KR102469837B1 - Connection structure, and anisotropic conductive adhesive - Google Patents

Connection structure, and anisotropic conductive adhesive Download PDF

Info

Publication number
KR102469837B1
KR102469837B1 KR1020210090511A KR20210090511A KR102469837B1 KR 102469837 B1 KR102469837 B1 KR 102469837B1 KR 1020210090511 A KR1020210090511 A KR 1020210090511A KR 20210090511 A KR20210090511 A KR 20210090511A KR 102469837 B1 KR102469837 B1 KR 102469837B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electronic component
anisotropic conductive
conductive film
electrode
black pigment
Prior art date
Application number
KR1020210090511A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20210090587A (en
Inventor
신이치 하야시
유스케 다나카
Original Assignee
데쿠세리아루즈 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 filed Critical 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤
Publication of KR20210090587A publication Critical patent/KR20210090587A/en
Priority to KR1020220155328A priority Critical patent/KR102653068B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102469837B1 publication Critical patent/KR102469837B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H01B1/22Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/0412Digitisers structurally integrated in a display
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/02Non-macromolecular additives
    • C09J11/04Non-macromolecular additives inorganic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J175/00Adhesives based on polyureas or polyurethanes; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J175/04Polyurethanes
    • C09J175/06Polyurethanes from polyesters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J9/00Adhesives characterised by their physical nature or the effects produced, e.g. glue sticks
    • C09J9/02Electrically-conducting adhesives
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01RELECTRICALLY-CONDUCTIVE CONNECTIONS; STRUCTURAL ASSOCIATIONS OF A PLURALITY OF MUTUALLY-INSULATED ELECTRICAL CONNECTING ELEMENTS; COUPLING DEVICES; CURRENT COLLECTORS
    • H01R11/00Individual connecting elements providing two or more spaced connecting locations for conductive members which are, or may be, thereby interconnected, e.g. end pieces for wires or cables supported by the wire or cable and having means for facilitating electrical connection to some other wire, terminal, or conductive member, blocks of binding posts
    • H01R11/01Individual connecting elements providing two or more spaced connecting locations for conductive members which are, or may be, thereby interconnected, e.g. end pieces for wires or cables supported by the wire or cable and having means for facilitating electrical connection to some other wire, terminal, or conductive member, blocks of binding posts characterised by the form or arrangement of the conductive interconnection between the connecting locations
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/14Structural association of two or more printed circuits

Abstract

(과제)
가식 인쇄부에 핀홀 등의 결함이 발생한 경우에도, 가식 인쇄부의 외관이 손상되는 것을 방지할 수 있는 접속 구조체 및 이방성 도전 접착제를 제공한다.
(해결 수단)
접속 구조체에 있어서, 가식층 (12) 상에 전극 (13) 이 형성된 제 1 전자 부품 (10) 과, 제 1 전자 부품 (10) 의 전극 (13) 과 대향하는 전극 (22) 이 형성된 제 2 전자 부품 (20) 과, 제 1 전자 부품 (10) 의 전극 (13) 과 제 2 전자 부품 (20) 의 전극 (22) 을 접속시키는 이방성 도전막 (30) 을 구비하고, 이방성 도전막 (30) 이, 도전성 입자 (31) 와 흑색 안료 (32) 를 함유하는 이방성 도전 접착제의 경화물로 이루어진다. 이로써, 가식 인쇄부의 핀홀의 광 누설을 저감시켜, 가식 인쇄부의 의장성을 유지할 수 있다.
(assignment)
Provided is a connection structure and an anisotropic conductive adhesive capable of preventing the appearance of a decorative printing unit from being damaged even when a defect such as a pinhole occurs in the decorative printing unit.
(solution)
A connection structure comprising: a first electronic component (10) in which an electrode (13) is formed on a decorative layer (12), and a second electronic component (10) in which an electrode (22) facing the electrode (13) of the first electronic component (10) is formed. An anisotropic conductive film 30 connecting the electronic component 20 and the electrode 13 of the first electronic component 10 and the electrode 22 of the second electronic component 20 are provided, and the anisotropic conductive film 30 ) is made of a cured product of an anisotropic conductive adhesive containing conductive particles 31 and black pigment 32. Thereby, the light leakage of the pinhole of the decorative printing part can be reduced, and the design of the decorative printing part can be maintained.

Description

접속 구조체 및 이방성 도전 접착제{CONNECTION STRUCTURE, AND ANISOTROPIC CONDUCTIVE ADHESIVE}Connection structure and anisotropic conductive adhesive {CONNECTION STRUCTURE, AND ANISOTROPIC CONDUCTIVE ADHESIVE}

본 발명은, 이방성 도전 접착제를 사용하여 전자 부품을 접속시킨 접속 구조체 및 이방성 도전 접착제에 관한 것이다.The present invention relates to a connection structure in which electronic components are connected using an anisotropic conductive adhesive and an anisotropic conductive adhesive.

최근, 설계 자유도를 향상시키기 위해, 예를 들어, 커버 유리 일체형 터치 패널에 있어서, 외주부에 프레임상으로 가식 인쇄된 가식층 상에 전극을 형성하고, 가식층 상에서 회로 부재와 접합하는 것이 제안되어 있다.In recent years, in order to improve design freedom, for example, in a cover glass integrated touch panel, it has been proposed to form electrodes on a decorative layer decorated and printed in a frame shape on the outer periphery, and bonded to a circuit member on the decorative layer. .

그러나, 가식 인쇄부에 핀홀 등의 결함이 발생한 경우, 백라이트의 조사광에 의해 광 누설 등이 발생하여 외관이 손상된다. 또, 검사에 의해 가식 인쇄부에 핀홀을 찾아내도, 이미 가식층 상에 배선이 형성되어 있기 때문에 수복은 곤란하다.However, when a defect such as a pinhole occurs in the decorative printed portion, light leakage or the like occurs due to irradiation light from the backlight, and the appearance is damaged. In addition, even if a pinhole is found in the decorative printing portion by inspection, it is difficult to repair it because wiring has already been formed on the decorative layer.

일본 공개특허공보 2009-088465호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-088465

본 발명은, 이와 같은 종래의 실정을 감안하여 제안된 것으로, 가식 인쇄부에 핀홀 등의 결함이 발생한 경우에도, 가식 인쇄부의 외관이 손상되는 것을 방지할 수 있는 접속 구조체 및 이방성 도전 접착제를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been proposed in view of such a conventional situation, and provides a connection structure and an anisotropic conductive adhesive capable of preventing the appearance of the decorative printing unit from being damaged even when a defect such as a pinhole occurs in the decorative printing unit aims to

전술한 과제를 해결하기 위해서, 본 발명에 관련된 접속 구조체는, 가식층 상에 전극이 형성된 제 1 전자 부품과, 상기 제 1 전자 부품의 전극과 대향하는 전극이 형성된 제 2 전자 부품과, 상기 제 1 전자 부품의 전극과 상기 제 2 전자 부품의 전극을 접속시키는 이방성 도전막을 구비하고, 상기 이방성 도전막이, 도전성 입자와, 흑색 안료를 함유하는 이방성 도전 접착제의 경화물로 이루어지는 것을 특징으로 한다.In order to solve the above problems, a connection structure according to the present invention comprises: a first electronic component having an electrode formed on a decorative layer; a second electronic component having an electrode facing the electrode of the first electronic component; An anisotropic conductive film connecting an electrode of one electronic component and an electrode of the second electronic component is provided, and the anisotropic conductive film is made of a cured product of an anisotropic conductive adhesive containing conductive particles and a black pigment.

또, 본 발명에 관련된 터치 패널은, 터치 패널 기능을 갖는 표시창부와, 상기 표시창부 이외의 주연부에 형성된 가식층과, 상기 가식층 상에 전극이 형성된 제 1 전자 부품과, 상기 제 1 전자 부품의 전극과 대향하는 전극이 형성된 제 2 전자 부품과, 상기 제 1 전자 부품의 전극과 상기 제 2 전자 부품의 전극을 접속시키는 이방성 도전막을 구비하고, 상기 이방성 도전막이, 도전성 입자와, 흑색 안료를 함유하는 이방성 도전 접착제의 경화물로 이루어지는 것을 특징으로 한다.Further, a touch panel according to the present invention includes a display window having a touch panel function, a decorative layer formed on a periphery other than the display window, a first electronic component on which electrodes are formed on the decorative layer, and the first electronic component. and an anisotropic conductive film connecting the electrode of the first electronic component and the electrode of the second electronic component, wherein the anisotropic conductive film comprises conductive particles and a black pigment. It is characterized in that it consists of a cured product of an anisotropic conductive adhesive containing

또한, 본 발명에 관련된 이방성 도전 접착제는, 막형성 수지와, 라디칼 중합성 수지와, 라디칼 중합 개시제와, 도전성 입자와, 탄소가 주원료가 아닌 흑색 안료를 함유하는 것을 특징으로 한다.Further, the anisotropic conductive adhesive according to the present invention is characterized by containing a film forming resin, a radical polymerizable resin, a radical polymerization initiator, conductive particles, and a black pigment in which carbon is not the main ingredient.

