4- 및/또는 2,6-디이소시아네이토-1-메틸시클로헥산 (헥사히드로톨릴렌 2,4- 및/또는 2,6-디이소시아네이트, H6-TDI), 페닐렌 1,4-디이소시아네이트, 톨릴렌 2,4- 및/또는 2,6-디이소시아네이트 (TDI), 나프틸렌 1,5-디이소시아네이트 (NDI), 디페닐메탄 2,4'- 및/또는 4,4'-디이소시아네이트 (MDI), 1,3-비스(이소시아네이토메틸)벤젠 (XDI) 및/또는 유사체 1,4 이성질체 또는 상기 언급된 화합물의 임의의 바람직한 혼합물이다.
적합한 폴리이소시아네이트는 우레탄, 우레아, 카르보디이미드, 아실우레아, 아미드, 이소시아누레이트, 알로파네이트, 뷰렛, 옥사디아진트리온, 우레트디온 및/또는 이미노옥사디아진디온 구조를 갖는 화합물이고, 상기 언급된 디- 또는 트리이소시아네이트로부터 수득가능하다.
보다 바람직하게는, 폴리이소시아네이트가 올리고머화된 지방족 및/또는 시클로지방족 디- 또는 트리이소시아네이트이고, 상기 지방족 및/또는 시클로지방족 디- 또는 트리이소시아네이트를 사용하는 것이 특히 가능하다.
이소시아누레이트, 우레트디온 및/또는 이미노옥사디아진디온 구조를 갖는 폴리이소시아네이트, 및 HDI를 기재로 하는 뷰렛 또는 그의 혼합물이 매우 특히 바람직하다.
적합한 예비중합체는 우레탄 및/또는 우레아 기, 및 임의로 상기 언급된 바와 같은 NCO 기의 개질을 통해 형성된 추가의 구조를 함유한다. 이 유형의 예비중합체는, 예를 들어, 상기 언급된 단량체 디- 및 트리이소시아네이트 및/또는 폴리이소시아네이트 a1)과 이소시아네이트-반응성 화합물 b1)의 반응에 의해 수득가능하다.
사용가능한 이소시아네이트-반응성 화합물 b1)은 알콜 또는 아미노 또는 메르캅토 화합물, 바람직하게는 알콜을 포함한다. 이들은 특히 폴리올일 수 있다. 가장 바람직하게는, 사용된 이소시아네이트-반응성 화합물 b1)은 폴리에스테르 폴리올, 폴리에테르 폴리올, 폴리카르보네이트 폴리올, 폴리 (메트)아크릴레이트 폴리올 및/또는 폴리우레탄 폴리올일 수 있다.
적합한 폴리에스테르 폴리올은, 예를 들어, 지방족, 시클로지방족 또는 방향족 디- 또는 폴리카르복실산 또는 그의 무수물과 OH 관능가 ≥ 2의 다가 알콜의 반응에 의해 공지된 방식으로 수득될 수 있는 선형 폴리에스테르 디올 또는 분지형 폴리에스테르 폴리올이다. 적합한 디- 또는 폴리카르복실산의 예는, 다염기성 카르복실산, 예컨대 숙신산, 아디프산, 수베르산, 세바스산, 데칸디카르복실산, 프탈산, 테레프탈산, 이소프탈산, 테트라히드로프탈산 또는 트리멜리트산, 및 산 무수물 예컨대 프탈산 무수물, 트리멜리트산 무수물 또는 숙신산 무수물, 또는 그의 임의의 바람직한 혼합물이다. 폴리에스테르 폴리올은 또한 천연 원료, 예컨대 피마자 오일을 기재로 할 수 있다. 마찬가지로, 폴리에스테르 폴리올은 락톤의 단독중합체 또는 공중합체를 기재로 하는 것이 가능하며, 이는 예를 들어 상기 언급된 유형의 히드록시-관능성 화합물, 예컨대 OH 관능가 ≥ 2의 다가 알콜 상에 락톤 또는 락톤 혼합물 예컨대 부티로락톤, ε-카프로락톤 및/또는 메틸-ε-카프로락톤의 부가에 의해 바람직하게는 수득가능하다.
적합한 알콜의 예는 모든 다가 알콜, 예를 들어 C2-C12 디올, 이성질체 시클로헥산디올, 글리세롤 또는 이들의 서로간의 임의의 바람직한 혼합물이다.
적합한 폴리카르보네이트 폴리올은 그 자체로 공지된 방식으로, 유기 카르보네이트 또는 포스겐과 디올 또는 디올 혼합물을 반응시켜 수득가능하다.
적합한 유기 카르보네이트는 디메틸 카르보네이트, 디에틸 카르보네이트 및 디페닐 카르보네이트이다.
적합한 디올 또는 혼합물은 폴리에스테르 세그먼트와 관련하여 그 자체로 언급된 OH 관능가 ≥ 2의 다가 알콜, 바람직하게는 부탄-1,4-디올, 헥산-1,6-디올 및/또는 3-메틸펜탄디올을 포함한다. 또한, 폴리에스테르 폴리올을 폴리카르보네이트 폴리올로 전환시키는 것이 가능하다.
적합한 폴리에테르 폴리올은 OH- 또는 NH-관능성 출발물 분자 상에의 시클릭 에테르의 중부가 생성물, 임의로 블록방식 구조물의 생성물이다.
적합한 시클릭 에테르는 예를 들어, 스티렌 옥시드, 에틸렌 옥시드, 프로필렌 옥시드, 테트라히드로푸란, 부틸렌 옥시드, 에피클로로히드린 및 그의 임의의 바람직한 혼합물이다.
사용되는 출발물은 폴리에스테르 폴리올과 관련하여 그 자체로 언급된 OH 관능가 ≥ 2의 다가 알콜, 및 또한 1급 또는 2급 아민 및 아미노 알콜일 수 있다.
바람직한 폴리에테르 폴리올은 독점적으로 프로필렌 옥시드만을 기재로 하는 상기 언급된 유형의 것, 또는 프로필렌 옥시드와 추가의 1-알킬렌 옥시드를 기재로 하는 랜덤 또는 블록 공중합체이다. 특히 바람직하게는, 프로필렌 옥시드 단독중합체, 및 옥시에틸렌, 옥시프로필렌 및/또는 옥시부틸렌 단위를 갖는 랜덤 또는 블록 공중합체이며, 여기서 옥시프로필렌 단위의 분율은 모든 옥시에틸렌, 옥시프로필렌 및 옥시부틸렌 단위의 총량을 기준으로 적어도 20 중량%, 바람직하게는 적어도 45 중량%으로 이루어진다. 여기서 옥시프로필렌 및 옥시부틸렌은 모두 각각의 선형 및 분지형 C3 및 C4 이성질체를 포함한다.
또한, 다관능성 이소시아네이트-반응성 화합물로서의 폴리올 성분 b1)의 적합한 구성성분은 또한 낮은 분자량, 즉 ≤ 500 g/mol의 분자량을 갖고, 단쇄를 갖는, 즉 2 내지 20개의 탄소 원자를 함유하는 지방족, 아르지방족 또는 시클로지방족 이관능성, 삼관능성 또는 다관능성 알콜이다.
이들은, 예를 들어, 상기 언급된 화합물에 추가로, 네오펜틸 글리콜, 2-에틸-2-부틸프로판디올, 트리메틸펜탄디올, 위치 이성질체 디에틸옥탄디올, 시클로헥산디올, 시클로헥산-1,4-디메탄올, 헥산-1,6-디올, 시클로헥산-1,2- 및 -1,4-디올, 수소화 비스페놀 A, 2,2-비스(4-히드록시시클로헥실)프로판 또는 2,2-디메틸-3-히드록시프로피온산, 2,2-디메틸-3-히드록시프로필 에스테르일 수 있다. 적합한 트리올의 예는, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판 또는 글리세롤이다. 적합한 보다 높은 관능가의 알콜은 디(트리메틸올프로판), 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨 또는 소르비톨이다.
폴리올 성분이 1급 OH 관능기를 갖는 이관능성 폴리에테르, 폴리에스테르 또는 폴리에테르-폴리에스테르 블록 코폴리에스테르 또는 폴리에테르-폴리에스테르 블록 공중합체인 경우가 특히 바람직하다.
마찬가지로, 이소시아네이트-반응성 화합물 b1)로서 아민을 사용하는 것이 가능하다. 적합한 아민의 예는 에틸렌디아민, 프로필렌디아민, 디아미노시클로헥산, 4,4'-디시클로헥실메탄디아민, 이소포론디아민 (IPDA), 이관능성 폴리아민, 예를 들어 제파민(Jeffamine)®, 특히 수-평균 몰 질량 ≤ 10,000 g/mol을 갖는 아민-종결 중합체이다. 상기 언급된 아민의 혼합물도 마찬가지로 사용될 수 있다.
마찬가지로, 이소시아네이트-반응성 화합물 b1)로서 아미노 알콜을 사용하는 것이 가능하다. 적합한 아미노 알콜의 예는, 이성질체 아미노에탄올, 이성질체 아미노프로판올, 이성질체 아미노부탄올 및 이성질체 아미노헥산올, 또는 그의 임의의 바람직한 혼합물이다.
모든 상기 언급된 이소시아네이트-반응성 화합물 b1)은 목적하는 바에 따라 서로 혼합될 수 있다.
또한, 이소시아네이트-반응성 화합물 b1)이 ≥ 200 및 ≤ 10,000 g/mol, 보다 바람직하게는 ≥ 500 및 ≤ 8,000 g/mol, 매우 특히 바람직하게는 ≥ 800 및 ≤ 5,000 g/mol의 수-평균 몰 질량을 갖는 경우가 바람직하다. 폴리올의 OH 관능가는 바람직하게는 1.5 내지 6.0, 특히 바람직하게는 1.8 내지 4.0이다.
폴리이소시아네이트 성분 a)의 예비중합체는 특히 < 1 중량% , 특히 바람직하게는 < 0.5 중량%, 매우 특히 바람직하게는 < 0.3 중량%의 유리 단량체 디- 및 트리이소시아네이트의 잔여 함량을 가질 수 있다.
또한, 폴리이소시아네이트 성분 a)가 완전히 또는 부분적으로, NCO 기가 코팅 기술로부터 공지된 블록킹제와 완전히 또는 부분적으로 반응된 유기 화합물을 함유하는 것이 가능할 수 있다. 블록킹제의 예는, 알콜, 락탐, 옥심, 말론산 에스테르, 피라졸, 및 아민, 예를 들어 부탄온 옥심, 디이소프로필아민, 디에틸 말로네이트, 에틸 아세토아세테이트, 3,5-디메틸피라졸, ε-카프로락탐, 또는 그의 혼합물이다.
폴리이소시아네이트 성분 a)가 지방족 결합된 NCO 기를 갖는 화합물을 포함하는 경우가 특히 바람직하고, 여기서 지방족 결합된 NCO 기는 1급 탄소 원자에 결합된 기를 의미하는 것으로 이해된다. 이소시아네이트-반응성 성분 b)는 바람직하게는 평균 적어도 1.5개, 바람직하게는 2 내지 3개의 이소시아네이트-반응성 기를 갖는 적어도 1종의 유기 화합물을 포함한다. 본 발명과 관련하여, 이소시아네이트-반응성 기는 히드록실, 아미노 또는 메르캅토 기인 것으로 간주된다.
이소시아네이트-반응성 성분은 특히 수 평균 적어도 1.5개, 바람직하게는 2 내지 3개의 이소시아네이트-반응성 기를 갖는 화합물을 포함한다.
성분 b)의 적합한 다관능성 이소시아네이트-반응성 화합물은, 예를 들어 상기 기재된 화합물 b1)이다.
