KR102653068B1 - Connection structure, and anisotropic conductive adhesive - Google Patents

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데쿠세리아루즈 가부시키가이샤
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Abstract

(과제)
가식 인쇄부에 핀홀 등의 결함이 발생한 경우에도, 가식 인쇄부의 외관이 손상되는 것을 방지할 수 있는 접속 구조체 및 이방성 도전 접착제를 제공한다.
(해결 수단)
접속 구조체에 있어서, 가식층 (12) 상에 전극 (13) 이 형성된 제 1 전자 부품 (10) 과, 제 1 전자 부품 (10) 의 전극 (13) 과 대향하는 전극 (22) 이 형성된 제 2 전자 부품 (20) 과, 제 1 전자 부품 (10) 의 전극 (13) 과 제 2 전자 부품 (20) 의 전극 (22) 을 접속시키는 이방성 도전막 (30) 을 구비하고, 이방성 도전막 (30) 이, 도전성 입자 (31) 와 흑색 안료 (32) 를 함유하는 이방성 도전 접착제의 경화물로 이루어진다. 이로써, 가식 인쇄부의 핀홀의 광 누설을 저감시켜, 가식 인쇄부의 의장성을 유지할 수 있다.
(assignment)
Provided is a connection structure and an anisotropic conductive adhesive that can prevent the appearance of a decorated printed portion from being damaged even when a defect such as a pinhole occurs in the decorated printed portion.
(Solution)
In the connection structure, a first electronic component (10) in which an electrode (13) is formed on a decorative layer (12), and a second electronic component (10) in which an electrode (22) opposing the electrode (13) of the first electronic component (10) is formed. An electronic component (20) is provided with an anisotropic conductive film (30) connecting the electrode (13) of the first electronic component (10) and the electrode (22) of the second electronic component (20). ) This consists of a cured product of an anisotropic conductive adhesive containing conductive particles (31) and black pigment (32). As a result, light leakage from the pinhole of the decorative printing part can be reduced, and the design of the decorative printing part can be maintained.

Description

접속 구조체 및 이방성 도전 접착제{CONNECTION STRUCTURE, AND ANISOTROPIC CONDUCTIVE ADHESIVE}Connection structure and anisotropic conductive adhesive {CONNECTION STRUCTURE, AND ANISOTROPIC CONDUCTIVE ADHESIVE}

본 발명은, 이방성 도전 접착제를 사용하여 전자 부품을 접속시킨 접속 구조체 및 이방성 도전 접착제에 관한 것이다.The present invention relates to a connection structure in which electronic components are connected using an anisotropic conductive adhesive and an anisotropic conductive adhesive.

최근, 설계 자유도를 향상시키기 위해, 예를 들어, 커버 유리 일체형 터치 패널에 있어서, 외주부에 프레임상으로 가식 인쇄된 가식층 상에 전극을 형성하고, 가식층 상에서 회로 부재와 접합하는 것이 제안되어 있다.Recently, in order to improve design freedom, for example, in a cover glass integrated touch panel, it has been proposed to form electrodes on a decorative layer printed in a frame shape on the outer periphery and to bond them to a circuit member on the decorative layer. .

그러나, 가식 인쇄부에 핀홀 등의 결함이 발생한 경우, 백라이트의 조사광에 의해 광 누설 등이 발생하여 외관이 손상된다. 또, 검사에 의해 가식 인쇄부에 핀홀을 찾아내도, 이미 가식층 상에 배선이 형성되어 있기 때문에 수복은 곤란하다.However, if a defect such as a pinhole occurs in the decorative printing unit, light leakage occurs due to irradiated light from the backlight, and the appearance is damaged. Additionally, even if a pinhole is found in the decoration printed portion through inspection, it is difficult to repair because the wiring has already been formed on the decoration layer.

일본 공개특허공보 2009-088465호Japanese Patent Publication No. 2009-088465

본 발명은, 이와 같은 종래의 실정을 감안하여 제안된 것으로, 가식 인쇄부에 핀홀 등의 결함이 발생한 경우에도, 가식 인쇄부의 외관이 손상되는 것을 방지할 수 있는 접속 구조체 및 이방성 도전 접착제를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention was proposed in consideration of such conventional circumstances, and provides a connection structure and an anisotropic conductive adhesive that can prevent the appearance of the decorative printing part from being damaged even when defects such as pinholes occur in the decorative printing part. The purpose is to

전술한 과제를 해결하기 위해서, 본 발명에 관련된 접속 구조체는, 가식층 상에 전극이 형성된 제 1 전자 부품과, 상기 제 1 전자 부품의 전극과 대향하는 전극이 형성된 제 2 전자 부품과, 상기 제 1 전자 부품의 전극과 상기 제 2 전자 부품의 전극을 접속시키는 이방성 도전막을 구비하고, 상기 이방성 도전막이, 도전성 입자와, 흑색 안료를 함유하는 이방성 도전 접착제의 경화물로 이루어지는 것을 특징으로 한다.In order to solve the above-described problem, the connection structure according to the present invention includes a first electronic component in which an electrode is formed on a decorative layer, a second electronic component in which an electrode opposing the electrode of the first electronic component is formed, and the first electronic component. An anisotropic conductive film is provided that connects an electrode of one electronic component to an electrode of a second electronic component, and the anisotropic conductive film is made of a cured product of an anisotropic conductive adhesive containing conductive particles and a black pigment.

또, 본 발명에 관련된 터치 패널은, 터치 패널 기능을 갖는 표시창부와, 상기 표시창부 이외의 주연부에 형성된 가식층과, 상기 가식층 상에 전극이 형성된 제 1 전자 부품과, 상기 제 1 전자 부품의 전극과 대향하는 전극이 형성된 제 2 전자 부품과, 상기 제 1 전자 부품의 전극과 상기 제 2 전자 부품의 전극을 접속시키는 이방성 도전막을 구비하고, 상기 이방성 도전막이, 도전성 입자와, 흑색 안료를 함유하는 이방성 도전 접착제의 경화물로 이루어지는 것을 특징으로 한다.In addition, the touch panel according to the present invention includes a display window portion having a touch panel function, a decorative layer formed on a peripheral portion other than the display window portion, a first electronic component in which an electrode is formed on the decorative layer, and the first electronic component a second electronic component having an electrode opposing the electrode of It is characterized by being made of a cured product of an anisotropic conductive adhesive containing.

또한, 본 발명에 관련된 이방성 도전 접착제는, 막형성 수지와, 라디칼 중합성 수지와, 라디칼 중합 개시제와, 도전성 입자와, 탄소가 주원료가 아닌 흑색 안료를 함유하는 것을 특징으로 한다.Additionally, the anisotropic conductive adhesive according to the present invention is characterized by containing a film-forming resin, a radical polymerizable resin, a radical polymerization initiator, conductive particles, and a black pigment whose main raw material is not carbon.

또, 본 발명에 관련된 접속 구조체의 제조 방법은, 가식층 상에 전극이 형성된 제 1 전자 부품의 전극 상에, 도전성 입자와 흑색 안료를 함유하는 이방성 도전 필름을 임시로 붙이고, 상기 이방성 도전 필름 상에 제 2 전자 부품을 배치하고, 상기 제 2 전자 부품의 상면에서부터 압착 헤드로 가압하는 것을 특징으로 한다.In addition, the method for manufacturing a bonded structure according to the present invention includes temporarily attaching an anisotropic conductive film containing conductive particles and a black pigment to the electrode of a first electronic component in which an electrode is formed on a decorative layer, and forming the anisotropic conductive film on the anisotropic conductive film. A second electronic component is placed on the second electronic component, and the second electronic component is pressed with a compression head from the upper surface.

본 발명에 따르면, 이방성 도전막의 흑색 안료가 가식 인쇄부에 있어서의 광 누설을 저감시키기 때문에, 가식 인쇄부의 외관이 손상되는 것을 방지할 수 있다.According to the present invention, since the black pigment of the anisotropic conductive film reduces light leakage in the decorative printing portion, the appearance of the decorative printing portion can be prevented from being damaged.