또, 본 발명에 관련된 접속 구조체의 제조 방법은, 가식층 상에 전극이 형성된 제 1 전자 부품의 전극 상에, 도전성 입자와 흑색 안료를 함유하는 이방성 도전 필름을 임시로 붙이고, 상기 이방성 도전 필름 상에 제 2 전자 부품을 배치하고, 상기 제 2 전자 부품의 상면에서부터 압착 헤드로 가압하는 것을 특징으로 한다.Further, in the method for manufacturing a bonded structure according to the present invention, an anisotropic conductive film containing conductive particles and a black pigment is temporarily applied onto an electrode of a first electronic component in which an electrode is formed on a decorative layer, and on the anisotropic conductive film A second electronic component is placed on the second electronic component, and pressurized with a compression head from the upper surface of the second electronic component.

본 발명에 따르면, 이방성 도전막의 흑색 안료가 가식 인쇄부에 있어서의 광 누설을 저감시키기 때문에, 가식 인쇄부의 외관이 손상되는 것을 방지할 수 있다.According to the present invention, since the black pigment of the anisotropic conductive film reduces light leakage in the decorative printing section, it is possible to prevent the appearance of the decorative printing section from being damaged.

도 1 은 본 발명을 적용한 접속 구조체를 나타내는 단면도이다.
도 2 는 접속 구조체의 일례를 나타내는 사시도이다.
도 3 은 실시예 3 의 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체에 대해, 평가용 유리 기판측에서부터 조명을 쐬게 하여 평가용 FPC 측에서부터 금속 현미경으로 관찰한 사진이다.
도 4 는 비교예 1 의 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체에 대해, 평가용 유리 기판측에서부터 조명을 쐬게 하여 평가용 FPC 측에서부터 금속 현미경으로 관찰한 사진이다.
1 is a cross-sectional view showing a connection structure to which the present invention is applied.
2 is a perspective view showing an example of a connection structure.
Fig. 3 is a photograph of a bonded structure manufactured using an anisotropic conductive film of Example 3, observed with a metallographic microscope from the side of the FPC for evaluation with illumination being applied from the side of the glass substrate for evaluation.
Fig. 4 is a photograph of a bonded structure manufactured using an anisotropic conductive film of Comparative Example 1, observed with a metallographic microscope from the side of the FPC for evaluation with illumination being applied from the side of the glass substrate for evaluation.

이하, 본 발명의 실시 형태에 대해 도면을 참조하면서 하기 순서로 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described in detail in the following order, referring drawings.

1. 접속 구조체1. Connection structure

2. 이방성 도전 접착제2. Anisotropic conductive adhesive

3. 실시예3. Examples

<1. 접속 구조체><1. connection structure>

도 1 은, 본 발명을 적용한 접속 구조체를 나타내는 단면도이다. 도 1 에 나타내는 바와 같이, 접속 구조체는, 가식층 (12) 상에 전극 (13) 이 형성된 제 1 전자 부품 (10) 과, 제 1 전자 부품 (10) 의 전극 (13) 과 대향하는 전극 (22) 이 형성된 제 2 전자 부품 (20) 과, 제 1 전자 부품 (10) 의 전극 (13) 과 제 2 전자 부품 (20) 의 전극 (22) 을 접속시키는 이방성 도전막 (30) 을 구비한다. 또, 이방성 도전막 (30) 은, 도전성 입자 (31) 와, 흑색 안료 (32) 를 함유하는 이방성 도전 접착제의 경화물로 이루어진다. 이로써, 가식 인쇄부에 핀홀 등의 결함이 발생한 경우에도, 이방성 도전막 (30) 의 흑색 안료 (32) 가 가식 인쇄부에 있어서의 광 누설을 저감시켜, 가식 인쇄부의 외관이 손상되는 것을 방지할 수 있다.1 is a cross-sectional view showing a bonded structure to which the present invention is applied. As shown in FIG. 1, the bonded structure includes a first electronic component 10 in which an electrode 13 is formed on a decorative layer 12, and an electrode facing the electrode 13 of the first electronic component 10 ( 22) is formed on the second electronic component 20, and an anisotropic conductive film 30 connecting the electrode 13 of the first electronic component 10 and the electrode 22 of the second electronic component 20 is provided. . Further, the anisotropic conductive film 30 is made of a cured product of an anisotropic conductive adhesive containing conductive particles 31 and a black pigment 32 . Thus, even when a defect such as a pinhole occurs in the decorative printing portion, the black pigment 32 of the anisotropic conductive film 30 reduces light leakage in the decorative printing portion, thereby preventing the appearance of the decorative printing portion from being damaged. can

제 1 전자 부품 (10) 은, 투명 기판 (11) 과, 투명 기판 상에 가식 인쇄된 가식층 (12) 과, 가식층 (12) 상에 형성된 전극 (13) 을 구비한다.The first electronic component 10 includes a transparent substrate 11, a decorative layer 12 decorated and printed on the transparent substrate, and an electrode 13 formed on the decorative layer 12.

투명 기판 (11) 으로는, 예를 들어, 가시광에 대해 80 % 이상의 투과율을 갖는 것을 사용할 수 있고, 바람직하게는 95 % 이상의 투과율을 갖는 것을 사용할 수 있다. 일반적으로 액정 표시 장치에 사용되는 유리 등의 무기 투명 기판, 또는 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 고리형 올레핀코폴리머 등의 투명 수지 기판을 사용할 수 있다.As the transparent substrate 11, for example, one having a transmittance of 80% or more with respect to visible light can be used, and one having a transmittance of 95% or more preferably can be used. Inorganic transparent substrates, such as glass generally used in liquid crystal display devices, or transparent resin substrates, such as polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, and cyclic olefin copolymer, can be used.

가식층 (12) 은, 착색 수지 조성물의 경화물에 의해 형성되어 이루어진다. 착색 수지 조성물은, 예를 들어, 모노머, 광 중합 개시제, 증감제, 용제 등을 함유하는 수지 바인더에 착색제를 분산시켜 조제된다. 착색제는, 가식층 (12) 을 원하는 색으로 착색하는 것으로, 안료나 염료를 이용할 수 있다. 안료로서는, 유기 안료 또는 무기 안료 중 어느 것이어도 되고, 또한 그 배합량은 특별히 한정되는 것은 아니다. 가식층 (12) 의 색으로는, 디자인성과 생산성의 관점에서, 차광성이 있는 흑색이 바람직하게 사용된다. 디자인성을 중시하는 경우, 금속층이 형성되어 있는 경우도 있지만, 이 경우에도 코트재 등으로 수지층이 최표면에 형성되는 경우가 많아, 접착면의 재질로는 크게는 다르지 않게 된다.The decorative layer 12 is formed by the hardened|cured material of a colored resin composition. The colored resin composition is prepared by dispersing a coloring agent in a resin binder containing, for example, a monomer, a photopolymerization initiator, a sensitizer, a solvent and the like. The coloring agent colors the decorative layer 12 in a desired color, and a pigment or dye can be used. As a pigment, either an organic pigment or an inorganic pigment may be sufficient, and the compounding quantity is not specifically limited. As the color of the decorative layer 12, black with light-shielding properties is preferably used from the viewpoints of design and productivity. When design is important, a metal layer may be formed, but even in this case, in many cases, a resin layer is formed on the outermost surface of a coating material or the like, and the material of the adhesive surface does not differ greatly.

이와 같은 제 1 전자 부품 (10) 으로서, 예를 들어, 커버 유리 일체형 터치 패널을 들 수 있다. 커버 유리 일체형 터치 패널은, 터치 위치를 감지하기 위한 신호 라인이 형성된 터치 패널 기능을 갖는 표시창부와, 투명 기판 (11) 의 시인측과는 반대인 면에 형성되고, 표시창부 이외의 주연부에 형성된 가식층 (12) 을 갖는다. 표시창부는, 예를 들어, 정전 용량식의 터치 패널층으로서 ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), SiNx (실리콘질화) 등의 투명 전극이 형성된다. 상기 커버 유리는 유리 대체 재료로 치환되어도, 발명의 본질에는 관계하지 않기 때문에 특별히 문제 없다.As such a 1st electronic component 10, a cover glass integrated touch panel is mentioned, for example. The cover glass-integrated touch panel includes a display window having a touch panel function in which a signal line for detecting a touch position is formed, formed on a surface opposite to the viewing side of the transparent substrate 11, and formed on a periphery other than the display window. It has a decorative layer (12). In the display window portion, for example, as a capacitive touch panel layer, transparent electrodes such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), and silicon nitride (SiNx) are formed. Even if the cover glass is replaced with a glass substitute material, there is no problem in particular because it does not relate to the essence of the invention.

