KR102554346B1 - 고체 제설제 입자의 낙하 속도 조절을 통한 염수 혼합율 증대용 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템 - Google Patents

고체 제설제 입자의 낙하 속도 조절을 통한 염수 혼합율 증대용 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템 Download PDF

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Abstract

본 발명은 염화물 입자의 낙하 시간을 선택적으로 조절하는 살포기의 혼합 챔버 시스템에 있어서, 상부에 개구를 형성하여 염화물 입자를 인입하는 호퍼 유닛; 호퍼 유닛으로부터 연결되어 배치되며, 염화물 입자를 선택적으로 이송 배출하는 믹싱 가이드 유닛; 및 믹싱 가이드 유닛의 내주면에 복수 개의 플레이트로 배치되어 제공되며, 믹싱 가이드 유닛의 내주면으로부터 돌출되어 형성되어 선택적인 앵글로 제공되고, 선택적인 앵글에 따라 염화물 입자의 낙하 속도를 선택적으로 조절하는 배플 플레이트 유닛을 포함하는 기술적 사상을 개시한다.

Description

고체 제설제 입자의 낙하 속도 조절을 통한 염수 혼합율 증대용 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템{System for mixed chamber selective dissolution through controlling angle and speed of particles}
본 발명은 염수용액과 고체 제설제가 챔버 중간에 혼합되도록 하는 챔버 시스템에 관한 것으로서, 보다 자세하게는 챔버 내부에 믹싱이 가능하도록 하는 플레이트를 설치하여 소금 입자에 대한 낙하 시간을 지연하고 소금 입자의 낙하 반전을 통해 제설제와 염수용액의 믹싱율을 높이도록 하는, 고체 제설제 입자의 낙하 속도 조절을 통한 염수 혼합율 증대용 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템에 관한 것이다.
우리나라에서 대설은 풍수해(태풍, 호우) 다음으로 재산피해가 많은 2014년도 환산기준으로 연평균 879억원의 재산피해가 발생하였다. 대설재난의 피해로 가장 큰 것은 교통두절 및 혼잡으로 인한 도시활동의 마비이며 그 다음으로는 농/어업 피해, 건축물 붕괴피해, 제설제로 인한 환경피해 등이다.
도로 포장, 교통 신호 시스템의 발달로 인하여 도로제설작업은 과거보다 더욱 그 중요성이 높아지게 되었다. 그 결과 자동차 산업의 특화분야로 겨울철 제설을 위한 전문화된 제설차량과 제설장비가 그 수요에 맞추어 발전하게 되었다.
도로에 제설제를 뿌려 눈을 녹이는 방법으로는, 대개 제설차량을 이용하거나 융설 시스템을 활용하여 수동 또는 반자동으로 제설작업을 수행한다.
차량을 이용하는 방법은 도로의 편경사, 횡당경사 및 양방향 2차로를 운행하는 차량으로 인하여 제설제가 도로 전면에 골고루 비산될 수 있도록 살포기나 제설기를 제설차량에 장착하여 제설제를 살포하는 것이 일반적인 방법이다.
제설제를 살포하는 습염식 제설작업의 원리는, 고체 소금 입자와 염수 용액을 혼합하여 고체 입자 외곽에 염수 용액을 묻혀 살포하는 방식이며, 일반적인 혼합방식은 고체 입자와 염수 용액은 별도로 공급되며, 최종적으로 스프레다에서 회전하면서 혼합되는 방식으로 제설제가 살포되는 방식을 사용하고 있다.
제설장비의 경우 지구적 기후변화시대에 방재산업의 새로운 먹거리를 창출할 수 있는 기술집약형 설비로서, 다양한 형태의 도로 제설 장비를 개발하고 적용하고 있으며 지속적인 개발이 유지되고 있으며 전문화된 제설차량과 제설 장비에 대한 새로운 수요에 맞추어 발전해 나가고 있다.
제설제를 살포하기 위한 장치 또는 제설제를 혼합하는 방법에 대한 예로서 선행 특허문헌 "제설제살포장치(등록번호 제10-0296841호, 이하 특허문헌1이라 한다.)"가 존재한다.
특허문헌 1의 경우, 제설제 살포장치에 관한 것으로, 종래의 것은 제설제 살포수단이 차량의 좌우 중앙부에 고정되어 있어, 특히 왕복 2차선 도로 등에서 중앙선 분리선을 타고 주행하지 않는 한 양쪽 차선 모두에 제설제를 살포할 수 없었다는 단점 등이 있었는데 반해, 특허문헌1은 제설제 살포장치는 컨베이어의 일측단에 설치되고 컨베이어에 의해 이송되는 제설제를 필요에 따라 차량의 좌우 중앙부와 일측면 중 어느 일측의 도로상으로 선택적으로 안내가능한 슈트, 슈트를 거쳐 떨어지는 제설제를 도로상에 분산하여 살포하는 제설제 살포수단을 포함하는 구성으로 이루어져 있어, 살포하고자 하는 도로의 여건에 따라 살포수단의 위치를 바꿀 수 있어 효율적으로 제설제를 살포할 수 있도록 해준다는 효과를 가지고 있으며, 도로 상에 제설제를 살포하는 데 사용된다.