본 발명에 따른 적합한 광개시제는 전형적으로 화학 방사선에 의해 활성화될 수 있고 기록 단량체의 중합을 개시할 수 있는 화합물이다. 광개시제 중에서, 단분자 (유형 I) 및 이분자 (유형 II) 개시제로 구별될 수 있다. 추가로, 이들은 자유-라디칼, 음이온성, 양이온성 또는 혼합 유형의 중합을 위한 광개시제로서 그의 화학적 성질에 의해 구분된다.
자유-라디칼 광중합을 위한 유형 I 광개시제 (노리쉬 (Norrish) 유형 I)는 조사시 단분자 결합 절단을 통해 자유 라디칼을 형성한다. 유형 I 광개시제의 예는, 트리아진, 옥심, 벤조인 에테르, 벤질 케탈, 비스이미다졸, 아로일포스핀 옥시드, 술포늄 염 및 아이오도늄 염이다.
자유-라디칼 중합을 위한 유형 II 광개시제 (노리쉬 유형 II)는 염료 증감제 및 공개시제로 이루어지고, 염료에 맞춰진 광에 의한 조사시 이분자 반응을 겪는다. 염료는 먼저 광자를 흡수하고 에너지를 여기 상태로부터 공개시제에 전달한다. 후자는 전자 또는 광자 전달 또는 직접 수소 제거를 통해 중합-개시 자유 라디칼을 방출한다.
본 발명과 관련하여, 유형 II 광개시제를 사용하는 것이 바람직하다.
유형 II 광개시제의 염료 및 공개시제는 광중합체의 추가의 성분과 직접적으로 공동으로 혼합될 수 있거나, 또는 대안적으로 개별 성분과 개별적으로 각각 예비혼합될 수 있다. 특히, 광중합체가 폴리우레탄 매트릭스 중합체를 함유하는 경우, 염료는 이소시아네이트-반응성 성분 및 이소시아네이트 성분을 갖는 공개시제와 예비혼합될 수 있다. 그러나, 마찬가지로, 공개시제와 이소시아네이트-반응성 성분 및 이소시아네이트 성분을 갖는 염료와 사전에 혼합하는 것이 가능하다.
이러한 광개시제 시스템은 원칙적으로 EP 0 223 587 A에 기재되어 있고, 바람직하게는 1종 이상의 염료와 암모늄 알킬아릴보레이트(들)의 혼합물로 이루어진다.
암모늄 알킬아릴보레이트와 함께 유형 II 광개시제를 형성하는 적합한 염료는, WO 2012062655에 기재된 양이온성 염료가 그 안에 마찬가지로 기재된 음이온과 조합된 것이다.
적합한 암모늄 알킬아릴보레이트는 예를 들어 (Cunningham et al. RadTech'98 North America UV/EB Conference Proceedings, Chicago, Apr. 19-22, 1998): 테트라부틸암모늄 트리페닐헥실보레이트, 테트라부틸암모늄 트리페닐부틸보레이트, 테트라부틸암모늄 트리나프틸헥실보레이트, 테트라부틸암모늄 트리스(4-tert-부틸)페닐부틸보레이트, 테트라부틸암모늄 트리스(3-플루오로페닐)헥실보레이트 ([191726-69-9], CGI 7460, 바스프 에스이(BASF SE)로부터의 제품, 스위스 바젤), 1-메틸-3-옥틸이미다졸륨 디펜틸디페닐보레이트 및 테트라부틸암모늄 트리스(3-클로로-4-메틸페닐)헥실보레이트 ([1147315-11-4], CGI 909, 바스프 에스이로부터의 제품, 스위스 바젤)이다.
이들 광개시제의 혼합물을 사용하는 것이 유리할 수 있다. 사용되는 방사선 공급원에 따라, 광개시제의 유형 및 농도는 관련 기술분야의 통상의 기술자에게 공지된 방식으로 조정되어야 한다. 추가의 상세사항은, 예를 들어, 문헌 [P. K. T. Oldring (Ed.), Chemistry & Technology of UV & EB Formulations For Coatings, Inks & Paints, Vol. 3, 1991, SITA Technology, London, p. 61-328]에 기재되어 있다.
광개시제가 흡수 스펙트럼이 400 내지 800 nm인 스펙트럼 범위를 적어도 부분적으로 커버하는 염료와 염료에 맞춰진 적어도 1종의 공개시제의 조합을 포함하는 경우 매우 특히 바람직하다.
청색, 녹색 및 적색으로부터 선택된 레이저 광 색상에 대해 적합한 적어도 1종의 광개시제가 광중합체 배합물에 존재하는 경우가 또한 바람직하다.
또한, 광중합체 배합물이 청색, 녹색 및 적색으로부터 선택된 적어도 2종의 레이저 광 색상의 각각에 대해 적합한 광개시제를 함유하는 경우가 더욱 바람직하다.
최종적으로, 광중합체 배합물이 청색, 녹색 및 적색의 레이저 광 색상의 각각에 대해 적합한 광개시제를 함유하는 경우가 매우 특히 바람직하다.
추가의 바람직한 실시양태는 기록 단량체가 일관능성 및/또는 다관능성 (메트)아크릴레이트 기록 단량체를 포함하는 것을 제공한다. 기록 단량체는 매우 특히 바람직하게는 적어도 1종의 일관능성 및/또는 1종의 다관능성 우레탄 (메트)아크릴레이트를 추가로 포함할 수 있다.
적합한 아크릴레이트 기록 단량체는 특히 화학식 (I)의 화합물이다.
Figure 112020008110837-pct00001
여기서 n ≥ 1 및 n ≤ 4이고, R41은 선형, 분지형, 시클릭 또는 헤테로시클릭의 비치환 또는 임의로 헤테로원자-치환된 유기 라디칼이고/거나, R42는 수소, 선형, 분지형, 시클릭 또는 헤테로시클릭의 비치환 또는 임의로 헤테로원자-치환된 유기 라디칼이다. 보다 바람직하게는, R42는 수소 또는 메틸이고/거나 R41는 비치환 또는 임의로 헤테로원자로 치환된, 선형, 분지형, 시클릭 또는 헤테로시클릭 유기 모이어티이다.
아크릴레이트 및 메타크릴레이트는 본 문맥 내에서, 각각, 아크릴산 및 메타크릴산의 에스테르를 지칭한다. 바람직하게 사용가능한 아크릴레이트 및 메타크릴레이트의 예는, 페닐 아크릴레이트, 페닐 메타크릴레이트, 페녹시에틸 아크릴레이트, 페녹시에틸 메타크릴레이트, 페녹시에톡시에틸 아크릴레이트, 페녹시에톡시에틸 메타크릴레이트, 페닐티오에틸 아크릴레이트, 페닐티오에틸 메타크릴레이트, 2-나프틸 아크릴레이트, 2-나프틸 메타크릴레이트, 1,4-비스(2-티오나프틸)-2-부틸 아크릴레이트, 1,4-비스(2-티오나프틸)-2-부틸 메타크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 비스페놀 A 디메타크릴레이트, 및 그의 에톡실화 유사체 화합물, N-카르바졸릴 아크릴레이트이다.
우레탄 아크릴레이트는 본 문맥 내에서 적어도 1개의 아크릴산 에스테르 기 및 적어도 1개의 우레탄 결합을 갖는 화합물을 의미하는 것으로 이해된다. 이러한 화합물은, 예를 들어, 히드록시-관능성 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트와 이소시아네이트-관능성 화합물을 반응시킴으로써 수득될 수 있다.
이러한 목적을 위해 사용가능한 이소시아네이트-관능성 화합물의 예는, 모노이소시아네이트, 및 a) 하에 언급된 단량체 디이소시아네이트, 트리이소시아네이트 및/또는 폴리이소시아네이트이다. 적합한 모노이소시아네이트의 예는 페닐 이소시아네이트, 이성질체 메틸티오페닐 이소시아네이트이다. 디-, 트리- 또는 폴리이소시아네이트는 상기 언급되어 있으며, 트리페닐메탄 4,4',4"-트리이소시아네이트 및 트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트 또는 우레탄, 우레아, 카르보디이미드, 아실우레아, 이소시아누레이트, 알로파네이트, 뷰렛, 옥사디아진트리온, 우레트디온 또는 이미노옥사디아진디온 구조를 갖는 그의 유도체 및 그의 혼합물이다. 방향족 디-, 트리- 또는 폴리이소시아네이트가 바람직하다.
우레탄 아크릴레이트의 제조에 고려되는 히드록시-관능성 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트는, 예를 들어, 화합물 예컨대 2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌 옥시드 모노(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌 옥시드 모노(메트)아크릴레이트, 폴리알킬렌 옥시드 모노(메트)아크릴레이트, 폴리(ε-카프로락톤) 모노(메트)아크릴레이트, 예를 들어 톤(Tone)® M100 (다우(Dow), 독일 슈발바흐), 2-히드록시프로필 (메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸 (메트)아크릴레이트, 3-히드록시-2,2-디메틸프로필 (메트)아크릴레이트, 히드록시프로필 (메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필 아크릴레이트, 다가 알콜의 히드록시-관능성 모노-, 디- 또는 테트라아크릴레이트 예컨대 트리메틸올프로판, 글리세롤, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 에톡실화, 프로폭실화 또는 알콕실화 트리메틸올프로판, 글리세롤, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨 또는 그의 공업용 등급 혼합물을 포함한다. 2-히드록시에틸 아크릴레이트, 히드록시프로필 아크릴레이트, 4-히드록시부틸 아크릴레이트 및 폴리(ε-카프로락톤) 모노(메트)아크릴레이트가 바람직하다.
마찬가지로, 그 자체로 공지된 20 내지 300 mg KOH/g의 OH 함량을 갖는 히드록실-함유 에폭시 (메트)아크릴레이트 또는 20 내지 300 mg KOH/g의 OH 함량을 갖는 히드록실-함유 폴리우레탄 (메트)아크릴레이트 또는 20 내지 300 mg KOH/g의 OH 함량을 갖는 아크릴화 폴리아크릴레이트 및 이들의 서로간의 혼합물, 및 히드록실-함유 불포화 폴리에스테르와의 혼합물 및 폴리에스테르 (메트)아크릴레이트와의 혼합물 또는 히드록실-함유 불포화 폴리에스테르와 폴리에스테르 (메트)아크릴레이트의 혼합물을 사용하는 것이 가능하다.
트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트 및/또는 m-메틸티오페닐 이소시아네이트와 알콜-관능성 아크릴레이트 예컨대 히드록시에틸 (메트)아크릴레이트, 히드록시프로필 (메트)아크릴레이트 및/또는 히드록시부틸 (메트)아크릴레이트의 반응으로부터 수득가능한 우레탄 아크릴레이트가 특히 바람직하다.
마찬가지로, 기록 단량체는 추가의 불포화 화합물, 예컨대 α,β-불포화 카르복실산 유도체, 예를 들어 말레에이트, 푸마레이트, 말레이미드, 아크릴아미드, 및 또한 비닐 에테르, 프로페닐 에테르, 알릴 에테르, 및 디시클로펜타디에닐 단위를 함유하는 화합물, 및 또한 올레핀계 불포화 화합물, 예를 들어 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔 및/또는 올레핀을 포함하는 것이 가능하다.
추가의 바람직한 실시양태에서, 광중합체 배합물이 첨가제로서 단량체 우레탄을 추가로 함유하며, 그 경우에 우레탄은 특히 적어도 1개의 플루오린 원자로 치환될 수 있는 것이 제공된다.
우레탄은 바람직하게는 화학식 (II)를 가질 수 있다.