제 2 전자 부품 (20) 은, 기판 (21) 과, 기판 (21) 상에 형성된 전극 (22) 을 구비한다. 이러한 제 2 전자 부품으로는, FPC (Flexible Printed Circuits), IC (Integrated Circuit) 등을 들 수 있다.The second electronic component 20 includes a substrate 21 and an electrode 22 formed on the substrate 21 . As such a 2nd electronic component, FPC (Flexible Printed Circuits), IC (Integrated Circuit), etc. are mentioned.

이방성 도전막 (30) 은, 도전성 입자 (31) 과, 흑색 안료 (32) 를 함유하는 이방성 도전 접착제의 경화물로 이루어지고, 도전성 입자 (31) 에 의해 제 1 전자 부품 (10) 과 제 2 전자 부품 (20) 을 전기적으로 접속시킨다.The anisotropic conductive film 30 is made of a cured product of an anisotropic conductive adhesive containing conductive particles 31 and a black pigment 32, and the first electronic component 10 and the second electronic component 10 are formed by the conductive particles 31. The electronic component 20 is electrically connected.

이방성 도전 접착제로서는, 라디칼 중합형, 아니온 중합형, 카티온 중합형 등 중 어느 것을 사용해도 되지만, 보다 저온 경화가 가능하고, 가식층 (12) 에 대한 열 데미지가 적은 라디칼 중합형이 바람직하다.As the anisotropic conductive adhesive, any of a radical polymerization type, anionic polymerization type, cationic polymerization type, etc. may be used, but a radical polymerization type that can be cured at a lower temperature and causes less thermal damage to the decorative layer 12 is preferable. .

라디칼 중합형의 이방성 도전 접착제는, 막형성 수지와, 라디칼 중합성 수지와, 라디칼 중합 개시제와, 도전성 입자와, 흑색 안료를 함유한다. 여기서, 흑색 안료로서 일반적으로 사용되는 카본 블랙은, 라디칼 보완성을 갖고, 경화 저해의 요인이 되기 때문에, 라디칼 중합형의 이방성 도전 접착제에는 탄소가 주원료가 아닌 흑색 안료가 사용된다. 탄소가 주원료가 아닌 흑색 안료로서는, 티탄계 흑색 안료를 들 수 있다.A radical polymerization type anisotropic conductive adhesive contains a film forming resin, a radical polymerization resin, a radical polymerization initiator, conductive particles, and a black pigment. Here, since carbon black generally used as a black pigment has radical complementarity and becomes a factor of curing inhibition, a black pigment in which carbon is not the main ingredient is used for the radical polymerization type anisotropic conductive adhesive. Black pigments in which carbon is not the main raw material include titanium-based black pigments.

이와 같은 구성으로 이루어지는 접속 구조체는, 제 1 전자 부품 (10) 의 전극 (13) 상에, 이방성 도전 필름을 임시로 붙이고, 이방성 도전 필름 상에 제 2 전자 부품 (20) 을 배치하고, 제 2 전자 부품 (20) 의 상면에서부터 압착 헤드로 가압함으로써 제조된다. 이와 같은 제조 방법에 따르면, 제 1 전자 부품 (10) 의 전극 (13) 과 제 2 전자 부품 (20) 의 전극 (22) 을 도전성 입자 (31) 을 개재하여 전기적으로 접속시킴과 함께, 이방성 도전 필름을 경화시킨 이방성 도전막 (30) 에 의해 제 1 전자 부품 (10) 과 제 2 전자 부품 (20) 을 접착시킬 수 있다.In the connection structure having such a configuration, an anisotropic conductive film is temporarily attached to an electrode 13 of a first electronic component 10, the second electronic component 20 is disposed on the anisotropic conductive film, and a second electronic component 20 is formed. It is produced by pressing with a crimping head from the upper surface of the electronic component 20. According to such a manufacturing method, while electrically connecting the electrode 13 of the 1st electronic component 10 and the electrode 22 of the 2nd electronic component 20 via the electroconductive particle 31, anisotropic conduction The first electronic component 10 and the second electronic component 20 can be bonded by the anisotropic conductive film 30 obtained by curing the film.

<2. 이방성 도전 접착제><2. Anisotropic conductive adhesive>

다음으로, 전술한 접속 구조체에 사용되는 이방성 도전 접착제에 대해 설명한다. 본 실시 형태에 있어서의 이방성 도전 접착제는, 막형성 수지와, 라디칼 중합성 수지와, 라디칼 중합 개시제와, 도전성 입자와, 탄소가 주원료가 아닌 흑색 안료를 함유한다.Next, the anisotropic conductive adhesive used for the above-described connection structure will be described. The anisotropic conductive adhesive in the present embodiment contains a film-forming resin, a radical polymerizable resin, a radical polymerization initiator, conductive particles, and a black pigment in which carbon is not the main ingredient.

막형성 수지는, 평균 분자량이 10000 이상인 고분자량 수지에 상당하고, 필름 형성성의 관점에서 10000 ∼ 80000 정도의 평균 분자량인 것이 바람직하다. 막형성 수지로서는, 페녹시 수지, 폴리에스테르우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리이미드 수지, 부티랄 수지 등의 각종 수지를 들 수 있고, 이것들은 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 조합해서 사용해도 된다. 이들 중에서도 막형성 상태, 접속 신뢰성 등의 관점에서 페녹시 수지가 바람직하게 사용된다. 막형성 수지의 함유량은, 접착제 조성물 100 질량부에 대해 통상적으로 30 ∼ 80 질량부, 바람직하게는 40 ∼ 70 질량부이다.The film-forming resin corresponds to a high molecular weight resin having an average molecular weight of 10000 or more, and preferably has an average molecular weight of about 10000 to 80000 from the viewpoint of film formation. Examples of the film-forming resin include various resins such as phenoxy resins, polyester urethane resins, polyester resins, polyurethane resins, acrylic resins, polyimide resins, and butyral resins, and these may be used alone. You may use a combination of more than one type. Among these, a phenoxy resin is preferably used from the viewpoints of film formation state, connection reliability and the like. The content of the film-forming resin is usually 30 to 80 parts by mass, preferably 40 to 70 parts by mass, based on 100 parts by mass of the adhesive composition.

라디칼 중합성 수지는, 라디칼에 의해 중합시키는 관능기를 갖는 물질이고, 에폭시아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 폴리에스테르아크릴레이트 등을 들 수 있고, 이것들은 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 조합해서 사용해도 된다. 이들 중에서도, 본 실시 형태에서는 에폭시아크릴레이트가 바람직하게 사용된다. 라디칼 중합성 수지의 함유량은, 접착제 조성물 100 질량부에 대해 통상적으로 10 ∼ 60 질량부, 바람직하게는 20 ∼ 50 질량부이다.The radically polymerizable resin is a substance having a functional group polymerized by a radical, and examples thereof include epoxy acrylate, urethane acrylate, and polyester acrylate, and these may be used alone or in combination of two or more. can also Among these, epoxy acrylate is preferably used in this embodiment. The content of the radically polymerizable resin is usually 10 to 60 parts by mass, preferably 20 to 50 parts by mass, based on 100 parts by mass of the adhesive composition.

라디칼 중합 개시제는, 공지된 것을 사용할 수 있고, 그 중에서도 유기 과산화물을 바람직하게 사용할 수 있다. 유기 과산화물로서는, 퍼옥시케탈류, 디아실퍼옥사이드류, 퍼옥시디카보네이트류, 퍼옥시에스테르류, 디알킬퍼옥사이드류, 하이드로퍼옥사이드류, 실릴퍼옥사이드류 등을 들 수 있고, 이것들은 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 조합해서 사용해도 된다. 이들 중에서도, 본 실시 형태에서는 퍼옥시케탈류가 바람직하게 사용된다. 라디칼 중합 개시제의 함유량은, 라디칼계의 접착제 조성물 100 질량부에 대해 통상적으로 0.1 ∼ 30 질량부, 바람직하게는 1 ∼ 20 질량부이다.A known radical polymerization initiator can be used, and organic peroxides can be preferably used among them. Examples of organic peroxides include peroxyketals, diacyl peroxides, peroxydicarbonates, peroxyesters, dialkyl peroxides, hydroperoxides, and silyl peroxides. , and may be used in combination of two or more types. Among these, peroxyketals are preferably used in the present embodiment. The content of the radical polymerization initiator is usually 0.1 to 30 parts by mass, preferably 1 to 20 parts by mass, based on 100 parts by mass of the radical adhesive composition.

또, 도전성 입자로서는, 예를 들어, 금 입자, 은 입자, 니켈 입자 등의 금속 입자, 벤조구아나민 수지나 스티렌 수지 등의 수지 입자의 표면을 금, 니켈, 아연 등의 금속으로 피복한 금속 피복 수지 입자 등을 사용할 수 있다. 이러한 도전성 입자의 평균 입경으로는 1 ∼ 30 ㎛, 보다 바람직하게는 3 ∼ 20 ㎛ 이다.Further, as the conductive particles, for example, metal particles such as gold particles, silver particles, nickel particles, and resin particles such as benzoguanamine resin and styrene resin are coated with a metal such as gold, nickel, or zinc. Resin particles and the like can be used. The average particle diameter of these conductive particles is 1 to 30 µm, more preferably 3 to 20 µm.

