KR101355854B1 - Anisotropic conductive film - Google Patents

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Abstract

본원 발명은 폴리에스테르 우레탄 수지 및 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트를 함께 함유하는 이방성 도전 필름에 관한 것이다.
보다 구체적으로, 본원 발명은 폴리에스테르 우레탄 수지 및 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트를 함께 함유함으로써 저장 탄성률이 높아 수축 및 팽창에 대한 견딤성이 강하고 버블 발생이 적으며 고온, 고습하에 장시간 방치해 두어도 신뢰성 접착력 및 신뢰성 접속성이 우수한 이방성 도전 필름에 관한 것이다.
The present invention relates to an anisotropic conductive film containing a polyester urethane resin and tricyclodecane dimethanol diacrylate together.
More specifically, the present invention contains a polyester urethane resin and tricyclodecane dimethanol diacrylate together, high storage elastic modulus, strong resistance to shrinkage and expansion, less bubble generation, even if left for a long time under high temperature and high humidity The present invention relates to an anisotropic conductive film excellent in reliability of adhesive strength and reliability of connection.

Description

이방성 도전 필름{Anisotropic conductive film}Anisotropic conductive film < RTI ID = 0.0 >

본원 발명은 폴리에스테르 우레탄 수지 및 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트를 함께 함유함으로써, 높은 저장 탄성률로 수축 및 팽창에 대한 견딤성이 강하고 버블 발생이 적으며 고온, 고습하에 장시간 방치해 두어도 신뢰성 접착력 및 신뢰성 접속성이 우수한 이방성 도전 필름에 관한 것이다.
The present invention contains polyester urethane resin and tricyclodecane dimethanol diacrylate together, and thus has high storage elastic modulus, resists shrinkage and expansion, has low bubble generation, reliable adhesion even when left for a long time under high temperature and high humidity. The anisotropic conductive film excellent in the reliability connection property.

이방성 도전 필름(Anisotropic conductive film, ACF)이란 일반적으로 니켈(Ni)이나 금(Au) 등의 금속 입자, 또는 그와 같은 금속들로 코팅된 고분자 입자 등의 도전 입자를 에폭시 등의 수지에 분산시킨 필름 형상의 접착제를 말하는 것으로, 필름의 막 두께 방향으로는 도전성을 띠고, 면 방향으로는 절연성을 띠는, 전기 이방성 및 접착성을 갖는 고분자 막을 의미한다. 이방성 도전 필름을 접속시키고자 하는 회로 사이에 상기 필름을 위치시킨 후 일정 조건의 가열, 가압 공정을 거치면, 회로 단자들 사이는 도전성 입자에 의해 전기적으로 접속되고, 인접하는 전극 사이에는 절연성 접착 수지가 충진되어 도전성 입자가 서로 독립하여 존재하게 됨으로써 높은 절연성을 부여하게 된다.
Anisotropic conductive film (ACF) is a film obtained by dispersing conductive particles such as metal particles such as nickel (Ni) and gold (Au), or polymer particles coated with such metals in a resin such as epoxy Means a polymeric film having electric anisotropy and adhesiveness which has conductivity in the film thickness direction of the film and has insulating property in the plane direction. When the film is placed between the circuit to be connected with the anisotropic conductive film and subjected to a heating and pressing process under a certain condition, the circuit terminals are electrically connected by the conductive particles, and an insulating adhesive resin And the conductive particles are filled independently of each other, thereby providing high insulating properties.

최근 패널이 대형화되고 배선 또한 넓어지는 경향이 확대되고 있다. 이에 따라 전극과 전극 사이의 스페이스가 넓어지게 되어, 본딩 시 열과 압력에 의한 압착으로 접속 기판이 팽창되었다가 본딩 후 접속 기판이 다시 수축하면서 접착 조성물의 팽창 및 수축의 정도가 심하게 발생하여 버블이 다량 발생하게 되고 접착 조성물의 충진 효과가 떨어지는 문제가 있다.In recent years, there has been a tendency that panels are becoming larger and wirings are widening. As a result, the space between the electrode and the electrode is widened. As a result, the connecting substrate is expanded by the compression due to heat and pressure at the time of bonding, and after the bonding, the connecting substrate shrinks again and the degree of expansion and contraction of the bonding composition is seriously generated, There is a problem that the filling effect of the adhesive composition is deteriorated.

종래 이와 같은 문제를 해결하기 위하여 알려진 방법으로는 유리 전이 온도(Tg)가 높은 바인더 수지를 사용하는 방법(일본공개특허 제2011-0159486호 등)이 있다. 그러나, 유리 전이 온도가 높은 바인더 수지를 사용하는 경우, 물성이 단단하여 수축 및 팽창에 대한 견딤성은 향상된다 할지라도 수지의 흐름성이 저하되어 압흔이 약해지는 결과, 도전 입자의 접촉 면적이 감소하게 됨으로써 접속 신뢰성을 떨어뜨리는 문제가 있다.
Conventionally, in order to solve such a problem, there is a method using a binder resin having a high glass transition temperature (Tg) (Japanese Patent Laid-Open No. 2011-0159486, etc.). However, in the case of using a binder resin having a high glass transition temperature, although the physical properties are hard and the resistance to shrinkage and expansion is improved, the flowability of the resin is reduced and the indentation is weakened, resulting in a decrease in the contact area of the conductive particles. By doing so, there is a problem of lowering connection reliability.

한편, 본원 발명과 관련된 선행 기술로, 대한민국공개특허 제10-2011-0095127호가 있다. 상기 선행 기술은 페녹시 수지 및 라디칼 중합성 물질을 함유하는 필름으로서, 접속성이 우수한 저온 속경화형 이방 도전성 필름에 관한 것이다.On the other hand, as a prior art related to the present invention, there is Republic of Korea Patent Publication No. 10-2011-0095127. The above prior art is a film containing a phenoxy resin and a radical polymerizable material, and relates to a low temperature fast curing type anisotropic conductive film excellent in connectivity.

상기 선행 기술에서는 라디칼 중합성 물질로서 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트의 사용을 개시하고 있으나, 이를 페녹시 수지와 함께 사용하는 것으로 개시하고 있어 문제이다. 구체적으로 페녹시 수지는 산가가 매우 높은 화합물로서 라디칼 중합성 물질과 함께 사용할 경우 금속의 부식을 촉진시키는 경향이 있어 이를 활용한 이방성 도전 필름을 사용하여 반도체 장치를 접속할 경우, 장치의 신뢰성을 떨어뜨리는 문제가 있다. 따라서 페녹시 수지와 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트는 그 상용성이 문제되어 이를 함께 사용하는 상기 선행 기술로는 높은 신뢰성 물성을 기대하기 어려우며, 단단한 물성 및 수축/팽창에 대한 견딤성 또한 기대할 수 없다.
The prior art discloses the use of tricyclodecane dimethanol diacrylate as a radical polymerizable material, but it is disclosed to use it with a phenoxy resin, which is a problem. Specifically, phenoxy resin is a compound having a very high acid value, and when used with a radically polymerizable material, has a tendency to promote metal corrosion, and when the semiconductor device is connected by using an anisotropic conductive film utilizing the same, the reliability of the device is lowered. there is a problem. Therefore, the phenoxy resin and tricyclodecane dimethanol diacrylate have a problem of compatibility, and it is difficult to expect high reliability properties with the above-described prior art using them together, and hard properties and withstand resistance to shrinkage / expansion can also be expected. none.

일본공개특허공보 A 제2011-0159486호 (2011.08.08.공개)Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2011-0159486 (August 08, 2011) 대한민국공개특허공보 A 제10-2011-0095127호 (2011.08.24.공개)Republic of Korea Patent Publication A No. 10-2011-0095127 (August 24, 2011)

본 발명자들은 상기의 문제를 해결하기 위하여, 폴리에스테르 우레탄 수지 및 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트를 함께 함유함으로써, 저장 탄성률이 높아 수축 및 팽창에 대한 견딤성이 강하고 버블 발생이 적으며 고온, 고습하에 장시간 방치해 두어도 신뢰성 접착력 및 신뢰성 접속성이 우수한 이방성 도전 필름을 개발하기에 이르렀다.
In order to solve the above problems, the present inventors have a polyester urethane resin and tricyclodecane dimethanol diacrylate together, so that the storage elastic modulus is high, so it is resistant to shrinkage and expansion, there is little bubble generation, and high temperature and high humidity. Even if it was left for a long time under the condition, the anisotropic conductive film excellent in reliable adhesive force and reliable connection property was developed.

본원 발명은 폴리에스테르 우레탄 수지 및 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트를 함유함으로써, 단단한 물성을 띠어 열에 의한 부피 변화가 억제된 이방성 도전 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide an anisotropic conductive film containing polyester urethane resin and tricyclodecane dimethanol diacrylate, exhibiting rigid physical properties and suppressing volume change due to heat.

또한 본원 발명은 열에 의한 수축 및 팽창에 대한 견딤성이 강하여 필름 접착 부위의 초기 버블 발생을 억제할 뿐만 아니라, 고온, 고습하에 장시간 방치한 후의 버블 면적의 증가 역시 억제하는 이방성 도전 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, the present invention has a strong resistance to heat shrinkage and expansion to provide an anisotropic conductive film that not only suppresses the initial bubble generation of the film bonding site, but also suppresses the increase in the bubble area after a long time under high temperature and high humidity. The purpose.

또한 본원 발명은 단단한 물성을 띠면서도 신뢰성 접착력이 우수한 이방성 도전 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.
In addition, an object of the present invention is to provide an anisotropic conductive film having rigid properties and excellent in excellent adhesive strength.

본원 발명은 폴리에스테르 우레탄 수지 및 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트를 함께 함유하는 이방성 도전 필름에 관한 것이다.
The present invention relates to an anisotropic conductive film containing a polyester urethane resin and tricyclodecane dimethanol diacrylate together.

본원 발명의 일 양태는,According to one aspect of the present invention,

a) 폴리에스테르 우레탄 수지를 포함하는 바인더부;a) a binder portion comprising a polyester urethane resin;

b) 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트를 포함하는 라디칼 중합성 물질;b) radically polymerizable materials including tricyclodecane dimethanol diacrylate;

c) 경화 개시제; 및c) a curing initiator; And

d) 도전 입자d) conductive particles

를 함유하는, 이방성 도전 필름을 제공한다.
It provides the anisotropic conductive film containing.

