KR102263862B1 - 표시 패널, 마스크 및 마스크를 이용한 표시 패널의 제조 방법 - Google Patents

표시 패널, 마스크 및 마스크를 이용한 표시 패널의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명의 실시예에 따른 표시 패널은, 표시 영역, 상기 표시 영역 주변에 위치하는 비표시 영역, 및 상기 비표시 영역에 위치하는 일체형의 루프(loop) 형상의 전도성 패스를 포함하고, 상기 전도성 패스는 표면 특성이 서로 다르고, 동일한 전도성 물질로 이루어진 제1 부분과 제2 부분을 포함한다.
본 발명의 실시예에 따른 마스크는, 중앙 쉴드부, 외곽 쉴드부, 상기 중앙 쉴드부와 상기 외곽 쉴드부를 연결하고, 상기 중앙 쉴드부의 일측 표면 및 상기 외곽 쉴드부의 일측 표면과 다른 평면 상에 존재하는 일측 표면을 가지는 지지부, 및 상기 중앙 쉴드부와 상기 외곽 쉴드부 사이의 이격 공간인 오픈 영역을 포함하고, 상기 오픈 영역은, 하나의 연속적인 공간이며, 상기 지지부에 대응하는 디퓨전 영역을 포함한다.
본 발명의 실시예에 따른 마스크를 이용한 표시 패널의 제조 방법은, 본 발명의 실시예에 따른 마스크가, 표시 영역 및 표시 영역 주변에 위치하는 비표시 영역이 정의된 기판과 이격하여 위치하도록, 상기 마스크 또는 상기 기판을 이동하는 단계, 및 전도성 물질로 구성되는 타겟을 스퍼터링 함으로써 일체형 루프 형상의 전도성 패스를 상기 기판에 형성하 단계를 포함한다.

Description

표시 패널, 마스크 및 마스크를 이용한 표시 패널의 제조 방법 {A DISPLAY PANEL, A MASK AND METHODE OF DISPLAY PANEL USING THE MASK}
본 발명은 표시 패널, 마스크 및 마스크를 이용한 표시 패널의 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 자세하게는 일체형의 루프(Loop) 형상의 전도성 패스(Path)를 포함하는 표시 패널, 일체형의 루프 형상의 전도성 패스를 형성하기 위한 마스크, 및 상기 마스크를 이용하여 표시 패널을 제조하는 방법을 제공한다.
연속적인, 일체형의 루프 형태의 금속 배선을 제조하기 위해서는 현재 크게 두 가지 방법이 있다.
첫 번째로, 금속을 잉크화 하여, 잉크 제팅 프린팅(Ink Jetting Printing)을 하는 방법이 있다. 이하에서 이를 제팅이라 한다. 이는 제팅하는 노즐의 위치, 이동 속도 및 제팅 속도를 조절하여 원하는 형상을 자유롭게 형성할 수 있다는 장점이 있다. 그러나, 금속 잉크를 기판에 제팅하는 방법으로 프린팅을 하는 경우, 기판이 금속 잉크를 흡수하지 않으므로, 금속 잉크를 기판에 고정시키기 위해서는 별도의 열에너지를 가하여 경화 내지 베이킹(Baking) 과정을 거쳐야 한다. 그럼에도 여전히 금속 잉크가 경화 내지 베이킹 과정을 거쳐서 형성된 금속 배선은 기판에 잘 접착하지 못한다. 따라서 금속 잉크가 경화 내지 베이킹 과정을 거쳐서 형성된 금속 배선은, 추후 세정 단계를 거치면서 가장자리가 소실되는 문제가 발생한다. 또한 금속 잉크가 경화 내지 베이킹 과정을 거쳐서 형성된 금속 배선은, 물리적으로 노즐 입구의 넓이에 한계가 있으므로, 구현할 수 있는 선폭에 제한이 있다. 또한 금속 잉크가 경화 내지 베이킹 과정을 거쳐서 형성된 금속 배선은, 전기적 특성이 증착에 의한 금속 배선에 비해 부실하다.
두 번째로, 스퍼터 현상을 이용하여 타겟 물질을 기판 표면에 증착하는 방법이 있다. 이하에서 이를 스퍼터링(Sputtering)이라 한다. 물리기상증착법(PVD, Physical Vapor Deposition)에 속하는 스퍼터링은, 방전 플라즈마 내의 하전 입자에 의해 타겟이 스퍼터되는 현상을 이용하는 방법이다. 보다 구체적으로, 타겟에 고전압을 인가하여 방전 플라즈마를 발생시킨다. 플라즈마 중의 양이온이 마이너스 전위의 타겟 재료에 입사되면, 타겟 재료로부터 Auger 중성화된 원자 또는 분자가 떨어져 튕겨나오는 데 이를 스퍼터 입자라 한다. 이때 타겟 재료에서 발생한 스퍼터 입자가 기판 표면을 때리면서 부착되는 식으로 증착이 진행된다. 한다. 이 스퍼터 입자가 기판 표면에 부착되는 방식으로 박막 기판 표면에 증착된다.
스퍼터링에 의하여 박막을 패터닝하고자 할 경우에는, 박막을 패터닝 하고자 하는 패턴을 따라 뚫려있는 마스크를 이용한다. 이러한 마스크를 기판 표면에 아주 근접하게 위치시킨 후, 스퍼터링을 하면, 기판 표면에는 패터닝 된 박막의 형상을 구성할 수 있다. 그런데 기존 스퍼터링에 의하여 박막을 패터닝 할 때에는 루프 형상의 금속 배선을 한 번의 스퍼터링으로 형성할 수는 없었다. 즉, 패턴이 끊김이 없고, 겹침이나 중첩이 없이 일체형으로 만들어지는 루프 형상의 금속 배선을 형성할 수는 없었다.
본 발명의 실시예에 따른 해결 과제는 링과 같은 일체형의 루프 형상을 가지는 전도성 패스를 끊김없이 연속적으로 형성할 수 있는, 마스크를 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 다른 해결 과제는 여러 장의 마스크를 이용하지 않으면서도 오직 1회의 스퍼터링에 의해 하나의 링과 같은 일체형의 루프 형상을 가지는 전도성 패스를 형성할 수 있는, 마스크를 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 다른 해결 과제는 상기 일체형의 루프 형상을 가지는 전도성 패스를 형성하기 위한 스퍼터링에 상기 마스크를 이용함으로써, 일체형의 루프 형상을 가지는 전도성 패스를 내장한 표시 패널을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 다른 해결 과제는 상기 일체형의 루프 형상을 가지는 전도성 패스를 끊김없이 연속적으로 구성함으로써, 보다 계면 저항 내지는 컨택 저항이 최소화 된 전도성 패스를 내장한, 표시 패널을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 다른 해결 과제는 상기 일체형의 루프 형상을 가지는 전도성 패스를 표시 패널의 터치 노이즈(Touch Noise)를 줄이는 용도의 쉴드층(Shielding Layer)에 직접적으로 접촉하도록 구성함으로써, 쉴드층에 유도된 정전기 등을 보다 효과적으로 방전시켜 터치 성능을 향상시킬 수 있는 전도성 패스를 내장한 표시 패널을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 다른 해결 과제는 상기 마스크를 스퍼터링 방식에 이용하여 표시 패널을 형성함으로써, 형성되는 면과의 접착력이 우수한 전도성 패스를 내장한, 표시 패널을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 다른 해결 과제는 상기 마스크를 스퍼터링 방식에 이용하여 표시 패널을 형성함으로써, 형성되는 면과의 접착력이 우수한 전도성 패스를 내장한, 표시 패널을 제공하는 것이다.