흑색 안료는, 탄소가 주원료가 아니면, 특별히 한정되는 것이 아니고, 산화 티탄 등의 티탄계 흑색 안료, 철의 산화물 (마그네타이트형 사산화삼철) 이나, 구리와 크롬의 복합 산화물, 구리, 크롬, 아연의 복합 산화물 등의 산화물계 흑색 안료 등을 사용할 수 있다.The black pigment is not particularly limited as long as carbon is not the main raw material, and titanium-based black pigments such as titanium oxide, oxides of iron (magnetite-type triiron tetroxide), composite oxides of copper and chromium, composites of copper, chromium, and zinc Oxide type black pigments, such as an oxide, etc. can be used.

티탄계 흑색 안료를 사용하는 경우, 평균 1 차 입경은 60 ㎚ 이상 800 ㎚ 이하인 것이 바람직하다. 또, 티탄계 흑색 안료는, 접착제 성분 100 질량부에 대해 2 ∼ 40 질량부 배합하는 것이 바람직하다. 이로써, 도통 저항, 필 강도 및 차광 특성이 우수한 접속 구조체를 얻을 수 있다.When using a titanium-based black pigment, it is preferable that the average primary particle size is 60 nm or more and 800 nm or less. In addition, it is preferable to blend 2 to 40 parts by mass of the titanium-based black pigment with respect to 100 parts by mass of the adhesive component. Thus, a bonded structure excellent in conduction resistance, peeling strength and light-shielding properties can be obtained.

또, 바인더에 대한 다른 첨가 조성물로서 실란 커플링제를 첨가하는 것이 바람직하다. 실란 커플링제로서는, 에폭시계, 아미노계, 메르캅토계, 술피드계, 우레이도계 등을 들 수 있다.Moreover, it is preferable to add a silane coupling agent as another additive composition to the binder. As a silane coupling agent, an epoxy type, an amino type, a mercapto type, a sulfide type, a ureido type, etc. are mentioned.

또한, 무기 기재에 대한 밀착성을 향상시키기 위해서, 인산아크릴레이트를 첨가하는 것이 바람직하다. 인산아크릴레이트로서는, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트와 인산의 반응 생성물인 경화성 인산 에스테르 화합물 등을 들 수 있다.Further, in order to improve the adhesion to the inorganic substrate, it is preferable to add phosphoric acid acrylate. Examples of phosphoric acid acrylate include curable phosphoric acid ester compounds that are reaction products of 2-hydroxyethyl methacrylate and phosphoric acid.

또, 무기 필러를 첨가시켜도 된다. 무기 필러로서는, 실리카, 탤크, 탄산칼슘, 산화마그네슘 등을 사용할 수 있고, 무기 필러의 종류는 특별히 한정되는 것은 아니다. 또한, 이들 바인더의 각 성분을 배합할 때에는, 톨루엔, 아세트산에틸 또는 이들의 혼합 용제가 바람직하게 사용된다.Moreover, you may add an inorganic filler. As an inorganic filler, silica, talc, calcium carbonate, magnesium oxide, etc. can be used, and the kind of inorganic filler is not specifically limited. Further, when blending the respective components of these binders, toluene, ethyl acetate or a mixed solvent thereof is preferably used.

이와 같은 구성으로 이루어지는 이방성 도전 접착제는, 탄소가 주원료가 아닌 흑색 안료가 배합되어 있기 때문에, 라디칼 반응을 저해시키지 않고 가식 인쇄부의 핀홀의 광 누설을 저감시켜, 가식 인쇄부의 외관이 손상되는 것을 방지할 수 있다.Since the anisotropic conductive adhesive having such a configuration is formulated with black pigment instead of carbon as the main raw material, it can reduce the light leakage from the pinhole of the decorative printed portion without inhibiting the radical reaction, thereby preventing the appearance of the decorative printed portion from being damaged. can

<3. 실시예><3. Example>

이하, 본 발명의 실시예에 대해 설명한다. 본 실시예에서는, 흑색 안료를 함유하는 라디칼 경화형의 이방성 도전 필름을 제조하고, 이방성 도전 필름의 투과율을 측정하였다. 또, 이방성 도전 필름을 사용하여 접속 구조체를 제조하고, 접속 구조체의 도통 저항, 필 강도 및 차광 특성에 대해 평가하였다. 또한, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described. In this example, a radical curable anisotropic conductive film containing a black pigment was prepared, and transmittance of the anisotropic conductive film was measured. Further, a bonded structure was prepared using the anisotropic conductive film, and conduction resistance, peeling strength, and light-shielding properties of the bonded structure were evaluated. In addition, this invention is not limited to these Examples.

이방성 도전 필름의 투과율 측정, 접속 구조체의 제조, 도통 저항의 측정, 필 강도의 측정 및 차광 특성의 평가는 다음과 같이 실시하였다.Measurement of the transmittance of the anisotropic conductive film, preparation of the connected structure, measurement of conduction resistance, measurement of peel strength, and evaluation of light-shielding properties were performed as follows.

[이방성 도전 필름의 투과율의 측정][Measurement of Transmittance of Anisotropic Conductive Film]

이방성 도전 접착 필름의 미경화 상태의 투과율에 대해, 분광 광도계 ((주) 시마즈 제작소 제조 UV-3600) 를 사용하여 측정하였다.The transmittance of the anisotropic conductive adhesive film in an uncured state was measured using a spectrophotometer (UV-3600 manufactured by Shimadzu Corporation).

[접속 구조체의 제조][Manufacture of connection structure]

도 2 는, 본 실시예에 있어서의 접속 구조체를 나타내는 사시 모델도이다. 두께 0.7 ㎜ 의 유리 표면에 흑색 잉크 (테이코쿠 잉크 제조사 제조 GLS-HF919) 를 5 ㎛ 두께로 코팅하고, 그 표면을 ITO (Indium Tin Oxide) 코트함으로써 유리/흑색 잉크층/ITO 가 되는 평가용 유리 기판 (51) 을 제작하였다. 또, 흑색 잉크층에는 1 ㎛ ∼ 6 ㎛ 의 크기로 1 ㎟ 당 150 ∼ 200 개가 되는 핀홀을 형성하였다. 평가용 유리 기판 (51) 은, 중간층에 흑색 잉크층을 갖는 것 이외에는, 공지된 평가용 ITO (Indium Tin Oxide) 코팅 유리 기판 (전체 표면 ITO 코트, 유리 두께 0.7 ㎜) 과 동일하다. 이 평가용 유리 기판 (51) 과, 평가용 FPC (400 ㎛P, Cu 18 ㎛t-Au 도금, 25 ㎛t-Espanex-S 기재) (52) 를, 이방성 도전 필름 (53) 을 사용하여 접합시켰다.Fig. 2 is a perspective model diagram showing a connection structure in the present embodiment. Glass for evaluation that becomes glass/black ink layer/ITO by coating the surface of glass having a thickness of 0.7 mm with black ink (GLS-HF919 manufactured by Teikoku Ink Co., Ltd.) to a thickness of 5 μm, and coating the surface with ITO (Indium Tin Oxide) A substrate 51 was produced. Further, in the black ink layer, 150 to 200 pinholes were formed per mm 2 with a size of 1 μm to 6 μm. The glass substrate 51 for evaluation is the same as the well-known ITO (Indium Tin Oxide) coated glass substrate for evaluation (the whole surface ITO coating, glass thickness of 0.7 mm) except having a black ink layer as an intermediate|middle layer. The glass substrate 51 for evaluation and the FPC (400 μmP, Cu 18 μmt-Au plating, 25 μmt-Espanex-S substrate) 52 for evaluation are bonded using an anisotropic conductive film 53 made it

1.5 ㎜ 폭으로 슬릿된 이방성 도전 필름 (53) 을, 평가용 유리 기판 (51) 에 첩부하고, 그 위에 FPC (52) 를 임시 고정시킨 후, 100 ㎛ 두께의 완충재 (폴리테트라플루오로에틸렌) 를 사용하여 1.5 ㎜ 폭의 히트 툴로 150 ℃―4 ㎫―10 sec 의 조건에서 접합시켜 접속 구조체를 제조하였다.An anisotropic conductive film 53 slit to a width of 1.5 mm was attached to a glass substrate 51 for evaluation, and the FPC 52 was temporarily fixed thereon, and then a buffer material (polytetrafluoroethylene) with a thickness of 100 μm was applied. Using a heat tool with a width of 1.5 mm, bonding was performed under conditions of 150°C - 4 MPa - 10 sec to prepare a bonded structure.

