KR102407563B1 - 조도비율 변경방법 및 노광방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 다른 파장의 복수의 광원을 사용하고, 또한 광원을 소정의 배열로 엄격하게 배치할 필요가 없는 광원 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
복수의 LD 모듈 1, 2는 각각 1개의 LD(laser diode)와 집광 렌즈를 구비하고, 다른 파장의 레이저를 출사한다. 각 LD 모듈 1, 2의 LD는 제어 장치 99에 의해 제어되며, 점등, 비점등 및 출력(조도)을 제어한다. 제1 광섬유 번들 부 b1은 상기 3개의 LD 모듈 1과 1개의 LD 모듈 2의 출사 광이 입력한 4개의 제1 광섬유 5를 통해 제1 커넥터 6을 통해 1 본의 제2 광섬유 7로 집적한다. 3개의 제2 광섬유 7은 또한 제2 광섬유 번들 부 b2에 이끌려 그 출사 말단 측이 노광 헤드 18 내의 DMD 56에 광 조사영역의 모양에 따라 배열 패턴으로 묶어 있으며 제3 광 섬유 9에 접속하고 제2 커넥터 10을 통해 입사 광학계 40에 접속하고, 레이저 광을 노광 장치 B의 노광 헤드 18로 도입한다.

Description

조도비율 변경방법 및 노광방법{Irradiance proportion change method and exposure method}

본 발명은 기판, 반도체 웨이퍼, 액정 디스플레이 등 포토리소그래피법에 의한 노광 공정에서 사용되는 직접 묘화 방법에 사용하기에 적합한 조도비율 변경방법 및 노광방법에 관한 것이다.

종래의 포토리소그래피법을 이용한 회로 패터닝, 이른바 노광 공정은 포토 마스크를 이용한 밀착형 노광 장치가 널리 사용되고 왔지만, 최근 회로의 고화질, 고밀도화에 맞추기 위해 포토 마스크 사용하지 않는 DMD(디지털 마이크로 미러 디바이스, digital micro mirror device) 등의 광 변조 소자를 이용해 빛을 변조하여 노광하는 직묘식(直描式) 노광 장치가 이용되어 오고 있다(특허 문헌 1).

그러나, 상기 직묘식 노광 장치에 사용되는 광원은 고정밀 패터닝을 가능하게 하는 단파장의 경우가 많다. 한편, 노광된 레지스트는 넓은 파장 영역의 감도를 가지는 것으로, 단파장에서는 충분히 경화되지 않거나 노광 시간이 길어지는 경우가 있었다.

따라서, 특허 문헌 2와 같이 복수의 서로 다른 파장 특성을 갖는 광원을 이용하여 렌즈에 의해 집광하는 구성의 광원 장치가 제안되어 있다.

특허문헌 1: 일본국 특개2006-267719 특허문헌 2: 일본국 특개2012-063390

그러나, 다른 파장의 복수의 광원과 렌즈를 이용하는 구성의 경우에, 광원을 소정의 배열로 엄격하게 배치한 광원 어레이와 렌즈 어레이가 필요하며, 장치가 복잡 해지는 문제가 있다.

따라서, 본 발명은 이러한 종래 기술의 단점을 해결하는 것을 목적으로 한다.

상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 소정의 파장 특성을 갖는 레이저 광을 출사(出射)하는 1의 레이저 다이오드와, 상기 소정의 파장 특성과 다른 파장 특성을 갖는 레이저 광을 출사하는 다른 레이저 다이오드와, 상기 1의 레이저 다이오드에서 출사광을 입사 말단으로 입력 광을 출사 말단으로 출사하는 1의 제1 광섬유와, 상기 다른 레이저 다이오드에서 출사하는 광을 입사 말단으로 입력 광을 출사 말단에서 출사하는 다른 제1 광섬유와, 상기 1과 다른 제1 광섬유의 출사 광을 집적하는 제2 광섬유를 가지고, 상기 1의 제1 광섬유와 상기 다른 제1 광섬유의 출사 말단 측을 소정의 배열로 묶어, 상기 1과 다른 제1 광섬유의 출사 광을 집적하여 상기 제2 광섬유의 입사 말단에 입광시키는 복수의 제1 광섬유 번들과, 상기 제2 광섬유의 출사 광을 집적하는 제3 광섬유를 가지며, 상기 복수의 제1 광섬유 번들부의 복수의 제2 광섬유의 출사 말단 측을 소정의 배열로 묶고, 각 제2 광섬유의 출사 광을 집적하여 상기 제3 광섬유의 입사 말단에 입광시키는 제2 광섬유 번들과, 상기 제3 광섬유의 출력 말단에 접속하여 외부로 출력하는 출력부를 갖는 것을 을 특징으로 한다.