또한, "제설제 살포 유도장치(등록번호 제10-0891017호, 이하 특허문헌2라 한다.)"도 존재한다.
특허문헌2의 경우, 제설차량에 탑재되어 제설제를 상차시키는 호퍼와, 호퍼의 후단에 고정되어 동력발생부를 수용하는 케이스와, 호퍼의 후단에 고정되는 슈트와, 동력발생부에 회전축을 매개로 연결되는 회전살포판과, 슈트의 하단 전측에 결합되는 고정 유도판과, 슈트의 하단 좌측 및 우측과 후측에 결합되는 제1 내지 제3 회 동 유도판을 구비한 제설제 살포기에 있어서, 제1 내지 제3 회동 유도판은 리프터수단에 의해 동시 또는 각각 상하 동작되도록 구성되어 있으므로, 제설제의 낙하점을 정확히 유도하여 가로변 녹지공간과 도로 시설물 및 중앙분리대의 훼손을 미연에 방지함과 동시에 제설차량과 근접한 뒷쪽 일반차량에 제설제가 살포되지 않도록 임의적으로 살포영역을 용이하게 조절할 수 있는 것이다.
아울러, "노면 제설용 차량(등록번호 제10-2254105호, 이하 특허문헌3이라 한다.)"가 존재한다.
특허문헌 3의 경우, 제설 작업중 노면의 요철이 감지되거나 후진시 제 설 버킷을 들어올림으로써 충격에 의한 손상을 방지할 수 있을 뿐만 아니라 소금칼슘의 살포량을 조절하는 조절 밸브의 가진으로 소금칼슘의 배출시 막히는 형상을 방지할 수 있는 노면 제설용 차량에 관한 것이다.
특허문헌 3은 차량의 전방 주행에 따라 노면에 쌓인 눈을 전방 또는 측방으로 밀어내기 위한 제설 버킷이 부착된 노면 제설용 차량에 있어서, 노면의 높낮이를 감지하도록 제설 버킷의 하단 가장 자리 후방에 구비된 높이감지센서와, 제설 버킷을 상하로 들어올리고 내리기 위한 승강 작동실린더와, 제설을 위해 제설 버킷의 하단 가장자리가 노면에 접촉되게 제설 버킷이 하강된 상태에서 차량의 주행시 높이감지센서에 의해 감지된 높이에 따라 제설 버킷을 들어올리고 내리도록 승강 작동실린더의 작동을 제어하는 제어부가 구비된 것을 특징으로 한다.
그러나 종래의 스프레다 원판에 의한 습염 (고체소금 + 염수용액) 혼합방식은 고체 소금과 염수용액의 접촉시간이 너무 짧아서 균질하게 혼합될 수 있는 시간이 부족하게 되며, 고체 소금과 염수용액이 혼합되지 않고 별도로 배출되는 현상이 발생하게 되며, 결국 제설작업 효과 저하의 요인이 되고 있었다.
등록번호 제10-0296841호 등록번호 제10-0891017호 등록번호 제10-2254105호
본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템은 상기한 바와 같은 종래 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 다음과 같은 해결하고자 하는 과제를 제시한다.
첫째, 습염식 제설작업을 위하여 고체 소금 입자와 염수 용액의 혼합 시간이 충분히 이루어지도록 슈트 중간에 믹싱 플레이트를 추가하여 고체 소금의 낙하시간을 지연시키고, 이 플레이트에 염수용액을 노즐로 분사하여 고체 소금과 염수용액의 혼합이 충분히 이루어 지도록 한다.
둘째, 믹싱 플레이트 내부에 낙하된 소금입자와 외부에 낙하된 소금입자의 위치를 뒤집에 줌으로써 염수 용액이 내부 소금에도 충분히 적셔질수 있도록 혼합 기능을 가지도록 한다.
셋째. 믹싱 플레이트를 통해 뒤집어진 소금 입자는 염수용액 분사노즐에 의해 균질하게 믹싱된후 S자 구조로 다시 원래의 슈트 위치로 이동하게 됨으로써 기존의 소금물 살포기와 동일한 살포 기능이 이루어 지도록 한다.
넷째. 믹싱 플레이트는 다양한 형태를 가지며, 경우에 따라 다수개를 설치하여 믹싱 효율을 높일 수 있다.
본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템은 상기의 해결하고자 하는 과제를 위하여 다음과 같은 과제 해결 수단을 가진다.
