KR102436360B1 - 모니터링 회로를 구비하는 반도체 장치 - Google Patents

모니터링 회로를 구비하는 반도체 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR102436360B1
KR102436360B1 KR1020170176216A KR20170176216A KR102436360B1 KR 102436360 B1 KR102436360 B1 KR 102436360B1 KR 1020170176216 A KR1020170176216 A KR 1020170176216A KR 20170176216 A KR20170176216 A KR 20170176216A KR 102436360 B1 KR102436360 B1 KR 102436360B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pull
gate
transistor
enable signal
delay cells
Prior art date
Application number
KR1020170176216A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20190074679A (ko
Inventor
김영훈
Original Assignee
에스케이하이닉스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에스케이하이닉스 주식회사 filed Critical 에스케이하이닉스 주식회사
Priority to KR1020170176216A priority Critical patent/KR102436360B1/ko
Priority to TW107122782A priority patent/TWI779057B/zh
Priority to US16/029,983 priority patent/US10651826B2/en
Priority to CN201811130874.3A priority patent/CN109946594B/zh
Publication of KR20190074679A publication Critical patent/KR20190074679A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102436360B1 publication Critical patent/KR102436360B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/317Testing of digital circuits
    • G01R31/3181Functional testing
    • G01R31/3183Generation of test inputs, e.g. test vectors, patterns or sequences
    • G01R31/318328Generation of test inputs, e.g. test vectors, patterns or sequences for delay tests
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K3/00Circuits for generating electric pulses; Monostable, bistable or multistable circuits
    • H03K3/01Details
    • H03K3/011Modifications of generator to compensate for variations in physical values, e.g. voltage, temperature
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2884Testing of integrated circuits [IC] using dedicated test connectors, test elements or test circuits on the IC under test
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/26Testing of individual semiconductor devices
    • G01R31/2607Circuits therefor
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/317Testing of digital circuits
    • G01R31/3181Functional testing
    • G01R31/3185Reconfiguring for testing, e.g. LSSD, partitioning
    • G01R31/318533Reconfiguring for testing, e.g. LSSD, partitioning using scanning techniques, e.g. LSSD, Boundary Scan, JTAG
    • G01R31/318577AC testing, e.g. current testing, burn-in
    • G01R31/31858Delay testing
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K5/00Manipulating of pulses not covered by one of the other main groups of this subclass
    • H03K5/13Arrangements having a single output and transforming input signals into pulses delivered at desired time intervals
    • H03K5/133Arrangements having a single output and transforming input signals into pulses delivered at desired time intervals using a chain of active delay devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • H01L22/30Structural arrangements specially adapted for testing or measuring during manufacture or treatment, or specially adapted for reliability measurements
    • H01L22/34Circuits for electrically characterising or monitoring manufacturing processes, e. g. whole test die, wafers filled with test structures, on-board-devices incorporated on each die, process control monitors or pad structures thereof, devices in scribe line
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K3/00Circuits for generating electric pulses; Monostable, bistable or multistable circuits
    • H03K3/02Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses
    • H03K3/027Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses by the use of logic circuits, with internal or external positive feedback
    • H03K3/03Astable circuits
    • H03K3/0315Ring oscillators

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Logic Circuits (AREA)

Abstract

본 발명은 모니터링 동작을 수행하는 반도체 장치에 관한 것으로, 직렬 연결되며, 각각이 직렬 연결된 풀업 트랜지스터 및 풀다운 트랜지스터를 포함하는 다수 개의 딜레이셀들; 인에이블 신호에 따라 상기 딜레이셀들이 모니터링 동작을 수행하도록 제어하는 모니터링 제어부; 및 상기 딜레이셀들의 각 입력단과 상기 풀업 트랜지스터 혹은 상기 풀다운 트랜지스터의 게이트 사이에 위치하여, 상기 인에이블 신호에 따라 턴온 정도를 조절하는 연결부를 포함할 수 있다.