Figure 112020008110837-pct00002
여기서 m ≥ 1 및 m ≤ 8이고 R51, R52 및 R53은 선형, 분지형, 시클릭 또는 헤테로시클릭의 비치환 또는 임의로 헤테로원자-치환된 유기 라디칼이고/거나, R52, R53은 서로 독립적으로 수소이고, 여기서 바람직하게는 라디칼 R51, R52, R53 중 적어도 1개는 적어도 1개의 플루오린 원자에 의해 치환되고, 특히 바람직하게는 R51은 적어도 1개의 플루오린 원자를 갖는 유기 라디칼이다. R52는 비치환 또는 헤테로원자, 예를 들어 플루오린으로 임의로 치환된 선형, 분지형, 시클릭 또는 헤테로시클릭 유기 라디칼인 경우가 특히 바람직하다.
본 발명의 추가의 바람직한 실시양태에서, 광중합체는 10 중량% 내지 89.999 중량%, 바람직하게는 20 중량% 내지 70 중량%의 매트릭스 중합체, 3 중량% 내지 60 중량%, 바람직하게는 10 중량% 내지 50 중량%의 기록 단량체, 0.001 중량% 내지 5 중량%, 바람직하게는 0.5 중량% 내지 3 중량%의 광개시제 및 임의로 0 중량% 내지 4 중량%, 바람직하게는 0 중량% 내지 2 중량%의 촉매, 0 중량% 내지 5 중량%, 바람직하게는 0.001 중량% 내지 1 중량%의 안정화제, 0 중량% 내지 40 중량%, 바람직하게는 10 중량% 내지 30 중량%의 단량체 플루오로우레탄 및 0 중량% 내지 5 중량%, 바람직하게는 0.1 중량% 내지 5 중량%의 추가의 첨가제를 함유하며, 여기서 모든 구성성분의 합계는 100 중량%이다.
20 중량% 내지 70 중량%의 매트릭스 중합체, 20 중량% 내지 50 중량%의 기록 단량체, 0.001 중량% 내지 5 중량%의 광개시제, 0 중량% 내지 2 중량%의 촉매, 0.001 중량% 내지 1 중량%의 자유-라디칼 안정화제, 임의로 10 중량% 내지 30 중량%의 플루오로우레탄 및 임의로 0.1 중량% 내지 5 중량%의 추가의 첨가제를 포함하는 광중합체를 사용하는 것이 특히 바람직하다.
사용가능한 촉매는 우레탄화 촉매, 예를 들어 비스무스, 주석, 아연 또는 철의 유기 또는 무기 유도체 (또한 US 2012/062658에 명시된 화합물 참조)를 포함한다. 특히 바람직한 촉매는 부틸주석 트리스(2-에틸헥사노에이트), 철(III) 트리스아세틸아세토네이트, 비스무트(III) 트리스(2-에틸헥사노에이트) 및 주석(II) 비스(2-에틸헥사노에이트)이다. 또한, 입체 장애 아민을 촉매로서 사용하는 것이 또한 가능하다.
사용가능한 안정화제는 자유-라디칼 억제제, 예컨대 HALS 아민, N-알킬 HALS, N-알콕시 HALS 및 N-알콕시에틸 HALS 화합물 및 또한 항산화제 및/또는 UV 흡수제를 포함한다.
사용가능한 추가의 첨가제는 유동 제어제 및/또는 대전방지제 및/또는 요변성제 및/또는 증점제 및/또는 살생물제를 포함한다.
보호 층 C
층 C는 OCA의 액체 유기 성분의 통과를 방지하는 보호 층/장벽 층인데, 이는 이 층이 접착제 성분에 대해 투과성이 아니기 때문이다. 이는 홀로그램에 대한 접착제 성분의 부정적 영향을 방지할 수 있게 한다. 또한, 이러한 장벽 층은 반대 방향으로도 효과적인데, 즉 접착제 층 내로의 광중합체 층의 성분의 탈출 및 가능한 이동이 마찬가지로 방지되어, 따라서 홀로그램의 전체 안정성에 결정적인 기여를 한다.
층 C는 적어도 1종의 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 알콜에 대한 적어도 1종의 가교제, 임의로 적어도 1종의 접착 촉진제 (여기서 접착 촉진제는 바람직하게는 아미노알킬 트리알콕시실란의 적어도 1종의 가수분해물), 임의로 적어도 1종의 계면활성제 및 유일한 용매로서의 물을 함유하는 조성물의 반응에 의해 수득가능하다. 보호 층은 상기 언급된 구성성분을 함유하는 수성 제제로서 광중합체 층 B 상부에 적용된다. 용매 무함유 제제의 사용을 통한 건조 적용이 마찬가지로 가능하다.
폴리비닐 알콜로서, 85 몰% 초과, 보다 바람직하게는 95 몰% 초과의 가수분해도를 갖는 폴리비닐 알콜 (DIN EN ISO 3681:2007-10-01에 따라 측정됨)을 사용하는 것이 바람직하다. 폴리비닐 알콜이 ≥ 25 mPa·s, 보다 더 바람직하게는 ≥ 50 mPa*s의 점도를 갖는 것이 특히 바람직하다 (DIN 53015:2001-02에 따라 20℃에서 4% 수용액으로서 측정됨).
바람직한 폴리비닐 알콜은 쿠라레이 유럽 게엠베하(Kuraray Europe GmbH)로부터의 POVAL 60-98, POVAL 25-88KL 및 POVAL 25-98R이다. 이들은 고온수에 가용성이고, 안정한 점성 용액을 형성하여, 여러 표면에 매우 잘 접착되는 투명한 고-인장 강도 및 탄성 코팅이 제조될 수 있다. 이러한 폴리비닐 알콜은 유기 용매에 및 심지어 단쇄 알콜에 불용성이어서, 따라서 그와 함께 생성된 필름 및 코팅에 유기 용매에 대한 특정한 내성을 부여하는 것으로 유리한 것으로 입증되었다.
폴리비닐 알콜에 대한 가교제로서 바람직하게는, 수성 글리옥살 용액, 글루타르알데히드, 옥살산, N,N'-디메틸우레아, 수산화마그네슘, 수산화칼슘, 붕산, 보레이트 염, 알루미네이트, 황산알루미늄, 규산, 규산 에스테르 및/또는 이들 중 적어도 2종의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 물질, 바람직하게는 수성 글리옥살 용액, 붕산, 보레이트 염 및/또는 이들 중 적어도 2종의 조합으로부터 선택된 물질이 사용된다.
보호 층 C의 고형분 함량에 25 중량% 이하의 양으로 첨가되는, 글루타르알데히드, 옥살산, N,N'-디메틸우레아, 수산화마그네슘, 수산화칼슘, 붕산, 보레이트 염, 알루미네이트, 황산알루미늄, 규산, 규산 에스테르 및/또는 수성 글리옥살 용액은, 폴리비닐 알콜에 대한 가교제로서 작용하고, 건조 동안 및 코팅의 연관 열 처리 동안 가교를 실시하고, 그의 안정성을 영구적으로 개선한다. 본 발명에 따르면 가교가 순수하게 열적으로 진행되는 가교제가 사용된다. 이는 필름의 제조 동안 광중합체 층이 그의 감광성에 영향을 주지 않으면서 안전하게 캡슐화된다는 장점을 갖는다.
각각 사용된 적어도 1종의 폴리비닐 알콜의 총량 대 적어도 1종의 가교제의 중량비는 70:30 내지 90:10, 보다 바람직하게는 75:25 내지 80:20, 보다 더 바람직하게는 75:25 내지 82:18이다.
보호 층 C는 임의로 적어도 1종의 접착 촉진제를 함유할 수 있다. 본 발명의 맥락에서 바람직한 접착 촉진제는 아미노알킬 트리알콕시실란의 가수분해물, 예를 들어 모멘티브(Momentive)로부터의 실퀘스트(Silquest) VS 142이다. 보호 층은 바람직하게는 고형분 함량의 총 중량을 기준으로 하여 고형분 함량에서 2 중량% 이하의 양으로 접착 촉진제를 함유한다.
보호 층 C는 임의로 적어도 1종의 계면활성제를 포함할 수 있다. 바람직한 것은 장쇄 알콜, 특히 C6-C18 알콜, 보다 바람직하게는 C6-C14 알콜, 보다 더 바람직하게는 C8-C12 알콜, 예를 들어 1-옥탄올 또는 3M으로부터의 NOVEC 플루오린화 계면활성제이다. 특히 바람직한 실시양태에서, 1-옥탄올이 계면활성제로서 사용된다.
비경화 보호 층 C의 조성물/제제에 사용된 용매는 물이다. 용매로서의 물의 사용은 광중합체 층 B가 어떠한 방식으로도 부정적 영향을 받지 않는다는 이점을 갖고, 따라서 층 복합체 A-B 상부에 보호 층 C의 습윤 적용의 롤 투 롤 공정을 가능하게 한다. 이 코팅 공정은 비조사 및 비-고정된 광중합체 층으로 암소에서 수행된다. 층 구조물 A-B-C를 갖는 이와 같이 수득된 필름은 그의 감광성을 유지하고 추가의 손상 없이 홀로그램의 기록을 가능하게 한다.
본 발명에 따른 층 C는 어떠한 방식으로도 층 B에서의 홀로그램의 기록 공정에 영향을 주지 않으며, 그의 품질을 저하시키지 않는다. 홀로그램의 강도 및 또한 스펙트럼 위치와 유사하게, A-B-C 필름의 감광성은 임의의 보호 층/장벽 층이 없는 A-B 필름에 대한 값과 거의 다르지 않다.
바람직한 실시양태에서, 경화된 보호 층 C는 3 μm 내지 30 μm, 바람직하게는 5 μm 내지 15 μm의 층 두께를 갖는다.
접착제 층 D
접착제 층 D로서 적합한 것은 보호 층 C 및 기재 층 E를 방해하지 않는 모든 접착제이다. 특히 광학적으로 투명한 접착제 (OCA)가 접착제 층으로서 사용된다. UV 경화를 제공하지 않는 OCA로서의 OCA 필름, 예를 들어 3M으로부터의 8211, 및 OCA-69604 (독일 노르더스테트 소재의 테사 에스이로부터의 UV-경화성의 광학적으로 투명한 접착제)를 사용하는 것이 바람직하다. UV-경화성 OCA의 경우에, 경화는 광중합체 층이 조사되고 광학적으로 고정된 후에 본 발명에 따른 방법의 과정에서 수행될 수 있다. 추가 실시양태에서, OCA의 광학 고정 및 UV 경화는 적용된 UV 방사선의 강도의 적절한 선택을 통해 1개의 공정 단계에서 수행될 수 있다.
기재 층 E
기재 층 E는 열가소성 기재 층/기재 필름 또는 또 다른 캐리어, 예를 들어 유리, 플라스틱, 금속 또는 목재일 수 있다. 열가소성 기재 층 E의 물질 또는 물질 복합체는 폴리카르보네이트 (PC), 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET), 무정형 폴리에스테르, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 셀룰로스 아세테이트, 셀룰로스 수화물, 셀룰로스 니트레이트, 시클로올레핀 중합체, 폴리스티렌, 수소화 폴리스티렌, 폴리에폭시드, 폴리술폰, 열가소성 폴리우레탄 (TPU), 셀룰로스 트리아세테이트 (CTA), 폴리아미드 (PA), 폴리메틸 메타크릴레이트 (PMMA), 폴리비닐 클로라이드, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐 부티랄 또는 폴리디시클로펜타디엔 또는 그의 혼합물을 기재로 할 수 있다. 물질 복합체는 바람직하게는 PC, PET, PA, PMMA 및 CTA를 기재로 한다. 물질 복합체는 필름 라미네이트 또는 공압출물일 수 있다. 바람직한 물질 복합체는 체계 A/B, A/B/A 또는 A/B/C 중 1개에 따라 구성된 이중 및 삼중 필름이다. PC/PMMA, PC/PA, PC/PET, PET/PC/PET 및 PC/TPU이 특히 바람직하다. 기재 층 E가 400-800 nm의 스펙트럼 범위에서 투명한 경우가 바람직하다.