본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템은 소금 입자의 낙하 시간을 조절(지연) 하는 살포기의 혼합 챔버 시스템에 있어서, 상부에 개구를 형성하여 상기 염화물 입자를 인입하는 호퍼 유닛(hopper unit); 상기 호퍼 유닛으로부터 연결되어 배치되며, 상기 염화물 입자를 선택적으로 이송 배출하는 믹싱 가이드 유닛(mixing guide unit); 및 상기 믹싱 가이드 유닛의 내주면에 복수 개의 플레이트로 배치되어 제공되며, 상기 믹싱 가이드 유닛의 내주면으로부터 돌출되어 형성되어 선택적인 앵글로 제공되고, 상기 선택적인 앵글에 따라 상기 염화물 입자의 낙하 속도를 선택적으로 조절하는 배플 플레이트 유닛(baffle plate unit)을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 상기 배플 플레이트 유닛은, 상기 믹싱 가이드 유닛의 제1포지션에 배치되며, 상기 믹싱 가이드 유닛의 장방향을 따라 제1앵글로 제공되는 메인 플레이트부; 상기 메인 플레이트부와 이격되어 배치되고 상기 믹싱 가이드 유닛의 제2 포지션에 배치되며, 상기 믹싱 가이드 유닛의 장방향을 따라 제2앵글로 제공되는 제2플레이트부; 및 상기 제2플레이트부와 이격되어 배치되고, 상기 믹싱 가이드 유닛의 제3포지션에 배치되며, 상기 믹싱 가이드 유닛의 장방향을 따라 제3앵글로 제공되는 제3플레이트부를 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 상기 배플 플레이트 유닛은, 상기 복수 개의 플레이트의 배치 위치에 따라 상기 염화물 입자의 낙하를 순차적으로 방어하여, 상기 염화물 입자의 낙하 시간을 선택적으로 조절하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템은 상기 믹싱 가이드 유닛의 내부에 배치되며, 상기 믹싱 가이드 유닛으로 이동하는 상기 염화물 입자를 향하여 용해액을 분사하며, 상기 염화물 입자 표면에 염수용액 코팅막을 형성시키는 분사 노즐 유닛을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 상기 메인 플레이트부는,
상기 제2플레이트부와 상기 제3플레이트부에 대응하는 방향으로 제공되되, 상기 메인 플레이트부는, 소정의 각을 형성하여, 상기 소정의 각을 중심으로 상기 염화물 입자가 소정의 각을 따라 선택적으로 스케터링되어 이동되는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 상기 메인 플레이트부는, 관통하는 복수 개의 믹싱 홀을 형성하여, 상기 염수용액 코팅막이 형성된 상기 염화물 입자가 자중에 의해 상기 복수 개의 믹싱 홀을 통과하도록 하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 상기 분사 노즐 유닛은, 상기 믹싱 가이드 유닛 내에 배치되며, 상기 메인 플레이트부를 향하여 염수를 분사하여, 상기 메인 플레이트부의 상단에서 상기 염화물 입자에 염수용액 코팅막을 형성시키는 제1노즐부를 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 상기 분사 노즐 유닛은, 상기 제1노즐부와 이격되어 배치되며, 제1노즐부와 상이한 앵글로 형성되어, 상기 메인 플레이트부로부터 낙하하는 상기 염화물 입자를 향하여 상기 염수를 분사하는 제2노즐부를 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 상기 배플 플레이트 유닛은, 상기 믹싱 가이드 유닛 내에 이격되어 상이한 앵글로 형성되어, 상기 염화물 입자의 이동 방향을 조절하며, 상기 배플 플레이트 유닛의 상기 소정의 앵글에 따라 상기 염화물 입자가 분산 이동되도록 하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 상기 배플 플레이트 유닛은, 상기 복수 개의 플레이트의 앵글을 선택적으로 조절하며, 상기 염화물 입자의 이동 방향을 조절하며, 상기 복수 개의 플레이트 상에서 상기 염화물 입자의 이동 반전을 통한 자체 믹싱이 이루어지도록 하는 것을 특징으로 할 수 있다.
이상과 같은 구성의 본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템은 다음과 같은 효과를 제공한다.
첫째, 믹싱 가이드 유닛 내부에 배플 플레이트부를 설치하여 고체 소금 입자의 낙하 시간을 지연시키도록 하고자 한다.
둘째, 배플 플레이트부를 통해 염수가 묻은 고체 입자와 염수가 묻지 않은 고체 입자가 혼합되도록 하고자 한다.
셋째, 믹싱 가이드 유닛 내에 노즐을 제공하고, 노즐을 통하여 염수를 분사하여 믹싱 가이드 유닛 내에 고체 소금 입자와 염수가 혼합될 수 있도록 한다.
넷째, 노즐의 선택적 앵글 조절이 가능하도록 하여, 고체 소금 입자와 염수의 최적 혼합이 이루어지도록 할 수 있다.