Description

모니터링 회로를 구비하는 반도체 장치 {SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING MONITORING CIRCUIT}
본 특허문헌은 반도체 설계 기술에 관한 것으로, 구체적으로는 다수 개의 링 오실레이터 딜레이(ROD)를 이용하여 모니터링 동작을 수행하는 반도체 장치에 관한 것이다.
반도체 장치에서 트랜지스터의 특성은 공정(Process), 전압 (Voltage), 온도(Temperature)에 의해 그 특성이 변한다. 또한, 트랜지스터의 게이트 패터닝(GATE PATTERNING) 공정의 불일치, 또는 문턱 전압(Vth)을 결정하는 임플렌테이션(IMPLANTATION) 공정의 도스(DOSE) 량 차이 등에 의해 반도체 장치 내에 배치된 트랜지스터의 특성이 원래 설계 시의 의도와는 다른 특성을 나타낼 수 있고, 이는 반도체 제품의 성능 열화의 한 원인이 된다.
특히, 반도체 장치가 점차적으로 세밀화를 요구하고 있기 때문에, 반도체 장치 내에서 동일한 특성을 갖도록 구성하고 있는 트랜지스터라고 하더라도 공정 변이(process variation)로 인해 미세한 차이가 발생될 수 있다. 따라서, 반도체 장치 내 배치한 트랜지스터의 특성을 확인할 수 있는 장치의 구현이 필요하다.
최근에는, PVT에 의존하는 특성을 갖는 링 오실레이터 딜레이(Ring Oscillator Delay, ROD)를 반도체 장치에 배치하고, ROD에 구비된 NMOS 트랜지스터와 PMOS 트랜지스터의 개별 특성(예를 들어, 동작 속도)을 측정하여 공정 변이를 모니터링하고, 모니터링 결과에 따라 반도체 장치의 동작을 보상하는 스킴이 제안되었다.
본 발명의 실시 예가 해결하고자 하는 기술적 과제는, PMOS 트랜지스터와 NMOS 트랜지스터의 개별 특성을 정밀하게 모니터링 하기 위한 ROD를 구비하는 반도체 장치를 제공하는 데 있다.
본 발명의 일 실시 예에 따르면, 반도체 장치는, 각각이 직렬 연결된 풀업 트랜지스터 및 풀다운 트랜지스터를 포함하는 다수 개의 딜레이셀들; 인에이블 신호에 따라 상기 딜레이셀들이 모니터링 동작을 수행하도록 제어하는 모니터링 제어부; 및 상기 딜레이셀들의 각 입력단과 상기 풀업 트랜지스터 혹은 상기 풀다운 트랜지스터의 게이트 사이에 위치하여, 상기 인에이블 신호에 따라 턴온 정도를 조절하는 연결부를 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 실시 예에 따르면, 반도체 장치는, 각각이 직렬 연결된 제 1 풀업 및 제 1 풀다운 트랜지스터를 포함하는 다수 개의 제 1 딜레이셀들이 직렬 연결되어, 제 1 인에이블 신호에 따라 모니터링 동작을 수행하는 제 1 모니터링부; 각각이 직렬 연결된 제 2 풀업 및 제 2 풀다운 트랜지스터를 포함하는 다수 개의 제 2 딜레이셀들이 직렬 연결되어, 제 2 인에이블 신호에 따라 모니터링 동작을 수행하는 제 2 모니터링부; 상기 제 1 딜레이셀들의 입력단과 상기 제 1 풀업 트랜지스터의 게이트 사이에 위치하여, 상기 제 1 인에이블 신호에 따라 턴온 정도를 조절하는 제 1 연결부; 및 상기 제 2 딜레이셀들의 입력단과 상기 제 2 풀다운 트랜지스터의 게이트 사이에 위치하여, 상기 제 2 인에이블 신호에 따라 턴온 정도를 조절하는 제 2 연결부를 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시 예에 따르면, 반도체 장치는, 각각이 직렬 연결된 풀업 및 풀다운 트랜지스터를 포함하는 다수 개의 딜레이 셀들이 직렬 연결되어, 인에이블 신호에 따라 모니터링 동작을 수행하는 모니터링부; 상기 딜레이셀들의 각 입력단과 상기 풀업 트랜지스터의 게이트 사이에 위치하여, 제 1 제어 신호에 따라 턴온 정도를 조절하는 제 1 연결부; 상기 딜레이셀들의 입력단과 상기 풀다운 트랜지스터의 게이트단 사이에 위치하여, 제 2 제어 신호에 따라 턴온 정도를 조절하는 제 2 연결부; 및 상기 인에이블 신호가 활성화되면 모드 신호에 따라 상기 제 1 제어 신호 또는 상기 제 2 제어 신호를 활성화시키고, 상기 인에이블 신호가 비활성화되면 상기 제 1 제어 신호 및 상기 제 2 제어 신호를 비활성화시키는 제어 신호 생성부를 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시 예에 따르면, 반도체 장치는, 직렬 연결되며, 각각이 직렬 연결된 풀업 트랜지스터 및 풀다운 트랜지스터를 포함하는 다수 개의 딜레이셀들; 인에이블 신호에 따라 상기 딜레이셀들이 모니터링 동작을 수행하도록 제어하는 모니터링 제어부; 및 상기 딜레이셀들의 각 입력단과 상기 풀업 트랜지스터 혹은 상기 풀다운 트랜지스터의 게이트 사이에 위치하여, 턴온 상태를 유지하는 연결부를 포함할 수 있다.
제안된 실시 예에 따른 반도체 장치는 공정 변이를 모니터링하기 위해 구비되는 ROD가 모니터링 동작을 수행하지 않을 때 누설 전류를 차단함으로써 실제 필드에 적용이 유리하다는 효과가 있다.
또한, 제안된 실시 예에 따른 PMOS 트랜지스터를 모니터링하는 ROD와 NMOS 트랜지스터를 모니터링하는 ROD 사이의 미스매치에 의한 영향을 최소화시킬 수 있는 효과가 있다.
도 1 은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 장치의 블록 구성도이다.
도 2 는 도 1 의 반도체 장치의 동작을 설명하기 위한 타이밍도 이다.
도 3 은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반도체 장치의 블록 구성도이다.
도 4 는 도 3 의 반도체 장치의 동작을 설명하기 위한 타이밍도 이다.
도 5 는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 반도체 장치의 블록 구성도이다.
도 6 은 도 5 의 제어 신호 생성부의 동작을 설명하기 위한 진리표 이다.
도 7 은 도 5 의 반도체 장치의 동작을 설명하기 위한 타이밍도 이다.
이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 가장 바람직한 실시예를 첨부 도면을 참조하여 설명하기로 한다. 본 발명을 설명함에 있어서, 본 발명의 요지와 무관한 공지의 구성은 생략될 수 있다. 각 도면의 구성요소들에 참조 번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 한해서는 비록 다른 도면 상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다.
도 1 은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 장치(100)의 블록 구성도이다.
도 1 을 참조하면, 반도체 장치(100)는 제 1 모니터링부(120), 제 2 모니터링부(140), 선택부(160) 및 카운팅부(180)를 포함할 수 있다.
제 1 모니터링부(120)는, PMOS 트랜지스터의 특성을 모니터링하기 위한 링 오실레이터 딜레이(Ring Oscillator Delay, ROD)로 구성될 수 있다. 제 2 모니터링부(140)는, NMOS 트랜지스터의 특성을 모니터링하기 위한 링 오실레이터 딜레이(ROD)로 구성될 수 있다.
제 1 모니터링부(120)는, 직렬 연결된 다수 개의 제 1 딜레이셀들(122_1~122_K) 및 제 1 인에이블 신호(ROD_EN1)에 따라 제 1 딜레이셀들(122_1~122_K)이 모니터링 동작을 수행하도록 제어하는 제 1 모니터링 제어부(124)를 포함할 수 있다. 제 1 딜레이셀들(122_1~122_K)은 짝수 개(즉, K는 짝수)로 구성될 수 있다. 제 1 딜레이셀들(122_1~122_K)은 다수의 인버터들로 이루어진 딜레이 체인(delay chain)을 구성한다. 제 1 딜레이셀들(122_1~122_K) 각각은 직렬 연결된 풀업 트랜지스터(PU1) 및 풀다운 트랜지스터(PD1)를 포함할 수 있다. 제 1 모니터링 제어부(124)는, 제 1 인에이블 신호(ROD_EN1)가 활성화되면 제 1 딜레이셀들(122_1~122_K) 중 마지막 단의 딜레이셀(122_K)의 출력(즉, 제 1 모니터링 신호(ROD1_OUT))을 반전하여 첫 단의 딜레이셀(122_1)의 입력단(IN1)에 제공할 수 있다. 바람직하게는, 제 1 모니터링 제어부(124)는, 제 1 인에이블 신호(ROD_EN1) 및 제 1 모니터링 신호(ROD1_OUT)를 입력받아 낸드 동작을 수행하는 낸드 게이트(ND1)로 구성될 수 있다.