본원 발명의 또 다른 일 양태에 따르면,According to another aspect of the present invention,

상기 이방성 도전 필름의 고형분 100 중량부에 대하여,To 100 parts by weight of solids of the anisotropic conductive film,

a) 폴리에스테르 우레탄 수지를 포함하는 바인더부 40 내지 80 중량부;a) 40 to 80 parts by weight of a binder part comprising a polyester urethane resin;

b) 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트를 포함하는 라디칼 중합성 물질 5 내지 50 중량부;b) 5 to 50 parts by weight of a radically polymerizable material comprising tricyclodecane dimethanol diacrylate;

c) 경화 개시제 0.1 내지 10 중량부; 및c) 0.1 to 10 parts by weight of a curing initiator; And

d) 도전 입자 0.1 내지 10 중량부d) 0.1 to 10 parts by weight of conductive particles

를 함유하는, 이방성 도전 필름을 제공한다.
It provides the anisotropic conductive film containing.

본원 발명의 또 다른 일 양태에 따르면, 상기 이방성 도전 필름의 고형분 100 중량부에 대하여, 상기 폴리에스테르 우레탄 수지를 5 내지 40 중량부로 함유하는, 이방성 도전 필름을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided an anisotropic conductive film containing 5 to 40 parts by weight of the polyester urethane resin based on 100 parts by weight of the solid content of the anisotropic conductive film.

본원 발명의 또 다른 일 양태에 따르면, 상기 이방성 도전 필름의 고형분 100 중량부에 대하여, 상기 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트를 5 내지 30 중량부로 함유하는, 이방성 도전 필름을 제공한다.
According to still another aspect of the present invention, there is provided an anisotropic conductive film containing 5 to 30 parts by weight of the tricyclodecane dimethanol diacrylate, based on 100 parts by weight of the solid content of the anisotropic conductive film.

본원 발명의 또 다른 일 양태에 따르면, 상기 이방성 도전 필름에 있어서, 유기 또는 무기 입자를 추가로 함유하는 이방성 도전 필름을 제공한다.According to still another aspect of the present invention, in the anisotropic conductive film, an anisotropic conductive film further containing organic or inorganic particles is provided.

본원 발명의 또 다른 일 양태에 따르면, 상기 유기 입자는, 아크릴레이트수지, 에틸렌아크릴레이트 공중합체, 에틸렌아크릴산 공중합체 등의 아크릴수지, 에틸렌수지, 에틸렌프로필렌 공중합체 등의 올레핀수지, 부타디엔수지, 아크릴로나이트릴부타디엔 공중합체, 스티렌-부타디엔 블록 공중합체(Styrene-Butadiene block copolymer), 스티렌-부타디엔-스티렌 블록 공중합체, 카르복시화 스티렌-에틸렌부타디엔-스티렌 블록 공중합체, 에틸렌스티렌부틸렌 블록 공중합체, 부타디엔 고무, 나이트릴-부타디엔 고무, 스티렌부타디엔 고무, 클로로프렌 고무 등의 고무류, 비닐부틸알 수지, 비닐포름 수지 등의 비닐류 수지, 폴리에스터, 시아네이트에스터 수지 등의 에스터 수지류, 페녹시 수지, 실리콘 고무 또는 우레탄 수지로 된 입자 등을 들 수 있다. 이들을 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.According to another aspect of the present invention, the organic particles may be an acrylic resin such as an acrylate resin, an ethylene acrylate copolymer, an ethylene acrylic acid copolymer, an olefin resin such as an ethylene resin, an ethylene propylene copolymer, butadiene resin, or acryl. Ronitrile butadiene copolymer, styrene-butadiene block copolymer, styrene-butadiene-styrene block copolymer, carboxylated styrene-ethylenebutadiene-styrene block copolymer, ethylene styrene butylene block copolymer, Rubbers such as butadiene rubber, nitrile-butadiene rubber, styrene butadiene rubber, chloroprene rubber, vinyl resins such as vinylbutylal resin and vinylform resin, ester resins such as polyester and cyanate ester resin, phenoxy resin, silicone And particles made of rubber or urethane resin. These may be used singly or in combination of two or more.

본원 발명의 또 다른 일 양태에 따르면, 상기 무기 입자는 실리카 등이 될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.According to another embodiment of the present invention, the inorganic particles may be silica, but is not limited thereto.

본원 발명의 또 다른 일 양태에 따르면, 상기 이방성 도전 필름의 고형분 100 중량부에 대하여, 상기 유기 또는 무기 입자를 1 내지 20 중량부로 함유하는, 이방성 도전 필름을 제공한다.
According to still another aspect of the present invention, there is provided an anisotropic conductive film containing 1 to 20 parts by weight of the organic or inorganic particles, based on 100 parts by weight of the solid content of the anisotropic conductive film.

본원 발명의 또 다른 일 양태에 따르면, 90% 이상 경화 후 40℃에서의 저장 탄성률이 100 MPa 이상인, 이방성 도전 필름을 제공한다.According to still another aspect of the present invention, there is provided an anisotropic conductive film having a storage modulus at 40 ° C of 100 MPa or more after 90% or more of curing.

본원 발명의 또 다른 일 양태에 따르면, 본압착 후, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건에서 500 시간 동안 방치한 후의 버블 면적이, 전극 간 스페이스 면적을 기준으로 20% 이하인, 이방성 도전 필름을 제공한다.According to still another aspect of the present invention, an anisotropic conductive film having a bubble area of 20% or less based on the inter-electrode space area after 500 hours at a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85% after main compression. to provide.

본원 발명의 또 다른 일 양태에 따르면, 본압착 후, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건에서 500 시간 동안 방치한 후의 접착력이 500 gf/cm이상인, 이방성 도전 필름을 제공한다.
According to still another aspect of the present invention, an anisotropic conductive film having an adhesive strength of 500 gf / cm or more after being left for 500 hours at 85 ° C. and 85% relative humidity after main compression is provided.

본원 발명의 또 다른 일 양태에 따르면, 폴리에스테르 우레탄 수지 및 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트를 함유하는 이방성 도전 필름으로서,According to another aspect of the present invention, as an anisotropic conductive film containing a polyester urethane resin and tricyclodecane dimethanol diacrylate,

a) 40℃에서의 저장 탄성률이 100 MPa 이상이고;a) the storage modulus at 40 ° C. is at least 100 MPa;

b) 본압착 후, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건에서 500 시간 동안 방치한 후의 버블 면적이, 전극 간 스페이스 면적을 기준으로 20% 이하인, 이방성 도전 필름을 제공한다.
b) After the main compression, an anisotropic conductive film is provided in which the bubble area after being left for 500 hours at a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85% is 20% or less based on the inter-electrode space area.

본원 발명의 또 다른 일 양태에 따르면, 배선 기판 및 반도체 칩을 포함하며 상기의 이방성 도전 필름으로 접속된 반도체 장치를 제공한다.
According to still another aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device including a wiring board and a semiconductor chip and connected with the anisotropic conductive film.

본원 발명의 이방성 도전 필름은 폴리에스테르 우레탄 수지 및 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트를 함께 함유함으로써, 저장 탄성률이 높아 수축 및 팽창에 대한 견딤성이 강하고 버블 발생이 적으며 고온, 고습하에 장시간 방치해 두어도 신뢰성 접착력 및 신뢰성 접속성이 우수한 효과를 갖는다.Since the anisotropic conductive film of the present invention contains a polyester urethane resin and tricyclodecane dimethanol diacrylate together, it has a high storage elastic modulus, resists shrinkage and expansion, has little resistance to bubbles, and is left for a long time under high temperature and high humidity. Even if it is, it has the effect which was excellent in reliable adhesive force and reliable connection property.

보다 구체적으로, 본원 발명은 폴리에스테르 우레탄 수지 및 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트를 함유함으로써, 단단한 물성을 띠어 열에 의한 부피 변화가 억제된 이방성 도전 필름을 제공하는 효과를 갖는다.More specifically, the present invention has an effect of providing an anisotropic conductive film containing polyester urethane resin and tricyclodecane dimethanol diacrylate, exhibiting rigid physical properties and suppressing volume change due to heat.

또한 본원 발명은 열에 의한 수축 및 팽창에 대한 견딤성이 강하여 필름 접착 부위의 초기 버블 발생을 억제할 뿐만 아니라, 고온, 고습하에 장시간 방치한 후의 버블 면적의 증가 역시 억제하는 이방성 도전 필름을 제공하는 효과를 갖는다.In addition, the present invention has a strong resistance to shrinkage and expansion due to heat not only to suppress the initial bubble generation of the film bonding site, but also to provide an anisotropic conductive film that suppresses the increase in the bubble area after a long time standing under high temperature and high humidity Has

또한 본원 발명은 단단한 물성을 띠면서도 신뢰성 접착력이 우수한 이방성 도전 필름을 제공하는 효과를 갖는다.
In addition, the present invention has the effect of providing an anisotropic conductive film having a solid physical properties but excellent in excellent adhesion.

이하, 본원 발명에 대하여 보다 상세히 설명한다. 본원 명세서에 기재되지 않은 내용은 본원 발명의 기술 분야 또는 유사 분야에서 숙련된 자이면 충분히 인식하고 유추할 수 있는 것이므로 그 설명을 생략한다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail. Those skilled in the art will appreciate that various modifications, additions and substitutions are possible, without departing from the scope and spirit of the invention as disclosed in the accompanying claims.

본원 발명의 일 양태는,According to one aspect of the present invention,

a) 폴리에스테르 우레탄 수지를 포함하는 바인더부;a) a binder portion comprising a polyester urethane resin;

b) 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트를 포함하는 라디칼 중합성 물질;b) radically polymerizable materials including tricyclodecane dimethanol diacrylate;

c) 경화 개시제; 및c) a curing initiator; And

d) 도전 입자d) conductive particles

를 함유하는, 이방성 도전 필름을 제공한다.
It provides the anisotropic conductive film containing.

a) 바인더부a) binder

본원 발명에서 사용되는 바인더부는 폴리에스테르 우레탄 수지를 포함하는 것을 특징으로 한다.
The binder portion used in the present invention is characterized by including a polyester urethane resin.