본 발명의 효과는 이상에서 언급한 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 측면도를 도시한 것이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 믹싱 가이드 유닛 내에서 소금 입자가 이동되는 방향을 도시한 것이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 믹싱 가이드 유닛과 복수 개의 플레이트를 도시한 것이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 메인 플레이트부의 또 다른 형태를 도시한 것이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 믹싱 가이드 유닛과 또 다른 형태의 복수 개의 플레이트를 도시한 것이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 믹싱 가이드 유닛과 노즐 유닛에 대하여 도시한 것이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 분사 노즐 유닛이 소정의 앵글로 형성되어 메인 플레이트부의 상부와 하부에 염수가 분사되는 것을 도시한 것이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 배플 플레이트 유닛을 따라 소금 입자가 반전 이동되어 믹싱이 이루어지는 것을 도시한 것이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 분사 노즐 유닛의 분사 정도에 따라 분사된 염수에 따라 소금화 입자의 염수용액 코팅막 형성 정도와 염수용액 코팅막이 형성된 입자의 개수 차이를 도시한 것이다.
본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 기술적 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 측면도를 도시한 것이다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 믹싱 가이드 유닛 내에서 소금 입자가 이동되는 방향을 도시한 것이다. 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 믹싱 가이드 유닛과 복수 개의 플레이트를 도시한 것이다. 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 메인 플레이트부의 또 다른 형태를 도시한 것이다. 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 믹싱 가이드 유닛과 또 다른 형태의 복수 개의 플레이트를 도시한 것이다. 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 믹싱 가이드 유닛과 노즐 유닛에 대하여 도시한 것이다. 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 분사 노즐 유닛이 소정의 앵글로 형성되어 메인 플레이트부의 상부와 하부에 염수가 분사되는 것을 도시한 것이다. 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 배플 플레이트 유닛을 따라 소금 입자가 반전 이동되어 믹싱이 이루어지는 것을 도시한 것이다. 도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 분사 노즐 유닛의 분사 정도에 따라 분사된 염수에 따라 소금 입자의 염수용액 코팅막 형성 정도와 염수용액 코팅막이 형성된 입자의 개수 차이를 도시한 것이다.
종래의 제설제를 살포기의 경우, 고체 소금 입자와 염수용액을 마지막 스프레다 (회전판)을 통해 제설제를 혼합하면서 살포하는 방법을 사용하였다.
이러한 방식은 고체 소금과 염수용액을 효과적으로 혼합하지 못하게 되어 제설작업 효과가 떨어지는 문제점이 존재하였다.
본원 발명은 믹싱챔버를 통하여 소금 입자의 낙하 속도를 지연시켜 염수용액을 균질하게 혼합하여 살포되는 효과를 얻을 수 있다.
또한, 종래 사용되는 고체 소금 입자와 염수의 믹싱 효율은 50% 미만에 해당하는 반면, 본원 발명의 믹싱 챔버의 경우 98% 이상의 믹싱이 가능하도록 하여 제설제 효과를 극대화할 수 있다.
본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템은 염화물 입자의 낙하 시간을 선택적으로 조절하는 살포기의 혼합 챔버 시스템에 관한 것이다.
염화물 입자는, 제설제로서 친환경제설제, 염화칼슘, 소금입자에 해당할 수 있다.
선택적 용해의 경우, 소금 입자(염화물 입자)가 염수로 용해되는 용해 정도를 목적하는 정도에 따라 조절하여 소금 입자를 용해한다.
본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템은 호퍼 유닛(100), 믹싱 가이드 유닛(200), 배플 플레이트 유닛(300)을 포함하는 구성이다.
호퍼 유닛(100)의 경우, 상부에 개구를 형성하여 소금 입자를 인입한다.
믹싱 가이드 유닛(200)은, 호퍼 유닛(100)으로부터 연결되어 배치되며, 소금 입자를 선택적으로 이송 배출한다.
배플 플레이트 유닛(300)의 경우, 믹싱 가이드 유닛(200)의 내주면에 복수 개의 플레이트로 배치되어 제공되며, 믹싱 가이드 유닛(200)의 내주면으로부터 돌출되어 형성되어 선택적인 앵글로 제공되고, 선택적인 앵글에 따라 소금 입자의 낙하 속도를 선택적으로 조절한다.
도 1에 도시된 바와 같이, 호퍼 유닛(100)의 경우 살포기 혼합 챔버의 상부에 제공되어 소금 입자를 인입하게 된다.
인입된 소금 입자는 믹싱 가이드 유닛(200)을 통하여 이동하게 되는데, 믹싱 가이드 유닛(200)은 내부에 배플 플레이트 유닛(300)에 해당하는 복수 개의 플레이트가 배치되어진다.
배플 플레이트 유닛(300)은 믹싱 가이드 유닛(200)을 통하여 이동하는 고체에 해당하는 소금 입자의 낙하의 속도를 선택적으로 조절할 수 있다.
배플 플레이트 유닛(300)의 앵글은 선택적으로 형성되는 것으로, 배플 플레이트(300)의 경우, 소금 입자에 대한 낙하 속도를 지연시킬 수 있다.
배플 플레이트 유닛(300)은 [표 1]같은 다양한 형태를 가지며, 경우에 따라 다수개를 설치하여 믹싱 효율을 높일 수 있다.