[도통 저항의 측정][Measurement of conduction resistance]

접속 구조체에 대해 초기 및 60 ℃/95 %/500 hr 의 고온 고습 시험 후에 대해 접속 저항을 측정하였다. 디지털 멀티미터 (품번:디지털 멀티미터 7555, 요코가와 전기사 제조) 를 사용하여 4 단자법으로 전류 1 mA 를 흘렸을 때의 접속 저항을 측정하였다.About the bonded structure, connection resistance was measured about the initial stage and after the high-temperature, high-humidity test of 60 degreeC/95%/500 hr. Connection resistance when a current of 1 mA was passed was measured by the 4-terminal method using a digital multimeter (product number: digital multimeter 7555, manufactured by Yokogawa Electric Co., Ltd.).

[필 강도의 측정][Measurement of Peel Strength]

접속 구조체에 대해 초기 및 60 ℃/95 %/500 hr 의 고온 고습 시험 후에 대해 필 강도를 측정하였다. 평가용 FPC (52) 를 평가용 유리 기판 (51) 에서부터 90°방향으로 박리시키는 90°박리 시험 (JIS K 6854-1) 을 실시하여 필 강도 (N/㎝) 를 측정하였다.Peel strength was measured for the bonded structure at an initial stage and after a high-temperature, high-humidity test at 60°C/95%/500 hr. The 90° peeling test (JIS K 6854-1) in which the FPC 52 for evaluation is peeled from the glass substrate 51 for evaluation in the 90° direction was conducted, and the peel strength (N/cm) was measured.

[차광 특성의 평가][Evaluation of light-shielding properties]

접속 구조체에 대해, 미리 핀홀이 형성된 평가용 유리 기판 (51) 측에서부터 조명을 쐬게 하여 평가용 FPC (52) 측에서부터 금속 현미경으로 관찰하고, 1 ㎟ 당 핀홀의 수가 10 미만인 경우를 「◎」, 1 ㎟ 당 핀홀의 수가 10 이상 50 미만인 경우를 「○」, 1 ㎟ 당 핀홀의 수가 50 이상인 경우를 「×」로 평가하였다.Regarding the bonded structure, irradiated with illumination from the side of the glass substrate 51 for evaluation on which pinholes were formed in advance, observed with a metallographic microscope from the side of the FPC 52 for evaluation, and the case where the number of pinholes per 1 mm was less than 10 was "◎", The case where the number of pinholes per 1 mm 2 was 10 or more and less than 50 was evaluated as “○”, and the case where the number of pinholes per 1 mm 2 was 50 or more was evaluated as “x”.

[토탈 판정][Total Judgment]

차광성의 평가가 「◎」인 경우이며 고온 고습 시험 후의 도통 저항이 5.0 Ω 미만인 경우를 「A」로 평가하였다. 또, 차광성의 평가가 「◎」인 경우이며 고온 고습 시험 후의 도통 저항이 5.0 Ω 이상 10.0 Ω 미만인 경우를 「B」로 평가하였다. 차광성의 평가가 「◎」인 경우이며 고온 고습 시험 후의 도통 저항이 10.0 Ω 이상인 경우를 「C」로 평가하였다. 또, 차광성의 평가가 「○」인 경우이며 고온 고습 시험 후의 도통 저항이 5.0 Ω 미만인 경우를 「B」로 평가하였다. 또, 차광성의 평가가 「○」인 경우이며 고온 고습 시험 후의 도통 저항이 5.0 Ω 이상인 경우를 「C」로 평가하였다. 또한, 차광성의 평가가 「×」인 경우를 「C」로 평가하였다.A case where the evaluation of the light shielding property was "◎" and the conduction resistance after the high temperature, high humidity test was less than 5.0 Ω was evaluated as "A". In addition, the case where evaluation of light-shielding property was "◎", and the case where the conduction resistance after a high-temperature, high-humidity test was 5.0 Ω or more and less than 10.0 Ω was evaluated as "B". A case where the light-shielding property was evaluated as "◎", and a case where the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 10.0 Ω or more was evaluated as "C". In addition, the case where evaluation of the light-shielding property was "○" and the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was less than 5.0 Ω was evaluated as "B". In addition, the case where evaluation of the light-shielding property was "○" and the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 5.0 Ω or more was evaluated as "C". In addition, the case where evaluation of light-shielding property was "x" was evaluated as "C".

[실시예 1][Example 1]

막형성 수지로서 폴리에스테르우레탄 수지 (품명:UR8200, 토요 방적 주식회사 제조, 메틸에틸케톤/톨루엔=50/50 의 혼합 용매로 20 질량% 로 용해시킨 것) 60 질량부, 라디칼 중합성 수지 (품명:EB-600, 다이셀ㆍ사이테크사 제조) 34 질량부, 실란 커플링제 (품명:KBM-503, 신에츠 화학사 제조) 1 질량부, 인산아크릴레이트 (품명:P-1M, 쿄에이 화학사 제조) 1 질량부 및 반응 개시제 (품명:퍼헥사 C, 닛폰 유지사 제조) 4 질량부를 배합한 접착제 중에 도전성 입자 (품명:AUL705, 세키스이 화학공업사 제조) 를 입자 밀도 5000 개/㎟ 가 되도록 분산시키고, 또한 평균 1 차 입경 60 ㎚ 의 티탄계 흑색 안료 (품명:12S, 미츠비시 마테리알사 제조) 를 12 질량부 분산시킴으로써, 두께 20 ㎛ 의 이방성 도전 필름을 제조하였다.As film forming resin, polyester urethane resin (product name: UR8200, manufactured by Toyobo Co., Ltd., dissolved at 20% by mass in a mixed solvent of methyl ethyl ketone/toluene = 50/50) 60 parts by mass, radically polymerizable resin (product name: EB-600, manufactured by Daicel Cytech Co., Ltd.) 34 parts by mass, silane coupling agent (product name: KBM-503, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 1 part by mass, phosphoric acid acrylate (product name: P-1M, manufactured by Kyoei Chemical Co., Ltd.) 1 Conductive particles (product name: AUL705, manufactured by Sekisui Chemical Industry Co., Ltd.) were dispersed to a particle density of 5000/mm2 in an adhesive containing 4 parts by mass of parts by mass and a reaction initiator (product name: Perhexa C, manufactured by Nippon Oil Co., Ltd.). An anisotropic conductive film having a thickness of 20 μm was prepared by dispersing 12 parts by mass of a titanium-based black pigment (product name: 12S, manufactured by Mitsubishi Material Co., Ltd.) having an average primary particle size of 60 nm.

실시예 1 의 이방성 도전 필름의 투과율은 13.4 % 였다. 또, 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 초기의 도통 저항은 2.2 Ω, 고온 고습 시험 후의 도통 저항은 7.0 Ω 였다. 또한, 초기의 필 강도는 6.0 N/㎝, 고온 고습 시험 후의 필 강도는 4.1 N/㎝ 였다. 또, 차광 특성의 평가는 ◎ 였다. 따라서, 토탈 판정은 B 였다. 표 1 에 이들의 결과를 나타낸다.The transmittance of the anisotropic conductive film of Example 1 was 13.4%. Further, the initial conduction resistance of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film was 2.2 Ω, and the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 7.0 Ω. Moreover, the initial peeling strength was 6.0 N/cm, and the peeling strength after a high-temperature, high-humidity test was 4.1 N/cm. Moreover, evaluation of the light-shielding property was (double-circle). Therefore, the total judgment was B. Table 1 shows these results.

[실시예 2][Example 2]

평균 1 차 입경 100 ㎚ 의 티탄계 흑색 안료 (품명:13M-C, 미츠비시 마테리알 제조) 를 12 질량부 분산시킨 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.An anisotropic conductive film was produced in the same manner as in Example 1, except that 12 parts by mass of titanium-based black pigment (product name: 13M-C, manufactured by Mitsubishi Material) having an average primary particle size of 100 nm was dispersed.

실시예 2 의 이방성 도전 필름의 투과율은 13.3 % 였다. 또, 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 초기의 도통 저항은 2.0 Ω, 고온 고습 시험 후의 도통 저항은 5.5 Ω 였다. 또한, 초기의 필 강도는 6.1 N/㎝, 고온 고습 시험 후의 필 강도는 4.0 N/㎝ 였다. 또한, 차광 특성의 평가는 ◎ 였다. 따라서, 토탈 판정은 B 였다. 표 1 에 이들의 결과를 나타낸다.The transmittance of the anisotropic conductive film of Example 2 was 13.3%. Further, the initial conduction resistance of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film was 2.0 Ω, and the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 5.5 Ω. Moreover, the initial peeling strength was 6.1 N/cm, and the peeling strength after a high-temperature, high-humidity test was 4.0 N/cm. In addition, evaluation of the light-shielding property was (double-circle). Therefore, the total judgment was B. Table 1 shows these results.

[실시예 3][Example 3]

평균 1 차 입경 800 ㎚ 의 티탄계 흑색 안료 (품명:Tilack D, 아코 카세이사 제조) 를 12 질량부 분산시킨 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.An anisotropic conductive film was manufactured in the same manner as in Example 1, except that 12 parts by mass of a titanium-based black pigment (trade name: Tilack D, manufactured by Ako Kasei) having an average primary particle size of 800 nm was dispersed.