본 발명의 실시예들에 따른 해결 과제는 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 실시예에 따른 표시 패널이 제공된다. 표시 영역, 상기 표시 영역 주변에 위치하는 비표시 영역 및, 상기 비표시 영역에 위치하는 일체형의 루프(loop) 형상의 전도성 패스를 포함하고, 상기 전도성 패스는 표면 특성이 서로 다르고, 동일한 전도성 물질로 이루어진 제1 부분과 제2 부분을 포함한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 제2 부분의 면저항이 상기 제1 부분의 면저항보다 더 큰 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 전도성 패스에서 상기 제1 부분이 차지하는 부분이, 상기 전도성 패스에서 상기 제2 부분이 차지하는 부분보다 더 큰 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 제1 부분을 구성하는 물질과 상기 제2 부분을 구성하는 물질이 동일한 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 제2 부분의 표면 조도가 상기 제1 부분의 표면 조도보다 더 큰 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 전도성 패스의 진행 방향에 수직으로 자른 상기 제2 부분의 단면의 폭이, 상기 전도성 패스의 진행방향에 수직으로 자른 상기 제1 부분의 단면의 폭과 같거나 그보다 작은 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 전도성 패스가 상기 표시 영역을 둘러싸는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 전도성 패스가 일 측면에 적어도 하나의 돌출 커넥터부를 가지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 전도성 패스가 일 측면에 적어도 하나의 돌출 커넥터부를 가지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 표시 영역과 상기 비표시 영역에 위치하는 전도층을 더 포함하고, 상기 전도성 패스는 상기 전도층의 일 표면에 접하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 전도층이 투명하며, 산화 인듐, 산화 주석, 산화 아연, 인듐-주석 산화물, 인듐-아연 산화물, 주석-안티몬 산화물, 그래핀(Graffin), 탄소 나노 튜브(Carbon Nano Tube), 은 나노 파티클(Ag Nano Particle), 은 나노 와이어(Ag Nano Wire), 금속 박막 메시(Thin Metal Mesh)중에서 선택되는 어느 하나로 구성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 전도층이 신호 간섭 쉴드층이고, 상기 전도층 및 상기 전도성 패스는 접지된 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 전도성 패스가 금속 또는 금속 합금으로 구성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시예에 따른 마스크가 제공된다. 중앙 쉴드부, 외곽 쉴드부, 상기 중앙 쉴드부와 상기 외곽 쉴드부를 연결하고, 상기 중앙 쉴드부의 일측 표면 및 상기 외곽 쉴드부의 일측 표면과 다른 평면 상에 존재하는 일측 표면을 가지는 지지부, 및 상기 중앙 쉴드부와 상기 외곽 쉴드부 사이의 이격 공간인 오픈 영역을 포함하고, 상기 오픈 영역은, 하나의 연속적인 공간이며, 상기 지지부에 대응하는 디퓨전 영역을 포함한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 중앙 쉴드부가 마스크의 일측 표면에서 바라보았을 때 고립된 아일랜드 형상인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 중앙 쉴드부가 상기 오픈 영역에 의해 둘러싸이고, 상기 외곽 쉴드부는 상기 오픈 영역을 둘러싸는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 중앙 쉴드부가 상기 오픈 영역에 의해 폐쇄적으로 구획되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 중앙 쉴드부가 상기 오픈 영역에 의해 폐쇄적으로 구획되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 지지부가 상기 중앙 쉴드부의 일측 표면 및 상기 외곽 쉴드부의 일측 표면과 단차를 구성하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 중앙 쉴드부 및 상기 외곽 쉴드부가 전 영역에서 두께가 균일하지 않은 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 지지부가 서로 대향하는 상기 중앙 쉴드부의 일측 측면 및 상기 외곽 쉴드부의 타측 측면과 연결된 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 지지부의 두께 및 상기 디퓨전 영역의 두께의 합이 상기 중앙 쉴드부의 측면의 두께 및 상기 외곽 쉴드부의 측면의 두께 이하인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 지지부의 두께가 상기 디퓨전 영역의 두께보다 얇은 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 지지부가, 상기 중앙 쉴드부의 일측 표면 및 상기 외곽 쉴드부의 일측 표면과 다른 평면 상에 존재하는 일 표면을 가지고, 상기 중앙 쉴드부의 타측 표면 및 상기 외곽 쉴드부의 타측 표면과 같은 평면 상에 존재하는 타측 표면을 가지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 지지부의 두께 및 상기 디퓨전 영역의 두께의 합이 상기 중앙 쉴드부의 측면의 두께 및 상기 외곽 쉴드부의 측면의 두께보다 두꺼운 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 지지부의 두께가 상기 디퓨전 영역의 두께보다 두꺼운 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 지지부가 적어도 두 개 이상인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시예에 따른 표시 패널의 제조 방법이 제공된다. 본 발명의 실시에에 따른 마스크가, 표시 영역 및 표시 영역 주변에 위치하는 비표시 영역이 정의된 기판과 이격하여 위치하도록, 상기 마스크 또는 상기 기판을 이동하는 단계, 및 전도성 물질로 구성되는 타겟을 스퍼터링 함으로써 일체형 루프 형상의 전도성 패스를 상기 기판에 형성하 단계를 포함한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널의 제조 방법은 상기 마스크 또는 상기 기판을 이동하는 단계가, 상기 중앙 쉴드부를 상기 표시 영역에 얼라인하고, 상기 오픈 영역 및 상기 외곽 쉴드부를 상기 비표시 영역에 얼라인하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널의 제조 방법은 상기 전도성 패스를 상기 기판에 형성하는 단계가, 상기 제1 부분 및 상기 제2 부분을 동시에 형성하는 단계이며, 상기 디퓨전 영역에 대응하는 상기 기판 영역에, 상기 제2 부분을 형성하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널의 제조 방법은 상기 전도층이 상기 기판에 형성되는 단계를 더 포함하고, 상기 전도층의 일측 표면과 상기 전도성 패스의 일측 표면이 직접적으로 접촉하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널의 제조 방법은 상기 전도층이 투명하며, 산화 인듐, 산화 주석, 산화 아연, 인듐-주석 산화물, 인듐-아연 산화물, 주석-안티몬 산화물, 그래핀(Graffin), 탄소 나노 튜브(Carbon Nano Tube), 은 나노 파티클(Ag Nano Particle), 은 나노 와이어(Ag Nano Wire), 금속 박막 메시(Thin Metal Mesh)중에서 선택되는 어느 하나로 구성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널의 제조 방법은 상기 전도성 패스를 상기 기판에 형성하는 단계가, 금속 또는 금속 합금 타겟을 스퍼터링 하는 단계인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시예에 관한 구체적인 사항들은 발명의 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
본 발명에 따른 표시 패널, 마스크 및 마스크를 이용한 표시 패널의 제조 방법은 링과 같은 일체형의 루프 형상을 가지는 전도성 패스를 끊김없이 연속적으로 형성할 수 있는, 마스크를 제공할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 표시 패널, 마스크 및 마스크를 이용한 표시 패널의 제조 방법은 여러 장의 마스크를 이용하지 않으면서도 오직 1회의 스퍼터링에 의해 하나의 링과 같은 일체형의 루프 형상을 가지는 전도성 패스를 형성할 수 있는, 마스크를 제공할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 표시 패널, 마스크 및 마스크를 이용한 표시 패널의 제조 방법은 상기 일체형의 루프 형상을 가지는 전도성 패스를 형성하기 위한 스퍼터링에 상기 마스크를 이용함으로써, 일체형의 루프 형상을 가지는 전도성 패스를 내장한 표시 패널을 제공할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 표시 패널, 마스크 및 마스크를 이용한 표시 패널의 제조 방법은 상기 일체형의 루프 형상을 가지는 전도성 패스를 끊김없이 연속적으로 구성함으로써, 보다 계면 저항 내지는 컨택 저항이 최소화 된 전도성 패스를 내장한, 표시 패널을 제공할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 표시 패널, 마스크 및 마스크를 이용한 표시 패널의 제조 방법은 과제는 상기 일체형의 루프 형상을 가지는 전도성 패스를 표시 패널의 터치 노이즈(Touch Noise)를 줄이는 용도의 쉴드층(Shielding Layer)에 직접적으로 접촉하도록 구성함으로써, 쉴드층에 유도된 정전기 등을 보다 효과적으로 방전시켜 터치 성능을 향상시킬 수 있는 전도성 패스를 내장한 표시 패널을 제공할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 표시 패널, 마스크 및 마스크를 이용한 표시 패널의 제조 방법은 상기 마스크를 스퍼터링 방식에 이용하여 표시 패널을 형성함으로써, 형성되는 면과의 접착력이 우수한 전도성 패스를 내장한, 표시 패널을 제공할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 표시 패널, 마스크 및 마스크를 이용한 표시 패널의 제조 방법은 상기 마스크를 스퍼터링 방식에 이용하여 표시 패널을 형성함으로써, 형성되는 면과의 접착력이 우수한 전도성 패스를 내장한, 표시 패널을 제공할 수 있다.
본 발명의 효과는 이상에서 언급한 효과에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과는 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
이상에서 해결하고자 하는 과제, 과제 해결 수단, 효과에 기재한 발명의 내용이 청구항의 필수적인 특징을 특정하는 것은 아니므로, 청구항의 권리범위는 발명의 내용에 의하여 제한되지 않는다.
도 1 은 본 발명의 실시예에 따른 마스크 평면도이다.
도 2a, 는 도 1 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크 평면도의 x 부분을 확대한 확대 평면도이다.
도 2b 는 도 2a 의 마스크 확대 평면도에서 외곽 쉴드부와 지지부, 그리고 중앙 쉴드부를 A에서부터 A’까지 자른 절단면을 나타낸 단면도이다.
도 2c 는 도 2a 의 마스크 확대 평면도에서, 외곽 쉴드부와 지지부, 그리고 중앙 쉴드부를 B에서부터 B’까지 자른 절단면을 나타낸 단면도이다.
도 3a 는 본 발명의 실시예에 따른 마스크에 있어서, 도 1 의 마스크 평면도의 x 부분에 대한 확대 평면도이다.
도 3b 는 도 3a 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크 x 부분의 확대 평면도에서, 외곽 쉴드부와 지지부, 그리고 중앙 쉴드부를 A에서부터 A’까지 자른 절단면을 나타낸 단면도이다.