도 1 은 본 발명을 적용한 접속 구조체를 나타내는 단면도이다.
도 2 는 접속 구조체의 일례를 나타내는 사시도이다.
도 3 은 실시예 3 의 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체에 대해, 평가용 유리 기판측에서부터 조명을 쐬게 하여 평가용 FPC 측에서부터 금속 현미경으로 관찰한 사진이다.
도 4 는 비교예 1 의 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체에 대해, 평가용 유리 기판측에서부터 조명을 쐬게 하여 평가용 FPC 측에서부터 금속 현미경으로 관찰한 사진이다.
1 is a cross-sectional view showing a connection structure to which the present invention is applied.
Figure 2 is a perspective view showing an example of a connection structure.
Figure 3 is a photograph of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film of Example 3, illuminated from the glass substrate side for evaluation, and observed with a metallographic microscope from the FPC side for evaluation.
Figure 4 is a photograph of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film of Comparative Example 1, illuminated from the glass substrate side for evaluation, and observed with a metallographic microscope from the FPC side for evaluation.

이하, 본 발명의 실시 형태에 대해 도면을 참조하면서 하기 순서로 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail in the following order with reference to the drawings.

1. 접속 구조체1. Connection structure

2. 이방성 도전 접착제2. Anisotropic conductive adhesive

3. 실시예3. Example

<1. 접속 구조체><1. Connection structure>

도 1 은, 본 발명을 적용한 접속 구조체를 나타내는 단면도이다. 도 1 에 나타내는 바와 같이, 접속 구조체는, 가식층 (12) 상에 전극 (13) 이 형성된 제 1 전자 부품 (10) 과, 제 1 전자 부품 (10) 의 전극 (13) 과 대향하는 전극 (22) 이 형성된 제 2 전자 부품 (20) 과, 제 1 전자 부품 (10) 의 전극 (13) 과 제 2 전자 부품 (20) 의 전극 (22) 을 접속시키는 이방성 도전막 (30) 을 구비한다. 또, 이방성 도전막 (30) 은, 도전성 입자 (31) 와, 흑색 안료 (32) 를 함유하는 이방성 도전 접착제의 경화물로 이루어진다. 이로써, 가식 인쇄부에 핀홀 등의 결함이 발생한 경우에도, 이방성 도전막 (30) 의 흑색 안료 (32) 가 가식 인쇄부에 있어서의 광 누설을 저감시켜, 가식 인쇄부의 외관이 손상되는 것을 방지할 수 있다.1 is a cross-sectional view showing a bonded structure to which the present invention is applied. As shown in FIG. 1, the connection structure includes a first electronic component 10 in which an electrode 13 is formed on a decorative layer 12, and an electrode opposing the electrode 13 of the first electronic component 10 ( 22) is provided with the formed second electronic component 20 and an anisotropic conductive film 30 that connects the electrode 13 of the first electronic component 10 and the electrode 22 of the second electronic component 20. . In addition, the anisotropic conductive film 30 is made of a cured product of an anisotropic conductive adhesive containing conductive particles 31 and black pigment 32. Accordingly, even when defects such as pinholes occur in the decorative printing section, the black pigment 32 of the anisotropic conductive film 30 reduces light leakage in the decorative printing section, preventing the appearance of the decorative printing section from being damaged. You can.

제 1 전자 부품 (10) 은, 투명 기판 (11) 과, 투명 기판 상에 가식 인쇄된 가식층 (12) 과, 가식층 (12) 상에 형성된 전극 (13) 을 구비한다.The first electronic component 10 includes a transparent substrate 11, a decorative layer 12 decoratively printed on the transparent substrate, and an electrode 13 formed on the decorative layer 12.

투명 기판 (11) 으로는, 예를 들어, 가시광에 대해 80 % 이상의 투과율을 갖는 것을 사용할 수 있고, 바람직하게는 95 % 이상의 투과율을 갖는 것을 사용할 수 있다. 일반적으로 액정 표시 장치에 사용되는 유리 등의 무기 투명 기판, 또는 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 고리형 올레핀코폴리머 등의 투명 수지 기판을 사용할 수 있다.As the transparent substrate 11, for example, one having a transmittance of 80% or more to visible light can be used, and one having a transmittance of 95% or more can be preferably used. Inorganic transparent substrates such as glass, which are generally used in liquid crystal display devices, or transparent resin substrates such as polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, and cyclic olefin copolymer can be used.

가식층 (12) 은, 착색 수지 조성물의 경화물에 의해 형성되어 이루어진다. 착색 수지 조성물은, 예를 들어, 모노머, 광 중합 개시제, 증감제, 용제 등을 함유하는 수지 바인더에 착색제를 분산시켜 조제된다. 착색제는, 가식층 (12) 을 원하는 색으로 착색하는 것으로, 안료나 염료를 이용할 수 있다. 안료로서는, 유기 안료 또는 무기 안료 중 어느 것이어도 되고, 또한 그 배합량은 특별히 한정되는 것은 아니다. 가식층 (12) 의 색으로는, 디자인성과 생산성의 관점에서, 차광성이 있는 흑색이 바람직하게 사용된다. 디자인성을 중시하는 경우, 금속층이 형성되어 있는 경우도 있지만, 이 경우에도 코트재 등으로 수지층이 최표면에 형성되는 경우가 많아, 접착면의 재질로는 크게는 다르지 않게 된다.The decorative layer 12 is formed from a cured product of a colored resin composition. The colored resin composition is prepared by dispersing a coloring agent in a resin binder containing, for example, a monomer, a photopolymerization initiator, a sensitizer, a solvent, etc. As the colorant, a pigment or dye can be used to color the decorative layer 12 in a desired color. The pigment may be either an organic pigment or an inorganic pigment, and its blending amount is not particularly limited. As the color of the decorative layer 12, black, which has light-shielding properties, is preferably used from the viewpoint of design and productivity. In cases where design is emphasized, a metal layer may be formed, but even in this case, a resin layer is often formed on the outermost surface using a coating material or the like, and the material of the adhesive surface does not differ significantly.

이와 같은 제 1 전자 부품 (10) 으로서, 예를 들어, 커버 유리 일체형 터치 패널을 들 수 있다. 커버 유리 일체형 터치 패널은, 터치 위치를 감지하기 위한 신호 라인이 형성된 터치 패널 기능을 갖는 표시창부와, 투명 기판 (11) 의 시인측과는 반대인 면에 형성되고, 표시창부 이외의 주연부에 형성된 가식층 (12) 을 갖는다. 표시창부는, 예를 들어, 정전 용량식의 터치 패널층으로서 ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), SiNx (실리콘질화) 등의 투명 전극이 형성된다. 상기 커버 유리는 유리 대체 재료로 치환되어도, 발명의 본질에는 관계하지 않기 때문에 특별히 문제 없다.Examples of such a first electronic component 10 include a touch panel integrated with a cover glass. The cover glass-integrated touch panel is formed on a surface opposite to the viewing side of the transparent substrate 11, a display window portion having a touch panel function in which a signal line for detecting the touch position is formed, and a peripheral portion other than the display window portion. It has a decorative layer (12). The display window portion, for example, is a capacitive touch panel layer in which transparent electrodes such as ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), or SiNx (Silicon Nitride) are formed. Even if the cover glass is replaced with a glass substitute material, there is no particular problem because it does not affect the essence of the invention.

제 2 전자 부품 (20) 은, 기판 (21) 과, 기판 (21) 상에 형성된 전극 (22) 을 구비한다. 이러한 제 2 전자 부품으로는, FPC (Flexible Printed Circuits), IC (Integrated Circuit) 등을 들 수 있다.The second electronic component 20 includes a substrate 21 and an electrode 22 formed on the substrate 21. Examples of such second electronic components include Flexible Printed Circuits (FPC), Integrated Circuits (IC), and the like.