바람직한 실시양태에서, 기재 층 E는 유리이다.
본 발명은 마찬가지로 광중합체 층 B의 보호를 위한 적어도 부분적으로 경화된 보호 층 C의 용도를 제공하며, 여기서 보호 층 C는
(I) 적어도 1종의 폴리비닐 알콜,
(II) 폴리비닐 알콜에 대한 적어도 1종의 가교제,
(III) 임의로 적어도 1종의 접착 촉진제, 여기서 접착 촉진제는 바람직하게는 아미노알킬 트리알콕시실란의 적어도 1종의 가수분해물임, 및
(IV) 임의로 1종 이상의 계면활성제
를 포함하는 수성 조성물의 반응에 의해 수득가능하다.
본 발명에 따른 용도의 바람직한 실시양태에서, DIN 53015:2001-02에 따라 적어도 1종의 폴리비닐 알콜은 20℃에서 물 중 4 중량% 용액으로서 ≥ 25 mPa*s, 바람직하게는 ≥ 50 mPa*s의 점도를 갖는다.
본 발명에 따른 용도의 바람직한 실시양태에서, DIN EN ISO 3681:2007-10-01에 따른 폴리비닐 알콜은 ≥ 85 몰%, 보다 바람직하게는 ≥ 95 몰%의 가수분해도를 갖는다.
본 발명에 따른 용도의 바람직한 실시양태에서, 폴리비닐 알콜에 대한 가교제는 수성 글리옥살 용액, 글루타르알데히드, 옥살산, N,N'-디메틸우레아, 수산화마그네슘, 수산화칼슘, 붕산, 보레이트 염, 알루미네이트, 황산알루미늄, 규산, 규산 에스테르 및/또는 이들 중 적어도 2종의 조합으로부터 선택되고, 바람직하게는 수성 글리옥살 용액, 붕산, 보레이트 염 및/또는 이들 중 적어도 2종의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된다.
바람직한 실시양태는 광중합체 층 B의 보호를 위한 적어도 부분적으로 경화된 보호 층 C의 용도이며, 여기서 보호 층 C는
(I) DIN 53015:2001-02에 따라 20℃에서 물 중 4 중량% 용액으로서 ≥ 25 mPa*s, 바람직하게는 ≥ 50 mPa*s의 점도를 갖는 적어도 1종의 폴리비닐 알콜,
(II) 수성 글리옥살 용액, 글루타르알데히드, 옥살산, N,N'-디메틸우레아, 수산화마그네슘, 수산화칼슘, 붕산, 보레이트 염, 알루미네이트, 황산알루미늄, 규산, 규산 에스테르 및/또는 이들 중 적어도 2종의 조합으로부터 선택되고, 바람직하게는 수성 글리옥살 용액, 붕산, 보레이트 염 및/또는 이들 중 적어도 2종의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된, 폴리비닐 알콜에 대한 적어도 1종의 가교제,
(III) 임의로 적어도 1종의 접착 촉진제, 여기서 접착 촉진제는 바람직하게는 아미노알킬 트리알콕시실란의 적어도 1종의 가수분해물임, 및
(IV) 임의로 1종 이상의 계면활성제
를 포함하는 수성 조성물의 반응에 의해 수득가능하다.
마찬가지로, 본 발명은 바람직하게는 체적 홀로그램을 함유하는 광중합체 층 B의 보호를 위한 본 발명에 따른 부분들의 키트의 용도, 보다 바람직하게는 광중합체 B'가 3차원 가교된 매트릭스 중합체, 특히 바람직하게는 3차원 가교된 폴리우레탄 매트릭스를 포함하는 경우의 용도를 제공한다.
또한, 본 발명은 본 발명에 따른 방법을 위한 본 발명에 따른 부분들의 키트의 용도 또는 본 발명에 따른 층 구조물의 용도를 제공한다.
본 발명은 마찬가지로 홀로그래픽 기록 매체로서의 본 발명에 따른 층 구조물의 용도를 제공한다.
본 발명은 마찬가지로 광학 디스플레이 및 보안 문서의 제조를 위한 본 발명에 따른 층 구조물의 용도를 제공하며, 여기서 광학 디스플레이는 바람직하게는 오토스테레오스코픽 및/또는 홀로그래픽 디스플레이, 투사 스크린, 프라이버시 필터 및 양방향성 멀티유저 스크린용 스위치가능한 한정된 방출 특징을 갖는 디스플레이, 가상 디스플레이, 헤드-업 디스플레이, 헤드-장착 디스플레이, 조명 기호, 경고 램프, 신호 램프, 투광조명/헤드라이트 및 디스플레이 패널로 이루어진 군으로부터 선택된다.
한 실시양태에서, 본 발명에 따른 층 구조물 또는 본 발명에 따른 부분들의 키트는 0.3 μm 내지 500 μm, 바람직하게는 0.5 μm 내지 200 μm, 특히 바람직하게는 1 μm 내지 100 μm의 층 두께를 갖는 홀로그램-포함 광중합체 층을 함유한다.
특히, 홀로그램은 반사, 투과, 인-라인, 오프-액시스, 완전-개구 전사, 백색광 투과, 데니슈크, 오프-액시스 반사 또는 엣지-릿 홀로그램 및 홀로그래픽 스테레오그램, 바람직하게는 반사, 투과 또는 엣지-릿 홀로그램일 수 있다. 반사 홀로그램, 데니슈크 홀로그램, 투과 홀로그램이 바람직하다.
홀로그램의 품질은 ISO 표준 17901-1:2015(E)에 따라 하기 기준에 의해 정의된다. 단순화된 형태의 홀로그램은 이상적인 경우에 기록 레이저의 파장 (λw)에 의해 결정되는 기간을 갖는 광학 격자로서 간주될 수 있다. 회절 요소로서, 이러한 격자는 파장 (λw)을 갖는 광을 반사한다. 홀로그램의 높은 효율 때문에, 이러한 반사는 스펙트럼에서 투과율로 분석될 수 있고, 감소된 투과율을 갖는 피크 (λ피크에서)로서 스펙트럼에 나타난다. 이러한 투과율 감소는
T감소 = (100% - T피크(본 발명의 층 구조물 예를 들어 A-B'-C-D-E)%) (2)
홀로그램의 반사력 (가시적 "강도" 또는 "품질")에 대한 척도로서 제공된다.
본 발명의 문맥에서, 본 발명의 층 구조물 B-C, A-B-C, B-C-D, A-B-C-D, B-C-D-E 또는 A-B-C-D-E에 새겨질 수 있는 홀로그램의 "강도"는 임의의 보호 층 없는 구조물 A-B에서의 경우보다 전혀 더 악화되지 않거나 또는 실질적으로 더 악화되지 않는다. 이러한 차 ΔT는 식 (3)에 의해 계산될 수 있다:
ΔT = (100% - T피크(본 발명의 층 구조물 예를 들어 A-B'-C-D-E)%) - (100% - T피크(A-B')%) (3)
이러한 차 ΔT가 < 20%, 특히 바람직하게는 < 15%, 특히 바람직하게는 < 10%인 경우가 바람직하다.
투과 스펙트럼의 스펙트럼 이동은 새김 레이저의 파장 (λw)과 새겨진 홀로그램의 스펙트럼 피크 (λ피크)의 차 (Δλ)로서 정의된다 (ISO 표준 17901-1:2015(E)):
Δλ = λ피크 - λw (1)
본 발명의 층 구조물 A-B'-C'에서의 새겨진 홀로그램의 Δλ가 +/-10 nm, 보다 바람직하게는 +/-5 nm, 특히 바람직하게는 +/-3 nm인 경우가 바람직하다.
광중합체 층에서, 1개 이상의 홀로그램은 동일한 위치에서 또는 서로 옆에 광으로 새겨질 수 있고/있었다. 동일한 위치에서 광으로 새김을 수행하는 경우, 상이한 이미지 내용을 광으로 새길 수 있다. 마찬가지로, 약간 다양한 재구성 각도를 갖는 물체의 상이한 측면을 광으로 새겨 스테레오그램을 형성하는 것이 가능하다. 마찬가지로, 숨겨진 홀로그램 및 마이크로텍스트를 광으로 새기는 것이 가능하다. 마찬가지로, 투과 홀로그램의 경우에 여러 스펙트럼 범위에 대해 여러 광 가이드 기능 및/또는 광 가이드 기능을 광으로 새기는 것도 가능하다.
홀로그램의 가능한 광학 기능은 렌즈, 거울, 굴절 거울, 필터, 확산기, 유도 확산 소자, 회절 소자, 광 가이드, 도파관, 투사 스크린 및/또는 마스크와 같은 광학 소자의 광학 기능에 상응한다. 또한, 다수의 이러한 광학 기능은 이러한 홀로그램에서, 예를 들어 광이 광의 입사에 따라 상이한 방향으로 편향되도록 조합될 수 있다. 예를 들어, 이러한 설정에 의해, 자동차 헤드-업 디스플레이 또는 헤드-장착 디스플레이에 사용하기 위한, 추가의 보조제, 예를 들어 편광자 또는 셔터 유리 없이 스테레오스코픽 시각적 인상이 경험되도록 하는 오토스테레오스코픽 또는 홀로그래픽 전자 디스플레이를 구성하는 것이 가능하다.
이들 광학 소자는 흔히 홀로그램이 노출된 방법 및 홀로그램의 치수에 따라 구체적인 주파수 선택성을 갖는다. 이는 특히 단색 광원 예컨대 LED 또는 레이저 광이 사용되는 경우 중요하다. 예를 들어, 주파수-선택적 방식으로 광을 편향시키고 동시에 풀-컬러 디스플레이를 가능하게 하기 위해, 보색 (RGB) 당 1개의 홀로그램이 요구된다. 따라서, 특정한 디스플레이 구조물에서 다수의 홀로그램이 매체에서 서로 내부로 조사되어야 한다.
또한, 본 발명에 따른 층 구조물에 의해, 또한 예를 들어 개인 초상, 보안 문서의 생체인식 표현, 또는 일반적으로 광고, 보안 라벨, 브랜드 보호, 브랜딩, 라벨, 디자인 요소, 장식, 일러스트레이션, 수집용 카드, 이미지 등에 대한 이미지 또는 이미지 구조, 및 또한 상기 상세된 제품과 조합하여 포함되는, 디지털 데이터를 나타낼 수 있는 이미지에 대한 홀로그래픽 이미지 또는 표현을 제조하는데 사용하는 것이 가능하다. 홀로그래픽 이미지는 3차원 이미지의 인상을 가질 수 있거나, 또는 이미지 순서, 단 필름 또는 다수의 상이한 대상을 이들이 조명되는 것으로부터의 앵글 및 그에 의한 광원 (이동 광원 포함) 등에 따라 나타낼 수 있다. 가능한 디자인의 이러한 다양성 때문에, 홀로그램, 특히 체적 홀로그램은 상기 언급된 적용에 대해 매력적인 기술적 해결책을 구성한다. 매우 다양한 상이한 노출 방법 (이동, 공간 또는 각도 멀티플렉싱)을 사용하여, 디지털 데이터의 저장의 경우에 이러한 홀로그램을 사용하는 것이 또한 가능하다.
본 발명은 마찬가지로 본 발명에 따른 층 구조물을 포함하는 광학 디스플레이를 제공한다.
