KR102549493B1

KR102549493B1 - 의료 디바이스 뷰포트 상에서의 김서림 방지

Info

Publication number: KR102549493B1
Application number: KR1020187009883A
Authority: KR
Inventors: 아담 사기프; 마이클 멀러; 암논 램
Original assignee: 플라즈마티카 리미티드
Priority date: 2015-09-07
Filing date: 2016-09-07
Publication date: 2023-06-29
Also published as: WO2017042806A1; US10413168B2; JP6973818B2; US20190021584A1; CA3035491C; IL286606A; IL279819B; IL279819A; EP3346901A4; JP7084079B2; CN111789568A; CN108135463A; JP2022105703A; JP6678744B2; EP3346901A1; JP2018531767A; CN111789568B; IL257890A; CA3203469A1; KR20180054669A

Abstract

의학적 수술 이전에 또는 도중에 김서림에 대해 의료 디바이스의 뷰포트를 면역시키는 방법, 및 관련된 장치 및 디바이스가 제공된다. 그 방법은 사용 이전에 상기 뷰포트에 플라즈마를 인가하고, 그에 의해 뷰포트의 표면을 고도로 친수성으로 만드는 것을 포함한다. 그 방법은 김서림으로 인한 흐려짐을 제거하거나 또는 적어도 현저히 감소시킨다.

Description

의료 디바이스 뷰포트 상에서의 김서림 방지

본 발명은, 몇몇 실시형태에서, 내시경과 같은 뷰포트(viewport)를 갖는 의료 디바이스의 분야에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 그러나 비배타적으로는, 의료적 수술(medical procedure) 동안 뷰포트 상에서의 김서림(fog)의 축적에 대해 의료 디바이스를 면역시키기 위한 방법 및 디바이스에 관한 것이다.

내시경은 의료적 수술에서, 특히 최소 침습 외과적 수술에서 널리 사용된다. 여기서, "내시경"은, 환자의 몸에 삽입되도록 구성되는 원위 단부(distal end) 및 수술 동안 환자의 몸 외부에 남아 있도록 구성되는 근위 단부를 구비하는 임의의 스코프를 포함하도록 의도된다. 통상적으로, 원위 단부는 렌즈 또는 윈도우 또는 광섬유의 가리지 않은(bare) 단부 또는 심지어 (예를 들면, 치과 의사 거울과 같은) 거울과 같은 뷰포트를 포함한다. 뷰포트를 통해, 스코프는, 예를 들면, CCD와 같은 광 감지 디바이스를 사용하여, 뷰포트 주변의 이미지를 수집하는 것을 가능하게 한다. 뷰포트는 디바이스의 전방으로부터(즉, 디바이스의 종 방향 축과 일치하는 영역으로부터) 광을 수집하는 것을 목적으로 할 수도 있거나, 또는 뷰포트는 종 방향 축에 대해 어떤 각도로 기울어질 수도 있거나, 또는 디바이스의 종 방향 축에 수직으로 대면하고 있을 수도 있다(이러한 것은, 예를 들면, 대장 내시경에서 입증된다). 근위 단부는, 어쩌면 스위치, 네비게이션 스틱, 터치 스크린 및 터치 패드와 같은 사용자 인터페이스 컴포넌트를 포함하는, 의료 종사자에 의해 유지될 손잡이를 포함하거나 또는 그 손잡이에 통상적으로 연결된다.

내시경은, 예를 들면, 기관지경, 대장 내시경, 방광경 및 복강경과 같은 방대한 범위의 스코프를 포함한다. 복강경은 - 특정한 예로서 - 원위 단부에, 어쩌면 대물 렌즈를 포함하는 뷰포트, 및 근위 단부에 접안부 및/또는 통합된 시각적 디스플레이를 구비하는 강성의 또는 상대적으로 강성의 로드(rod) 또는 샤프트를 포함한다. 스코프는 또한, 외과적 수술을 기록하기 위해 원격 시각적 디스플레이 디바이스 또는 비디오 카메라에 연결될 수도 있다.

복강경 수술에서, 환자의 복부 또는 골반강은 하나 또는 두 개 이상의 상대적으로 작은 절개(통상적으로 약 3㎜에서 약 15㎜ 사이)를 통해 접근되며, 복강경은 절개 중 하나를 통해 삽입되어 수술될 내부 장기의 관찰을 의료 종사자에게 허용할 수도 있다. 복부 벽을 내부 장기보다 상승시키는 것에 의해 복부 공간을 팽창시키고 그에 의해 외과 의사에 대한 충분한 작업 및 관찰 공간을 생성하기 위해, 복부는 통상적으로 취입기(insufflator)의 사용을 통해 가스로 부풀려진다 - 취입(insufflation)을 위해 이산화탄소가 일반적으로 사용된다.

환자의 복부 공간 내의 국소적 환경은, 삽입되고 있는 복강경과 비교하여 일반적으로 습도가 많고 따뜻하다. 결과적으로, 복강경의 뷰포트는, 예를 들면, 김서림으로 인해, 즉 뷰포트 상에서의 증기의 응축으로 인해, 또는, 예를 들면, 액적, 예를 들면, 수술 동안의 외과적 행위로부터 유래하는 혈액 액적의 축적으로 인해 흐려지는 경향이 있다.

내시경의 뷰포트를 세정하기(clean) 위해 사용되는 현존하는 기술 중 일부는, 환자의 신체로부터 내시경을 후퇴시키는 것, 뷰포트를 세척하거나(rinsing) 또는 (예를 들면, 천을 사용하여) 닦는 것 및 내시경을 환자의 신체에 다시 삽입한 이후 흐려짐 형성을 감소시키기 위해 또는 느리게 하기 위해 어쩌면 원위 단부를 건조시키고 그것을 따뜻하게 하는 것을 필요로 한다. 다른 현존하는 기술은, 환자의 몸 내부에서 뷰포트를 세척하는 것을 포함한다. 미국 특허 제8,047,215호는, 복강경 외과적 수술 동안 청결하고 건조한 상태로 복강경의 렌즈를 유지하기에 적합한 복강경 렌즈 클리너(cleaner)를 개시하고 있다. 복강경 렌즈 클리너의 한 실시형태는, 외장 내부(sheath interior)를 구비하는 가늘고 긴 클리너 외장, 클리너 외장에 제공되는 유체 도관, 외장 내부에 제공되며 유체 도관과 연통하는 유체 배출 노즐, 클리너 외장에 제공되는 가스 도관 및 외장 내부에 제공되며 가스 도관과 연통하는 가스 배출 노즐을 포함한다. 미국 특허 출원 제20150005582호는 복강경을 김서림 제거하고(defogging) 세정하는 방법을 개시하고 있다. 그 방법은: 복강경을 외장 안으로 삽입하는 것; 복강경 및 외장을 체강(body cavity) 안으로 삽입하는 것; 복강경이 체강 내에 있는 동안 가스가 가스 루멘(gas lumen)을 통해 복강경의 렌즈 위로 흘러 렌즈의 김서림을 제거하도록, 외장의 벽 내의 복수의 가스 루멘에 가스를 제공하는 것; 및 복강경이 체강 내에 있는 동안 유체가 유체 루멘을 통해 렌즈 위로 흘러 렌즈를 세정하도록, 외장의 벽 내의 유체 루멘에 표면 활성제를 포함하는 유체를 제공하는 것을 포함한다.

본 발명의 양태는, 그 몇몇 실시형태에서, 의료 디바이스의 뷰포트 상에서의 김서림 제거 - 즉 흐려짐(blur) 및 김서림을 감소 또는 방지하는 것 - 에 관한 것이다. 더 구체적으로는, 본 발명의 양태는, 그 몇몇 실시형태에서, 의료적 수술 동안 뷰포트 상에서의 김서림의 축적에 대해 의료 디바이스를 면역시키기 위한 방법 및 디바이스에 관한 것이다.

상기에서 논의되는 바와 같이, 의료 디바이스가 환자의 신체 내부에서 사용되는 의료적 수술 동안 의료 디바이스의 뷰포트를 깨끗하게 유지하기 위한 현존하는 기술이 존재한다. 이러한 기술은, 환자의 신체로부터 의료 디바이스를 제거하고 뷰포트를 천을 사용하여 또는 세척에 의해 세정하는 것, 또는 환자의 신체 내부에서 뷰포트를 세척하는 것(그리고 어쩌면 가스의 흐름을 사용하여 그것을 건조시키는 것) 중 어느 하나에 의한, 뷰포트의 능동적 세정을 수반하며, 따라서 덜 최적화되어 있다. 세정을 위한 의료적 수술의 중단은, 수술의 시간을 연장시키는 것으로 나타나게 되고, 의료 종사자의 정신 산만으로부터 유래하는 또는 일반적으로, 의학적으로 요구되지 않는 활동 단계를 수행하는 것으로 인한 다양한 합병증을 추가로 야기할 수도 있다. 세정을 수행하기 위해 환자의 신체로부터 의료 디바이스를 추출하는 것은 더욱 나쁜데, 이러한 제거 및 차후의 신체 안으로의 디바이스의 재삽입이 또 다른 추가적인 합병증의 원인일 수도 있기 때문이다.

뷰포트 상에서 증기의 응축이 흐려짐을 야기할 수도 있는 한 가지 이유는, 응축된 액체 - 예를 들면, 물, 어쩌면 체액과 혼합된 물 - 가, 액적을 통해 통과하는 광선을 왜곡시키는 액적으로 응축되고 그에 의해 뷰포트의 광학 품질을 손상시키기 때문이다. 다시 말하면, 각각의 액적은 렌즈로서 기능하여, 자신을 통과하는 광선을 제어되지 않은 방향으로 집속 또는 발산 또는 일반적으로 왜곡시킨다. 따라서, 뷰포트 상의 다수의 액적의 전체적 효과는 광학적으로 거친 표면을 생성하는 것이고, 그에 의해, 뷰포트를 통과하는(또는 그로부터 반사하는) 광으로부터 선명한 이미지를 획득하는 것을 방지하게 된다.