이방성 도전막 (30) 은, 도전성 입자 (31) 과, 흑색 안료 (32) 를 함유하는 이방성 도전 접착제의 경화물로 이루어지고, 도전성 입자 (31) 에 의해 제 1 전자 부품 (10) 과 제 2 전자 부품 (20) 을 전기적으로 접속시킨다.The anisotropic conductive film 30 is made of a cured product of an anisotropic conductive adhesive containing conductive particles 31 and a black pigment 32, and is connected to the first electronic component 10 and the second electronic component by the conductive particles 31. The electronic components 20 are electrically connected.

이방성 도전 접착제로서는, 라디칼 중합형, 아니온 중합형, 카티온 중합형 등 중 어느 것을 사용해도 되지만, 보다 저온 경화가 가능하고, 가식층 (12) 에 대한 열 데미지가 적은 라디칼 중합형이 바람직하다.As the anisotropic conductive adhesive, any of radical polymerization type, anionic polymerization type, cation polymerization type, etc. may be used, but the radical polymerization type is preferable as it enables lower temperature curing and causes less heat damage to the decorative layer 12. .

라디칼 중합형의 이방성 도전 접착제는, 막형성 수지와, 라디칼 중합성 수지와, 라디칼 중합 개시제와, 도전성 입자와, 흑색 안료를 함유한다. 여기서, 흑색 안료로서 일반적으로 사용되는 카본 블랙은, 라디칼 보완성을 갖고, 경화 저해의 요인이 되기 때문에, 라디칼 중합형의 이방성 도전 접착제에는 탄소가 주원료가 아닌 흑색 안료가 사용된다. 탄소가 주원료가 아닌 흑색 안료로서는, 티탄계 흑색 안료를 들 수 있다.The radical polymerization type anisotropic conductive adhesive contains a film-forming resin, a radical polymerization resin, a radical polymerization initiator, conductive particles, and a black pigment. Here, carbon black, which is generally used as a black pigment, has radical complementation and is a factor in curing inhibition, so a black pigment that does not contain carbon as the main raw material is used in radical polymerization type anisotropic conductive adhesives. Examples of black pigments that do not contain carbon as a main raw material include titanium-based black pigments.

이와 같은 구성으로 이루어지는 접속 구조체는, 제 1 전자 부품 (10) 의 전극 (13) 상에, 이방성 도전 필름을 임시로 붙이고, 이방성 도전 필름 상에 제 2 전자 부품 (20) 을 배치하고, 제 2 전자 부품 (20) 의 상면에서부터 압착 헤드로 가압함으로써 제조된다. 이와 같은 제조 방법에 따르면, 제 1 전자 부품 (10) 의 전극 (13) 과 제 2 전자 부품 (20) 의 전극 (22) 을 도전성 입자 (31) 을 개재하여 전기적으로 접속시킴과 함께, 이방성 도전 필름을 경화시킨 이방성 도전막 (30) 에 의해 제 1 전자 부품 (10) 과 제 2 전자 부품 (20) 을 접착시킬 수 있다.The connection structure having such a structure temporarily attaches an anisotropic conductive film to the electrode 13 of the first electronic component 10, arranges the second electronic component 20 on the anisotropic conductive film, and It is manufactured by pressing from the top of the electronic component 20 with a pressing head. According to this manufacturing method, the electrode 13 of the first electronic component 10 and the electrode 22 of the second electronic component 20 are electrically connected via the conductive particles 31, and anisotropic conduction is achieved. The first electronic component 10 and the second electronic component 20 can be bonded to each other by the anisotropic conductive film 30 obtained by curing the film.

<2. 이방성 도전 접착제><2. Anisotropic conductive adhesive>

다음으로, 전술한 접속 구조체에 사용되는 이방성 도전 접착제에 대해 설명한다. 본 실시 형태에 있어서의 이방성 도전 접착제는, 막형성 수지와, 라디칼 중합성 수지와, 라디칼 중합 개시제와, 도전성 입자와, 탄소가 주원료가 아닌 흑색 안료를 함유한다.Next, the anisotropic conductive adhesive used in the above-described connection structure will be explained. The anisotropic conductive adhesive in this embodiment contains a film-forming resin, a radically polymerizable resin, a radical polymerization initiator, conductive particles, and a black pigment whose main raw material is not carbon.

막형성 수지는, 평균 분자량이 10000 이상인 고분자량 수지에 상당하고, 필름 형성성의 관점에서 10000 ∼ 80000 정도의 평균 분자량인 것이 바람직하다. 막형성 수지로서는, 페녹시 수지, 폴리에스테르우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리이미드 수지, 부티랄 수지 등의 각종 수지를 들 수 있고, 이것들은 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 조합해서 사용해도 된다. 이들 중에서도 막형성 상태, 접속 신뢰성 등의 관점에서 페녹시 수지가 바람직하게 사용된다. 막형성 수지의 함유량은, 접착제 조성물 100 질량부에 대해 통상적으로 30 ∼ 80 질량부, 바람직하게는 40 ∼ 70 질량부이다.The film-forming resin corresponds to a high molecular weight resin with an average molecular weight of 10,000 or more, and preferably has an average molecular weight of about 10,000 to 80,000 from the viewpoint of film formation. Examples of the film-forming resin include various resins such as phenoxy resin, polyester urethane resin, polyester resin, polyurethane resin, acrylic resin, polyimide resin, and butyral resin. These may be used alone, 2 You may use a combination of more than one type. Among these, phenoxy resin is preferably used from the viewpoint of film formation state, connection reliability, etc. The content of film-forming resin is usually 30 to 80 parts by mass, preferably 40 to 70 parts by mass, per 100 parts by mass of the adhesive composition.

라디칼 중합성 수지는, 라디칼에 의해 중합시키는 관능기를 갖는 물질이고, 에폭시아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 폴리에스테르아크릴레이트 등을 들 수 있고, 이것들은 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 조합해서 사용해도 된다. 이들 중에서도, 본 실시 형태에서는 에폭시아크릴레이트가 바람직하게 사용된다. 라디칼 중합성 수지의 함유량은, 접착제 조성물 100 질량부에 대해 통상적으로 10 ∼ 60 질량부, 바람직하게는 20 ∼ 50 질량부이다.Radically polymerizable resin is a substance having a functional group that polymerizes by radicals, and includes epoxy acrylate, urethane acrylate, and polyester acrylate. These may be used individually, or two or more types may be used in combination. It's okay too. Among these, epoxy acrylate is preferably used in this embodiment. The content of the radically polymerizable resin is usually 10 to 60 parts by mass, preferably 20 to 50 parts by mass, per 100 parts by mass of the adhesive composition.

라디칼 중합 개시제는, 공지된 것을 사용할 수 있고, 그 중에서도 유기 과산화물을 바람직하게 사용할 수 있다. 유기 과산화물로서는, 퍼옥시케탈류, 디아실퍼옥사이드류, 퍼옥시디카보네이트류, 퍼옥시에스테르류, 디알킬퍼옥사이드류, 하이드로퍼옥사이드류, 실릴퍼옥사이드류 등을 들 수 있고, 이것들은 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 조합해서 사용해도 된다. 이들 중에서도, 본 실시 형태에서는 퍼옥시케탈류가 바람직하게 사용된다. 라디칼 중합 개시제의 함유량은, 라디칼계의 접착제 조성물 100 질량부에 대해 통상적으로 0.1 ∼ 30 질량부, 바람직하게는 1 ∼ 20 질량부이다.As a radical polymerization initiator, a known one can be used, and an organic peroxide can be used preferably. Examples of organic peroxides include peroxyketals, diacyl peroxides, peroxydicarbonates, peroxyesters, dialkyl peroxides, hydroperoxides, and silyl peroxides, and these can be used alone. Alternatively, two or more types may be used in combination. Among these, peroxyketals are preferably used in this embodiment. The content of the radical polymerization initiator is usually 0.1 to 30 parts by mass, preferably 1 to 20 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the radical adhesive composition.