폴리에스테르 우레탄 수지Polyester urethane resin

본원 발명에서 사용되는 폴리에스테르 우레탄 수지로는 폴리에스테르 폴리올 및 디이소시아네이트의 반응에 의해 얻어진 수지를 사용할 수 있다.As a polyester urethane resin used by this invention, resin obtained by reaction of polyester polyol and diisocyanate can be used.

상기 폴리에스테르 폴리올은 복수의 에스테르기 및 복수의 수산기를 갖는 중합체를 말한다. 폴리에스테르 폴리올은 디카복시산 및 디올의 반응에 의해 얻을 수 있다.The polyester polyol refers to a polymer having a plurality of ester groups and a plurality of hydroxyl groups. The polyester polyol can be obtained by the reaction of dicarboxylic acid and diol.

상기 디카르복실산의 예로는, 프탈릭산, 테레프탈산, 이소프탈산, 아디프산, 세박산, 숙신산, 글루타르산, 수베린산, 아젤란산, 도데칸디카르복시산, 헥사히드로프탈산, 오르토-프탈산, 테트라클로로프탈산, 1,5-나프탈렌디카르복시산, 푸마르산, 말레인산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산 또는 테트라히드로프탈산 등을 들 수 있으며, 상기와 같은 방향족 디카복시산 또는 지방족 디카복시산이 바람직하다.Examples of the dicarboxylic acid include phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, adipic acid, sebacic acid, succinic acid, glutaric acid, subberic acid, azelanic acid, dodecanedicarboxylic acid, hexahydrophthalic acid, ortho-phthalic acid, Tetrachlorophthalic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, fumaric acid, maleic acid, itaconic acid, citraconic acid, mesaconic acid or tetrahydrophthalic acid, and the like. Preferred are aromatic dicarboxylic acids or aliphatic dicarboxylic acids.

상기 디올의 예로는, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 헥산디올, 네오펜틸글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 디프로필렌글리콜, 디부틸렌글리콜, 2-메틸-1,3-펜탄디올, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올 또는 1,4-시클로헥산디메탄올 등을 들 수 있으며, 상기와 같은 글리콜류가 바람직하다.Examples of the diol include ethylene glycol, propylene glycol, hexanediol, neopentyl glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5- Pentanediol, 1,6-hexanediol, dipropylene glycol, dibutylene glycol, 2-methyl-1,3-pentanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol or 1,4-cyclo Hexane dimethanol etc. are mentioned, The above-mentioned glycol is preferable.

상기 디이소시아네이트의 예로는, 이소포론디이소시아네이트(IPDI), 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트(MDI), 1,6-헥사메틸렌 디이소시아네이트(HDI), 크실렌 디이소시아네이트, 수소화 디페닐메탄 디이소시아네이트, 나프탈렌 디이소시아네이트, 2,4-톨루엔 디이소시아네이트 또는 2,6-톨루엔 디이소시아네이트 등을 들 수 있으며, 방향족, 지환족, 또는 지방족의 디이소시아네이트가 바람직하다.
Examples of the diisocyanate include isophorone diisocyanate (IPDI), 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (MDI), 1,6-hexamethylene diisocyanate (HDI), xylene diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane di Isocyanate, naphthalene diisocyanate, 2,4-toluene diisocyanate, 2,6-toluene diisocyanate, etc. are mentioned, Aromatic, alicyclic, or aliphatic diisocyanate is preferable.

상기 폴리에스테르 우레탄 수지는 중량 평균 분자량이 10,000 내지 100,000 g/mol인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 25,000 내지 70,000 g/mol인 것을 사용할 수 있다.
The polyester urethane resin preferably has a weight average molecular weight of 10,000 to 100,000 g / mol, more preferably 25,000 to 70,000 g / mol can be used.

상기 폴리에스테르 우레탄 수지는 이방성 도전 필름의 고형분 100 중량부에 대하여 바람직하게는 5 내지 40 중량부로 함유될 수 있으며, 보다 바람직하게는 15 내지 40 중량부로 함유될 수 있다. 상기 범위 내에서 저장 탄성률 및 접착력이 균형을 이루어 물성이 단단하면서도 접착력이 우수한 필름을 얻을 수 있다.
The polyester urethane resin may be contained in an amount of preferably 5 to 40 parts by weight, and more preferably 15 to 40 parts by weight, based on 100 parts by weight of the solid content of the anisotropic conductive film. Within this range, the storage modulus and the adhesive force are balanced, thereby obtaining a film having a hard physical property and excellent adhesion.

폴리에스테르 우레탄 수지와 함께 본원 발명에 사용되는 바인더 수지는 특별히 제한되지 아니하며 당해 기술 분야에서 통상적으로 사용하는 수지를 사용할 수 있다. 본원 발명에 사용 가능한 바인더 수지의 비제한적인 예로는 아크릴계 수지, 폴리우레탄계 수지, NBR 계 수지 등을 들 수 있다.
The binder resin used in the present invention together with the polyester urethane resin is not particularly limited, and resins commonly used in the art may be used. Non-limiting examples of the binder resin usable in the present invention include acrylic resins, polyurethane resins, NBR resins, and the like.

아크릴계 수지Acrylic resin

본원 발명에서 사용 가능한 아크릴계 수지는 아크릴계 단량체 및/또는 이와 중합 가능한 단량체를 중합하여 얻을 수 있다. 예를 들면, 아크릴계 수지는 탄소수 2개 내지 10개의 알킬기를 갖는 (메타)아크릴레이트, (메타)아크릴산, 비닐 아세테이트 및 이로부터 변성된 아크릴계 단량체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 단량체를 중합하여 제조된 것일 수 있다. 중합 방법은 특별히 제한되지 않는다.
The acrylic resin usable in the present invention can be obtained by polymerizing an acrylic monomer and / or a monomer polymerizable therewith. For example, the acrylic resin is a copolymer obtained by polymerizing at least one monomer selected from the group consisting of (meth) acrylates having 2 to 10 carbon atoms, (meth) acrylic acid, vinyl acetate and acrylic monomers modified therefrom Lt; / RTI > The polymerization method is not particularly limited.

폴리우레탄계 수지Polyurethane-based resin

본원 발명에서 사용 가능한 폴리우레탄계 수지는 우레탄 결합을 갖는 고분자 수지로서, 예를 들어 이소포론디이소 시아네이트, 폴리테트라메틸렌글리콜 등을 중합하여 제조될 수 있으나 이에 제한되지는 않는다. 폴리우레탄계 수지는 중량 평균 분자량이 50,000 내지 100,000 g/mol인 수지일 수 있다.
Polyurethane resins usable in the present invention is a polymer resin having a urethane bond, for example, may be prepared by polymerizing isophorone diiso cyanate, polytetramethylene glycol and the like, but is not limited thereto. The polyurethane-based resin may be a resin having a weight average molecular weight of 50,000 to 100,000 g / mol.

NBRNBR 계 수지Resin

본원 발명에서 사용 가능한 NBR계 수지는 아크릴로니트릴과 부타디엔의 유화 중합에 의해 제조된 공중합체로서, 공중합체 중 아크릴로니트릴과 부타디엔의 각각의 함량은 특별히 제한되지 않으며, 중합 방법도 특별히 제한되지 않는다. NBR계 수지는 중량 평균 분자량이 50,000 내지 2,000,000 g/mol인 수지일 수 있다.
The NBR resins usable in the present invention are copolymers prepared by emulsion polymerization of acrylonitrile and butadiene, and the content of acrylonitrile and butadiene in the copolymer is not particularly limited, and the polymerization method is not particularly limited. . The NBR-based resin may be a resin having a weight average molecular weight of 50,000 to 2,000,000 g / mol.

본원 발명의 바인더부는 이방성 도전 필름의 고형분 100 중량부에 대하여 바람직하게는 40 내지 80 중량부로 함유될 수 있으며, 보다 바람직하게는 55 내지 80 중량부로 함유될 수 있다. 상기 범위 내에서 저장 탄성률 및 접착력이 균형을 이루어 물성이 단단하면서도 접착력이 우수한 필름을 얻을 수 있다.
The binder portion of the present invention may be contained preferably 40 to 80 parts by weight, more preferably 55 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid content of the anisotropic conductive film. Within this range, the storage modulus and the adhesive force are balanced, thereby obtaining a film having a hard physical property and excellent adhesion.

b) 라디칼 중합성 물질b) radically polymerizable materials

본원 발명에서 사용되는 라디칼 중합성 물질은 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트(Tricyclodecane dimethanol diacrylate)를 포함하는 것을 특징으로 한다.
The radically polymerizable material used in the present invention is characterized by including tricyclodecane dimethanol diacrylate.

본원 발명에서 사용되는 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트는 이방성 도전 필름의 고형분 100 중량부에 대하여, 바람직하게는 5 내지 30 중량부로 함유될 수 있으며, 보다 바람직하게는 10 내지 25 중량부로 함유될 수 있다.
The tricyclodecane dimethanol diacrylate used in the present invention may be contained in an amount of preferably 5 to 30 parts by weight, more preferably 10 to 25 parts by weight, based on 100 parts by weight of the solid content of the anisotropic conductive film. have.

트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트와 함께 본원 발명에서 사용되는 라디칼 중합성 물질은 특별히 제한되지 아니하며 당해 기술 분야에서 통상적으로 사용하는 수지를 사용할 수 있다. 본원 발명에서 사용 가능한 라디칼 중합성 물질의 비제한적인 예로는 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 말레이미드 화합물 등을 들 수 있으며, 모노머, 올리고머 또는 모노머와 올리고머를 병용하여 사용할 수도 있다.
The radically polymerizable material used in the present invention with tricyclodecane dimethanol diacrylate is not particularly limited and may be a resin commonly used in the art. Non-limiting examples of the radically polymerizable material usable in the present invention include acrylates, methacrylates, maleimide compounds, and the like, and may be used in combination with monomers, oligomers or monomers and oligomers.