따라서, 몇몇 실시형태의 양태에 따라, 사용 동안 김서림에 대해 뷰포트를 면역시키는 방법이 제공된다. 몇몇 실시형태에 따르면, 뷰포트는 내시경과 같은 의료 디바이스의 뷰포트일 수도 있고, 면역화의 프로세스는 의료 디바이스를 의료적 수술에서 사용하기 이전에 제공될 수도 있다. 그 방법은, 뷰포트를 수용하는 밀폐된 챔버 내에서 뷰포트에 근접하여 플라즈마 생성 전자기장을 인가하는 것을 포함한다. 뷰포트의 플라즈마 처리는 친수성을 증가시켜 물에 의한 뷰포트의 완전한 습윤을 달성하도록 구성된다. 뷰포트의 피처리 표면(treated surface)의 표면 장력을, 물의 표면 장력 이상으로, 즉 0.072N/m 이상으로 증가시키는 것에 의해 완전한 습윤이 달성된다. 바람직하게는, 뷰포트 표면의 표면 장력은, 상기에서 설명되는 바와 같은 플라즈마 처리 다음의 제한된 시간 기간 동안 0.08N/m 위로 그리고 심지어 0.1N/m 위로 상승된다. 뷰포트의 피처리 표면의 표면 장력이 물의 표면 장력보다 더 큰 경우, 물은 표면 상에서 액적으로 축적되지 않고 오히려, 실질적으로 0 도의 접촉 각을 가지고 표면을 습윤시킨다. 따라서, 그 방법은, 뷰포트의 친수성 표면 상에서의 수분의 응축이 유체의 얇고 평평한 층을 초래하기 때문에 김서림으로 인한 흐려짐을 제거하거나 또는 적어도 상당히 감소시키고, 그에 의해, 뷰포트의 광학적 품질을 유지하거나 또는 광학적 품질의 적어도 제한하게 된다. 뷰포트 상에서의 유체 두께의 변동은 플라즈마 처리에 의해 감소되고, 그에 의해 뷰포트 상의 응축된 유체를 통한 광의 통과와 관련되는 광학적 길이의 가변성도 또한 감소된다.

피처리 표면의 친수성에 대한 플라즈마 처리의 효과는 종종 일시적이고, 그 결과, 피처리 표면의 친수성은 플라즈마에 대한 노출 종료 이후 시간이 경과함에 따라 감소하는 경향이 있다. 따라서, 그 방법은 플라즈마를 인가하고 조금 이후에 뷰포트(또는 뷰포트가 설치된 디바이스)를 사용하는 것 - 즉, 뷰포트를 습기에 노출시키는 것 - 을 더 포함한다. "조금 이후에(soon after)"는 24시간 이내를, 바람직하게는 6시간 이내를, 더욱 바람직하게는 플라즈마를 인가한 이후 1시간 이내에 뷰포트를 사용하는 것을 의미한다.

본 명세서의 교시에 따르면, 뷰포트 부근에서의 플라즈마 생성 전기장의 균일성을 보장하고, 따라서 플라즈마 처리의 품질을 보장하기 위해, 유전체 장벽 방전(Dielectric Barrier Discharge: DBD) 모드에서 플라즈마가 생성된다는 것을 유의한다. 본 명세서의 플라즈마 처리의 "품질"은, 달성되는 친수성의 레벨, 및 그 친수성을 획득하기 위해 전기장이 활성화되는 시간의 지속 기간을 나타낸다. 다시 말하면, 고품질의 플라즈마 처리는, 상대적으로 짧은 지속 기간(예를 들면, 5분, 또는 1분의 지속 기간 또는 10초만큼 짧은 심지어 5 초만큼 짧은 활성화된 전기장) 내에 상대적으로 높은 레벨의 친수성을 달성한다(예를 들면, 피처리 표면 상에서 물의 표면 장력을 초과하는 표면 장력, 즉 0.072N/M을 초과하는 표면 장력을 획득한다).

DBD 모드에서의 플라즈마 생성은, 예를 들면, 필드를 인가하기 위해 사용되는 전극 중 하나를 전기적으로 분리시키는 것에 의해 실행될 수도 있다. 이러한 분리는, 플라즈마가 생성되는 영역에서 가스로부터 전극을 분리하는 유전체층에 의해 실현될 수도 있거나; 또는 DBD 모드는, 예를 들면, 플라즈마 생성 전기장이 인가되는 두 전극 사이의 시선을 차단하는 유전체층에 의해 실행될 수도 있다. 예를 들면, 몇몇 실시형태에 따르면, 치과 의사의 거울은, 거울을 포함하는 디바이스의 원위 단부를, 예를 들면, 금속 손잡이의 세그먼트와 함께 밀폐된 챔버에 배치하고, 캐소드를 금속 핸들에 연결하고 거울 주위의 가스 매체로부터 전기적으로 분리되는 애노드에 RF 고전압을 인가하는 것에 의해, 본 명세서의 교시에 따라 처리될 수도 있다. 다른 예시적인 실시형태에 따르면, 유리 또는 플라스틱과 같은 유전체 재료로 이루어지며 그 부근에 금속 부분을 갖지 않는 뷰포트가, 플라즈마 생성 전기장을 인가하기 위해 사용되는 두 개의 노출된 전극 사이에 배치되는 것에 의해, 본 명세서의 교시에 따라 처리될 수도 있고, 그 결과, 뷰포트 자체는 전극 사이의 시선을 차단하는 것에 의해 유전체 장벽으로서 사용된다.

본 명세서에서 설명되는 바와 같이 DBD 모드에서 플라즈마를 생성하는 것은, 전극을 서로 상대적으로 짧은 거리에서 그리고 피처리 표면으로부터 짧은 거리에서 위치시키는 것, 및 뷰포트의 피처리 표면에 근접하여 상대적으로 균일한 전기장을 유지하면서 상대적으로 강한 전기장을 인가하는 것을 허용하고, 그에 의해 고품질의 플라즈마 처리를 피처리 표면에 제공하게 된다(여기서 "상대적으로"는 DBD 모드에서가 아니라 플라즈마를 생성하는 것에 비교하여 사용된다).

몇몇 실시형태의 양태에 따르면, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하기 위한 장치가 추가로 제공된다. 그 장치는, 내시경의 원위 단부를 내부에 수용하도록 치수가 정해지는 보호용 쉬라우드(protecting shroud)를 포함하는데, 원위 단부는 뷰포트 주변의 이미지를 뷰포트를 통해 수집하는 것을 가능하게 하도록 구성되는 뷰포트를 포함한다. 그 장치는 전원(electric power source)과 전기적으로 관련되고 보호용 쉬라우드 내에 수납되는(shrouded) 내시경의 원위 단부를 내부에 수용하도록 구성되는 슬롯을 구비하는 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터(plasma generating field applicator)를 더 포함한다. 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터는 슬롯 내부에서 플라즈마 생성에 적합한 전기장을 뷰포트 근방에 인가하도록 구성된다. 보호용 쉬라우드는 내시경의 원위 단부로부터 그리고 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터로부터 분리 가능하다.

몇몇 실시형태에 따르면, 보호용 쉬라우드는, 적어도 하나의 전극 및 보호용 쉬라우드가 슬롯 안으로 삽입될 때 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터 내의 대응하는 어플리케이터 전기적 접촉부(applicator electric contact)에 전기적으로 접촉하도록 구성되는 적어도 하나의 쉬라우드 전기적 접촉부(shroud electric contact)를 포함한다. 따라서, 적어도 하나의 전극은, 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터로부터의 전력의 수신 시 보호용 쉬라우드 내에 플라즈마 생성 전기장을 인가하도록 구성된다.

몇몇 실시형태의 양태에 따르면, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하는 방법이 제공되는데, 내시경의 원위 단부를 내부에 수용하도록 치수가 정해지는 보호용 쉬라우드를 제공하는 것을 포함하고, 원위 단부는 뷰포트의 주변의 이미지를 뷰포트를 통해 수집하는 것을 허용하도록 구성되는 뷰포트를 포함한다. 그 방법은, 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터를 제공하는 것을 더 포함하는데, 보호용 쉬라우드는 원위 단부로부터 그리고 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터로부터 분리 가능하다. 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터는 전원과 전기적으로 관련되며, 보호용 쉬라우드 내에 수납되는 내시경의 원위 단부를 내부에 수용하도록 구성되는 슬롯을 구비한다. 상기 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터는 보호용 쉬라우드 내에 플라즈마 생성에 적합한 전력을 인가하도록 구성된다. 그 방법은 보호용 쉬라우드 내에 수납되는 내시경의 원위 단부를 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터의 슬롯에 위치시키는 것, 및 보호용 쉬라우드 내에서 플라즈마를 생성하고 그에 의해 원위단의 뷰포트를 플라즈마 처리하기 위해 전원을 활성화하는 것을 더 포함한다. 몇몇 실시형태에 따르면, 그 방법은, 원위 단부 상에 분산되는 유체에 의한 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터의 오염을, 보호용 쉬라우드에 의해, 방지하는 것을 더 포함한다.

몇몇 실시형태의 양태에 따르면, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하는 방법이 더 제공되는데, 내시경은 뷰포트를 포함하는 원위 단부를 포함한다. 뷰포트는 유전체 재료로 만들어지고 내시경의 원위 단부에 있는 금속 세그먼트에 인접한다. 그 방법은 내시경의 원위 단부를, 적어도 애노드 및 캐소드를 구비하는 플라즈마 챔버에 배치하는 것을 포함하는데, 캐소드는 금속 세그먼트와 전기적으로 접촉한다. 애노드와 캐소드 사이의 시선은 유전체 장벽에 의해 차단되고, 그 방법은, 애노드와 캐소드 사이에 플라즈마 생성 전자기장을 인가하고, 그에 의해 뷰포트 부근에서 DBD 모드에서 플라즈마를 생성하는 것을 포함한다. 몇몇 실시형태에 따르면, 전기적 장벽은 뷰포트 부근에서 가스로부터 애노드를 전기적으로 분리한다.

몇몇 실시형태에 따르면, 뷰포트는 복강경의 뷰포트와 같이 투명하다. 몇몇 실시형태에 따르면, 뷰포트는 치과 의사의 거울과 같은 거울이다. 몇몇 실시형태에 따르면, 뷰포트는 유리 또는 석영 또는 플라스틱으로 제조된다.

본 발명은, 물의 표면 장력보다 더 높은 외부 표면의 표면 장력을 획득하기 위해 뷰포트의 외부 표면을 활성화하기 위한, 내시경과 같은 의료 기구의 뷰포트를 플라즈마 처리하기 위해 사용될 수 있는 장치를 별개로 제공한다.

본 발명은, 뷰포트를 고도로 친수성으로 만들기 위해 뷰포트를 플라즈마 처리하고, 그에 의해 사용 동안 뷰포트 상에서의 김서림으로 인한 흐려짐을 방지하는 것에 의해, 의료적 수술을 위한 뷰포트를 구비하는 의료 기구, 예컨대 내시경을 준비하는 방법을 별개로 제공한다.