일반 평면플레이트 타공형 플레이트 격벽형 챔버 플레이트
배플 플레이트 유닛(300)가 일반 평면 플레이트로 제공되는 경우, 도 5에 도시된 바와 같이 일반 평면으로 제공되어질 수 있다. 또한, 배플 플레이트 유닛(300)가 타공형 플레이트로 제공되는 경우, 도 2 및 도 6에 도시된 바와 같이, 타공형 플레이트로 제공되어질 수 있다.
아울러, 배플 플레이트 유닛(300)가 격벽형 챔버 플레이트로 제공되는 경우, 도 4에 도시된 바와 같이, 일반 평면 플레이트 상에 격벽이 형성된 형태로 제공되어질 수 있다.
본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 배플 플레이트 유닛(300)은, 메인 플레이트부(310-1), 제2플레이트부(310-2), 제3플레이트부(310-3)을 포함한다.
메인 플레이트부(310-1)의 경우, 믹싱 가이드 유닛(200)의 제1포지션에 배치되며, 믹싱 가이드 유닛(200)의 장방향을 따라 제1앵글로 제공된다.
제2플레이트부(310-2)는, 메인 플레이트부(310-1)와 이격되어 배치되고 믹싱 가이드 유닛(200)의 제2 포지션에 배치되며, 믹싱 가이드 유닛(200)의 장방향을 따라 제2앵글로 제공된다.
제3플레이트부(310-3)는, 제2플레이트부(310-2)와 이격되어 배치되고, 믹싱 가이드 유닛(200)의 제3포지션에 배치되며, 믹싱 가이드 유닛(200)의 장방향을 따라 제3앵글로 제공된다.
도 2에 도시된 바와 같이, 메인 플레이트부(310-1), 제2플레이트부(310-2), 제3플레이트부(310-3)는 믹싱 가이드 유닛(200) 내에 배치된다.
메인 플레이트부(310-1)의 경우, 도 2 내지 도3에 도시된 바와 같이, 믹싱 가이드 유닛(200) 내부의 일측에 배치된다.
메인 플레이트부(310-1)는 소정의 앵글로 형성되어질 수 있는데, 도 3에 도시된 바와 같이, 중심부가 돌출된 형태로 제공되고, 중심부로부터 멀어지면서 하향되는 형태로 제공되어질 수 있다.
또한, 믹싱 가이드 유닛(200)으로부터 배치된 앵글이 소정의 앵글로 형성되는데, 믹싱 가이드 유닛(200)에 접촉되는 부분은 호퍼 유닛(100)의 방향으로 높게 형성되어질 수 있으며, 믹싱 가이드 유닛(200)의 중심부로 향하는 부분은 점진적으로 하향하는 방향으로 제공되어질 수 있다.
제2플레이트부(310-2)와 제3플레이트부(310-3)의 경우도 소정의 앵글로 형성되어지는데, 도 3에 도시된 바와 같이, 예컨대, 믹싱 가이드 유닛(200)과 접촉하여 연결되어 배치된 부분으로부터 점진적으로 하향하는 방향으로 앵글을 형성하도록 제공되어질 수 있다.
본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 배플 플레이트 유닛(300)은, 복수 개의 플레이트의 배치 위치에 따라 소금 입자의 낙하를 순차적으로 방어하여, 소금 입자의 낙하 시간을 선택적으로 조절한다.
배플 플레이트 유닛(300)은 도 3에 도시된 바와 같이, 방향이 전환되도록 하는 방향으로 제공되어 소금 입자에 대한 이동의 방향이 전환되도록 할 수 있다.
또한, 소금 입자의 낙하가 순차적으로 이루어지도록 함으로 인해 소금 입자의 낙하 속도를 선택적으로 조절할 수 있다.
예컨대, 고체 소금 입자의 경우, 호퍼 유닛(100)으로부터 인입되는 소금 입자는 제2플레이트부(310-1)에 의하여 소금 입자가 제2플레이트부(310-1)의 앵글에 따라 이동하게 되며, 이후 메인 플레이트부(310-1)에 의하여 소금 입자는 메인 플레이트부(310-1)의 앵글에 따라 이동하게 된다. 마지막으로 소금 입자는 제3플레이트부(310-3)에 의하여 제3플레이트부(310-3)의 앵글에 따라 이동하게 되는 것이다.
배플 플레이트 유닛(300)은 소금 입자가 낙하하는 방향에 따라 소금 입자의 낙하를 방어하게 되며, 방어된 소금 입자는 배플 플레이트 유닛(300)의 앵글 방향에 따라 이동하게 되는 것이다.
본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템은 분사 노즐 유닛(400)을 포함한다.
분사 노즐 유닛(400)은 믹싱 가이드 유닛(200)의 내부에 배치되며, 믹싱 가이드 유닛(200)으로 이동하는 소금 입자를 향하여 용해액을 분사하며, 소금 입자 표면에 염수용액 코팅막을 형성시킨다.
분사 노즐 유닛(400)의 경우, 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 제2플레이트부(310-2)와 제3플레이트부(310-3) 하부에 제공되어질 수 있다.