도 3c 는 도 3a 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크 x 부분의 확대 평면도에서, 외곽 쉴드부와 지지부, 그리고 중앙 쉴드부를 B에서부터 B’까지 자른 절단면을 나타낸 단면도이다.
도 3d 은 도 3a 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크 x 부분의 확대 평면도에서, 외곽 쉴드부와 지지부, 그리고 중앙 쉴드부를 C에서부터 C’까지 자른 절단면을 나타낸 단면도이다.
도 4 는 스퍼터 입자의 진행 경로에 대한 개략적인 모식도이다.
도 5 는 본 발명의 실시예에 따른 일체형의 루프 형상의 전도성 패스 평면도이다.
도 6a 는 스트라이프 패턴의 지지부를 가지는 마스크를 이용하여 스퍼터링으로 증착한 전도성 패스의 제2 부분을 확대한, 확대 평면도이다.
도 6b 는 도 6a 의 전도성 패스의 Y 부분의 확대 평면도에서, 전도성 패스의 진행 방향을 기준으로 그와 수평하고, 전도성 패스의 중간을 제1 부분 및 제2 부분에 걸쳐서 A에서부터 A’까지 자른 절단면을 나타낸 단면도이다.
도 6c 는 도 6a 의 전도성 패스의 Y 부분의 확대 평면도에서, 전도성 패스의 진행 방향을 기준으로 그와 수평하고, 전도성 패스의 가장자리를 제1 부분 및 제2 부분에 걸쳐서 B에서부터 B’까지 자른 절단면을 나타낸 단면도이다.
도 6d 은 스트라이프 패턴의 지지부를 가지는 마스크를 이용하여 스퍼터링으로 증착한 전도성 패스의 제2 부분을 확대한, 확대 투시도 및 절단면의 단면도이다.
도 7a 는 소정 각도 만큼 기울어진, 스트라이프 패턴의 지지부를 가지는 마스크를 이용하여 스퍼터링으로 증착한 전도성 패스의 제2 부분을 확대한, 확대 평면도이다.
도 8a 는 메시 또는 격자 패턴의 지지부를 가지는 마스크를 이용하여 스퍼터링으로 증착한 전도성 패스의 제2 부분을 확대한, 확대 평면도이다.
도 9a 는 스트라이프 패턴 지지부를 가지는 마스크를 이용하여 스퍼터링으로 증착한 전도성 패스의 제2 부분을 확대한, 확대 평면도이다.
도 10 은 본 발명의 실시예에 따른 표시 패널의 단면도이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
본 발명의 실시예들을 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로, 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭한다.
본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다.
본 명세서 상에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 이용되는 경우 '~만'이 이용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다.
본 명세서 상에서 구성요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함할 수 있다.
본 명세서 상에서 구성요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.
본 명세서 상에서 위치 관계에 대한 설명의 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 ‘직접’ 또는 ‘접하여’가 함께 이용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.
본 명세서 상에서 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 이용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어들에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 이용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사위 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.
본 명세서 상에서 본 발명의 구성요소를 설명하는 데 있어서, 제1, 제2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 이용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성요소의 본질, 차례, 순서 또는 개수 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 또는 접속될 수 있지만, 각 구성요소 사이에 다른 구성요소가 "개재"되거나, 각 구성요소가 다른 구성요소를 통해 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.
본 발명에서 어떤 구성요소의 평면이란, 그 구성요소의 실제 면적에 한정되는 것이 아니라, X-Y-Z 좌표에 있어서, 그 구성요소의 실제 면적이 위치하는 X-Y 평면 전체를 의미한다. 즉, 어떤 구성요소의 평면이란, 그 구성요소의 실제 면적에서 연장됨으로써 그 구성요소의 실제 면적과 동일한 Z 좌표값을 가지는 X-Y 평면을 의미한다.
본 발명에서 루프(Loop) 형상의 전도성 패스란, 폐쇄적으로 구획되는 내부와, 외부를 구분지을 수 있는 링(Ring) 형상의 전도성 패스를 의미한다. 예를 들어, 중앙이 뚫린 원형, 중앙이 뚫린 타원형, 중앙이 뚫린 직사각형, 중앙이 뚫린 정사각형, 중앙이 뚫린 마름모, 중앙이 뚫린 사다리꼴 또는 중앙이 뚫린 무정형의 전도성 패스를 의미한다.
본 발명에서 일체형의 전도성 패스란, 끊김없이 연속적인 형상이며, 모든 영역이 동시에 형성됨으로써, 이음새가 존재하지 않고, 어떠한 개재물로 연결되지 않고, 겹치거나 중첩되는 부분이 없는 형상의 전도성 패스를 의미한다.
본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시 가능할 수도 있다.
<마스크>
본 실시예는 본 발명의 일 태양인 마스크에 대한 실시예로서, 도 1 내지 도 4 를 참조하여 설명한다.
도 1 은 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100) 평면도이다. 도 1 은 하나의 마스크(100)에 대한 평면도이거나, 하나의 마스크(100)의 일부분에 대한 평면도일 수 있다. 즉, 도 1 은 하나의 루프(Loop) 형상의 오픈(Open) 영역을 가지는 하나의 마스크(100)에 대한 평면도이거나, 또는 수 개의 루프 형상의 오픈 영역(110)을 가지는 하나의 마스크(100)에서, 하나의 루프 형상의 오픈 영역(110)에 해당하는, 마스크(100) 일부 영역에 대한 평면도 일 수 있다.
마스크(100)는 중앙 쉴드부(120), 외곽 쉴드부(130), 지지부 및 오픈 영역(110)을 포함한다.
중앙 쉴드부(120)는 마스크(100)의 일측 표면에서 바라보았을 때 고립된, 아일랜드(Island) 형상이다. 중앙 쉴드부(120)는 외곽 쉴드부(130) 및 오픈 영역(110)에 의해 둘러싸인다. 보다 구체적으로, 중앙 쉴드부(120)는 오픈 영역(110)에 의해 폐쇄적으로 구획되는 영역이다. 또는, 중앙 쉴드부(120)는 오픈 영역(110)에 의해 둘러싸이는 영역이다. 예를 들어 중앙 쉴드부(120)는 직사각형 형상이거나, 정사각형 형상일 수 있다.
외곽 쉴드부(130)는 중앙 쉴드부(120)와 소정 간격 이격하여 위치하며, 중앙 쉴드부(120) 및 오픈 영역(110)을 둘러싸는, 중앙 쉴드부(120)에 대하여 바깥에 위치하는 영역이다. 예를 들어 외곽 쉴드부(130)는 직사각형의 링 형상이거나, 정사각형의 링 형상일 수 있다. 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)를 이용하여 기판에 스퍼터링을 할 경우, 스퍼터 입자들은 중앙 쉴드부(120) 및 외곽 쉴드부(130) 일 표면에 증착됨으로써, 중앙 쉴드부(120) 및 외곽 쉴드부(130)에 대응하는 기판 표면에는 증착되지 않는다.
지지부는 중앙 쉴드부(120)와 외곽 쉴드부(130)를 연결한다. 도시되지는 않았지만, 지지부는 중앙 쉴드부(120) 및 외곽 쉴드부(130)와 단차를 형성한다.
오픈 영역(110)은 연속적이다. 오픈 영역(110)은 하나의 연속적인 공간이며, 루프 형상이다. 예를 들어 오픈 영역(110)은 직사각형의 링 형상이거나, 정사각형의 링 형상일 수 있다. 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)를 이용하여 기판에 스퍼터링을 할 경우, 스퍼터 입자들은 오픈 영역(110)을 통과하여 오픈 영역(110)에 대응하는 기판 표면에 증착된다. 한편, 달리 표현하자면 중앙 쉴드부(120)와 외곽 쉴드부(130)는 소정의 간격만큼 이격하여 위치함에 따라 오픈 영역(110)이 구성된다.
도 1 의 참조하면, x 부분은 지지부가 위치하는, 마스크(100)의 일부분이다. 도시되지는 않았지만 지지부가 중앙 쉴드부(120) 및 외곽 쉴드부(130)와 단차를 형성함에 따라, 지지부와 중앙 쉴드부(120) 및 외곽 쉴드부(130)에 의해 정의되는 공간인 디퓨전(Diffusion) 영역이 존재한다. 오픈 영역(110) 중에서, 지지부에 대응하는 오픈 영역(110)은 디퓨전 영역(미도시)이라 한다. 즉, 오픈 영역(110)은 디퓨전 영역(미도시)을 포함한다. 다음의 도 2a 내지 3d 를 참조하여 지지부와 디퓨전 영역(미도시)을 보다 구체적으로 설명하기로 한다.