아크릴레이트Acrylate 또는  or 메타아크릴레이트Methacrylate

본원 발명에서 사용 가능한 아크릴레이트 또는 메타아크릴레이트의 예로는, 메틸 아크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 이소프로필 아크릴레이트, 이소부틸 아크릴레이트, 에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 트리메티롤프로판 트리 아크릴레이트, 테트라 메틸올 메탄 테트라 아크릴레이트, 2-히드록시-1,3-디아크릴록시프로판, 2,2-비스〔4-(아크릴록시폴리메톡시) 페닐〕프로판, 2,2-비스〔4-(아크릴록시폴리에톡시) 페닐〕프로판, 디시클로펜테닐아크릴레이트, 트리시클로데카닐아크릴레이트, 트리스(아크릴로일옥시에틸) 이소시아노레이트, 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트, 2-메타아크릴로일록시 포스페이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트 또는 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 이들은 단독 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
Examples of acrylates or methacrylates that can be used in the present invention include methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, isobutyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, trimetholpropane Triacrylate, tetra methylol methane tetra acrylate, 2-hydroxy-1,3-diacryloxypropane, 2,2-bis [4- (acryloxypolymethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (acryloxypolyethoxy) phenyl] propane, dicyclopentenyl acrylate, tricyclodecanyl acrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanate, tricyclodecane dimethanol diacrylate, 2-methacryloyl hydroxy phosphate, pentaerythritol tri (meth) acrylate or 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, and the like. It is not limited. These may be used alone or in combination of two or more.

말레이미드Maleimide

본원 발명에서 사용 가능한 말레이미드 화합물로는 분자 중에 말레이미드기를 적어도 2 개 이상 함유하는 것을 사용할 수 있다. 예를 들어 1-메틸-2,4-비스말레이미드벤젠, N,N'-m-페닐렌비스말레이미드, N,N'-p-페닐렌비스말레이미드, N,N'-m-토일렌비스말레이미드, N,N'-4,4-비페닐렌비스말레이미드, N,N'-4,4-(3,3'-디메틸비페닐렌) 비스말레이미드, N,N'-4,4-(3,3'-디메틸 디페닐 메탄) 비스말레이미드, N,N'-4,4-(3,3'-디에틸 디페닐 메탄) 비스말레이미드, N,N'-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, N,N'-4,4-디페닐프로판비스말레이미드, N,N'-4,4-디페닐에테르비스말레이미드, N,N'-3,3'-디페닐스르혼비스말레이미드, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시) 페닐) 프로판, 2,2-비스(3-s-부틸-4-8(4-말레이미드페녹시) 페닐) 프로판, 1,1-비스(4-(4-말레이미드페녹시) 페닐) 데칸, 4,4'-시크로헤키시리덴비스(1-(4-말레이미드페노키시)-2-시클로 헥실 벤젠, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시) 페닐) 헥사 플루오르 프로판 등을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 이들은 단독 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
As a maleimide compound which can be used by this invention, what contains at least 2 maleimide group in a molecule | numerator can be used. For example 1-methyl-2,4-bismaleimidebenzene, N, N'-m-phenylenebismaleimide, N, N'-p-phenylenebismaleimide, N, N'-m-toyl Renbismaleimide, N, N'-4,4-biphenylenebismaleimide, N, N'-4,4- (3,3'-dimethylbiphenylene) bismaleimide, N, N'- 4,4- (3,3'-dimethyl diphenyl methane) bismaleimide, N, N'-4,4- (3,3'-diethyl diphenyl methane) bismaleimide, N, N'-4 , 4-diphenylmethanebismaleimide, N, N'-4,4-diphenylpropanebismaleimide, N, N'-4,4-diphenyletherbismaleimide, N, N'-3,3 '-Diphenylsulfonebismaleimide, 2,2-bis (4- (4-maleimidephenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (3-s-butyl-4-8 (4-maleimidephenoxy C) phenyl) propane, 1,1-bis (4- (4-maleimidephenoxy) phenyl) decane, 4,4'-cyclohexythylidenebis (1- (4-maleimidephenoxy) -2 -Cyclohexyl benzene, 2,2-bis (4- (4-maleimidephenoxy) phenyl) hexafluoro propane and the like can be used But, this is not limited. These may be used alone or in mixture of two or more.

본원 발명의 라디칼 중합성 물질은 이방성 도전 필름의 고형분 100 중량부에 대하여 바람직하게는 5 내지 50 중량부로 함유될 수 있으며, 보다 바람직하게는 10 내지 40 중량부로 함유될 수 있다. 상기 라디칼 중합성 물질의 함량이 5 중량부 미만일 경우에는 본압착 후 경화 밀도 저하로 인한 신뢰적 특성 저하 및 전체적인 흐름성이 저하되어, 접착시 도전성 입자와 회로 기재의 접촉이 나빠질 우려가 있고 접속 저항의 상승 및 이로 인한 접속 신뢰성이 저하될 우려가 있다. 그 반면으로, 상기 라디칼 중합성 물질의 함량이 50 중량부를 초과할 경우에는 이방성 도전 필름의 형성이 어려워질 우려가 있고, 접착 특성이 저하될 우려가 있다.
The radically polymerizable material of the present invention may be contained in an amount of preferably 5 to 50 parts by weight, and more preferably 10 to 40 parts by weight, based on 100 parts by weight of the solid content of the anisotropic conductive film. When the content of the radically polymerizable material is less than 5 parts by weight, reliable characteristics are lowered and overall flowability is lowered due to the lowering of the curing density after the main compression, and there is a possibility that the contact between the conductive particles and the circuit substrate may be deteriorated at the time of adhesion and the connection resistance. There is a concern that the rise of and resulting connection reliability may be lowered. On the other hand, when the content of the radically polymerizable material exceeds 50 parts by weight, there is a fear that the formation of the anisotropic conductive film is difficult, and there is a fear that the adhesive properties are lowered.

c) 경화 개시제c) Curing initiator

본원 발명에서 사용되는 경화 개시제는 특별히 제한되지 아니하며 당해 기술 분야에서 통상적으로 사용하는 경화 개시제를 사용할 수 있다. 본원 발명에서 사용 가능한 경화 개시제의 비제한적인 예로는 퍼옥시드계와 아조계를 들 수 있으나, 이들에 제한되는 것은 아니다.
The curing initiator used in the present invention is not particularly limited and may be a curing initiator commonly used in the art. Non-limiting examples of curing initiators that can be used in the present invention include, but are not limited to, peroxide and azo.

퍼옥시드계Peroxide 개시제Initiator

본원 발명에서 사용 가능한 퍼옥시드계 개시제로는 벤조일 퍼옥시드, 라우릴 퍼옥시드, t-부틸터옥시라우레이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸 퍼옥시피발레이트, 큐멘 히드로 퍼옥시드 등을 사용할 수 있으나, 이들에 제한되는 것은 아니다.
Peroxide initiators usable in the present invention include benzoyl peroxide, lauryl peroxide, t-butylteroxylaurate, 1,1,3,3-tetramethylbutyl peroxypivalate, cumene hydroperoxide, and the like. Can be used, but is not limited to these.

아조계Azo 개시제Initiator

본원 발명에서 사용 가능한 아조계 개시제로는 2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸 발레로니트릴), 디메틸 2,2'-아조비스(2-메틸 프로피오네이트), 2,2'-아조비스(N-시클로헥실-2-메틸 프로피오네미드) 등을 사용할 수 있으나, 이들에 제한되는 것은 아니다.
Azo initiators usable in the present invention include 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethyl valeronitrile), dimethyl 2,2'-azobis (2-methyl propionate), 2,2'-azobis (N-cyclohexyl-2-methyl propionide) and the like can be used, but is not limited thereto.

본원 발명에서 사용되는 경화 개시제는 이방성 도전 필름의 고형분 100 중량부에 대하여, 바람직하게는 0.1 내지 10 중량부로 함유될 수 있다.
The curing initiator used in the present invention may be contained in an amount of preferably 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the anisotropic conductive film.

d) 도전 입자d) conductive particles

본원 발명에서 사용되는 도전 입자는 특별히 제한되지 아니하며 당해 기술 분야에서 통상적으로 사용하는 도전 입자를 사용할 수 있다.The conductive particles used in the present invention are not particularly limited and conductive particles commonly used in the art can be used.

본원 발명에서 사용 가능한 도전 입자의 비제한적인 예로는 Au, Ag, Ni, Cu, 땜납 등을 포함하는 금속 입자; 탄소; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르, 폴리스타이렌, 폴리비닐알코올 등을 포함하는 수지 및 그 변성 수지를 입자로 하여 Au, Ag, Ni 등을 포함하는 금속으로 도금 코팅한 입자; 그 위에 절연 입자를 추가로 코팅한 절연화 처리된 도전 입자 등을 들 수 있다.
Non-limiting examples of the conductive particles usable in the present invention include metal particles including Au, Ag, Ni, Cu, solder, and the like; carbon; Particles comprising a resin including polyethylene, polypropylene, polyester, polystyrene, polyvinyl alcohol or the like and particles of the modified resin coated with a metal such as Au, Ag, Ni or the like; Insulating particles coated with insulating particles, and the like.

상기 도전 입자의 크기는, 적용되는 회로의 피치(pitch)에 의해 2 내지 30 ㎛ 범위에서 용도에 따라 선택하여 사용할 수 있다.
The size of the said conductive particle can be selected and used according to a use in the range of 2-30 micrometers by the pitch of the circuit applied.

본원 발명에서 사용되는 도전 입자는 이방성 도전 필름의 고형분 100 중량부에 대하여 바람직하게는 0.1 내지 10 중량부로 함유될 수 있다. 상기의 범위 내에서 접속 및/또는 절연 불량의 발생을 방지하여 우수한 접속성을 획득할 수 있다.
The conductive particles used in the present invention may preferably contain 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the anisotropic conductive film. Within the above range, the occurrence of connection and / or insulation failure can be prevented to obtain excellent connectivity.