또한, 제 1 모니터링부(120)는, 제 1 딜레이셀들(122_1~122_K) 각각의 입력단과 풀업 트랜지스터(PU1)의 게이트 사이에 위치하여, 턴온 상태를 유지하는 다수 개의 풀업 연결부(126_1~126_K)를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 풀업 연결부(126_1)는 일단이 제 1 딜레이셀(122_1)의 입력단(IN1)에 연결되고, 타단이 제 1 딜레이셀(122_1)의 풀업 트랜지스터(PU1)의 게이트에 연결되고, 게이트가 접지 전압(VSS)단에 연결된 PMOS 트랜지스터(CP1)로 구성될 수 있다. 제 1 모니터링부(120)는, 풀업 트랜지스터(PU1)의 게이트 앞에 위치한 다수 개의 풀업 연결부(126_1~126_K)를 이용하여 PMOS 트랜지스터의 특성을 모니터링할 수 있다.
제 2 모니터링부(140)는, 직렬 연결된 다수 개의 제 2 딜레이셀들(142_1~142_K) 및 제 2 인에이블 신호(ROD_EN2)에 따라 제 2 딜레이셀들(142_1~142_K)이 모니터링 동작을 수행하도록 제어하는 제 2 모니터링 제어부(144)를 포함할 수 있다. 제 2 딜레이셀들(142_1~142_K)은 짝수 개(즉, K는 짝수)로 구성될 수 있다. 제 2 딜레이셀들(142_1~142_K)은 다수의 인버터들로 이루어진 딜레이 체인을 구성하며, 제 2 딜레이셀들(142_1~142_K) 각각은 직렬 연결된 풀업 트랜지스터(PU2) 및 풀다운 트랜지스터(PD2)를 포함할 수 있다. 제 2 모니터링 제어부(144)는, 제 2 인에이블 신호(ROD_EN2)가 활성화되면 제 2 딜레이셀들(142_1~142_K) 중 마지막 단의 딜레이셀(142_K)의 출력(즉, 제 2 모니터링 신호(ROD2_OUT))을 반전하여 첫 단의 딜레이셀(142_1)의 입력단(IN2)에 제공할 수 있다. 바람직하게는, 제 2 모니터링 제어부(144)는, 제 2 인에이블 신호(ROD_EN2) 및 제 2 모니터링 신호(ROD2_OUT)를 입력받아 낸드 동작을 수행하는 낸드 게이트(ND2)로 구성될 수 있다.
또한, 제 2 모니터링부(140)는, 제 2 딜레이셀들(142_1~142_K)의 각각의 입력단과 풀다운 트랜지스터(PD2)의 게이트 사이에 위치하여, 턴온 상태를 유지하는 다수 개의 풀다운 연결부(146_1~146_K)를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 풀다운 연결부(146_1)는 일단이 제 2 딜레이셀(142_1)의 입력단(IN2)에 연결되고, 타단이 제 2 딜레이셀(142_1)의 풀업 트랜지스터(PU2)의 게이트에 연결되고, 게이트가 전원 전압(VDD)단에 연결된 NMOS 트랜지스터(CN1)로 구성될 수 있다. 제 2 모니터링부(140)는, 풀다운 트랜지스터(PD2)의 게이트 앞에 위치한 다수 개의 풀다운 연결부(146_1~146_K)를 이용하여 NMOS 트랜지스터의 특성을 모니터링할 수 있다.
한편, 비록 도 1 에는, 제 1 모니터링부(120)가 다수 개의 풀업 연결부(126_1~126_K)를 포함하고, 제 2 모니터링부(140)가 다수 개의 풀다운 연결부(146_1~146_K)를 포함하는 것으로 도시되어 있지만, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 즉, 다수 개의 풀업 연결부(126_1~126_K)는 제 1 모니터링부(120)와는 별개로 구성되고, 다수 개의 풀다운 연결부(146_1~146_K)는 제 2 모니터링부(140)와는 별개로 구성될 수 있다.
선택부(160)는, 선택 신호(ROD_SEL)에 응답하여 제 1 모니터링 신호(ROD1_OUT) 혹은 제 2 모니터링 신호(ROD2_OUT)를 선택하여 최종 모니터링 신호(ROD_OUT)로 출력할 수 있다. 선택 신호(ROD_SEL)는, 제 1 인에이블 신호(ROD_EN1)가 활성화되면 로직 로우 레벨을 가지고, 제 2 인에이블 신호(ROD_EN2)가 활성화되면 로직 하이 레벨을 가지는 신호일 수 있다.
카운팅부(180)는 카운팅 인에이블 신호(ROD_CNT_EN)에 따라 최종 모니터링 신호(ROD_OUT)의 토글링 수를 카운팅하여 카운팅 신호(ROD_CNT<N-1:0>)로 출력할 수 있다. 카운팅 인에이블 신호(ROD_CNT_EN)는, 제 1 인에이블 신호(ROD_EN1) 혹은 제 2 인에이블 신호(ROD_EN2)가 활성화되면 활성화되는 신호일 수 있다. 카운팅부(180)는 카운팅 인에이블 신호(ROD_CNT_EN)가 비활성화되면 일정 시간 후에 리셋될 수 있다.
한편, 도면에 도시되지 않았지만, 모드 레지스터 셋(MRS) 혹은 테스트 모드 레지스터 셋(TMRS)로부터 모드 설정 신호를 입력받고, 이를 디코딩하여 제 1 인에이블 신호(ROD_EN1) 및 제 2 인에이블 신호(ROD_EN2)를 생성하는 디코더를 추가로 구비할 수 있다.
참고로, 도 1 에서, 도면 부호 "PG_1", "PG_2" 및 "PG_K"는 다수 개의 풀업 연결부(126_1~126_K)와 다수 개의 제 1 딜레이셀들(122_1~122_K) 사이의 노드를 의미하고, 도면 부호 "NG_1", "NG_2" 및 "NG_K"는 다수 개의 풀다운 연결부(146_1~146_K)와 다수 개의 제 2 딜레이셀들(142_1~142_K) 사이의 노드를 의미한다.
이하, 도면을 참조하여 도 1 의 반도체 장치(100)의 모니터링 동작을 설명하기로 한다.
도 2 는 도 1 의 반도체 장치(100)의 동작을 설명하는 타이밍도 이다.
도 2 를 참조하면, 제 1 인에이블 신호(ROD_EN1)가 로직 로우 레벨로 비활성화되는 스탠바이 모드 시, 제 1 모니터링 제어부(124)는 제 1 딜레이셀(122_1)의 입력단(IN1)에 로직 하이 레벨의 신호를 입력한다. 이에 따라 제 1 딜레이셀들(122_1~122_K)은 로직 하이 레벨로 고정된 제 1 모니터링 신호(ROD1_OUT)를 출력할 수 있다. 마찬가지로, 제 2 인에이블 신호(ROD_EN2)가 로직 로우 레벨로 비활성화되는 스탠바이 모드 시, 제 2 딜레이셀들(142_1~142_K)은 로직 하이 레벨로 고정된 제 2 모니터링 신호(ROD2_OUT)를 출력할 수 있다.
제 1 인에이블 신호(ROD_EN1)가 로직 하이 레벨로 활성화되면, 제 1 모니터링 제어부(124)는 제 1 모니터링 신호(ROD1_OUT)를 반전하여 제 1 딜레이셀(122_1)의 입력단(IN1)에 출력한다. 제 1 딜레이셀들(122_1~122_K)은 링 발진을 수행하여 해당 반도체 장치가 제작된 공정 조건(P)과 동작 전압(V), 동작 온도(T)에 의해 결정되는 주파수로 발진하는 제 1 모니터링 신호(ROD1_OUT)를 발생시킬 수 있다. 이 때, 풀업 연결부(126_1~126_K)로 인해, 제 1 딜레이셀들(122_1~122_K)의 풀업 트랜지스터(PU1)의 구동력(strength)이 감소된다. 이에 따라, 제 1 모니터링 신호(ROD1_OUT)의 라이징 에지가 수직 프로파일이 아닌 기울기(slope)를 가지는 프로파일을 가지게 된다. 즉, 제 1 모니터링부(120)는, 풀다운 트랜지스터(PD1)에 비해 풀업 트랜지스터(PU1)의 특성에 더 영향을 받는 제 1 모니터링 신호(ROD1_OUT)를 생성할 수 있다.
선택부(160)는 로직 로우 레벨의 선택 신호(ROD_SEL)에 응답하여 제 1 모니터링 신호(ROD1_OUT)를 선택하여 최종 모니터링 신호(ROD_OUT)로 출력한다. 카운팅부(180)는 카운팅 인에이블 신호(ROD_CNT_EN)에 따라 최종 모니터링 신호(ROD_OUT)의 토글링 수를 카운팅하여 카운팅 신호(ROD_CNT<N-1:0>)로 출력한다. 이 때, 카운팅 신호(ROD_CNT<N-1:0>)는, 풀업 트랜지스터(PU1)의 특성에 따라 변하는 카운팅 값을 가질 수 있다. 외부 장치(예를 들어, 컨트롤러 혹은 테스트 장치)는 카운팅 신호(ROD_CNT<N-1:0>)를 모니터링 하여 반도체 장치 내의 배치된 PMOS 트랜지스터의 크기 등을 변화시킬 수 있다. 카운팅부(180)는 카운팅 인에이블 신호(ROD_CNT_EN)가 비활성화되면 일정 시간 후에 카운팅 신호(ROD_CNT<N-1:0>)를 리셋시킬 수 있다.
마찬가지로, 제 2 인에이블 신호(ROD_EN2)가 로직 하이 레벨로 활성화되면, 제 2 모니터링 제어부(144)는 제 2 모니터링 신호(ROD2_OUT)를 반전하여 제 2 딜레이셀(142_1)의 입력단(IN2)에 출력한다. 제 2 딜레이셀들(142_1~142_K)은 링 발진을 수행하여 해당 반도체 장치가 제작된 공정 조건(P)과 동작 전압(V), 동작 온도(T)에 의해 결정되는 주파수로 발진하는 제 2 모니터링 신호(ROD2_OUT)를 발생시킬 수 있다. 이 때, 풀다운 연결부(146_1~146_K)로 인해, 제 2 딜레이셀(142_1)의 풀다운 트랜지스터(PD2)의 구동력(strength)이 감소된다. 이에 따라, 제 2 모니터링 신호(ROD2_OUT)의 폴링 에지가 수직 프로파일이 아닌 기울기(slope)를 가지는 프로파일을 가지게 된다. 즉, 제 2 모니터링부(140)는, 풀업 트랜지스터(PU2)에 비해 풀다운 트랜지스터(PD2)의 특성에 더 영향을 받는 제 2 모니터링 신호(ROD2_OUT)를 생성할 수 있다.