도 2a 는 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)에 있어서, 도 1 의 마스크(100) 평면도의 x 부분에 대한 확대 평면도이다. 도 2a 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)는 스트라이프(Stripe) 또는 사다리 패턴의 지지부(240)를 가지는 마스크(100)이다. 지지부(240)는 중앙 쉴드부(220)와 외곽 쉴드부(230)를 연결한다. 이 때, 지지부(240)는 중앙 쉴드부(220)와 외곽 쉴드부(230) 사이에 위치할 수 있다. 예를 들어, 지지부(240)는 중앙 쉴드부(220)의 일측 측면 및 외곽 쉴드부(230)의 타측 측면에 연결될 수 있다. 이 때, 오픈 영역(210)은 중앙 쉴드부(220)와 외곽 쉴드부(230)가 소정 간격만큼 이격함으로써 구성되는 영역이다. 도 1 및 도 2a 의 평면도에서는, 지지부(240)로 인해, 오픈 영역(210)이 마치 연속적이지 않은 듯 보인다. 그러나, 지지부(240)와 중앙 쉴드부(220) 및 외곽 쉴드부(230)에 의해 형성되는 공간인 디퓨전 영역(미도시)이 구성되고, 바로 이 디퓨전 영역(미도시)에 의하여 오픈 영역(210)의 연속성이 확보된다. 즉, 지지부(240)가 중앙 쉴드부(220)의 일측 표면 및 외곽 쉴드부(230)의 일측 표면과 단차를 구성함으로써, 형성되는 공간인 디퓨전 영역(미도시)이 오픈 영역(210)에 연속성을 제공한다. (1) 지지부(240)와 중앙 쉴드부(220) 및 외곽 쉴드부(230)와의 연결 관계 및 (2) 디퓨전 영역(미도시)으로 인한 오픈 영역(210)의 연속성에 관해서는 다음의 도 2b 및 도 2c 에서 보다 구체적으로 설명하기로 한다.
도 2b 는 도 2a 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100) x 부분의 확대 평면도에서, 외곽 쉴드부(230)와 지지부(240), 그리고 중앙 쉴드부(220)를 A에서부터 A’까지 자른 절단면을 나타낸 단면도이다. (1) 및 (2) 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크는 본 발명의 사상을 표현하기 위하여 제시하는 몇 가지 예시에 불과하며, 지지부(240)의 형상이 이에 제한되지는 않는다.
도 2b 의 (1) 을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)를 설명한다.
외곽 쉴드부(230) 및 중앙 쉴드부(220)는 단차 없이 평탄하다. 따라서, 외곽 쉴드부(230) 및 중앙 쉴드부(220)는 각각 전체적으로, 실질적으로 일관된 두께를 가진다. 외곽 쉴드부(230)의 일측 표면은 중앙 쉴드부(220)의 일측 표면과 동일 평면 상에 위치할 수 있다.
지지부(240)에 대해서 설명한다. 지지부(240)는 중앙 쉴드부(220)의 일측 측면과 외곽 쉴드부(230)의 타측 측면에 연결된다. 지지부(240)의 두께(d4) 및 디퓨전 영역(211)의 두께(2)의 합은 중앙 쉴드부(220)의 일측 측면의 두께(d3) 및 외곽 쉴드부(230)의 타측 측면의 두께(d1) 이하이다. 즉, 지지부(240)의 두께(d4)와 디퓨전 영역(211)(d2)의 합은 외곽 쉴드부(230)의 두께(d1)와 같거나 그보다 작다(d1>=d4+d2). 또는, 지지부(240)의 두께(d4)와 디퓨전 영역(211)(d2)의 합은 중앙 쉴드부(220)의 두께(d3)와 같거나 그보다 작다(d3>=d4+d2).
지지부(240)는 중앙 쉴드부(220)의 일측 표면 및 외곽 쉴드부(230)의 일측 표면과 다른 평면 상에 존재하는 일측 표면을 가진다. 지지부(240)의 양측 표면 중 적어도 일측 표면은 중앙 쉴드부(220)의 일측 표면 및 외곽 쉴드부(230)의 일측 표면과 단차를 구성한다. 바람직하게는, 지지부(240)의 일측 표면은 중앙 쉴드부(220)의 일측 표면 및 외곽 쉴드부(230)의 일측 표면과 단차를 구성하고, 지지부(240)의 타측 표면은 중앙 쉴드부(220)의 타측 표면 및 외곽 쉴드부(230)의 타측 표면과 동일 평면 상에 위치한다. 그러나 경우에 따라서는, 지지부(240)의 타측 표면도 중앙 쉴드부(220)의 타측 표면 및 외곽 쉴드부(230)의 타측 표면과 단차를 구성한다. 이 때 지지부(240)는 중앙 쉴드부(220)의 일측 측면과 외곽 쉴드부(230)의 타측 측면에 연결된다. 지지부(240)의 두께(d4) 및 디퓨전 영역(211)의 두께(2)의 합은 중앙 쉴드부(220)의 일측 측면의 두께(d3) 및 외곽 쉴드부(230)의 타측 측면의 두께(d1) 보다 작다.
디퓨전 영역(211)에 대해서 설명한다. 외곽 쉴드부(230) 및 중앙 쉴드부(220)가, 지지부(240)와 단차를 구성함으로써 디퓨전 영역(211)이 형성된다. 단차의 두께가 바로 디퓨전 영역(211)의 두께(d1)이다. 앞서 언급했듯이, 경우에 따라서는, 지지부(240)의 양측 표면이 모두 외곽 쉴드부(230) 및 중앙 쉴드부(220)의 양측 표면과 단차가 구성될 수도 있는데, 이 때는 양 쪽의 단차 중에 더 두꺼운 단차가 위치하는 측이 디퓨전 영역(211)에 해당한다.
참고로, 디퓨전 영역(211) 이외의, 오픈 영역(미도시)(미도시)의 두께는 오픈 영역(미도시)(미도시)을 구획하는 중앙 쉴드부(220)의 일측 측면의 두께 및 외곽 쉴드부(230)의 타측 측면의 두께로 결정된다. 그렇기 때문에, (1) 에서는 오픈 영역(미도시)(미도시)이 도시되지는 않았으나, 지지부(240)의 두께(d4)와 디퓨전 영역(211)의 두께(d2)의 합은 오픈 영역(미도시)(미도시)의 두께 이하이다.
도 2b 의 (2) 를 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)를 설명한다. (2) 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)를 설명함에 있어, (1) 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)와 동일, 유사한 점에 대한 설명은 생략하고 다른 점에 대하여 추가로 설명한다.
중앙 쉴드부(220) 및 외곽 쉴드부(230)는 단차를 가진다. 즉, 중앙 쉴드부(220) 및 외곽 쉴드부(230)는 두께가 균일하지 않다. 예를 들어, 중앙 쉴드부(220)는 지지부(240)가 중앙 쉴드부(220)와 연결되는 지점 근처에서 단차를 가질 수 있다. 또는, 외곽 쉴드부(230)는 지지부(240)가 외곽 쉴드부(230)와 연결되는 지점 근처에서 단차를 가질 수 있다. 즉, 중앙 쉴드부(220) 및 외곽 쉴드부(230)는 지지부(240)가 연결되는 지점 근처에서 가장 두꺼운 두께를 가질 수 있다.
지지부(240)에 대해서 설명한다. 지지부(240)의 두께(d4)는 디퓨전 영역(211)의 두께(d2) 이상이다.
디퓨전 영역(211)에 대해서 설명한다. 디퓨전 영역(211)의 두께(d2)는 중앙 쉴드부(220)의 일측 측면의 두께(d3) 및 외곽 쉴드부(230)의 타측 측면의 두께(d1)보다 얇다.
이러한 형상의 마스크(100)를 형성하기 위해서는 마스크(100) 양측 표면을 패터닝으로 에칭하는 과정이 필수적이다. 예를 들어, 마스크(100)를 만들기 위한 모기판 일측 표면을 지지부(240)가 형성될 영역 이외의 모든 영역에 대응되는 패터닝 에칭으로 일정 두께만큼 깎아내고, 타측 표면을 오픈 영역(미도시), 디퓨전 영역(211) 및 지지부(240)에 대응되는 패터닝 에칭으로 일정 두께만큼 깎아내는 과정으로 형성할 수 있다. 이로써, 디퓨전 영역(211)의 두께와 지지부(240)의 두께가, 중앙 쉴드부(220) 내지는 외곽 쉴드부(230)의 두께를 분배하는 제약으로부터 벗어날 수 있다. 즉, 디퓨전 영역(211)의 두께를 충분히 확보하면서도 동시에 지지부(240)는 중앙 쉴드부(220)의 지지 역할을 하기에 충분히 두꺼운 두께를 가지는 마스크(100)를 만들 수 있다.
도 2c 는 도 2a 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100) x 부분의 확대 평면도에서, 외곽 쉴드부(230)와 지지부(240), 그리고 중앙 쉴드부(220)를 B에서부터 B’까지 자른 절단면을 나타낸 단면도이다.
도 2c 를 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)를 설명한다.