분사 노즐 유닛(400)의 경우, 소금 입자를 향해 용해액에 대한 염수를 분사하게 된다.
분사 노즐 유닛(400)이 소금 입자를 향하여 염수를 분사함은 소금 입자에 염수용액 코팅막을 형성함과 함께, 염수에 대한 농도를 높이기 위함 일 수 있다.
제2플레이트부(310-2)와 제3플레이트부(310-3)는 분사 노즐 유닛(400)이 오염되지 않도록 하는 커버링 효과를 제공할 수 있다.
분사 노즐 유닛(400)의 겨우 선택적인 앵글 조절이 가능하도록 할 수 있는데, 선택적인 앵글 조절은 목적하는 외부 온도와 강설량에 따라 앵글 조절을 통하여 소금 입자와 염수에 대한 혼합이 선택적으로 이루어지도록 하기 위함이라 할 수 있다.
또한, 분사 노즐 유닛(400)은 분사되는 강도를 조절할 수 있으며, 소금 입자에 대한 낙하 속도와 소금 입자의 인입량에 따라 분사 강도와 분사 앵글에 대한 조절이 가능하도록 할 수 있다.
본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 메인 플레이트부(310-1)는, 제2플레이트부(310-2)와 제3플레이트부(310-3)에 대응하는 방향으로 제공되되, 메인 플레이트부(310-1)는, 소정의 각을 형성하여, 소정의 각을 중심으로 소금 입자가 소정의 각을 따라 선택적으로 스케터링(scattering)되어 이동된다.
소정의 각의 경우, 복수 개의 플레이트(310)에 대한 앵글에 해당하며, 도 3 및 도 5에 도시된 바와 같이, 메인 플레이트부(310-1)와 제2플레이트부(310-2)와 제3플레이트부(310-3)는 각각 믹싱 가이드 유닛(200)의 양측으로 배치된다.
제2플레이트부(310-2)와 제3플레이트부(310-3)의 경우, 믹싱 가이드 유닛(200)의 같은 방향으로부터 배치되며 이격되어 배치되는 것이 바람직하다.
제2플레이트부(310-2)와 제3플레이트부(310-3)의 경우, 분사 노즐 유닛(400)이 입자로부터 오염되는 것을 커버함과 함께 소금 입자에 대한 이동 방향도 가이드하게 된다.
본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 메인 플레이트부(310-1)는, 관통하는 복수 개의 믹싱 홀(300H)을 형성하여, 염수용액 코팅막이 형성된 소금 입자가 자중에 의해 복수 개의 믹싱 홀(300H)을 통과하도록 한다.
믹싱 홀(300H)의 경우 도 5에 도시된 바와 같이, 메인 플레이트부(310-1)에 복수 개로 형성되어진다.
믹싱 홀(300H)의 경우, 소금 입자를 관통시키게 되는데, 염수용액 코팅막을 형성한 소금 입자를 관통시키며, 염수용액 코팅막을 형성한 소금 입자와 염수용액 코팅막을 형성하지 않은 소금 입자를 뒤집어주게 된다.
배플 플레이트부(310-1)는 소금 입자의 낙하 시간을 지연하게 되며, 믹싱 홀(310H)은 소금 입자를 관통시키며 소금 입자를 통과시키게 된다.
또한, 도 4에 도시된 바와 같이, 메인 플레이트부(310-1)의 상단에 복수 개의 칸을 형성하는 월(wall)부(301)가 제공될 수도 있다. 월부(301)의 경우, 떨어지는 소금 입자 상부에 용액에 뿌져지면서 코팅되지 않은 소금 입자가 흩날리거나 튀는 것을 방지할 수 있으며, 소금 입자의 이탈을 방지할 수 있다.
본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 분사 노즐 유닛(400)은, 제1노즐부(410), 제2노즐부(420)를 포함하는 구성이다.
제1노즐부(410)의 경우, 믹싱 가이드 유닛(200) 내에 배치되며, 메인 플레이트부(310-1)를 향하여 염수를 분사하여, 메인 플레이트부(310-1)의 상단에서 소금 입자에 염수용액 코팅막을 형성시킨다.
도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 제1노즐부(410)는 메인 플레이트부(310-1)의 상부를 향하여 염수를 분사하도록 앵글이 형성되며, 메인 플레이트부(310-1)로 이동하는 소금 입자를 향하여 염수를 분사하게 된다.
제1노즐부(410)의 경우, 예컨대, 앵글이 선택적으로 조절되나 제1노즐부(410)의 노즐의 경우의 앵글은 메인 플레이트부(310-1)의 상단 혹은 상부를 향하여 노즐의 앵글이 형성되어질 수 있는 것이다.
또한, 제2노즐부(420)의 경우, 제1노즐부(410)와 이격되어 배치되며, 제1노즐부(410)와 상이한 앵글로 형성되어, 메인 플레이트부(310-1)로부터 낙하하는 소금 입자를 향하여 염수를 분사한다.
