KR102270622B1 - Apparatus for treating substrate - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판을 처리하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는, 내부에 기판을 처리하는 처리 공간이 제공되는 공정 챔버와; 상기 처리 공간 내의 기체가 배기되는 덕트와; 상기 처리 공간으로부터 배기되는 기체를 외부 공기와 혼합하여 상기 덕트 내로 배기하는 혼합 배기 유닛을 포함하되, 상기 혼합 배기 유닛은, 일단은 상기 공정 챔버에 연결되고, 상기 덕트의 측벽을 관통하여 상기 덕트의 내부로 연장되는 배기관과; 상기 덕트의 측벽의 상기 배기관이 관통된 영역과 상이한 영역에 일단이 연결되고, 길이 방향을 축으로 회전되는 외기 도입관을 포함하되, 상기 배기관 및 상기 외기 도입관 중 어느 하나의 단부는 다른 하나의 단부에 삽입되고, 상기 외기 도입관의 상기 일단에는 내부로 외부 공기가 유입되도록 외기 유입구가 형성되고, 상기 배기관의 측벽의 상기 덕트의 내부에 위치되는 영역에는 고정 배기홀이 형성되고, 상기 외기 도입관의 측벽의 상기 배기관의 측벽과 중첩되는 영역에는 개구가 형성된다.The present invention relates to a substrate processing apparatus for processing a substrate. A substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention includes: a process chamber in which a processing space for processing a substrate is provided; a duct through which gas in the processing space is exhausted; and a mixing exhaust unit that mixes the gas exhausted from the processing space with external air and exhausts the gas into the duct, wherein the mixing exhaust unit has one end connected to the process chamber and passes through a sidewall of the duct. an exhaust pipe extending inward; One end is connected to an area different from the area through which the exhaust pipe of the side wall of the duct passes, and an outside air introduction pipe is rotated about the longitudinal direction, wherein the end of any one of the exhaust pipe and the outside air introduction pipe is the other It is inserted into the end, and an outside air inlet is formed at one end of the outside air introduction pipe to introduce outside air into the inside, and a fixed exhaust hole is formed in an area located inside the duct of the side wall of the exhaust pipe, and the outside air is introduced. An opening is formed in a region of the sidewall of the tube overlapping the sidewall of the exhaust pipe.

Description

기판 처리 장치{APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE}Substrate processing apparatus {APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE}

본 발명은 기판을 처리하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus for processing a substrate.

반도체 소자를 제조하기 위해서는 사진, 식각, 증착, 이온주입, 그리고 세정 등과 같은 다양한 공정이 수행된다. 이 중 사진공정은 패턴을 형성하기 위해 공정으로 반도체 소자의 고집적화를 이루는데 중요한 역할을 수행한다.In order to manufacture a semiconductor device, various processes such as photography, etching, deposition, ion implantation, and cleaning are performed. Among them, the photo process plays an important role in achieving high integration of semiconductor devices as a process for forming patterns.

사진 공정은 크게 도포공정, 노광공정 그리고 현상공정으로 이루어지며, 도포공정 후 노광공정이 진행되기 전 및 노광공정이 진행된 후 단계에는 베이크 공정을 수행한다. 베이크 공정은 기판을 열 처리하는 과정으로, 가열 플레이트에 놓인 기판을 히터로부터 제공된 열로 인해 그 기판을 열 처리한다. 기판에 대해 열처리를 수행하는 경우 가열된 기판으로부터 흄(Fume)이 발생될 수 있다. 따라서, 기판에 대한 열처리가 수행되는 열처리 챔버 내의 흄을 포함하는 기체를 배기하기 위해 열처리 챔버에는 덕트가 연결된다. The photographic process consists of a coating process, an exposure process, and a developing process. After the coating process, the baking process is performed before and after the exposure process. A baking process is a process of heat-treating a substrate, and heat-treats a substrate placed on a heating plate by heat provided from a heater. When heat treatment is performed on the substrate, fume may be generated from the heated substrate. Accordingly, a duct is connected to the heat treatment chamber to exhaust gas containing fumes in the heat treatment chamber in which heat treatment for the substrate is performed.

도 1은 일반적인 열처리 장치를 보여주는 단면도이다. 도 1을 참조하면, 상기 베이크 공정과 같은 기판에 대한 열처리를 수행하는 열처리 장치(10)는, 내부에 기판을 가열하는 열처리 유닛(11)이 제공되는 열처리 챔버(13)와, 열처리 챔버(13) 내의 기체가 배기되는 덕트(15)를 포함한다. 덕트(15)에는 열처리 챔버(13)로부터 기체가 유입되는 배기홀(17)이 형성된다. 또한, 덕트(15)에는 배기홀(17)의 개폐율을 조절하여 배기 압력을 조절하는 압력 조절 부재(19)가 설치된다. 일반적으로 압력 조절 부재(19)는 나사 방식에 의해 배기홀(17)과의 거리를 조절함으로써 배기홀(17)의 개폐율을 조절한다. 그러나, 이러한 방식의 압력 조절 부재(19)를 사용하는 경우, 덕트(15)의 배기홀(17)이 형성된 측벽 및 압력 조절 부재(19)의 사이에 흄이 증착되어 배기 압력 조절에 영향을 미칠 수 있다.1 is a cross-sectional view showing a general heat treatment apparatus. Referring to FIG. 1 , the heat treatment apparatus 10 for performing heat treatment on a substrate such as the bake process includes a heat treatment chamber 13 provided with a heat treatment unit 11 for heating a substrate therein, and a heat treatment chamber 13 . ) includes a duct 15 through which the gas is exhausted. An exhaust hole 17 through which gas flows from the heat treatment chamber 13 is formed in the duct 15 . In addition, a pressure adjusting member 19 is installed in the duct 15 to adjust the exhaust pressure by adjusting the opening/closing rate of the exhaust hole 17 . In general, the pressure adjusting member 19 adjusts the opening/closing rate of the exhaust hole 17 by adjusting the distance from the exhaust hole 17 by a screw method. However, when using the pressure control member 19 in this way, fumes are deposited between the sidewall where the exhaust hole 17 of the duct 15 is formed and the pressure control member 19 to affect the exhaust pressure control. can

본 발명은 덕트 내에 흄이 증착되는 것을 최소화할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다.An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of minimizing the deposition of fumes in a duct.

또한, 본 발명은 예방 정비(PM: Preventive Maintenance) 주기를 개선할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다.Another object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of improving a preventive maintenance (PM) cycle.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems to be solved by the present invention are not limited thereto, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명은 기판을 처리하는 기판 처리 장치를 제공한다. 일 실시 예에 따르면, 기판 처리 장치는, 내부에 기판을 처리하는 처리 공간이 제공되는 공정 챔버와; 상기 처리 공간 내의 기체가 배기되는 덕트와; 상기 처리 공간으로부터 배기되는 기체를 외부 공기와 혼합하여 상기 덕트 내로 배기하는 혼합 배기 유닛을 포함하되, 상기 혼합 배기 유닛은, 일단은 상기 공정 챔버에 연결되고, 상기 덕트의 측벽을 관통하여 상기 덕트의 내부로 연장되는 배기관과; 상기 덕트의 측벽의 상기 배기관이 관통된 영역과 상이한 영역에 일단이 연결되고, 길이 방향을 축으로 회전되는 외기 도입관을 포함하되, 상기 배기관 및 상기 외기 도입관 중 어느 하나의 단부는 다른 하나의 단부에 삽입되고, 상기 외기 도입관의 상기 일단에는 내부로 외부 공기가 유입되도록 외기 유입구가 형성되고, 상기 배기관의 측벽의 상기 덕트의 내부에 위치되는 영역에는 고정 배기홀이 형성되고, 상기 외기 도입관의 측벽의 상기 배기관의 측벽과 중첩되는 영역에는 개구가 형성된다.The present invention provides a substrate processing apparatus for processing a substrate. According to an embodiment, a substrate processing apparatus includes: a process chamber in which a processing space for processing a substrate is provided; a duct through which gas in the processing space is exhausted; and a mixing exhaust unit that mixes the gas exhausted from the processing space with external air and exhausts the gas into the duct, wherein the mixing exhaust unit has one end connected to the process chamber and passes through a sidewall of the duct. an exhaust pipe extending inward; One end is connected to an area different from the area through which the exhaust pipe of the side wall of the duct passes, and an outside air introduction pipe is rotated about the longitudinal direction, wherein the end of any one of the exhaust pipe and the outside air introduction pipe is the other It is inserted into the end, and an outside air inlet is formed at one end of the outside air introduction pipe to introduce outside air into the inside, and a fixed exhaust hole is formed in an area located inside the duct of the side wall of the exhaust pipe, and the outside air is introduced. An opening is formed in a region of the sidewall of the tube overlapping the sidewall of the exhaust pipe.

상기 고정 배기홀은 상기 덕트로 배기되는 기체가 흘러가는 방향을 바라보도록 개방되고, 상기 개구는 상기 외기 도입관이 제 1 위치에 위치되는 경우, 상기 고정 배기홀과 대향되는 제 1 회전 배기홀을 포함할 수 있다.The fixed exhaust hole is opened to face a direction in which the gas exhausted to the duct flows, and the opening is a first rotary exhaust hole opposite to the fixed exhaust hole when the outdoor air introduction pipe is located at the first position. may include

상기 개구는 상기 외기 도입관이 상기 제 1 위치와 상이한 제 2 위치에 위치되는 경우, 상기 고정 배기홀과 대향되는 제 2 회전 배기홀을 더 포함하고, 상기 고정 배기홀의 직경은 상기 제 1 회전 배기홀의 직경과 동일하거나 상기 제 1 회전 배기홀의 직경보다 크게 제공되고, 상기 제 2 회전 배기홀의 직경은 상기 제 1 회전 배기홀의 직경보다 작게 제공될 수 있다.The opening further includes a second rotating exhaust hole opposite to the fixed exhaust hole when the outdoor air introduction pipe is located at a second position different from the first position, the diameter of the fixed exhaust hole being the first rotating exhaust hole The diameter of the hole may be the same as or greater than the diameter of the first rotation exhaust hole, and the diameter of the second rotation exhaust hole may be smaller than the diameter of the first rotation exhaust hole.