외곽 쉴드부(230)와 중앙 쉴드부(220)가 소정의 간격으로 이격된 공간이, 지지부(240)가 존재하지 않음으로써, 그대로 노출된다. 이 부분이 오픈 영역(미도시)이다. 즉, 오픈 영역(미도시)은 외곽 쉴드부(230)와 중앙 쉴드부(220)가 소정의 간격으로 이격된 공간에서, 지지부(240)에 의해 그늘이 지지 않는 공간이다. 참고로, 외곽 쉴드부(230) 및 중앙 쉴드부(220)와 단차를 구성하는 지지부(240)가 존재함으로써 필연적으로 디퓨전 영역(211)이 구성되는데, 디퓨전 영역(211)에 대한 설명은 도 2b 에서 설명한 바 있다. 즉, 오픈 영역(미도시) 중에서, 지지부(240)에 의해 그늘이 지는 공간이 디퓨전 영역(211)에 해당한다. 오픈 영역(미도시)의 전체가 디퓨전 영역(211)일 수는 없다. 이 때, 디퓨전 영역(211) 이외의, 오픈 영역(미도시)의 두께는 오픈 영역(미도시)을 구획하는 중앙 쉴드부(220) 일측 측면의 두께 및 외곽 쉴드부(230) 일측 측면의 두께로 결정된다. 외곽 쉴드부(230) 및 중앙 쉴드부(220)가 단차 없이 평탄한 경우에는, 중앙 쉴드부(220) 일측 측면의 두께란 곧 중앙 쉴드부(220)의 두께이고, 외곽 쉴드부(230) 타측 측면의 두께란 곧 외곽 쉴드부(230)의 두께이다. 외곽 쉴드부(230) 및 중앙 쉴드부(220)가 단차가 있는 경우에는, 외곽 쉴드부(230) 및 중앙 쉴드부(220)의 두께가 전체에 걸쳐서 일정하지 않으므로, 중앙 쉴드부(220) 일측 측면의 두께 및 외곽 쉴드부(230) 타측 측면의 두께가 곧 오픈 영역(미도시)의 두께가 된다.
도 3a 는 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)에 있어서, 도 1 의 마스크(100) 평면도의 x 부분에 대한 확대 평면도이다. 도 3a 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)는 격자 또는 메시(Mesh) 패턴의 지지부(340)를 가지는 마스크(100)이다. 도 3a 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)를 설명함에 있어서, 도 2a 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)(스트라이프 또는 사다리 패턴의 지지부를 가지는 마스크와 동일, 유사한 점에 대한 설명은 생략하고 다른 점에 대하여 추가로 설명한다. (1) 지지부(340)와 중앙 쉴드부(320) 및 외곽 쉴드부(330)와의 연결 관계 및 (2) 디퓨전 영역(311)으로 인한 오픈 영역(310)의 연속성에 관해서 다음의 도 3b 및 도 3c 에서 보다 구체적으로 설명하기로 한다.
도 3b 는 도 3a 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100) x 부분의 확대 평면도에서, 외곽 쉴드부(330)와 지지부(340), 그리고 중앙 쉴드부(320)를 A에서부터 A’까지 자른 절단면을 나타낸 단면도이다. 도 3b 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)는 본 발명의 사상을 표현하기 위하여 제시하는 예시에 불과하며, 지지부(340)의 형상이 이에 제한되지는 않는다. 예를 들어, 도 3a 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100) x 부분의 확대 평면도에서, 외곽 쉴드부(330)와 지지부(340), 그리고 중앙 쉴드부(320)를 A에서부터 A’까지 자른 절단면을 나타낸 단면도는 도 2b 의 (1), (2) 로 대체될 수 있다.
도 3c 는 도 3a 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100) x 부분의 확대 평면도에서, 외곽 쉴드부(330)와 지지부(340), 그리고 중앙 쉴드부(320)를 B에서부터 B’까지 자른 절단면을 나타낸 단면도이다. 도 3c 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)에 대한 설명은 모두 도 2c 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)에 대한 설명과 동일하다.
도 3d 은 도 3a 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100) x 부분의 확대 평면도에서, 외곽 쉴드부(330)와 지지부(340), 그리고 중앙 쉴드부(320)를 C에서부터 C’까지 자른 절단면을 나타낸 단면도이다. 도 3a 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)가 격자 또는 메시 패턴의 지지부(340)를 가지므로, 필연적으로 C에서부터 C’까지 자른 절단면에서는 중앙 쉴드부(320) 및 외곽 쉴드부(330)와 연결되지 않은 지지부(340)가 나타나게 된다. 도 3d의 (1), (2) 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)는 본 발명의 사상을 표현하기 위하여 제시하는 몇 가지 예시에 불과하며, 지지부(340)의 형상이 이에 제한되지는 않는다.
도 3d 의 (1) 을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)를 설명한다. 도 3d 의 (1) 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)를 설명함에 있어서, 도 2b 의 (1) 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)와 동일, 유사한 점에 대한 설명은 생략하고 다른 점에 대하여 추가로 설명한다.
지지부(340)에 대해서 설명한다. 지지부(340)는 중앙 쉴드부(320)의 일측 측면 및 외곽 쉴드부(330)의 타측 측면 사이에 위치한다.
오픈 영역(310)에 대해서 설명한다. 오픈 영역(310)은, 지지부(340)가 중앙 쉴드부(320)의 일측 측면 및 외곽 쉴드부(330)의 타측 측면에 연결되지 않음으로써 노출되는 공간이다.
도 3d 의 (2) 를 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)를 설명한다. 도 3d 의 (2) 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)는, 오픈 영역(310)에 있어서는 도 3d 의 (1) 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)와 동일, 유사한 부분이 있고, 그 외 나머지에 있어서는 도 2b 의 (2) 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)와 동일, 유사하다. 따라서, 도 3d 의 (1) 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)에 대한 설명과 도 2b 의 (2) 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)에 대한 설명을 조합함으로써 도 3d 의 (2) 의 본 발명의 실시예에 따른 마스크(100)를 이해할 수 있다.
도 4 는 스퍼터 입자의 진행 경로에 대한 개략적인 모식도이다. 도 4 의 (1) 를 참조하면, 본 발명의 일 실시예인 마스크를 이용하여 스퍼터링을 수행함에 있어서, 스퍼터 입자가 오픈 영역을 통해서 디퓨전 영역으로 확산된다. 도 4 의 (2) 를 참조하면, 오픈 영역을 통과해 디퓨전 영역으로 확산된 스퍼터 입자는 지지부에 대응하는 기판 영역에도 증착된다. 이렇게 디퓨전 영역에 의하여 연속적인 하나의 공간이 되는 오픈 영역에 대응하여, 스퍼터링 증착 패턴이 형성된다. 지지부는 중앙 쉴드부와 외곽 쉴드부 사이에 위치하면서, 중앙 쉴드부와 외곽 쉴드부를 물리적으로 연결한다. 그럼에도, 디퓨전 패터닝에 의하여 지지부에 대응하는 기판 영역에도 증착 패턴이 형성됨으로써, 일체형의 루프 형상의 증착 패턴을 연속성 있게끔 구현할 수 있다.
이러한 지지부 및 디퓨전 패터닝은 적어도 두 개 이상 존재함으로써, 중앙 쉴드부가 보다 효과적으로 지지된다. 즉, 디퓨전 패터닝이 위치하는 부분은 적어도 두 부분 이상이다.
<전도성 패스>
본 발명의 일 태양인 전도성 패스(500)를 포함하는 표시 패널에 내장되는 전도성 패스(500)에 대하여, 도 5 내지 도 9 를 참조하여 설명한다.
도 5 는 일체형의 루프 형상의 전도성 패스(500) 평면도이다. 도 1 의 본 발명의 실시예에 따른 하나의 루프 형상의 오픈 영역(110)을 가지는 마스크(100) 평면도와 대응되는 형상이다.
전도성 패스(500)는 일체형의 루프 형상이다. 전도성 패스(500)는 일측 측면에 적어도 하나의 돌출 커넥터부(520)를 가진다. 돌출 커넥터부(520)를 통하여 전도성 패스(500)에 전기적 신호가 출입할 수 있다. 또는, 돌출 커넥터부(520)를 통하여 전도성 패스(500)에 전류가 인가될 수 있다. 전도성 패스(500)는 표면 특성이 서로 다른 제1 부분(510) 및 제2 부분을 포함한다. 제1 부분(510)과 제2 부분은 동일한 전도성 물질로 이루어진다. 제2 부분은 지지부와 디퓨전 영역(미도시)에 대응하여 형성된 부분이다. 따라서, 제2 부분의 형상은 지지부와 디퓨전 영역(미도시)의 형상에 의존하게 된다. 이에 대하여 다음의 도 6a 내지 도 9a 를 참조하여 제2 부분의 형상을 보다 구체적으로 설명하기로 한다.
도 6a 는 스트라이프 패턴의 지지부를 가지는 마스크를 이용하여 스퍼터링으로 증착한 전도성 패스(500)의 제2 부분(612)을 확대한, 확대 평면도이다.
제2 부분(612)은 그 가장자리가 물결 형상이다. 제1 부분(611)과 비교했을 때, 제2 부분(612)은 증착이 이루어지지 않은 홈 형상이 나타게 된다. 이러한 전도성 패스(500)의 가장자리 일부에 존재하는 물결 형상 내지는 홈 형상으로부터, 스트라이프 패턴의 지지부를 가지를 마스크를 이용하여 스퍼터링으로 증착이 된 패턴임을 알 수 있다. 도 6a 의 제2 부분(612)은 본 발명의 사상을 표현하기 위하여 제시하는 몇 가지 예시에 불과하며, 제2 부분(612)의 형상이 이에 제한되지는 않는다.