제2노즐부(420)의 경우, 메인 플레이트부(310-1)의 하부를 향하여 앵글이 형성되어 메인 플레이트부(310-1)를 통과한 소금 입자를 향하여 염수가 분사되어진다.
도 4 및 도 7에 도시된 바와 같이, 제1노즐부(410)와 제2노즐부(420)은 복수 개의 노즐로 이루어질 수 있으며, 챔버 유닛(200)의 상부에 제공되는 제1노즐부(410)는 메인 플레이트부(310-1)의 상부 입자를 향하여 용액을 분사하고, 메인 플레이트부(310-2)의 하부에 제공되는 제2노즐부(420)는 메인 플레이트부(310-1)의 하부를 향하여 용액을 분사함으로 소금 입자 외주면을 염수용액 코팅막을 코팅하는 믹싱률을 높일 수 있다.
본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 배플 플레이트 유닛(300)의 경우, 믹싱 가이드 유닛(200) 내에 이격되어 상이한 앵글로 형성되어, 소금 입자의 이동 방향을 조절하며, 배플 플레이트 유닛(300)의 소정의 앵글에 따라 소금 입자가 분산 이동되도록 한다.
앞서 서술한 바와 같이, 믹싱 가이드 유닛(200) 내에 제공되는 배플 플레이트 유닛(300)을 통하여 소금 입자는 이동 방향이 조절되어지는데, 도 8에 도시된 바와 같이, 소금 입자는 배플 플레이트 유닛(300)을 따라 이동하게 되는 것이다.
도 8에 도시된 소금 입자의 경우, 예컨대, 짙은 색의 경우 소금 입자의 농도에 해당할 수 있는데, 소금 입자는 소금 입자의 농도가 반전되면서 배플 플레이트 유닛(300)을 따라 이동할 수 있는 것이다.
또한, 배플 플레이트 유닛(300)의 복수 개의 플레이트 각각은 그 앵글을 상이하게 설정할 수 있으며, 앵글은 외부 온도와 강설량에 따라 조절 가능하도록 할 수 있다.
본 발명에 따른 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템의 배플 플레이트 유닛(300)의 경우, 복수 개의 플레이트(310)의 앵글을 선택적으로 조절하며, 소금 입자의 이동 방향을 조절하며, 복수 개의 플레이트(310) 상에서 소금 입자의 이동 반전을 통한 자체 믹싱이 이루어지도록 한다.
앞서 서술한 바와 같이, 복수 개의 플레이트의 앵글을 따라 소금 입자는 이동하는데, 이때, 소금 입자가 이동함에 따라 이동 순서에 반전이 일어날 수 있다.
예컨대, 도 8에 도시된 바와 같이, 소금 입자들은 이동을 통하여 이동 순서에 대한 반전이 이루어지는 것이다.
본 발명에서 소금 입자에 염수로 염수용액 코팅막을 형성함은 소금 입자가 흩날리지 않고 목적하는 방향과 목적하는 위치로 안착시키도록 하기 위하여 염수용액 코팅막을 형성함을 통해 입자의 흩날림이 방지되도록 할 수 있다.
또한, 메인 플레이트부(310-1)의 믹싱 홀(300H)의 경우, 뭉쳐진 소금 입자를 믹싱 홀(300H)을 통해 잘게 쪼개어 녹지 않고 분사되거나 분출되는 것을 방지하도록 한다.
본 발명의 경우, 소금 입자의 선택적인 용해가 가능하도록 하는 것으로, 도 9에 도시된 바와 같이 노즐로부터 분사되는 염수의 양을 조절함을 통하여 소금 입자의 선택적인 용해가 가능하도록 할 수 있다.
도 9(a)와 도 9(b)의 경우, 염수가 분사되는 양이 조절되어 소금 입자에 염수용액 코팅막을 형성하는 것을 도시한 것이며, 소금 입자에 염수용액 코팅막을 형성한 정도를 도 7(c)에 도시한 것이다.
도 9(c)에서 도시된 바와 같이, 염수가 분사되는 양에 따라 염수용액 코팅막이 형성된 입자의 개수가 많아지며, 염수 분사량에 따라 선택적인 믹싱 조절도 가능하게 된다.
도 9에 도시된 예의 경우, 염수에 분사 정도에 대한 소금 입자의 염수용액 코팅막 정도를 나타낸 것이나 염수에 대한 앵글, 소금 입자의 낙하 속도에 따라서도 소금 입자의 염수용액 코팅막 정도는 선택적으로 조절이 가능하다.
본 발명의 권리 범위는 특허청구범위에 기재된 사항에 의해 결정되며, 특허 청구범위에 사용된 괄호는 선택적 한정을 위해 기재된 것이 아니라, 명확한 구성요소를 위해 사용되었으며, 괄호 내의 기재도 필수적 구성요소로 해석되어야 한다.