상기 제 2 회전 배기홀은 상기 외기 도입관의 둘레 방향을 따라 복수개가 직경이 서로 상이하게 제공될 수 있다.A plurality of the second rotary exhaust holes may be provided with different diameters along the circumferential direction of the outdoor air introduction pipe.

상기 외기 유입구에는 외부 공기의 유입량을 조절하는 외기 조절 부재가 제공될 수 있다.The outside air inlet may be provided with an outside air control member for controlling the inflow of outside air.

상기 외부 공기의 온도는 상기 공정 챔버에서 배기되는 기체의 온도보다 낮을 수 있다.The temperature of the outside air may be lower than the temperature of the gas exhausted from the process chamber.

상기 외부 공기의 온도는 상온일 수 있다.The temperature of the outside air may be room temperature.

상기 덕트로 배기되는 기체는 아래 방향으로 흐르도록 제공될 수 있다.The gas exhausted through the duct may be provided to flow in a downward direction.

상기 공정 챔버는 기판을 열처리하는 열처리 챔버로 제공될 수 있다.The process chamber may be provided as a heat treatment chamber for heat-treating the substrate.

상기 배기관은, 상기 공정 챔버 및 상기 덕트를 연결하는 외측 배기관과; 상기 외측 배기관과 연결되고 상기 덕트의 내부로 연장되는 내측 배기관을 포함하되, 상기 고정 배기홀은 상기 내측 배기관의 측벽에 형성될 수 있다.The exhaust pipe may include: an outer exhaust pipe connecting the process chamber and the duct; An inner exhaust pipe connected to the outer exhaust pipe and extending into the duct, the fixed exhaust hole may be formed in a side wall of the inner exhaust pipe.

본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 덕트 내에 흄이 증착되는 것을 최소화할 수 있다.The substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention may minimize the deposition of fumes in the duct.

또한, 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 예방 정비(PM: Preventive Maintenance) 주기를 개선할 수 있다.Also, the substrate processing apparatus according to an exemplary embodiment may improve a preventive maintenance (PM) cycle.

도 1은 일반적인 열처리 장치를 보여주는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 설비를 보여주는 평면도이다.
도 3은 도 2의 기판 처리 장치를 A-A 방향에서 바라본 도면이다.
도 4는 도 2의 기판 처리 장치를 B-B 방향에서 바라본 도면이다.
도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 측단면도이다.
도 6은 도 5의 혼합 배기 유닛을 보여주는 측단면도이다.
도 7은 도 6의 외기 도입관을 C-C 방향에서 바라본 단면도이다.
도 8은 도 6의 외기 조절 부재를 보여주는 사시도이다.1 is a cross-sectional view showing a general heat treatment apparatus.
2 is a plan view illustrating a substrate processing facility according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a view of the substrate processing apparatus of FIG. 2 as viewed from a direction AA.
FIG. 4 is a view of the substrate processing apparatus of FIG. 2 as viewed from a direction BB.
5 is a side cross-sectional view illustrating a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a side cross-sectional view showing the mixing exhaust unit of FIG. 5 .
7 is a cross-sectional view of the outside air introduction tube of FIG. 6 viewed from the CC direction.
8 is a perspective view illustrating the outside air control member of FIG. 6 .

이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. Embodiments of the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the following embodiments. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those of ordinary skill in the art. Accordingly, the shapes of elements in the drawings are exaggerated to emphasize a clearer description.

본 실시 예의 설비는 반도체 웨이퍼 또는 평판 표시 패널과 같은 기판에 대해 포토리소그래피 공정을 수행하는 데 사용된다. 특히 본 실시예의 설비는 기판에 대해 도포 공정, 현상 공정을 수행하는 데 사용된다. 아래에서는 기판으로 웨이퍼가 사용된 경우를 예로 들어 설명한다. 그러나 기판은 반도체 웨이퍼 이외에 평판 표시 패널, 포토 마스크 등 다양한 종류의 기판일 수 있다. 또한, 이와 달리, 본 발명의 실시 예들에 따른 기판 처리 장치는 챔버 내의 기체를 배기시키는 구성이 요구되는 다양한 설비에 적용될 수 있다.The equipment of this embodiment is used to perform a photolithography process on a substrate such as a semiconductor wafer or a flat panel display panel. In particular, the equipment of this embodiment is used to perform a coating process and a developing process on the substrate. Hereinafter, a case in which a wafer is used as a substrate will be described as an example. However, the substrate may be various types of substrates, such as a flat panel display panel and a photo mask, in addition to the semiconductor wafer. Alternatively, the substrate processing apparatus according to embodiments of the present invention may be applied to various facilities requiring a configuration for evacuating gas in a chamber.

도 2 내지 도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 설비(1)를 개략적으로 보여주는 도면이다. 도 2는 기판 처리 설비(1)를 상부에서 바라본 도면이고, 도 3은 도 2의 기판 처리 설비(1)를 A-A 방향에서 바라본 도면이고, 도 4는 도 2의 기판 처리 설비(1)를 B-B 방향에서 바라본 도면이다.2 to 4 are views schematically showing a substrate processing facility 1 according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a view of the substrate processing facility 1 as viewed from above, FIG. 3 is a view of the substrate processing facility 1 of FIG. 2 in the AA direction, and FIG. 4 is the substrate processing facility 1 of FIG. 2 BB This is the view from the direction.

도 2 내지 도 4를 참고하면, 기판 처리 설비(1)는 로드 포트(100), 인덱스 모듈(200), 버퍼 모듈(300), 도포 및 현상 모듈(400) 그리고 인터페이스 모듈(700)을 포함한다. 로드 포트(100), 인덱스 모듈(200), 버퍼 모듈(300), 도포 및 현상 모듈(400) 그리고 인터페이스 모듈(700)은 순차적으로 일 방향으로 일렬로 배치된다. 2 to 4 , the substrate processing facility 1 includes a load port 100 , an index module 200 , a buffer module 300 , a coating and developing module 400 , and an interface module 700 . . The load port 100 , the index module 200 , the buffer module 300 , the application and development module 400 , and the interface module 700 are sequentially arranged in a line in one direction.

이하, 로드 포트(100), 인덱스 모듈(200), 버퍼 모듈(300), 도포 및 현상 모듈(400), 그리고 인터페이스 모듈(700)이 배치된 방향을 제 1 방향(12)이라 한다. 상부에서 바라볼 때 제 1 방향(12)과 수직한 방향을 제 2 방향(14)이라 하고, 제 1 방향(12) 및 제 2 방향(14)과 각각 수직한 방향을 제 3 방향(16)이라 한다. Hereinafter, the direction in which the load port 100 , the index module 200 , the buffer module 300 , the application and development module 400 , and the interface module 700 are arranged is referred to as a first direction 12 . When viewed from the top, a direction perpendicular to the first direction 12 is referred to as a second direction 14 , and a direction perpendicular to the first direction 12 and the second direction 14 is a third direction 16 , respectively. it is said

웨이퍼(W)는 카세트(20) 내에 수납된 상태로 이동된다. 카세트(20)는 외부로부터 밀폐될 수 있는 구조를 가진다. 일 예로 카세트(20)로는 전방에 도어를 가지는 전면 개방 일체식 포드(Front Open Unified Pod; FOUP)가 사용될 수 있다.The wafer W is moved while being accommodated in the cassette 20 . The cassette 20 has a structure that can be sealed from the outside. For example, as the cassette 20, a Front Open Unified Pod (FOUP) having a door at the front may be used.

이하에서는 로드 포트(100), 인덱스 모듈(200), 버퍼 모듈(300), 도포 및 현상 모듈(400) 그리고 인터페이스 모듈(700)에 대해 설명한다.Hereinafter, the load port 100 , the index module 200 , the buffer module 300 , the coating and developing module 400 , and the interface module 700 will be described.

로드 포트(100)는 웨이퍼들(W)이 수납된 카세트(20)가 놓여지는 재치대(120)를 가진다. 재치대(120)는 복수개가 제공되며, 재치대들(120)은 제 2 방향(14)을 따라 일렬로 배치된다. 도 2에서는 4개의 재치대(120)가 제공된다. The load port 100 has a mounting table 120 on which the cassette 20 in which the wafers W are accommodated is placed. A plurality of mounting tables 120 are provided, and the mounting tables 120 are arranged in a line along the second direction 14 . In FIG. 2 , four mounting tables 120 are provided.