본 발명은 의료적 수술 조금 이전에 또는 심지어 의료적 수술 동안 의료적 수술을 위한 의료 기구를 준비하는 방법을 별개로 제공한다. 본 발명은 또한, 청결하고 무균 환경에서 의학적 수술 조금 이전에 또는 심지어 의료적 수술 동안 내시경과 같은 의료 기구에 플라즈마 처리를 제공하도록 구성되는 장치를 제공한다.

본 발명의 소정의 실시형태는, 상기 이점 중 일부 또는 전체를 포함할 수도 있거나, 또는 전혀 포함하지 않을 수도 있다. 추가적인 이점은, 본 명세서에서 포함되는 도면, 설명 및 청구범위로부터 기술 분야의 숙련된 자에게는 쉽게 명백할 수도 있다. 본 발명의 양태 및 실시형태는 본 명세서의 이하의 명세서 및 첨부된 청구범위에서 추가로 설명된다.

달리 정의되지 않는 한, 본 명세서에서 사용되는 모든 기술적 용어 및 과학적 용어는, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 갖는다. 충돌이 있는 경우, 정의를 포함하여 특허 명세서가 결정한다. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 부정관사 "a(한)" 및 "an(한)"은, 문맥상 명확하게 달리 지시하지 않는 한, "적어도 하나" 또는 "하나 이상"을 의미한다.

본 발명의 몇몇 실시형태가 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서에서 설명된다. 본 설명은, 도면과 함께, 몇몇 실시형태가 어떻게 실시될 수도 있는지를 기술 분야에서의 통상의 지식을 가진 자에게 명백하게 만든다. 도면은 예시적인 설명의 목적을 위한 것이며, 본 발명의 기본적인 이해를 위해 필요한 것보다 더 상세히 실시형태의 구조적 세부 사항을 나타내려는 시도는 이루어지지 않는다. 명확화를 위해, 도면에서 묘사되는 몇몇 오브젝트는 일정 비율이 아니다.
도면에서:
도 1a는, 본 명세서의 교시에 따른, 의료적 수술에 의료 디바이스를 준비하기 위한 장치의 실시형태를 개략적으로 묘사하는 도면;
도 1b는 내시경의 원위 단부를 개략적으로 묘사하는데, 원위 단부는 도 1a의 장치에 의해 플라즈마 처리되기에 적합한 뷰포트를 포함함;
도 1c는, 도 1a의 장치의 플라즈마 어플리케이터(plasma applicator)를 덮기 위한 무균 슬리브(sterility sleeve)를 포함하는, 도 1a의 장치의 무균 스크린을 개략적으로 묘사하는데, 무균 슬리브는 사용 전에 말려 있음;
도 1d는 도 1c의 무균 스크린을 개략적으로 묘사하는데, 여기서 무균 슬리브는 플라즈마 어플리케이터를 덮기 위해 부분적으로 펼쳐져 있음;
도 1e는 도 1c의 무균 스크린을 개략적으로 묘사하는데, 여기서 무균 슬리브는 펼쳐지고 그에 의해 플라즈마 어플리케이터를 덮게 됨;
도 2는 본 명세서의 교시에 따라 의료적 수술에 의료 디바이스를 준비하기 위한 장치의 보호용 쉬라우드의 실시형태를 개략적으로 묘사하는데, 보호용 쉬라우드는 플라즈마 처리될 내시경을 수납함;
도 3a는 장치의 플라즈마 어플리케이터의 슬롯 내부에 위치되는 보호용 쉬라우드를 개략적으로 묘사하는 도면;
도 3b는 도 3a의 보호용 쉬라우드의 세부 사항을 개략적으로 묘사하는 도면;
도 3c는, 본 명세서의 교시에 따라 의료적 수술에 의료 디바이스를 준비하기 위한 보호용 쉬라우드 및 생성 전기장 어플리케이터의 다른 실시형태를 개략적으로 묘사하는 도면; 및
도 4는 본 명세서의 교시에 따라 의료적 수술에 의료 디바이스를 준비하기 위한 장치의 보호용 쉬라우드의 또 다른 실시형태를 개략적으로 묘사하는 도면.

본 명세서의 교시의 원리, 사용 및 구현은 첨부하는 설명 및 도면을 참조하여 더 잘 이해될 수도 있다. 본 명세서에서 제시되는 설명 및 도면의 숙독시, 기술 분야에서 숙련된 자는 과도한 노력이나 실험없이 본 명세서의 교시를 구현할 수 있다. 도면에서, 동일한 참조 번호는 전체적으로 동일한 부분을 가리킨다.

도 1a는, 의료적 수술에 내시경과 같은 의료 디바이스(200)를 준비하기 위한, 몇몇 실시형태의 양태에 따른, 장치(100)를 개략적으로 묘사한다. 의료 디바이스(200)는 도 1b에도 개략적으로 묘사되는 원위 단부(210)를 포함한다. 원위 단부(210)는 뷰포트의 주변의 이미지를 수집할 수 있도록 구성되는 뷰포트(220)를 포함한다. 뷰포트(220)는, 몇몇 실시형태에서, 유리 또는 석영, 또는 퍼스펙스(Perspex)와 같은 플라스틱과 같은 재료로 이루어지는, 윈도우 또는 렌즈와 같은 투명한 시트일 수도 있으며, 따라서 의료 디바이스(200)의 외부로부터의 광이, 예를 들면, 카메라와 같은 광 감지 디바이스(여기서는 도시되지 않음)에 의해 의료 디바이스(200)의 내부에서 수집되는 것을 허용하게 된다. 몇몇 실시형태에 따르면, 뷰포트(220)는 광 수집 장치(여기서는 도시되지 않음) 또는 광 감지 디바이스를 향하여 (자신을 통해 광을 통과시키는 대신) 광을 반사하는 거울일 수도 있다. 뷰포트(220)는 의료적 수술 동안 습기에 노출될 수도 있는 표면(222)을 포함한다. 결과적으로, 처리되지 않으면, 즉 김서림에 대해 면역되지 않으면, 표면(222)은 김서림으로 덮이게 될 수도 있는데, 이러한 김은, 예를 들면, 증기의 응축으로 인해(그러나 이것으로 제한되지는 않음) 표면(222) 상에서의 액적의 축적의 결과이다.

장치(100)는 의료 디바이스(200)의 원위 단부(210)를 내부에 수용하도록 치수가 정해지는 보호용 쉬라우드(110)를 포함한다. 장치(100)는, 동작 유닛(120) 및 동작 유닛(120)에 연결되는 플라즈마 어플리케이터(130)(본 명세서에서는 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터로도 또한 칭해짐)를 더 포함한다. 플라즈마 어플리케이터(130)는 의료 디바이스(200)의 원위 단부(210)를 내부에 수용하도록 구성되는 슬롯(132)을 포함하고, 반면, 원위 단부(210)는 보호용 쉬라우드(110) 내에 수납된다. 다시 말하면, 사용을 위해, 의료용 디바이스(200)의 원위 단부(210)는 보호용 쉬라우드(110) 안으로 삽입되고, 보호용 쉬라우드(110)는, 원위 단부(210)를 내부에 수납한 상태로, 슬롯(132) 안으로 삽입된다. 몇몇 실시형태에 따르면, 보호용 쉬라우드(110)는 슬롯(132) 안으로 삽입되고, 그 다음, 원위 단부(210)는 보호용 쉬라우드(110) 안으로 삽입되고 전진된다.

몇몇 실시형태에 따르면, 장치(100)는 개구(142)를 구비하는 무균 스크린(sterility screen)(140)을 더 포함한다. 사용을 위해, 보호용 쉬라우드(110)는, 본 명세서의 하기에서 추가로 상술되고 설명되는 바와 같이, 무균 스크린(140)의 개구(142)를 통해 슬롯(132) 안으로 삽입된다. 몇몇 실시형태에 따르면, 보호용 쉬라우드(110)는, 단일의 환자에게 수행되는 단일의 의료적 수술 동안 사용되도록 구성되는, 분배 가능한, 일회용의 또는 교체 가능한 부품이다. 몇몇 실시형태에 따르면, 보호용 쉬라우드는 환자의 체액에 노출될 수도 있는 내시경과 사용 동안 그리고 사용 이후 무균 상태로 유지될 수도 있거나 또는 유지되지 않을 수도 있는 플라즈마 어플리케이터 사이에서 무균 장벽으로서 기능한다. 몇몇 실시형태에 따르면, 무균 스크린(140)은 사용 동안 그리고 사용 이후 내시경에서 유래하는 체액 없이 플라즈마 어플리케이터(130)를 유지하는 것을 용이하게 한다. 몇몇 실시형태에 따르면, 무균 스크린(140)은, 플라즈마 어플리케이터(130)에서 유래할 수도 있는 오염에 대해 내시경을 무균 상태로 유지하는 것을 용이하게 한다.

몇몇 실시형태에 따르면, 무균 스크린(140)은, 도 1c, 도 1d 및 도 1e에 개략적으로 묘사되는 바와 같이, 무균 슬리브(144)에 부착되는데, 무균 스크린은 무균 스크린과 슬리브 원위 단부(146) 사이에서 연장된다. 몇몇 실시형태에 따르면, 무균 슬리브(144)는 양말처럼 부드러울 수도 있다. 사용하기 이전에, 도 1c에 개략적으로 묘사되는 바와 같이, 무균 슬리브(144)는 접힐 수도 있다. 사용을 위해, 무균 슬리브(144)는, 슬리브 원위 단부(146)를 통해 무균 슬리브 안으로 플라즈마 어플리케이터를 삽입하는 것에 의해 플라즈마 어플리케이터(130) 또는 그 일부를 둘러싸도록, 에워싸도록 그리고 덮도록 펼쳐질 수도 있다. 사용 동안, 무균 슬리브(144)는, 플라즈마 어플리케이터(130)를 에워싸고 덮도록 플라즈마 어플리케이터(130) 주위에 배치될 수도 있고, 그 결과 개구(142)를 통해 슬롯(132) 안으로의 보호용 쉬라우드(110)의 삽입, 및/또는 보호용 쉬라우드(110) 안으로의 내시경(200)의 삽입은 플라즈마 어플리케이터(130)를 오염시키지 않을 수도 있다. 몇몇 실시형태에 따르면, 무균 슬리브는, 보호용 쉬라우드를 내부에 수용하도록 구성되는, 예를 들면, 튜브의 형상을 갖는 실질적으로 강성일 수도 있다. 몇몇 실시형태에 따르면, 무균 슬리브(144)는, 플라즈마 어플리케이터(130)에 한 면이 부착하고 다른 면이 책상 또는 테이블 또는 다른 작업 플랫폼 상에 부착하도록 구성되어, 플라즈마 어플리케이터를 작업 플랫폼에 부착시켜 안정화시키고 플라즈마 어플리케이터(130)로부터 보호용 쉬라우드(110)(또는 내시경(200))를 삽입 및 추출하는 것을 용이하게 하는 양면 접착 패드(여기서는 도시되지 않음)를 자신의 바닥 부분에 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태에 따르면, 무균 슬리브(144)와 함께 무균 스크린(140)이 보호용 쉬라우드(110)에 부착되고, 그 결과, 슬롯(132) 안으로의 보호용 쉬라우드(110)의 삽입 및 플라즈마 어플리케이터(130)를 무균 슬리브(144)로 캡슐화하는 것이 실질적으로 함께 수행된다.