상기 레이저 다이오드에 개별적으로 점등, 비점등 제어와 출력 제어 중 적어도 하나를 수행하는 제어 장치를 구비하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 레이저 다이오드에 소정의 그룹마다 점등, 비점등 제어와 출력 제어 중 적어도 하나를 수행하는 제어 장치를 구비하는 것이 바람직하다.

또한, 본 발명의 노광 장치는 광원 장치에서 발생된 광을 각각 독립적으로 변조하는 다수의 화소부가 배열된 공간 광변조소자에 의해 변조하고, 변조된 광에 의해 감광 재료를 노광시키는 노광 장치로서, 상기 광원 장치를 사용하는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 광원 장치 및 노광 장치에 따르면, 복수의 파장을 혼합한 노광 파장의 광원으로 하면, 폭 넓은 레지스트에 대응 가능해진다. 또한, 광원을 소정의 배열로 엄격하게 배치할 필요가 없고, 또한 렌즈 어레이도 불필요하고, 장치를 단순화할 수 있다. 또한, 레이저 다이오드의 증설을 간단히 행할 수 있고 높은 조도 화를 쉽게 할 수 있다.

또한, 제어 장치를 설치하여 레이저 다이오드의 점등 제어와 출력 제어를 행하면, 파장마다의 조도 비율을 변경할 수 있으며, 최적의 노광 조건을 제공할 수 있는 등의 효과가 있다.

도 1은 본 발명의 광원 장치의 일 실시형태를 나타내는 구성도이다.
도 2는 본 발명의 노광 장치의 일 실시형태를 나타내는 사시도이다.
도 3은 본 발명의 노광 장치의 일 실시형태에 있어서, 노광 헤드의 구성을 개략적으로 나타내는 설명도이다.

이하 본 발명의 실시형태를 설명한다.

본 발명의 광원 장치는 기본적으로 복수의 다른 파장의 레이저 다이오드에서 출사되는 광을 집광하여 광섬유에 도입하고, 개별 도입한 후 그 광로 도중에 몇 개를 집속하여 더욱 두꺼운 광섬유로 커넥터에 접속하여 혼합하도록 구성되어 있다.

다음에서 도 1 내지 3에 따라 상세하게 설명한다.

도 1에 나타낸 바와 같이, 광원 장치 A는 여러 LD 모듈 1, 2를 갖추고 있다. 각 LD 모듈 1, 2는 하나의 레이저 다이오드(LD: laser diode)와 집광 렌즈를 갖추고 있다. LD 모듈 1과 LD 모듈 2는 다른 파장(파장 A, 파장 B) 레이저를 출사하는 LD를 갖추고 있으며, 본 실시형태에서 파장 A의 LD 모듈 1을 3개와, 파장 B의 LD 모듈 2를 1개와를 1조로 하여 총 3조, 12개의 LD 모듈 1, 2를 갖추고 있으며, 각 LD 모듈 1, 2를 LD 광섬유 3으로 커넥터 4로 도입하고 있다.

또한, LD 모듈 1, 2의 LD의 파장은 190 내지 530nm 범위의 파장 특성을 갖는 것으로 하는 것이 바람직하다.

본 실시형태에서는 LD 모듈 1의 LD 파장 A는 375nm 부근에 피크를 갖는 파장 특성을 가지고 있으며, LD 모듈 2의 LD 파장 B는 405nm 부근에 피크를 갖는 파장 특성을 가지고 있다.