본원 발명의 또 다른 일 양태에 따르면, 상기 a), b), c) 및 d) 성분 이외에 유기 또는 무기 입자를 추가로 함유하는 이방성 도전 필름을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided an anisotropic conductive film further containing organic or inorganic particles in addition to the components a), b), c) and d).

상기 유기 또는 무기 입자는 특별히 제한되지 아니하며 당해 기술 분야에서 통상적으로 사용하는 입자를 사용할 수 있다.The organic or inorganic particles are not particularly limited and particles commonly used in the art may be used.

본원 발명에서 사용되는 유기 입자의 비제한적인 예로는 아크릴레이트수지, 에틸렌아크릴레이트 공중합체, 에틸렌아크릴산 공중합체 등의 아크릴수지, 에틸렌수지, 에틸렌프로필렌 공중합체 등의 올레핀수지, 부타디엔수지, 아크릴로나이트릴부타디엔 공중합체, 스티렌-부타디엔 블록 공중합체(Styrene-Butadiene block copolymer), 스티렌-부타디엔-스티렌 블록 공중합체, 카르복시화 스티렌-에틸렌부타디엔-스티렌 블록 공중합체, 에틸렌스티렌부틸렌 블록 공중합체, 부타디엔 고무, 나이트릴-부타디엔 고무, 스티렌부타디엔 고무, 클로로프렌 고무 등의 고무류, 비닐부틸알 수지, 비닐포름 수지 등의 비닐류 수지, 폴리에스터, 시아네이트에스터 수지 등의 에스터 수지류, 페녹시 수지, 실리콘 고무 또는 폴리우레탄 수지로 된 입자 등을 들 수 있다. 이들을 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Non-limiting examples of the organic particles used in the present invention are acrylate resins such as acrylate resins, ethylene acrylate copolymers, ethylene acrylic acid copolymers, olefin resins such as ethylene resins, ethylene propylene copolymers, butadiene resins, acrylonitrile Butyl-butadiene copolymer, styrene-butadiene block copolymer, styrene-butadiene-styrene block copolymer, carboxylated styrene-ethylenebutadiene-styrene block copolymer, ethylene styrene-butylene block copolymer, butadiene rubber Rubbers such as nitrile-butadiene rubber, styrene butadiene rubber, chloroprene rubber, vinyl resins such as vinylbutylal resin and vinylform resin, ester resins such as polyester and cyanate ester resin, phenoxy resin, silicone rubber or The particle | grains which consist of polyurethane resins, etc. are mentioned. These may be used singly or in combination of two or more.

본원 발명에서 사용되는 무기 입자로는 실리카 입자 등을 들 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
The inorganic particles used in the present invention may include silica particles, but are not limited thereto.

상기 유기 또는 무기 입자의 크기는 바람직하게는 0.1 내지 10 ㎛일 수 있으며, 보다 바람직하게는 0.1 내지 5 ㎛일 수 있다. 상기의 범위 내에서 입자가 적절한 정도로 분산될 수 있으며, 필름의 점착성이 떨어져 가압착 특성이 저하되는 문제를 방지할 수 있다.
The organic or inorganic particles may have a size of preferably 0.1 to 10 μm, more preferably 0.1 to 5 μm. The particles can be dispersed to an appropriate extent within the above range, and the problem that the pressure-bonding property is deteriorated due to the stickiness of the film is prevented can be prevented.

상기 유기 또는 무기 입자는 이방성 도전 필름의 고형분 100 중량부에 대하여, 바람직하게는 1 내지 20 중량부로 함유될 수 있다. 상기의 범위 내에서 유기 미립자를 첨가한 효과를 충분히 얻을 수 있으며, 필름의 인성(Toughness)이 지나치게 증가하는 현상을 막아 점착성이 떨어지는 문제를 방지할 수 있다.
The organic or inorganic particles may be contained in an amount of preferably 1 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the anisotropic conductive film. It is possible to sufficiently obtain the effect of adding the organic fine particles within the above range and to prevent the phenomenon that the toughness of the film is excessively increased to prevent the problem of deterioration of the tackiness.

본원 발명의 또 다른 일 양태에 따르면, 40℃에서의 저장 탄성률이 100 MPa 이상인, 이방성 도전 필름을 제공한다.According to another aspect of the present invention, an anisotropic conductive film having a storage modulus at 40 ° C. of 100 MPa or more is provided.

상기 저장 탄성률의 측정 방법은 특별히 제한되지 아니하며 당해 기술 분야에서 통상적으로 사용하는 방법을 사용할 수 있다. 저장 탄성률을 측정하는 방법의 비제한적인 일 예시는 다음과 같다: 이방성 도전 필름을 일정 크기(예를 들어, 가로 5 mm × 세로 30 mm)로 절단하여 측정 온도 범위를 -30℃ 내지 170℃로 하고, 승온 조건 4℃/분, 진동수를 10 Hz로 한다. 상기 조건에서 DMA(Dynamic Mechanical Analyzer; TA사의 Q800)를 이용하여 저장 탄성률을 측정할 수 있다.The method of measuring the storage modulus is not particularly limited, and a method commonly used in the art may be used. One non-limiting example of a method of measuring storage modulus is as follows: The anisotropic conductive film is cut to a certain size (eg, 5 mm x 30 mm) so that the measurement temperature range is -30 ° C to 170 ° C. And temperature rising conditions 4 degree-C / min, frequency shall be 10 Hz. Under the above conditions, the storage elastic modulus may be measured using a DMA (Q800).

본원 발명의 저장 탄성률은 바람직하게는 40℃에서 100 MPa 이상일 수 있다. 상기 범위 내에서 필름은 충분히 단단한 물성을 띠어 열에 의한 부피 변화를 억제할 수 있다.
The storage modulus of the invention may preferably be at least 100 MPa at 40 ° C. Within this range, the film may have sufficiently hard physical properties to suppress volume change due to heat.

본원 발명의 또 다른 일 양태에 따르면, 본압착 후, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건에서 500 시간 동안 방치한 후의 버블 면적이, 전극 간 스페이스 면적을 기준으로 20% 이하인, 이방성 도전 필름을 제공한다.According to still another aspect of the present invention, an anisotropic conductive film having a bubble area of 20% or less based on the inter-electrode space area after 500 hours at a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85% after main compression. to provide.

상기 본압착은 185℃, 4.5 MPa, 4초의 조건에서 수행되는 압착을 의미한다.The main compression refers to compression performed at 185 ° C., 4.5 MPa, 4 seconds.

상기 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건에서 500 시간 동안 방치한 후의 물성은 신뢰성 물성을 의미한다.Physical properties after being left for 500 hours at 85 ° C. and 85% relative humidity mean reliable physical properties.

상기 전극 간 스페이스는 전극과 전극 사이의 공간으로서, 압착시 이방성 도전 필름 조성물이 충진되는 공간을 의미한다.The inter-electrode space is a space between the electrode and the electrode, and means a space in which the anisotropic conductive film composition is filled during compression.

상기 버블 면적의 측정 방법은 특별히 제한되지 아니하며 당해 기술 분야에서 통상적으로 사용하는 방법을 사용할 수 있다. 상기 버블 면적 측정 방법의 비제한적인 예로는 상기 필름 조성물이 충진된 전극 간 스페이스를 현미경으로 관찰(또는 사진 촬영)하여 이미지 아날라이져 또는 눈금 격좌표 등을 이용하여 버블 면적을 계산할 수 있다.The method of measuring the bubble area is not particularly limited, and a method commonly used in the art can be used. As a non-limiting example of the method of measuring the bubble area, the space between the electrodes filled with the film composition can be observed (or photographed) by a microscope, and the bubble area can be calculated using an image analyzer or scale coordinates.

상기 신뢰성 버블 면적이 20%를 초과하는 이방성 도전 필름의 경우에는, 이를 활용하여 접속한 반도체 장치의 장기간 사용이 어려워 수명이 단축되는 문제가 있다.
In the case of the anisotropic conductive film having the above reliability bubble area of more than 20%, there is a problem in that it is difficult to use the semiconductor device connected by using the same for a long time and the life is shortened.

본원 발명의 또 다른 일 양태에 따르면, 본압착 후, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건에서 500 시간 동안 방치한 후의 접착력이 500 gf/cm 이상인, 이방성 도전 필름을 제공한다.According to still another aspect of the present invention, an anisotropic conductive film having an adhesive strength of 500 gf / cm or more after being left for 500 hours at a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85% after main compression is provided.

상기 본압착 조건은 전술한 조건과 동일하다.The main crimping conditions are the same as those described above.

상기 접착력을 측정하는 방법은 특별히 제한되지 아니하며 당해 기술 분야에서 통상적으로 사용하는 방법을 사용할 수 있다.The method for measuring the adhesive force is not particularly limited and may be a method commonly used in the art.

상기 접착력 측정 방법의 비제한적인 예로는 185℃, 4.5 MPa, 4초의 조건에서 압착 후, 필강도(Peel Strength) 측정기(H5KT, Tinius Olsen 사)로 필 각도(Peeling angle) 90° 및 필 속도(Peeling speed) 50 mm/min의 조건하에서 측정할 수 있다.Non-limiting examples of the method of measuring the adhesive force is 185 ° C, 4.5 MPa, after pressing at a condition of 4 seconds, peeling angle (Peeling angle) (H5KT, Tinius Olsen) Peeling angle (Peeling angle) 90 ° and peel rate ( Peeling speed) Can be measured under the condition of 50 mm / min.

상기 신뢰성 접착력이 500 gf/cm 미만인 이방성 도전 필름의 경우에는, 이를 활용하여 접속한 반도체 장치의 장기간 사용이 어려워 수명이 단축되는 문제가 있다.
In the case of the anisotropic conductive film having the above-mentioned reliable adhesive strength of less than 500 gf / cm, there is a problem in that it is difficult to use the semiconductor device connected by using the same for a long time and shorten the life.

본원 발명의 이방성 도전 필름을 형성하는 방법은 특별히 제한되지 아니하며 당해 기술 분야에서 통상적으로 사용하는 방법을 사용할 수 있다.The method for forming the anisotropic conductive film of the present invention is not particularly limited and a method commonly used in the art can be used.