실시예 3 의 이방성 도전 필름의 투과율은 13.8 % 였다. 또, 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 초기의 도통 저항은 1.8 Ω, 고온 고습 시험 후의 도통 저항은 3.2 Ω 였다. 또한, 초기의 필 강도는 6.0 N/㎝, 고온 고습 시험 후의 필 강도는 4.3 N/㎝ 였다.The transmittance of the anisotropic conductive film of Example 3 was 13.8%. Further, the initial conduction resistance of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film was 1.8 Ω, and the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 3.2 Ω. Moreover, the initial peeling strength was 6.0 N/cm, and the peeling strength after a high-temperature, high-humidity test was 4.3 N/cm.

또, 도 3 은, 실시예 3 의 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체에 대해, 미리 핀홀이 형성된 평가용 유리 기판측에서부터 조명을 쐬게 하여 평가용 FPC 측에서부터 금속 현미경으로 관찰한 사진이다. 핀홀은 관찰되지 않아, 차광 특성의 평가는 ◎ 였다. 따라서, 토탈 판정은 A 였다. 표 1 에 이들의 결과를 나타낸다.3 is a photograph of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film of Example 3, observed with a metallographic microscope from the side of the FPC for evaluation with illumination from the side of the glass substrate for evaluation in which pinholes were formed in advance. A pinhole was not observed, and the evaluation of the light-shielding property was ◎. Therefore, the total judgment was A. Table 1 shows these results.

[비교예 1][Comparative Example 1]

흑색 안료를 분산시키지 않은 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.An anisotropic conductive film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the black pigment was not dispersed.

비교예 1 의 이방성 도전 필름의 투과율은 84.6 % 였다. 또, 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 초기의 도통 저항은 1.8 Ω, 고온 고습 시험 후의 도통 저항은 3.0 Ω 였다. 또한, 초기의 필 강도는 5.8 N/㎝, 고온 고습 시험 후의 필 강도는 4.0 N/㎝ 였다.The transmittance of the anisotropic conductive film of Comparative Example 1 was 84.6%. Further, the initial conduction resistance of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film was 1.8 Ω, and the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 3.0 Ω. Moreover, the initial peeling strength was 5.8 N/cm, and the peeling strength after a high-temperature, high-humidity test was 4.0 N/cm.

또, 도 4 는 비교예 1 의 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체에 대해, 미리 핀홀이 형성된 평가용 유리 기판측에서부터 조명을 쐬게 하여 평가용 FPC 측에서부터 금속 현미경으로 관찰한 사진이다. 핀홀이 관찰되어, 차광 특성의 평가는 × 였다. 따라서, 토탈 판정은 C 였다. 표 1 에 이들의 결과를 나타낸다.4 is a photograph of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film of Comparative Example 1, observed with a metallographic microscope from the side of the FPC for evaluation with illumination from the side of the glass substrate for evaluation on which pinholes were formed in advance. A pinhole was observed, and the evaluation of the light-shielding property was x. Therefore, the total judgment was C. Table 1 shows these results.

[비교예 2][Comparative Example 2]

평균 1 차 입경 800 ㎚ 의 티탄계 흑색 안료 (품명:Tilack D, 아코 카세이사 제조) 를 1 질량부 분산시킨 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.An anisotropic conductive film was manufactured in the same manner as in Example 1, except that 1 part by mass of a titanium-based black pigment (product name: Tilack D, manufactured by Ako Kasei Co., Ltd.) having an average primary particle diameter of 800 nm was dispersed.

비교예 2 의 이방성 도전 필름의 투과율은 67.4 % 였다. 또, 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 초기의 도통 저항은 1.8 Ω, 고온 고습 시험 후의 도통 저항은 3.2 Ω 였다. 또한, 초기의 필 강도는 5.9 N/㎝, 고온 고습 시험 후의 필 강도는 4.0 N/㎝ 였다. 또, 차광 특성의 평가는 × 였다. 따라서, 토탈 판정은 C 였다. 표 1 에 이들의 결과를 나타낸다.The transmittance of the anisotropic conductive film of Comparative Example 2 was 67.4%. Further, the initial conduction resistance of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film was 1.8 Ω, and the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 3.2 Ω. Moreover, the initial peel strength was 5.9 N/cm, and the peel strength after a high-temperature, high-humidity test was 4.0 N/cm. Moreover, evaluation of the light-shielding property was x. Therefore, the total judgment was C. Table 1 shows these results.

[실시예 4][Example 4]

평균 1 차 입경 800 ㎚ 의 티탄계 흑색 안료 (품명:Tilack D, 아코 카세이사 제조) 를 2 질량부 분산시킨 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.An anisotropic conductive film was manufactured in the same manner as in Example 1, except that 2 parts by mass of a titanium-based black pigment (product name: Tilack D, manufactured by Ako Kasei Co., Ltd.) having an average primary particle size of 800 nm was dispersed.

실시예 4 의 이방성 도전 필름의 투과율은 50.3 % 였다. 또, 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 초기의 도통 저항은 1.8 Ω, 고온 고습 시험 후의 도통 저항은 3.0 Ω 였다. 또한, 초기의 필 강도는 6.0 N/㎝, 고온 고습 시험 후의 필 강도는 4.2 N/㎝ 였다. 또, 차광 특성의 평가는 ○ 였다. 따라서, 토탈 판정은 B 였다. 표 1 에 이들의 결과를 나타낸다.The transmittance of the anisotropic conductive film of Example 4 was 50.3%. Further, the initial conduction resistance of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film was 1.8 Ω, and the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 3.0 Ω. Moreover, the initial peeling strength was 6.0 N/cm, and the peeling strength after a high-temperature, high-humidity test was 4.2 N/cm. Moreover, evaluation of the light-shielding characteristic was (circle). Therefore, the total judgment was B. Table 1 shows these results.

[실시예 5][Example 5]

평균 1 차 입경 800 ㎚ 의 티탄계 흑색 안료 (품명:Tilack D, 아코 카세이사 제조) 를 5 질량부 분산시킨 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.An anisotropic conductive film was produced in the same manner as in Example 1, except that 5 parts by mass of a titanium-based black pigment (product name: Tilack D, manufactured by Ako Kasei) having an average primary particle diameter of 800 nm was dispersed.

실시예 5 의 이방성 도전 필름의 투과율은 17.9 % 였다. 또, 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 초기의 도통 저항은 1.8 Ω, 고온 고습 시험 후의 도통 저항은 3.1 Ω 였다. 또한, 초기의 필 강도는 6.1 N/㎝, 고온 고습 시험 후의 필 강도는 4.0 N/㎝ 였다. 또, 차광 특성의 평가는 ◎ 였다. 따라서, 토탈 판정은 A 였다. 표 1 에 이들의 결과를 나타낸다.The transmittance of the anisotropic conductive film of Example 5 was 17.9%. Further, the initial conduction resistance of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film was 1.8 Ω, and the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 3.1 Ω. Moreover, the initial peeling strength was 6.1 N/cm, and the peeling strength after a high-temperature, high-humidity test was 4.0 N/cm. Moreover, evaluation of the light-shielding property was (double-circle). Therefore, the total judgment was A. Table 1 shows these results.

[실시예 6][Example 6]

평균 1 차 입경 800 ㎚ 의 티탄계 흑색 안료 (품명:Tilack D, 아코 카세이사 제조) 를 36 질량부 분산시킨 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.An anisotropic conductive film was manufactured in the same manner as in Example 1 except that 36 parts by mass of a titanium-based black pigment (product name: Tilack D, manufactured by Ako Kasei) having an average primary particle size of 800 nm was dispersed.

실시예 6 의 이방성 도전 필름의 투과율은 11.2 % 였다. 또, 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 초기의 도통 저항은 2.3 Ω, 고온 고습 시험 후의 도통 저항은 7.9 Ω 였다. 또한, 초기의 필 강도는 6.3 N/㎝, 고온 고습 시험 후의 필 강도는 4.1 N/㎝ 였다. 또, 차광 특성의 평가는 ◎ 였다. 따라서, 토탈 판정은 B 였다. 표 1 에 이들의 결과를 나타낸다.The transmittance of the anisotropic conductive film of Example 6 was 11.2%. Further, the initial conduction resistance of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film was 2.3 Ω, and the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 7.9 Ω. Moreover, the initial peeling strength was 6.3 N/cm, and the peeling strength after a high temperature, high humidity test was 4.1 N/cm. Moreover, evaluation of the light-shielding property was (double-circle). Therefore, the total judgment was B. Table 1 shows these results.

[비교예 3][Comparative Example 3]

평균 1 차 입경 800 ㎚ 의 티탄계 흑색 안료 (품명:Tilack D, 아코 카세이사 제조) 를 48 질량부 분산시킨 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.An anisotropic conductive film was manufactured in the same manner as in Example 1 except that 48 parts by mass of a titanium-based black pigment (product name: Tilack D, manufactured by Ako Kasei) having an average primary particle size of 800 nm was dispersed.