인덱스 모듈(200)은 로드 포트(100)의 재치대(120)에 놓인 카세트(20)와 버퍼 모듈(300) 간에 웨이퍼(W)를 이송한다. 인덱스 모듈(200)은 프레임(210), 인덱스 로봇(220), 그리고 가이드 레일(230)을 포함한다. 프레임(210)은 대체로 내부가 빈 직육면체의 형상으로 제공되며, 로드 포트(100)와 버퍼 모듈(300) 사이에 배치된다. 인덱스 모듈(200)의 프레임(210)은 후술하는 버퍼 모듈(300)의 프레임(310)보다 낮은 높이로 제공될 수 있다. 인덱스 로봇(220)과 가이드 레일(230)은 프레임(210) 내에 배치된다. 인덱스 로봇(220)은 웨이퍼(W)를 직접 핸들링하는 핸드(221)가 제 1 방향(12), 제 2 방향(14), 제 3 방향(16)으로 이동 가능하고 회전될 수 있도록 4축 구동이 가능한 구조이다. 인덱스 로봇(220)은 핸드(221), 아암(222), 지지대(223), 그리고 받침대(224)를 포함한다. 핸드(221)는 아암(222)에 고정 설치된다. 아암(222)은 신축 가능한 구조 및 회전 가능한 구조로 제공된다. 지지대(223)는 그 길이 방향이 제 3 방향(16)을 따라 배치된다. 아암(222)은 지지대(223)를 따라 이동 가능하도록 지지대(223)에 결합된다. 지지대(223)는 받침대(224)에 고정 결합된다. 가이드 레일(230)은 그 길이 방향이 제 2 방향(14)을 따라 배치되도록 제공된다. 받침대(224)는 가이드 레일(230)을 따라 직선 이동 가능하도록 가이드 레일(230)에 결합된다. 또한, 도시되지는 않았지만, 프레임(210)에는 카세트(20)의 도어를 개폐하는 도어 오프너가 더 제공된다.The index module 200 transfers the wafer W between the cassette 20 placed on the mounting table 120 of the load port 100 and the buffer module 300 . The index module 200 includes a frame 210 , an index robot 220 , and a guide rail 230 . The frame 210 is provided in the shape of a substantially hollow rectangular parallelepiped, and is disposed between the load port 100 and the buffer module 300 . The frame 210 of the index module 200 may be provided at a lower height than the frame 310 of the buffer module 300 to be described later. The index robot 220 and the guide rail 230 are disposed in the frame 210 . The index robot 220 is a four-axis drive so that the hand 221 directly handling the wafer W can be moved and rotated in the first direction 12 , the second direction 14 , and the third direction 16 . This is a possible structure. The index robot 220 includes a hand 221 , an arm 222 , a support 223 , and a pedestal 224 . The hand 221 is fixedly installed on the arm 222 . The arm 222 is provided in a telescoping structure and a rotatable structure. The support 223 is disposed along the third direction 16 in its longitudinal direction. The arm 222 is coupled to the support 223 to be movable along the support 223 . The support 223 is fixedly coupled to the support 224 . The guide rail 230 is provided so that its longitudinal direction is disposed along the second direction 14 . The pedestal 224 is coupled to the guide rail 230 so as to be linearly movable along the guide rail 230 . Also, although not shown, a door opener for opening and closing the door of the cassette 20 is further provided in the frame 210 .

버퍼 모듈(300)은 프레임(310), 제 1 버퍼(320), 제 2 버퍼(330), 냉각 챔버(350), 그리고 버퍼 로봇(360)을 포함한다. 프레임(310)은 내부가 빈 직육면체의 형상으로 제공되며, 인덱스 모듈(200)과 도포 및 현상 모듈(400) 사이에 배치된다. 제 1 버퍼(320), 제 2 버퍼(330), 냉각 챔버(350), 그리고 버퍼 로봇(360)은 프레임(310) 내에 위치된다. 냉각 챔버(350), 제 2 버퍼(330), 그리고 제 1 버퍼(320)는 순차적으로 아래에서부터 제 3 방향(16)을 따라 배치된다. 제 1 버퍼(320)는 후술하는 도포 및 현상 모듈(400)의 도포 모듈(401)과 대응되는 높이에 위치되고, 제 2 버퍼(330)와 냉각 챔버(350)는 후술하는 도포 및 현상 모듈(400)의 현상 모듈(402)과 대응되는 높이에 제공된다. 버퍼 로봇(360)은 제 2 버퍼(330), 냉각 챔버(350), 그리고 제 1 버퍼(320)와 제 2 방향(14)으로 일정 거리 이격되게 위치된다.The buffer module 300 includes a frame 310 , a first buffer 320 , a second buffer 330 , a cooling chamber 350 , and a buffer robot 360 . The frame 310 is provided in the shape of a rectangular parallelepiped with an empty interior, and is disposed between the index module 200 and the application and development module 400 . The first buffer 320 , the second buffer 330 , the cooling chamber 350 , and the buffer robot 360 are positioned in the frame 310 . The cooling chamber 350 , the second buffer 330 , and the first buffer 320 are sequentially disposed along the third direction 16 from the bottom. The first buffer 320 is positioned at a height corresponding to the application module 401 of the coating and developing module 400 to be described later, and the second buffer 330 and the cooling chamber 350 are provided in the coating and developing module (to be described later) ( It is provided at a height corresponding to the developing module 402 of 400). The buffer robot 360 is positioned to be spaced apart from the second buffer 330 , the cooling chamber 350 , and the first buffer 320 by a predetermined distance in the second direction 14 .

제 1 버퍼(320)와 제 2 버퍼(330)는 각각 복수의 웨이퍼들(W)을 일시적으로 보관한다. 제 2 버퍼(330)는 하우징(331)과 복수의 지지대들(332)을 가진다. 지지대들(332)은 하우징(331) 내에 배치되며, 서로 간에 제 3 방향(16)을 따라 이격되게 제공된다. 각각의 지지대(332)에는 하나의 웨이퍼(W)가 놓인다. 하우징(331)은 인덱스 로봇(220), 버퍼 로봇(360) 그리고 후술하는 현상 모듈(402)의 현상부 로봇(482)이 하우징(331) 내 지지대(332)에 웨이퍼(W)를 반입 또는 반출할 수 있도록 인덱스 로봇(220)이 제공된 방향, 버퍼 로봇(360)이 제공된 방향 그리고 후술하는 현상부 로봇(482)이 제공된 방향에 개구(도시되지 않음)를 가진다. 제 1 버퍼(320)는 제 2 버퍼(330)와 대체로 유사한 구조를 가진다. 다만, 제 1 버퍼(320)의 하우징(321)에는 버퍼 로봇(360)이 제공된 방향 및 후술하는 도포 모듈(401)에 위치된 도포부 로봇(432)이 제공된 방향에 개구를 가진다. 제 1 버퍼(320)에 제공된 지지대(322)의 수와 제 2 버퍼(330)에 제공된 지지대(332)의 수는 동일하거나 상이할 수 있다. 일 예에 의하면, 제 2 버퍼(330)에 제공된 지지대(332)의 수는 제 1 버퍼(320)에 제공된 지지대(322)의 수보다 많을 수 있다. The first buffer 320 and the second buffer 330 temporarily store the plurality of wafers W, respectively. The second buffer 330 has a housing 331 and a plurality of supports 332 . The supports 332 are disposed in the housing 331 and are provided to be spaced apart from each other along the third direction 16 . One wafer W is placed on each support 332 . The housing 331 includes the index robot 220 , the buffer robot 360 , and the developing unit robot 482 of the developing module 402 to be described later loading or unloading the wafer W onto the support 332 in the housing 331 . An opening (not shown) is provided in a direction in which the index robot 220 is provided, a direction in which the buffer robot 360 is provided, and a direction in which the developing unit robot 482 to be described later is provided. The first buffer 320 has a structure substantially similar to that of the second buffer 330 . However, the housing 321 of the first buffer 320 has an opening in the direction in which the buffer robot 360 is provided and the direction in which the applicator robot 432 positioned in the application module 401 is provided, which will be described later. The number of supports 322 provided in the first buffer 320 and the number of supports 332 provided in the second buffer 330 may be the same or different. According to an example, the number of supports 332 provided in the second buffer 330 may be greater than the number of supports 322 provided in the first buffer 320 .

버퍼 로봇(360)은 제 1 버퍼(320)와 제 2 버퍼(330) 간에 웨이퍼(W)를 이송시킨다. 버퍼 로봇(360)은 핸드(361), 아암(362), 그리고 지지대(363)를 포함한다. 핸드(361)는 아암(362)에 고정 설치된다. 아암(362)은 신축 가능한 구조로 제공되어, 핸드(361)가 제 2 방향(14)을 따라 이동 가능하도록 한다. 아암(362)은 지지대(363)를 따라 제 3 방향(16)으로 직선 이동 가능하도록 지지대(363)에 결합된다. 지지대(363)는 제 2 버퍼(330)에 대응되는 위치부터 제 1 버퍼(320)에 대응되는 위치까지 연장된 길이를 가진다. 지지대(363)는 이보다 상부 또는 하부 방향으로 더 길게 제공될 수 있다. 버퍼 로봇(360)은 핸드(361)가 제 2 방향(14) 및 제 3 방향(16)을 따른 2축 구동만 되도록 제공될 수 있다. The buffer robot 360 transfers the wafer W between the first buffer 320 and the second buffer 330 . The buffer robot 360 includes a hand 361 , an arm 362 , and a support 363 . The hand 361 is fixedly installed on the arm 362 . The arm 362 is provided in a telescoping structure, such that the hand 361 is movable along the second direction 14 . The arm 362 is coupled to the support 363 so as to be linearly movable in the third direction 16 along the support 363 . The support 363 has a length extending from a position corresponding to the second buffer 330 to a position corresponding to the first buffer 320 . The support 363 may be provided longer in an upper or lower direction than this. The buffer robot 360 may be provided such that the hand 361 is only driven in two axes along the second direction 14 and the third direction 16 .

냉각 챔버(350)는 각각 웨이퍼(W)를 냉각한다. 냉각 챔버(350)는 하우징(351)과 냉각 플레이트(352)를 포함한다. 냉각 플레이트(352)는 웨이퍼(W)가 놓이는 상면 및 웨이퍼(W)를 냉각하는 냉각 수단(353)을 가진다. 냉각 수단(353)으로는 냉각수에 의한 냉각이나 열전 소자를 이용한 냉각 등 다양한 방식이 사용될 수 있다. 또한, 냉각 챔버(350)에는 웨이퍼(W)를 냉각 플레이트(352) 상에 위치시키는 리프트 핀 어셈블리가 제공될 수 있다. 하우징(351)은 인덱스 로봇(220) 및 현상 모듈(402)에 제공된 현상부 로봇이 냉각 플레이트(352)에 웨이퍼(W)를 반입 또는 반출할 수 있도록 인덱스 로봇(220)이 제공된 방향 및 현상부 로봇(482)이 제공된 방향에 개구를 가진다. 또한, 냉각 챔버(350)에는 상술한 개구를 개폐하는 도어들이 제공될 수 있다. The cooling chamber 350 cools the wafer W, respectively. The cooling chamber 350 includes a housing 351 and a cooling plate 352 . The cooling plate 352 has an upper surface on which the wafer W is placed and cooling means 353 for cooling the wafer W. As the cooling means 353 , various methods such as cooling by cooling water or cooling using a thermoelectric element may be used. In addition, a lift pin assembly for positioning the wafer W on the cooling plate 352 may be provided in the cooling chamber 350 . The housing 351 includes a direction in which the index robot 220 and the developing unit provided in the developing module 402 are provided so that the developing unit robot provided in the index robot 220 and the developing module 402 can load or unload the wafer W into the cooling plate 352 . The robot 482 has an opening in the provided orientation. Also, the cooling chamber 350 may be provided with doors for opening and closing the above-described opening.