이러한 광학 디스플레이의 예는 액정, 유기 발광 다이오드 (OLED), LED 디스플레이 패널, 회절 광 선택에 기반한 마이크로전기계 시스템 (MEMS), 전기습윤 디스플레이 (E-잉크) 및 플라즈마 디스플레이 스크린을 기반으로 한 이미징 디스플레이이다. 이러한 유형의 광학 디스플레이는 오토스테레오스코픽 및/또는 홀로그래픽 디스플레이, 투과 및 반사 투사 스크린, 프라이버시 필터 및 양방향성 멀티유저 스크린용 스위치가능한 한정된 방출 특징을 갖는 디스플레이, 가상 디스플레이, 헤드-업 디스플레이, 헤드-장착 디스플레이, 조명 기호, 경고 램프, 신호 램프, 투광조명/헤드라이트 및 디스플레이 패널이다.
본 발명은 마찬가지로 홀로그램을 함유한 본 발명의 층 구조물을 포함하는, 오토스테레오스코픽 및/또는 홀로그래픽 디스플레이, 투사 스크린, 프라이버시 필터 및 양방향성 멀티유저 스크린용 스위치가능한 한정된 방출 특징을 갖는 디스플레이, 가상 디스플레이, 헤드-업 디스플레이, 헤드-장착 디스플레이, 조명 기호, 경고 램프, 신호 램프, 투광조명/헤드라이트 및 디스플레이 패널을 제공한다.
또한, 본 발명은 본 발명의 층 구조물을 포함하는 보안 문서 및 홀로그래픽 광학 소자를 제공한다.
또한, 본 발명은 칩 카드, 신분증명 문서, 3D 이미지, 제품 보호 라벨, 라벨, 은행권 또는 홀로그래픽 광학 소자, 특히 시각 디스플레이의 제조를 위한 본 발명의 층 구조물의 용도를 제공한다.
실시예
이하, 실시예에 의해 본 발명을 보다 특히 설명할 것이다.
측정 방법:
고형분 함량: 보고된 고형분 함량은 DIN EN ISO 3251에 따라 측정하였다.
화학물질:
각 경우에, CAS 번호는, 공지된 경우에, 사각형 괄호 안에 보고된다.
광중합체 층 B의 원료
폼레즈(Fomrez)® UL 28 우레탄화 촉매, 미국 코네티컷주 윌톤 소재의 모멘티브 퍼포먼스 케미칼스(Momentive Performance Chemicals)의 시판 제품.
보르히(Borchi)® Kat 22 우레탄화 촉매, [85203-81-2], 독일 랑겐펠트 소재의 OMG 보르헤르스 게엠베하(OMG Borchers GmbH)의 시판 제품.
BYK-310 실리콘-함유 표면 첨가제, 독일 베셀 소재의 BYK-케미 게엠베하(BYK-Chemie GmbH)의 제품.
데스모두르(Desmodur)® N 3900 독일 레버쿠젠 소재의 코베스트로 아게(Covestro AG)의 제품, 헥산 디이소시아네이트-기재 폴리이소시아네이트, 적어도 30%의 이미노옥사디아진디온의 비율, NCO 함량: 23.5%.
CGI-909 테트라부틸암모늄 트리스(3-클로로-4-메틸페닐)-(헥실)보레이트, [1147315-11-4], 바스프 에스이의 제품
염료 1 (3,7-비스(디에틸아미노)페녹사진-5-윰 비스(2-에틸헥실)술포숙시네이트)를 WO 2012062655에 기재된 바와 같이 제조하였다.
폴리올 1은 WO2015091427에서의 폴리올 1에 상응하고 그 안에 기재된 바와 같이 제조하였다.
우레탄 아크릴레이트 1 (포스포로티오일트리스(옥시벤젠-4,1-디일카르바모일옥시에탄-2,1-디일) 트리스아크릴레이트, [1072454-85-3])을 WO2015091427에 기재된 바와 같이 제조하였다.
우레탄 아크릴레이트 2, (2-({[3-(메틸술파닐)페닐]카르바모일}옥시)에틸 프로프-2-에노에이트, [1207339-61-4])를 WO2015091427에 기재된 바와 같이 제조하였다.
첨가제 1, 비스(2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-도데카플루오로헵틸)-(2,2,4-트리메틸헥산-1,6-디일)비스카르바메이트 [1799437-41-4]를 WO2015091427에 기재된 바와 같이 제조하였다.
층 C의 원료
폴리비닐 알콜
POVAL 60-98 - 수지 1 독일 소재 쿠라레이 유럽 게엠베하로부터의 폴리비닐 알콜. 98 몰%의 가수분해도 (DIN EN ISO 3681:2007-10-01에 따름) 및 60 mPa·s의 점도 (DIN 53015:2001-02에 따라 20℃에서 4% 수용액으로서 측정됨)를 갖는 제품;
POVAL 25-88KL - 수지 2 독일 소재 쿠라레이 유럽 게엠베하로부터의 폴리비닐 알콜. 88 몰%의 가수분해도 (DIN EN ISO 3681:2007-10-01에 따름) 및 25 mPa·s의 점도 (DIN 53015:2001-02에 따라 20℃에서 4% 수용액으로서 측정됨)를 갖는 제품.
폴리비닐 알콜의 가교제
글리옥살 용액 [107-22-2] 물 중 40%(w/w) 독일 타우프키르헨 소재의 시그마-알드리치 케미 게엠베하(Sigma-Aldrich Chemie GmbH)의 제품
붕산 [10043-35-3] 독일 타우프키르헨 소재의 시그마-알드리치 케미 게엠베하로부터의 리에이전트플러스(ReagentPlus)® 제품 (≥99.5%).
접착 촉진제 (임의적)
실퀘스트 VS 142 물 중 아미노알콕시실란 가수분해물. 미국 뉴욕주 알바니 소재의 모멘티브 퍼포먼스 머티리얼즈(Momentive Performance Materials)의 제품
계면활성제 (임의적)
1-옥탄올 [111-87-5] 독일 타우프키르헨 소재의 시그마-알드리치 케미 게엠베하로부터의 리에이전트플러스® 제품 (99%).
층 B 및 C을 위한 용매
부틸 아세테이트 (BA) 독일 뮐하임 안 데어 루르 소재의 브렌테그 게엠베하(Brenntag GmbH)로부터의 부틸 아세테이트.
에틸 아세테이트 (EA) 독일 뮐하임 안 데어 루르 소재의 브렌테그 게엠베하로부터의 에틸 아세테이트.
2-부타논 뮐하임 안 데어 루르 소재의 브렌테그 게엠베하로부터의 2-부탄논
물 탈이온수.
층 D의 광학적으로 투명한 접착제 (OCA)
OCA 8211 - D01 미국 미네소타주 세인트 폴 소재의 3M으로부터의 OCA 8211 아크릴형 OCA 제품. 접착제 층의 층 두께 25 μm. 50 μm 폴리에스테르 라이너.
OCA-69604 - D02 OCA-69604, 독일 노르더스테트 소재의 테사 에스이로부터의 UV-경화성 광학적으로 투명한 접착제. 접착제 층의 층 두께 100 μm. 50 μm 및 125μm 폴리에스테르 라이너.
층 E의 유리 기판
쇼트 글라스(Schott Glas) 치수가 50 mm x 70 mm (3 mm 두께)인 유리 시트. 독일 마인츠 소재의 쇼트 아게 (Schott AG)의 제품.
홀로그래픽 매체 (광중합체 필름)의 제조
상기 기재된 폴리올 성분 1 7.90 g을 용융시키고, 특정 우레탄 아크릴레이트 2 7.65 g, 상기 기재된 우레탄 아크릴레이트 1 2.57 g, 상기 기재된 플루오린화 우레탄 5.10 g (첨가제 1), CGI 909 0.91 g, 염료 1 0.232 g, BYK 310 0.230 g, 폼레즈 UL 28 0.128 g 및 에틸 아세테이트 3.789 g와 혼합하여 투명한 용액을 수득하였다. 이어서 데스모두르® N 3900 1.50 g을 첨가하고 다시 혼합하였다.
이어서, 이 용액을 롤-투-롤 코팅 플랜트에서 36 μm 두께의 PET 필름에 적용하고, 여기서 생성물을 나이프 코팅기에 의해 19 μm 두께의 습윤 층에 적용하였다. 85℃의 건조 온도 및 5분의 건조 시간으로, 코팅된 필름을 건조시킨 후, 두께 40μm의 폴리에틸렌 필름으로 보호하였다. 이어서, 이 필름 (층 구조물 A-B의 광중합체 필름)을 차광성 패키징하였다.
광중합체 필름 A-B 상에서의 보호 층/장벽 층 C의 제조
95℃에서 물 중에 용해시키고 실온으로 냉각시킨 폴리비닐 알콜 수지를 가교제, 계면활성제 및 접착 촉진제 (임의적)와 혼합한 경우 표 1에 기록된 제제를 제조하였다.
표 1 보호 층 C의 제조를 위한 코팅 물질 *
모든 코팅 물질은 5 ppm의 1-옥탄올을 포함한다.
표 2-1 유리 상의 접착 결합을 위한 홀로그래픽 필름 복합체
코팅 물질 C-01 내지 C-03을 롤-투-롤 코팅 플랜트에서 나이프 코팅기에 의해 광중합체 필름 A-B의 B-면 상부에 적용하였다. 85℃의 건조 온도 및 10분의 건조 시간에서, 코팅된 필름을 건조하고 후속적으로 두께 40μm의 폴리에틸렌 필름으로 보호하였다. 건조 층 두께는 일반적으로 7-8 μm였다. 이어서, 이 필름 (층 구조물 A-B-C의 광중합체 필름)을 차광성 패키징하였다. 구조 A-B-C를 갖는 이와 같이 형성된 본 발명 샘플 P01 내지 P03 및 마찬가지로 구조 A-B를 갖고 비교로서 작용하는 본 발명이 아닌 샘플 PN-01은 표 2-1에 요약된다. B는 비조사된 광중합체 층이다.
보호 층 C의 내용매성의 평가
기술적 품질 N-에틸-2-피롤리돈 (NEP), 메틸 에틸 케톤 (MEK), 1-부탄올 및 에틸 아세테이트 (EA)를 사용하여 코팅의 내용매성을 전형적으로 시험하였다. 용매를 침지된 면봉을 사용하여 코팅에 적용시키고, 덮음으로써 증발로부터 보호하였다. 달리 언급되지 않는 한, 약 23℃에서 60분의 접촉 시간이 관찰되었다. 접촉 시간이 경과되면, 면봉을 제거하고, 시험 표면을 부드러운 천으로 깨끗이 닦아냈다. 이에 이어서 손톱을 사용하여 가벼운 스크래칭 직후에 시각적 검사를 수행하였다.
하기 수준으로 구분하였다:
· 0 = 변화되지 않음; 변화가 보이지 않음; 스크래칭에 의해 손상될 수 없음.
· 1 = 약간의 팽윤이 보이지만, 스크래칭에 의해 손상될 수 없음.
· 2 = 변화가 명백하게 보이지 않고, 스크래칭에 의해 거의 손상될 수 없음.
· 3 = 분명한 변화, 강한 손톱 압력 후에 표면이 파괴됨.
· 4 = 심한 변화, 단단한 손톱 압력 후 기재에 대해 스크래칭됨.
· 5 = 파괴됨; 화학물질을 닦아낼 때 이미 파괴된 래커; 시험 물질은 제거가능하지 않음 (표면 내로 먹힘).
이 평가 내에서, 시험은 전형적으로 0 및 1의 성능 값으로 통과시켰다. > 1의 성능 값은 "실패"를 나타낸다.
표 2-1의 상응하는 칼럼에 의해 나타낸 바와 같이, 코팅 물질 C02로 제조된 모든 본 발명의 코팅은 매우 높은 수준의 내용매성을 기록하였다. 코팅 물질 C01 및 C03으로 제조된 코팅은 메틸 에틸 케톤, 에틸 아세테이트 및 부탄올에 대해 유사하게 강력한 성능을 나타냈다. 이들은 강한 비양성자성 용매 NEP에 대해 다소 약한 성능을 나타낸다. 그러나, 심지어 NEP에 대한 값도 보호 층 C가 없는 비교용 샘플에 비해 보다 실질적으로 우수하였다.