선택부(160)는 로직 하이 레벨의 선택 신호(ROD_SEL)에 응답하여 제 2 모니터링 신호(ROD2_OUT)를 선택하여 최종 모니터링 신호(ROD_OUT)로 출력한다. 카운팅부(180)는 카운팅 인에이블 신호(ROD_CNT_EN)에 따라 최종 모니터링 신호(ROD_OUT)의 토글링 수를 카운팅하여 카운팅 신호(ROD_CNT<N-1:0>)로 출력한다. 이 때, 카운팅 신호(ROD_CNT<N-1:0>)는, 풀다운 트랜지스터(PD2)의 특성에 따라 변하는 카운팅 값을 가질 수 있다. 외부 장치는 카운팅 신호(ROD_CNT<N-1:0>)를 모니터링 하여 반도체 장치 내의 배치된 NMOS 트랜지스터의 크기 등을 변화시킬 수 있다.
상기와 같이, 제 1 실시예에 따른 반도체 장치(100)는, 장치 내부의 ROD에 구비된 NMOS 트랜지스터와 PMOS 트랜지스터의 개별 특성을 측정하여 공정 변이를 모니터링하고, 모니터링 결과에 따라 반도체 장치의 동작을 보상할 수 있다.
한편, 제 1 실시예에 따른 반도체 장치(100)에서는, 제 1 모니터링부(120)가 모니터링 동작을 수행하지 않을 때, 즉, 제 1 인에이블 신호(ROD_EN1)가 비활성화되는 스탠바이 모드 시에 풀업 연결부(126_1~126_K)가 액티브 저항으로 동작하게 된다. 이에 따라, 도 2 에 도시된 바와 같이, 홀수 단의 노드(PG_1)는 로직 하이 레벨을 유지하지만, 짝수 단의 노드(PG_2, PG_K)는 로직 로우 레벨이 아닌, 로직 로우 레벨에서 풀업 연결부(126_1)의 PMOS 트랜지스터(CP1)의 임계 전압(Vth) 만큼 상승된 레벨을 유지하게 된다(도 2 의 음영 부분 참조). 마찬가지로, 제 2 모니터링부(140)가 모니터링 동작을 수행하지 않을 때, 즉, 제 2 인에이블 신호(ROD_EN2)가 비활성화되는 스탠바이 모드 시에 풀다운 연결부(146_1~146_K)가 액티브 저항으로 동작하게 된다. 이에 따라, 도 2 에 도시된 바와 같이, 짝수 단의 노드(NG_2, NG_K)는 로직 로우 레벨을 유지하지만, 홀수 단의 노드(NG_1)는 로직 하이 레벨에서 풀업 연결부(126_1)의 PMOS 트랜지스터(CP1)의 임계 전압(Vth) 만큼 하강된 레벨을 유지하게 된다(도 2 의 음영 부분 참조).
따라서, 스탠바이 모드 시, 풀업 연결부(126_1~126_K) 혹은 풀다운 연결부(146_1~146_K)로 인해 누설 전류가 발생할 수 있다. 이하, 제 2 실시예에서는 스탠바이 모드 시 각 모니터링부의 누설 전류를 최소화할 수 있는 회로에 대해 논의한다.
도 3 은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반도체 장치(200)의 블록 구성도이다.
도 3 을 참조하면, 반도체 장치(200)는 제 1 모니터링부(220), 제 2 모니터링부(240), 선택부(260) 및 카운팅부(280)를 포함할 수 있다. 도 3 의 선택부(260) 및 카운팅부(280)는 도 1 의 선택부(160) 및 카운팅부(180)와 구성 및 동작이 실질적으로 동일하므로 상세한 설명은 생략하기로 한다.
제 1 모니터링부(220)는, PMOS 트랜지스터의 특성을 모니터링하기 위한 링 오실레이터 딜레이(Ring Oscillator Delay, ROD)로 구성될 수 있다. 제 2 모니터링부(240)는, NMOS 트랜지스터의 특성을 모니터링하기 위한 링 오실레이터 딜레이(ROD)로 구성될 수 있다.
제 1 모니터링부(220)는, 직렬 연결된 다수 개의 제 1 딜레이셀들(222_1~222_K) 및 제 1 인에이블 신호(ROD_EN1)에 따라 제 1 딜레이셀들(222_1~222_K)이 모니터링 동작을 수행하도록 제어하는 제 1 모니터링 제어부(224)를 포함할 수 있다. 제 1 딜레이셀들(222_1~222_K)은 짝수 개(즉, K는 짝수)로 구성될 수 있다. 제 1 딜레이셀들(222_1~222_K)은 다수의 인버터들로 이루어진 딜레이 체인(delay chain)을 구성한다. 제 1 딜레이셀들(222_1~222_K) 각각은 직렬 연결된 풀업 트랜지스터(PU3) 및 풀다운 트랜지스터(PD3)를 포함할 수 있다. 제 1 모니터링 제어부(224)는, 제 1 인에이블 신호(ROD_EN1)가 활성화되면 제 1 딜레이셀들(222_1~222_K) 중 마지막 단의 딜레이셀(222_K)의 출력(즉, 제 1 모니터링 신호(ROD1_OUT))을 반전하여 첫 단의 딜레이셀(222_1)의 입력단(IN1)에 제공할 수 있다. 바람직하게는, 제 1 모니터링 제어부(224)는, 제 1 인에이블 신호(ROD_EN1) 및 제 1 모니터링 신호(ROD1_OUT)를 입력받아 낸드 동작을 수행하는 낸드 게이트(ND3)로 구성될 수 있다.
또한, 제 1 모니터링부(220)는, 제 1 딜레이셀들(222_1~222_K) 각각의 입력단과 풀업 트랜지스터(PU3)의 게이트 사이에 위치하며, 제 1 인에이블 신호(ROD_EN1)에 따라 턴온 정도를 조절하는 다수 개의 풀업 연결부(226_1~226_K)를 더 포함할 수 있다. 도 1 의 풀업 연결부(126_1~126_K)와 다르게, 도 3 의 풀업 연결부(226_1~226_K)는 제 1 인에이블 신호(ROD_EN1)가 비활성화될 때의 풀업 트랜지스터(PU3)의 구동력(strength)을 제 1 인에이블 신호(ROD_EN1)가 활성화될 때의 풀업 트랜지스터(PU3)의 구동력(strength) 보다 증가시키도록 동작할 수 있다. 일 실시예로, 풀업 연결부(226_1~226_K) 각각은, 제 1 인에이블 신호(ROD_EN1)가 비활성화되면 강하게(fully) 턴온되고, 제 1 인에이블 신호(ROD_EN1)가 활성화되면 약하게(slightly) 턴온되는 트랜스미션 게이트(TG1)로 구성될 수 있다. 트랜스미션 게이트(TG1)는, PMOS 트랜지스터(CP2) 및 NMOS 트랜지스터(CN2)를 포함할 수 있다. PMOS 트랜지스터(CP2)는, 일단이 제 1 딜레이셀(222_1)의 입력단(IN1)에 연결되고, 타단이 제 1 딜레이셀(222_1)의 풀업 트랜지스터(PU3)의 게이트에 연결되고, 게이트가 접지 전압(VSS)단에 연결될 수 있다. NMOS 트랜지스터(CN2)는, 일단이 제 1 딜레이셀(222_1)의 입력단(IN1)에 연결되고, 타단이 제 1 딜레이셀(222_1)의 풀업 트랜지스터(PU3)의 게이트에 연결되고, 게이트로 제 1 인에이블 신호(ROD_EN1)의 반전 신호(ROD_ENB1)를 입력받을 수 있다.
제 2 모니터링부(240)는, 직렬 연결된 다수 개의 제 2 딜레이셀들(242_1~242_K) 및 제 2 인에이블 신호(ROD_EN2)에 따라 제 2 딜레이셀들(242_1~242_K)이 모니터링 동작을 수행하도록 제어하는 제 2 모니터링 제어부(244)를 포함할 수 있다. 제 2 딜레이셀들(242_1~242_K)은 짝수 개(즉, K는 짝수)로 구성될 수 있다. 제 2 딜레이셀들(242_1~242_K)은 다수의 인버터들로 이루어진 딜레이 체인을 구성하며, 제 2 딜레이셀들(242_1~242_K) 각각은 직렬 연결된 풀업 트랜지스터(PU4) 및 풀다운 트랜지스터(PD4)를 포함할 수 있다. 제 2 모니터링 제어부(244)는, 제 2 인에이블 신호(ROD_EN2)가 활성화되면 제 2 딜레이셀들(242_1~242_K) 중 마지막 단의 딜레이셀(242_K)의 출력(즉, 제 2 모니터링 신호(ROD2_OUT))을 반전하여 첫 단의 딜레이셀(242_1)의 입력단(IN2)에 제공할 수 있다. 바람직하게는, 제 2 모니터링 제어부(244)는, 제 2 인에이블 신호(ROD_EN2) 및 제 2 모니터링 신호(ROD2_OUT)를 입력받아 낸드 동작을 수행하는 낸드 게이트(ND4)로 구성될 수 있다.
또한, 제 2 모니터링부(240)는, 제 2 딜레이셀들(242_1~242_K)의 각각의 입력단과 풀다운 트랜지스터(PD4)의 게이트 사이에 위치하며, 제 2 인에이블 신호(ROD_EN2)에 따라 턴온 정도를 조절하는 다수 개의 풀다운 연결부(246_1~246_K)를 더 포함할 수 있다. 도 1 의 풀다운 연결부(146_1~146_K)와 다르게, 도 3 의 풀다운 연결부(246_1~246_K)는 제 2 인에이블 신호(ROD_EN2)가 비활성화될 때의 풀다운 트랜지스터(PD4)의 구동력을 제 2 인에이블 신호(ROD_EN2)의 활성화될 때의 풀다운 트랜지스터(PD4)의 구동력 보다 증가시키도록 동작할 수 있다. 일 실시예로, 풀다운 연결부(246_1~246_K) 각각은, 제 2 인에이블 신호(ROD_EN2)가 비활성화되면 강하게(fully) 턴온되고, 제 2 인에이블 신호(ROD_EN2)가 활성화되면 약하게(slightly) 턴온되는 트랜스미션 게이트(TG2)로 구성될 수 있다. 트랜스미션 게이트(TG2)는, NMOS 트랜지스터(CN3) 및 PMOS 트랜지스터(CP3)를 포함할 수 있다. NMOS 트랜지스터(CN3)는, 일단이 제 2 딜레이셀(242_1)의 입력단(IN2)에 연결되고, 타단이 제 2 딜레이셀(242_1)의 풀다운 트랜지스터(PD4)의 게이트에 연결되고, 게이트가 전원 전압(VDD)단에 연결될 수 있다. PMOS 트랜지스터(CP3)는, 일단이 제 2 딜레이셀(242_1)의 입력단(IN1)에 연결되고, 타단이 제 2 딜레이셀(242_1)의 풀다운 트랜지스터(PD4)의 게이트에 연결되고, 게이트로 제 2 인에이블 신호(ROD_EN2)를 입력받을 수 있다.