도포 및 현상 모듈(400)은 노광 공정 전에 웨이퍼(W) 상에 포토 레지스트를 도포하는 공정 및 노광 공정 후에 웨이퍼(W)를 현상하는 공정을 수행한다. 도포 및 현상 모듈(400)은 대체로 직육면체의 형상을 가진다. 도포 및 현상 모듈(400)은 도포 모듈(401)과 현상 모듈(402)을 가진다. 도포 모듈(401)과 현상 모듈(402)은 서로 간에 층으로 구획되도록 배치된다. 일 예에 의하면, 도포 모듈(401)은 현상 모듈(402)의 상부에 위치된다.The coating and developing module 400 performs a process of applying a photoresist on the wafer W before the exposure process and a process of developing the wafer W after the exposure process. The coating and developing module 400 generally has a rectangular parallelepiped shape. The application and development module 400 includes an application module 401 and a development module 402 . The application module 401 and the developing module 402 are arranged to be partitioned between each other in layers. According to an example, the application module 401 is located above the developing module 402 .

도포 모듈(401)은 웨이퍼(W)에 대해 포토레지스트와 같은 감광액을 도포하는 공정 및 레지스트 도포 공정 전후에 웨이퍼(W)에 대해 가열 및 냉각과 같은 열처리 공정을 포함한다. 도포 모듈(401)은 레지스트 도포 챔버(410), 베이크 챔버(420), 그리고 반송 챔버(430)를 가진다. 레지스트 도포 챔버(410), 베이크 챔버(420), 그리고 반송 챔버(430)는 제 2 방향(14)을 따라 순차적으로 배치된다. 레지스트 도포 챔버(410)는 복수 개가 제공되며, 제 1 방향(12) 및 제 3 방향(16)으로 각각 복수 개씩 제공된다. 베이크 챔버(420)는 제 1 방향(12) 및 제 3 방향(16)으로 각각 복수 개씩 제공된다. The application module 401 includes a process of applying a photoresist such as a photoresist to the wafer W and a heat treatment process such as heating and cooling on the wafer W before and after the resist application process. The application module 401 has a resist application chamber 410 , a bake chamber 420 , and a transfer chamber 430 . The resist application chamber 410 , the bake chamber 420 , and the transfer chamber 430 are sequentially disposed along the second direction 14 . A plurality of resist coating chambers 410 are provided, and a plurality of resist coating chambers are provided in each of the first direction 12 and the third direction 16 . A plurality of bake chambers 420 are provided in each of the first direction 12 and the third direction 16 .

반송 챔버(430)는 제 1 버퍼 모듈(300)의 제 1 버퍼(320)와 제 1 방향(12)으로 나란하게 위치된다. 반송 챔버(430) 내에는 도포부 로봇(432)과 가이드 레일(433)이 위치된다. 반송 챔버(430)는 대체로 직사각의 형상을 가진다. 도포부 로봇(432)은 베이크 챔버들(420), 레지스트 도포 챔버들(410), 그리고 제 1 버퍼 모듈(300)의 제 1 버퍼(320)간에 웨이퍼(W)를 이송한다. 가이드 레일(433)은 그 길이 방향이 제 1 방향(12)과 나란하도록 배치된다. 가이드 레일(433)은 도포부 로봇(432)이 제 1 방향(12)으로 직선 이동되도록 안내한다. 도포부 로봇(432)은 핸드(434), 아암(435), 지지대(436), 그리고 받침대(437)를 가진다. 핸드(434)는 아암(435)에 고정 설치된다. 아암(435)은 신축 가능한 구조로 제공되어 핸드(434)가 수평 방향으로 이동 가능하도록 한다. 지지대(436)는 그 길이 방향이 제 3 방향(16)을 따라 배치되도록 제공된다. 아암(435)은 지지대(436)를 따라 제 3 방향(16)으로 직선 이동 가능하도록 지지대(436)에 결합된다. 지지대(436)는 받침대(437)에 고정 결합되고, 받침대(437)는 가이드 레일(433)을 따라 이동 가능하도록 가이드 레일(433)에 결합된다.The transfer chamber 430 is positioned in parallel with the first buffer 320 of the first buffer module 300 in the first direction 12 . An applicator robot 432 and a guide rail 433 are positioned in the transfer chamber 430 . The transfer chamber 430 has a generally rectangular shape. The applicator robot 432 transfers the wafer W between the bake chambers 420 , the resist application chambers 410 , and the first buffer 320 of the first buffer module 300 . The guide rail 433 is disposed so that its longitudinal direction is parallel to the first direction 12 . The guide rail 433 guides the applicator robot 432 to move linearly in the first direction 12 . The applicator robot 432 has a hand 434 , an arm 435 , a support 436 , and a pedestal 437 . The hand 434 is fixedly installed on the arm 435 . The arm 435 is provided in a telescoping structure so that the hand 434 is movable in the horizontal direction. The support 436 is provided such that its longitudinal direction is disposed along the third direction 16 . The arm 435 is coupled to the support 436 so as to be linearly movable in the third direction 16 along the support 436 . The support 436 is fixedly coupled to the pedestal 437 , and the pedestal 437 is coupled to the guide rail 433 to be movable along the guide rail 433 .

레지스트 도포 챔버들(410)은 모두 동일한 구조를 가진다. 다만, 각각의 레지스트 도포 챔버(410)에서 사용되는 포토 레지스트의 종류는 서로 상이할 수 있다. 일 예로서 포토 레지스트로는 화학 증폭형 레지스트(chemical amplification resist)가 사용될 수 있다. 레지스트 도포 챔버(410)는 웨이퍼(W) 상에 포토 레지스트를 도포한다. 레지스트 도포 챔버(410)는 하우징(411), 지지 플레이트(412), 그리고 노즐(413)을 가진다. 하우징(411)은 상부가 개방된 컵 형상을 가진다. 지지 플레이트(412)는 하우징(411) 내에 위치되며, 웨이퍼(W)를 지지한다. 지지 플레이트(412)는 회전 가능하게 제공된다. 노즐(413)은 지지 플레이트(412)에 놓인 웨이퍼(W) 상으로 포토 레지스트를 공급한다. 노즐(413)은 원형의 관 형상을 가지고, 웨이퍼(W)의 중심으로 포토 레지스트를 공급할 수 있다. 선택적으로 노즐(413)은 웨이퍼(W)의 직경에 상응하는 길이를 가지고, 노즐(413)의 토출구는 슬릿으로 제공될 수 있다. 또한, 추가적으로 레지스트 도포 챔버(410)에는 포토 레지스트가 도포된 웨이퍼(W) 표면을 세정하기 위해 탈이온수와 같은 세정액을 공급하는 노즐(414)이 더 제공될 수 있다.The resist application chambers 410 all have the same structure. However, the types of photoresists used in each resist application chamber 410 may be different from each other. As an example, a chemical amplification resist may be used as the photoresist. The resist coating chamber 410 applies photoresist on the wafer W. The resist application chamber 410 has a housing 411 , a support plate 412 , and a nozzle 413 . The housing 411 has a cup shape with an open top. The support plate 412 is located in the housing 411 and supports the wafer W. The support plate 412 is provided rotatably. The nozzle 413 supplies the photoresist onto the wafer W placed on the support plate 412 . The nozzle 413 has a circular tubular shape and may supply a photoresist to the center of the wafer W. Optionally, the nozzle 413 may have a length corresponding to the diameter of the wafer W, and the outlet of the nozzle 413 may be provided as a slit. In addition, a nozzle 414 for supplying a cleaning solution such as deionized water to clean the surface of the wafer W on which the photoresist is applied may be further provided in the resist coating chamber 410 .

베이크 챔버(420)는 웨이퍼(W)를 열처리한다. 예컨대, 베이크 챔버들(420)은 포토 레지스트를 도포하기 전에 웨이퍼(W)를 소정의 온도로 가열하여 웨이퍼(W) 표면의 유기물이나 수분을 제거하는 프리 베이크(prebake) 공정이나 포토레지스트를 웨이퍼(W) 상에 도포한 후에 행하는 소프트 베이크(soft bake) 공정 등을 수행하고, 각각의 가열 공정 이후에 웨이퍼(W)를 냉각하는 냉각 공정 등을 수행한다. The bake chamber 420 heat-treats the wafer W. For example, the bake chambers 420 heat the wafer W to a predetermined temperature before applying the photoresist to remove organic matter or moisture from the surface of the wafer W or apply the photoresist to the wafer ( A soft bake process, etc. performed after coating on W) is performed, and a cooling process of cooling the wafer W is performed after each heating process.

베이크 챔버(420)는 가열 유닛(421) 또는 냉각 플레이트(422)를 가진다. 냉각 플레이트(422)에는 냉각수 또는 열전 소자와 같은 냉각 수단(424)이 제공된다. 베이크 챔버(420)들 중 일부는 가열 유닛(421)만을 구비하고, 다른 일부는 냉각 플레이트(422)만을 구비할 수 있다. 선택적으로 가열 유닛(421)과 냉각 플레이트(422)는 하나의 베이크 챔버(420) 내에 각각 제공될 수 있다. 선택적으로 베이크 챔버(420)들 중 일부는 가열 유닛(421)만을 구비하고, 다른 일부는 냉각 플레이트(422)만을 구비할 수 있다.The bake chamber 420 has a heating unit 421 or a cooling plate 422 . The cooling plate 422 is provided with cooling means 424 such as cooling water or a thermoelectric element. Some of the bake chambers 420 may include only the heating unit 421 , and others may include only the cooling plate 422 . Optionally, the heating unit 421 and the cooling plate 422 may be provided in one bake chamber 420 , respectively. Optionally, some of the bake chambers 420 may include only the heating unit 421 , and others may include only the cooling plate 422 .