도 6b 는 도 6a 의 전도성 패스(500)의 Y 부분의 확대 평면도에서, 전도성 패스(500)의 진행 방향을 기준으로 그와 수평하고, 전도성 패스(500)의 중간을 제1 부분(611) 및 제2 부분(612)에 걸쳐서 A에서부터 A’까지 자른 절단면을 나타낸 단면도이다.
제2 부분(612)의 중간은 울퉁불퉁하게 굴곡이 있으며, 이러한 굴곡은 연결되어 있다. 제2 부분(612)의 표면이 울퉁불퉁한 정도가, 제1 부분(611)의 표면이 울퉁불퉁한 정도보다 크다. 즉, 제2 부분(612)의 표면 조도는 제1 부분(611)의 표면 조도보다 크다. 즉, 제2 부분(612)의 표면은 제1 부분(611)의 표면보다 거칠다. 제2 부분(612)은 두께가 균일하지 않다. 모든 경우에 있어서, 제2 부분(612)의 두께가 제1 부분(611)의 두께 이하이고, 제2 부분(612)의 두께가 제1 부분(611)의 두께보다 두꺼울 수는 없다.
도 6c 는 도 6a 의 전도성 패스(500)의 Y 부분의 확대 평면도에서, 전도성 패스(500)의 진행 방향을 기준으로 그와 수평하고, 전도성 패스(500)의 가장자리를 제1 부분(611) 및 제2 부분(612)에 걸쳐서 B에서부터 B’까지 자른 절단면을 나타낸 단면도이다.
제2 부분(612)은 그 가장자리가 물결 형상이다. 또는, 제2 부분(612)은 그 가장자리에, 제1 부분(611)에는 존재하지 않는, 부분적으로 증착이 이루어지지 않은 홈 형상이 존재한다. 따라서, 전도성 패스(500)의 가장자리를 절단한 절단면의 경우, 제2 부분(612)의 가장자리는 울퉁불퉁하게 굴곡이 있으며, 이러한 굴곡은 연결되어 있지 않다. 즉, 제2 부분(612)의 표면 조도는 제1 부분(611)의 표면 조도보다 크다. 즉, 제2 부분(612)의 표면은 제1 부분(611)의 표면보다 거칠다. 제2 부분(612)은 두께가 균일하지 않다. 모든 경우에 있어서, 제2 부분(612)의 두께가 제1 부분(611)의 두께 이하이고, 제2 부분(612)의 두께가 제1 부분(611)의 두께보다 두꺼울 수는 없다.
도 6d 의 (1)은 스트라이프 패턴의 지지부를 가지는 마스크를 이용하여 스퍼터링으로 증착한 전도성 패스(500)의 제2 부분(612)을 확대한, 확대 투시도이다. 제2 부분(612)의 표면은 울퉁불퉁하게 굴곡이 있으며, 이러한 굴곡은 연결되어 있다. 즉, 제2 부분(612)의 표면 조도는 제1 부분(611)의 표면 조도보다 크다. 즉, 제2 부분(612)의 표면은 제1 부분(611)의 표면보다 거칠다. 제2 부분(612)은 두께가 균일하지 않다. 모든 경우에 있어서, 제2 부분(612)의 두께가 제1 부분(611)의 두께 이하이다.
도 6d 의 (2) 는 전도성 패스(500)의 확대 투시도에서, 전도성 패스(500)의 진행 방향에 수직으로 A에서부터 A’까지 자른 제1 부분(611)의 절단면 및 B에서부터 B’까지 자른 제2 부분(612)의 절단면을 나타낸 단면도이다. 제2 절단면의 폭(w2)은 제1 부분(611)의 절단면의 폭(w1) 이하이고, 제2 절단면의 높이(d2)는 제1 부분(611)의 절단면의 높이(d1) 이하이다.
도 7a 는 소정 각도 만큼 기울어진, 스트라이프 패턴의 지지부를 가지는 마스크(100)를 이용하여 스퍼터링으로 증착한 전도성 패스(500)의 제2 부분(712)을 확대한, 확대 평면도이다.
제2 부분(712)은 그 가장자리가 물결 형상이다. 제1 부분(711)과 비교했을 때, 제2 부분(712)은 증착이 이루어지지 않은 홈 형상이 나타게 된다. 이러한 전도성 패스(500)의 가장자리 일부에 존재하는 물결 형상 내지는 홈 형상으로부터, 소정 각도 만큼 기울어진, 스트라이프 패턴의 지지부를 가지는 마스크(100)를 이용하여 스퍼터링으로 증착이 된 패턴임을 알 수 있다.
도 8a 는 메시 또는 격자 패턴의 지지부를 가지는 마스크(100)를 이용하여 스퍼터링으로 증착한 전도성 패스(500)의 제2 부분(812)을 확대한, 확대 평면도이다.
제2 부분(812)은 그 가장자리가 물결 형상이다. 제1 부분(811)과 비교했을 때, 제2 부분(812)은 증착이 이루어지지 않은 홈 형상이 나타게 된다. 이러한 전도성 패스(500)의 가장자리 일부에 존재하는 물결 형상 내지는 홈 형상으로부터, 메시 또는 격자 패턴의 지지부를 가지는 마스크(100)를 이용하여 스퍼터링으로 증착이 된 패턴임을 알 수 있다.
도 9a 는 스트라이프 패턴 지지부를 가지는 마스크(100)를 이용하여 스퍼터링으로 증착한 전도성 패스(500)의 제2 부분(912)을 확대한, 확대 평면도이다.
제2 부분(912)은 그 가장자리가 물결 형상이다. 제1 부분(911)과 비교했을 때, 제2 부분(912)은 증착이 이루어지지 않은 홈 형상이 나타게 된다. 이러한 전도성 패스(500)의 가장자리 일부에 존재하는 물결 형상 내지는 홈 형상으로부터, 메시 또는 격자 패턴의 지지부를 가지는 마스크(100)를 이용하여 스퍼터링으로 증착이 된 패턴임을 알 수 있다. 도 6a 의 스트라이프 패턴의 지지부를 가지는 마스크(100)를 이용하여 스퍼터링으로 증착한 전도성 패스(500)의 제2 부분(612)을 확대한, 확대 평면도와 유사하다. 그러나, 유사한 스트라이프 패턴의 지지부라 하더라도, 지지부가 더 얇고, 지지부와 지지부의 이격 거리가 더 넓을수록, 제2 부분의 형상이 도 6a 보다는 도 9a 에 가까운 형상을 띠는 전도성 패스(500)가 형성된다. 즉, 지지부가 더 얇고, 지지부와 지지부의 이격 거리가 더 넓을수록, 제2 부분의 가장자리에 존재하는 물결 형상 내지는 홈 형상이 축소되면서 제1 부분의 가장자리의 형상과 유사해진다.
이러한 전도성 패스(500)는 전도성이 우수한 물질로 이루어진다. 예를 들어, 은, 구리, 크롬 등과 같은 금속 물질 내지는 금속 합금 물질로 이루어질 수 있다. 전도성 패스(500)의 면저항 값은, 제1 부분의 면저항 값이 제2 부분의 면저항이 값보다 낮다.
<전도성 패스를 포함하는 표시 패널>
본 실시예는 본 발명의 일 태양인 표시 패널(1000)(1000)에 대한 실시예로서, 도 10 를 참조하여 설명한다.
일체형의 루프 형태의 전도성 패스(1024)는, 빛을 출사하여 사용자로 하여금 정보로 인식되는 어떠한 화상을 표시하는, 표시 패널(1000)에 위치할 수 있다. 본 발명의 실시예에 따른 표시 패널(1000)은 화상이 표시되는 영역인 표시 영역(I/A) 이외의, 비표시 영역(I/A)에 일체형의 루프 형상의 전도성 패스(1024)가 위치하는 표시 패널(1000)이다. 비표시 영역(I/A)은 표시 영역(I/A) 주변에 위치하는데, 예를 들어 비표시 영역(I/A)이 표시 영역(I/A)을 둘러싸는 형태일 수 있다. 이 때, 일체형의 루프 형태의 전도성 패스(1024)는 비표시 영역(I/A)에 위치하면서, 표시 영역(I/A)을 둘러싸는 형태일 수 있다. 표시 패널(1000)에서 일체형의 루프 형태의 전도성 패스(1024)가 어떠한 형태로 위치하는지에 관하여 다음의 도 10 을 참조하여 보다 자세히 설명하도록 한다.