상기와 같이, 제 1 모니터링부(220)는, 풀업 트랜지스터(PU3)의 게이트 앞에 위치한 다수 개의 풀업 연결부(226_1~226_K)를 이용하여 PMOS 트랜지스터의 특성을 모니터링할 수 있다. 또한, 제 2 모니터링부(140)는, 풀다운 트랜지스터(PD4)의 게이트 앞에 위치한 다수 개의 풀다운 연결부(246_1~246_K)를 이용하여 NMOS 트랜지스터의 특성을 모니터링할 수 있다. 이 때, 제 2 실시예에 따른 반도체 장치(200)는 제 1 인에이블 신호(ROD_EN1) 혹은 제 2 인에이블 신호(ROD_EN2)가 비활성화되는 스탠바이 모드 시, 풀업 연결부(226_1~226_K) 및 풀다운 연결부(246_1~246_K)가 모두 강하게(fully) 턴온된다. 즉, 풀업 트랜지스터(PU3)의 게이트 및 풀다운 트랜지스터(PD4)의 게이트로 로직 하이 레벨 혹은 로직 로우 레벨의 정확하게 정의된 신호가 입력됨으로써 풀업 트랜지스터(PU3)의 게이트 및 풀다운 트랜지스터(PD4)에서 누설되는 전류를 최소화할 수 있다.
이하, 도면을 참조하여 도 3 의 반도체 장치(200)의 모니터링 동작을 설명하기로 한다.
도 4 는 도 3 의 반도체 장치(200)의 동작을 설명하는 타이밍도 이다.
도 4 를 참조하면, 제 1 인에이블 신호(ROD_EN1)가 로직 하이 레벨로 활성화되는 모니터링 동작 및 제 2 인에이블 신호(ROD_EN2)가 로직 하이 레벨로 활성화되는 모니터링 동작은 도 2 의 모니터링 동작과 실질적으로 동일하므로, 모니터링 동작에 관한 설명은 생략하기로 한다.
제 1 인에이블 신호(ROD_EN1)가 로직 로우 레벨로 비활성화되는 스탠바이 모드 시, 제 1 모니터링 제어부(224)는 제 1 딜레이셀(222_1)의 입력단(IN1)에 로직 하이 레벨의 신호를 입력하고, 이에 따라 제 1 딜레이셀들(222_1~222_K)은 로직 하이 레벨로 고정된 제 1 모니터링 신호(ROD1_OUT)를 출력할 수 있다. 이 때, 풀업 연결부(226_1~226_K)는 강하게(fully) 턴온되므로, 도 2 와는 다르게 짝수 단의 노드(PG_2, PG_K)가 로직 로우 레벨을 유지하게 된다.
마찬가지로, 제 2 인에이블 신호(ROD_EN2)가 로직 로우 레벨로 비활성화되는 스탠바이 모드 시, 제 2 모니터링 제어부(244)는 제 2 딜레이셀(242_1)의 입력단(IN2)에 로직 하이 레벨의 신호를 입력하고, 이에 따라 제 2 딜레이셀들(242_1~242_K)은 로직 하이 레벨로 고정된 제 2 모니터링 신호(ROD2_OUT)를 출력할 수 있다. 이 때, 풀다운 연결부(246_1~246_K)는 강하게(fully) 턴온되므로, 도 2 와는 다르게 홀수 단의 노드(NG_1)가 로직 하이 레벨을 유지하게 된다.
상기와 같이, 제 2 실시예에 따른 반도체 장치(200)는 스탠바이 모드 시 각 모니터링부의 누설 전류를 최소화할 수 있다.
이하, 제 3 실시예에서는 PMOS 트랜지스터의 특성을 모니터링과 NMOS 트랜지스터의 특성을 모니터링의 미스매치를 최소화할 수 있는 회로에 대해 논의하고자 한다.
도 5 는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 반도체 장치(300)의 블록 구성도이다. 도 6 은 도 5 의 제어 신호 생성부(310)의 동작을 설명하기 위한 진리표 이다.
도 5 를 참조하면, 반도체 장치(300)는 제어 신호 생성부(310), 모니터링부(320) 및 카운팅부(380)를 포함할 수 있다.
제어 신호 생성부(310)는, 인에이블 신호(ROD_EN)가 활성화되면, 모드 신호(PLHN)에 따라 제 1 제어 신호(NCTRL) 또는 제 2 제어 신호(PCTRL)를 활성화시킬 수 있다. 제어 신호 생성부(310)는, 인에이블 신호(ROD_EN)가 비활성화되면, 모드 신호(PLHN)와 상관없이 제 1 제어 신호(NCTRL)는 로직 하이 레벨로 비활성화시켜 출력하고, 제 2 제어 신호(PCTRL)는 로직 로우 레벨로 비활성화시켜 출력할 수 있다.
도 6 을 참조하면, 모드 신호(PLHN)는, PMOS 트랜지스터를 모니터링할지 NMOS 트랜지스터를 모니터링할 지를 결정하기 위한 신호로, PMOS 트랜지스터를 모니터링할 때는 로직 로우 레벨이 되고, NMOS 트랜지스터를 모니터링할 때는 로직 하이 레벨이 될 수 있다. 즉, 제어 신호 생성부(310)는, 인에이블 신호(ROD_EN)가 활성화된 상태에서 모드 신호(PLHN)가 로직 로우 레벨로 입력되면, PMOS 트랜지스터의 특성을 모니터링하도록 제 1 제어 신호(NCTRL)를 로직 로우 레벨로 활성화시켜 출력 할 수 있다. 또한, 제어 신호 생성부(310)는, 인에이블 신호(ROD_EN)가 활성화된 상태에서 모드 신호(PLHN)가 로직 하이 레벨로 입력되면, NMOS 트랜지스터의 특성을 모니터링하도록 제 2 제어 신호(PCTRL)를 로직 하이 레벨로 활성화시켜 출력 할 수 있다. 제어 신호 생성부(310)는, 모니터링부(320)가 모니터링 동작을 수행하지 않을 때, 즉, 인에이블 신호(ROD_EN)가 비활성화되는 스탠바이 모드 시, 제 1 제어 신호(NCTRL)를 로직 하이 레벨로 비활성화시켜 출력하고, 제 2 제어 신호(PCTRL)는 로직 로우 레벨로 비활성화시켜 출력할 수 있다.
다시 도 5 를 참조하면, 제어 신호 생성부(310)는, 앤드 게이트(AND1), 인버터(INV1) 및 오아 게이트(OR1)로 구성될 수 있다. 앤드 게이트(AND1)는 인에이블 신호(ROD_EN) 및 모드 신호(PLHN)를 입력받아 앤드 연산하여 제 2 제어 신호(PCTRL)를 출력한다. 인버터(INV1)는 인에이블 신호(ROD_EN)를 반전한다. 오아 게이트(OR1)는 인버터(INV1)의 출력과 제 2 제어 신호(PCTRL)를 오아 연산하여 제 1 제어 신호(NCTRL)를 출력한다.
모니터링부(320)는, PMOS 트랜지스터 및 NMOS의 트랜지스터 특성을 모니터링하기 위한 링 오실레이터 딜레이(Ring Oscillator Delay, ROD)로 구성될 수 있다. 모니터링부(320)는, 직렬 연결된 다수 개의 딜레이셀들(322_1~322_K) 및 인에이블 신호(ROD_EN)에 따라 딜레이셀들(322_1~322_K)이 모니터링 동작을 수행하도록 제어하는 모니터링 제어부(324)를 포함할 수 있다. 딜레이셀들(322_1~322_K)은 짝수 개(즉, K는 짝수)로 구성될 수 있다. 딜레이셀들(322_1~322_K)은 다수의 인버터들로 이루어진 딜레이 체인(delay chain)을 구성한다. 딜레이셀들(322_1~322_K) 각각은 직렬 연결된 풀업 트랜지스터(PU5) 및 풀다운 트랜지스터(PD5)를 포함할 수 있다. 모니터링 제어부(324)는, 인에이블 신호(ROD_EN)가 활성화되면 딜레이셀들(322_1~322_K) 중 마지막 단의 딜레이셀(322_K)의 출력(즉, 모니터링 신호(ROD_OUT))을 반전하여 첫 단의 딜레이셀(322_1)의 입력단(IN1)에 제공할 수 있다. 바람직하게는, 모니터링 제어부(324)는, 인에이블 신호(ROD_EN) 및 모니터링 신호(ROD_OUT)를 입력받아 낸드 동작을 수행하는 낸드 게이트(ND5)로 구성될 수 있다.
또한, 모니터링부(320)는, 딜레이셀들(322_1~322_K) 각각의 입력단과 풀업 트랜지스터(PU5)의 게이트 사이에 위치하며, 제 1 제어 신호(NCTRL)에 따라 턴온 정도를 조절하는 다수 개의 풀업 연결부(326_1~326_K)와, 딜레이셀들(322_1~322_K)의 각각의 입력단과 풀다운 트랜지스터(PD5)의 게이트 사이에 위치하며, 제 2 제어 신호(PCTRL)에 따라 턴온 정도를 조절하는 다수 개의 풀다운 연결부(328_1~328_K)를 더 포함할 수 있다.