각 LD 모듈 1, 2의 LD는 제어 장치 99에 의해 제어되며, 그의 점등, 비점등 및 출력(조도)을 제어하도록 구성되어있다. LD 모듈 1, 2의 각 LD는 제어 장치 99에 의해 개별적으로 제어되도록 구성해도 좋고, 그룹 별로 제어되도록 구성하는 것도 가능하다.

각 커넥터 4에는 제1 광섬유 번들 부 b1의 제1 광섬유 5가 연결되고, LD 모듈 1, 2의 LD에서의 출사 광을 제1 광섬유 5의 입사 말단으로 입광하고, 나아가 그 출사 말단에서 출사하도록 구성되어 있다. 제1 광섬유 번들 부 b1은 제1 광섬유 5와 제1 커넥터 6 및 제2 광섬유 7을 갖추고 있다.

제1 광섬유 번들 부 b1은 상기 3개의 LD 모듈 1과, 1 개의 LD 모듈 2의 출사 광을 입력하고, 4개의 상기 제1 광섬유 5를 통해 제1 커넥터 6을 경유하고, 1개의 제2 광섬유 7에 통합하도록 구성되어 있다.

각 LD 모듈 1, 2의 제1 광섬유 5는 출사 말단 측이 소정의 배열로 묶어 있으며, 제1 커넥터 6을 통해 1개의 제2 광섬유 7에 연결되어 있다.

제2 광섬유 7은 제1 광섬유 5를 4개 묶은 상태에서의 광 출사 영역과 동등 이상의 크기의 코어를 가지고 있으며, 전술 한 바와 같이 4 개의 LD 모듈 1, 2로부터의 광을 1개의 제2 광섬유 7에 집적하고 있다.

본 실시형태에서는 3개의 제1 광섬유 번들 부 b1을 갖추고 있으며, 총 12개의 LD 모듈 1, 2를 3개의 제1 광섬유 번들 부 b1에서 3개의 제2 광섬유 7에 집적하고 있다.

상기 제2 광섬유 7은 다중 모드 광섬유이며, 광섬유 내에서 광의 간섭이나 모드 간의 상호 작용에 의해 균일화하도록 구성되어 있다.

3개의 제2 광섬유 7은 또한 제2 광섬유 번들 부 b2에 이끌려 그 출사 말단 측이 후술하는 노광 헤드 18 내의 DMD 56에 광 조사영역의 형상에 따라 배열 패턴으로 묶어 제3 광 섬유 9가 된다.

상기 3개의 제2 광섬유 7이 묶인 제3 광섬유 9는 출사 말단 측이 제2 커넥터 10을 통해 입사 광학계 40에 연결하여 레이저 광을 노광 장치 B의 노광 헤드 1로 도입하는 구성으로 되어 있다.

또한, 상기 실시형태에서는 두 종류의 파장의 레이저 광을 사용한 것을 예시하고 있지만, 또한 복수의 파장으로 하여도 좋고, 또한 적절한 레이저 모듈 1, 2를 확장하여 장치의 고출력화도 가능하다.

상기에서 설명한 광원 장치 A는 제1 광섬유 5, 제2 광섬유 7의 출사 말단 측을 묶어 LD 모듈 1, 2의 레이저 광을 합성하고 있기 때문에, LD 모듈 1, 2를 소정 위치에 배열할 필요가 없고, 각 LD 모듈 1, 2는 독립적으로 배치할 수 있다. 따라서, LD 모듈 1, 2의 설치의 자유도가 향상된다.

또한, 제어 장치 99에 의해 LD 모듈 1, 2의 LD의 점등 개수와 출력을 제어함으로써, 파장 마다의 조도 비율을 변경하는 것이 가능하며, 필요한 최적 노광 조건을 제공할 수 있다.

도 2에 의해 상기 광원 장치 A를 사용한 디지털 노광 장치(화상 노광 장치) B의 구성을 설명한다.

노광 장치 B는 대략 직사각형 평판으로 형성되어 수평 배치되는 베이스 11, 상기 베이스 11에 슬라이드 가능하게 장착되어 노광 대상이 되는 기판 12를 표면에 흡착 유지하는 이동 스테이지 13, 상기 이동 스테이지 13에 유지된 기판 12에 대하여 노광을 행하는 노광부 14를 구비하고 있다.