또, 도전성 입자로서는, 예를 들어, 금 입자, 은 입자, 니켈 입자 등의 금속 입자, 벤조구아나민 수지나 스티렌 수지 등의 수지 입자의 표면을 금, 니켈, 아연 등의 금속으로 피복한 금속 피복 수지 입자 등을 사용할 수 있다. 이러한 도전성 입자의 평균 입경으로는 1 ∼ 30 ㎛, 보다 바람직하게는 3 ∼ 20 ㎛ 이다.In addition, as conductive particles, for example, metal particles such as gold particles, silver particles, and nickel particles, and metal coatings in which the surfaces of resin particles such as benzoguanamine resin and styrene resin are coated with metals such as gold, nickel, and zinc. Resin particles, etc. can be used. The average particle diameter of these conductive particles is 1 to 30 μm, more preferably 3 to 20 μm.

흑색 안료는, 탄소가 주원료가 아니면, 특별히 한정되는 것이 아니고, 산화 티탄 등의 티탄계 흑색 안료, 철의 산화물 (마그네타이트형 사산화삼철) 이나, 구리와 크롬의 복합 산화물, 구리, 크롬, 아연의 복합 산화물 등의 산화물계 흑색 안료 등을 사용할 수 있다.Black pigments are not particularly limited as long as carbon is not the main raw material, and include titanium-based black pigments such as titanium oxide, iron oxides (magnetite-type triferric tetroxide), complex oxides of copper and chromium, and complexes of copper, chromium, and zinc. Oxide-based black pigments such as oxides can be used.

티탄계 흑색 안료를 사용하는 경우, 평균 1 차 입경은 60 ㎚ 이상 800 ㎚ 이하인 것이 바람직하다. 또, 티탄계 흑색 안료는, 접착제 성분 100 질량부에 대해 2 ∼ 40 질량부 배합하는 것이 바람직하다. 이로써, 도통 저항, 필 강도 및 차광 특성이 우수한 접속 구조체를 얻을 수 있다.When using a titanium-based black pigment, the average primary particle size is preferably 60 nm or more and 800 nm or less. Moreover, it is preferable to mix 2 to 40 parts by mass of the titanium-based black pigment with respect to 100 parts by mass of the adhesive component. Thereby, a bonded structure excellent in conduction resistance, peeling strength, and light-shielding characteristics can be obtained.

또, 바인더에 대한 다른 첨가 조성물로서 실란 커플링제를 첨가하는 것이 바람직하다. 실란 커플링제로서는, 에폭시계, 아미노계, 메르캅토계, 술피드계, 우레이도계 등을 들 수 있다.Additionally, it is preferable to add a silane coupling agent as another additive to the binder. Examples of silane coupling agents include epoxy-based, amino-based, mercapto-based, sulfide-based, ureido-based, etc.

또한, 무기 기재에 대한 밀착성을 향상시키기 위해서, 인산아크릴레이트를 첨가하는 것이 바람직하다. 인산아크릴레이트로서는, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트와 인산의 반응 생성물인 경화성 인산 에스테르 화합물 등을 들 수 있다.Additionally, in order to improve adhesion to an inorganic substrate, it is preferable to add phosphoric acid acrylate. Examples of phosphoric acid acrylate include curable phosphoric acid ester compounds that are reaction products of 2-hydroxyethyl methacrylate and phosphoric acid.

또, 무기 필러를 첨가시켜도 된다. 무기 필러로서는, 실리카, 탤크, 탄산칼슘, 산화마그네슘 등을 사용할 수 있고, 무기 필러의 종류는 특별히 한정되는 것은 아니다. 또한, 이들 바인더의 각 성분을 배합할 때에는, 톨루엔, 아세트산에틸 또는 이들의 혼합 용제가 바람직하게 사용된다.Additionally, an inorganic filler may be added. As the inorganic filler, silica, talc, calcium carbonate, magnesium oxide, etc. can be used, and the type of the inorganic filler is not particularly limited. In addition, when mixing each component of these binders, toluene, ethyl acetate, or a mixed solvent thereof is preferably used.

이와 같은 구성으로 이루어지는 이방성 도전 접착제는, 탄소가 주원료가 아닌 흑색 안료가 배합되어 있기 때문에, 라디칼 반응을 저해시키지 않고 가식 인쇄부의 핀홀의 광 누설을 저감시켜, 가식 인쇄부의 외관이 손상되는 것을 방지할 수 있다.Since the anisotropic conductive adhesive having this structure contains black pigment rather than carbon as the main raw material, it reduces light leakage from the pinhole of the decorative printing part without inhibiting radical reaction, and prevents the appearance of the decorative printing part from being damaged. You can.

<3. 실시예><3. Example>

이하, 본 발명의 실시예에 대해 설명한다. 본 실시예에서는, 흑색 안료를 함유하는 라디칼 경화형의 이방성 도전 필름을 제조하고, 이방성 도전 필름의 투과율을 측정하였다. 또, 이방성 도전 필름을 사용하여 접속 구조체를 제조하고, 접속 구조체의 도통 저항, 필 강도 및 차광 특성에 대해 평가하였다. 또한, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described. In this example, a radically curable anisotropic conductive film containing a black pigment was manufactured, and the transmittance of the anisotropic conductive film was measured. Moreover, a bonded structure was manufactured using an anisotropic conductive film, and the conduction resistance, peeling strength, and light-shielding characteristics of the bonded structure were evaluated. Additionally, the present invention is not limited to these examples.

이방성 도전 필름의 투과율 측정, 접속 구조체의 제조, 도통 저항의 측정, 필 강도의 측정 및 차광 특성의 평가는 다음과 같이 실시하였다.Transmittance measurement of the anisotropic conductive film, production of the connection structure, measurement of conduction resistance, measurement of peeling strength, and evaluation of light-shielding properties were performed as follows.

[이방성 도전 필름의 투과율의 측정][Measurement of transmittance of anisotropic conductive film]

이방성 도전 접착 필름의 미경화 상태의 투과율에 대해, 분광 광도계 ((주) 시마즈 제작소 제조 UV-3600) 를 사용하여 측정하였다.The transmittance of the anisotropic conductive adhesive film in an uncured state was measured using a spectrophotometer (UV-3600 manufactured by Shimadzu Corporation).

[접속 구조체의 제조][Manufacture of connection structure]

도 2 는, 본 실시예에 있어서의 접속 구조체를 나타내는 사시 모델도이다. 두께 0.7 ㎜ 의 유리 표면에 흑색 잉크 (테이코쿠 잉크 제조사 제조 GLS-HF919) 를 5 ㎛ 두께로 코팅하고, 그 표면을 ITO (Indium Tin Oxide) 코트함으로써 유리/흑색 잉크층/ITO 가 되는 평가용 유리 기판 (51) 을 제작하였다. 또, 흑색 잉크층에는 1 ㎛ ∼ 6 ㎛ 의 크기로 1 ㎟ 당 150 ∼ 200 개가 되는 핀홀을 형성하였다. 평가용 유리 기판 (51) 은, 중간층에 흑색 잉크층을 갖는 것 이외에는, 공지된 평가용 ITO (Indium Tin Oxide) 코팅 유리 기판 (전체 표면 ITO 코트, 유리 두께 0.7 ㎜) 과 동일하다. 이 평가용 유리 기판 (51) 과, 평가용 FPC (400 ㎛P, Cu 18 ㎛t-Au 도금, 25 ㎛t-Espanex-S 기재) (52) 를, 이방성 도전 필름 (53) 을 사용하여 접합시켰다.Fig. 2 is a perspective model diagram showing the connection structure in this embodiment. Evaluation glass that becomes glass/black ink layer/ITO by coating a glass surface with a thickness of 0.7 mm with black ink (GLS-HF919 manufactured by Teikoku Ink Co., Ltd.) to a thickness of 5 ㎛, and then coating the surface with ITO (Indium Tin Oxide). A substrate 51 was produced. In addition, 150 to 200 pinholes per 1 mm2 were formed in the black ink layer with a size of 1 μm to 6 μm. The glass substrate 51 for evaluation is the same as a known ITO (Indium Tin Oxide) coated glass substrate for evaluation (full surface ITO coat, glass thickness 0.7 mm), except that it has a black ink layer in the middle layer. This evaluation glass substrate 51 and the evaluation FPC (400 ㎛P, Cu 18 ㎛t-Au plating, 25 ㎛t-Espanex-S base material) 52 are bonded together using an anisotropic conductive film 53. I ordered it.