플라즈마 어플리케이터(130)는 전원(여기서는 도시되지 않음)과 전기적으로 관련된다. 전원은 선택적으로 동작 유닛(120) 내에 위치될 수도 있다. 플라즈마 어플리케이터(130)는 또한, 보호용 쉬라우드(110) 내에 수납되는 원위 단부(210)가 슬롯(132) 내부에 위치될 때, 그리고 전원의 활성화 시, 슬롯(132) 내부의 보호용 쉬라우드(110) 내부에서 플라즈마 생성에 적합한 전기장을 뷰포트(222) 근방에 인가하도록 구성된다.

몇몇 실시형태에 따르면, 플라즈마 어플리케이터(130)는 가스 펌프 및 추가적으로 또는 대안적으로 가스 저장조(어느 것도 여기서는 도시되지 않음)와 유체 소통하게(fluidly) 관련될 수도 있다. 가스 펌프 및 가스 저장조는, 아래에서 추가로 상술되고 설명되는 바와 같이, 플라즈마 점화를 용이하게 하기 위해, 내시경의 원 위 단부 부근을, 각각, 제어 가능하게 배기하도록, 또는 바람직한 가스로 제어 가능하게 플러싱되도록 사용될 수도 있다. 몇몇 실시형태에 따르면, 바람직한 가스는 아르곤 또는 질소일 수도 있다. 몇몇 실시형태에 따르면, 배기 이후 플라즈마 점화에 적합한 가스 압력은 0.1기압 미만일 수도 있다. 몇몇 실시형태에 따르면, 내시경의 원위 단부 부근은 펌핑되어 비워지고 그 다음 소망하는 가스로 플러싱될 수도 있다. 몇몇 실시형태에 따르면, 가스 펌프 및/또는 가스 저장조는, 경우에 따라, 동작 유닛(120)에 옵션적으로 위치될 수도 있다.

동작 유닛(120)은 장치(100)의 사용자가 장치를 동작시키고 제어하는 것을 가능하게 하도록 구성된다. 따라서, 동작 유닛(120)은, 물리적 또는 가상 스위치, 버튼 및 컨트롤러와 같은 커맨드 스위치 및 컨트롤러를 포함할 수도 있다. 제어 유닛은, 장치를 동작시키기 위한 필요로 되는 데이터 및 정보를 사용자에게 제공하기 위한 표시기(indicator), 예컨대 표시 LED, 디스플레이 및, 어쩌면, 사용자가 장치를 동작시키고 지령을 내리는 것을 허용하기 위해 동작 및 커맨드 스크린을 사용자에게 제공하기 위한 동작 소프트웨어를 더 포함할 수도 있다.

도 2는, 몇몇 실시형태의 양태에 따른, 보호용 쉬라우드(310)의 실시형태의 횡단면도를 개략적으로 묘사한다. 보호용 쉬라우드(310)는, 보호용 쉬라우드(310) 내부에서 점선으로 개략적으로 묘사되는 내시경(380)과 함께 사용하기에 특히 적합하다. 내시경(380)은 원위 단부(382) 및 원위 단부(382)에서 뷰포트(390) 근방의 전기 전도성 표면 - 예를 들면, 금속 표면(384) - 을 포함한다. 뷰포트(390)는, 본 명세서에서 설명되는 바와 같이 플라즈마 처리될 수도 있는 외부 표면(392)을 더 포함한다.

보호용 쉬라우드(310)는 근위 개구(314)와 실린더 원위 단부(316) 사이에서 연장되는 중공 실린더(hollow cylinder)(312)를 포함한다. 보호용 쉬라우드(310)는 세 개의 O 링(320a, 320b 및 320c)을 각각 포함하는 진공 씰(vacuum seal)(320)을 더 포함한다. 진공 씰(320)은, 기술 분야에서 공지되어 있는 바와 같이, 예를 들면, 손에 의한 약간의 힘을 사용하여 보호용 쉬라우드(310) 안으로의 내시경(380)의 삽입을 허용하도록 내시경(380)의 외부 치수(예를 들면, 외부 직경)에 적합하도록 적응된다. 따라서, 진공 씰(320)은, 내시경(380)이 보호용 쉬라우드(310) 내부에 위치될 때, 보호용 쉬라우드(310)의 내부(322)와 보호용 쉬라우드(310)의 외부(324) 사이의 압력 차(또는 가스 농도 차이)를 유지하도록 구성된다. 진공 씰(320)은 또한 보호용 쉬라우드(310) 내부에서 내시경(380)을 기계적으로 안정화시키는 것을 도울 수도 있고, 그에 의해, 내부(322)와 외부(324) 사이의 가스 누설을 방지하는 것을 돕게 되고, 또한, 하기에서 추가로 설명되는 바와 같이, 뷰포트(390) 근방에서의 플라즈마 생성을 돕게 된다.

보호용 쉬라우드(310)는, 중공 실린더(312) 상에 배치되며 보호용 쉬라우드(310)의 외부(324)와 그 내부(322) 사이에 전기적 피드스루(electrical feedthrough)를 확립하도록 구성되는 캐소드(330)를 더 포함한다. 캐소드(330)는 가요성이고 보호용 쉬라우드(310)의 내부(322) 상에서 그리고 그 외부 상에서 전기적으로 노출되고, 그에 의해, 캐소드(330)와 금속 표면(384) 사이에 전기적 접촉을 형성하면서 보호용 쉬라우드(310) 안으로의 내시경(380)의 삽입을 허용하게 된다. 보호용 쉬라우드(310)는 실린더 원위 단부(316)에 인접하게 배치되는 애노드(340)를 더 포함한다. 애노드(340)는, 예를 들면, 내부(322)를 향하는 원형의 매끄러운 표면(342)을 갖는 금속 블록으로서 성형될 수도 있다. 몇몇 실시형태에 따르면, 표면(342)은 만곡될 수도 있다. 몇몇 실시형태(여기서는 도시되지 않음)에 따르면, 애노드(340)는 내부(322)를 향하여 뾰족한 뾰족 팁(pointed tip)으로서 성형될 수도 있다. 몇몇 실시형태에 따르면, 애노드(340)는 링 형상으로 성형될 수도 있다. 애노드(340)는, 유전체 재료로 제조되는 디스크(344) 상에 장착되고, 그 결과 디스크(344)가 애노드(340)와 캐소드(330) 및 내시경의 금속 표면(384)(이것은 캐소드와 동일한 전위에 있음) 사이에 유전체 장벽을 형성하게 된다. 다시 말하면, 디스크(344)는, 내시경의 금속 표면(384) 및 캐소드(330)와 애노드(340) 사이의 시선을 차단하고, 그에 의해 상기 유전체 장벽을 형성하는 것에 의해, 유전체 장벽 방전(DBD) 모드의 동작에서 플라즈마 생성을 보장하도록 구성된다. DBD 모드에서, 플라즈마는 뷰포트 부근의 이용 가능한 공간에 걸쳐 더 균일하게 생성될 수도 있는 반면, 애노드와 캐소드 사이의 아크 방전(arcing) 및 다른 타입의 특정한 그리고 좁은 전기 운송 궤적은 방지된다.

유전체 장벽의 두께는 뷰포트 부근의 플라즈마 생성 전기장의 균일성에, 따라서 플라즈마 처리의 품질에 강한 영향을 끼친다는 것을 유의한다. 본 명세서에서의 플라즈마 처리의 "품질"은, 달성되는 친수성의 레벨, 및 그 친수성을 획득하기 위해 전기장이 활성화되는 시간의 지속 기간을 나타낸다. 다시 말하면, 고품질의 플라즈마 처리는, 상대적으로 짧은 지속 기간(예를 들면, 5분, 또는 1분의 지속 기간 또는 10초만큼 짧은 심지어 5초만큼 짧은 활성화된 전기장) 내에 상대적으로 높은 레벨의 친수성을 달성한다(예를 들면, 피처리 표면 상에서 물의 표면 장력을 초과하는 표면 장력, 즉 0.072N/M을 초과하는 표면 장력을 획득한다). 유전체 장벽의 두께는 플라즈마 점화를 용이하게 하기 위해 일반적으로 가능한 한 낮아야 하지만, 그럼에도 불구하고, 고장 및 아크 방전을 방지할 만큼 충분히 커야 한다. 본 명세서에서 설명되는 실시형태에서 PET 또는 폴리카보네이트와 같은 유전체 재료의 예시적인 두께는, MHz 범위(예를 들면, 약 2MHz)의 주파수에서 RF 전기장에 대해 약 0.3㎜ 내지 약 3㎜의 범위에 있을 수도 있다.

몇몇 실시형태에 따르면, 애노드(340)는 중공 실린더(312)에 대해 유연하게 변위되어, 하기에서 추가로 설명되는 바와 같이 애노드(340)와 피딩 접촉자(feeding contactor) 사이에 신뢰성 있는 전기적 접촉을 용이하게 하도록 구성된다. 몇몇 실시형태에 따르면, 디스크(344)는 실린더(312)에 대해 스프링(346)에 의해 지지될 수도 있다.

동작에서, 플라즈마 생성 전력이 애노드(340)와 캐소드(330) 사이에 공급되고, 결과적으로, 캐소드(330)와 접촉하는 금속 표면(384)과 애노드(340) 사이에서 DBD 모드의 플라즈마 생성 전기장이 생성된다. 플라즈마 생성 전기장은, 애노드(340)와 캐소드(330) 사이의 공간에서, 특히, 뷰포트(390) 및 인접한 외부 표면(392) 부근에서 플라즈마를 생성한다.