기판 12는, 예를 들면, 표면에 감광 재료가 도포 또는 점착(貼着)된 프린트 배선 기판 및 평판 디스플레이용 글라스 기판 등이다. 본 디지털 노광 장치 B는 전술한 바와 같은 기판 12에 노광을 실시하는 것으로, 예를 들면, 배선 패턴 등을 기판 12의 감광 재료에 마스크리스로 기록한다. 또한, 본 실시형태에서는 이동 스테이지 13의 이동 방향을 Y 방향 수평면에서 Y 방향과 직교하는 방향을 X 방향(기판 12의 폭 방향), 수평면에 직교하는 연직 방향을 Z 방향으로 설명한다. 베이스 11은 Y 방향으로 길게 형성되어 있다.

베이스 11은 네 모서리에 각각 설치된 다리 부 15에 의해 지지되고 있다. 베이스 11의 상면 11a에는 Y 방향에 평행한 2 개의 가이드 레일 16이 설치되어 있다. 이동 스테이지 13은 이러한 각 가이드 레일 16을 통해 Y 방향으로 슬라이드 자유롭게 베이스 11에 장착되어 있다. 또한, 이동 스테이지 13에는 리니어 모터 등으로 구성된 구동 장치(도시 생략)가 연결되어 있으며, 이 구동기구의 구동에 따라 Y 방향으로 이동한다.

노광부 14는 베이스 11의 Y 방향 중앙부에 한 쌍의 지주 17을 통해 설치되어있다. 각 지주 17은 베이스 11의 X 방향 양단부에 고정되어 있다. 각 지주 17은 이동 스테이지 13이 Y 방향으로 이동했을 때 노광부 14의 아래를 통과하도록 베이스 11의 상면 11a로부터 소정 거리 떨어진 곳에 노광부 14를 유지한다. 노광부 14는 16개의 노광 헤드 18을 가지고 있다. 이러한 각 노광 헤드 18은 아래를 통과하는 기판 12에 광을 조사한다.

각 노광 헤드 18은 X 방향으로 8개씩 2열로 배열되어 있다. 두 번째 열의 각 노광 헤드 18은 각각의 중심이 1열의 각 노광 헤드 18의 인접한 것끼리의 중앙 부근에 위치하도록 첫 번째 열의 각 노광 헤드 18에 대해 X 방향으로 1/2 피치 어긋나게 배치되어 있다. 이렇게 늦추어 배치함으로써, 1열의 각 노광 헤드 18에 의해 노출되지 않는 부분이 2번째의 각 노광 헤드 18에 의해 노출된 기판 12의 X 방향으로 빈틈없이 노광 기록이 행하여 진다. 또한, 노광부 14에 설치되어 지는 노광 헤드 18의 수와 배열 방법은 기판 12의 크기 등에 따라 적절하게 변경될 수 있다.

화상 처리 장치 21에는, 기판 12에 기록하는 배선 패턴 등에 따라 화상 데이터 (화상 정보)가 입력된다. 화상 처리 장치 21은 입력된 화상 데이터를 바탕으로 각 노광 헤드 18 각각에 프레임 데이터를 생성한다. 그리고, 화상 처리 유닛 21은 신호 케이블 22를 통해 각 노광 헤드 18에 프레임 데이터를 입력한다. 프레임 데이터는, 예를 들어, 이미지를 구성하는 각 화소의 농도를 2 값(도트의 기록의 유무)으로 나타낸 데이터이다.

각 노광 헤드 18은 광원 장치 A에서 입사되는 레이저 광을 프레임 데이터에 따라 변조하여 이동 스테이지 13에 의해 반송되는 기판 12에 변조된 광을 투영한다. 이에 의해 화상 처리 유닛 21에 입력된 화상 데이터에 따라 화상이 기판 12에 노광 기록된다.