1.5 ㎜ 폭으로 슬릿된 이방성 도전 필름 (53) 을, 평가용 유리 기판 (51) 에 첩부하고, 그 위에 FPC (52) 를 임시 고정시킨 후, 100 ㎛ 두께의 완충재 (폴리테트라플루오로에틸렌) 를 사용하여 1.5 ㎜ 폭의 히트 툴로 150 ℃―4 ㎫―10 sec 의 조건에서 접합시켜 접속 구조체를 제조하였다.The anisotropic conductive film 53 slit to a width of 1.5 mm is attached to the glass substrate 51 for evaluation, and the FPC 52 is temporarily fixed thereon, and then a cushioning material (polytetrafluoroethylene) with a thickness of 100 μm is applied. A connection structure was manufactured by bonding under conditions of 150°C -4 MPa-10 sec using a 1.5 mm wide heat tool.

[도통 저항의 측정][Measurement of conduction resistance]

접속 구조체에 대해 초기 및 60 ℃/95 %/500 hr 의 고온 고습 시험 후에 대해 접속 저항을 측정하였다. 디지털 멀티미터 (품번:디지털 멀티미터 7555, 요코가와 전기사 제조) 를 사용하여 4 단자법으로 전류 1 mA 를 흘렸을 때의 접속 저항을 측정하였다.The connection resistance was measured for the connection structure initially and after a high temperature and high humidity test of 60°C/95%/500 hr. Using a digital multimeter (part number: Digital Multimeter 7555, manufactured by Yokogawa Electric Co., Ltd.), the connection resistance when a current of 1 mA was passed was measured using the four-terminal method.

[필 강도의 측정][Measurement of peel strength]

접속 구조체에 대해 초기 및 60 ℃/95 %/500 hr 의 고온 고습 시험 후에 대해 필 강도를 측정하였다. 평가용 FPC (52) 를 평가용 유리 기판 (51) 에서부터 90°방향으로 박리시키는 90°박리 시험 (JIS K 6854-1) 을 실시하여 필 강도 (N/㎝) 를 측정하였다.The peeling strength of the bonded structure was measured initially and after a high temperature and high humidity test of 60°C/95%/500 hr. A 90° peeling test (JIS K 6854-1) was conducted in which the evaluation FPC 52 was peeled from the evaluation glass substrate 51 in a 90° direction, and the peeling strength (N/cm) was measured.

[차광 특성의 평가][Evaluation of light blocking characteristics]

접속 구조체에 대해, 미리 핀홀이 형성된 평가용 유리 기판 (51) 측에서부터 조명을 쐬게 하여 평가용 FPC (52) 측에서부터 금속 현미경으로 관찰하고, 1 ㎟ 당 핀홀의 수가 10 미만인 경우를 「◎」, 1 ㎟ 당 핀홀의 수가 10 이상 50 미만인 경우를 「○」, 1 ㎟ 당 핀홀의 수가 50 이상인 경우를 「×」로 평가하였다.The connection structure was illuminated from the side of the glass substrate 51 for evaluation on which pinholes had been formed in advance, and observed with a metallographic microscope from the side of the FPC 52 for evaluation. The case where the number of pinholes per 1 mm2 was less than 10 was marked as "◎". Cases where the number of pinholes per 1 mm2 were 10 to 50 were evaluated as “○”, and cases where the number of pinholes per 1 mm2 were 50 or more were evaluated as “×”.

[토탈 판정][Total judgment]

차광성의 평가가 「◎」인 경우이며 고온 고습 시험 후의 도통 저항이 5.0 Ω 미만인 경우를 「A」로 평가하였다. 또, 차광성의 평가가 「◎」인 경우이며 고온 고습 시험 후의 도통 저항이 5.0 Ω 이상 10.0 Ω 미만인 경우를 「B」로 평가하였다. 차광성의 평가가 「◎」인 경우이며 고온 고습 시험 후의 도통 저항이 10.0 Ω 이상인 경우를 「C」로 평가하였다. 또, 차광성의 평가가 「○」인 경우이며 고온 고습 시험 후의 도통 저항이 5.0 Ω 미만인 경우를 「B」로 평가하였다. 또, 차광성의 평가가 「○」인 경우이며 고온 고습 시험 후의 도통 저항이 5.0 Ω 이상인 경우를 「C」로 평가하였다. 또한, 차광성의 평가가 「×」인 경우를 「C」로 평가하였다.The case where the light-shielding property was evaluated as “◎” and the case where the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was less than 5.0 Ω was evaluated as “A.” In addition, the case where the light-shielding property was evaluated as "◎" and the case where the conduction resistance after the high temperature and high humidity test was 5.0 Ω or more and less than 10.0 Ω was evaluated as "B". The case where the light-shielding property was evaluated as “◎” and the case where the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 10.0 Ω or more was evaluated as “C.” In addition, the case where the light-shielding property was evaluated as “○” and the case where the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was less than 5.0 Ω was evaluated as “B.” In addition, the case where the light-shielding property was evaluated as “○” and the case where the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 5.0 Ω or more was evaluated as “C.” In addition, the case where the evaluation of light-shielding property was "×" was evaluated as "C".

[실시예 1][Example 1]

막형성 수지로서 폴리에스테르우레탄 수지 (품명:UR8200, 토요 방적 주식회사 제조, 메틸에틸케톤/톨루엔=50/50 의 혼합 용매로 20 질량% 로 용해시킨 것) 60 질량부, 라디칼 중합성 수지 (품명:EB-600, 다이셀ㆍ사이테크사 제조) 34 질량부, 실란 커플링제 (품명:KBM-503, 신에츠 화학사 제조) 1 질량부, 인산아크릴레이트 (품명:P-1M, 쿄에이 화학사 제조) 1 질량부 및 반응 개시제 (품명:퍼헥사 C, 닛폰 유지사 제조) 4 질량부를 배합한 접착제 중에 도전성 입자 (품명:AUL705, 세키스이 화학공업사 제조) 를 입자 밀도 5000 개/㎟ 가 되도록 분산시키고, 또한 평균 1 차 입경 60 ㎚ 의 티탄계 흑색 안료 (품명:12S, 미츠비시 마테리알사 제조) 를 12 질량부 분산시킴으로써, 두께 20 ㎛ 의 이방성 도전 필름을 제조하였다.As the film-forming resin, 60 parts by mass of polyester urethane resin (product name: UR8200, manufactured by Toyo Spinning Co., Ltd., dissolved at 20% by mass in a mixed solvent of methyl ethyl ketone/toluene = 50/50), radically polymerizable resin (product name: EB-600, manufactured by Daicel/Cytech Co., Ltd.) 34 parts by mass, silane coupling agent (product name: KBM-503, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 1 part by mass, phosphoric acid acrylate (product name: P-1M, manufactured by Kyoei Chemical Co., Ltd.) 1 Conductive particles (product name: AUL705, manufactured by Sekisui Chemical Industry Co., Ltd.) are dispersed in an adhesive containing 4 parts by mass of a reaction initiator (product name: Perhexa C, manufactured by Nippon Yuji Co., Ltd.) so that the particle density is 5000 pieces/㎟, and An anisotropic conductive film with a thickness of 20 μm was produced by dispersing 12 parts by mass of a titanium-based black pigment (product name: 12S, manufactured by Mitsubishi Materials) with an average primary particle size of 60 nm.