도 3a는 보호용 쉬라우드(310a)(보호용 쉬라우드(310a)는, 하기에 상술되는 바와 같이, 도 2의 보호용 쉬라우드(310)와는 약간 상이 함)와 함께 사용하기에 적합한 플라즈마 어플리케이터(348)의 실시형태의 일부를 개략적으로 묘사한다. 플라즈마 어플리케이터(348)는 보호용 쉬라우드(310a)를 내부에 수용하도록 구성되는 슬롯(350)을 포함한다(여기서, 내시경(380)은 보호용 쉬라우드(310a) 내에 수납됨). 플라즈마 어플리케이터(348)는, 보호용 쉬라우드(310a)가 슬롯(350) 내부에 있을 때, 캐소드(330)와 접촉하도록 구성되는 캐소드 접촉자(352)를 더 포함한다. 캐소드 접촉자(352)와 전기적으로 관련되는 전선과 같은 전기적 도체(354)는, 전원(여기서는 도시되지 않음)에 의해 생성되는 전력을 캐소드 접촉자(352)로 그리고 캐소드(330)로 공급하기 위해 사용될 수도 있다. 플라즈마 어플리케이터(348)는, 보호용 쉬라우드(310a)가 슬롯(350) 내부에 있을 때, 애노드(340)와 접촉하도록 구성되는 애노드 접촉자(356)를 더 포함한다. 애노드 접촉자(356)와 전기적으로 관련되는 전선과 같은 전기적 도체(358)가, 전원에 의해 생성되는 전력을 애노드(340)로 공급하기 위해 사용될 수도 있다. 애노드 접촉자(356)는 보호용 쉬라우드(310a)가 슬롯에 삽입될 때 애노드 접촉자(356)와 애노드(340) 사이의 신뢰성 있는 전기적 접촉을 용이하게 하기 위해, 예를 들면, 스프링(360)에 의해 유연하게 지지될 수도 있다.

가스 내에서 플라즈마를 생성할 수도 있는 전기장의 특성은, 수반되는 전극 기하학적 구조(예컨대, 전기장의 인가를 위해 사용되는 전극의 형상 및 구성, 전극 사이의 거리, 등등) 외에, 가스 자체의 특성에 크게 의존할 수도 있다는 것을 유의한다. 일반적으로, 가스의 압력이 높을수록, 가스 내에서 플라즈마를 점화하기 위해서는 전기장은 더 높아져야 한다. 또한, 몇몇 가스는 다른 것보다 낮은 전기장에서 점화한다. 예를 들면, 플라즈마는, 대기압의 헬륨 가스 내에서 그리고 전극 사이에서 1cm의 거리에 걸쳐 약 7KV의 (1MHz와 15MHz 사이의 주파수의) RF 전기장을 사용하여, 그리고 가스가 0.8KPa의 압력인 경우 약 200V의 전압에서 점화될 수도 있다. 전극의 유사한 구성 및 유사한 전기장 주파수에서는, 플라즈마는, 대기압에서는 약 20KV의 전압에서 그리고 0.8KPa에서는 약 800V의 전압에서 공기 중에서 점화될 수도 있다.

따라서, 몇몇 실시형태에 따르면, 플라즈마 어플리케이터(348)는 가스 저장조(여기서는 도시되지 않음)로부터 슬롯(350)으로 가스를 흘려서, 또는 슬롯(350)으로부터 공기를 펌핑하여, 전극(330 및 340) 사이의 공간에 저압의 대기를 생성하여, 플라즈마 점화를 용이하게 하도록 구성된다. 따라서, 몇몇 실시형태에 따르면, 플라즈마 어플리케이터(348)는, 헬륨 또는 아르곤 또는 질소와 같은 플라즈마 생성에 적합한 가스를 내부에 포함하는 가스 저장조(여기서는 도시되지 않음)를 슬롯(350)과 유체 소통하게 관련시키는 호스(364)에 연결된다. 사용자에 의해 동작 가능한 제어 유닛(여기서는 도시되지 않음)에 의해 제어되는 밸브(366)는, 슬롯(350) 안으로의 가스의 흐름을 계획하고 조절하기 위해 사용될 수도 있다. 동작 동안, 몇몇 실시형태에 따르면, 내시경(380)을 내부에 갖는 보호용 쉬라우드(310a)를 슬롯(350) 안으로 삽입한 이후, 밸브(366)가 개방되어 슬롯 안으로의 가스 흐름을 허용할 수도 있다. 보호용 쉬라우드(310a)는, 중공 실린더(312)와 디스크(344) 사이의 개구(368)를 통한 가스 흐름에 침투될 수도 있어서, 보호용 쉬라우드(310a) 및 뷰포트(390) 안으로 가스가 흐르는 것을 가능하게 한다. 슬롯(350) 안으로 흐르는 가스의 과량(excess)은, 보호용 쉬라우드(310a)와 플라즈마 어플리케이터(348) 사이의 슬롯(350) 내의 갭을 통해 자유롭게 빠져 나갈 수도 있다(갭은 밀봉되지 않는다). 적절한 시간 기간의 가스 흐름(예를 들면, 5초 또는 10초 또는 30초 또는 심지어 1분)에 후속하여, 뷰포트(390) 근처에서 플라즈마 생성 전기장을 생성하기 위해 애노드(340) 및 캐소드(330)에 전력을 공급하도록 전원이 활성화될 수도 있다. 몇몇 실시형태에 따르면, 가스 저장조는 휴대 가능할 수도 있고 일회용으로 적합할 수도 있다.

몇몇 실시형태에 따르면, 보호용 쉬라우드(310a)로부터 그리고 특히 뷰포트(390) 근처의 공간으로부터 가스(공기)를 펌핑하여 플라즈마 점화를 용이하게 하기 위해, 호스(364)가 사용될 수도 있다. 공기는 뷰포트(390) 부근으로부터 개구(368)를 통해 슬롯(350)을 향해 그리고 호스(364) 안으로 흡입될 수도 있다. 진공 씰(370)은, 보호용 쉬라우드(310a)의 개구(314) 근처의 영역과 실린더 단부(316) 근처의 영역 사이의 압력 차를 억제하는 것에 의해 뷰포트(390) 부근에서 진공을 생성하는 것을 가능하게 한다. 몇몇 실시형태에 따르면, 공기는, 호스(364)와 유체 소통하게 관련되는 진공 펌프(여기서는 도시되지 않음)에 의해 호스(364)를 통해 펌핑될 수도 있다. 몇몇 실시형태에 따르면, 호스(364)는, 예를 들면, 작은 진공 펌프에 의해 연속적으로 펌핑되는 펌핑된 용기(도시되지 않음)에 유체 소통하게 관련될 수도 있다. 유체 관련성(fluid association)은 호스(364)를 통해 제공되는데, 호스는 컨테이너와 일정한 유체 연통 상태에 있고 그에 의해 연속적으로 또한 펌핑된다. 개구 밸브(366)는, 실시형태의 특수성에 따라, 진공 펌프에 의해 또는 펌핑된 용기에 의해 펌핑 슬롯(350), 특히 뷰포트(390) 근처에 공간을 초래할 수도 있다. 슬롯(350)의 그리고 보호용 쉬라우드(310a)의 유체 소통하게 연결된 부분의 펌핑 영역의 체적은, 몇몇 실시형태에 따르면, 10cc보다 더 작을 수도 있고, 약 5 초 미만 이내에 또는 약 10 초 미만 이내에 예를 들면 약 0.1 atm과 약 0.01 atm 사이의 적절한 진공 레벨을 확립하기에는, 예를 들면, 약 1000cc(1 리터)의 펌핑된 컨테이너 및 호스가 충분할 수도 있는데, 그 진공 레벨은 약 30 초 또는 심지어 약 1 분 동안의 플라즈마 여기가 외부 표면(392)을 만족스럽게 플라즈마 처리하기에 충분할 수도 있다.

도 3b에서 상세히 묘사되는 몇몇 실시형태에 따르면, 보호용 쉬라우드(310a)는 보호용 쉬라우드(310a)와 플라즈마 어플리케이터(348) 사이에 무균 장벽을 유지하기 위해 개구(368)에 배치되는 무균 필터(372)를 더 포함한다. 무균 장벽을 유지하는 것에 의해, 미생물(microbial organism)이 무균 필터(372)를 통과할 수 없을 수도 있다는 것을 의미하는데, 미생물은 곰팡이 및 박테리아를 비롯한 임의의 형태의 원핵 세포 또는 진핵 세포를 포함할 수도 있다. 무균 필터는 개구(368)에서 실린더 단부(316)에 걸쳐 몇몇 실시형태에 따라 배치되고, 그 결과, 플라즈마 어플리케이터(348)로부터 보호용 쉬라우드(310a) 안으로 흐르는 가스가 보호용 쉬라우드를 무균 상태로 진입시키게 되고, 및/또는 보호용 쉬라우드(310a)의 내부(322)로부터 플라즈마 어플리케이터(348) 안으로 흐르는 가스가 플라즈마 어플리케이터를 무균 상태로 진입시키게 된다. 따라서, 무균 필터(372)는 플라즈마 어플리케이터로부터(예를 들면, 슬롯(350)의 주변으로부터) 내시경(380) 상으로의 오염의 전달을 방지하고, 및/또는 내시경(380)으로부터 플라즈마 어플리케이터 상으로의 오염의 전달을 방지한다. 추가적으로 또는 대안적으로, 무균 필터는 플라즈마 어플리케이터에, 또는 예를 들면 호스(364)에 위치될 수도 있다.

도 3c는, 몇몇 예시적인 실시형태에 따른, 플라즈마 어플리케이터(448) 및 대응하는 보호용 쉬라우드(410)를 개략적으로 묘사한다. 플라즈마 어플리케이터(448)는, 호스(364)와 유체 소통하게 관련되는 어플리케이터 가스 포트(402)를 포함하는 점에서 플라즈마 어플리케이터(348)와는 상이하며, 보호용 쉬라우드(410)는 어플리케이터 가스 포트(applicator gas port)(402)에 유체 소통하게 연결되도록 구성되는 쉬라우드 가스 포트(shroud gas port)(404)를 포함한다. 보호용 쉬라우드의 내부(322)와 보호용 쉬라우드(410)의 외부(324)사이 - 예를 들면, 플라즈마 어플리케이터의 슬롯(450)의 공간 - 의 유체 연결성은 진공 씰(408), 예를 들면 O 링에 의해 방지된다. 따라서, 보호용 쉬라우드(410)가 플라즈마 어플리케이터(448) 안으로 삽입될 때, 쉬라우드 가스 포트(404)는 어플리케이터 가스 포트(402)에 유체 소통하게 연결되고, 그에 의해, 보호용 쉬라우드의 내부(322)에 대한 호스(364)의 유체 연결성을 확립하게 된다. 결과적으로, 플라즈마 점화 촉진 가스(예컨대 헬륨 또는 아르곤)는 호스(364)를 통해 보호용 쉬라우드 안으로 직접적으로 주입될(driven) 수도 있고, 추가적으로 또는 대안적으로, 가스, 특히 공기가 호스(364)를 통해 보호용 쉬라우드로부터 펌핑될 수도 있다. 따라서, 슬롯(450)과 보호용 쉬라우드(322)의 내부 사이의 유체 연결성이 방지된다. 보호용 쉬라우드(410)의 내부(322)와 플라즈마 어플리케이터(448) 사이의 무균 장벽을 유지하기 위한 무균 필터(472)가 쉬라우드 가스 포트(404) 내부에 위치된다. 도 3b에서 무균 필터(372)에 관해 상기에서 설명되는 바와 같이, 플라즈마 어플리케이터(448)로부터 보호용 쉬라우드(410)의 내부(322) 안으로 흐르는 가스는 보호용 쉬라우드를 무균 상태로 진입시키고, 및/또는 보호용 쉬라우드(410)의 내부(322)로부터 플라즈마 어플리케이터(448) 안으로 흐르는 가스는 플라즈마 어플리케이터를 무균 상태로 진입시킨다. 따라서, 무균 필터(472)는 플라즈마 어플리케이터로부터 (예를 들면, 슬롯(450)의 주변으로부터) 내시경(380) 상으로의 오염물의 전달을 방지하고, 및/또는 내시경(380)으로부터 플라즈마 어플리케이터 상으로의 오염물의 전달을 방지한다.