100: 호퍼 유닛
200: 믹싱 가이드 유닛
300: 배플 플레이트 유닛
300H: 믹싱 홀
310-1: 메인 플레이트부
310-2: 제2플레이트부
310-3: 제3플레이트부
400: 분사 노즐 유닛
410: 제1노즐부
420: 제2노즐부

Claims (10)

  1. 염화물 입자의 낙하 시간을 선택적으로 조절하는 살포기의 혼합 챔버 시스템에 있어서,
    상부에 개구를 형성하여 상기 염화물 입자를 인입하는 호퍼 유닛(hopper unit);
    상기 호퍼 유닛으로부터 연결되어 배치되며, 상기 염화물 입자를 선택적으로 이송 배출하는 믹싱 가이드 유닛(mixing guide unit);
    상기 믹싱 가이드 유닛의 내주면에 복수 개의 플레이트로 배치되어 제공되며, 상기 믹싱 가이드 유닛의 내주면으로부터 돌출되어 형성되어 선택적인 앵글로 제공되고, 상기 선택적인 앵글에 따라 상기 염화물 입자의 낙하 속도를 선택적으로 조절하는 배플 플레이트 유닛(baffle plate unit); 및
    상기 믹싱 가이드 유닛의 내부에 배치되며, 상기 믹싱 가이드 유닛으로 이동하는 상기 염화물 입자를 향하여 용해액을 분사하며, 상기 염화물 입자 표면에 염수용액 코팅막을 형성시키는 분사 노즐 유닛을 포함하되,
    상기 배플 플레이트 유닛은,
    상기 믹싱 가이드 유닛의 제1포지션에 배치되며, 상기 믹싱 가이드 유닛의 장방향을 따라 제1앵글로 제공되는 메인 플레이트부;
    상기 메인 플레이트부와 이격되어 배치되고 상기 믹싱 가이드 유닛의 제2 포지션에 배치되며, 상기 믹싱 가이드 유닛의 장방향을 따라 제2앵글로 제공되는 제2플레이트부; 및
    상기 제2플레이트부와 이격되어 배치되고, 상기 믹싱 가이드 유닛의 제3포지션에 배치되며, 상기 믹싱 가이드 유닛의 장방향을 따라 제3앵글로 제공되는 제3플레이트부를 포함하고,
    상기 복수 개의 플레이트의 배치 위치에 따라 상기 염화물 입자의 낙하를 순차적으로 방어하여, 상기 염화물 입자의 낙하 시간을 선택적으로 조절하며, 상기 염화물 입자의 낙하 속도를 지연시키며,
    상기 메인 플레이트부는,
    상기 제2플레이트부와 상기 제3플레이트부에 대응하는 방향으로 제공되되,
    상기 메인 플레이트부는,
    소정의 각을 형성하여, 상기 소정의 각을 중심으로 상기 염화물 입자가 소정의 각을 따라 선택적으로 스케터링되어 이동되고,
    상기 분사 노즐 유닛은,
    상기 믹싱 가이드 유닛 내에 배치되며, 상기 메인 플레이트부를 향하여 염수를 분사하여, 상기 메인 플레이트부의 상단에서 상기 염화물 입자에 염수용액 코팅막을 형성시키는 제1노즐부; 및
    상기 제1노즐부와 이격되어 배치되며, 제1노즐부와 상이한 앵글로 형성되어, 상기 메인 플레이트부로부터 낙하하는 상기 염화물 입자를 향하여 상기 염수를 분사하는 제2노즐부를 포함하고,
    상기 염화물 입자의 낙하 속도와 인입량에 따라 분사 강도와 분사 앵글을 조절하며,
    상기 메인 플레이트부는,
    상단에 복수 개의 칸을 형성하고, 상기 염화물 입자의 이탈을 방지는 월부를 구비하되,
    상기 월부는,
    떨어지는 상기 염화물 입자의 상부에 상기 용해액이 뿌려지면서 코팅되지 않은 상기 염화물 입자가 흩날리거나 튀는 것을 방지하는 것을 특징으로 하는, 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서, 상기 메인 플레이트부는,
    관통하는 복수 개의 믹싱 홀을 형성하여, 상기 염수용액 코팅막이 형성된 상기 염화물 입자가 자중에 의해 상기 복수 개의 믹싱 홀을 통과하도록 하는 것을 특징으로 하는, 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템.
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 제1항에 있어서, 상기 배플 플레이트 유닛은,
    상기 믹싱 가이드 유닛 내에 이격되어 상이한 앵글로 형성되어, 상기 염화물 입자의 이동 방향을 조절하며, 상기 배플 플레이트 유닛의 상기 소정의 앵글에 따라 상기 염화물 입자가 분산 이동되도록 하는 것을 특징으로 하는, 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템.
  10. 제9항에 있어서, 상기 배플 플레이트 유닛은,
    상기 복수 개의 플레이트의 앵글을 선택적으로 조절하며, 상기 염화물 입자의 이동 방향을 조절하며, 상기 복수 개의 플레이트 상에서 상기 염화물 입자의 이동 반전을 통한 자체 믹싱이 이루어지도록 하는 것을 특징으로 하는, 믹싱 플레이트가 구비된 혼합 챔버 시스템.
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