현상 모듈(402)은 웨이퍼(W) 상에 패턴을 얻기 위해 현상액을 공급하여 포토 레지스트의 일부를 제거하는 현상 공정, 및 현상 공정 전후에 웨이퍼(W)에 대해 수행되는 가열 및 냉각과 같은 열처리 공정을 포함한다. 현상모듈(402)은 현상 챔버(460), 베이크 챔버(470), 그리고 반송 챔버(480)를 가진다. 현상 챔버(460), 베이크 챔버(470), 그리고 반송 챔버(480)는 제 2 방향(14)을 따라 순차적으로 배치된다. 따라서 현상 챔버(460)와 베이크 챔버(470)는 반송 챔버(480)를 사이에 두고 제 2 방향(14)으로 서로 이격되게 위치된다. 현상 챔버(460)는 복수 개가 제공되며, 제 1 방향(12) 및 제 3 방향(16)으로 각각 복수 개씩 제공된다. 베이크 챔버(470)는 제 1 방향(12) 및 제 3 방향(16)으로 각각 복수 개씩 제공된다.The developing module 402 includes a developing process for removing a part of the photoresist by supplying a developer solution to obtain a pattern on the wafer W, and a heat treatment process such as heating and cooling performed on the wafer W before and after the developing process. includes The developing module 402 includes a developing chamber 460 , a bake chamber 470 , and a transfer chamber 480 . The development chamber 460 , the bake chamber 470 , and the transfer chamber 480 are sequentially disposed along the second direction 14 . Accordingly, the development chamber 460 and the bake chamber 470 are spaced apart from each other in the second direction 14 with the transfer chamber 480 interposed therebetween. A plurality of development chambers 460 are provided, and a plurality of development chambers 460 are provided in each of the first direction 12 and the third direction 16 . A plurality of bake chambers 470 are provided in each of the first direction 12 and the third direction 16 .

반송 챔버(480)는 제 1 버퍼 모듈(300)의 제 2 버퍼(330)와 제 1 방향(12)으로 나란하게 위치된다. 반송 챔버(480) 내에는 현상부 로봇(482)과 가이드 레일(483)이 위치된다. 반송 챔버(480)는 대체로 직사각의 형상을 가진다. 현상부 로봇(482)은 베이크 챔버들(470), 현상 챔버들(460), 그리고 제 1 버퍼 모듈(300)의 제 2 버퍼(330)와 냉각 챔버(350) 간에 웨이퍼(W)를 이송한다. 가이드 레일(483)은 그 길이 방향이 제 1 방향(12)과 나란하도록 배치된다. 가이드 레일(483)은 현상부 로봇(482)이 제 1 방향(12)으로 직선 이동되도록 안내한다. 현상부 로봇(482)은 핸드(484), 아암(485), 지지대(486), 그리고 받침대(487)를 가진다. 핸드(484)는 아암(485)에 고정 설치된다. 아암(485)은 신축 가능한 구조로 제공되어 핸드(484)가 수평 방향으로 이동 가능하도록 한다. 지지대(486)는 그 길이 방향이 제 3 방향(16)을 따라 배치되도록 제공된다. 아암(485)은 지지대(486)를 따라 제 3 방향(16)으로 직선 이동 가능하도록 지지대(486)에 결합된다. 지지대(486)는 받침대(487)에 고정 결합된다. 받침대(487)는 가이드 레일(483)을 따라 이동 가능하도록 가이드 레일(483)에 결합된다.The transfer chamber 480 is positioned in parallel with the second buffer 330 of the first buffer module 300 in the first direction 12 . A developing unit robot 482 and a guide rail 483 are positioned in the transfer chamber 480 . The transfer chamber 480 has a generally rectangular shape. The developing unit robot 482 transfers the wafer W between the bake chambers 470 , the developing chambers 460 , and the second buffer 330 and the cooling chamber 350 of the first buffer module 300 . . The guide rail 483 is disposed so that its longitudinal direction is parallel to the first direction 12 . The guide rail 483 guides the developing unit robot 482 to move linearly in the first direction 12 . The developing unit robot 482 has a hand 484 , an arm 485 , a support 486 , and a pedestal 487 . The hand 484 is fixedly installed on the arm 485 . The arm 485 is provided in a telescoping structure so that the hand 484 is movable in the horizontal direction. The support 486 is provided such that its longitudinal direction is disposed along the third direction 16 . Arm 485 is coupled to support 486 to be linearly movable in third direction 16 along support 486 . The support 486 is fixedly coupled to the support 487 . The pedestal 487 is coupled to the guide rail 483 so as to be movable along the guide rail 483 .

현상 챔버들(460)은 모두 동일한 구조를 가진다. 다만, 각각의 현상 챔버(460)에서 사용되는 현상액의 종류는 서로 상이할 수 있다. 현상 챔버(460)는 웨이퍼(W) 상의 포토 레지스트 중 광이 조사된 영역을 제거한다. 이때, 보호막 중 광이 조사된 영역도 같이 제거된다. 선택적으로 사용되는 포토 레지스트의 종류에 따라 포토 레지스트 및 보호막의 영역들 중 광이 조사되지 않은 영역만이 제거될 수 있다. The development chambers 460 all have the same structure. However, the type of developer used in each developing chamber 460 may be different from each other. The developing chamber 460 removes a region irradiated with light from the photoresist on the wafer W. At this time, the region irradiated with light among the protective film is also removed. Only a region to which no light is irradiated among regions of the photoresist and the passivation layer may be removed according to the type of the selectively used photoresist.

현상 챔버(460)는 하우징(461), 지지 플레이트(462), 그리고 노즐(463)을 가진다. 하우징(461)은 상부가 개방된 컵 형상을 가진다. 지지 플레이트(462)는 하우징(461) 내에 위치되며, 웨이퍼(W)를 지지한다. 지지 플레이트(462)는 회전 가능하게 제공된다. 노즐(463)은 지지 플레이트(462)에 놓인 웨이퍼(W) 상으로 현상액을 공급한다. 노즐(463)은 원형의 관 형상을 가지고, 웨이퍼(W)의 중심으로 현상액 공급할 수 있다. 선택적으로 노즐(463)은 웨이퍼(W)의 직경에 상응하는 길이를 가지고, 노즐(463)의 토출구는 슬릿으로 제공될 수 있다. 또한, 현상 챔버(460)에는 추가적으로 현상액이 공급된 웨이퍼(W) 표면을 세정하기 위해 탈이온수와 같은 세정액을 공급하는 노즐(464)이 더 제공될 수 있다. The developing chamber 460 has a housing 461 , a support plate 462 , and a nozzle 463 . The housing 461 has a cup shape with an open top. The support plate 462 is located in the housing 461 and supports the wafer W. The support plate 462 is provided rotatably. The nozzle 463 supplies the developer onto the wafer W placed on the support plate 462 . The nozzle 463 has a circular tubular shape, and may supply a developer to the center of the wafer W. Optionally, the nozzle 463 may have a length corresponding to the diameter of the wafer W, and the outlet of the nozzle 463 may be provided as a slit. In addition, a nozzle 464 for supplying a cleaning solution such as deionized water to clean the surface of the wafer W to which the developer is additionally supplied may be further provided in the developing chamber 460 .

현상모듈(402)의 베이크 챔버(470)는 웨이퍼(W)를 열처리한다. 예컨대, 베이크 챔버들(470)은 현상 공정이 수행되기 전에 웨이퍼(W)를 가열하는 포스트 베이크 공정 및 현상 공정이 수행된 후에 웨이퍼(W)를 가열하는 하드 베이크 공정 및 각각의 베이크 공정 이후에 가열된 웨이퍼를 냉각하는 냉각 공정 등을 수행한다. 베이크 챔버(470)는 냉각 플레이트(471) 또는 가열 플레이트(472)를 가진다. 냉각 플레이트(471)에는 냉각수 또는 열전 소자와 같은 냉각 수단(473)이 제공된다. 또는 가열 플레이트(472)에는 열선 또는 열전 소자와 같은 가열 수단(474)이 제공된다. 베이크 챔버(470)들 중 일부는 냉각 플레이트(471)만을 구비하고, 다른 일부는 가열 플레이트(472)만을 구비할 수 있다. 선택적으로 냉각 플레이트(471)와 가열 플레이트(472)는 하나의 베이크 챔버(470) 내에 제공될 수 있다. 그 외 현상 모듈(402)의 베이크 챔버(470)의 구성들은 도포 모듈(401)의 베이크 챔버(420)와 유사한 구성을 가지므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.The bake chamber 470 of the developing module 402 heat-treats the wafer W. For example, the bake chambers 470 include a post-bake process of heating the wafer W before the development process is performed, a hard bake process of heating the wafer W after the development process is performed, and heating after each bake process. A cooling process for cooling the wafer is performed. The bake chamber 470 has a cooling plate 471 or a heating plate 472 . The cooling plate 471 is provided with cooling means 473 such as cooling water or a thermoelectric element. Alternatively, the heating plate 472 is provided with a heating means 474 such as a heating wire or a thermoelectric element. Some of the bake chambers 470 may include only a cooling plate 471 , and some may include only a heating plate 472 . Optionally, the cooling plate 471 and the heating plate 472 may be provided in one bake chamber 470 . Other configurations of the bake chamber 470 of the developing module 402 have similar configurations to those of the bake chamber 420 of the application module 401, and thus a detailed description thereof will be omitted.

상술한 도포 및 현상 모듈(400)에서 도포 모듈(401)과 현상 모듈(402)은 서로 간에 분리되도록 제공될 수 있다. 또한, 상부에서 바라볼 때 도포 모듈(401)과 현상 모듈(402)은 동일한 챔버 배치를 가질 수 있다. In the above-described application and development module 400 , the application module 401 and the development module 402 may be provided to be separated from each other. Also, when viewed from above, the application module 401 and the developing module 402 may have the same chamber arrangement.