층 구조물 A-B-C-D-E를 갖는 필름 복합체의 제조
층 구조물 A-B-C-D-E를 갖는 필름 복합체의 제조는 필름 A-B-C의 면 C를 OCA의 라이너를 벗긴 접착제 층 D 상에 먼저 적층하고, 따라서 둘 다의 층을 결합하는 것을 포함한다. 이는 라미네이터의 고무 롤러 사이에 2개의 필름을 함께 압축함으로써 실시하였다. 롤러의 온도를 30℃로 설정하였다. 제조된 다층 필름을 실온으로 냉각시켰다. 이어서, OCA의 제2 라이너 필름을 필름 복합체로부터 박리하였다. 이어서, 유리 기판 E를 필름 복합체 A-B-C-D의 면 D 상에 적층하였다. 이와 같이 형성된, 층 구조물 A-B-C-D-E를 갖는 본 발명 샘플 P07 내지 P09 및 P13 내지 P15 및 마찬가지로 층 구조물 A-B-D-E를 갖는 본 발명이 아닌 비교 샘플 PN-03 및 PN-05는 표 2-2에 요약된다. B는 비조사된 광중합체 층이다.
표 2-2: 감광성 홀로그래픽 필름 복합체, 및 유리에 접착 결합된 광으로 새기고 고정된 홀로그램을 포함하는 더 이상 감광성이 아닌 필름 복합체의 조성.
Figure 112020008110837-pct00005
본 발명 필름 복합체 A-B-C 및 A-B-C-D-E 및 본 발명이 아닌 필름 복합체 A-B 및 A-B-D-E에서의 시험 홀로그램의 제조
시험 홀로그램을 하기와 같이 제조하였다: 층 구조물 A-B 및 A-B-C를 갖는 광중합체 필름을 암소에서 원하는 크기로 절단하고, 50 mm x 70 mm (3 mm 두께)의 치수를 갖는 유리 시트 상에 고무 롤러를 사용하여 적층하였다. 필름 복합체 A-B-C-D-E는 이미 층 E로서 유리 시트를 포함하고, 시험에 대해 그대로 사용하였다. 시험 홀로그램은 녹색 (532 nm) 레이저 방사선을 사용하여 데니슈어 반사 홀로그램을 생성하는 시험 장치를 사용하여 제조하였다. 시험 장치는 레이저 공급원, 광학 빔-가이드 시스템 및 유리 쿠폰용 홀더로 이루어졌다. 유리 쿠폰용 홀더를 빔 축에 대해 13°의 각도로 장착하였다. 레이저 공급원은 특정 광학 빔 경로에 의해 약 5 cm으로 확대된 방사선을 생성하고 거울과 광학적으로 접촉하여 유리 쿠폰으로 안내하였다. 홀로그래핑된 대상은 크기가 약 2 cm x 2 cm인 거울이어서, 홀로그램의 재구성시 거울의 파면을 재구성하였다. 모든 실시예를 녹색 532 nm 레이저 (미국 캘리포니아주 어바인 소재의 뉴포트 코포레이션(Newport Corp.)의 cat. no. EXLSR-532-50-CDRH)로 조사하였다. 셔터를 사용하여 기록 필름을 규정된 방식으로 2초 동안 조사하였다. 이는 층 B에 홀로그램을 포함하는 필름 복합체를 형성한다.
후속적으로, 샘플을 UV 공급원의 컨베이어 벨트 상에 놓고 2.5 m/분의 벨트 속도로 2회 조사하였다. 사용된 UV 공급원은 총 출력 밀도 80 W/cm2를 갖는 퓨전 UV "D 벌브" 번호 558434 KR 85 철-도핑된 Hg 램프였다. 파라미터는 2 x 2.5 J/cm2 (ILT 490 라이트 버그(Light Bug)로 측정)의 선량에 상응하였다. 이러한 고정 단계 후, 본 발명 필름 복합체 A-B'-C (표 2-1, 샘플 P04 내지 P06) 및 A-B'-C-D-E (표 2-2, 샘플 P10 내지 P12 및 샘플 P-16 내지 P-18) 및 본 발명이 아닌 비교용 필름 복합체 A-B' (표 2-1, 샘플 PN02) 및 A-B'-D-E (표 2-2, 샘플 PN04 및 PN06)를 형성하였다.
홀로그램-포함 필름 복합체 A-B'-C/A-B'의 유리 상부에의 접착 고정 (필름 복합체 A-B'-C-D-E의 대안적 제조)
상기 단락에는 필름 A-B-C를 암소에서 접착제 필름 D를 사용하여 유리 (E) 상에 압축시킨 다음, 홀로그램을 이와 같이 형성된 A-B-C-D-E 필름 복합체 내로 광으로 새기고 고정시키는 방법을 기재하였다.
동일한 경로가 홀로그램을 필름 복합체 A-B-C 내로 새긴 다음 접착제 필름 D를 사용하여 이렇게 형성된 필름 복합체 A-B'-C를 유리 (E) 상에 압축하는 것으로 이루어졌다. OCA D02의 경우에 상기 기재된 광학 고정을 이어서 착수하였다.
이는 본 발명 필름 복합체 A-B'-C-D-E (표 2-3, 샘플 P19 내지 P24) 및 본 발명이 아닌 비교용 필름 복합체 A-B'-D-E (표 2-3, 샘플 PN07 및 PN08)를 형성하였다.
표 2-3 유리 및 이전에 제조된 홀로그램을 포함하는 필름 복합체 A-B'-C의 접착 결합에 의해 형성된 필름 복합체
Figure 112020008110837-pct00006
시험 홀로그램의 특징화
이어서, 필름 복합체 A-B'-C, A-B'-C-D-E 및 A-B'의 층 B'에서의 홀로그램을 분광법에 의해 품질을 분석하였다.
체적 홀로그램의 높은 회절 효율 때문에, 이러한 홀로그램의 회절 반사는 분광계 (미국 플로리다주 더니든 소재의 오션 옵틱스(Ocean Optics)의 USB 2000 기기 사용)를 사용하여 가시광에 의한 투과율로 분석할 수 있고, 감소된 투과율 T감소를 갖는 피크로서 투과 스펙트럼에서 나타난다. 투과 곡선을 평가하는 것은 하기의 측정된 값을 고려하여 ISO 표준 17901-1:2015(E)에 따라 홀로그램의 품질을 결정할 수 있게 하고; 모든 결과는 섹션 "홀로그램의 스펙트럼 품질"에서 표 3-1 내지 3-3 및 표 4-1 내지 4-3에 요약된다:
T감소=100-T피크(2): 투과 피크의 최대 깊이, 이는 최고 회절 효율에 상응한다. 따라서, 100-T피크는 홀로그램의 반사력 (또는 가시적 "강도" 또는 "품질")에 대한 척도로서 제공된다.
FWHM: 투과 피크의 폭은 "반치전폭" (FWHM)으로서 나노미터 (nm)로 측정하였다.
λ피크: 홀로그램의 투과율 최소값의 스펙트럼 위치 (나노미터 단위, nm).
Δλ피크: 표의 각 행에 나타낸 샘플의 제1 측정에 대한 홀로그램의 투과율 최소값의 스펙트럼 이동 (나노미터 단위, nm).
본 발명의 보호 층의 품질은 먼저 광중합체 내로 시험 홀로그램을 새긴 다음, 각각의 경우에 상이한 조건 하에 평가될 층 구조물을 저장함으로써 평가하였다. 수득된 결과는 표 3-1, 3-2, 3-3, 4-1, 4-2 및 4-3에 요약된다.
표 3-1, 3-2 및 3-3은 A-B-C-D-E 필름 복합체 내로 새긴 후 UV-VIS 고정에 적용한 홀로그램에 대한 결과를 보여준다. D02는 또한 여기서 최종 경화를 겪었다. 새로 제조된 홀로그램을 분광학적 측정에 적용하였다. 이어서, 샘플을 매우 다양한 외부 조건 하에 상이한 시간 동안 저장하고, 이어서 홀로그램을 1회 더 분광 측정하였다.
표 4-1, 4-2 및 4-3은 홀로그램을 A-B-C 필름 복합체 내로 새긴 다음 UV-VIS 고정에 적용한 결과를 요약한다. 형성된 필름 복합체 A-B'-C의 홀로그램을 분광 측정에 적용하였다. 후속적으로 광학적으로 투명한 접착제 (OCA)를 C-층 상에 적층하고, OCA의 백킹 필름을 제거하였다. 필름 복합체의 접착제 면을 유리 상에 적층하고, 접착 결합시켰다. 테사 제품 (D02)의 경우에, 필름 복합체를 추가로 UV 경화시켰다. 이어서, 필름 복합체 A-B'-C-D-E 및 본 발명이 아닌 비교자 A-B'-D-E를 분광 측정에 적용하고, 명시된 조건 하에 저장하고, 다시 한 번 분광 측정하였다.
홀로그래픽 기록 매체로서의 필름 복합체 A-B-C 및 A-B-C-D-E
필름 A-B 상부에 롤 투 롤 코팅에 의한 보호 층 C의 적용은 필름 복합체 A-B-C를 생성하고, 그의 홀로그램 기록에 대한 적합성은 표 3-1 내지 3-3 및 4-1 내지 4-3의 결과에 기초하여 평가할 수 있다.
표준 필름 A-B에 기록된 홀로그램의 특성이 본 발명이 아닌 샘플 PN-07-01 내지 PN-07-03 및 PN-08-01 내지 PN-08-03에 대해 표 4-1 내지 4-3 (칼럼 "A-B'에서")에 제시된다.
본 발명 샘플 P-19 내지 P-24 (동일한 3개의 표 - 칼럼 "A-B'-C에서")는 피크 최대값의 강도 (100-T피크), 피크 폭 (FWHM) 및 위치 (λ피크)와 관련하여 동일한 성능을 갖는 홀로그램을 나타냈다.
이는 보호 층 C가 홀로그래픽 필름 A-B의 기록 능력에 영향을 주지 않음을 의미한다. 홀로그램을 위한 기록 물질로서 A-B-C 필름은 A-B 필름과 동등하다.
이어서, 이러한 A-B-C 필름을 OCA를 사용하여 유리 상에 접착 결합시켜 감광성 필름 복합체 A-B-C-D-E를 수득하고, 그의 홀로그램의 기록에 대한 성능을 마찬가지로 표 3-1 내지 3-3 및 4-1 내지 4-3의 결과에 기초하여 평가할 수 있다.
본 발명 샘플 P-10 내지 P-18 (표 3-1 내지 3-3 - 칼럼 "A-B'-C-D-E에서 (RT에서 5분 후)")은 피크 최대값의 강도 (100-T피크), 피크 폭 (FWHM) 및 위치 (λ피크)에 관해서 동일한 성능을 갖는 홀로그램을 나타내며, 이는 A-B-C 필름으로부터 형성된 상기 기재된 본 발명 샘플 P-19 내지 P-24 (표 4-1 내지 4-3 - 칼럼 "A-B'-C에서")에서도 동일하다.
이는 보호 층 C가 예를 들어 OCA 층 D로부터 기록 매체 B에 대한 효과적인 보호를 제공한다는 것을 의미한다. 감광성인 본 발명 필름 A-B-C가 OCA를 사용하여 유리 상에 접착 결합된 본 발명 필름 복합체 A-B-C-D-E는, 이들의 아직 접착 고정되지 않은 필름 및 A-B 필름과 홀로그래픽 기록 매체로서 동등하다.