이방성 도전 필름을 형성하는 방법은 특별한 장치나 설비가 필요하지 아니하며, 바인더 수지를 유기 용제에 용해시켜 액상화 한 후 나머지 성분을 첨가하여 일정 시간 교반하고, 이를 이형 필름 위에 적당한 두께, 예를 들어 10 내지 50 ㎛의 두께로 도포한 다음, 일정 시간 건조하여 유기 용제를 휘발시킴으로써 이방성 도전 필름을 얻을 수 있다.
The method for forming the anisotropic conductive film does not require any special apparatus or equipment. The binder resin is dissolved in an organic solvent to be liquefied, and then the remaining components are added and stirred for a predetermined time. An anisotropic conductive film can be obtained by apply | coating to the thickness of 50 micrometers, drying for a fixed time, and volatilizing an organic solvent.

본원 발명의 또 다른 일 양태에 따르면, 상기의 이방성 도전 필름으로 접속된 반도체 장치를 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device connected with the anisotropic conductive film.

상기 반도체 장치는, 배선 기판; 상기 배선 기판의 칩 탑재면에 부착되어 있는 이방성 도전 필름; 및 상기 필름상에 탑재된 반도체 칩을 포함할 수 있다.The semiconductor device includes: a wiring board; An anisotropic conductive film attached to the chip mounting surface of the wiring board; And a semiconductor chip mounted on the film.

본원 발명에 사용되는 상기 배선기판, 반도체 칩은 특별히 한정되지 아니하며 당해 기술 분야에서 알려진 것을 사용할 수 있다.The wiring board and the semiconductor chip used in the present invention are not particularly limited, and those known in the art may be used.

본원 발명의 반도체 장치를 제조하는 방법은 특별히 한정되지 아니하며, 당해 기술 분야에서 알려진 방법으로 수행될 수 있다.
The method for manufacturing the semiconductor device of the present invention is not particularly limited and may be performed by a method known in the art.

이하, 실시예, 비교예 및 실험예를 기술함으로써 본원 발명을 보다 상세히 설명한다. 다만, 하기의 실시예, 비교예 및 실험예는 본원 발명의 일 예시에 불과하며, 본원 발명의 내용이 이에 한정되는 것으로 해석되어서는 아니된다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail by describing Examples, Comparative Examples, and Experimental Examples. However, the following Examples, Comparative Examples and Experimental Examples are only examples of the present invention, and the contents of the present invention should not be construed as being limited thereto.

실시예Example 1 One

폴리에스테르 우레탄 수지 및 Polyester urethane resin and 트리시클로데칸Tricyclodecane 디메탄올Dimethanol 디아크릴레이트를Diacrylate 함유하는  Containing 이방성Anisotropy 도전 필름의 제조 Production of conductive film

이방성 도전 필름의 고형분 100 중량부에 대하여,With respect to 100 parts by weight of the solid content of the anisotropic conductive film,

a) 바인더부로서 폴리에스테르 우레탄 수지(NPC8750, 나눅스) 30 중량부; 및 아크릴 수지(AOF-7003, 애경화학) 27 중량부를 사용하고,a) 30 parts by weight of a polyester urethane resin (NPC8750, Nanox) as a binder part; And 27 parts by weight of acrylic resin (AOF-7003, Aekyung Chemical),

b) 라디칼 중합성 물질로서 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트 14 중량부; 우레탄 아크릴레이트(NPC7007, 나눅스) 12 중량부; 2-메타아크릴로일록시에틸 포스페이트 1 중량부; 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트 5 중량부; 및 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트 5 중량부를 사용하고,b) 14 parts by weight of tricyclodecane dimethanol diacrylate as a radically polymerizable material; 12 parts by weight of urethane acrylate (NPC7007, Nanox); 1 part by weight of 2-methacryloyloxyethyl phosphate; 5 parts by weight of pentaerythritol tri (meth) acrylate; And 5 parts by weight of 2-hydroxyethyl (meth) acrylate,

c) 경화 개시제로서 라우릴 퍼옥시드 3 중량부를 사용하고,c) using 3 parts by weight of lauryl peroxide as a curing initiator,

d) 도전 입자로서 3 ㎛의 크기인 도전성 입자(Sekisui사) 3 중량부를 사용하여 이들을 혼합해 이방성 필름용 조성물을 제조하였다.
d) 3 parts by weight of conductive particles (Sekisui Co., Ltd.) having a size of 3 μm as conductive particles were mixed to prepare a composition for an anisotropic film.

상기 조합액을 도전 입자가 분쇄되지 않는 속도 범위 내에서 상온(25℃)에서 60 분간 교반하였다. 상기 조합액을 실리콘 이형 표면 처리된 폴리에틸렌 베이스 필름에 35 ㎛의 두께의 필름으로 형성시켰으며, 필름 형성을 위해서 캐스팅 나이프(Casting knife)를 사용하였다. 필름의 건조 시간은 60℃에서 5분으로 하였다.
The combined solution was stirred at room temperature (25 DEG C) for 60 minutes in a speed range in which conductive particles were not crushed. The combined solution was formed into a film having a thickness of 35 탆 in a polyethylene base film subjected to a silicone release surface treatment, and a casting knife was used for film formation. The film was dried at 60 DEG C for 5 minutes.

실시예Example 2 2

폴리에스테르 우레탄 수지 및 Polyester urethane resin and 트리시클로데칸Tricyclodecane 디메탄올Dimethanol 디아크릴레이트를Diacrylate 함유하며,  Contains, 추가적으로Additionally 유기 입자를 함유하는  Containing organic particles 이방성Anisotropy 도전 필름의 제조 Production of conductive film

상기 실시예 1에 있어서, 폴리에스테르 우레탄 수지를 23 중량부로 사용하고 폴리우레탄 비드(MM-101-MS, Negami)를 5 중량부로 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법에 의하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.
In Example 1, except that 23 parts by weight of polyester urethane resin and 5 parts by weight of polyurethane beads (MM-101-MS, Negami) was used, the anisotropic conductive film by the same method as in Example 1 Was prepared.

실시예Example 3 3

폴리에스테르 우레탄 수지 및 Polyester urethane resin and 트리시클로데칸Tricyclodecane 디메탄올Dimethanol 디아크릴레이트를Diacrylate 함유하며,  Contains, 추가적으로Additionally 유기 입자를 함유하는  Containing organic particles 이방성Anisotropy 도전 필름의 제조 Production of conductive film

상기 실시예 1에 있어서, 폴리에스테르 우레탄 수지를 15 중량부로 사용하고; NBR계 수지(N-34, 니폰제온)를 5 중량부로 사용하고; 아크릴 수지를 20 중량부로 사용하고; 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트를 25 중량부로 사용하고; 2-히드록시에틸이소시아누레이트디아크릴레이트를 10 중량부로 사용하고; 도전 입자를 2 중량부로 사용하고; 폴리우레탄 비드(MM-101-MS, Negami)를 7 중량부로 사용하며, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트 및 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트를 사용하지 않는 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법에 의하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.
In Example 1, 15 parts by weight of polyester urethane resin is used; 5 parts by weight of NBR resin (N-34, Nippon Xeon) was used; 20 parts by weight of acrylic resin is used; 25 parts by weight of tricyclodecane dimethanol diacrylate is used; 10 parts by weight of 2-hydroxyethylisocyanurate diacrylate is used; 2 parts by weight of conductive particles are used; Example 1, except that polyurethane beads (MM-101-MS, Negami) is used in 7 parts by weight, and pentaerythritol tri (meth) acrylate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate are not used. An anisotropic conductive film was prepared by the same method as described above.

실시예Example 4 4

폴리에스테르 우레탄 수지 및 Polyester urethane resin and 트리시클로데칸Tricyclodecane 디메탄올Dimethanol 디아크릴레이트를Diacrylate 함유하는  Containing 이방성Anisotropy 도전 필름의 제조 Production of conductive film

상기 실시예 3에 있어서, 폴리에스테르 우레탄 수지를 40 중량부로 사용하고; 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트를 10 중량부로 사용하고; 우레탄 아크릴레이트를 5 중량부로 사용하고; 2-히드록시에틸이소시아누레이트디아크릴레이트를 13 중량부로 사용하고; 도전 입자를 3 중량부로 사용하며, 폴리우레탄 비드를 사용하지 않는 것을 제외하고는, 실시예 3과 동일한 방법에 의하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.
In Example 3, the polyester urethane resin is used in 40 parts by weight; Tricyclodecane dimethanol diacrylate is used in 10 parts by weight; Urethane acrylate is used in 5 parts by weight; 13 parts by weight of 2-hydroxyethylisocyanurate diacrylate; Anisotropic conductive films were prepared in the same manner as in Example 3, except that the conductive particles were used at 3 parts by weight and no polyurethane beads were used.

비교예Comparative Example 1 One

폴리에스테르 우레탄 수지는 함유하되, Polyester urethane resin, 트리시클로데칸Tricyclodecane 디메탄올Dimethanol 디아크릴레이트는Diacrylate is 함유하지 않는  Not containing 이방성Anisotropy 도전 필름의 제조 Production of conductive film

상기 실시예 1에 있어서, 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트 대신 트리스 2-히드록시 에틸 이소시아누레이트 디아크릴레이트를 사용하는 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법에 의하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.
An anisotropic conductive film was prepared in the same manner as in Example 1, except that tris 2-hydroxyethyl isocyanurate diacrylate was used instead of tricyclodecane dimethanol diacrylate. It was.

비교예Comparative Example 2 2

트리시클로데칸Tricyclodecane 디메탄올Dimethanol 디아크릴레이트를Diacrylate 함유하되, 폴리에스테르 우레탄 수지를 함유하지 않는  Containing but not containing polyester urethane resin 이방성Anisotropy 도전 필름의 제조 Production of conductive film

상기 실시예 1에 있어서, 폴리에스테르 우레탄 수지 대신 폴리올 우레탄 수지(NPC7007T, 나눅스)를 사용하는 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법에 의하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.
In Example 1, an anisotropic conductive film was prepared in the same manner as in Example 1, except that polyol urethane resin (NPC7007T, Nanux) was used instead of polyester urethane resin.