인터페이스 모듈(700)은 웨이퍼(W)를 이송한다. 인터페이스 모듈(700)은 프레임(710), 제 1 버퍼(720), 제 2 버퍼(730), 그리고 인터페이스 로봇(740)를 포함한다. 제 1 버퍼(720), 제 2 버퍼(730), 그리고 인터페이스 로봇(740)은 프레임(710) 내에 위치된다. 제 1 버퍼(720)와 제 2 버퍼(730)는 서로 간에 일정거리 이격되며, 서로 적층되게 배치된다. 제 1 버퍼(720)는 제 2 버퍼(730)보다 높게 배치된다. The interface module 700 transfers the wafer W. The interface module 700 includes a frame 710 , a first buffer 720 , a second buffer 730 , and an interface robot 740 . The first buffer 720 , the second buffer 730 , and the interface robot 740 are positioned in the frame 710 . The first buffer 720 and the second buffer 730 are spaced apart from each other by a predetermined distance and are stacked on each other. The first buffer 720 is disposed higher than the second buffer 730 .

인터페이스 로봇(740)은 제 1 버퍼(720) 및 제 2 버퍼(730)와 제 2 방향(14)으로 이격되게 위치된다. 인터페이스 로봇(740)은 제 1 버퍼(720), 제 2 버퍼(730), 그리고 노광 장치(900) 간에 웨이퍼(W)를 운반한다. The interface robot 740 is positioned to be spaced apart from the first buffer 720 and the second buffer 730 in the second direction 14 . The interface robot 740 transfers the wafer W between the first buffer 720 , the second buffer 730 , and the exposure apparatus 900 .

제 1 버퍼(720)는 공정이 수행된 웨이퍼(W)들이 노광 장치(900)로 이동되기 전에 이들을 일시적으로 보관한다. 그리고 제 2 버퍼(730)는 노광 장치(900)에서 공정이 완료된 웨이퍼(W)들이 이동되기 전에 이들을 일시적으로 보관한다. 제 1 버퍼(720)는 하우징(721)과 복수의 지지대들(722)을 가진다. 지지대들(722)은 하우징(721) 내에 배치되며, 서로 간에 제 3 방향(16)을 따라 이격되게 제공된다. 각각의 지지대(722)에는 하나의 웨이퍼(W)가 놓인다. 하우징(721)은 인터페이스 로봇(740)이 하우징(721) 내로 지지대(722)에 웨이퍼(W)를 반입 또는 반출할 수 있도록 인터페이스 로봇(740)이 제공된 방향에 개구를 가진다. 제 2 버퍼(730)는 제 1 버퍼(720)와 유사한 구조를 가진다. 인터페이스 모듈에는 웨이퍼에 대해 소정의 공정을 수행하는 챔버의 제공 없이 상술한 바와 같이 버퍼들 및 로봇만 제공될 수 있다.The first buffer 720 temporarily stores the processed wafers W before they are moved to the exposure apparatus 900 . In addition, the second buffer 730 temporarily stores the wafers W that have been processed in the exposure apparatus 900 before they are moved. The first buffer 720 has a housing 721 and a plurality of supports 722 . The supports 722 are disposed within the housing 721 and are provided to be spaced apart from each other along the third direction 16 . One wafer W is placed on each support 722 . The housing 721 has an opening in the direction in which the interface robot 740 is provided so that the interface robot 740 can load or unload the wafer W on the support 722 into the housing 721 . The second buffer 730 has a structure similar to that of the first buffer 720 . As described above, only the buffers and the robot may be provided in the interface module without providing a chamber for performing a predetermined process on the wafer.

도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치(800)를 보여주는 측단면도이다. 도 5를 참조하면, 기판 처리 장치(800)는 기판을 처리한다. 일 실시 예에 따르면, 기판 처리 장치(800)는 공정 챔버(810), 덕트(820) 및 혼합 배기 유닛(830)을 포함한다. 5 is a side cross-sectional view illustrating a substrate processing apparatus 800 according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 5 , the substrate processing apparatus 800 processes a substrate. According to an embodiment, the substrate processing apparatus 800 includes a process chamber 810 , a duct 820 , and a mixing exhaust unit 830 .

공정 챔버(810)는 내부에 기판을 처리하는 처리 공간이 제공된다. 일 실시 예에 따르면, 공정 챔버(810)는 기판을 열처리하는 열처리 챔버로 제공된다. 예를 들면, 공정 챔버(810)는 도 2 내지 도 4의 기판 처리 설비(1)의 기판을 가열하는 가열 유닛이 내부에 제공된 베이크 챔버(420, 470)로 제공될 수 있다. 이와 달리, 공정 챔버(810)는 내부의 기체의 배기가 요구되는 기판에 대해 다양한 종류의 공정을 수행하는 챔버일 수 있다.The process chamber 810 is provided with a processing space for processing a substrate therein. According to an embodiment, the process chamber 810 is provided as a heat treatment chamber for heat-treating a substrate. For example, the process chamber 810 may be provided as the bake chambers 420 and 470 in which a heating unit for heating the substrate of the substrate processing facility 1 of FIGS. 2 to 4 is provided. Alternatively, the process chamber 810 may be a chamber for performing various types of processes on a substrate requiring exhaust of gas therein.

공정 챔버(810)의 처리 공간 내의 기체는 덕트(820)를 통해 배기된다. 공정 챔버(810)가 상술한 베이크 챔버(420, 470)와 같이 적층되는 경우, 덕트(820)는 각 공정 챔버(810)와 연결되도록 제공된다.Gas in the processing space of the process chamber 810 is exhausted through the duct 820 . When the process chamber 810 is stacked like the above-described bake chambers 420 and 470 , a duct 820 is provided to be connected to each process chamber 810 .

도 6은 도 5의 혼합 배기 유닛(830)을 보여주는 측단면도이다. 도 5 및 도 6을 참조하면, 혼합 배기 유닛(830)은 공정 챔버(810)의 처리 공간으로부터 배기되는 기체를 외부 공기와 혼합하여 덕트(820)내로 배기한다. 일 실시 예에 따르면, 혼합 배기 유닛(830)은 배기관(831), 외기 도입관(832) 및 외기 조절 부재(833)를 포함한다.FIG. 6 is a side cross-sectional view showing the mixing exhaust unit 830 of FIG. 5 . 5 and 6 , the mixing exhaust unit 830 mixes the gas exhausted from the processing space of the process chamber 810 with external air and exhausts the gas into the duct 820 . According to an embodiment, the mixing exhaust unit 830 includes an exhaust pipe 831 , an outside air introduction pipe 832 , and an outside air control member 833 .

배기관(831)은 일단은 공정 챔버(810)에 연결되고, 덕트(820)의 측벽을 관통하여 덕트(820)의 내부로 연장된다. 배기관(831)의 측벽의 덕트(820)의 내부에 위치되는 영역에는 고정 배기홀(8311)이 형성된다. 공정 챔버(810)의 처리 공간 내의 기체는 배기관(831)을 지나 고정 배기홀(8311)을 통해 덕트(820) 내부로 배기된다. 고정 배기홀(8311)은 덕트(820)로 배기되는 기체가 흘러가는 방향을 바라보도록 개방된다. 예를 들면, 덕트(820)로 배기되는 기체가 아래 방향으로 흐르는 경우, 고정 배기홀(8311)은 아래 방향을 바라보도록 개방된다. 따라서, 배기관(831) 내의 기체는 덕트(820) 내의 기체의 흐름을 따라 고정 배기홀(8311)을 통해 아래 방향으로 배기된다. One end of the exhaust pipe 831 is connected to the process chamber 810 , and extends inside the duct 820 through a sidewall of the duct 820 . A fixed exhaust hole 8311 is formed in a region positioned inside the duct 820 of the side wall of the exhaust pipe 831 . The gas in the processing space of the process chamber 810 passes through the exhaust pipe 831 and is exhausted into the duct 820 through the fixed exhaust hole 8311 . The fixed exhaust hole 8311 is opened to face the direction in which the gas exhausted to the duct 820 flows. For example, when the gas exhausted through the duct 820 flows downward, the fixed exhaust hole 8311 is opened to face downward. Accordingly, the gas in the exhaust pipe 831 is exhausted downward through the fixed exhaust hole 8311 along the flow of the gas in the duct 820 .

일 실시 예에 따르면, 배기관(831)은 외측 배기관(8312) 및 내측 배기관(8313)을 포함한다. 외측 배기관(8312)은 공정 챔버(810) 및 덕트(820)를 연결한다. 내측 배기관(8313)은 외측 배기관(8312)과 연결되고, 덕트(820)의 내부로 연장된다. 이 경우, 고정 배기홀(8311)은 내측 배기관(8313)의 측벽에 형성된다. 내측 배기관(8313)의 외측 배기관(8312)과 연결된 일단과 반대되는 끝단은 고정 배기홀(8311) 외의 부분에서 배기관(831) 내의 기체가 덕트(820)로 유입되는 것을 방지하기 위해 덕트(820)의 측벽에 밀착되게 제공될 수 있다. 이와 달리, 상기 끝단과 이하 설명될 외기 도입관(832)과의 사이가 실링되게 제공되는 경우, 선택적으로, 상기 끝단은 덕트(820)의 측벽으로부터 이격되어 제공될 수 있다. 상술한 바와 달리, 배기관(831)은 덕트(820)의 외측에 위치되는 영역 및 덕트(820)의 내측에 위치되는 영역이 일체로 제공될 수 있다. According to an embodiment, the exhaust pipe 831 includes an outer exhaust pipe 8312 and an inner exhaust pipe 8313 . The outer exhaust pipe 8312 connects the process chamber 810 and the duct 820 . The inner exhaust pipe 8313 is connected to the outer exhaust pipe 8312 and extends into the duct 820 . In this case, the fixed exhaust hole 8311 is formed in the sidewall of the inner exhaust pipe 8313 . The end opposite to one end connected to the outer exhaust pipe 8312 of the inner exhaust pipe 8313 is a duct 820 to prevent gas in the exhaust pipe 831 from flowing into the duct 820 in a portion other than the fixed exhaust hole 8311. It may be provided in close contact with the side wall of the. Alternatively, when provided to be sealed between the end and the outside air introduction pipe 832 to be described below, the end may optionally be provided spaced apart from the sidewall of the duct 820 . Unlike the above, the exhaust pipe 831 may be integrally provided with an area located outside the duct 820 and an area located inside the duct 820 .