도 10 은 본 발명의 실시예에 따른 표시 패널(1000)의 단면도이다. 도 10 의 본 발명의 실시예에 따른 표시 패널(1000)은 액정 표시 패널(Liquid Crystal Display; LCD)를 예시적으로 표현하고 있으나, 본 발명의 사상을 표현하기 위한 예시에 불과하며 이에 한정되지 않는다. 보다 구체적으로, 본 발명의 실시예에 따른 표시 패널(1000)은 유기 전계 발광 표시 패널(Organic Light Emitting Display; OLED)일 수도 있다. 다시 말하면, 본 발명의 실시예에 따른 표시 패널(1000)은 비표시 영역(I/A)에 일체형의 루프 형상의 전도성 패스(1024)가 위치하는도록 구성된 표시 패널(1000)을 의미한다.
본 발명의 실시예에 따른 표시 패널(1000)은 표시 영역(I/A)과 표시 영역(I/A) 주변에 위치하는 비표시 영역(I/A)으로 구획된다. 도시되지는 않았으나, 비표시 영역(I/A)은 표시 영역(I/A)을 둘러싸는 구조이다. 따라서, 단면에서는 표시 패널(1000) 양 쪽 가장자리 부근에 비표시 영역(I/A)이 위치하게 된다.
본 발명의 실시예에 따른 표시 패널(1000)은 하부 편광층(1042), 하부 편광층(1042) 상의 비표시 영역(I/A)에 위치하는 전도성 패스(1024), 전도성 패스(1024) 및 하부 편광층(1042) 상에 위치하는 전도층(1023), 전도층(1023) 상에 위치하는 하부 기판(1021), 하부 기판(1021) 상에 위치하는 TFT 소자층(1022), TFT 소자층(1022) 상의 비표시 영역(I/A)에 위치하는 실링(Sealing)부(1031), TFT 소자층(1022) 상에 위치하며 실링부(1031)로 둘러싸이고 스페이서(미도시)에 의해 이격된 갭 내부에 충진된 액정층(1032), 실링부(1031) 및 액정층(1032) 상에 위치하는 평탄화층(1014), 평탄화층(1014) 상에 위치하며 비표시 영역(I/A)을 정의하는 블랙매트릭스(1013), 블랙매트릭스(1013) 및 평탄화층(1014) 상에 위치하는 컬러필터층(1012), 컬러필터층(1012) 상에 위치하는 상부 기판(1011), 상부 기판(1011) 상에 위치하는 상부 편광층(1041)을 포함한다.
이 때, 표시 패널(1000)의 상부 기판(1011)에서 화상이 표시되지 않는 가장자리 영역을 가리기 위하여, 블랙매트릭스(1013)가 형성된다. 이 때 블랙매트릭스(1013)가 형성된 영역은 비표시 영역(I/A)이다. 블랙매트릭스(1031)에 의하여, 사용자에게 전달되는 화상이 표시되는 영역 즉 표시 영역(I/A)이 정의된다. 블랙매트릭스(1013)는 각종 배선, 신호선 및 테이프를 가리는 역할을 하며, 빛을 흡수하는 블랙레진을 포함할 수 있다.
도 10 에서는 미도시 되었으나, 표시 패널(1000) 내부 또는 외부에 터치 센서(미도시)가 위치할 수 있다. 터치 센서(미도시)는 별도의 기판을 가지는 터치 스크린 패널의 형태로써 표시 패널(1000)과 결합할 수 있다. 또는, 터치 센서(미도시)는 필름 형태로써 표시 패널(1000)과 결합할 수 있다. 또는, 표시 패널(1000)의 구성 요소인 터치 전극의 형태로써 상부 기판(1011) 상에 및/또는 하부 기판(1021) 상에 위치할 수 있다.
TFT 소자층(1022)은, 소정 간격으로 이격되어 일 방향으로 배열되는 복수의 게이트 라인(미도시)과, 각 게이트 라인(미도시)과 수직한 방향으로 소정 간격으로 이격되어 배열되는 복수의 데이터 라인(미도시)과, 각 게이트 라인(미도시) 및 데이터 라인(미도시)이 교차되어 정의되는 각 화소 영역(미도시)에 매트릭스 형태로 형성되는 복수의 화소 전극(미도시)과 게이트 라인(미도시)의 신호에 의해 스위칭되어 데이터 라인(미도시)의 신호를 각 화소 전극(미도시)에 전달하는 복수의 박막 트랜지스터(TFT)가 위치한다. 이러한 TFT 소자층(1022)에 의하여 액정층(1032)의 액정이 구동된다.
전도층(1023)은 액정을 구동하기 위하여 TFT 소자층(1022)에 인가되는 구동 신호에 의하여 터치 신호가 오작동 되는 현상을 방지하고자 도입할 수 있다. 이러한 경우, 전도층(1023)은 신호 간섭 쉴드층(Shield Layer)이다. 터치 센서(미도시)에는 터치 위치를 검출하기 위하여 터치 전극에 전압 신호가 인가되고, 동시에 TFT 소자층(1022)에는 액정을 구동하기 위하여 화소 전극(미도시) 및 공통 전극(미도시)에 전압 신호가 인가되는데, 이 때, 터치 센서(미도시)의 터치 전극과, TFT 소자층(1022)의 화소 전극(미도시) 또는 공통 전극(미도시)이 제1 전극, 제2 전극이 되고, 이 제1 전극 및 제2 전극 사이에 위치하게 되는 각종 구조물층을 유전체로 하는 기생 캐패시턴스가 형성된다. 이 기생 캐패시턴스는 TFT 소자층(1022)의 화소 전극(미도시) 또는 공통 전극(미도시)에 인가되는 전압 신호가 터치 센서(미도시)의 터치 전극에 인가되는 전압 신호에 간섭을 일으킨다. 즉, TFT 소자층(1022)의 화소 전극(미도시) 또는 공통 전극(미도시)에 인가되는 전압 신호가 터치 센서(미도시)의 터치 전극에 인가되는 전압 신호에 노이즈로 작용한다.
터치 센서(미도시)가 TFT 소자층(1022)에 위치하는, 인 셀(In-cell) 터치 방식으로 형성되어 있는 경우에는, 전도층(1023)이 TFT 소자층(1022)이 형성된 하부 기판(1021)의 배면에 형성된다. 즉, TFT 소자층(1022)이 형성된 하부 기판(1021)의 표면을 일측 표면이라 할 경우, 전도층(1023)은 하부 기판(1021)의 타측 표면에 형성된다. 이 때, 전도층(1023)은, 추후에 표시 패널(1000)에 결합되는 백라이트 유닛부(미도시)로부터 출사하는 빛이, 표시 패널(1000)로 입사되어야 하므로 투명해야 한다.
한편, 터치 센서(미도시)가 컬러필터층(1012)에 위치하는, 온 셀(On-cell) 터치 방식으로 형성되어 있는 경우에는, 전도층(1023)이 컬러필터층(1012)이 형성된 상부 기판(1011)의 배면에 형성된다. 즉, 컬러필터층(1012)이 형성된 상부 기판(1011)의 표면을 일측 표면이라 할 경우, 전도층(1023)은 하부 기판(1021)의 타측 표면에 형성된다. 이 때, 전도층(1023)은 액정층(1032)에서 편광되어 표시 패널(1000)을 출사해 나가는 빛의 진행 방향 쪽에 위치하게 되므로, 투명해야 한다.
따라서 전도층(1023)은 투명하면서 전도성을 띠는 물질로 구성되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 산화 인듐, 산화 주석, 산화 아연, 인듐-주석 산화물, 인듐-아연 산화물, 주석-안티몬 산화물, 그래핀(Graffin), 탄소 나노 튜브(Carbon Nano Tube), 은 나노 파티클(Ag Nano Particle), 은 나노 와이어(Ag Nano Wire), 금속 박막 메시(Thin Metal Mesh)중에서 선택되는 어느 하나로 구성될 수 있다. 전도층(1023)은 빛을 투과할 정도로 얇게 형성해야 한다.
본 발명의 실시예에 따른 표시 패널(1000)에 전도층(1023)이 포함되는 경우, 전도성 패스(1024)는 전도층(1023)의 일측 표면과 직접 접하여 위치할 수 있다. 또한, 블랙매트릭스(1013)에 의해 정의되는 비표시 영역(I/A)에 대응하여 위치할 수 있다. 이로써 전도성 패스(1024)는 전도층(1023)의 일측 표면에 직접 접하면서 비표시 영역(I/A)에 위치하며, 표시 영역(I/A)을 둘러싸는 링 형태일 수 있다.
터치 신호 간섭을 유발하는, 기생 캐새피턴스에 의한 상부 기판(1011)의 배면 또는 하부 기판(1021)의 배면에 유도된 정전기 등을 제거하기 위하여 전도층(1023)을 상부 기판(1011)의 배면 또는 하부 기판(1021)의 배면에 직접 접하도록 형성하고 전도층(1023)을 접지(Grounding)한다. 이 때, 전도층(1023)은 상부 기판(1011) 및 하부 기판(1021)의 전체 면에 대응하여 차폐 작용을 하여야 하므로, 전도층(1023)의 전체 면 역시 투명해야 하는데, 이는 전도층(1023)을 구성하는 물질로 전도성이 우수한 물질을 채택하는 데 제약 조건이 된다. 따라서 전도층(1023) 전체 면에서 보다 원활하게 노이즈가 제거될 수 있도록 하기 위하여 전도층(1023)의 일측 표면에 직접 접하고, 전도층(1023)보다 면저항 값이 더 작은 전도성 패스(1024)를 형성하고, 전도성 패스(1024)의 일측에 위치하는 적어도 하나의 돌출 커넥터부를 통해서 전도성 패스(1024)를 접지(Grounding)한다. 상부 기판(1011)의 배면 또는 하부 기판(1021)의 배면에 유도된 정전기가 전도층(1023)과 전도성 패스(1024)를 통하여 방전되는 메커니즘에 의해, 터치 신호의 간섭을 줄여 터치의 오작동을 최소한으로 방지할 수 있다.