보호용 쉬라우드(410)는, (보호용 쉬라우드(310) 내의 애노드(340) 대신) 실린더 원위 단부(316) 근처의 중공 실린더(312)의 외주 상에 링으로 성형되는 링 애노드(440)를 구비한다는 점에서 보호용 쉬라우드(310)와는 추가로 상이하다. 그러므로, 유전체 재료로 만들어지는 중공 실린더(312)는 내시경의 금속 표면(384) 및 캐소드(330)와 애노드(440) 사이의 유전체 장벽(444)으로서 기능하고, 그 결과, 보호용 쉬라우드(310)에 관하여 상기에서 설명되는 바와 같이 DBD 모드의 동작에서 보호용 쉬라우드(410)에서 플라즈마가 생성된다. 몇몇 실시형태에 따르면, 보호용 쉬라우드(410)는 중공 실린더(412) 내부에 스토퍼(442)를 포함한다. 스토퍼(442)는 보호용 쉬라우드(410) 안으로의 내시경(380)의 전진을 제한하도록 구성되고, 그 결과, 애노드(440)와 내시경의 금속 표면(384) 사이에 미리 결정된 소망하는 갭이 확립되고, 그에 의해, 알려진 전기장(전기장은 캐소드와 애노드 사이에 공급되는 전압 및 상기 갭에 의해 결정됨)에서의 플라즈마 생성을 보장하게 된다. 스토퍼(442)는, 애노드와 캐소드 사이의 시선 상에서 유전체 장벽으로서 추가로 이용될 수도 있으며, 그에 의해, 뷰포트(390)를 향하여 플라즈마를 집속하는 것을 돕는다.

보호용 쉬라우드(410)가 플라즈마 어플리케이터(448)의 슬롯(450) 안으로 삽입될 때, 플라즈마 어플리케이터(448)의 애노드 접촉자(456)는 링 애노드(440)와 접촉한다. 애노드 접촉자(456)는, 상기에서 설명되는 바와 같은 플라즈마 생성 전기장을 링 애노드(440)에 제공하는 것을 가능하게 하기 위해 전력 공급 장치(power supply)(여기서는 도시되지 않음)에 연결하도록 구성되는 전기 도체(458)와 전기적으로 관련된다. 상기에서 설명되는 바와 같이 보호용 쉬라우드(410)가 슬롯(450) 안으로 삽입될 때, 보호용 쉬라우드(410)의 캐소드(330)는 캐소드 접촉자(352)와 전기적으로 관련된다는 것을 유의한다. 따라서, 활성화 시, 적절하게 연결된 전력 공급 장치는, 링 애노드(440)와 내시경(380)의 금속 표면(384) 사이에 (DBD 모드에서) 플라즈마 생성 전기장을 제공하여 뷰포트(390) 부근에서 플라즈마를 생성할 수도 있다.

도 4는 몇몇 실시형태의 양태에 따른 보호용 쉬라우드(510)를 개략적으로 묘사한다. 보호용 쉬라우드(510)는, 상기의 실시형태에서 설명되는 바와 같이 내시경 주변의 공간을 펌핑하지 않고도 또는 그 공간 안으로 가스를 흐르게 하지 않고도, 촉진된 플라즈마 점화를 가능하게 하도록 구성된다. 다시 말하면, 보호용 쉬라우드는, 가스 저장조에도 또는 가스 펌프에도 연결되지 않은 플라즈마 어플리케이터를 사용하여, 본 명세서의 교시에 따라 내시경의 뷰포트에 플라즈마 처리를 제공하는 것을 가능하게 한다. 따라서, 보호용 쉬라우드는 가스 포트(402)와 같은 가스 포트를 구비하지 않으며, 호스(364)와 같은 호스에 연결되지도 않는다.

보호용 쉬라우드(510)는 개구(314)와 실린더 단부(316) 사이에서 연장되는 중공 실린더(312)를 포함한다. 보호용 쉬라우드(510)는, 중공 실린더(312)가 실린더 단부(316) 근처에서 막혀 밀봉되고, 그에 의해, 실린더 단부(316)를 통한 가스 분자의 침투 또는 투과를 실질적으로 방지하게 된다는 점에서, 보호용 쉬라우드(310)와는 상이하다. 보호용 쉬라우드(510)는, 중공 실린더(312) 내부의 누설 씰(530), 및 누설 씰(530)과 실린더 단부(316) 사이에 위치되는 중공 실린더(312) 내의 밀폐 스크린(hermetic screen)(518)을 구비하는 점에서, 보호용 쉬라우드(310)와는 추가로 상이하다. 밀폐 스크린(518)은 가스 분자에 대해 불투과성이 되도록 구성되고, 그에 의해, 밀폐 스크린(518)과 실린더 단부(316) 사이에서 밀폐되는 밀폐된 공간(520)을 형성하게 된다. 따라서, 보호용 쉬라우드(510) 내부의 밀폐된 공간(520)은 기밀성이다, 즉 보호용 쉬라우드(510)의 외부(324)로부터 밀봉된 상태로 유지된다. 밀폐된 공간(520)은 약 1 기압의 가스 압력에서 플라즈마 점화에 적합한 가스, 예를 들면, 아르곤을 함유하고, 그 결과, 밀폐 스크린에 걸쳐 기껏해야 작은 압력 구배만이 존재하게 된다.

밀폐 스크린(518)은 파손 가능하고, 그에 의해, 보호용 쉬라우드(510) 안으로의 내시경(380)과 같은 내시경의 삽입시 파손(파열)되도록 구성된다. 몇몇 실시형태에 따르면, 보호용 쉬라우드(510)는, 밀폐된 공간(520) 외부의 밀폐 스크린(518) 근처에서 중공 실린더(312)에 유연하게 부착되는 하나 이상의 파열침(tearing needle)(522)을 더 포함한다. 파열침(522)은 밀봉 스크린(518)을 향해 유연하게 기울어지도록 그리고 보호용 쉬라우드에 삽입되는 오브젝트에 의해 푸시될 때 밀폐 스크린을 파열하도록 구성된다. 따라서, 사용을 위해, 내시경은 보호용 쉬라우드(510) 안으로 삽입될 수 있고, 파열침(522)을 밀폐 스크린(518)을 향해 푸시하는 것에 의해 밀폐 스크린(518)의 파열에 영향을 줄 수도 있다. 내시경은, 뷰포트가 캐소드(330)와 애노드(340) 사이에 있을 때까지 추가로 전진될 수도 있다. 삽입 동안, 내시경은 먼저 누설 씰(leakage seal)(530)을 통해 전진되고, 이어서 밀폐 스크린(518)이 파괴되고, 그 다음 내시경은 정위치에 위치되도록 추가로 전진된다. 일단 밀폐 스크린(518)이 파괴되면, 공간(520) 내부의 가스는, 누설 씰(530)과 내시경 사이에 형성되는 밀봉(sealing)에 의해 개구(324)를 향해 자유롭게 흐르는 것이 방지된다. 보호용 쉬라우드 안으로의 내시경의 추가 전진 동안, 가스에 대한 공간(520)의 자유 체적은 감소하지만, 그러나, 누설 씰(530) 양단의 압력 차 하에서의 가스 탈출로 인해, 밀폐된 공간(520)의 영역에서의 압력 증대가 방지된다. 결과적으로, 내시경(380)이 보호용 쉬라우드(510) 안으로 완전히 삽입되면, 밀폐된 공간(520) 및 특히, 애노드(340)와 캐소드(330) 사이의 뷰포트 근방의 공간은, 대략적으로 대기압에서, 밀폐 스크린(518)의 파열 이전에 공간(520)에 포함되었던 가스를 실질적으로 포함하고, 그에 의해 그 내부에서의 플라즈마 점화를 용이하게 한다. 몇몇 실시형태에 따르면, 밀폐 스크린(518)은 Mylar(마일라) 또는 금속화된 마일라 또는 Kapton(캡톤) 또는 금속화된 캡톤 및 등등으로 제조될 수도 있다.

따라서, 본 발명의 한 양태에 따라, 내시경 검사 수술용 내시경(도 1에서의 200, 도 2, 도 3a 및 도 3c에서의 380)을 준비하기 위한 장치(도 1a에서의 100)가 제공된다. 그 장치는 내시경의 원위 단부(210, 382)를 내부에 수용하도록 치수가 정해지는 보호용 쉬라우드(도 1a에서의 110, 도 2 및 도 3a에서의 310, 310a, 도 3c에서의 410, 도 4에서의 510)를 포함한다. 원위 단부는 뷰포트의 주변의 이미지를 뷰포트를 통해 수집하는 것을 가능하게 하도록 구성되는 뷰포트(220, 390)를 포함한다.

그 장치는 전원과 전기적으로 관련되는 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터(130, 348, 448)를 더 포함한다. 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터는 보호용 쉬라우드 내에 수납되는 내시경의 원위 단부를 내부에 수용하도록 구성되는 슬롯(132, 350, 450)을 구비한다. 상기 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터는 보호용 쉬라우드 내에 플라즈마 생성에 적합한 전력을 인가하도록 구성된다. 보호용 쉬라우드는 내시경의 원위 단부로부터 그리고 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터로부터 분리 가능하다.

몇몇 실시형태에 따르면, 내시경의 뷰포트는 투명할 수도 있거나 또는 거울일 수도 있다.