실시예 1 의 이방성 도전 필름의 투과율은 13.4 % 였다. 또, 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 초기의 도통 저항은 2.2 Ω, 고온 고습 시험 후의 도통 저항은 7.0 Ω 였다. 또한, 초기의 필 강도는 6.0 N/㎝, 고온 고습 시험 후의 필 강도는 4.1 N/㎝ 였다. 또, 차광 특성의 평가는 ◎ 였다. 따라서, 토탈 판정은 B 였다. 표 1 에 이들의 결과를 나타낸다.The transmittance of the anisotropic conductive film of Example 1 was 13.4%. Additionally, the initial conduction resistance of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film was 2.2 Ω, and the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 7.0 Ω. In addition, the initial peeling strength was 6.0 N/cm, and the peeling strength after the high temperature and high humidity test was 4.1 N/cm. Additionally, the evaluation of light-shielding properties was ◎. Therefore, the total judgment was B. Table 1 shows these results.

[실시예 2][Example 2]

*평균 1 차 입경 100 ㎚ 의 티탄계 흑색 안료 (품명:13M-C, 미츠비시 마테리알 제조) 를 12 질량부 분산시킨 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.*An anisotropic conductive film was produced in the same manner as in Example 1, except that 12 parts by mass of a titanium-based black pigment (product name: 13M-C, manufactured by Mitsubishi Materials) with an average primary particle size of 100 nm was dispersed.

실시예 2 의 이방성 도전 필름의 투과율은 13.3 % 였다. 또, 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 초기의 도통 저항은 2.0 Ω, 고온 고습 시험 후의 도통 저항은 5.5 Ω 였다. 또한, 초기의 필 강도는 6.1 N/㎝, 고온 고습 시험 후의 필 강도는 4.0 N/㎝ 였다. 또한, 차광 특성의 평가는 ◎ 였다. 따라서, 토탈 판정은 B 였다. 표 1 에 이들의 결과를 나타낸다.The transmittance of the anisotropic conductive film of Example 2 was 13.3%. Additionally, the initial conduction resistance of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film was 2.0 Ω, and the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 5.5 Ω. In addition, the initial peeling strength was 6.1 N/cm, and the peeling strength after the high temperature and high humidity test was 4.0 N/cm. Additionally, the evaluation of light-shielding properties was ◎. Therefore, the total judgment was B. Table 1 shows these results.

[실시예 3][Example 3]

평균 1 차 입경 800 ㎚ 의 티탄계 흑색 안료 (품명:Tilack D, 아코 카세이사 제조) 를 12 질량부 분산시킨 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.An anisotropic conductive film was produced in the same manner as in Example 1, except that 12 parts by mass of a titanium-based black pigment (product name: Tilack D, manufactured by Ako Kasei) with an average primary particle size of 800 nm was dispersed.

실시예 3 의 이방성 도전 필름의 투과율은 13.8 % 였다. 또, 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 초기의 도통 저항은 1.8 Ω, 고온 고습 시험 후의 도통 저항은 3.2 Ω 였다. 또한, 초기의 필 강도는 6.0 N/㎝, 고온 고습 시험 후의 필 강도는 4.3 N/㎝ 였다.The transmittance of the anisotropic conductive film of Example 3 was 13.8%. Additionally, the initial conduction resistance of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film was 1.8 Ω, and the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 3.2 Ω. In addition, the initial peeling strength was 6.0 N/cm, and the peeling strength after the high temperature and high humidity test was 4.3 N/cm.

또, 도 3 은, 실시예 3 의 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체에 대해, 미리 핀홀이 형성된 평가용 유리 기판측에서부터 조명을 쐬게 하여 평가용 FPC 측에서부터 금속 현미경으로 관찰한 사진이다. 핀홀은 관찰되지 않아, 차광 특성의 평가는 ◎ 였다. 따라서, 토탈 판정은 A 였다. 표 1 에 이들의 결과를 나타낸다.Moreover, FIG. 3 is a photograph of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film of Example 3, illuminated from the side of the glass substrate for evaluation on which a pinhole was formed in advance, and observed with a metallographic microscope from the side of the FPC for evaluation. No pinholes were observed, and the light-shielding property was evaluated as ◎. Therefore, the total judgment was A. Table 1 shows these results.

[비교예 1][Comparative Example 1]

흑색 안료를 분산시키지 않은 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.An anisotropic conductive film was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the black pigment was not dispersed.

비교예 1 의 이방성 도전 필름의 투과율은 84.6 % 였다. 또, 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 초기의 도통 저항은 1.8 Ω, 고온 고습 시험 후의 도통 저항은 3.0 Ω 였다. 또한, 초기의 필 강도는 5.8 N/㎝, 고온 고습 시험 후의 필 강도는 4.0 N/㎝ 였다.The transmittance of the anisotropic conductive film of Comparative Example 1 was 84.6%. Additionally, the initial conduction resistance of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film was 1.8 Ω, and the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 3.0 Ω. In addition, the initial peeling strength was 5.8 N/cm, and the peeling strength after the high temperature and high humidity test was 4.0 N/cm.

또, 도 4 는 비교예 1 의 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체에 대해, 미리 핀홀이 형성된 평가용 유리 기판측에서부터 조명을 쐬게 하여 평가용 FPC 측에서부터 금속 현미경으로 관찰한 사진이다. 핀홀이 관찰되어, 차광 특성의 평가는 × 였다. 따라서, 토탈 판정은 C 였다. 표 1 에 이들의 결과를 나타낸다.In addition, Figure 4 is a photograph of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film of Comparative Example 1, illuminated from the side of the glass substrate for evaluation on which a pinhole was previously formed, and observed with a metallographic microscope from the side of the FPC for evaluation. A pinhole was observed, and the light-shielding property was evaluated as ×. Therefore, the total judgment was C. Table 1 shows these results.

[비교예 2][Comparative Example 2]

평균 1 차 입경 800 ㎚ 의 티탄계 흑색 안료 (품명:Tilack D, 아코 카세이사 제조) 를 1 질량부 분산시킨 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.An anisotropic conductive film was produced in the same manner as in Example 1, except that 1 part by mass of a titanium-based black pigment (product name: Tilack D, manufactured by Ako Kasei) with an average primary particle size of 800 nm was dispersed.

비교예 2 의 이방성 도전 필름의 투과율은 67.4 % 였다. 또, 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 초기의 도통 저항은 1.8 Ω, 고온 고습 시험 후의 도통 저항은 3.2 Ω 였다. 또한, 초기의 필 강도는 5.9 N/㎝, 고온 고습 시험 후의 필 강도는 4.0 N/㎝ 였다. 또, 차광 특성의 평가는 × 였다. 따라서, 토탈 판정은 C 였다. 표 1 에 이들의 결과를 나타낸다.The transmittance of the anisotropic conductive film of Comparative Example 2 was 67.4%. Additionally, the initial conduction resistance of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film was 1.8 Ω, and the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 3.2 Ω. In addition, the initial peeling strength was 5.9 N/cm, and the peeling strength after the high temperature and high humidity test was 4.0 N/cm. Additionally, the evaluation of light-shielding properties was ×. Therefore, the total judgment was C. Table 1 shows these results.

[실시예 4][Example 4]

*평균 1 차 입경 800 ㎚ 의 티탄계 흑색 안료 (품명:Tilack D, 아코 카세이사 제조) 를 2 질량부 분산시킨 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.*An anisotropic conductive film was produced in the same manner as in Example 1, except that 2 parts by mass of a titanium-based black pigment (product name: Tilack D, manufactured by Ako Kasei) with an average primary particle size of 800 nm was dispersed.