베이스 11은 또한 대략 ㄷ 자형으로 형성된 게이트 23과, Y 방향의 일단 부에 장착된 한 쌍의 측장기 24가 설치되어 있다. 게이트 23은 각 가이드 레일 16을 넘는 같이 X 방향과 평행하게 베이스 11에 설치되어 있다. 게이트 23에는 3대의 카메라 25가 설치되어 있다. 각 카메라 25는 디지털 노광 장치 10 전체를 통괄적으로 제어하는 컨트롤러(도시 생략)에 연결되어 있다.

각 카메라 25는 게이트 23을 통과하는 이동 스테이지 13을 촬영하고 취득한 화상 데이터를 컨트롤러로 출력한다. 컨트롤러는 각 카메라 25가 취득한 화상 데이터를 바탕으로 하여 이동 스테이지 13 상의 적정 위치에 대한 기판 12의 X 방향, Y 방향 및 θ 방향 (Z 방향을 축으로 한 회전)의 어긋남 량을 산출한다 . 산출된 어긋남 량은 화상 처리 유닛 21에 입력된 프레임 데이터의 보정에 사용된다. 또한, 카메라 25의 대수와 배치 간격 등은 기판 12의 크기 등에 따라 적절하게 변경될 수 있다. 또한, 어긋남 량의 산출은 주지의 화상 처리에 의해 수행될 수 있다. 이때 어긋남 량을 산출하기 쉽도록, 기판 12에 정렬 마크 등을 마련하는 것이 바람직하다.

각 측장기 24는 각 카메라 25와 동일하게 컨트롤러에 연결되어 진다. 각 측장기 24는 이동 스테이지 13 쪽 단면에 레이저 광을 조사하고, 그 반사광을 수광하므로서 이동 스테이지 13의 위치를 측정한다. 그리고 각 측장기 24는 측정한 이동 스테이지 13의 위치를 컨트롤러로 출력한다. 또한, 본 실시 형태에서는 이른바 레이저 간섭식의 측장기 24를 나타냈지만, 이에 한정되지 않고, 예를 들어 초음파와 스테레오 카메라를 사용하는 것 등 이동 스테이지 13의 위치를 측정할 수 있는 것이면, 기타 여하의 방법을 사용해도 좋다.

상기 구성의 노광 장치 B의 노광 헤드 18과 광원 장치 A의 접속 부분의 상세한 설명을 도 3에 의해 설명한다.

노광 헤드 18은 입사 광학계 40과, 광 변조부 41과, 제1 결상 광학계 42와, 마이크로 렌즈 어레이 (MLA : micro lens array) 43과, 조리개 배열 (APA : aperture array) 44와, 제2 결상 광학계 (투영 광학계) 45로 이루어진다. 입사 광학계 40은 제2 커넥터 10을 통해 광섬유 9의 출사 말단부와 대면하여서 배치된다. 상기 입사 광학계 40은 광섬유 9에서 출사된 레이저 광 (LB : laser beam)을 집광하는 집광 렌즈 50과, 집광 렌즈 50을 통과한 레이저 광 LB의 광로 상에 배치된 로드 상 옵티컬 인테그레이터 (optical integrator) 51과, 옵티컬 인테그레이터 51을 통과한 레이저 광 LB를 결상시키는 결상 렌즈 52와, 결상 렌즈 52에 의해 결상된 레이저 광 LB를 반사시켜서 광 변조부 41에 입사시키는 미러 53과를 구비하고 있다.

옵티컬 인테그레이터 51은, 예를 들어, 사각 기둥 모양으로 형성된 투광성 로드이다. 옵티컬 인테그레이터 51은 전반사하면서 내부를 진행하는 레이저 광 LB를 평행 광에 가까이하고 빔 단면 내의 강도가 균일화된 광속으로 한다. 이에 의해 조명광 강도의 차이가 없는 고화질 이미지가 기판 12에 노광하게 된다. 또한, 옵티컬 인테그레이터 51의 입사 말단면 및 출사 말단면에는 투광율(透光率)을 높이기 위해 반사 방지막을 코팅하는 것이 바람직하다.