몇몇 실시형태에 따르면, 그 장치는 제1 단부(146)와 제2 단부(140) 사이에서 연장되고, 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터를 캡슐화하도록 구성되고, 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터를 무균 슬리브 안으로 삽입하는 것을 가능하게 하도록 구성되는 제1 개구를 제1 단부 상에서 그리고 내시경을 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터 안으로 삽입하는 것을 가능하게 하도록 구성되는 제2 개구(142)를 제2 단부 상에서 구비하는 무균 슬리브(144)를 더 포함한다. 몇몇 실시형태에 따르면, 무균 슬리브는 부드럽고(soft), 몇몇 실시형태에 따르면, 무균 슬리브는 강성이다(rigid). 무균 슬리브는 플라스마 생성 필드 어플리케이터로부터 분리된다. 몇몇 실시형태에 따르면, 무균 슬리브는 보호용 쉬라우드에 부착되고, 몇몇 실시형태에 따라 무균 슬리브는 보호용 쉬라우드로부터 분리된다.

몇몇 실시형태에 따르면, 보호용 쉬라우드는 적어도 하나의 전극(340, 440) 및 전극에 전기적으로 연결되는 제1 쉬라우드 전기적 접촉부(340, 440)를 포함한다. 제1 쉬라우드 전기적 접촉부는, 보호용 쉬라우드가 슬롯(350, 450) 안으로 삽입될 때, 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터 내의 대응하는 제1 어플리케이터 전기적 접촉부(356, 456)와 전기적으로 접촉하도록 구성된다. 적어도 하나의 전극은, 그에 의해, 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터로부터 전력의 수신시, 보호용 쉬라우드 내부(322)에 플라즈마 생성 전기장을 인가하도록 구성된다.

몇몇 실시형태에 따르면, 보호용 쉬라우드는, 내시경의 원위 단부가 보호용 쉬라우드 내에 수용될 때, 내시경과 접촉하도록 구성되는 제2 쉬라우드 전기적 접촉부(330)를 더 포함한다. 제2 쉬라우드 전기적 접촉부는, 보호용 쉬라우드가 슬롯(350, 450) 안으로 삽입될 때, 제2 어플리케이터 전기적 접촉부(352)와 전기적으로 접촉하도록 구성된다.

몇몇 실시형태에 따르면, 보호용 쉬라우드는, 내시경의 원위 단부를 수용하도록 구성되는 개구(314)와 보호용 쉬라우드의 원위 단부(316) 사이에서 연장되는 중공의 실질적으로 강성의 튜브(312, 412)를 포함한다. 몇몇 실시형태에 따르면, 중공 튜브는 중공 실린더(312, 412)이다.

몇몇 실시형태에 따르면, 보호용 쉬라우드는, 내시경(380)을 둘러싸도록 치수가 정해지고, 그에 의해, 내시경이 중공 튜브 내부에 수용될 때 내시경과 밀봉적으로 접촉하도록 구성되는, 중공 튜브의 내부 원주를 따라 원위 단부와 개구 사이에 위치되는 씰(320, 530)을 더 포함한다. 몇몇 실시형태에 따르면, 씰은 O 링을 포함한다.

몇몇 실시형태에 따르면, 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터(348, 448)는 호스(364)에 연결된다. 호스는 슬롯(350, 450)에 제어 가능하게 유체 소통하게 연결된다. 몇몇 실시형태에 따르면, 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터(348, 448)는, 호스(364)를 슬롯(350, 450)과 제어 가능하게 유체 소통하게 연결하는 제어식 밸브(controlled valve)(366)를 포함한다. 몇몇 실시형태에 따르면, 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터(348)는 호스와 유체 소통하게 연결되는 어플리케이터 가스 포트(402)를 포함하고, 보호용 쉬라우드(410)는 쉬라우드 가스 포트(404)를 포함한다. 쉬라우드 가스 포트는, 보호용 쉬라우드의 내부(322)와 호스를 유체 소통하게 연결하기 위해 어플리케이터 가스 포트와 밀봉식으로 연결되도록 구성된다. 쉬라우드 가스 포트와 어플리케이터 가스 포트 사이의 밀봉된 연결은, 보호용 쉬라우드가 슬롯 안으로 삽입될 때, 보호용 쉬라우드(호스(364)와 유체 소통하게 관련됨)의 내부(322)와 슬롯(450) 사이의 유동 연통(flow communication)을, 예를 들면, 씰(408)에 의해, 방지한다.

몇몇 실시형태에 따르면, 보호용 쉬라우드(510)는, 내시경의 원위 단부가 중공 튜브 안으로 삽입될 때, 내시경과 밀봉적으로 접촉하도록 구성되는 중공 튜브(312) 내부에 씰(530)을 포함한다. 보호용 쉬라우드(510)는, 중공 튜브를 가로 질러 걸치며, 그에 의해, 밀폐 스크린과 중공 튜브의 원위 단부(316) 사이에 밀폐 및 밀봉된 공간(520)을 정의하도록 구성되는 밀폐 스크린(518)을 더 포함한다. 몇몇 실시형태에 따르면, 보호용 쉬라우드는, 중공 튜브 안으로의 내시경의 삽입시 밀폐 스크린을 파열하도록 구성되는 밀폐 스크린(518)과 씰(530) 사이의 중공 튜브 내부에 위치되는 테리어(terrier)(522)를 더 포함한다.

몇몇 실시형태의 한 양태에 따르면, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하는 방법이 제공된다. 그 방법은, 내시경의 원위 단부(210, 382)를 내부에 수용하도록 치수가 정해지는 보호용 쉬라우드(110, 310, 310a, 410, 510)를 제공하는 것을 포함하는데, 원위 단부는 뷰포트의 주변의 이미지를 뷰포트를 통해 수집하는 것을 허용하도록 구성되는 뷰포트(220, 390)를 포함한다. 그 방법은 전원과 전기적으로 관련되는 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터(130, 348, 448)를 제공하는 것을 더 포함한다. 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터는 보호용 쉬라우드 내에 수납되는 내시경의 원위 단부를 내부에 수용하도록 구성되는 슬롯(132, 350, 450)을 구비한다. 상기 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터는 (예를 들면, 전극(330, 340 및 440)에 의해) 보호용 쉬라우드 내에 플라즈마 생성에 적합한 전력을 인가하도록 구성된다. 보호용 쉬라우드는 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터로부터 그리고 내시경의 원위 단부로부터 분리 가능하다. 그 방법은 보호용 쉬라우드 내에 수납되는 내시경의 원위 단부를 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터의 슬롯에 위치시키는 것, 및 보호용 쉬라우드 내에 플라즈마를 생성하고, 그에 의해, 내시경의 원위 단부에서 뷰포트를 플라즈마 처리하기 위해 전원을 활성화하는 것을 더 포함한다.

몇몇 실시형태에 따르면, 그 방법은, 원위 단부 상에 분산되는 유체에 의한 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터의 오염을, 보호용 쉬라우드에 의해 방지하는 것을 더 포함한다. 몇몇 실시형태에 따르면, 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터는 호스(364)를 포함하고, 그 방법은 (밸브(366)를 개폐하는 것에 의해) 보호용 쉬라우드의 내부(322) 안으로 가스를 제어 가능하게 흐르게 하는 것, 또는 호스를 통해 보호용 쉬라우드의 내부를 펌핑하는 것을 더 포함한다.

몇몇 실시형태의 양태에 따르면, 내시경 검사 수술용 내시경(380)을 준비하는 방법이 추가로 제공되는데, 내시경은 뷰포트(390)를 포함하는 원위 단부(382)를 포함한다. 뷰포트는 유전체 재료로 만들어지고 내시경의 원위 단부에서 금속 세그먼트(384)에 인접한다. 그 방법은 내시경의 원위 단부를 밀폐된 플라즈마 챔버(예를 들면, 보호용 쉬라우드(310, 310a, 410 또는 510), 여기서 내시경의 삽입은 보호용 쉬라우드의 내부(322)를 밀봉하는데, 그에 의해 내부에 밀폐된 플라즈마 챔버를 정의하게 된다) 내에 배치하는 것을 포함한다. 밀폐된 플라즈마 챔버는 적어도 애노드(340, 440) 및 캐소드(330)를 구비하는데, 여기서, 캐소드는 금속 세그먼트와 전기적으로 접촉한다. 애노드와 캐소드 사이의 시선은 유전체 장벽(344, 444)에 의해 차단되고, 그 방법은, 애노드와 캐소드 사이에 플라즈마 생성 전자기장을 인가하고, 그에 의해, 뷰포트의 부근(322)에서 DBD 모드에서 플라즈마를 생성하는 것을 더 포함한다. 몇몇 실시형태에 따르면, 전기적 장벽(444)은 애노드(440)를 뷰포트 부근(322)의 가스로부터 전기적으로 분리한다. 그 방법의 몇몇 실시형태에 따르면, 뷰포트는 투명하거나 또는 대안적으로 거울이다. 그 방법의 몇몇 실시형태에 따르면, 상기 뷰포트는 유리 또는 석영 또는 플라스틱으로 만들어진다.

명확화를 위해, 별개의 실시형태의 맥락에서 설명되는 본 발명의 소정의 피쳐는 단일의 실시형태에서 조합하여 제공될 수도 있다는 것을 알 수 있다. 반대로, 간략화를 위해, 단일의 실시형태의 맥락에서 설명되는 본 발명의 다양한 피쳐는, 개별적으로 또는 임의의 적절한 하위 조합으로 또는 본 발명의 임의의 다른 설명된 실시형태에서 적합한 것으로 또한 제공될 수도 있다. 실시형태의 맥락에서 설명되는 어떠한 피쳐도, 그 실시형태의 필수적인 피쳐인 것으로 명시적으로 명시되지 않는 한, 그러한 것으로 간주되지 않아야 한다.

비록 몇몇 실시형태에 따른 방법의 단계가 특정 순서로 설명될 수도 있지만, 본 발명의 방법은, 상이한 순서로 수행되는 설명된 단계의 일부 또는 전체를 포함할 수도 있다. 본 발명의 방법은 설명되는 모든 단계 또는 설명된 단계 중 일부만을 포함할 수도 있다. 개시된 방법의 어떠한 특정한 단계도, 그 방법의 필수 단계인 것으로 명시적으로 명시되지 않는 한, 그러한 것으로 간주되지 않아야 한다.