풀업 연결부(326_1~326_K)는 제 1 제어 신호(NCTRL)가 비활성화될 때의 풀업 트랜지스터(PU5)의 구동력을 제 1 제어 신호(NCTRL)가 활성화될 때의 풀업 트랜지스터(PU5)의 구동력 보다 증가시키도록 동작할 수 있다. 일 실시예로, 풀업 연결부(326_1~326_K) 각각은, 제 1 제어 신호(NCTRL)가 비활성화되면 강하게(fully) 턴온되고, 제 1 제어 신호(NCTRL)가 활성화되면 약하게(slightly) 턴온되는 트랜스미션 게이트(TG3)로 구성될 수 있다. 트랜스미션 게이트(TG3)는, PMOS 트랜지스터(CP4) 및 NMOS 트랜지스터(CN4)를 포함할 수 있다. PMOS 트랜지스터(CP4)는 일단이 딜레이셀(322_1)의 입력단(IN1)에 연결되고, 타단이 딜레이셀(322_1)의 풀업 트랜지스터(PU5)의 게이트에 연결되고, 게이트가 접지 전압(VSS)단에 연결될 수 있다. NMOS 트랜지스터(CN4)는, 일단이 딜레이셀(322_1)의 입력단(IN1)에 연결되고, 타단이 딜레이셀(322_1)의 풀업 트랜지스터(PU5)의 게이트에 연결되고, 게이트로 제 1 제어 신호(NCTRL)를 입력받을 수 있다. 이 때, 상기에서 설명한 바와 같이, 제 1 제어 신호(NCTRL)는 로직 로우 레벨로 활성화되는 신호로, NMOS 트랜지스터(CN4)는, 제 1 제어 신호(NCTRL)가 비활성화될 때 턴온될 수 있다.
풀다운 연결부(328_1~328_K)는 제 2 제어 신호(PCTRL)가 비활성화될 때의 풀다운 트랜지스터(PD5)의 구동력을 제 2 제어 신호(PCTRL)가 활성화될 때의 풀다운 트랜지스터(PD5)의 구동력 보다 증가시키도록 동작할 수 있다. 일 실시예로, 풀다운 연결부(328_1~328_K) 각각은, 제 2 제어 신호(PCTRL)가 비활성화되면 강하게(fully) 턴온되고, 제 2 제어 신호(PCTRL)가 활성화되면 약하게(slightly) 턴온되는 트랜스미션 게이트(TG4)로 구성될 수 있다. 트랜스미션 게이트(TG4)는, NMOS 트랜지스터(CN5)와 PMOS 트랜지스터(CP5)를 포함할 수 있다. NMOS 트랜지스터(CN5)는, 일단이 딜레이셀(322_1)의 입력단(IN1)에 연결되고, 타단이 딜레이셀(322_1)의 풀다운 트랜지스터(PD5)의 게이트에 연결되고, 게이트가 전원 전압(VDD)단에 연결될 수 있다. PMOS 트랜지스터(CP5)는, 일단이 딜레이셀(322_1)의 입력단(IN1)에 연결되고, 타단이 딜레이셀(322_1)의 풀다운 트랜지스터(PD5)의 게이트에 연결되고, 게이트로 제 2 제어 신호(PCTRL)를 입력받을 수 있다.
카운팅부(380)는 카운팅 인에이블 신호(ROD_CNT_EN)에 따라 모니터링 신호(ROD_OUT)의 토글링 수를 카운팅하여 카운팅 신호(ROD_CNT<N-1:0>)로 출력할 수 있다. 카운팅 인에이블 신호(ROD_CNT_EN)는, 인에이블 신호(ROD_EN)가 활성화되면 활성화되는 신호이다.
이하, 도면을 참조하여 도 5 의 반도체 장치(300)의 모니터링 동작을 설명하기로 한다.
도 7 은 도 5 의 반도체 장치(300)의 동작을 설명하는 타이밍도 이다.
도 7 을 참조하면, 인에이블 신호(ROD_EN)가 로직 로우 레벨일 때, 모니터링 제어부(324)는 딜레이셀(322_1)의 입력단(IN1)에 로직 하이 레벨의 신호를 입력하고, 이에 따라 딜레이셀들(322_1~322_K)은 로직 하이 레벨로 고정된 모니터링 신호(ROD_OUT)를 출력할 수 있다.
인에이블 신호(ROD_EN)가 로직 하이 레벨로 활성화되면, 제어 신호 생성부(310)는, 모드 신호(PLHN)에 따라 제 1 제어 신호(NCTRL) 또는 제 2 제어 신호(PCTRL)를 활성화시킨다.
먼저, 모드 신호(PLHN)가 로직 로우 레벨일 때, 제어 신호 생성부(310)는, PMOS 트랜지스터를 모니터링 하도록 제 1 제어 신호(NCTRL)를 로직 로우 레벨로 활성화 시키고, 제 2 제어 신호(PCTRL)를 로직 로우 레벨로 비활성화시켜 출력할 수 있다. 모니터링 제어부(324)는 모니터링 신호(ROD_OUT)를 반전하여 딜레이셀(322_1)의 입력단(IN1)에 출력한다. 딜레이셀들(322_1~322_K)은 링 발진을 수행하여 해당 반도체 장치가 제작된 공정 조건(P)과 동작 전압(V), 동작 온도(T)에 의해 결정되는 주파수로 발진하는 모니터링 신호(ROD_OUT)를 발생시킬 수 있다.
이 때, 풀업 연결부(326_1~326_K)의 트랜스미션 게이트(TG3)는, 제 1 제어 신호(NCTRL)에 응답하여 약하게(slightly) 턴온되고, 풀다운 연결부(328_1~328_K)의 트랜스미션 게이트(TG4)는, 제 2 제어 신호(PCTRL)에 응답하여 강하게(fully) 턴온된다. 결과적으로, 풀업 연결부(326_1~326_K)로 인해, 딜레이셀들(322_1~322_K)의 풀업 트랜지스터(PU5)의 구동력(strength)이 감소되고, 이에 따라, 모니터링 신호(ROD_OUT)의 라이징 에지가 수직 프로파일이 아닌 기울기(slope)를 가지는 프로파일을 가지게 된다. 즉, 모니터링부(320)는, 풀다운 트랜지스터(PD5)에 비해 풀업 트랜지스터(PU5)의 특성에 더 영향을 받는 모니터링 신호(ROD_OUT)를 생성할 수 있다.
카운팅부(380)는 카운팅 인에이블 신호(ROD_CNT_EN)에 따라 최종 모니터링 신호(ROD_OUT)의 토글링 수를 카운팅하여 카운팅 신호(ROD_CNT<N-1:0>)로 출력한다. 이 때, 카운팅 신호(ROD_CNT<N-1:0>)는, 풀업 트랜지스터(PU5)의 특성에 따라 변하는 카운팅 값을 가질 수 있다. 외부 장치는 카운팅 신호(ROD_CNT<N-1:0>)를 모니터링 하여 반도체 장치 내의 배치된 PMOS 트랜지스터의 크기 등을 변화시킬 수 있다.
반면, 모드 신호(PLHN)가 로직 하이 레벨일 때, 제어 신호 생성부(310)는, NMOS 트랜지스터를 모니터링 하도록 제 1 제어 신호(NCTRL)를 로직 하이 레벨로 비활성화 시키고, 제 2 제어 신호(PCTRL)를 로직 하이 레벨로 활성화시켜 출력할 수 있다. 모니터링 제어부(324)는 모니터링 신호(ROD_OUT)를 반전하여 딜레이셀(322_1)의 입력단(IN1)에 출력한다. 딜레이셀들(322_1~322_K)은 링 발진을 수행하여 해당 반도체 장치가 제작된 공정 조건(P)과 동작 전압(V), 동작 온도(T)에 의해 결정되는 주파수로 발진하는 모니터링 신호(ROD_OUT)를 발생시킬 수 있다.
이 때, 풀업 연결부(326_1~326_K)의 트랜스미션 게이트(TG3)는, 제 1 제어 신호(NCTRL)에 응답하여 강하게(fully) 턴온되고, 풀다운 연결부(328_1~328_K)의 트랜스미션 게이트(TG4)는, 제 2 제어 신호(PCTRL)에 응답하여 약하게(slightly) 턴온된다. 결과적으로, 풀다운 연결부(328_1~328_K)로 인해, 딜레이셀들(322_1~322_K)의 풀다운 트랜지스터(PD5)의 구동력(strength)이 감소되고, 이에 따라, 모니터링 신호(ROD_OUT)의 폴링 에지가 수직 프로파일이 아닌 기울기(slope)를 가지는 프로파일을 가지게 된다. 즉, 모니터링부(320)는, 풀업 트랜지스터(PU5)에 비해 풀다운 트랜지스터(PD5)의 특성에 더 영향을 받는 모니터링 신호(ROD_OUT)를 생성할 수 있다.
카운팅부(380)는 카운팅 인에이블 신호(ROD_CNT_EN)에 따라 최종 모니터링 신호(ROD_OUT)의 토글링 수를 카운팅하여 카운팅 신호(ROD_CNT<N-1:0>)로 출력한다. 이 때, 카운팅 신호(ROD_CNT<N-1:0>)는, 풀업 트랜지스터(PD5)의 특성에 따라 변하는 카운팅 값을 가질 수 있다. 외부 장치(예를 들어, 컨트롤러 혹은 테스트 장치)는 카운팅 신호(ROD_CNT<N-1:0>)를 모니터링 하여 반도체 장치 내의 배치된 NMOS 트랜지스터의 크기 등을 변화시킬 수 있다.
상기와 같이, 제 3 실시예에 따른 반도체 장치(300)는, 인에이블 신호(ROD_EN)가 로직 로우 레벨로 비활성화되는 스탠바이 모드 시, 풀업 연결부(326_1~326_K) 및 풀다운 연결부(328_1~328_K)는 모두 강하게(fully) 턴온되므로, 모니터링부의 누설 전류를 최소화할 수 있다. 또한, PMOS 트랜지스터의 특성을 모니터링하는 회로와 NMOS 트랜지스터의 특성을 모니터링하기 위한 회로를 동일한 회로로 구현함으로써 모니터링의 미스매치를 최소화하고, PMOS 트랜지스터의 특성 또는 NMOS 트랜지스터의 특성 변화만을 미세하게 측정할 수 있다.
본 발명의 기술 사상은 상기 바람직한 실시 예에 따라 구체적으로 기록되었으나, 상기한 실시 예는 그 설명을 위한 것이며 그 제한을 위한 것이 아님을 주의하여야 한다. 또한, 본 발명의 기술 분야의 통상의 전문가라면 본 발명의 기술 사상의 범위 내에서 다양한 실시 예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.
예컨대, 전술한 실시 예에서 예시한 논리 게이트 및 트랜지스터는 입력되는 신호의 극성에 따라 그 위치 및 종류가 다르게 구현되어야 할 것이다.
100, 200, 300: 메모리 장치
120, 220: 제 1 모니터링 장치 140, 240: 제 2 모니터링 장치
160, 260: 선택부 180, 280, 380: 카운팅부
310: 제어 신호 생성부 320: 모니터링부