보호 층 C 없이, 스펙트럼 최대값의 심하게 이동된 위치를 갖는 매우 희미한 홀로그램만을 층 B 내로 새길 수 있었다 (본 발명이 아닌 샘플 PN-04-01 내지 PN-04-03 및 PN-06-01 내지 PN-06-03 (표 3-1 내지 3-3 - 칼럼 "A-B'-D-E에서 (RT에서 5분 후)")). 또한, 이러한 샘플은 저장 안정성이 아니었다. 보호 층 C 없이, 이러한 구조물을 갖는 필름 복합체는 기록 매체로서 사용가능하지 않았다.
필름 복합체 A-B'-C-D-E의 저장 안정성
필름 복합체 A-B'-C-D-E의 저장 안정성은, 예를 들어 본 발명의 실시예 P-10 내지 P-18에서와 같이 층 B'에 새겨진 홀로그램의 품질에 의해 등급화될 수 있다. 상이한 조건 하에서의 저장 결과는 표 3-1 내지 3-3에 요약된다. 실온에서 1일 또는 1주의 지속기간 동안 저장하는 것 (표 3-1)은 홀로그램에, 존재하는 경우, 매우 최소한의 변화만을 발생시켰다. 대조적으로, 보호 층 C 없는 본 발명이 아닌 샘플 PN-04 및 PN-06은 심지어 이러한 온화한 조건 하에서도 홀로그램의 스펙트럼 특성에 심한 변화를 나타내는데, 이는 보다 희미해지는 것 (100-T피크), 및 그의 흡수 최대값 (Δλ피크)에서 심각 이동을 겪는 것이다.
표 3-2는 80℃에서의 저장 결과 (1시간 동안 및 3일 동안)를 나타낸다. 본 발명 샘플 P-10 내지 P-18의 홀로그램은 매우 안정하게 유지되었다.
표 3-3은 80℃ 및 95% 상대 대기 습도에서 3일 동안 저장한 결과를 나타낸다. 본 발명 샘플 P-10 내지 P-18의 홀로그램은 그의 강도의 관점에서 잘 보존되고, 그의 흡수 최대값은 심지어 이들 조건 하에서 약간의 스펙트럼 이동만을 겪었다. 이러한 스펙트럼 이동은 보호 층 C의 상이한 조성 간에 차이가 있다. 변형체 C01은 이러한 저장 조건에 특히 적합하다. 예를 들어, 샘플 P-10-03 (OCA D01 (3M)과 조합된 보호 층 C01)은 홀로그램에 대해 측정가능한 스펙트럼 영향을 전혀 나타내지 않았다.
유리 상에 이후 접착 고정된 필름 복합체 A-B'-C의 저장 안정성
이와 같이 제조된 필름 복합체 A-B'-C-D-E의 저장 안정성은, 예를 들어 본 발명의 실시예 P-19 내지 P-24와 같은 층 B'에 새겨진 홀로그램의 품질에 의해 등급화될 수 있다. 상이한 조건 하에서의 저장 결과는 표 4-1 내지 4-3에 요약된다. 실온에서 1일 또는 1주의 지속기간 동안 저장하는 것 (표 4-1)은 홀로그램에, 존재하는 경우, 매우 최소한의 변화만을 발생시켰다. 대조적으로, 보호 층 C가 없는 본 발명이 아닌 샘플 PN-07 및 PN-08은 심지어 이러한 온화한 조건 하에서도 홀로그램의 스펙트럼 특성에 심한 변화를 나타내는데, 이는 보다 희미해지는 것 (100-T피크), 및 그의 흡수 최대값 (Δλ피크)에서 심각 이동을 겪는 것이다.
표 4-2는 80℃에서의 저장 결과 (1시간 동안 및 3일 동안)를 나타낸다. 본 발명 샘플의 홀로그램 P-19 내지 P-24는 매우 안정하게 유지되었다.
표 4-3은 80℃ 및 95% 상대 대기 습도에서 3일 동안 저장한 결과를 나타낸다. 본 발명 샘플 P-19 내지 P-24의 홀로그램은 그의 강도의 관점에서 잘 보존되고, 그의 흡수 최대값은 심지어 이들 조건 하에서 약간의 스펙트럼 이동만을 겪었다. 이러한 스펙트럼 이동은 보호 층 C의 상이한 조성 간에 차이가 있다. 변형체 C01은 이러한 저장 조건에 특히 적합하다. 예를 들어, 샘플 P-19-03 (OCA D01 (3M)과 조합된 보호 층 C01)은 홀로그램에 대해 측정가능한 스펙트럼 영향을 전혀 나타내지 않았다.
표 3-1 보호 층 C의 품질의 평가: 시험 홀로그램을 A-B-C-D-E 필름 복합체 내로 새긴 다음, 5-10 J/cm2의 UV-VIS로 고정하여 필름 복합체 A-B'-C-D-E를 형성하였다. 새겨진 홀로그램을 분광 측정에 적용하고, 명시된 조건 하에 저장하고, 다시 한번 측정하였다.
Figure 112020008110837-pct00007
* D02는 또한 조사 동안 경화를 겪었다.
표 3-2 보호 층 C의 품질의 평가: 시험 홀로그램을 A-B-C-D-E 필름 복합체 내로 새긴 다음, 5-10 J/cm2의 UV-VIS로 고정하여 필름 복합체 A-B'-C-D-E를 형성하였다. 새겨진 홀로그램을 분광 측정에 적용하고, 명시된 조건 하에 저장하고, 다시 한번 측정하였다.
Figure 112020008110837-pct00008
* D02는 또한 조사 동안 경화를 겪었다.
표 3-3 보호 층 C의 품질 평가: 시험 홀로그램을 A-B-C-D-E 필름 복합체 내로 새긴 다음, 5-10 J/cm2의 UV-VIS로 고정하여 필름 복합체 A-B'-C-D-E를 형성하였다. 새겨진 홀로그램을 분광 측정에 적용하고, 명시된 조건 하에 저장하고, 다시 한번 측정하였다.
Figure 112020008110837-pct00009
* D02는 또한 조사 동안 경화를 겪었다.
표 4-1 보호 층 C의 품질의 평가: 시험 홀로그램을 A-B-C 필름 복합체에 새긴 다음, 5-10 J/cm2의 UV-VIS로 고정하여 필름 복합체 A-B'-C를 형성하였다. 언급된 광학적으로 투명한 접착제 (OCA)를 이 필름 복합체 상에 적층하고 OCA의 백킹 필름을 제거하였다. 필름 복합체 A-B'-C-D의 접착제 면을 유리 상에 적층하였다. 홀로그램을 명시된 조건 하에 저장 전후에 분광 측정에 적용하였다.
Figure 112020008110837-pct00010
* D02는 또한 조사 동안 경화를 겪었다.
표 4-2 보호 층 C의 품질의 평가: 시험 홀로그램을 A-B-C 필름 복합체 내로 새긴 다음, 5-10 J/cm2의 UV-VIS로 고정하여 필름 복합체 A-B'-C를 형성하였다. 언급된 광학적으로 투명한 접착제 (OCA)를 이 필름 복합체 상에 적층하고 OCA의 백킹 필름을 제거하였다. 필름 복합체 A-B'-C-D의 접착제 면을 유리 상에 적층하였다. 홀로그램을 명시된 조건 하에 저장 전후에 분광 측정에 적용하였다.
Figure 112020008110837-pct00011
* D02는 또한 조사 동안 경화를 겪었다.
표 4-3 보호 층 C의 품질의 평가: 시험 홀로그램을 A-B-C 필름 복합체에 새긴 다음, 5-10 J/cm2의 UV-VIS로 고정하여 필름 복합체 A-B'-C를 형성하였다. 언급된 광학적으로 투명한 접착제 (OCA)를 이 필름 복합체 상에 적층하고 OCA의 백킹 필름을 제거하였다. 필름 복합체 A-B'-C-D의 접착제 면을 유리 상에 적층하였다. 홀로그램을 명시된 조건 하에 저장 전후에 분광 측정에 적용하였다.
Figure 112020008110837-pct00012
* D02는 또한 조사 동안 경화를 겪었다.

Claims (17)

  1. 면 광중합체 층 B, 및
    (I) 적어도 1종의 폴리비닐 알콜,
    (II) 폴리비닐 알콜에 대한 적어도 1종의 가교제,
    (III) 임의로 적어도 1종의 접착 촉진제, 또는 아미노알킬 트리알콕시실란의 적어도 1종의 가수분해물, 및
    (IV) 임의로 적어도 1종의 계면활성제
    를 포함하는 수성 조성물의 반응에 의해 수득가능한 적어도 부분적으로 경화된 보호 층 C를 포함하는 층 구조물이며,
    여기서 광중합체 층 B는 층 C에 적어도 부분적으로 결합되는 것인 층 구조물.
  2. 적어도 1종의 면 광중합체 층, 및 적어도 부분적으로 경화된 보호 층 C를 생성하기 위한 수성 조성물을 함유하는 부분들의 키트이며, 여기서 수성 조성물은
    (I) 적어도 1종의 폴리비닐 알콜,
    (II) 폴리비닐 알콜에 대한 적어도 1종의 가교제,
    (III) 임의로 적어도 1종의 접착 촉진제, 또는 아미노알킬 트리알콕시실란의 적어도 1종의 가수분해물, 및
    (IV) 임의로 적어도 1종의 계면활성제
    를 포함하고, 여기서 광중합체 층은 기재 층 A 상부에 임의로 배치되는 것인 부분들의 키트.
  3. 제2항에 있어서, 접착제 층 D 및 기재 층 E를 추가로 함유하는 부분들의 키트.
  4. 제1항에 있어서,
    광중합체 층 B가
    I) 매트릭스 중합체,
    II) 기록 단량체,
    III) 광개시제,
    IV) 임의로 적어도 1종의 비-광중합성 성분, 및
    V) 임의로 촉매, 자유-라디칼 안정화제, 용매, 첨가제 및 다른 보조제 및/또는 첨가 물질
    을 포함하는 비조사된 광중합체 층이거나, 또는
    광중합체 층 B가 홀로그램, 체적 홀로그램, 인-라인 홀로그램, 오프-액시스 홀로그램, 완전-개구 전사 홀로그램, 백색광 투과 홀로그램, 데니슈크 홀로그램, 오프-액시스 반사 홀로그램, 엣지-릿 홀로그램 또는 홀로그래픽 스테레오그램을 함유하는 반-조사된 광중합체 층인 것
    을 특징으로 하는 층 구조물.
  5. 제1항 또는 제4항에 있어서, 기재 층 A를 추가로 함유하고, 여기서 광중합체 층 B는 한 면 상에서 기재 층 A에 적어도 부분적으로 결합되고, 반대 면 상에서 보호 층 C에 적어도 부분적으로 결합되는 것을 특징으로 하는 층 구조물.
  6. 제1항 또는 제4항에 있어서, 접착제 층 D를 추가로 함유하고, 여기서 보호 층 C는 한 면 상에서 접착제 층 D에 적어도 부분적으로 결합되고 반대 면 상에서 광중합체 층 B에 적어도 부분적으로 결합되는 것을 특징으로 하는 층 구조물.
  7. 제6항에 있어서, 기재 층 E를 추가로 함유하고, 여기서 접착제 층 D는 한 면 상에서 기재 층 E에 적어도 부분적으로 결합되고 반대 면 상에서 보호 층 C에 적어도 부분적으로 결합되는 것을 특징으로 하는 층 구조물.