비교예 3 의 이방성 도전 필름의 투과율은 10.7 % 였다. 또, 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 초기의 도통 저항은 2.5 Ω, 고온 고습 시험 후의 도통 저항은 11.3 Ω 였다. 또한, 초기의 필 강도는 6.5 N/㎝, 고온 고습 시험 후의 필 강도는 4.2 N/㎝ 였다. 또, 차광 특성의 평가는 ◎ 였다. 따라서, 토탈 판정은 C 였다. 표 1 에 이들의 결과를 나타낸다.The transmittance of the anisotropic conductive film of Comparative Example 3 was 10.7%. Further, the initial conduction resistance of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film was 2.5 Ω, and the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 11.3 Ω. Moreover, the initial peeling strength was 6.5 N/cm, and the peeling strength after a high-temperature, high-humidity test was 4.2 N/cm. Moreover, evaluation of the light-shielding property was (double-circle). Therefore, the total judgment was C. Table 1 shows these results.

[비교예 4][Comparative Example 4]

흑색 안료로서 평균 1 차 입경 15 ㎚ 의 카본 블랙 (품명:#2350, 미츠비시 화학 제조) 을 12 질량부 분산시킨 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.An anisotropic conductive film was produced in the same manner as in Example 1, except that 12 parts by mass of carbon black (product name: #2350, manufactured by Mitsubishi Chemical) having an average primary particle size of 15 nm was dispersed as a black pigment.

비교예 4 의 이방성 도전 필름의 투과율은 12.0 % 였다. 또, 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 초기의 도통 저항은 5.2 Ω, 고온 고습 시험 후의 도통 저항은 10.6 Ω 였다. 또한, 초기의 필 강도는 1.5 N/㎝, 고온 고습 시험 후의 필 강도는 0.5 N/㎝ 였다. 또, 차광 특성의 평가는 ◎ 였다. 따라서, 토탈 판정은 C 였다. 표 1 에 이들의 결과를 나타낸다.The transmittance of the anisotropic conductive film of Comparative Example 4 was 12.0%. Further, the initial conduction resistance of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film was 5.2 Ω, and the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 10.6 Ω. Moreover, the initial peeling strength was 1.5 N/cm, and the peeling strength after a high-temperature, high-humidity test was 0.5 N/cm. Moreover, evaluation of the light-shielding property was (double-circle). Therefore, the total judgment was C. Table 1 shows these results.

Figure 112021079600694-pat00001
Figure 112021079600694-pat00001

표 1 에 나타내는 바와 같이, 흑색 안료를 적당량 배합함으로써, 핀홀로부터의 광 누설을 방지하는 수복 기능을 부여 할 수 있고, 또한 가식부의 의장성을 유지할 수 있음을 알 수 있었다. 실시예 1 ∼ 6 에 나타내는 바와 같이, 티탄계 흑색 안료를 사용하는 경우, 평균 1 차 입경이 60 ㎚ 이상 800 ㎚ 이하인 것을, 접착제 성분 100 질량부에 대해 2 ∼ 40 질량부 배합함으로써, 도통 저항, 필 강도 및 차광 특성이 우수한 접속 구조체가 얻어지는 것을 알 수 있었다. 또한, 비교예 4 에 나타내는 바와 같이, 카본 블랙은, 라디칼 보충성을 가지며, 경화 저해의 요인이 되기 때문에, 라디칼 경화형의 이방성 도전 필름의 경우, 카본 블랙 이외의 흑색 안료를 사용할 필요가 있다.As shown in Table 1, it was found that by blending an appropriate amount of black pigment, a repair function for preventing light leakage from a pinhole could be imparted, and the design of the decorative portion could be maintained. As shown in Examples 1 to 6, in the case of using a titanium-based black pigment, by blending 2 to 40 parts by mass of an average primary particle size of 60 nm or more and 800 nm or less with respect to 100 parts by mass of the adhesive component, conduction resistance, It was found that a bonded structure excellent in peeling strength and light-shielding properties was obtained. In addition, as shown in Comparative Example 4, since carbon black has radical replenishment properties and becomes a factor of curing inhibition, in the case of a radical curable anisotropic conductive film, it is necessary to use a black pigment other than carbon black.

10 : 제 1 전자 부품
11 : 투명 기판
12 : 가식층
13 : 전극
20 : 제 2 전자 부품
21 : 기판
22 ; 전극
30 : 이방성 도전막
51 : 유리 기판
52 : FPC
53 : 이방성 도전 필름
10: first electronic component
11: transparent substrate
12: decorative layer
13: electrode
20: second electronic component
21: Substrate
22; electrode
30: anisotropic conductive film
51: glass substrate
52: FPC
53: anisotropic conductive film

Claims (13)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 가식층 상에 전극이 형성된 제 1 전자 부품의 전극 상에, 도전성 입자와, 탄소를 포함하지 않는 흑색 안료를 함유하는 이방성 도전 필름을 개재하여 제 2 전자 부품을 배치하고,
상기 제 2 전자 부품의 상면에서부터 압착 헤드로 가압하고,
상기 이방성 도전 필름이, 막형성 수지와, 라디칼 중합성 수지와, 라디칼 중합 개시제와, 도전성 입자와, 탄소를 포함하지 않는 흑색 안료를 함유하고, 두께를 20 ㎛ 로 했을 때에 가시광에 대해 11.2 % 이상 17.9 % 이하의 투과율을 갖고,
당해 이방성 도전 필름을 사용하여, 직경이 1 ㎛ ∼ 6 ㎛ 인 핀홀을 형성한 가식층 상에 전극이 형성된 제 1 전자 부품과, 제 2 전자 부품을 접속한 경우, 조명광을 투과하는 핀홀의 수가 1 ㎟ 당 50 미만인, 접속 구조체의 제조 방법.
A second electronic component is disposed on an electrode of a first electronic component having an electrode formed on the decorative layer through an anisotropic conductive film containing conductive particles and a black pigment that does not contain carbon;
Pressing with a crimping head from the upper surface of the second electronic component,
The anisotropic conductive film contains a film forming resin, a radical polymerizable resin, a radical polymerization initiator, conductive particles, and a black pigment that does not contain carbon, and when the thickness is 20 μm, 11.2% or more with respect to visible light has a transmittance of 17.9% or less;
When the anisotropic conductive film is used and the first electronic component and the second electronic component in which electrodes are formed are connected on a decorative layer in which pinholes having a diameter of 1 μm to 6 μm are formed, the number of pinholes through which illumination light is transmitted is 1 The manufacturing method of the bonded structure which is less than 50 per mm<2>.
가식층 상에 전극이 형성된 제 1 전자 부품과,
상기 제 1 전자 부품의 전극과 대향하는 전극이 형성된 제 2 전자 부품과,
상기 제 1 전자 부품의 전극과 상기 제 2 전자 부품의 전극을 접속시키는 이방성 도전막을 구비하고,
상기 이방성 도전막이, 막형성 수지와, 라디칼 중합성 수지와, 라디칼 중합 개시제와, 도전성 입자와, 탄소를 포함하지 않는 흑색 안료를 함유하고, 두께를 20 ㎛ 로 했을 때에 가시광에 대해 11.2 % 이상 17.9 % 이하의 투과율을 갖는 이방성 도전 필름으로서, 당해 이방성 도전 필름을 사용하여, 직경이 1 ㎛ ~ 6 ㎛ 인 핀홀을 형성한 가식층 상에 전극이 형성된 제 1 전자 부품과, 제 2 전자 부품을 접속한 경우, 조명광을 투과하는 핀홀의 수가 1 ㎟ 당 50 미만인 이방성 도전 필름의 경화물로 이루어지는, 접속 구조체.
a first electronic component having electrodes formed on the decorative layer;
a second electronic component having an electrode facing the electrode of the first electronic component;
an anisotropic conductive film connecting an electrode of the first electronic component and an electrode of the second electronic component;
The anisotropic conductive film contains a film-forming resin, a radical polymerizable resin, a radical polymerization initiator, conductive particles, and a carbon-free black pigment, and when the thickness is 20 μm, 11.2% or more with respect to visible light 17.9 An anisotropic conductive film having a transmittance of 1% or less, wherein the anisotropic conductive film is used to connect a first electronic component and a second electronic component in which electrodes are formed on a decorative layer in which pinholes having a diameter of 1 μm to 6 μm are formed. In one case, a connection structure made of a cured product of an anisotropic conductive film in which the number of pinholes through which illumination light is transmitted is less than 50 per 1 mm 2 .
제 10 항에 있어서,
상기 이방성 도전막이, 라디칼 중합형의 이방성 도전 접착제의 경화물이고,
상기 흑색 안료가, 탄소를 포함하지 않는, 접속 구조체.
According to claim 10,
The anisotropic conductive film is a cured product of a radical polymerization type anisotropic conductive adhesive,
A connected structure in which the black pigment does not contain carbon.
제 10 항에 있어서,
상기 흑색 안료가, 티탄계 흑색 안료인, 접속 구조체.
According to claim 10,
A bonded structure in which the black pigment is a titanium-based black pigment.
터치 패널 기능을 갖는 표시창부와, 상기 표시창부 이외의 주연부에 형성된 가식층과, 상기 가식층 상에 전극이 형성된 제 1 전자 부품과,
상기 제 1 전자 부품의 전극과 대향하는 전극이 형성된 제 2 전자 부품과,
상기 제 1 전자 부품의 전극과 상기 제 2 전자 부품의 전극을 접속시키는 이방성 도전막을 구비하고, 상기 이방성 도전막이, 막형성 수지와, 라디칼 중합성 수지와, 라디칼 중합 개시제와, 도전성 입자와, 탄소를 포함하지 않는 흑색 안료를 함유하고, 두께를 20 ㎛ 로 했을 때에 가시광에 대해 11.2 % 이상 17.9 % 이하의 투과율을 갖는 이방성 도전 필름으로서, 당해 이방성 도전 필름을 사용하여, 직경이 1 ㎛ ~ 6 ㎛ 인 핀홀을 형성한 가식층 상에 전극이 형성된 제 1 전자 부품과, 제 2 전자 부품을 접속한 경우, 조명광을 투과하는 핀홀의 수가 1 ㎟ 당 50 미만인 이방성 도전 필름의 경화물로 이루어지는, 터치 패널.
A display window having a touch panel function, a decorative layer formed on a periphery other than the display window, and a first electronic component on which electrodes are formed on the decorative layer;
a second electronic component having an electrode facing the electrode of the first electronic component;
An anisotropic conductive film connecting an electrode of the first electronic component and an electrode of the second electronic component, wherein the anisotropic conductive film comprises a film forming resin, a radical polymerizable resin, a radical polymerization initiator, conductive particles, and carbon. An anisotropic conductive film that contains a black pigment that does not contain and has a visible light transmittance of 11.2% or more and 17.9% or less when the thickness is 20 μm, wherein the anisotropic conductive film is used and has a diameter of 1 μm to 6 μm A touch panel made of a cured product of an anisotropic conductive film in which the number of pinholes through which illumination light is transmitted is less than 50 per 1 mm 2 when a first electronic component in which an electrode is formed on a decorative layer having a phosphorus pinhole and a second electronic component are connected. .
KR1020210090511A 2013-09-12 2021-07-09 Connection structure, and anisotropic conductive adhesive KR102469837B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220155328A KR102653068B1 (en) 2013-09-12 2022-11-18 Connection structure, and anisotropic conductive adhesive