광 변조부 41은 TIR (전반사 : total internal reflection) 프리즘 55와, 공간 광변조 소자로 되는 DMD (디지털 마이크로 미러 디바이스 : digital micro mirror device) 56을 구비하고 있다. TIR 프리즘 55은 미러 53을 통해 입사한 레이저 광 LB를 DMD 56을 향해 반사시킨다. DMD 56은 이차원적으로 배열된 SRAM (Static Random Access Memory) 셀에 화소를 구성하는 마이크로 미러가 기둥에 의해 지지되어 경사로 자유 자재로 설치되어 진 미러 장치이다.

DMD 56은 SRAM 셀에 기록된 디지털 신호에 따라 조사된 레이저 광 LB가 제1 결상 광학계 42를 향해 반사하는 상태와, 조사된 레이저 광 LB가 도시를 생략한 광 흡수체를 향해 반사하는 상태와로, 마이크로 미러의 경사 각도를 변화시킨다. 광 변조부 41은 화상 처리 유닛 21로부터 입력되는 프레임 데이터에 따라 DMD 56의 각 화소의 마이크로 미러의 기울기를 제어함으로써 프레임 데이터에 따라 화상 광을 생성한다.

제1 결상 광학계 42는 렌즈 57, 58 이루어지고, 광 변조부 41에 의해 생성된 화상 광을 소정의 배율로 확대해 MLA 43 상에 결상한다.

MLA 43은, 예를 들어, 석영 글라스를 통해 대략 직사각형 평판 형상으로 형성되어 있다. 또한, MLA 43에는 DMD 56의 각 화소에 대응하여 2차원적으로 배열된 복수의 마이크로 렌즈 43a가 형성되어 있다. 각 마이크로 렌즈 43a는 상면이 평면이고, 밑면이 볼록면의 평 볼록 렌즈이다. 각 마이크로 렌즈 43a는 DMD 56의 각 마이크로 미러에서 화상 광을 각각 개별적으로 결상하여, 제1 결상 광학계 42에서 확대된 화상 광을 선명하게 한다. 또한, 각 마이크로 렌즈 43a의 형상은 평 볼록 렌즈에 한정되지 않고, 예를 들어 양 볼록 렌즈 등으로 할 수도 있다.

APA 44는 차광성을 가지고 있으며, 화상 광을 통과시키기 위한 개구 44a가 여러개 형성되어 있다. 각 개구 44a는 각 마이크로 렌즈 43a와 마찬가지로 DMD 56의 각 화소에 대응하여 2차원적으로 배열되어 있다. APA 44는 각 개구 44a를 각 마이크로 렌즈 43a에 대면시켜 배치되고, 각 마이크로 렌즈 43a에 의해 결상된 화상 광을 개별적으로 대응하는 각 개구 44a를 통과시킨다. APA 44는 DMD 56의 각 마이크로 미러의 채터링 등에 의해 발생하는 불필요한 광이 통과하는 것을 방지하고 노광 화상의 선명도를 향상시킨다.

제2 결상 광학계 45는 렌즈 60, 61과 프리즘 쌍 62를 구비하고, APA 44를 통과 한 화상 광을 기판 12에 투영한다. 각 렌즈 60, 61은 APA 44를 통과한 화상 광을 소정의 배율로 확대하거나 또는 등배율로 프리즘 쌍 62에 입사시킨다. 프리즘 쌍 62는 상하 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있고, 상하로 이동하여 기판 12 상에 화상 광의 초점을 조절한다.

또한, 상기 실시형태에서는, 공간 광변조소자로서 DMD 56을 개시하고 있지만, 공간 광변조소자는 이러한 것에 한정되지 않고, 예를 들면, 액정 광 셔터 등에 의하여서도 좋다. 또한, 상기 실시형태에서는 노광 대상으로 감광 재료가 도포 또는 점착된 기판 12를 개시하고 있지만, 노광 대상은 이러한 것에 한정되지 않고, 예를 들어, 사진 필름이나 인화지 등이어도 좋다.

1 --- LD 모듈 2 --- LD 모듈
3 --- LD 광섬유 4 --- 커넥터
5 --- 제1 광섬유 6 --- 제1 커넥터
7 --- 제2 광섬유 9 --- 제3 광섬유
10 --- 제2 커넥터 12 --- 기판(노광 대상)
14 --- 노광부 18 --- 노광 헤드
19 --- 광원 유닛 40 --- 입사 광학계
41 --- 광 변조부 42 --- 제1 결상 광학계
43 --- 마이크로 렌즈 어레이 43a --- 마이크로 렌즈
44 --- 개구 어레이, 44a --- 개구
45 --- 제2 결상 광학계(투영 광학계)
56 --- DMD(공간 광변조소자) 99 --- 제어 장치
b1 --- 제1 광섬유 번들 부 b2 --- 제2 광섬유 번들 부
A --- 광원 장치 B --- 노광 장치 B

Claims (7)

1. 제1 파장이 피크 파장인 파장 특성을 갖는 레이저 광을 출사하는 제1 레이저 다이오드와,
   제1 파장과는 다른 제2 파장이 피크 파장인 파장 특성을 갖는 레이저 광을 출사하는 제2 레이저 다이오드와,
   상기 제1 레이저 다이오드으로부터의 출사광을 입사 단에서 입광하고 출사 단에서 출사하는 첫번째 제1 광섬유와, 상기 제2 레이저 다이오드로부터의 출사 광을 입사 단으로 입광하여 출사 단부에서 출사하는 두번째 제1 광섬유와, 상기 첫번째 제1 광섬유의 출사 광과 상기 두번째 제1 광섬유의 출사 광을 집적하는 제 2 광섬유를 포함하고, 상기 첫번째 제1 광섬유와 상기 두번째 제1 광섬유의 출사 단측을 소정의 배열로 묶고, 상기 첫번째 제1 광섬유의 출사 광과 상기 두번째 제1 광섬유의 출사광을 집적하여 상기 제2 광섬유의 입사단에 입광시키는 복수의 제1 섬유 번들과,,
   상기 제2 광섬유의 출사 광을 집적하는 제3 광섬유를 갖고, 상기 복수의 제1 광섬유 번들 부의 복수의 제2 광섬유의 출사 단부 측을 소정의 배열로 묶어 각 제2 광섬유의 출사광을 집적하여 상기 제3 광섬유의 입사단에 입광시키는 제2 광섬유 번들과,
   상기 제3 광섬유의 출력단과 접속하여 외부로 출력하기 위한 출력부와,
   상기 제1 레이저 다이오드 및 제2 레이저 다이오드를 제어하는 제어장치를 갖는 광원 장치에 있어서, 각 파장의 조도 비율을 변경하는 조도 비율 변경 방법으로서, 상기 제어 장치를 이용하여 상기 제1 레이저 다이오드와 상기 제2 레이저 다이오드를 개별적으로 또는 소정의 그룹마다 점등, 비점등의 제어를 함으로써 파장마다의 조도 비율을 변경함을 특징으로 하는 조도 비율 변경 방법.
   
2. 제1항에 있어서, 상기 제1 파장 및 상기 제2 파장은 190nm 내지 530nm의 파장 영역에 포함되는 것을 특징으로 하는 조도 비율 변경 방법.
   
3. 제1항에 있어서, 상기 제1 레이저 다이오드는 375nm 부근에 피크를 갖는 파장 특성을 가지며, 상기 제2 레이저 다이오드는 405nm 부근에 피크를 갖는 파장 특성을 갖는 것을 특징으로 하는 조도 비율 변경 방법.
   
4. 상기 광원 장치에서 발생된 광을 각각 독립적으로 변조하는 다수의 화소부가 배열된 공간 광변조소자에 의해 변조하고, 그 변조된 광에 의해 감광 재료를 노광하는 노광 장치를 사용한 노광방법으로서, 청구항 1 내지 3 중의 어느 한 항에 기재된 조도 비율 변경 방법을 수행하는 노광 방법.
   
5. 제4항에 있어서, 상기 다수의 화소부에 의해 변조된 다수의 광선 다발을 각각 개별적으로 집광하는 다수의 마이크로 렌즈가 배열된 마이크로 렌즈 어레이를 구비한 상기 노광장치를 사용한 것을 특징으로 하는 노광 방법.
6. 삭제
7. 삭제

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