외기 도입관(832)은 덕트(820)의 측벽의 배기관(831)이 관통된 영역과 상이한 영역에 일단이 연결되고 덕트(820)의 내부를 향해 연장되게 제공된다. 외기 도입관(832)은 길이 방향을 축으로 회전되도록 제공된다. 배기관(831) 및 외기 도입관(832) 중 어느 하나의 단부는 다른 하나의 단부에 삽입되도록 제공된다. 도 6에는 외기 도입관(832)의 단부가 배기관(831)의 단부에 삽입되도록 도시되었으나, 이와 달리, 배기관(831)의 단부가 외기 도입관(832)의 단부에 삽입되도록 제공될 수 있다. 이 경우, 내측 배기관(8313)의 끝단은 덕트(820)의 측벽과 이격되고, 외기 도입관(832)의 내부에 위치되도록 제공된다. 외기 도입관(832)의 상기 일단에는 내부로 외부 공기가 유입되도록 외기 유입구(8321)이 형성된다. 따라서, 외기 도입관(832) 내에서 공정 챔버(810)로부터 배기된 기체와 외부 공기가 혼합된다. 외부 공기의 온도는 공정 챔버(810)에서 배기되는 기체의 온도보다 낮게 제공될 수 있다. 예를 들면, 외부 공기의 온도는 상온이고, 공정 챔버(810)가 열처리 챔버 등으로 제공되는 경우, 공정 챔버(810)에서 배기되는 기체의 온도는 상온보다 높게 제공될 수 있다.The outside air introduction pipe 832 is provided with one end connected to an area different from the area through which the exhaust pipe 831 of the side wall of the duct 820 penetrates and extending toward the inside of the duct 820 . The fresh air introduction tube 832 is provided to rotate about the longitudinal direction. One end of the exhaust pipe 831 and the outside air introduction pipe 832 is provided to be inserted into the other end. Although the end of the outdoor air introduction pipe 832 is shown to be inserted into the end of the exhaust pipe 831 in FIG. 6 , the end of the exhaust pipe 831 may be provided to be inserted into the end of the outside air introduction pipe 832 . In this case, the end of the inner exhaust pipe 8313 is spaced apart from the sidewall of the duct 820 , and is provided to be located inside the outside air introduction pipe 832 . An outside air inlet 8321 is formed at one end of the outside air introduction pipe 832 to introduce outside air into the inside. Accordingly, the gas exhausted from the process chamber 810 and the outside air are mixed in the outside air introduction pipe 832 . The temperature of the outside air may be provided to be lower than the temperature of the gas exhausted from the process chamber 810 . For example, when the temperature of the outside air is room temperature and the process chamber 810 is provided as a heat treatment chamber, the temperature of the gas exhausted from the process chamber 810 may be higher than room temperature.

외기 도입관(832)의 측벽의 배기관(831)의 측벽과 중첩되는 영역에는 개구(8322)가 형성된다. 일 실시 예에 따르면, 개구(8322)는 외기 도입관(832)의 측벽의 내측 배기관(8313)의 측벽과 중첩되는 영역에 형성된다. 외기 도입관(832) 내의 기체는 개구(8322) 및 고정 배기홀(8311)을 순차적으로 관통하여 덕트(820) 내로 배기된다. 일 실시 예에 따르면, 개구(8322)는 제 1 회전 배기홀(8322a) 및 제 2 회전 배기홀(8322b)을 포함한다. An opening 8322 is formed in a region overlapping the sidewall of the exhaust pipe 831 of the sidewall of the outdoor air introduction pipe 832 . According to one embodiment, the opening 8322 is formed in a region overlapping the sidewall of the inner exhaust pipe 8313 of the sidewall of the outdoor air introduction pipe 832 . The gas in the outside air introduction pipe 832 is exhausted into the duct 820 by sequentially passing through the opening 8322 and the fixed exhaust hole 8311 . According to an embodiment, the opening 8322 includes a first rotation exhaust hole 8322a and a second rotation exhaust hole 8322b.

제 1 회전 배기홀(8322a)은 외기 도입관(832)이 제 1 위치에 위치되는 경우, 고정 배기홀(8311)과 대향되도록 제공된다. 고정 배기홀(8311)의 직경은 제 1 회전 배기홀(8322a)의 직경과 동일하거나 제 1 회전 배기홀(8322a)의 직경보다 크게 제공될 수 있다. 따라서, 이하, 설명될 제 1 회전 배기홀(8322a) 및 제 2 회전 배기홀(8322b) 간의 직경 차이를 이용하여 배기 유량 조절 시 고정 배기홀(8311)의 직경에 의해 영향을 받지 않을 수 있다.The first rotation exhaust hole 8322a is provided to face the fixed exhaust hole 8311 when the outdoor air introduction pipe 832 is positioned at the first position. The diameter of the fixed exhaust hole 8311 may be the same as the diameter of the first rotation exhaust hole 8322a or may be provided to be larger than the diameter of the first rotation exhaust hole 8322a. Accordingly, when the exhaust flow rate is adjusted using a difference in diameter between the first rotary exhaust hole 8322a and the second rotary exhaust hole 8322b to be described below, it may not be affected by the diameter of the fixed exhaust hole 8311 .

제 2 회전 배기홀(8322b)은 외기 도입관(832)이 제 2 위치에 위치되는 경우, 고정 배기홀(8311)과 대향되도록 제공된다. 외기 도입관(832)은 길이 방향을 축으로 회전함으로써 서로 상이한 위치인 제 1 위치 및 제 2 위치 간에 이동한다. 따라서, 제 1 회전 배기홀(8322a) 및 제 2 회전 배기홀(8322b)은 외기 도입관(832)의 둘레 방향을 따라 서로 이격되어 배열된다. 제 2 회전 배기홀(8322b)의 직경은 제 1 회전 배기홀(8322a)의 직경보다 작게 제공된다. The second rotation exhaust hole 8322b is provided to face the fixed exhaust hole 8311 when the outdoor air introduction pipe 832 is positioned at the second position. The fresh air introduction tube 832 moves between the first position and the second position which are different from each other by rotating about the longitudinal direction. Accordingly, the first rotation exhaust hole 8322a and the second rotation exhaust hole 8322b are arranged to be spaced apart from each other along the circumferential direction of the outdoor air introduction pipe 832 . The diameter of the second rotation exhaust hole 8322b is smaller than the diameter of the first rotation exhaust hole 8322a.

도 7은 도 6의 외기 도입관(832)을 C-C 방향에서 바라본 단면도이다. 도 7을 참조하면, 제 2 회전 배기홀(8322b)은 외기 도입관(832)의 둘레 방향을 따라 복수개가 직경이 서로 상이하게 제공될 수 있다. 따라서, 외기 도입관(832)을 회전함으로써, 배기 유량을 다양한 값으로 조절할 수 있다.7 is a cross-sectional view of the outdoor air introduction pipe 832 of FIG. 6 viewed in the direction C-C. Referring to FIG. 7 , a plurality of second rotation exhaust holes 8322b may be provided with different diameters along the circumferential direction of the outdoor air introduction pipe 832 . Therefore, by rotating the outdoor air introduction pipe 832, the exhaust flow rate can be adjusted to various values.

이와 달리, 개구(8322)는 단수로 제공될 수 있다. 예를 들면, 개구(8322)는 제 1 회전 배기홀(8322a)만을 포함할 수 있다. 이 경우, 외기 도입관(832)이 길이 방향을 축으로 회전함에 따라 고정 배기홀(8311)과 제 1 회전 배기홀(8322a)이 서로 중첩되는 영역의 비율을 조절하여 배기 유량을 조절한다. 이 경우, 고정 배기홀(8311)의 직경은 제 1 회전 배기홀(8322a)의 직경과 동일하거나, 제 1 회전 배기홀(8322a)의 직경보다 작게 제공될 수도 있다.Alternatively, the opening 8322 may be provided in the singular. For example, the opening 8322 may include only the first rotation exhaust hole 8322a. In this case, as the outdoor air introduction pipe 832 rotates in the longitudinal direction as an axis, the exhaust flow rate is adjusted by adjusting the ratio of the area where the fixed exhaust hole 8311 and the first rotating exhaust hole 8322a overlap each other. In this case, the diameter of the fixed exhaust hole 8311 may be the same as the diameter of the first rotation exhaust hole 8322a or may be provided to be smaller than the diameter of the first rotation exhaust hole 8322a.

도 8은 도 6의 외기 조절 부재(833)를 보여주는 사시도이다. 도 6 및 도 7을 참조하면, 외기 조절 부재(833)는 외기 유입구(8321)로 유입되는 외부 공기의 유입량을 조절한다. 일 실시 예에 따르면, 외기 조절 부재(833)는 외기 유입구(8321)에 설치된다. 8 is a perspective view illustrating the outside air control member 833 of FIG. 6 . Referring to FIGS. 6 and 7 , the outside air control member 833 controls the amount of external air introduced into the outside air inlet 8321 . According to one embodiment, the outdoor air control member 833 is installed in the outdoor air inlet (8321).

예를 들면, 외기 조절 부재(833)는 홀 플레이트(833a) 및 조절 플레이트(833c)를 포함한다. For example, the outside air control member 833 includes a hall plate 833a and a control plate 833c.

홀 플레이트(833a)는 외기 유입구(8321)을 가리도록 제공된다. 홀 플레이트(833a)에는 일부 영역에 내외측면을 관통하는 유입홀(833b)이 형성된다. 유입홀(833b)은 홀 플레이트(833a)의 둘레 방향을 따라 부채꼴 형상으로 제공될 수 있다.The hole plate 833a is provided to cover the outdoor air inlet 8321 . An inlet hole 833b passing through inner and outer surfaces is formed in the hole plate 833a in a partial region. The inlet hole 833b may be provided in a sectoral shape along the circumferential direction of the hole plate 833a.