Claims (27)

  1. 직렬 연결되며, 각각이 직렬 연결된 풀업 트랜지스터 및 풀다운 트랜지스터를 포함하는 다수 개의 딜레이셀들;
    인에이블 신호에 따라 상기 딜레이셀들이 모니터링 동작을 수행하도록 제어하는 모니터링 제어부; 및
    상기 딜레이셀들의 각 입력단과 상기 풀업 트랜지스터 혹은 상기 풀다운 트랜지스터의 게이트 사이에 위치하여, 상기 인에이블 신호에 따라 턴온 정도를 조절하는 연결부
    를 포함하고, 상기 연결부는, 상기 인에이블 신호가 활성화될 때보다, 상기 인에이블 신호가 비활성화될 때 강하게(fully) 턴온되는 트랜스미션 게이트를 포함하는 반도체 장치.
  2. ◈청구항 2은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 1 항에 있어서,
    상기 연결부는,
    상기 인에이블 신호가 비활성화될 때의 상기 풀업 혹은 풀다운 트랜지스터의 구동력을 상기 인에이블 신호가 활성화될 때의 상기 풀업 혹은 풀다운 트랜지스터의 구동력 보다 증가시키는 반도체 장치.
  3. 삭제
  4. ◈청구항 4은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 1 항에 있어서,
    상기 연결부는,
    상기 딜레이셀들의 각 입력단과 상기 풀업 트랜지스터의 게이트 사이에 연결되며, 게이트로 접지 전압을 입력받는 제 1 PMOS 트랜지스터; 및
    상기 딜레이셀들의 각 입력단과 상기 풀업 트랜지스터의 게이트 사이에 연결되며, 게이트로 상기 인에이블 신호의 반전 신호를 입력받는 제 1 NMOS 트랜지스터
    를 포함하는 반도체 장치.
  5. ◈청구항 5은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 1 항에 있어서,
    상기 연결부는,
    상기 딜레이셀들의 각 입력단과 상기 풀다운 트랜지스터의 게이트 사이에 연결되며, 게이트로 전원 전압을 입력받는 제 2 NMOS 트랜지스터; 및
    상기 딜레이셀들의 각 입력단과 상기 풀다운 트랜지스터의 게이트 사이에 연결되며, 게이트로 상기 인에이블 신호를 입력받는 제 2 PMOS 트랜지스터
    를 포함하는 반도체 장치.
  6. ◈청구항 6은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 1 항에 있어서,
    상기 모니터링 제어부는.
    상기 인에이블 신호가 활성화되면 상기 딜레이셀들 중 마지막 단의 딜레이셀의 출력을 반전하여 첫 단의 딜레이셀의 입력단에 제공하는 반도체 장치.
  7. 각각이 직렬 연결된 제 1 풀업 및 제 1 풀다운 트랜지스터를 포함하는 다수 개의 제 1 딜레이셀들이 직렬 연결되어, 제 1 인에이블 신호에 따라 모니터링 동작을 수행하는 제 1 모니터링부;
    각각이 직렬 연결된 제 2 풀업 및 제 2 풀다운 트랜지스터를 포함하는 다수 개의 제 2 딜레이셀들이 직렬 연결되어, 제 2 인에이블 신호에 따라 모니터링 동작을 수행하는 제 2 모니터링부;
    상기 제 1 딜레이셀들의 입력단과 상기 제 1 풀업 트랜지스터의 게이트 사이에 위치하여, 상기 제 1 인에이블 신호에 따라 턴온 정도를 조절하는 제 1 연결부; 및
    상기 제 2 딜레이셀들의 입력단과 상기 제 2 풀다운 트랜지스터의 게이트 사이에 위치하여, 상기 제 2 인에이블 신호에 따라 턴온 정도를 조절하는 제 2 연결부
    를 포함하는 반도체 장치.
  8. ◈청구항 8은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 7 항에 있어서,
    상기 제 1 연결부는,
    상기 제 1 인에이블 신호가 비활성화될 때의 상기 제 1 풀업 트랜지스터의 구동력을 상기 제 1 인에이블 신호의 활성화될 때의 상기 제 1 풀업 트랜지스터의 구동력 보다 증가시키는 반도체 장치.
  9. ◈청구항 9은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 7 항에 있어서,
    상기 제 1 연결부는,
    상기 제 1 인에이블 신호가 활성화될 때보다, 상기 제 1 인에이블 신호가 비활성화될 때 강하게(fully) 턴온되는 트랜스미션 게이트
    를 포함하는 반도체 장치.
  10. ◈청구항 10은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 7 항에 있어서,
    상기 제 1 연결부는,
    상기 제 1 딜레이셀들의 각 입력단과 상기 제 1 풀업 트랜지스터의 게이트 사이에 연결되며, 게이트로 접지 전압을 입력받는 제 1 PMOS 트랜지스터; 및
    상기 제 1 딜레이셀들의 각 입력단과 상기 제 1 풀업 트랜지스터의 게이트 사이에 연결되며, 게이트로 상기 제 1 인에이블 신호의 반전 신호를 입력받는 제 1 NMOS 트랜지스터
    를 포함하는 반도체 장치.
  11. ◈청구항 11은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 7 항에 있어서,
    상기 제 2 연결부는,
    상기 제 2 인에이블 신호가 비활성화될 때의 상기 제 2 풀다운 트랜지스터의 구동력을 상기 제 2 인에이블 신호가 활성화될 때의 상기 제 2 풀다운 트랜지스터의 구동력 보다 증가시키는 반도체 장치.
  12. ◈청구항 12은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 7 항에 있어서,
    상기 제 2 연결부는,
    상기 제 2 인에이블 신호가 활성화될 때 보다, 상기 제 2 인에이블 신호가 비활성화될 때 강하게(fully) 턴온되는 트랜스미션 게이트
    를 포함하는 반도체 장치.
  13. ◈청구항 13은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 7 항에 있어서,
    상기 제 2 연결부는,
    상기 제 2 딜레이셀들의 각 입력단과 상기 제 2 풀다운 트랜지스터의 게이트 사이에 연결되며, 게이트로 전원 전압을 입력받는 제 2 NMOS 트랜지스터; 및
    상기 제 2 딜레이셀들의 각 입력단과 상기 제 2 풀다운 트랜지스터의 게이트 사이에 연결되며, 게이트로 상기 제 2 인에이블 신호를 입력받는 제 2 PMOS 트랜지스터
    를 포함하는 반도체 장치.
  14. ◈청구항 14은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 7 항에 있어서,
    상기 제 1 모니터링부는.
    상기 다수 개의 제 1 딜레이셀들; 및
    상기 제 1 인에이블 신호가 활성화되면 상기 제 1 딜레이셀들 중 마지막단의 딜레이셀의 출력을 반전하여 첫단의 딜레이셀의 입력단에 제공하는 모니터링 제어부
    를 포함하는 반도체 장치.
  15. ◈청구항 15은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 7 항에 있어서,
    상기 제 2 모니터링부는.
    상기 다수 개의 제 2 딜레이셀들; 및
    상기 제 2 인에이블 신호가 활성화되면 상기 제 2 딜레이셀들 중 마지막단의 딜레이셀의 출력을 반전하여 첫단의 딜레이셀의 입력단에 제공하는 모니터링 제어부
    를 포함하는 반도체 장치.
  16. 각각이 직렬 연결된 풀업 및 풀다운 트랜지스터를 포함하는 다수 개의 딜레이 셀들이 직렬 연결되어, 인에이블 신호에 따라 모니터링 동작을 수행하는 모니터링부;
    상기 딜레이셀들의 각 입력단과 상기 풀업 트랜지스터의 게이트 사이에 위치하여, 제 1 제어 신호에 따라 턴온 정도를 조절하는 제 1 연결부;
    상기 딜레이셀들의 입력단과 상기 풀다운 트랜지스터의 게이트단 사이에 위치하여, 제 2 제어 신호에 따라 턴온 정도를 조절하는 제 2 연결부; 및
    상기 인에이블 신호가 활성화되면 모드 신호에 따라 상기 제 1 제어 신호 또는 상기 제 2 제어 신호를 활성화시키고, 상기 인에이블 신호가 비활성화되면 상기 제 1 제어 신호 및 상기 제 2 제어 신호를 비활성화시키는 제어 신호 생성부
    를 포함하는 반도체 장치.
  17. ◈청구항 17은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 16 항에 있어서,
    상기 제 1 연결부는,
    상기 제 1 제어 신호가 비활성화될 때의 상기 풀업 트랜지스터의 구동력을 상기 제 1 제어 신호가 활성화될 때의 상기 풀업 트랜지스터의 구동력 보다 증가시키는 반도체 장치.
  18. ◈청구항 18은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 16 항에 있어서,
    상기 제 1 연결부는,
    상기 제 1 제어 신호가 활성화 될 때 보다, 상기 제 1 제어 신호가 비활성화될 때 강하게(fully) 턴온되는 트랜스미션 게이트
    를 포함하는 반도체 장치.
  19. ◈청구항 19은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 16 항에 있어서,
    상기 제 1 연결부는,
    상기 딜레이셀들의 각 입력단과 상기 풀업 트랜지스터의 게이트 사이에 연결되며, 게이트로 접지 전압을 입력받는 제 1 PMOS 트랜지스터; 및
    상기 딜레이셀들의 각 입력단과 상기 풀업 트랜지스터의 게이트 사이에 연결되며, 게이트로 로직 하이 레벨로 비활성화되는 상기 제 1 제어 신호를 입력받는 제 1 NMOS 트랜지스터
    를 포함하는 반도체 장치.
  20. ◈청구항 20은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 16 항에 있어서,
    상기 제 2 연결부는,
    상기 제 2 제어 신호가 비활성화될 때의 상기 풀다운 트랜지스터의 구동력을 상기 제 2 제어 신호가 활성화될 때의 상기 풀다운 트랜지스터의 구동력 보다 증가시키는 반도체 장치.
  21. ◈청구항 21은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 16 항에 있어서,
    상기 제 2 연결부는,
    상기 제 2 제어 신호가 활성화될 때 보다, 상기 제 2 제어 신호가 비활성화될 때 강하게(fully) 턴온되는 트랜스미션 게이트
    를 포함하는 반도체 장치.
  22. ◈청구항 22은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 16 항에 있어서,
    상기 제 2 연결부는,
    상기 딜레이셀들의 각 입력단과 상기 풀다운 트랜지스터의 게이트 사이에 연결되며, 게이트로 전원 전압을 입력받는 NMOS 트랜지스터; 및
    상기 딜레이셀들의 각 입력단과 상기 풀다운 트랜지스터의 게이트 사이에 연결되며, 게이트로 상기 제 2 제어 신호를 입력받는 PMOS 트랜지스터
    를 포함하는 반도체 장치.
  23. ◈청구항 23은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 16 항에 있어서,
    상기 모니터링부는.
    상기 다수 개의 딜레이셀들; 및
    상기 인에이블 신호가 활성화되면 상기 딜레이셀들 중 마지막단의 딜레이셀의 출력을 반전하여 첫단의 딜레이셀의 입력단에 제공하는 모니터링 제어부
    를 포함하는 반도체 장치.
  24. 직렬 연결되며, 각각이 직렬 연결된 풀업 트랜지스터 및 풀다운 트랜지스터를 포함하는 다수 개의 딜레이셀들;
    인에이블 신호에 따라 상기 딜레이셀들이 모니터링 동작을 수행하도록 제어하는 모니터링 제어부; 및
    상기 딜레이셀들의 각 입력단과 상기 풀업 트랜지스터 혹은 상기 풀다운 트랜지스터의 게이트 사이에 위치하여, 턴온 상태를 유지하는 연결부
    를 포함하고, 상기 모니터링 제어부는, 상기 인에이블 신호가 활성화되면 상기 딜레이셀들 중 마지막 단의 딜레이셀의 출력을 반전하여 첫 단의 딜레이셀의 입력단에 제공하는 반도체 장치.
  25. ◈청구항 25은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 24 항에 있어서,
    상기 연결부는,
    상기 딜레이셀들의 각 입력단과 상기 풀업 트랜지스터의 게이트 사이에 연결되며, 게이트로 접지 전압을 입력받는 PMOS 트랜지스터
    를 포함하는 반도체 장치.
  26. ◈청구항 26은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 24 항에 있어서,
    상기 연결부는,
    상기 딜레이셀들의 각 입력단과 상기 풀다운 트랜지스터의 게이트 사이에 연결되며, 게이트로 전원 전압을 입력받는 NMOS 트랜지스터
    를 포함하는 반도체 장치.
  27. 삭제
KR1020170176216A 2017-12-20 2017-12-20 모니터링 회로를 구비하는 반도체 장치 KR102436360B1 (ko)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170176216A KR102436360B1 (ko) 2017-12-20 2017-12-20 모니터링 회로를 구비하는 반도체 장치
TW107122782A TWI779057B (zh) 2017-12-20 2018-07-02 包括監控電路的半導體裝置
US16/029,983 US10651826B2 (en) 2017-12-20 2018-07-09 Semiconductor device including monitoring circuit
CN201811130874.3A CN109946594B (zh) 2017-12-20 2018-09-27 包括监控电路的半导体器件