비교예Comparative Example 3 3

폴리에스테르 우레탄 수지 및 Polyester urethane resin and 트리시클로데칸Tricyclodecane 디메탄올Dimethanol 디아크릴레이트를Diacrylate 함유하지 않는  Not containing 이방성Anisotropy 도전 필름의 제조 Production of conductive film

상기 실시예 1에 있어서, 폴리에스테르 우레탄 수지 대신 폴리올 우레탄 수지(NPC7007T, 나눅스)를 사용하고, 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트 대신 트리스 2-히드록시 에틸 이소시아누레이트 디아크릴레이트를 사용하는 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법에 의하여 이방성 도전 필름을 제조하였다.
In Example 1, a polyol urethane resin (NPC7007T, Nanux) is used instead of the polyester urethane resin, and tris 2-hydroxy ethyl isocyanurate diacrylate is used instead of tricyclodecane dimethanol diacrylate. Except that, an anisotropic conductive film was prepared in the same manner as in Example 1.

하기 표 1 및 2는 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 3의 이방성 도전 필름의 조성을 중량부로 나타낸 것이다.
Tables 1 and 2 show the compositions of the anisotropic conductive films of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 by weight.

상세 성분Detailed ingredient 실시예Example 1 One 실시예Example 2 2 실시예Example 3 3 실시예Example 4 4
바인더bookbinder
폴리에스테르 우레탄 수지Polyester urethane resin 3030 2525 1515 4040
NBR계 수지NBR resin -- -- 55 55 아크릴 수지Acrylic resin 2727 2727 2020 2020 폴리올 우레탄 수지Polyol Urethane Resin -- -- -- --

라디칼Radical
중합성Polymerizable 물질 matter
트리시클로데칸디메탄올디아크릴레이트Tricyclodecane dimethanol diacrylate 1414 1414 2525 1010
우레탄 아크릴레이트Urethane acrylate 1212 1212 1212 55 2-메타아크릴로일록시에틸 포스페이트2-methacryloyloxyethyl phosphate 1One 1One 1One 1One 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트Pentaerythritol tri (meth) acrylate 55 55 -- -- 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트 2-hydroxyethyl (meth) acrylate 55 55 -- -- 2-히드록시에틸이소시아누레이트
디아크릴레이트
2-hydroxyethylisocyanurate
Diacrylate
-- -- 1010 1313
경화 Hardening 개시제Initiator 라우릴 퍼옥시드Lauryl peroxide 33 33 33 33 도전 입자Conductive particles 3 ㎛ 도전 입자(Sekisui사)3 μm conductive particles (Sekisui) 33 22 22 33 유기 입자Organic particles 폴리우레탄 비드Polyurethane beads -- 55 77 --

상세 성분Detailed ingredient 비교예Comparative Example 1 One 비교예Comparative Example 2 2 비교예Comparative Example 3 3
bar 인더In the
폴리에스테르 우레탄 수지Polyester urethane resin 2828 -- --
NBR계 수지NBR resin 22 22 22 아크릴 수지Acrylic resin 2727 2727 2727 폴리올 우레탄 수지Polyol Urethane Resin -- 2828 2828

라디칼Radical
중합성Polymerizable 물질 matter
트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트Tricyclodecane dimethanol diacrylate -- 1414 --
우레탄 아크릴레이트Urethane acrylate 1212 1212 1212 2-메타아크릴로일록시에틸 포스페이트2-methacryloyloxyethyl phosphate 1One 1One 1One 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트Pentaerythritol tri (meth) acrylate 55 55 55 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트 2-hydroxyethyl (meth) acrylate 55 55 55 2-히드록시에틸이소시아누레이트디아크릴레이트2-hydroxyethylisocyanurate diacrylate 1414 -- 1414 경화 Hardening 개시제Initiator 라우릴 퍼옥시드Lauryl peroxide 33 33 33 도전 입자Conductive particles 3 ㎛ 도전 입자(Sekisui사)3 μm conductive particles (Sekisui) 33 33 33 유기 입자Organic particles 폴리우레탄 비드Polyurethane beads -- -- --

실험예Experimental Example 1 One

저장 탄성률의 측정Measurement of storage modulus

상기 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 3의 40℃에서의 저장 탄성률을 측정하기 위하여 다음과 같은 방법으로 실험을 수행하였다.In order to measure the storage modulus at 40 ° C. of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3, experiments were performed as follows.

상기 각각의 이방성 도전 필름을 일정 크기(가로 5 mm × 세로 30 mm)로 절단하여 150℃ 오븐에 1시간 동안 방치하여 완전히 경화시킨 샘플을 측정 온도 범위를 -30℃ 내지 170℃로 하고, 승온 조건 4℃/분, 진동수를 10 Hz로 하여, DMA(Dynamic Mechanical Analyzer; TA사의 Q800)를 이용하여 저장 탄성률을 측정하였다.
Each anisotropic conductive film was cut into a predetermined size (5 mm × 30 mm) and left in a 150 ° C. oven for 1 hour to completely cure the sample, and the measurement temperature range was -30 ° C. to 170 ° C. The storage elastic modulus was measured using DMA (Dynamic Mechanical Analyzer; TA, Q800) at 4 ° C / min and a frequency of 10 Hz.

실험예Experimental Example 2 2

초기 및 신뢰성 접착력의 측정Initial and Reliability Measurement of Adhesion

상기 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 3의 이방성 도전 필름 각각을 메탈 전극 유리(Mo/Al/Mo 구조, 삼성전자)와 COF(삼성전자)를 이용하여 실측 온도 70℃에서 1초의 가압착 조건과, 185℃, 4초, 4.5 MPa의 본압착 조건으로 접속하여 상기 각각의 시편을 10개씩 준비하였다.Each of the anisotropic conductive films of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 was press-bonded for 1 second at a measurement temperature of 70 ° C. using metal electrode glass (Mo / Al / Mo structure, Samsung Electronics) and COF (Samsung Electronics). 10 specimens of each of the above specimens were prepared by connecting to the conditions and the main compression conditions of 185 ° C, 4 seconds, and 4.5 MPa.

이들 각각에 대하여 필강도(Peel Strength) 측정기(H5KT, Tinius Olsen 사)를 이용하여 필 각도 90° 및 필 속도 50 mm/min의 조건하에서 초기 접착력을 측정한 후, 평균값을 계산하였다.For each of these, an initial adhesive force was measured under a condition of a peel angle of 90 ° and a peel rate of 50 mm / min using a peel strength measuring instrument (H5KT, Tinius Olsen), and then an average value was calculated.

상기 각각의 10개씩의 시편을, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건하에서 500 시간 동안 방치하여 고온ㆍ고습 신뢰성 평가를 진행한 후, 이들 각각의 신뢰성 접착력을 상기와 동일한 방법으로 측정하여 평균값을 계산하였다.
Each of the ten specimens was allowed to stand at a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85% for 500 hours for high temperature and high humidity reliability evaluation, and then each of these reliable adhesive strengths was measured in the same manner as described above. Calculated.

실험예Experimental Example 3 3

초기 및 신뢰성 접속 저항의 측정Initial and Reliability Measurement of Connection Resistance

상기 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 3의 이방성 도전 필름 각각을 상온(25℃)에서 1 시간 동안 방치시킨 후, 0.5 t 글래스에 ITO층을 1000Å으로 피막한, 패턴 없는 글래스에 4 단자 측정 가능한 패던을 형성한 COF(삼성전자)를 이용하여 실측 온도 70℃에서 1초의 가압착 조건과, 185℃, 4초, 4.5 MPa의 본압착 조건으로 접속하여 상기 각각의 시편을 10개씩 준비하고, 이들 각각을 4 단자 측정 방법으로 초기 접속 저항을 측정(ASTM F43-64T 방법에 준함)하여 평균값을 계산하였다.After leaving each of the anisotropic conductive films of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 for 1 hour at room temperature (25 ° C.), 4-terminal measurement was performed on a patternless glass in which an ITO layer was coated at 1000 t with 0.5 t glass. Using the COF (Samsung Electronics) in which possible paddles were formed, 10 specimens were prepared by connecting each of the specimens at a measurement temperature of 70 ° C. under a 1 second press condition and at 185 ° C., 4 seconds and a 4.5 MPa main press condition. Each of these was measured by the four-terminal measuring method (based on ASTM F43-64T method) and the average value was calculated.

상기 각각의 10개씩의 시편을, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건하에서 500 시간 동안 방치하여 고온ㆍ고습 신뢰성 평가를 진행한 후, 이들 각각의 신뢰성 접속 저항을 측정(ASTM D117에 준함)하여 평균값을 계산하였다.
Each of the ten test specimens was allowed to stand for 500 hours under the conditions of a temperature of 85 캜 and a relative humidity of 85% to carry out a high temperature / high humidity reliability evaluation, and then each of these reliability connection resistors was measured (according to ASTM D117) The mean value was calculated.

실험예Experimental Example 4 4

초기 및 신뢰성 Initial and Reliability 버블bubble 면적의 측정 Area measurement

상기 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 3의 이방성 도전 필름 각각을 상온(25℃)에서 1 시간 동안 방치시킨 후, 0.5 t 글래스에 ITO층을 1000Å으로 피막한, 패턴 없는 글래스에 4 단자 측정 가능한 패던을 형성한 COF(삼성전자)를 이용하여 실측 온도 70℃에서 1초의 가압착 조건과, 185℃, 4초, 4.5 MPa의 본압착 조건으로 접속하여 상기 각각의 시편을 10개씩 준비하고, 이를 광학 현미경을 이용하여 10 군데의 사진을 찍은 후 이미지 아날라이져를 이용하여 전극 간 스페이스부의 버블 면적을 측정하여 평균값을 계산하였다.After leaving each of the anisotropic conductive films of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 for 1 hour at room temperature (25 ° C.), 4-terminal measurement was performed on a patternless glass in which an ITO layer was coated at 1000 t with 0.5 t glass. Using the COF (Samsung Electronics) in which possible paddles were formed, 10 specimens were prepared by connecting each of the specimens at a measurement temperature of 70 ° C. under a 1 second press condition and at 185 ° C., 4 seconds and a 4.5 MPa main press condition. Ten pictures were taken using an optical microscope, and then the average value was calculated by measuring the bubble area of the inter-electrode space part using an image analyzer.