조절 플레이트(833c)는 유입홀(833b)의 개폐율을 조절함으로써 유입홀(833b)을 통해 유입되는 외부 공기의 유량을 조절한다. 조절 플레이트(833c)는 홀 플레이트(833a)의 외측에 홀 플레이트(833a)에 대향되도록 제공된다. 조절 플레이트(833c)는 홀 플레이트(833a)의 중심을 축으로 회전됨에 따라 유입홀(833b)과 중첩된 영역의 비율을 조절함으로써 유입홀(833b)의 개폐율을 조절할 수 있도록 제공된다. The control plate 833c adjusts the flow rate of external air introduced through the inlet hole 833b by adjusting the opening/closing rate of the inlet hole 833b. The adjustment plate 833c is provided on the outside of the hole plate 833a to face the hole plate 833a. The adjustment plate 833c is provided to adjust the opening/closing rate of the inlet hole 833b by adjusting the ratio of the area overlapping the inlet hole 833b as the center of the hole plate 833a is rotated as an axis.

이와 달리, 외기 조절 부재(833)는 외기 유입구(8321)로 유입되는 외부 공기의 유입량을 조절할 수 있는 다양한 구조로 제공될 수 있다.Alternatively, the outdoor air control member 833 may be provided in various structures capable of adjusting the amount of external air introduced into the outdoor air inlet 8321 .

상술한 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 혼합 배기 유닛(830)은 공정 챔버(810) 내의 기체를 외부 공기와 혼합하여 덕트(820) 내로 배기함으로써, 기체 내의 흄(Fume)의 농도 및 온도를 낮춰 덕트(820) 내에서 흄(Fume)이 증착되는 것을 최소화 할 수 있다. 따라서, 예방 정비(PM: Preventive Maintenance) 주기를 개선할 수 있다.As described above, the mixing exhaust unit 830 according to an embodiment of the present invention mixes the gas in the process chamber 810 with external air and exhausts it into the duct 820, so that the concentration and temperature of fume in the gas It is possible to minimize the deposition of fumes in the duct 820 by lowering the . Accordingly, it is possible to improve the preventive maintenance (PM) cycle.

또한, 상술한 바와 같이, 개구(8322) 및 외기 조절 부재(833)를 이용하여 공정 챔버(810)에서 배기되는 기체의 배기량 및 외부 공기의 유입량을 조절함으로써, 공정 챔버(810) 내의 압력을 조절 할 수 있다. 또한, 상술한 배기량 및 유입량 조절을 통해 공정 챔버(810) 내에서 배기되는 기체와 외부 공기가 만나는 영역을 고정 배기홀(8311) 및 개구(8322)가 형성된 위치와 대향되는 영역으로 조절함으로써, 기체가 외부 공기와 혼합됨에 따라 온도가 낮아짐에 의해 발생되는 흄의 입자가 고정 배기홀(8311)의 상부에서 생성되어 바로 고정 배기홀(8311)을 통해 배기됨으로써, 그 외의 영역에서 흄이 증착되는 현상을 최소화할 수 있다.In addition, as described above, the pressure in the process chamber 810 is adjusted by controlling the exhaust amount of the gas exhausted from the process chamber 810 and the inflow amount of the external air using the opening 8322 and the outside air control member 833 . can do. In addition, by controlling the area where the gas exhausted from the process chamber 810 and the outside air meet through the above-described control of the exhaust amount and the inflow amount, the area opposite to the position where the fixed exhaust hole 8311 and the opening 8322 are formed, the gas A phenomenon in which fume particles generated by the lowering of the temperature as mixed with external air are generated at the upper portion of the fixed exhaust hole 8311 and directly exhausted through the fixed exhaust hole 8311, whereby fumes are deposited in other areas. can be minimized.

800: 기판 처리 장치 810: 공정 챔버
820: 덕트 830: 혼합 배기 유닛
831: 배기관 832: 외기 도입관
833: 외기 조절 부재 8311: 고정 배기홀
8321: 외기 유입구 8322: 개구
8322a: 제 1 회전 배기홀 8322b: 제 2 회전 배기홀800: substrate processing apparatus 810: process chamber
820: duct 830: mixed exhaust unit
831: exhaust pipe 832: outside air inlet pipe
833: outside air control member 8311: fixed exhaust hole
8321: outside air inlet 8322: opening
8322a: first rotation exhaust hole 8322b: second rotation exhaust hole

Claims (10)

기판을 처리하는 장치에 있어서,
내부에 기판을 처리하는 처리 공간이 제공되는 공정 챔버와;
상기 처리 공간 내의 기체가 배기되는 덕트와;
상기 처리 공간으로부터 배기되는 기체를 외부 공기와 혼합하여 상기 덕트 내로 배기하는 혼합 배기 유닛을 포함하되,
상기 혼합 배기 유닛은,
일단은 상기 공정 챔버에 연결되고, 상기 덕트의 측벽을 관통하여 상기 덕트의 내부로 연장되는 배기관과;
상기 덕트의 측벽의 상기 배기관이 관통된 영역과 상이한 영역에 일단이 연결되고, 길이 방향을 축으로 회전되는 외기 도입관을 포함하되,
상기 배기관 및 상기 외기 도입관 중 어느 하나의 단부는 다른 하나의 단부에 삽입되고,
상기 외기 도입관의 상기 일단에는 내부로 외부 공기가 유입되도록 외기 유입구가 형성되고,
상기 배기관의 측벽의 상기 덕트의 내부에 위치되는 영역에는 고정 배기홀이 형성되고,
상기 외기 도입관의 측벽의 상기 배기관의 측벽과 중첩되는 영역에는 개구가 형성되는 기판 처리 장치.An apparatus for processing a substrate, comprising:
a process chamber in which a processing space for processing a substrate is provided;
a duct through which gas in the processing space is exhausted;
and a mixing exhaust unit for mixing the gas exhausted from the processing space with external air and exhausting the gas into the duct,
The mixing exhaust unit,
an exhaust pipe having one end connected to the process chamber and extending into the duct through a sidewall of the duct;
One end is connected to an area different from the area through which the exhaust pipe of the side wall of the duct is penetrated and includes an outside air introduction pipe that is rotated about the longitudinal direction,
One end of the exhaust pipe and the outside air introduction pipe is inserted into the other end,
An outside air inlet is formed at one end of the outside air inlet pipe to introduce outside air into the inside,
A fixed exhaust hole is formed in a region located inside the duct of the side wall of the exhaust pipe,
An opening is formed in a region of the sidewall of the outside air introduction pipe overlapping the sidewall of the exhaust pipe. 제 1 항에 있어서,
상기 고정 배기홀은 상기 덕트로 배기되는 기체가 흘러가는 방향을 바라보도록 개방되고,
상기 개구는 상기 외기 도입관이 제 1 위치에 위치되는 경우, 상기 고정 배기홀과 대향되는 제 1 회전 배기홀을 포함하는 기판 처리 장치.The method of claim 1,
The fixed exhaust hole is opened to face the direction in which the gas exhausted to the duct flows,
and the opening includes a first rotational exhaust hole opposite to the fixed exhaust hole when the outdoor air introduction pipe is positioned at the first position. 제 2 항에 있어서,
상기 개구는 상기 외기 도입관이 상기 제 1 위치와 상이한 제 2 위치에 위치되는 경우, 상기 고정 배기홀과 대향되는 제 2 회전 배기홀을 더 포함하고,
상기 고정 배기홀의 직경은 상기 제 1 회전 배기홀의 직경과 동일하거나 상기 제 1 회전 배기홀의 직경보다 크게 제공되고,
상기 제 2 회전 배기홀의 직경은 상기 제 1 회전 배기홀의 직경보다 작게 제공되는 기판 처리 장치.3. The method of claim 2,
The opening further includes a second rotating exhaust hole opposite to the fixed exhaust hole when the outdoor air introduction pipe is located at a second position different from the first position,
The diameter of the fixed exhaust hole is the same as the diameter of the first rotation exhaust hole or is provided to be larger than the diameter of the first rotation exhaust hole,
and a diameter of the second rotation exhaust hole is smaller than a diameter of the first rotation exhaust hole. 제 3 항에 있어서,
상기 제 2 회전 배기홀은 상기 외기 도입관의 둘레 방향을 따라 복수개가 직경이 서로 상이하게 제공되는 기판 처리 장치.4. The method of claim 3,
A substrate processing apparatus in which a plurality of the second rotation exhaust holes have different diameters along a circumferential direction of the outdoor air introduction pipe. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 하나에 있어서,
상기 외기 유입구에는 외부 공기의 유입량을 조절하는 외기 조절 부재가 제공되는 기판 처리 장치.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The substrate processing apparatus is provided with an outside air control member for controlling an inflow amount of outside air in the outside air inlet. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 하나에 있어서,
상기 외부 공기의 온도는 상기 공정 챔버에서 배기되는 기체의 온도보다 낮은 기판 처리 장치.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The temperature of the outside air is lower than a temperature of the gas exhausted from the process chamber. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 하나에 있어서,
상기 외부 공기의 온도는 상온인 기판 처리 장치.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The temperature of the outside air is room temperature. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 하나에 있어서,
상기 덕트로 배기되는 기체는 아래 방향으로 흐르는 기판 처리 장치.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
A substrate processing apparatus in which the gas exhausted through the duct flows in a downward direction. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 하나에 있어서,
상기 공정 챔버는 기판을 열처리하는 열처리 챔버로 제공되는 기판 처리 장치.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The process chamber is a substrate processing apparatus provided as a heat treatment chamber for heat-treating the substrate. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 하나에 있어서,
상기 배기관은,
상기 공정 챔버 및 상기 덕트를 연결하는 외측 배기관과;
상기 외측 배기관과 연결되고 상기 덕트의 내부로 연장되는 내측 배기관을 포함하되,
상기 고정 배기홀은 상기 내측 배기관의 측벽에 형성되는 기판 처리 장치.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The exhaust pipe is
an external exhaust pipe connecting the process chamber and the duct;
Including an inner exhaust pipe connected to the outer exhaust pipe and extending into the interior of the duct,
The fixed exhaust hole is formed in a sidewall of the inner exhaust pipe.
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