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013189044A JP6238655B2 (en) 2013-09-12 2013-09-12 Connection structure and anisotropic conductive adhesive
JPJP-P-2013-189044 2013-09-12
KR20140119985A KR20150030621A (en) 2013-09-12 2014-09-11 Connection structure, and anisotropic conductive adhesive

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR20140119985A Division KR20150030621A (en) 2013-09-12 2014-09-11 Connection structure, and anisotropic conductive adhesive

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020220155328A Division KR102653068B1 (en) 2013-09-12 2022-11-18 Connection structure, and anisotropic conductive adhesive

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20210090587A KR20210090587A (en) 2021-07-20
KR102469837B1 true KR102469837B1 (en) 2022-11-22

Family

ID=52820557

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR20140119985A KR20150030621A (en) 2013-09-12 2014-09-11 Connection structure, and anisotropic conductive adhesive
KR1020210090511A KR102469837B1 (en) 2013-09-12 2021-07-09 Connection structure, and anisotropic conductive adhesive
KR1020220155328A KR102653068B1 (en) 2013-09-12 2022-11-18 Connection structure, and anisotropic conductive adhesive

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR20140119985A KR20150030621A (en) 2013-09-12 2014-09-11 Connection structure, and anisotropic conductive adhesive

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020220155328A KR102653068B1 (en) 2013-09-12 2022-11-18 Connection structure, and anisotropic conductive adhesive

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6238655B2 (en)
KR (3) KR20150030621A (en)
CN (2) CN112080243B (en)
HK (1) HK1206457A1 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6346877B2 (en) * 2015-06-25 2018-06-20 株式会社タムラ製作所 Anisotropic conductive adhesive and method for producing printed wiring board using the same
JP5974147B1 (en) 2015-07-31 2016-08-23 株式会社フジクラ Wiring assembly, structure with conductor layer, and touch sensor
CN109614017B (en) * 2018-11-27 2021-07-06 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Touch panel and display device
CN112768590A (en) * 2020-12-30 2021-05-07 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 Preparation method of display panel and display panel

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001126541A (en) * 1999-10-28 2001-05-11 Sumitomo Bakelite Co Ltd Anisotropic-conductive film and electric/electronic parts

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1250663C (en) * 2001-06-25 2006-04-12 泰勒弗氏股份有限公司 Anisotropic conductive adhesives having enhanced viscosity and bondng methods and integrated circuit packages using same
JP3886401B2 (en) * 2002-03-25 2007-02-28 ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 Method for manufacturing connection structure
JP5029372B2 (en) 2007-09-14 2012-09-19 日立化成工業株式会社 Anisotropic conductive adhesive, anisotropic conductive film, and method for manufacturing circuit connection structure
KR101025620B1 (en) * 2009-07-13 2011-03-30 한국과학기술원 Anisotropic Conductive Adhesives for UltraSonic Bonding and Electrical Interconnection Method of Electronic Components Using Thereof
JP2012088412A (en) * 2010-10-18 2012-05-10 Sekisui Chem Co Ltd Light-shielding sealing agent for liquid crystal display element, vertical conducting material and liquid crystal display element
JP5690637B2 (en) * 2011-04-12 2015-03-25 デクセリアルズ株式会社 Anisotropic conductive film, connection method and connection structure
JP5844599B2 (en) * 2011-10-12 2016-01-20 デクセリアルズ株式会社 CONNECTION DEVICE, CONNECTION MANUFACTURING METHOD, CONNECTION METHOD
JP5886588B2 (en) * 2011-10-18 2016-03-16 デクセリアルズ株式会社 Conductive adhesive, solar cell module using the same, and manufacturing method thereof
JP5133449B1 (en) * 2011-11-04 2013-01-30 Smk株式会社 Transparent touch panel
KR101355854B1 (en) * 2011-12-16 2014-01-29 제일모직주식회사 Anisotropic conductive film

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001126541A (en) * 1999-10-28 2001-05-11 Sumitomo Bakelite Co Ltd Anisotropic-conductive film and electric/electronic parts

Also Published As

Publication number Publication date
CN112080243A (en) 2020-12-15
HK1206457A1 (en) 2016-01-08
CN112080243B (en) 2023-01-17
CN104461117A (en) 2015-03-25
KR20210090587A (en) 2021-07-20
KR20220159332A (en) 2022-12-02
JP6238655B2 (en) 2017-11-29
CN104461117B (en) 2020-09-08
KR102653068B1 (en) 2024-03-29
KR20150030621A (en) 2015-03-20
JP2015056285A (en) 2015-03-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102469837B1 (en) Connection structure, and anisotropic conductive adhesive
CN101226450B (en) Transparent conductive film, method for production thereof and touch panel therewith
TWI485592B (en) Electrode staking body of transparent touch panel
KR20140064842A (en) Optically clear conductive adhesive and articles therefrom
CN102079959A (en) High-heat-conductivity white adhesive composition, high-heat-conductivity white cover film made from same and preparation method thereof
CN103425316B (en) Full-plane touch screen panel with single substrate
KR101344965B1 (en) Anisotropic conductive film, united object, and process for producing united object
CN113557279B (en) Multilayer film and laminate comprising same
WO2018066214A1 (en) Capacitance sensor
JP5408838B2 (en) Display board
JP2017126003A (en) Decorative member, display device, and method for manufacturing organic electroluminescence display device
CN113557278B (en) Multilayer film and laminate comprising same
CN110305606A (en) Light-proofness two sides adhesion component propylene class adhesive composition, light-proofness two sides adhesion component and image display device
CN105528107B (en) The excellent electrically conducting transparent optical sheet of pattern stealth
CN105493008A (en) Capacitive touch panel
JP3159661U (en) Coverlay film used for printed circuit boards
JP2017128004A (en) Decorative member, display device, and method for manufacturing organic electroluminescence display device
CN219285704U (en) Improved touch panel black frame structure
JP2021192960A (en) Molded film and its manufacturing method, and molded body and its manufacturing method
KR102187823B1 (en) Touch window
CN212864641U (en) High-temperature-resistant adhesive tape for high-temperature environment
TWM496163U (en) Single-layer multi-point sensing circuit structure
JP2024049076A (en) Display device and method for manufacturing the same, connection film and method for manufacturing the same
JP2021196766A (en) Conductive ink, and touch panel using the same
KR20140041163A (en) Light-proof film for decorating electronic device and electronic device comprising the same

Legal Events

Date Code Title Description
A107 Divisional application of patent
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant