KR102383727B1 - 내식성이 우수한 니켈 도금 열처리 강판 제조 방법 및 이로부터 제조된 니켈 도금 열처리 강판 - Google Patents

내식성이 우수한 니켈 도금 열처리 강판 제조 방법 및 이로부터 제조된 니켈 도금 열처리 강판 Download PDF

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Abstract

본 발명은 니켈 도금층과 소지 Fe와의 합금화 열처리 후 Ni-Fe 합금층 위에 잔재하는 순 Ni를 완전히 제거한 후 EDS(Energy Dispersive Spectrometer) 혹은 EPMA(Electron Probe X-ray Microanalyses)를 이용하여 Ni-Fe 합금층을 분석하였을 때 잔존하는 Ni의 량이 Fe와 Ni 전체량의 0.1중량% 이상 내지 30중량% 미만인 것을 특징으로 하는 내식성이 우수한 니켈도금 열처리 강판 및 그 제조 방법을 제공한다.

Description

내식성이 우수한 니켈 도금 열처리 강판 제조 방법 및 이로부터 제조된 니켈 도금 열처리 강판{MANUFACTURING METHOD OF NIKEL PALTED STEEL SHEET AND NIKEL PALTED STEEL SHEET PREPARED THREFROM}
본 발명은 배터리 케이스용 니켈 도금 열처리 강판 제조 방법 및 이로부터 제조된 니켈 도금 열처리 강판에 관한 것이다.
최근 전자기기 등의 무선화와 친환경 운송 수단의 발전으로 전지 시장은 점점 성장하는 추세이다. 특히 충전 및 방전이 가능한 2차 전지인 원통형 리튬이온 전지는 그 사이즈가 규격화 되어 있으며 그 적용분야 또한 다양하며 증가되고 있다. 최근에는 오토바이, 트럭 등 다양한 운송수단에도 원통형 리튬 이온전지가 적용되고 있어 활용분야가 상당히 넓어지는 추세이다.
원통형 2차 전지에 사용되는 배터리 Case용 표면처리강판은 전지의 안정성을 위해 내식성이 특히 중요한 품질 요구조건이 되고 있다. 이러한 내식성에 가장 큰 영향을 미치는 인자로서 니켈도금 이후 합금화 열처리 공정에 의해 형성되는 니켈 도금층과 소지 Fe층과의 합금층의 량이 중요하지만 이 합금층의 량을 정량화하는 것이 아직 표준화 되어있지 않다. 예로서 일본 특허 “특개2009-263727. 용기용 Ni 도금강판과 그것에 의해 제조된 용기 및 그 제조방법”에서 Ni-Fe 합금층을 GDS(Glow방전발광분광분석장치)를 이용하여 분석하고 이 때 분석결과로 나타나는 분석 Graph를 판독하는 방법으로 합금량을 정량화하는 방법을 소개하고 있다. 하지만 이 방법은 분석 Graph를 판독하는 방법에 있어 주관적인 판단에 의한 것으로서 실제 합금량을 정량화하는 방법이라고는 할 수 없다.
종래의 GDS를 이용하여 Ni-Fe 함금층의 두께를 분석하는 경우, Graph 중에 어느 부위에서 어느 부위까지 Ni-Fe 합금층이라고 객관적으로 정의할 수는 없었다. 즉 합금층이 정확이 얼마인지에 대한 결과의 객관성이 결여된 분석 방법이라고 할 수 있다. 앞에서도 설명하였듯이 Ni-Fe 합금층은 전지의 수명에 영향을 미치는 중요한 품질 인자로서 객관적인 정량 방법에 의한 제품 관리가 반드시 필요하다.
본 발명의 하나의 목적은 Ni-Fe 합금층을 객관적이고 정확하게 분석하는 것에 의해 관리되는 니켈 도금량과 Ni-Fe 합금층을 제공함으로서 내식성이 우수한 니켈 도금 열처리 강판 제조 방법 및 이로부터 제조된 니켈 도금 열처리 강판을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 구현예는 소지 강판의 적어도 일면에 니켈 도금층을 형성하는 단계; 및 상기 니켈 도금층이 형성된 소지 강판을 합금화 열처리하여, 상기 소지 강판과 니켈 도금층의 계면에 니켈-철 합금층 형성하는 단계; 를 포함하고, 상기 니켈-철 합금층은 하기 식 1을 만족하는 것인 전지 외피용 니켈 도금 열처리 강판 제조 방법에 관한 것이다.
<식 1>
0.1 ≤ { Ni/(Ni+Fe) * 100 } < 30
상기 식 1에서, Ni 은 니켈 도금층을 완전 제거한 후, EDS(Energy Dispersive Spectrometer) 분석 또는 EPMA(Electron Probe X-ray Microanalyses) 분석에 의해 니켈-철 합금층에 잔존하는 Ni 함량이고, Fe 는 니켈 도금층을 완전 제거한 후, EDS(Energy Dispersive Spectrometer) 분석 또는 EPMA(Electron Probe X-ray Microanalyses) 분석에 의해 니켈-철 합금층에 잔존하는 Fe 함량이다.
상기 니켈 도금층의 도금량은 2.7g/m2 내지 44.5g/m2인 니켈도금 열처리 강판 제조 방법.
상기 식 1에서, { Ni/(Ni+Fe) * 100 } 값은 0.3 내지 25인 전지 외피용 니켈 도금 열처리 강판 제조 방법.
본 발명의 다른 구현예는 전술한 제조 방법으로 형성되고, 소지 강판; 상기 소지 강판의 적어도 일면에 형성된 니켈 도금층; 및 상기 소지 강판과 니켈 도금층의 계면에 형성된 니켈-철 합금층; 을 포함하는 전지 외피용 니켈 도금 열처리 강판에 관한 것이다.
본 발명에서는 Ni-Fe 합금층을 객관적이고 정확하게 분석하는 것에 의해 관리되는 니켈 도금량과 Ni-Fe 합금층을 포함함으로서 내식성이 우수한 니켈 도금 열처리 강판과 그 제조 방법을 제공한다.
도 1은 본 발명 일 실시예에 따른 니켈 도금 열처리 강판의 단면도를 나타낸 것이다.
도 2는 순 니켈 층 제거 후 Ni-Fe 합금층 EDS 성분 분석 결과를 나타낸 그래프이다( Ni 전기 도금량: 30g/m2).
도 3은 순 니켈 층 제거 후 Ni-Fe 합금층 EDS 성분 분석 결과를 나타낸 도표이다( Ni 전기 도금량: 30g/m2).
도 4는 순 니켈 층 제거 후 Ni-Fe 합금층 EDS 성분 분석 결과를 나타낸 그래프이다( Ni 전기 도금량: 10g/m2).
도 5는 순 니켈 층 제거 후 Ni-Fe 합금층 EDS 성분 분석 결과를 나타낸 도표이다( Ni 전기 도금량: 10g/m2).
도 6은 비교예 1의 순 니켈 층 제거 후 소지층 EDS 성분 분석 결과를 나타낸 그래프이다( Ni 전기 도금량: 30g/m2).
도 7은 비교예 1의 순 니켈 층 제거 후 소지층 EDS 성분 분석 결과를 나타낸 도표이다( Ni 전기 도금량: 30g/m2).
도 8은 합금화 처리 전 GDS 분석 결과를 나타낸 그래프이다( Ni 전기 도금량: 30g/m2).
도 9는 합금화 처리 후 GDS 분석 결과를 나타낸 그래프이다( Ni 전기 도금량: 30g/m2).
본 발명의 일 구현예는 소지 강판의 적어도 일면에 니켈 도금층을 형성하는 단계; 및 상기 니켈 도금층이 형성된 소지 강판을 합금화 열처리하여, 상기 소지 강판과 니켈 도금층의 계면에 니켈-철 합금층 형성하는 단계; 를 포함하고, 상기 니켈-철 합금층은 하기 식 1을 만족하는 것인 전지 외피용 니켈 도금 열처리 강판 제조 방법에 관한 것이다.
<식 1>
0.1 ≤ { Ni/(Ni+Fe) * 100 } < 30
상기 식 1에서, Ni 은 니켈 도금층을 완전 제거한 후, EDS(Energy Dispersive Spectrometer) 분석 또는 EPMA(Electron Probe X-ray Microanalyses) 분석에 의해 니켈-철 합금층에 잔존하는 Ni 함량이고, Fe 는 니켈 도금층을 완전 제거한 후, EDS(Energy Dispersive Spectrometer) 분석 또는 EPMA(Electron Probe X-ray Microanalyses) 분석에 의해 니켈-철 합금층에 잔존하는 Fe 함량이다.
상기 니켈 도금층의 도금량은 2.7g/m2 내지 44.5g/m2일 수 있다.
상기 식 1에서, { Ni/(Ni+Fe) * 100 } 값은 0.3 내지 25일 수 있다.
본 발명의 다른 구현예는 전술한 제조 방법으로 형성되고, 소지 강판; 상기 소지 강판의 적어도 일면에 형성된 니켈 도금층; 및 상기 소지 강판과 니켈 도금층의 계면에 형성된 니켈-철 합금층; 을 포함하는 전지 외피용 니켈 도금 열처리 강판에 관한 것이다.
본 발명에서는 Ni-Fe 합금층을 객관적이고 정확하게 분석하는 방법 및 이에 의해 관리되는 니켈 도금량과 Ni-Fe 합금층을 포함함으로서 내식성이 우수한 니켈 도금 열처리 강판과 그 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 니켈 도금 열처리 강판의 주 사용 용도인 건전지 외피 특성을 기준으로 하여 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. 건전지 외피의 경우 니켈 도금 열처리 강판 소재를 심(Deep)가공 (DNI: Drawing and Ironing, DTR: Draw thin and Redrawing)하여 제조되어진다. 이 때 가공에 의해 소재가 약 10~50% 두께 감소가 발생된다. 이 경우 니켈 전체 도금량이 2.7g/m2 미만일 경우 Fe 소지층 전체를 피복 할 수 있는 절대량이 부족하여 충분한 내식성을 발휘하기 어렵고 더불어 최 상부층의 순 Ni층을 제거 한 후 Ni-Fe 합금층을 EPMA 혹은 EDS를 이용하여 성분 비(ratio)를 분석하였을 때 잔존하는(Fe와 합금화 되어있는 Ni) Ni량이 Fe와 Ni 전체량의 0.1 중량% 미만 구체적으로 0.3중량% 미만일 경우 건전지 가공중 Ni-Fe층이 충분하지 않아 도금층 박리와 더불어 충분한 내식성을 역시 발휘하지 못한다.
반대로, 니켈 전체 도금량이 44.5g/m2 초과일 경우 필요 이상의 많은 니켈 도금으로 인해 생산비용 측면에서 좋지 않으며 특히 과량의 니켈은 건전지 외피 가공 공정에서 Ni 분진 발생, 도금층 Crack 발생 등의 가공문제를 야기 시키기도 하여 바람직하지 못하다. 또한 상부층의 순 Ni 층을 제거 한 후 Ni-Fe 합금층을 EPMA 혹은 EDS를 이용하여 성분 비를 분석 하였을 때 잔존하는(Fe와 합금화 되어 있는 Ni) Ni량이 Fe와 Ni 전체량의 30중량% 초과, 구체적으로 25 중량% 초과일 경우 소지 Fe층이 외부로 많이 확산(Diffusion)된 것을 의미하므로 이 또한 내식성에 악 영향을 미친다.
본 발명에 대해 보다 구체적으로 기술하면, 본 발명에서 사용될 수 있는 강판으로는 통상의 강판을 제한 없이 사용할 수 있다. 예를 들면, 상기 강판으로서, 주석 도금용 소재(Black plate) 또는 냉연 강판(CR)을 적용할 수 있다.
니켈 도금 시 적절한 전처리를 한 후 사용할 수 있으며, 상기 전처리로는 통상적인 탈지 공정, 수세 공정, 산세 처리 등이 있으나 이에 제한되지 않는다.
상기 강판의 두께는 사용 용도에 따라 달라질 수 있고, 예를 들면 0.3mm 내지 0.5mm 일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
이어지는 공정으로서 니켈 도금층을 형성하는 단계는 통상적인 전해 니켈 도금액(욕)을 사용하여 통상적인 전기 도금법으로 수행될 수 있다, 예를 들면, 상기 전해 니켈 도금액으로는 와트욕(Watt), 염화욕 등의 산을 포함하는 산성 도금액 등을 사용할 수 있다. 상기 와트욕을 예를 들면 전체 산성 도금액 1L에 대하여 황산니켈 200 ~ 350g/L, 염화니켈 20 ~ 60g/L, 붕산 10 ~ 50g/L 및 나머지 물을 포함하는 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 상기 도금욕을 이용한 도금 작업 조건으로 pH는 3.0 ~ 4.8 욕온 50 ~ 70℃, 전류밀도 10 ~ 40 A/dm2 일 수 있지만 이에 제한되지 않는다.
니켈 도금층의 광택을 제공하기 위해서는 Sulfur 성분이 포함되지 않은 첨가제를 사용할 수 있다. Sulfur 성분이 함유된 광택제를 사용하여 광택 니켈 도금을 할 경우 도금층의 경도가 증가하여 가공 시 크랙이 생겨 내식성이 저하되고 가공 tool에 chip이 쌓여 스크래치를 발생시킬 가능성이 증가한다.
한 면 전체(Total) 니켈 도금량이 2.7g/m2 내지 44.5g/m2 가 바람직하다.
도금된 니켈 도금층은 경도가 높고 연신율이 낮아 그대로 건전지 외피로 가공 시 외피의 니켈 도금층의 균열이 발생되어 궁극적으로 녹 발생 등의 문제는 물론 건전지 성능을 저하시키는 근본 원인으로 된다. 이 문제점은 Ni 도금 이 후 확산 열처리 공정을 통해 Ni층과 소지 Fe층 사이에 Ni-Fe으로 구성되는 합금층을 형성시키고 열처리 과정에서 Ni층 및 Ni-Fe층이 연질화 되어 건전지 외피로 가공 후에도 우수한 내식 특성을 부여 할 수 있다. 이 때 열처리 방법(형식)은 연속 합금화 열처리(이하 연속열처리)와 상자 합금화 열처리(이하 상자열처리) 모두 가능하다. 보다 구체적으로는 400℃ 내지 500℃에서 1시간에서 1500시간 Batch로 열처리하는 상자 합금화 열처리(상자열처리) 혹은 550℃내지 650℃에서 5초에서 2000초 간 연속으로 열처리하는 연속 합금화 열처리(연속열처리)로 수행되는 것일 수 있다. 하지만 최 외층의 순 니켈층을 제거 후 표면을 EDS 혹은 EPMA등 표면 정량 분석 설비를 이용하여 분석 결과 잔존하는 Ni의 량이 Fe와 Ni 전체량의 0.1중량% 내지 30중량%, 구체적으로 0.3중량% 내지 25중량%로 구성 할 수 있다면 열처리 조건(온도x시간)은 특별히 한정되지 않는다.
본 발명의 니켈 도금 열처리 강판은 합금화 열처리 공정 이후 니켈 도금 열처리 강판 샘플을 채취 후 산성 용액과 알카리 용액으로 구성되는 Ni 제거 용액들을 이용하여 최 외각 층의 순수 Ni 층을 완전히 선택적으로 제거한 후 일반적인 표면 성분 분석 설비인 EDS 혹은 EPMA를 이용하여 표면 성분을 분석하여 잔존하는 Ni의 량이 Fe와 Ni 전체량의 0.3중량% 내지 30중량%인 것을 확인 할 수 있다. 이때 EDS로 분석 할 경우 배율은 한정되지 않지만 50~200배, 가속 전압은 15~25kV, 2차 Energy counting은 2kcps(kilo count per second)이상이 바람직하다.
실시예
이하, 실시예를 들어 본 발명에 대해 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되지 않는다.
<실시예 1 및 10>
소재 강판으로서 아래 같은 화학조성의 저탄소강 냉간 압연강판 사용하였다.
- 소재 화학성분 조성: C:200ppm, Mn:2700ppm, Si 10ppm이하, P 10ppm 이하 및 불가피한 불순물.
준비한 강판을 알카리 탈지, 알카리 전해 탈지, 산세(황산 수용액)을 실시한 후 하기 조건으로 전해 Ni 도금을 실시하였다. Ni 도금 부착량은 상, 하면이 다르며 각각 10g/m2, 30g/m2로 되도록 하였고. 니켈 도금층 량은 형광 x선 측정(XRF) 설비에 의해 부착량을 측정하였다. 이 때 사용되어진 Ni 도금액 각 성분의 구성은 아래와 같다
- 도금욕 조성 : 황산니켈 200g/L, 염화니켈 40g/L, 붕산 40g/L
- 도금욕 pH : 3.2 ~ 4.5
- 도금욕 온도 : 60℃
- 전류밀도 : 15ASD
상기 조건으로 니켈 도금층을 형성한 이후 철-니켈 합금층을 형성하기 위해 상자 합금화 열처리 및 연속 합금화 열처리를 각각 실시하였다. 상자 합금화 열처리 조건은 온도 400℃, 시간 1500시간으로 환원성 분위기 조건으로 실시하였고, 연속 합금화 열처리 조건은 온도 550℃ 시간 2,000초로 역시 환원성 분위기 조건으로 실시하여 철 니켈 합금층을 형성했다. 이어서 조질압연을 실시하여, 니켈 도금 열처리 강판을 제조하였다
<실시예 2 내지 9 및 실시예 11 내지 18>
하기 표 1에 표시된 바와 같이 니켈 도금량과 합금화 열처리 조건을 변경한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일하게 수행 하였다
<비교예 1 내지 4>
하기 표 1에 표시된 바와 같이 니켈 도금량을 변경하고 합금화 열처리 수행을 생략하거나 다르게 한 것을 제외하고 실시예와 동일하게 수행하였다
<평가방법>
(1) 합금층 내에 Ni 함량 분석
아래와 같은 방법으로 Ni-Fe 합금층 중에 Ni함량을 측정하였다.
합금층(Ni-Fe층)의 Ni-Fe 성분비를 분석하기 위해 Ni 제거 용액들을 이용하여 최 외각 층의 순수 Ni 층을 완전히 선택적으로 제거한 후 SEM(Scanning Electron Microscope) 및 EDS를 이용하여 확대배율 100배, 가속전압 20kV, EDS 설비로 입사되는 2차 에너지의 수는 2kCPS 이상으로 하여 표면에 합금화된 Ni 함량을 측정하고 식1에 만족하는지의 여부를 확인하였다.
<식 1>
0.1 ≤ { Ni/(Ni+Fe) * 100 } < 30
상기 식 1에서, Ni는 니켈 도금층을 완전 제거한 후, EDS(Energy Dispersive Spectrometer) 분석 또는 EPMA(Electron Probe X-ray Microanalyses) 분석에 의해 측정한 니켈-철 합금층에 잔존하는 Ni함량이고, Fe는 니켈 도금층을 완전 제거한 후, EDS(Energy Dispersive Spectrometer) 분석 또는 EPMA(Electron Probe X-ray Microanalyses) 분석에 의해 측정한 니켈-철 합금층에 잔존하는 Fe 함량이다.
(2) 내식성 시험 : 실시예 및 비교예에서 제조된 강판으로부터 100mm X 100mm 크기의 시편을 채취하였다. 상기 시편을 KSD8334 도금의 내식성 시험 준용하여 약 25% 연신 후 염수분무(염수 조성: NaCl 및 순수 혼합액, 농도: 5%)를 시편에 분무한 후, 35℃ 온도에서 2~4시간 동안 방치하여 내식성 정도를 평가하였다.
상기 내식성 시험 후의 시편을 육안으로 관찰한 후, 부식 면적을 측정하고, 하기 기준에 따라 평가하였다. 결과는 하기 표 1에 나타내었다.
A : 시편 면적 전체에서 부식 부위를 전혀 관찰할 수 없었다.
B : 시편 면적 전체의 1% 이상 10% 미만의 면적에 부식이 발생하였다.
C : 시편 면적 전체의 10% 이상 50% 미만의 면적에 부식이 발생하였다.
D : 시편 면적 전체의 50% 이상의 면적에 부식이 발생하였다.
실시예 Ni도금량(g/m2) 합금화 열처리 조건 <식 1> 내식성
온도(℃) 시간
상자
열처리		 실시예1 상면 30 400 1500시간 28.5 B
하면 15 19.2 A
실시예2 상면 30 400 100시간 7.4 A
하면 10 5.1 A
실시예3 상면 30 400 20시간 3.3 A
하면 5 2.3 B
실시예4 상면 30 450 60시간 26.0 B
하면 10 18.1 B
실시예5 상면 30 450 30시간 18.4 A
하면 15 12.8 A
실시예6 상면 30 450 2시간 4.8 A
하면 10 3.3 A
실시예7 상면 30 500 5시간 28.2 B
하면 10 19.6 B
실시예8 상면 30 500 3시간 21.8 A
하면 10 15.2 B
실시예9 상면 30 500 1시간 12.6 A
하면 10 8.8 A
연속
열처리		 실시예10 상면 30 550 2000초 30.0 B
하면 10 20.9 B
실시예11 상면 30 550 300초 11.6 A
하면 10 8.1 A
실시예12 상면 30 550 30초 3.7 A
하면 10 2.6 A
실시예13 상면 30 600 200초 26.5 B
하면 5 18.5 B
실시예14 상면 30 600 30초 10.3 A
하면 10 7.2 A
실시예15 상면 30 600 8초 5.3 A
하면 10 3.7 A
실시예16 상면 30 650 40초 29.7 B
하면 5 20.7 B
실시예17 상면 30 650 20초 21.0 A
하면 15 14.6 A
실시예18 상면 30 650 1초 4.7 A
하면 10 3.3 A
비교예1 상면 30 - - 0 D
하면 10 0 D
비교예2 상면 40 - - 0 D
하면 10 0 D
비교예3
(상자열처리)		 상면 30 500 15시간 48.8 C
하면 5 34.0 C
비교예4
(연속열처리)		 상면 30 650 100초 47.0 C
하면 10 32.7 C
상기 표 1의 결과를 통해 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 식 1로 표시되는 값을 0.1 내지 30 의 값으로 제어한 실시예 1 내지 18의 니켈 도금 열처리 강판의 경우, 내식성이 우수하였다.
반면, 니켈-합금층이 형성되지 않아 식 1로 표시되는 값이 0.1 미만인 비교예 1 내지 2의 경우, 부식성이 매우 낮아 전지 외피용으로 사용하기에 부적합하였다. 또한, 열처리가 과도하게 수행되어 식 1로 표시되는 값이 30을 초과하는 비교예 3 내지 4의 경우도, 부식성이 낮아 전지 외피용으로 사용하기에 부적합하였다.
전술한 실시예에서는 본 발명에서 제시된 Ni 도금량의 범위 내에서 도금 되어진 각 실시예의 샘플을 상이한 조건에서 합금화 열처리 후 본 발명에서 제시된 Ni-Fe 합금층 중의 Ni함량 분석 방법을 이용하여 Ni 함량을 분석한 결과 조건에 따라 상이한 Ni 함량비를 얻을 수 있었으며, 이때 분석되어진 Ni 함량비는 관리가 가능한 숫자로 표시가 되며, 분석자의 임의의 변수나 가정이 없는 분석기기에서 직접 얻을 수 있는 수치이며 반복 분석에서 재현성에서도 우수한 결과를 얻었다.
동일한 샘플을 GDS를 이용하여 Ni-Fe 함금층의 두께를 분석 한 결과 합금화 열처리 유,무에 따라 분석결과(Graph)는 차이를 보였으나 (도 8 및 도 9) 그래프 중에 어느 부위에서 어느 부위까지 Ni-Fe 합금층이라고 객관적으로 정의 할 수는 없었다. 즉 합금층이 정확이 얼마인지에 대한 결과의 객관성이 결여된 분석 방법이라고 할 수 있다.
1: 니켈 도금 열처리 강판
2: 니켈 도금층
3: 니켈-철 합금층
4: 소지 강판

Claims (4)

  1. 소지 강판의 적어도 일면에 니켈 도금층을 형성하는 단계; 및
    상기 니켈 도금층이 형성된 소지 강판을 합금화 열처리하여, 상기 소지 강판과 니켈 도금층의 계면에 니켈-철 합금층 형성하는 단계; 를 포함하고,
    상기 니켈 도금층은 니켈 도금량이 10 g/m2 내지 30 g/m2 이고,
    상기 니켈-철 합금층은 하기 식 1을 만족하는 것인 전지 외피용 니켈 도금 열처리 강판 제조 방법:
    <식 1>
    2.6 ≤ { Ni/(Ni+Fe) * 100 } ≤ 21.8
    상기 식 1에서, Ni 은 니켈 도금층을 완전 제거한 후, EDS(Energy Dispersive Spectrometer) 분석 또는 EPMA(Electron Probe X-ray Microanalyses) 분석에 의해 니켈-철 합금층에 잔존하는 Ni 함량이고, Fe 는 니켈 도금층을 완전 제거한 후, EDS(Energy Dispersive Spectrometer) 분석 또는 EPMA(Electron Probe X-ray Microanalyses) 분석에 의해 니켈-철 합금층에 잔존하는 Fe 함량이다.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제1항에 따른 제조 방법으로 형성되고,
    소지 강판; 및
    상기 소지 강판의 적어도 일면에 형성된 니켈 도금층; 및
    상기 소지 강판과 니켈 도금층의 계면에 형성된 니켈-철 합금층;
    을 포함하는 전지 외피용 니켈 도금 열처리 강판.
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