실시예 4 의 이방성 도전 필름의 투과율은 50.3 % 였다. 또, 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 초기의 도통 저항은 1.8 Ω, 고온 고습 시험 후의 도통 저항은 3.0 Ω 였다. 또한, 초기의 필 강도는 6.0 N/㎝, 고온 고습 시험 후의 필 강도는 4.2 N/㎝ 였다. 또, 차광 특성의 평가는 ○ 였다. 따라서, 토탈 판정은 B 였다. 표 1 에 이들의 결과를 나타낸다.The transmittance of the anisotropic conductive film of Example 4 was 50.3%. Additionally, the initial conduction resistance of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film was 1.8 Ω, and the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 3.0 Ω. In addition, the initial peeling strength was 6.0 N/cm, and the peeling strength after the high temperature and high humidity test was 4.2 N/cm. Additionally, the evaluation of light-shielding properties was ○. Therefore, the total judgment was B. Table 1 shows these results.

[실시예 5][Example 5]

평균 1 차 입경 800 ㎚ 의 티탄계 흑색 안료 (품명:Tilack D, 아코 카세이사 제조) 를 5 질량부 분산시킨 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.An anisotropic conductive film was produced in the same manner as in Example 1, except that 5 parts by mass of a titanium-based black pigment (product name: Tilack D, manufactured by Ako Kasei) with an average primary particle size of 800 nm was dispersed.

실시예 5 의 이방성 도전 필름의 투과율은 17.9 % 였다. 또, 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 초기의 도통 저항은 1.8 Ω, 고온 고습 시험 후의 도통 저항은 3.1 Ω 였다. 또한, 초기의 필 강도는 6.1 N/㎝, 고온 고습 시험 후의 필 강도는 4.0 N/㎝ 였다. 또, 차광 특성의 평가는 ◎ 였다. 따라서, 토탈 판정은 A 였다. 표 1 에 이들의 결과를 나타낸다.The transmittance of the anisotropic conductive film of Example 5 was 17.9%. Additionally, the initial conduction resistance of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film was 1.8 Ω, and the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 3.1 Ω. In addition, the initial peeling strength was 6.1 N/cm, and the peeling strength after the high temperature and high humidity test was 4.0 N/cm. Additionally, the evaluation of light-shielding properties was ◎. Therefore, the total judgment was A. Table 1 shows these results.

[실시예 6][Example 6]

평균 1 차 입경 800 ㎚ 의 티탄계 흑색 안료 (품명:Tilack D, 아코 카세이사 제조) 를 36 질량부 분산시킨 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.An anisotropic conductive film was produced in the same manner as in Example 1, except that 36 parts by mass of a titanium-based black pigment (product name: Tilack D, manufactured by Ako Kasei) with an average primary particle size of 800 nm was dispersed.

실시예 6 의 이방성 도전 필름의 투과율은 11.2 % 였다. 또, 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 초기의 도통 저항은 2.3 Ω, 고온 고습 시험 후의 도통 저항은 7.9 Ω 였다. 또한, 초기의 필 강도는 6.3 N/㎝, 고온 고습 시험 후의 필 강도는 4.1 N/㎝ 였다. 또, 차광 특성의 평가는 ◎ 였다. 따라서, 토탈 판정은 B 였다. 표 1 에 이들의 결과를 나타낸다.The transmittance of the anisotropic conductive film of Example 6 was 11.2%. Additionally, the initial conduction resistance of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film was 2.3 Ω, and the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 7.9 Ω. In addition, the initial peeling strength was 6.3 N/cm, and the peeling strength after the high temperature and high humidity test was 4.1 N/cm. Additionally, the evaluation of light-shielding properties was ◎. Therefore, the total judgment was B. Table 1 shows these results.

[비교예 3][Comparative Example 3]

평균 1 차 입경 800 ㎚ 의 티탄계 흑색 안료 (품명:Tilack D, 아코 카세이사 제조) 를 48 질량부 분산시킨 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.An anisotropic conductive film was produced in the same manner as in Example 1, except that 48 parts by mass of a titanium-based black pigment (product name: Tilack D, manufactured by Ako Kasei) with an average primary particle size of 800 nm was dispersed.

비교예 3 의 이방성 도전 필름의 투과율은 10.7 % 였다. 또, 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 초기의 도통 저항은 2.5 Ω, 고온 고습 시험 후의 도통 저항은 11.3 Ω 였다. 또한, 초기의 필 강도는 6.5 N/㎝, 고온 고습 시험 후의 필 강도는 4.2 N/㎝ 였다. 또, 차광 특성의 평가는 ◎ 였다. 따라서, 토탈 판정은 C 였다. 표 1 에 이들의 결과를 나타낸다.The transmittance of the anisotropic conductive film of Comparative Example 3 was 10.7%. Additionally, the initial conduction resistance of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film was 2.5 Ω, and the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 11.3 Ω. In addition, the initial peeling strength was 6.5 N/cm, and the peeling strength after the high temperature and high humidity test was 4.2 N/cm. Additionally, the evaluation of light-shielding properties was ◎. Therefore, the total judgment was C. Table 1 shows these results.

[비교예 4][Comparative Example 4]

흑색 안료로서 평균 1 차 입경 15 ㎚ 의 카본 블랙 (품명:#2350, 미츠비시 화학 제조) 을 12 질량부 분산시킨 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.An anisotropic conductive film was produced in the same manner as in Example 1, except that 12 parts by mass of carbon black (product name: #2350, manufactured by Mitsubishi Chemical) with an average primary particle size of 15 nm was dispersed as a black pigment.

비교예 4 의 이방성 도전 필름의 투과율은 12.0 % 였다. 또, 이방성 도전 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 초기의 도통 저항은 5.2 Ω, 고온 고습 시험 후의 도통 저항은 10.6 Ω 였다. 또한, 초기의 필 강도는 1.5 N/㎝, 고온 고습 시험 후의 필 강도는 0.5 N/㎝ 였다. 또, 차광 특성의 평가는 ◎ 였다. 따라서, 토탈 판정은 C 였다. 표 1 에 이들의 결과를 나타낸다.The transmittance of the anisotropic conductive film of Comparative Example 4 was 12.0%. Additionally, the initial conduction resistance of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive film was 5.2 Ω, and the conduction resistance after the high-temperature, high-humidity test was 10.6 Ω. In addition, the initial peeling strength was 1.5 N/cm, and the peeling strength after the high temperature and high humidity test was 0.5 N/cm. Additionally, the evaluation of light-shielding properties was ◎. Therefore, the total judgment was C. Table 1 shows these results.

표 1 에 나타내는 바와 같이, 흑색 안료를 적당량 배합함으로써, 핀홀로부터의 광 누설을 방지하는 수복 기능을 부여 할 수 있고, 또한 가식부의 의장성을 유지할 수 있음을 알 수 있었다. 실시예 1 ∼ 6 에 나타내는 바와 같이, 티탄계 흑색 안료를 사용하는 경우, 평균 1 차 입경이 60 ㎚ 이상 800 ㎚ 이하인 것을, 접착제 성분 100 질량부에 대해 2 ∼ 40 질량부 배합함으로써, 도통 저항, 필 강도 및 차광 특성이 우수한 접속 구조체가 얻어지는 것을 알 수 있었다. 또한, 비교예 4 에 나타내는 바와 같이, 카본 블랙은, 라디칼 보충성을 가지며, 경화 저해의 요인이 되기 때문에, 라디칼 경화형의 이방성 도전 필름의 경우, 카본 블랙 이외의 흑색 안료를 사용할 필요가 있다.As shown in Table 1, it was found that by mixing an appropriate amount of black pigment, a restorative function that prevents light leakage from pinholes can be provided, and the design of the decorative part can be maintained. As shown in Examples 1 to 6, when using a titanium-based black pigment, by mixing 2 to 40 parts by mass of a titanium-based black pigment with an average primary particle size of 60 nm or more and 800 nm or less with respect to 100 parts by mass of the adhesive component, the conduction resistance, It was found that a bonded structure with excellent peeling strength and light-shielding properties was obtained. Additionally, as shown in Comparative Example 4, carbon black has radical replenishment properties and becomes a factor in curing inhibition, so in the case of a radically curable anisotropic conductive film, it is necessary to use a black pigment other than carbon black.