비록 본 발명이 본 발명의 특정한 실시형태와 연계하여 설명되지만, 기술 분야의 숙련된 자에게 명백한 수많은 대안예, 수정예 및 변형예가 존재할 수도 있다는 것은 명백하다. 따라서, 본 발명은, 첨부된 청구범위의 범위 내에 속하는 이러한 모든 이러한 대안예, 수정예 및 변형예를 포괄한다. 본 발명은 본 명세서에서 기술되는 컴포넌트 및/또는 방법의 구성 및 배열의 세부 사항으로 그 응용이 반드시 제한되는 것은 아니다는 것이 이해되어야 한다. 다른 실시형태가 실시될 수도 있으며, 실시형태는 다양한 방식으로 수행될 수도 있다.

본 명세서에서 활용되는 문체 및 전문용어는 설명의 목적을 위한 것이며 제한하는 것으로 간주되어서는 안된다. 본 출원에서의 임의의 참조 문헌의 인용 또는 식별은, 그러한 참조 문헌이 본 발명에 대한 선행 기술로서 이용 가능하다는 것을 인정하는 것으로 해석되지 않아야 한다. 섹션 표제는 본 명세서에서 본 명세서의 이해를 용이하게 하기 위해 사용되며 반드시 제한하는 것으로 해석되어서는 안된다.

Claims

내시경 검사 수술(endoscopy procedure)용 내시경을 준비하기 위한 장치로서,
상기 내시경의 원위 단부를 내부에 수용하도록 치수가 정해지는 보호용 쉬라우드(protecting shroud)로서, 상기 원위 단부는 뷰포트(viewport)의 주변의 이미지를 상기 뷰포트를 통해 수집하는 것을 가능하게 하도록 구성되는 상기 뷰포트를 포함하는, 상기 보호용 쉬라우드, 및
전원(electric power source)과 전기적으로 관련되고 상기 보호용 쉬라우드 내에 수납되는(shrouded) 상기 내시경의 상기 원위 단부를 내부에 수용하도록 구성되는 슬롯을 구비하는 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터(plasma generating field applicator)로서, 상기 보호용 쉬라우드 내에 플라즈마 생성에 적합한 전력을 인가하도록 구성되는, 상기 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터를 포함하되,
상기 보호용 쉬라우드는 상기 내시경의 상기 원위 단부로부터 그리고 상기 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터로부터 분리 가능한, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하기 위한 장치.
제1항에 있어서, 상기 뷰포트는 투명한, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하기 위한 장치.
제1항에 있어서, 상기 뷰포트는 거울인, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하기 위한 장치.
제1항에 있어서, 제1 단부와 제2 단부 사이에서 연장되고, 상기 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터를 캡슐화하도록 구성되고, 상기 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터를 무균 슬리브(sterility sleeve) 안으로 삽입하는 것을 가능하게 하도록 구성되는 제1 개구를 제1 단부 상에서 그리고 상기 내시경을 상기 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터 안으로 삽입하는 것을 가능하게 하도록 구성되는 제2 개구를 제2 단부 상에서 구비하는 상기 무균 슬리브를 더 포함하는, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하기 위한 장치.
제4항에 있어서, 상기 무균 슬리브는 부드러운, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하기 위한 장치.
제1항에 있어서, 상기 보호용 쉬라우드는, 적어도 하나의 전극 및 상기 전극에 전기적으로 연결되며 상기 보호용 쉬라우드가 상기 슬롯에 삽입될 때 상기 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터의 대응하는 제1 어플리케이터 전기적 접촉부(applicator electric contact)와 전기적으로 접촉하는 것에 의해, 상기 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터로부터 상기 전력의 수신 시 상기 적어도 하나의 전극이 상기 보호용 쉬라우드 내에 플라즈마 생성 전기장을 인가하도록 구성되게 되는 제1 쉬라우드 전기적 접촉부를 포함하는, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하기 위한 장치.
제6항에 있어서, 상기 보호용 쉬라우드는, 상기 내시경의 상기 원위 단부가 상기 보호용 쉬라우드 내에 수용될 때 상기 내시경과 접촉하도록 구성되는 제2 쉬라우드 전기적 접촉부를 더 포함하되, 상기 제2 쉬라우드 전기적 접촉부는 상기 보호용 쉬라우드가 상기 슬롯 안으로 삽입될 때 제2 어플리케이터 전기적 접촉부와 전기적으로 접촉하도록 구성되는, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하기 위한 장치.
제1항에 있어서, 상기 보호용 쉬라우드는 상기 내시경의 상기 원위 단부를 수용하도록 구성되는 개구와 상기 보호용 쉬라우드의 원위 단부 사이에서 연장되는 중공 튜브(hollow tube)를 더 포함하는, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하기 위한 장치.
제8항에 있어서, 상기 중공 튜브는 중공 실린더인, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하기 위한 장치.
제8항에 있어서, 상기 보호용 쉬라우드는, 상기 내시경을 둘러싸도록 치수가 정해지는 것에 의해, 상기 내시경이 상기 중공 튜브 내부에 수용될 때 상기 내시경과 밀봉적으로 접촉하도록 구성되는, 상기 중공 튜브의 내부 원주를 따라 상기 원위 단부와 상기 개구 사이에 위치되는 씰(seal)을 더 포함하는, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하기 위한 장치.
제10항에 있어서, 상기 씰은 O 링을 포함하는, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하기 위한 장치.
제1항에 있어서, 상기 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터는 상기 슬롯에 제어 가능하게 유체 소통하게(fluidly) 연결되는 호스를 포함하는, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하기 위한 장치.
제12항에 있어서, 상기 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터는, 상기 호스를 상기 슬롯과 제어 가능하게 유체 소통하게 연결하는 제어식 밸브(controlled valve)를 포함하는, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하기 위한 장치.
제12항에 있어서, 상기 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터는 상기 호스와 유체 소통하게 연결되는 어플리케이터 가스 포트(applicator gas port)를 포함하고, 상기 보호용 쉬라우드는, 상기 호스를 상기 보호용 쉬라우드의 내부와 유체 소통하게 연결하기 위해 상기 어플리케이터 가스 포트와 밀봉적으로 연결하도록 그리고 상기 보호용 쉬라우드가 상기 슬롯 안으로 삽입될 때 상기 호스와 상기 슬롯 사이의 유동 연통(flow communication)을 밀봉적으로 방지하도록 구성되는 쉬라우드 가스 포트(shroud gas port)를 포함하는, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하기 위한 장치.
제8항에 있어서, 상기 보호용 쉬라우드는, 상기 내시경의 상기 원위 단부가 상기 중공 튜브 안으로 삽입될 때, 상기 내시경과 밀봉적으로 접촉하도록 구성되는 상기 중공 튜브 내부에 씰을 포함하고, 상기 중공 튜브를 가로질러 걸치는 것에 의해 밀폐 스크린(hermetic screen)과 상기 중공 튜브의 상기 원위 단부 사이에 밀폐 및 밀봉된 공간을 정의하도록 구성되는 상기 밀폐 스크린을 더 포함하는, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하기 위한 장치.
제15항에 있어서, 상기 보호용 쉬라우드는, 상기 중공 튜브 안으로의 상기 내시경의 삽입시, 상기 밀폐 스크린을 파열하도록 구성되는, 상기 씰과 상기 밀폐 스크린 사이에서 상기 중공 튜브 내부에 위치되는 테리어(terrier)를 더 포함하는, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하기 위한 장치.
내시경 검사 수술용 내시경을 준비하는 방법으로서,
상기 내시경의 원위 단부를 내부에 수용하도록 치수가 정해지는 보호용 쉬라우드를 제공하는 단계로서, 상기 원위 단부는 뷰포트의 주변의 이미지를 상기 뷰포트를 통해 수집하는 것을 허용하도록 구성되는 상기 뷰포트를 포함하고, 상기 보호용 쉬라우드는 상기 원위 단부로부터 분리 가능한, 상기 보호용 쉬라우드를 제공하는 단계;
전원과 전기적으로 관련되고 상기 보호용 쉬라우드 내에 수납되는 상기 내시경의 상기 원위 단부를 내부에 수용하도록 구성되는 슬롯을 구비하는 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터를 제공하는 단계로서, 상기 보호용 쉬라우드는 상기 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터로부터 분리 가능하고, 상기 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터는 상기 보호용 쉬라우드 내에 플라즈마 생성에 적합한 전력을 인가하도록 구성되는, 상기 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터를 제공하는 단계;
상기 보호용 쉬라우드 내에 수납되는 상기 내시경의 상기 원위 단부를 상기 플라즈마 생성 어플리케이터의 상기 슬롯에 위치시키는 단계; 및
상기 보호용 쉬라우드 내에 플라즈마를 생성하는 것에 의해 상기 원위 단부의 상기 뷰포트를 플라즈마 처리하기 위해 상기 전원을 활성화하는 단계를 포함하는, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하는 방법.
제17항에 있어서, 상기 원위 단부 상에 분산되는 유체에 의한 상기 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터의 오염을, 상기 보호용 쉬라우드에 의해, 방지하는 단계를 더 포함하는, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하는 방법.
제17항에 있어서, 상기 플라즈마 생성 전기장 어플리케이터는 호스를 포함하고, 상기 방법은 상기 보호용 쉬라우드의 내부 안으로 가스를 제어 가능하게 흐르게 하는 단계, 또는 상기 호스를 통해 상기 보호용 쉬라우드의 상기 내부를 펌핑하는 단계를 더 포함하는, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하는 방법.
내시경 검사 수술용 내시경을 준비하는 방법으로서, 상기 내시경은 금속 세그먼트에 부착되는 유전체 재료로 만들어지는 뷰포트를 포함하는 원위 단부를 포함하고, 상기 방법은, 적어도 하나의 애노드 및 캐소드를 구비하는 밀폐된 플라즈마 챔버 내에 상기 내시경의 상기 원위 단부를 배치하는 단계를 포함하되, 상기 캐소드는 상기 금속 세그먼트와 전기적으로 접촉하고, 상기 애노드와 상기 캐소드 사이의 시선(line-of-sight)은 유전체 장벽에 의해 차단되고, 상기 방법은, 상기 애노드와 상기 캐소드 사이에 플라즈마 생성 전자기장을 인가하는 것에 의해, 상기 뷰포트의 부근에서 DBD 모드에서 플라즈마를 생성하는 단계를 더 포함하는, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하는 방법.
제20항에 있어서, 상기 전기적 장벽은 상기 뷰포트의 상기 부근에서 상기 애노드를 가스로부터 전기적으로 분리하는, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하는 방법.
제20항에 있어서, 상기 뷰포트는 투명한, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하는 방법.
제20항에 있어서, 상기 뷰포트는 거울인, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하는 방법.
제20항에 있어서, 상기 뷰포트는 유리 또는 석영 또는 플라스틱으로 만들어지는, 내시경 검사 수술용 내시경을 준비하는 방법.