상기 각각의 10개씩의 시편을, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건하에서 500 시간 동안 방치하여 고온ㆍ고습 신뢰성 평가를 진행한 후, 상기와 동일한 방법으로 버블 면적을 측정하여 평균값을 계산하였다.
Each of the ten specimens was allowed to stand at a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85% for 500 hours to perform high temperature and high humidity reliability evaluation, and then the bubble area was measured in the same manner as above to calculate the average value.

하기 표 3은 실험예 1 내지 4의 측정 결과를 나타낸 것이다.Table 3 shows the measurement results of Experimental Examples 1 to 4.

초기Early 500 500 hrhr 신뢰성 responsibility 접착력Adhesion
(( gfgf /Of cmcm ))
접속 저항Connection resistance
(Ω)(Ω)
버블bubble 면적 area
(%)(%)
접착력Adhesion
(( gfgf /Of cmcm ))
접속 저항Connection resistance
(Ω)(Ω)
버블bubble 면적 area
(%)(%)
실시예Example 1 One 782782 0.820.82 22 695695 1.541.54 77 실시예Example 2 2 796796 0.830.83 22 711711 1.521.52 55 실시예Example 3 3 824824 0.840.84 22 745745 1.481.48 55 실시예Example 4 4 842842 0.830.83 22 752752 1.441.44 44 비교예Comparative Example 1 One 757757 0.830.83 88 427427 2.422.42 2222 비교예Comparative Example 2 2 762762 0.870.87 99 412412 2.522.52 2929 비교예Comparative Example 3 3 672672 1.051.05 1515 357357 2.982.98 3535

상기 표 3을 살펴보면, 폴리에스테르 우레탄 수지와 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트를 함께 사용하여 제조한 실시예 1 내지 4의 경우, 상기 두 가지 물질을 전부 포함하지 않는 비교예 3은 물론, 각각 한 가지씩을 포함하는 비교예 1 및 2의 경우보다 초기 및 신뢰성 접착력, 접속 저항, 버블 면적에 걸친 전 항목에서 우수한 물성을 나타내는 것으로 확인되었다.Looking at Table 3, Examples 1 to 4 prepared by using a polyester urethane resin and tricyclodecane dimethanol diacrylate together, Comparative Example 3, which does not include both of the two materials, as well as each one It was confirmed that the physical properties were excellent in all items over initial and reliable adhesive strength, connection resistance, and bubble area than those of Comparative Examples 1 and 2 including branches.

특히, 상기 두 가지 물질을 함께 포함하는 이방성 도전 필름은 신뢰성 접착력이 매우 우수한 것으로 나타났으며, 신뢰성 후 버블 면적이 20% 이하로 측정되어 필름을 장기간 사용하여도 신뢰성이 유지될 것으로 판단되었다.In particular, the anisotropic conductive film including the two materials was found to be very excellent in the adhesive strength, the bubble area after the reliability was measured to 20% or less, it was determined that the reliability will be maintained even if the film is used for a long time.

한편, 실시예 1 및 2를 비교하여 볼 때, 폴리에스테르 우레탄 수지와 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트에 추가적으로 유기 입자를 첨가하는 경우, 특히 접착력 및 버블 물성이 더욱 우수해 짐을 확인할 수 있었다. 이는 유기 입자 및/또는 무기 입자가 이방성 도전 필름의 수축 및 팽창시 작용하는 응력을 완화하기 때문인 것으로 판단되었다.On the other hand, when comparing the Examples 1 and 2, when the organic particles are added to the polyester urethane resin and tricyclodecane dimethanol diacrylate, in particular, it was confirmed that the adhesion and bubble properties are more excellent. This was judged to be because the organic particles and / or inorganic particles relieve the stresses acting upon contraction and expansion of the anisotropic conductive film.

Claims (13)

a) 폴리에스테르 우레탄 수지를 포함하는 바인더부;
b) 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트를 포함하는 라디칼 중합성 물질;
c) 경화 개시제; 및
d) 도전 입자
를 함유하는, 이방성 도전 필름.
a) a binder portion comprising a polyester urethane resin;
b) radically polymerizable materials including tricyclodecane dimethanol diacrylate;
c) a curing initiator; And
d) conductive particles
An anisotropic conductive film containing a.
제1항에 있어서, 상기 이방성 도전 필름의 고형분 100 중량부에 대하여,
a) 폴리에스테르 우레탄 수지를 포함하는 바인더부 40 내지 80 중량부;
b) 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트를 포함하는 라디칼 중합성 물질 5 내지 50 중량부;
c) 경화 개시제 0.1 내지 10 중량부; 및
d) 도전 입자 0.1 내지 10 중량부
를 함유하는, 이방성 도전 필름.
2. The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein, based on 100 parts by weight of the solid content of the anisotropic conductive film,
a) 40 to 80 parts by weight of a binder part comprising a polyester urethane resin;
b) 5 to 50 parts by weight of a radically polymerizable material comprising tricyclodecane dimethanol diacrylate;
c) 0.1 to 10 parts by weight of a curing initiator; And
d) 0.1 to 10 parts by weight of conductive particles
An anisotropic conductive film containing a.
제2항에 있어서, 상기 이방성 도전 필름의 고형분 100 중량부에 대하여, 상기 폴리에스테르 우레탄 수지를 5 내지 40 중량부로 함유하는, 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film of Claim 2 which contains the said polyester urethane resin in 5-40 weight part with respect to 100 weight part of solid content of the said anisotropic conductive film. 제2항에 있어서, 상기 이방성 도전 필름의 고형분 100 중량부에 대하여, 상기 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트를 5 내지 30 중량부로 함유하는, 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film of Claim 2 which contains 5-30 weight part of said tricyclodecane dimethanol diacrylates with respect to 100 weight part of solids of the said anisotropic conductive film. 제1항 내지 제4항 중 어느 하나의 항에 있어서, 40℃에서의 저장 탄성률이 100 MPa 이상인, 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film of any one of Claims 1-4 whose storage elastic modulus in 40 degreeC is 100 Mpa or more. 제1항 내지 제4항 중 어느 하나의 항에 있어서, 본압착 후, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건에서 500 시간 동안 방치한 후의 버블 면적이, 전극 간 스페이스 면적을 기준으로 20% 이하인, 이방성 도전 필름.The bubble area according to any one of claims 1 to 4, wherein the bubble area after standing for 500 hours at a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85% after the main compression is 20% or less based on the inter-electrode space area. , Anisotropic conductive film. 폴리에스테르 우레탄 수지 및 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트를 함유하는 이방성 도전 필름으로서,
a) 40℃에서의 저장 탄성률이 100 MPa 이상이고;
b) 본압착 후, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건에서 500 시간 동안 방치한 후의 버블 면적이, 전극 간 스페이스 면적을 기준으로 20% 이하인, 이방성 도전 필름.
As an anisotropic conductive film containing polyester urethane resin and tricyclodecane dimethanol diacrylate,
a) the storage modulus at 40 ° C. is at least 100 MPa;
b) The anisotropic conductive film whose bubble area after leaving for 500 hours in the conditions of 85 degreeC of temperature and 85% of a relative humidity after main compression is 20% or less based on the space area between electrodes.
제1항 또는 제7항에 있어서, 유기 또는 무기 입자를 추가로 함유하는 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film of Claim 1 or 7 which further contains organic or inorganic particle. 제8항에 있어서, 상기 유기 입자는, 아크릴레이트수지, 아크릴수지, 에틸렌수지, 올레핀수지, 부타디엔수지, 아크릴로나이트릴부타디엔 공중합체, 스티렌-부타디엔 블록 공중합체(Styrene-Butadiene block copolymer), 스티렌-부타디엔-스티렌 블록 공중합체, 카르복시화 스티렌-에틸렌부타디엔-스티렌 블록 공중합체, 에틸렌스티렌부틸렌 블록 공중합체, 부타디엔 고무, 클로로프렌 고무, 실리콘 고무, 비닐 수지, 에스터 수지, 페녹시 수지 및 폴리우레탄 수지로 이루어진 군에서 선택되는 1 종 이상의 입자인, 이방성 도전 필름.The method of claim 8, wherein the organic particles, acrylate resin, acrylic resin, ethylene resin, olefin resin, butadiene resin, acrylonitrile butadiene copolymer, styrene-butadiene block copolymer (Styrene-Butadiene block copolymer), styrene Butadiene-styrene block copolymer, carboxylated styrene-ethylenebutadiene-styrene block copolymer, ethylene styrene-butylene block copolymer, butadiene rubber, chloroprene rubber, silicone rubber, vinyl resin, ester resin, phenoxy resin and polyurethane resin An anisotropic conductive film, which is at least one particle selected from the group consisting of: 제8항에 있어서, 상기 무기 입자는 실리카 입자인, 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film of claim 8, wherein the inorganic particles are silica particles. 제8항에 있어서, 상기 이방성 도전 필름의 고형분 100 중량부에 대하여, 상기 유기 또는 무기 입자를 1 내지 20 중량부로 함유하는, 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film of Claim 8 which contains 1-20 weight part of said organic or inorganic particles with respect to 100 weight part of solid content of the said anisotropic conductive film. 제1항 또는 제7항에 있어서, 본압착 후, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건에서 500 시간 동안 방치한 후의 접착력이 500 gf/cm이상인, 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film of Claim 1 or 7 whose adhesive force after leaving for 500 hours in the conditions of 85 degreeC and 85% of a relative humidity after main compression is 500 gf / cm or more. a) 배선 기판;
b) 상기 배선 기판의 칩 탑재면에 부착되어 있는 이방성 도전 필름; 및
c) 상기 이방성 도전 필름상에 탑재된 반도체 칩
을 포함하는 반도체 장치로서,
상기 이방성 도전 필름은 제1항 또는 제7항에 기재된 필름인, 반도체 장치.
a) a wiring board;
b) an anisotropic conductive film attached to the chip mounting surface of the wiring board; And
c) a semiconductor chip mounted on the anisotropic conductive film
A semiconductor device comprising:
The said anisotropic conductive film is a semiconductor device of Claim 1 or 7 which is a film.
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