  8. 제1항에 따른 층 구조물을 제조하는 방법이며,
    먼저 적어도 부분적으로 경화된 보호 층 C를 광중합체 층 B 상부에 적용하는 것을 특징으로 하고,
    광중합체 층 B는 기재 층 A 상부에 임의로 배치되어 층 복합체 B-C 또는 A-B-C를 제공하며,
    보호 층은
    (I) 적어도 1종의 폴리비닐 알콜,
    (II) 폴리비닐 알콜에 대한 적어도 1종의 가교제,
    (III) 임의로 적어도 1종의 접착 촉진제, 또는 아미노알킬 트리알콕시실란의 적어도 1종의 가수분해물, 및
    (IV) 임의로 적어도 1종의 계면활성제
    를 포함하는 수성 조성물의 반응에 의해 수득가능한 것인
    방법.
  9. 제8항에 있어서, 추가의 후속 단계에서 접착제 층 D를 적어도 부분적으로 경화된 보호 층 C 상부에 적용하여 층 복합체 B-C-D 또는 A-B-C-D를 제공하고, 이후 추가의 후속 단계에서 기재 층 E를 접착제 층 D 상부에 적용하여 층 복합체 B-C-D-E 또는 A-B-C-D-E를 제공하는 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제8항 또는 제9항에 있어서, 홀로그램이 층 복합체 B-C, A-B-C, B-C-D, A-B-C-D, B-C-D-E 또는 A-B-C-D-E 내로 광으로 새겨지고 고정되는 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제1항 또는 제4항에 있어서,
    적어도 1종의 폴리비닐 알콜이 DIN 53015:2001-02에 따라 20℃에서 물 중 4 중량% 용액으로서 ≥ 25 mPa*s, 또는 ≥ 50 mPa*s의 점도를 갖고,
    상기 폴리비닐 알콜이 DIN EN ISO 3681:2007-10-01에 따라 ≥ 85 mol%, 또는 ≥ 95 mol%의 가수분해도를 갖는 것을 특징으로 하는
    층 구조물.
  12. 제1항 또는 제4항에 있어서, 폴리비닐 알콜에 대한 가교제가 수성 글리옥살 용액, 글루타르알데히드, 옥살산, N,N'-디메틸우레아, 수산화마그네슘, 수산화칼슘, 붕산, 보레이트 염, 알루미네이트, 황산알루미늄, 규산, 규산 에스테르 및/또는 이들 중 적어도 2종의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 층 구조물.
  13. 제8항에 있어서, 제2항 또는 제3항에 따른 부분들의 키트를 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
  14. 광중합체 층 B를 보호하는 방법이며,
    적어도 부분적으로 경화된 보호 층 C를 사용하는 것을 특징으로 하고,
    보호 층 C는
    (I) 적어도 1종의 폴리비닐 알콜,
    (II) 폴리비닐 알콜에 대한 적어도 1종의 가교제,
    (III) 임의로 적어도 1종의 접착 촉진제, 또는 아미노알킬 트리알콕시실란의 적어도 1종의 가수분해물, 및
    (IV) 임의로 적어도 1종의 계면활성제
    를 포함하는 수성 조성물의 반응에 의해 수득가능한 것인
    방법.
  15. 제1항 또는 제4항에 따른 층 구조물을 포함하는 홀로그래픽 기록 매체.
  16. 제1항 또는 제4항에 따른 층 구조물을 포함하는 광학 디스플레이.
  17. 제1항 또는 제4항에 따른 층 구조물을 포함하는 보안 문서.
KR1020207002448A 2017-07-26 2018-07-23 광중합체를 위한 보호 층 KR102564843B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP17183344.5 2017-07-26
EP17183344.5A EP3435156A1 (de) 2017-07-26 2017-07-26 Schutzschicht für photopolymer
PCT/EP2018/069888 WO2019020553A1 (de) 2017-07-26 2018-07-23 Schutzschicht für photopolymer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200035398A KR20200035398A (ko) 2020-04-03
KR102564843B1 true KR102564843B1 (ko) 2023-08-09

Family

ID=59649446

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020207002448A KR102564843B1 (ko) 2017-07-26 2018-07-23 광중합체를 위한 보호 층

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11059930B2 (ko)
EP (2) EP3435156A1 (ko)
JP (1) JP2020528165A (ko)
KR (1) KR102564843B1 (ko)
CN (1) CN110914755B (ko)
TW (1) TWI775903B (ko)
WO (1) WO2019020553A1 (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201906882A (zh) * 2017-05-09 2019-02-16 德商科思創德意志股份有限公司 含有用於全像照射的光聚合物層及高度耐性漆層之薄膜結構
JP7185086B1 (ja) * 2021-09-16 2022-12-06 積水化学工業株式会社 仮保護材

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000221868A (ja) 1999-01-28 2000-08-11 Dainippon Printing Co Ltd ホログラムの製造方法
JP2006076239A (ja) 2004-09-13 2006-03-23 Ricoh Co Ltd 感熱粘着層を有する感熱記録材料
JP2007093799A (ja) 2005-09-27 2007-04-12 Fujifilm Corp 光記録媒体及びその製造方法
WO2017081078A1 (de) 2015-11-09 2017-05-18 Covestro Deutschland Ag Kit-of-parts enthaltend versiegelungsschicht und photopolymer

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2125110C3 (de) * 1971-05-21 1979-11-22 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zur Herstellung von Hologrammen
US4072527A (en) * 1972-09-27 1978-02-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company Oxygen barrier layers for photopolymerizable elements
ZA814512B (en) * 1980-08-04 1982-07-28 Goodyear Tire & Rubber Mehtod of making a sight model,said model, its use as a mold part and said mold
JPS58181046A (ja) * 1982-04-19 1983-10-22 W R Gureesu:Kk 印刷版の製造方法
US4771078A (en) * 1985-11-12 1988-09-13 The Goodyear Tire & Rubber Company Method of producing a foam from a radiation-curable composition
DE3650107T2 (de) 1985-11-20 1995-05-24 Mead Corp Ionische Farbstoffe.
US4994347A (en) 1988-01-15 1991-02-19 E. I. Du Pont De Nemours And Company Storage stable photopolymerizable composition and element for refractive index imaging
CA2033821A1 (en) * 1990-01-12 1991-07-13 Evan D. Laganis Photopolymerizable compositions sensitive to longer wavelength visible actinic radiation
JPH0962169A (ja) * 1995-08-30 1997-03-07 Toppan Printing Co Ltd ホログラム記録媒体
JPH10282680A (ja) * 1997-04-04 1998-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型感光材料
JPH11184361A (ja) * 1997-12-25 1999-07-09 Toppan Printing Co Ltd ホログラム表示素子
DE19809494A1 (de) * 1998-03-05 1999-09-09 Basf Drucksysteme Gmbh Photostrukturierbare Mehrschichtenelemente mit reversibel haftender Schutzfolie
CA2327478A1 (en) * 1998-04-08 1999-10-21 Derric T. Overcash Aqueous based image receptive coating and process for producing same
JPH11300829A (ja) * 1998-04-22 1999-11-02 Toyota Motor Corp エンボス模様付き金属薄膜の製造方法
GB0013767D0 (en) * 2000-06-07 2000-07-26 Univ Heriot Watt Photo-polymers and use thereof
CN101261331B (zh) * 2008-04-21 2010-07-07 南京大学 基于纳米压印技术的自支撑透射金属光栅制备方法
IL200997A0 (en) * 2008-10-01 2010-06-30 Bayer Materialscience Ag Special polyether-based polyurethane formulations for the production of holographic media
EP2317511B1 (de) * 2009-11-03 2012-03-07 Bayer MaterialScience AG Photopolymerformulierungen mit einstellbarem mechanischem Modul Guv
JP5923041B2 (ja) 2009-11-03 2016-05-24 バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフトＢａｙｅｒ ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ ＡＧ ホログラフィックフィルムの製造方法
CN102667935B (zh) 2009-11-03 2016-01-20 拜尔材料科学股份公司 具有不同书写共聚单体的光聚合物制剂
JP5752906B2 (ja) 2010-09-14 2015-07-22 エスアイアイ・プリンテック株式会社 液体噴射ヘッドの製造方法
EP2450387A1 (de) 2010-11-08 2012-05-09 Bayer MaterialScience AG Photopolymer-Formulierung für die Herstellung holographischer Medien
EP2450893A1 (de) 2010-11-08 2012-05-09 Bayer MaterialScience AG Photopolymer-Formulierung zur Herstellung holographischer Medien mit hoch vernetzten Matrixpolymeren
US9195215B2 (en) 2011-11-29 2015-11-24 Bayer Intellectual Property Gmbh Holographic medium having a protective layer
EP2613319A1 (de) * 2012-01-05 2013-07-10 Bayer MaterialScience AG Schichtverbund aus einem Photopolymerfilm und einer Klebstoffschicht
EP2613318B1 (de) * 2012-01-05 2014-07-30 Bayer Intellectual Property GmbH Schichtaufbau mit einer Schutzschicht und einer belichteten Photopolymerschicht
TWI640428B (zh) * 2013-02-27 2018-11-11 拜耳材料科學股份有限公司 以丙烯酸酯為基底之保護塗層與黏著劑
WO2015091427A1 (de) 2013-12-20 2015-06-25 Bayer Materialscience Ag Holographische medien mit verbesserter lichtempfindlichkeit
CN106232651B (zh) * 2014-04-25 2019-08-13 科思创德国股份有限公司 作为全息光聚合物组合物中的书写单体的芳族二醇醚
TWI684782B (zh) * 2014-08-01 2020-02-11 德商拜耳材料科學股份有限公司 含光聚合物層與基材層之層狀結構
DE102014118365A1 (de) * 2014-12-10 2016-06-16 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Absorptionsmedium, Transferfolie, Sicherheitselement und Verfahren zum Individualisieren eines Sicherheitselements

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000221868A (ja) 1999-01-28 2000-08-11 Dainippon Printing Co Ltd ホログラムの製造方法
JP2006076239A (ja) 2004-09-13 2006-03-23 Ricoh Co Ltd 感熱粘着層を有する感熱記録材料
JP2007093799A (ja) 2005-09-27 2007-04-12 Fujifilm Corp 光記録媒体及びその製造方法
WO2017081078A1 (de) 2015-11-09 2017-05-18 Covestro Deutschland Ag Kit-of-parts enthaltend versiegelungsschicht und photopolymer

Also Published As

Publication number Publication date
EP3658989B1 (de) 2021-05-05
CN110914755B (zh) 2023-09-29
TW201919899A (zh) 2019-06-01
TWI775903B (zh) 2022-09-01
EP3658989A1 (de) 2020-06-03
EP3435156A1 (de) 2019-01-30
JP2020528165A (ja) 2020-09-17
US20210095064A1 (en) 2021-04-01
US11059930B2 (en) 2021-07-13
CN110914755A (zh) 2020-03-24
KR20200035398A (ko) 2020-04-03
WO2019020553A1 (de) 2019-01-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20160320695A1 (en) Holographic media with improved light sensitivity
CN110603589B (zh) 含全息曝光的光致聚合物层和高耐受性涂料层的全息介质
JP6722672B2 (ja) 水分に安定なホログラフィック媒体
US20180330753A1 (en) Kit-of-parts containing a sealing layer and a photopolymer
US20160002487A1 (en) Protective lacquers and adhesives based on acrylate
CN110603495B (zh) 用于保护光致聚合物-膜复合结构中全息图的具有uv-固化的粘合剂层的塑料膜
KR102564843B1 (ko) 광중합체를 위한 보호 층
US11640136B2 (en) System consisting of two UV-curing dry-transfer coating layers for the protection of a hologram in a photopolymer film composite
CN106575079B (zh) 包含光聚合物层和基底层的层结构
US11267943B2 (en) Film structure containing a photopolymer layer for holographic exposure and a coating layer of high resistance
JP2021505946A (ja) 接着剤を用いないフォトポリマー層構造

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right