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170176216A KR102436360B1 (ko) 2017-12-20 2017-12-20 모니터링 회로를 구비하는 반도체 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190074679A KR20190074679A (ko) 2019-06-28
KR102436360B1 true KR102436360B1 (ko) 2022-08-25

Family

ID=66816537

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170176216A KR102436360B1 (ko) 2017-12-20 2017-12-20 모니터링 회로를 구비하는 반도체 장치

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10651826B2 (ko)
KR (1) KR102436360B1 (ko)
CN (1) CN109946594B (ko)
TW (1) TWI779057B (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210007386A (ko) * 2019-07-11 2021-01-20 에스케이하이닉스 주식회사 모니터링 회로 및 반도체 장치

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100327934A1 (en) 2009-06-25 2010-12-30 Kapusta Ronald A Digital delay lines
KR101477052B1 (ko) 2014-04-07 2014-12-31 연세대학교 산학협력단 링 오실레이터, 공정 변이 감지 장치 및 그를 포함하는 반도체 칩

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0841754A3 (en) * 1996-11-08 1998-12-16 Texas Instruments Incorporated A digitally-controlled oscillator
KR100301048B1 (ko) * 1998-10-19 2001-09-06 윤종용 지연단의수가가변하는지연동기루프및이를구동하는방법
KR100472727B1 (ko) * 1998-12-24 2005-05-27 주식회사 하이닉스반도체 저전압용 인버터 체인 회로_
JP2001053597A (ja) * 1999-08-06 2001-02-23 Matsushita Electric Works Ltd 照度センサおよび電子式自動点滅器
KR100851914B1 (ko) * 2006-12-27 2008-08-12 주식회사 하이닉스반도체 반도체 장치
KR100873615B1 (ko) * 2007-01-11 2008-12-12 주식회사 하이닉스반도체 오실레이터
KR100881132B1 (ko) * 2007-06-25 2009-02-02 주식회사 하이닉스반도체 디코더
KR20140023726A (ko) * 2012-08-17 2014-02-27 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 장치, 반도체 시스템 및 그의 모니터링 방법
US9547035B2 (en) * 2014-04-30 2017-01-17 Keysight Technologies, Inc. System and method for converging current with target current in device under test
KR20160149717A (ko) * 2015-06-19 2016-12-28 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 장치 및 그 동작 방법
KR20170042899A (ko) * 2015-10-12 2017-04-20 에스케이하이닉스 주식회사 반도체장치
US9564901B1 (en) * 2015-12-17 2017-02-07 Apple Inc. Self-timed dynamic level shifter with falling edge generator
US9722579B1 (en) * 2016-01-07 2017-08-01 SK Hynix Inc. Semiconductor device
JP6195393B1 (ja) * 2016-03-23 2017-09-13 ウィンボンド エレクトロニクス コーポレーション 出力回路

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100327934A1 (en) 2009-06-25 2010-12-30 Kapusta Ronald A Digital delay lines
KR101477052B1 (ko) 2014-04-07 2014-12-31 연세대학교 산학협력단 링 오실레이터, 공정 변이 감지 장치 및 그를 포함하는 반도체 칩

Also Published As

Publication number Publication date
KR20190074679A (ko) 2019-06-28
CN109946594A (zh) 2019-06-28
US10651826B2 (en) 2020-05-12
US20190190499A1 (en) 2019-06-20
TWI779057B (zh) 2022-10-01
TW201928383A (zh) 2019-07-16
CN109946594B (zh) 2021-06-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6914462B2 (en) Power-on reset circuit and method
JP6084764B2 (ja) 半導体装置
JP2007123987A (ja) Zqキャリブレーション回路及びこれを備えた半導体装置
JP4860193B2 (ja) 入力バッファ
KR102601454B1 (ko) 데이터 출력 회로
US8810274B2 (en) On-die termination circuit
KR102436360B1 (ko) 모니터링 회로를 구비하는 반도체 장치
US6972605B1 (en) High speed semi-dynamic flip-flop circuit
KR102571572B1 (ko) 전압 강하 레벨을 검출하기 위한 반도체 장치 및 반도체 시스템
KR100735017B1 (ko) 반도체 장치 및 이 장치의 테스트 방법
US7915932B2 (en) Semiconductor integrated circuit
US20190326893A1 (en) Semiconductor integrated circuit device including a delay circuit
JP2012253432A (ja) 半導体装置
US8432195B2 (en) Latch circuits with synchronous data loading and self-timed asynchronous data capture
US9621165B2 (en) Transmitting/receiving system
US7432743B2 (en) Data input butter for use in a semiconductor device
KR20140002915A (ko) 전원 회로
JP5757888B2 (ja) 半導体装置
KR100904480B1 (ko) 반도체 메모리 소자
US20110169542A1 (en) Delay circuit of semiconductor memory apparatus and method for delaying
KR100490283B1 (ko) 링 오실레이터_
KR100522829B1 (ko) 출력 버퍼 회로
CN116564368A (zh) 一种芯片外驱动装置
KR20210017209A (ko) 레벨 쉬프터
JP2019193245A (ja) 半導体回路、データ伝送システム及び半導体回路の動作方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant