KR102392049B1 - 양호한 방청 성능을 갖는 연성동박적층판 및 연성동박적층판의 시험 방법 - Google Patents

양호한 방청 성능을 갖는 연성동박적층판 및 연성동박적층판의 시험 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 연성인쇄회로기판의 재료로 사용되는 양호한 내굴곡성 및 방청 성능을 갖는 연성동박적층판 및 그 시험 방법에 관한 것이다. 본 발명의 연성동박적층판은 소정 조건에서 전기화학적 인자로부터 계산된 박리면적(Ad)이 0.01 이하이다. 본 발명에서 박리면적은 연성동박적층판을 작업전극으로 하는 전기화학적 셀에 대하여 전기화학적 임피던스 분광법에 의해 도출된 저항값로부터 계산될 수 있다. 본 발명에 따르면, 정량화 된 지표를 만족하는 양호한 내굴곡성 및 방청 성능을 갖는 연성동박적층판을 제공할 수 있게 된다.

Description

양호한 방청 성능을 갖는 연성동박적층판 및 연성동박적층판의 시험 방법{Flexible Copper Clad Layer With Good Anti Corrosion Properties And Test Methods Thereof}
본 발명은 연성인쇄회로기판에 관한 것으로, 보다 상세하게는 연성인쇄회로기판의 재료로 사용되는 양호한 내굴곡성 및 방청 성능을 갖는 연성동박적층판 및 그 시험 방법에 관한 것이다.
연성인쇄회로기판(Flexible Printed Circuit Board; FPCB)은 높은 굴곡성으로 접철부 또는 힌지부가 있거나 다중 배선이 요구되는 기기들, 예를 들어 노트북, 휴대폰, 전자수첩, 개인정보 단말기, 디지털 카메라 등 구성 모듈들 간에 전기적 연결부를 갖는 비교적 소형의 전자기기나, CD-ROM 드라이브 또는 DVD 드라이브의 광 픽업 등과 같이 작동부를 갖는 작동 전자기기 등에 일반적으로 사용되고 있다.
연성인쇄회로기판의 제조에 사용되는 연성동박적층판(flexible copper lad laminate)은 폴리머 기재와 동박층을 적층한 것으로, 굴곡성이 우수하여 전자기기의 소형화 및 경량화를 위하여 전자기기와 소재 부품에 사용되고 있다.
연성동박적층판은 동박에 폴리이미드계 수지와 같은 폴리머를 도포하거나 폴리머 기재 상에 구리를 증착하는 방식이 사용되고 있는데, 구리 증착 방식은 폴리머 기재 상에 타이코트층(tie coat layer)을 형성한 후 구리 전해 도금조에 통과시켜 구리를 전해 도금함으로써 제조된다.
이와 같이 제조된 연성동박적층판은 동도금층이 대기에 노출되는 경우, 환경요인 예컨대 습도 및 온도에 의해 동박의 부식이 발생하는 것으로 알려져 있으며, 부식의 진행에 의해 동도금층의 파단이 발생하고 그 결과 연성동박적층판의 굴곡성이 저하되게 되는 것으로 알려져 있다.
그러나, 종래의 연성동박적층판의 부식에 영향을 미치는 인자나 부식 메커니즘은 알려진 바 없으며, 이로 인해 신뢰성 있는 연성동박적층판이 가져야 할 물성이나, 연성동박적층판의 관리 인자에 대한 정보도 없는 실정이다.
따라서, 부식 및 내굴곡성에 영향을 미치는 연성동박적층판의 방청 특성을 정량화하여 관리하여야 할 필요가 있다.
상기 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여 본 발명은 양호한 내굴곡성을 갖는 연성동박적층판을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 양호한 방청 성능을 갖는 연성동박적층판을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 연성동박적층판의 내굴곡성 및/또는 방청 성능을 정량화할 수 있는 신규한 검사 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명은, 합성수지 기재 상에 형성된 동박층 및 상기 동박층 상의 방청 코팅층을 포함하는 연성동박적층판에 있어서, 상기 연성동박적층판은 다음의 수학식으로 표현되는 박리면적(Ad)이 1.05 내지 1.5인 것을 특징으로 하는 연성동박적층판을 제공한다.
Figure 112017034404658-pat00001
여기서, R0 pore는 대기 노출 초기의 방청코팅층의 저항값이고, Rpore는 대기 노출 후 240 시간 경과 시의 방청코팅층의 저항값이다.
본 발명에서 상기 합성수지 기재는 폴리에스테르 수지, 에폭시 수지, 폴리이미드 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 축중합체 및 이들에서 선택된 적어도 2 이상의 혼합물로 이루어지는 그룹 중에서 선택된 최소한 하나의 수지를 포함할 수 있다.
또한, 상기 동박층은 전해 동박인 것이 바람직하다.
상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명은 합성수지 기재, 상기 합성수지 기재 상에 형성된 동박층 및 상기 동박층 상의 방청 코팅층을 포함하는 연성동박적층판을 작업전극으로 하는 전기화학적 셀을 구성하는 단계; 상기 전기화학적 셀에 대한 전기화학적 임피던스 분광법으로부터 전기화학적 인자를 도출하는 단계; 및 상기 전기화학적 인자로부터 다음의 수식에 따라 박리면적을 계산하는 단계를 포함하는 연성동박적층판의 시험 방법을 제공한다.
Figure 112017034404658-pat00002
여기서, R0 pore는 대기 노출 초기의 방청코팅층의 저항값이고, Rpore는 대기 노출 후 t 시간 경과 시의 방청코팅층의 저항값이다.
이 때, 본 발명의 시험 방법은 상기 계산된 박리면적이 사전 설정된 박리면적 이하인지 여부를 판단하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이것은 연성동박적층판의 박리면적과 상기 연성동박적층판에 대한 내굴곡성 시험 회수를 맵핑하는 단계를 더 포함하여, 상기 사전 설정된 박리면적은 요구되는 내굴곡성 시험 회수에 대응하는 박리면적에 의해 설정하는 것에 의해 수행될 수 있다.
본 발명에 따르면, 높은 부식 저항성을 갖고 신뢰성 있는 내굴곡성을 구비하는 연성동박적층판 및 연성회로기판을 제공할 수 있게 된다.
또한 본 발명에 따르면, 부식 및 내굴곡성에 영향을 미치는 방청 성능을 정량화 할 수 있는 간편한 검사 방법을 제공할 수 있게 된다.
또한 본 발명에 따르면, 정량화 된 지표를 만족하는 양호한 방청 성능을 갖는 연성동박적층판을 제공할 수 있게 된다.
도 1은 연성동박적층판의 방청 코팅층이 박리된 모습을 보여주는 사진이다.
도 2는 방청 코팅층의 박리를 모식적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 연성동박적층판을 모식적으로 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 연성동박적층판의 일례를 모식적으로 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 박리면적 시험 절차를 모식적으로 도시한 절차도이다.
이하 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다.
도 1은 연성동박적층판의 방청 코팅층이 박리된 모습을 보여주는 사진이다.
방청 코팅층에 대한 방청 성능이 저하되면 동박층이 노출되며, 이로 인해 동박층의 기공을 통한 기공 부식 및 부식성 가스의 침투에 의해 동박층의 부식이 진행되고, 크랙의 생성 및 전파에 따라 연성회로기판의 파단에 이르며 결과적으로 연성회로기판의 내굴곡성이 저하되게 된다.
도 2는 방청 코팅층의 박리를 모식적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 동박층(10) 상에 방청 코팅층(20)이 형성되어 있다. 방청 코팅층에는 기공 또는 채널(22)이 형성되어 있으며, 채널(22)은 하부의 동박층을 노출시키게 된다. 방청 코팅층(20)에 존재하는 채널(22)들은 평균 단면적(Ac)와 두께(d)를 갖는 것으로 평균화할 수 있다.
전해질 접촉 환경에서 방청 코팅층이 박리되면 박리에 의해 형성된 채널로는 전해질이 침투하게 되며, 그로 인해 연성회로기판의 저항은 감소한다. 이와 같은 저항 변화로부터 방청 코팅층의 박리 면적을 구할 수 있다.
본 발명에서는 방청 코팅층의 저항을 측정하기 위하여 전기화학적 임피던스 분광법(Electrochemical Impedance Spectroscopy; EIS)을 사용한다.
EIS로부터 얻어진 방청 코팅층의 저항으로부터 박리면적(Ad)는 다음의 수식에 의해 구할 수 있다.
(수학식 1)
Figure 112017034404658-pat00003
여기서, R0 pore는 대기 노출 초기의 방청코팅층의 저항값이고, Rpore는 대기 노출 후 t 시간 뒤의 방청코팅층의 저항값이다.
본 발명에서 상기 수학식 1에서 요구되는 전기화학적 인자들은 Zahner 사의 탈레스(Thales)와 같은 상용의 소프트웨어에 의해 구해질 수 있다.
박리면적(Ad)을 측정함으로써 방청코팅층의 부식 특성(방청 특성)을 예측할 수 있으며, 전기화학적 임피던스 분광법에 의해 측정 및 계산된 박리면적은 방청 성능의 정량적 지표로 사용될 수 있다. 또한, 박리는 동도금층의 부식 특성에 영향을 미치고 그 결과 연성동박적층판의 내굴곡성을 결정하는 주요한 인자이며, 따라서 내굴곡성의 정량적 지표로 사용될 수 있다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 연성동박적층판을 모식적으로 도시한 도면이다.
먼저 도 3의 (a)를 참조하면, 연성동박적층판(100)은 합성수지 기재(110)와, 상기 합성수지 기재(110) 상에 형성된 동박층(130) 및 상기 동박층(130) 상의 방청 코팅층(140)을 구비한다. 상기 합성수지 기재(110)와 상기 동박층(130) 사이에는 타이코트층(tie-coat layer; 120)이 개재된다.
상기 합성수지 기재(110)로는 열경화성 수지 또는 열가소성 수지가 사용될 수 있다. 예컨대, 폴리에스테르 수지, 에폭시 수지, 폴리이미드 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 축중합체 및 이들에서 선택된 적어도 2 이상의 혼합물로 이루어지는 그룹 중에서 선택된 최소한 하나의 수지를 포함한다. 상기 축중합체로서는 폴리아미드, 폴리에테르이미드, 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 포르리벤조아조르, 방향족 폴리설폰 등을 사용할 수 있다.
상기 합성수지 기재(110)는 단일층 또는 복합층 필름일 수 있다.
상기 타이코트층은 금속층, 금속 합금층 또는 금속 산화물층을 포함할 수 있다. 예컨대, 상기 타이코트층은 Fe, Ni, Co, Cr, 및 Nb으로 이루어진 그룹 중에서 선택된 최소한 하나의 금속 또는 그 합금을 포함할 수 잇다. 바람직하게는 상기 금속 또는 합금은 Ni을 포함하는 것이 좋다. 이하에서 특별히 한정하지 않는 한 금속이란 금속의 합금을 포함하는 의미로 사용된다.
본 발명에서 상기 타이코트층(120)은 5~35nm의 두께로 형성되는 것이 바람직하다.
상기 동박층(130)은 전해 동박 또는 무전해 동박에 의해 제조된 것이 바람직하다. 상기 동박층은 높은 순도의 동으로 구현될 수 있고, Sn, Ag, Cr, Zr, Ni 및 Si으로 이루어진 그룹 중에서 선택된 최소한 1종의 금속이 함유된 구리 합금으로 구현될 수 있다.
본 발명에서 상기 방청 코팅층(140)은 황계 억제제나 질소계 억제제 또는 그 혼합물에 의해 방청 처리에 의해 형성된 화합물 층일 수도 있다. 그러나, 본 발명에서 상기 방청 코팅층(140)은 이에 한정되지 않는다. 예컨대, 상기 방청 코팅층(140)은 산화물과 같은 비도전성 물질층일 수 있다.
이상, 도 2에서는 동박층 하부에 하나의 타이코트층이 개재되는 경우를 설명하였지만 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 하나 이상의 도입되는 경우에도 적용될 수 있음은 이 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 누구나 알 수 있을 것이다.
도 3의 (b)는 본 발명의 다른 실시예에 따른 연성동박적층판을 모식적으로 도시한 도면이다.
도 3의 (a)와 마찬가지로, 연성동박적층판은 합성수지 기재(110) 및 동박층(130)을 포함하여 구성된다. 이 때, 상기 합성수지 기재(110) 및 상기 동박층(130) 사이에는 접착제(도시하지 않음)가 개재되어 있다.
본 발명에서 연성동박적층판은 위 수학식 1에 따른 박리면적이 소정 값 이하를 갖도록 설계된다. 후술하는 바와 같이, 상기 박리면적은 1.5 이하인 것이 바람직하다.
또한, 상기 박리면적은 1.05 이상인 것이 더욱 바람직하다. 왜냐하면, 박리면적이 1.05 이하일 경우 도금표면의 광택이 저하되고, 도금표면에 얼룩이 발생하게 되기 때문이다.
또한, 양호한 도금 특성을 확보하기 위하여 본 발명에서 상기 동박층 표면의 광택도는 650 ~ 750 GU이고, 상기 동박층의 표면 조도는 0.05 ~ 0.2 ㎛인 것이 바람직하다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 연성동박적층판의 일례를 모식적으로 도시한 도면이다.
도 4를 참조하면, 동박층(130)은 시드층(132) 및 동도금층(134)을 포함한다. 상기 시드층(132)은 상기 중간층(120) 상에 스퍼터링 등의 방법에 의해 형성될 수 있다. 상기 시드층(132)는 약 10 ~100 nm의 두께로 형성될 수 있다.
상기 동박층(130)은 전체 두께가 대략 5~15 ㎛, 바람직하게는 8~9 ㎛일 수 있다. 도 4의 실시예에서 동박층(130)은 하나의 동박층으로 취급될 수 있으며, 여기에 수학식 1이 적용될 수 있다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 연성동박적층판의 일례를 모식적으로 도시한 도면이다.
도 3을 참조하면, 동박층(130)은 시드층(132) 및 동도금층(134)을 포함한다. 상기 시드층(132)은 상기 중간층(120) 상에 스퍼터링 등의 방법에 의해 형성될 수 있다. 상기 시드층(132)는 약 10 ~100 nm의 두께로 형성될 수 있다.
상기 동박층(130)은 전체 두께가 대략 5~15 ㎛, 바람직하게는 8~9 ㎛일 수 있다. 도 3의 실시예에서 동도금층(130)은 하나의 도금층으로 취급될 수 있으며, 여기에 수학식 1이 적용될 수 있다.
이하에서는 연성동박적층판의 제조방법을 설명한다.
A. 도금층의 제조
먼저, 폴리이미드 기재 및 기재 상에 Ni-Cr 합금 재질의 중간층을 스퍼터링과 같은 증착법에 의해 형성한 후 구리 도금층을 형성한다. 구리 도금층은 먼저 스퍼터링에 의해 구리 시드층을 형성한 후 구리 또는 구리 합금을 전해 도금함으로써 제조될 수 있다.
이 때, 도금액 조성은 황산구리 10-100g/l, 황산 10-300g/l, HCl 0.01~0.1g/ℓl, 술폰산(Sulfonic acid)과 같은 황화합물 계열의 광택제 0.1~1.0㎖/l, PEG 또는 PPG와 같은 폴리머 계열의 억제제 1~10㎖/l 범위의 조성이 사용될 수 있다.
B, 방청처리
구리 도금층의 표면을 방청 처리한다. 방청 처리에는 황계 억제제나 질소계 억제제 또는 그 혼합물이 사용될 수 있다.
황계 억제제로는 트리아졸 화합물이 사용될 수 있다. 상기 트리아졸 화합물로는 벤조트리아졸, 토릴트리아졸, 카복시벤조트리아졸, 클로로 벤조트리아졸, 에틸벤조트리아졸, 나프토트리아졸 등을 들 수 있다.
질소계 억제제로는, 아미드(Amide), 아크릴아미드(Acrylamide), 아세트아미드(Acetamide), 아우라민(Auramine), 도데실트리메틸(Dodecyltrimethyl ammonium chloride (DTAB)), 디에틸 트리아민(Diethylene triamine (DETA) 등의 아민류가 사용될 수 있다.
전술한 방법에 의해 제조된 연성동박적층판 상의 배선층은 포토리소그패피 공정(Photolithography) 및 식각 공정(etch)과 같은 알려진 방법으로 패턴화되고 적절히 가공되어 연성회로기판으로 사용될 수 있다.
<연성동박적층판의 제조예>
전처리 된 폴리이미드 기재에 타이코트층으로 플라즈마 증착에 의해 약 20 nm 두께의 Ni-Cr 합금층을 형성한 후, 타이코트층 상에 시드층을 포함하여 약 8~9 ㎛ 두께의 동박을 도금하였다. 본 실시예에서 도금액 조성은 황산구리 50 g/l, 황산 2500 g/l, HCl 0.2g/ℓl, 황화합물 계열의 광택제 0.4 ㎖/l, 폴리머 계열의 억제제 30 ㎖/l로 하였다.
이어서 형성된 도금층을 방청처리 하였다. 이 때, 표 1과 같이 방청액 농도를 0.1~ 50%로 달리하여 연성동박적층판 샘플을 제조하였다. 방청액은 트리아졸계 방청액을 사용하였고, 그 농도는 방청액 원액을 DIW로 희석(0.1~40%로)하여 조정하였다.
번호 방청액 농도
실시예 1 40%
실시예 2 30%
실시예 3 20%
실시예 4 10%
비교예 1 5%
비교예 2 0.5%
비교예 3 0.1%
비교예 4 방청액 미적용
비교예 5 50%
<연성동박적층판의 박리면적 측정>
위 제조예에서 제조된 연성동박적층판 샘플에 대하여 각각 코팅 직후와 240 시간 대기 노출 후의 박리면적을 측정하였다.
먼저, 작업전극(working electrode), 기준전극(reference electrode) 및 상대전극(counter electrode)으로 이루어지는 3 전극 구조의 전기화학적 셀을 구성하여 Zahner 사의 모델명 IM6e를 사용하여 커패시턴스를 측정하였다. 위 제조예에서 제조된 연성동박적층판 샘플을 작업 전극으로 하고, 백금을 상대전극(counter electrode), 칼로멜 전극을 기준전극으로 사용하였다. 평가 용액으로는 3.5 wt% NaCl 수용액을 사용하였다. 이 때, 임피던스 측정은 10 kHz~ 10 mH의 주파수 범위에서 행하였으며, ±10 mV로 하였다. 주사 속도(sweep rate)는 0.166 mV/s로 하였고, -250 mV에서 1500 mV 범위에서 실시하였다.
EIS로부터 도출된 전기화학적 인자(Ro pore, Rpore) 및 수학식 1에 의해 계산된 박리면적(Ad)를 아래 표 2에 나타내었다.
작업전극 Ro pore Rpore 박리면적 (A d )
(단위 : 없음)
(단위 : x103 Ω㎠)
실시예 1 73.2 69.5 1.05
실시예 2 70.1 61.2 1.15
실시예 3 71.9 59.4 1.21
실시예 4 72.5 50.6 1.43
비교예 1 72.9 46.4 1.57
비교예 2 74.6 40.3 1.85
비교예 3 70.6 36.5 1.93
비교예 4 42.5 12.5 3.40
비교예 5 75.1 74.1 1.01
<내굴곡성 테스트>
실시예에서 제조된 샘플을 이용하여 도요세이키세이사쿠소 사의 내굴곡성 평가 장치(모델명:MIT-DA)를 사용하여 내굴곡성 시험을 행하였다. 하기 조건하에서 굴곡을 반복하고, 시험편이 단선될 때까지의 횟수를 굴곡회수로서 구하였다. 내굴곡성 테스트 후 외관을 관찰하였다.
-시험편 폭 : 15 mm
-시험편 길이 : 130 mm
-시험편 채취방향 : 시험편의 길이가 기계방향과 평행하게 되도록 채취
-시험조건 : JIS C 6471 준거한 방법을 이용하여, 곡률반경(r2)=0.38 mm, 하중 : 0.5 kg, 굴곡속도 : 90 cpm, 굴곡 각도=90±2°의 조건에서 시험
<광택도 측정>
실시예에서 제조된 샘플을 이용하여, YG 사 모델명 SM 광택계(광택 angle 60℃) 활용하여 광택도를 측정하였다. 각각 10 개의 샘플에 대해 측정하고 최대값과 최소값을 제외한 나머지 값들을 산술 평균하여 광택도롤 구하였다.
<조도 측정>
실시예에서 제조된 샘플을 이용하여, 미쯔도요 사의 모델명 SJ-210 장비로 JIS B 0601-1994 규격에 따라 접촉식 표면조도 측정기를 활용하여 표면 조도 Rz값을 측정하였다.
아래 표 3은 각 실시예의 연성동박적층판에 대하여 측정된 물성을 정리한 표이다.
구분 박리면적(Ad)
(단위:없음)		 MIT
(단위:횟수)		 외관 광책도
(GU)		 조도
(㎛)
실시예 1 1.05 129 이상없음 694 0.17
실시예 2 1.15 121 이상없음 682 0.19
실시예 3 1.21 111 이상없음 684 0.16
실시예 4 1.43 105 이상없음 680 0.16
비교예 1 1.57 101 이상없음 689 0.18
비교예 2 1.85 92 이상없음 679 0.15
비교예 3 1.93 90 크랙일루발생 675 0.19
비교예 4 3.40 75 크랙다수발생 656 0.25
비교예 5 1.01 125 표면얼룩발생 675 0.19
위 표에서 나타난 바와 같이, 연성동박적층판의 박리면적은 내굴곡성 회수와 밀접한 상관 관계에 있는데, 박리면적의 증가는 내굴곡성 회수의 감소를 초래한다. 따라서, 박리면적은 연성동박적층판의 물성인 동시에 내굴곡성 특성을 나타내는 지표로서 정의될 수 있다. 한편, 비교예 5의 경우 내굴곡성 회수에 있어서는 양호한 특성을 나타내었지만, 외관상 표면 얼룩이 발생하였다.
본 발명에서 내굴곡성 회수에 대해 요구되는 임의의 기준을 설정하는 경우 그 특성은 연성동박적층판의 도금층의 박리면적으로부터 쉽게 예측될 수 있다. 예컨대, 100 회 이상의 내굴곡성 회수를 만족하는 품질 기준을 설정하는 경우 측정 및 계산된 박리면적으로부터 연성동박적층판을 선택함으로써 내굴곡성 검사 없이도 소정 기준을 만족할 것임을 예측할 수 있다.
예컨대, 박리면적과 이에 대응하는 내굴곡성 특성이 맵핑된 테이블을 작성하고, 요구되는 내굴곡성 특성이 만족되도록 연성동박적층판의 박리면적이 설정될 수 있으며, 박리면적 시험이 내굴곡성 시험방법을 대체할 수 있다.
이하에서는 도 5를 참조하여 이를 설명한다. 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 박리면적 시험 절차를 모식적으로 도시한 절차도이다.
도 5를 참조하면, 전술한 실시예와 같이 연성동박적층판을 작업전극으로 하는 전기화학적 셀을 구성한다(S100). 이 때, 전기화학적 셀은 작업전극 및 기준전극을 포함하는 2 전극 셀일 수 있고, 작업전극, 기준전극 및 상대전극을 포함하는 3 전극 셀일 수 있다.
상기 전기화학적 셀에 대하여 EIS와 같은 전기화학적 시험법에 의하여 전기화학적 인자를 도출한다(S110). 예시한 바와 같이, 상기 전기화학적 인자는 저항을 포함할 수 있다.
이어서, 상기 전기화학적 인자로부터 박리면적이 계산된다(S120). 예시적인 박리면적의 계산은 수학식 1과 같다. 그러나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 전기화학적 인자로부터 계산 가능한 다른 수학식이나 경험식이 적용될 수 있을 것이다.
다음, 계산된 박리면적(Ad)를 사전 설정된 박리면적(Ad0)과 비교함으로써 상기 연성동박적층판의 특성을 판별한다. 예컨대, 상기 박리면적이 사전 설정값(Ad0) 이하일 경우 적합으로, 사전 설정값을 초과할 경우 부적합으로 판정될 수 있다. 이 때, 사전 설정값(Ad0)은 전술한 바와 같이 내굴곡성 테스트 결과를 반영하여 설정될 수 있다. 그러나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 상기 사전 설정값은 박리면적이 영향을 미치는 연성동박적층판의 다른 특성에 기초하여 설정될 수 있을 것이다.
이상, 본 발명의 실시예를 통해 본 발명을 상술하였지만, 전술한 실시예는 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예는 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되고, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
100 연성동박적층판
110 기재
120 중간층
130 동박층
132 시드층
134 동도금층

Claims (7)

  1. 합성수지 기재 상에 형성된 동박층 및 상기 동박층 상의 방청 코팅층을 포함하는 연성동박적층판에 있어서,
    상기 연성동박적층판은 다음의 수학식으로 표현되는 박리면적(Ad)이 1.05 내지 1.5인 것을 특징으로 하는 연성동박적층판.
    Figure 112017034404658-pat00004

    (여기서, R0 pore는 대기 노출 초기의 방청코팅층의 저항값이고, Rpore는 대기 노출 후 240 시간 경과 시의 방청코팅층의 저항값이다)
  2. 제1항에 있어서,
    상기 합성수지 기재는, 폴리에스테르 수지; 에폭시 수지; 폴리이미드 수지; 폴리에틸렌; 폴리프로필렌; 축중합체; 및 이들에서 선택된 적어도 2 이상의 혼합물;로 이루어지는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나 이상의 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 연성동박적층판.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 동박층은 전해 동박인 것을 특징으로 하는 연성동박적층판.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항의 연성동박적층판의 동박층으로부터 형성된 배선 패턴을 포함하는 연성회로기판.
  5. 합성수지 기재, 상기 합성수지 기재 상에 형성된 동박층 및 상기 동박층 상의 방청 코팅층을 포함하는 연성동박적층판을 작업전극으로 하는 전기화학적 셀을 구성하는 단계;
    상기 전기화학적 셀에 대한 전기화학적 임피던스 분광법으로부터 전기화학적 인자를 도출하는 단계; 및
    상기 전기화학적 인자로부터 다음의 수식에 따라 박리면적을 계산하는 단계를 포함하는 연성동박적층판의 시험 방법.
    Figure 112017034404658-pat00005

    (여기서, R0 pore는 대기 노출 초기의 방청코팅층의 저항값이고, Rpore는 대기 노출 후 t 시간 경과 시의 방청코팅층의 저항값이다)
  6. 제5항에 있어서,
    상기 계산된 박리면적이 사전 설정된 박리면적 이하인지 여부를 판단하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 연성동박적층판의 시험 방법.
  7. 제6항에 있어서,
    연성동박적층판의 박리면적과 상기 연성동박적층판에 대한 내굴곡성 시험 회수를 맵핑하는 단계를 더 포함하고,
    상기 사전 설정된 박리면적은 요구되는 내굴곡성 시험 회수에 대응하는 박리면적에 의해 설정되는 것을 특징으로 하는 연성동박적층판의 시험 방법.
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