10 : 제 1 전자 부품
11 : 투명 기판
12 : 가식층
13 : 전극
20 : 제 2 전자 부품
21 : 기판
22 ; 전극
30 : 이방성 도전막
51 : 유리 기판
52 : FPC
53 : 이방성 도전 필름
10: first electronic component
11: transparent substrate
12: Decorative layer
13: electrode
20: second electronic component
21: substrate
22 ; electrode
30: Anisotropic conductive film
51: glass substrate
52:FPC
53: Anisotropic conductive film

Claims (10)

이방성 도전 필름으로서,
막형성 수지와, 라디칼 중합성 수지와, 라디칼 중합 개시제와, 도전성 입자와, 탄소를 포함하지 않는 흑색 안료를 함유하고,
두께를 20 ㎛ 로 환산했을 때에 가시광에 대해 11.2 % 이상 50.3 % 이하의 투과율을 가지며,
상기 흑색 안료가, 막형성 수지와, 라디칼 중합성 수지와, 라디칼 중합 개시제를 함유하는 접착제 성분 100 질량부에 대해 2 ~ 40 질량부 배합되어 이루어지는, 이방성 도전 필름.
As an anisotropic conductive film,
Contains a film-forming resin, a radical polymerizable resin, a radical polymerization initiator, conductive particles, and a black pigment that does not contain carbon,
When the thickness is converted to 20 μm, it has a transmittance of 11.2% or more and 50.3% or less to visible light,
An anisotropic conductive film in which the black pigment is blended in an amount of 2 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the adhesive component containing a film-forming resin, a radical polymerizable resin, and a radical polymerization initiator.
제 1 항에 있어서,
당해 이방성 도전 필름을 사용하여, 직경이 1 ㎛ ~ 6 ㎛ 인 핀홀을 형성한 가식층 상에 전극이 형성된 제 1 전자 부품과, 제 2 전자 부품을 접속한 경우, 조명광을 투과하는 핀홀의 수가 1 ㎟ 당 50 미만인, 이방성 도전 필름.
According to claim 1,
When the anisotropic conductive film is used to connect a first electronic component with an electrode formed on a decorative layer forming a pinhole with a diameter of 1 μm to 6 μm and a second electronic component, the number of pinholes through which illumination light passes is 1. Anisotropic conductive film, less than 50 per mm2.
제 2 항에 있어서,
상기 가식층의 핀홀이, 1 ㎟ 당 150 ~ 200 개 형성되어 이루어지는, 이방성 도전 필름.
According to claim 2,
An anisotropic conductive film in which 150 to 200 pinholes in the decorative layer are formed per 1 mm2.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 흑색 안료가, 티탄계 흑색 안료인, 이방성 도전 필름.
According to claim 1,
An anisotropic conductive film wherein the black pigment is a titanium-based black pigment.
제 1 항에 있어서,
상기 도전성 입자의 평균 입경이 3 ~ 20 ㎛ 이고,
상기 흑색 안료가, 평균 1 차 입경이 60 ~ 1000 ㎚ 의 티탄계 흑색 안료인, 이방성 도전 필름.
According to claim 1,
The average particle diameter of the conductive particles is 3 to 20 ㎛,
An anisotropic conductive film wherein the black pigment is a titanium-based black pigment with an average primary particle size of 60 to 1000 nm.
이방성 도전 접착제로서,
막형성 수지와, 라디칼 중합성 수지와, 라디칼 중합 개시제와, 도전성 입자와, 탄소를 포함하지 않는 흑색 안료를 함유하고,
두께를 20 ㎛ 로 환산했을 때에 가시광에 대해 11.2 % 이상 50.3 % 이하의 투과율을 가지며,
상기 흑색 안료가, 막형성 수지와, 라디칼 중합성 수지와, 라디칼 중합 개시제를 함유하는 접착제 성분 100 질량부에 대해 2 ~ 40 질량부 배합되어 이루어지는, 이방성 도전 접착제.
As an anisotropic conductive adhesive,
Contains a film-forming resin, a radical polymerizable resin, a radical polymerization initiator, conductive particles, and a black pigment that does not contain carbon,
When the thickness is converted to 20 μm, it has a transmittance of 11.2% or more and 50.3% or less to visible light,
An anisotropic conductive adhesive in which the black pigment is blended in an amount of 2 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the adhesive component containing a film-forming resin, a radical polymerizable resin, and a radical polymerization initiator.
가식층 상에 전극이 형성된 제 1 전자 부품의 전극 상에, 상기 제 1 항 내지 제 3 항 및 제 5 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기재된 이방성 도전 필름, 또는 상기 제 7 항에 기재된 이방성 도전 접착제를 개재하여 제 2 전자 부품을 배치하고,
상기 제 2 전자 부품의 상면에서부터 압착 헤드로 가압하는, 접속 구조체의 제조 방법.
On the electrode of the first electronic component in which the electrode is formed on the decoration layer, the anisotropic conductive film according to any one of claims 1 to 3 and 5 to 6, or the anisotropic conductive film according to claim 7 Placing a second electronic component through a conductive adhesive,
A method of manufacturing a connection structure, wherein the second electronic component is pressed from the upper surface with a pressing head.
가식층 상에 전극이 형성된 제 1 전자 부품과,
상기 제 1 전자 부품의 전극과 대향하는 전극이 형성된 제 2 전자 부품과,
상기 제 1 전자 부품의 전극과 상기 제 2 전자 부품의 전극을 접속시키는 이방성 도전막을 구비하고,
상기 이방성 도전막이, 상기 제 1 항 내지 제 3 항 및 제 5 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기재된 이방성 도전 필름, 또는 상기 제 7 항에 기재된 이방성 도전 접착제의 경화물로 이루어지는, 접속 구조체.
A first electronic component with an electrode formed on the decoration layer,
a second electronic component having an electrode opposing the electrode of the first electronic component;
Provided with an anisotropic conductive film connecting the electrode of the first electronic component and the electrode of the second electronic component,
A bonded structure in which the anisotropic conductive film is a cured product of the anisotropic conductive film according to any one of claims 1 to 3 and 5 to 6, or the anisotropic conductive adhesive according to claim 7.
터치 패널 기능을 갖는 표시창부와, 상기 표시창부 이외의 주연부에 형성된 가식층과, 상기 가식층 상에 전극이 형성된 제 1 전자 부품과,
상기 제 1 전자 부품의 전극과 대향하는 전극이 형성된 제 2 전자 부품과,
상기 제 1 전자 부품의 전극과 상기 제 2 전자 부품의 전극을 접속시키는 이방성 도전막을 구비하고, 상기 이방성 도전막이, 상기 제 1 항 내지 제 3 항 및 제 5 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기재된 이방성 도전 필름, 또는 상기 제 7 항에 기재된 이방성 도전 접착제의 경화물로 이루어지는, 터치 패널.
A first electronic component comprising a display window having a touch panel function, a decorative layer formed on a peripheral portion other than the display window, and an electrode formed on the decorative layer;
a second electronic component having an electrode opposing the electrode of the first electronic component;
and an anisotropic conductive film connecting the electrode of the first electronic component and the electrode of the second electronic component, wherein the anisotropic conductive film is as defined in any one of claims 1 to 3 and 5 to 6. A touch panel comprising the anisotropic conductive film described above or a cured product of the anisotropic conductive adhesive described in claim 7.
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