<마스크를 이용한 표시 패널의 제조 방법>
본 발명의 실시예에 따른 마스크를 이용한 표시 패널의 제조 방법은, 본 발명의 실시예에 따른 마스크가, 표시 영역 및 표시 영역 주변에 위치하는 비표시 영역이 정의된 기판과 이격하여 위치하도록 마스크 또는 기판을 이동하는 단계와, 전도성 물질로 구성되는 타겟을 스퍼터링 함으로써 일체형 루프 형상의 전도성 패스를 상기 기판에 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명의 실시예에 따른 마스크를 이용한 표시 패널의 제조 방법은, 마스크 또는 기판을 이동하는 단계는, 중앙 쉴드부를 표시 영역에 얼라인(Align)하고, 오픈 영역 및 외곽 쉴드부를 표시 영역에 얼라인하는 단계를 더 포함한다. 또한, 전도성 패스를 기판에 형성하는 단계는, 제1 부분 및 제2 부분을 동시에 형성하는 단계이며, 제2 부분은 디퓨전 영역에 대응하는 기판 영역에 형성된다.
본 발명의 실시예에 따른 마스크를 이용한 표시 패널의 제조 방법은, 전도층이 상기 기판에 형성되는 단계를 더 포함한다. 전도층이 전도성 패스보다 먼저 형성될 수도 있고, 전도성 패스가 전도층보다 먼저 형성될 수도 있다. 이 때, 전도층의 일측 표면과 전도성 패스의 일측 표면이 직접적으로 접촉한다. 이 때, 전도층은 투명하며, 산화 인듐, 산화 주석, 산화 아연, 인듐-주석 산화물, 인듐-아연 산화물, 주석-안티몬 산화물, 그래핀(Graffin), 탄소 나노 튜브(Carbon Nano Tube), 은 나노 파티클(Ag Nano Particle), 은 나노 와이어(Ag Nano Wire), 금속 박막 메시(Thin Metal Mesh)중에서 선택되는 어느 하나로 형성될 수 있다. 이러한 물질들을 타겟 삼아, 스퍼터링 함으로써 전도층이 형성될 수 있다. 한편, 전도성 패스는 금속 또는 금속 합금 타겟을 스퍼터링 함으로써 형성될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 표시 패널이 제공된다. 표시 영역, 상기 표시 영역 주변에 위치하는 비표시 영역 및, 상기 비표시 영역에 위치하는 일체형의 루프(loop) 형상의 전도성 패스를 포함하고, 상기 전도성 패스는 표면 특성이 서로 다르고, 동일한 전도성 물질로 이루어진 제1 부분과 제2 부분을 포함한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 제2 부분의 면저항이 상기 제1 부분의 면저항보다 더 큰 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 전도성 패스에서 상기 제1 부분이 차지하는 부분이, 상기 전도성 패스에서 상기 제2 부분이 차지하는 부분보다 더 큰 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 제1 부분을 구성하는 물질과 상기 제2 부분을 구성하는 물질이 동일한 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 제2 부분의 표면 조도가 상기 제1 부분의 표면 조도보다 더 큰 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 전도성 패스의 진행 방향에 수직으로 자른 상기 제2 부분의 단면의 폭이, 상기 전도성 패스의 진행방향에 수직으로 자른 상기 제1 부분의 단면의 폭과 같거나 그보다 작은 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 전도성 패스가 상기 표시 영역을 둘러싸는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 전도성 패스가 일 측면에 적어도 하나의 돌출 커넥터부를 가지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 전도성 패스가 일 측면에 적어도 하나의 돌출 커넥터부를 가지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 표시 영역과 상기 비표시 영역에 위치하는 전도층을 더 포함하고, 상기 전도성 패스는 상기 전도층의 일 표면에 접하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 전도층이 투명하며, 산화 인듐, 산화 주석, 산화 아연, 인듐-주석 산화물, 인듐-아연 산화물, 주석-안티몬 산화물, 그래핀(Graffin), 탄소 나노 튜브(Carbon Nano Tube), 은 나노 파티클(Ag Nano Particle), 은 나노 와이어(Ag Nano Wire), 금속 박막 메시(Thin Metal Mesh)중에서 선택되는 어느 하나로 구성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 전도층이 신호 간섭 쉴드층이고, 상기 전도층 및 상기 전도성 패스는 접지된 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 전도성 패스가 금속 또는 금속 합금으로 구성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시예에 따른 마스크가 제공된다. 중앙 쉴드부, 외곽 쉴드부, 상기 중앙 쉴드부와 상기 외곽 쉴드부를 연결하고, 상기 중앙 쉴드부의 일측 표면 및 상기 외곽 쉴드부의 일측 표면과 다른 평면 상에 존재하는 일측 표면을 가지는 지지부, 및 상기 중앙 쉴드부와 상기 외곽 쉴드부 사이의 이격 공간인 오픈 영역을 포함하고, 상기 오픈 영역은, 하나의 연속적인 공간이며, 상기 지지부에 대응하는 디퓨전 영역을 포함한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 중앙 쉴드부가 마스크의 일측 표면에서 바라보았을 때 고립된 아일랜드 형상인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 중앙 쉴드부가 상기 오픈 영역에 의해 둘러싸이고, 상기 외곽 쉴드부는 상기 오픈 영역을 둘러싸는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 중앙 쉴드부가 상기 오픈 영역에 의해 폐쇄적으로 구획되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 중앙 쉴드부가 상기 오픈 영역에 의해 폐쇄적으로 구획되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 지지부가 상기 중앙 쉴드부의 일측 표면 및 상기 외곽 쉴드부의 일측 표면과 단차를 구성하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 중앙 쉴드부 및 상기 외곽 쉴드부가 전 영역에서 두께가 균일하지 않은 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 지지부가 서로 대향하는 상기 중앙 쉴드부의 일측 측면 및 상기 외곽 쉴드부의 타측 측면과 연결된 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 지지부의 두께 및 상기 디퓨전 영역의 두께의 합이 상기 중앙 쉴드부의 측면의 두께 및 상기 외곽 쉴드부의 측면의 두께 이하인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 지지부의 두께가 상기 디퓨전 영역의 두께보다 얇은 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 지지부가, 상기 중앙 쉴드부의 일측 표면 및 상기 외곽 쉴드부의 일측 표면과 다른 평면 상에 존재하는 일 표면을 가지고, 상기 중앙 쉴드부의 타측 표면 및 상기 외곽 쉴드부의 타측 표면과 같은 평면 상에 존재하는 타측 표면을 가지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 지지부의 두께 및 상기 디퓨전 영역의 두께의 합이 상기 중앙 쉴드부의 측면의 두께 및 상기 외곽 쉴드부의 측면의 두께보다 두꺼운 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 지지부의 두께가 상기 디퓨전 영역의 두께보다 두꺼운 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널은 상기 지지부가 적어도 두 개 이상인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시예에 따른 표시 패널의 제조 방법이 제공된다. 본 발명의 실시에에 따른 마스크가, 표시 영역 및 표시 영역 주변에 위치하는 비표시 영역이 정의된 기판과 이격하여 위치하도록, 상기 마스크 또는 상기 기판을 이동하는 단계, 및 전도성 물질로 구성되는 타겟을 스퍼터링 함으로써 일체형 루프 형상의 전도성 패스를 상기 기판에 형성하 단계를 포함한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널의 제조 방법은 상기 마스크 또는 상기 기판을 이동하는 단계가, 상기 중앙 쉴드부를 상기 표시 영역에 얼라인하고, 상기 오픈 영역 및 상기 외곽 쉴드부를 상기 비표시 영역에 얼라인하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널의 제조 방법은 상기 전도성 패스를 상기 기판에 형성하는 단계가, 상기 제1 부분 및 상기 제2 부분을 동시에 형성하는 단계이며, 상기 디퓨전 영역에 대응하는 상기 기판 영역에, 상기 제2 부분을 형성하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널의 제조 방법은 상기 전도층이 상기 기판에 형성되는 단계를 더 포함하고, 상기 전도층의 일측 표면과 상기 전도성 패스의 일측 표면이 직접적으로 접촉하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널의 제조 방법은 상기 전도층이 투명하며, 산화 인듐, 산화 주석, 산화 아연, 인듐-주석 산화물, 인듐-아연 산화물, 주석-안티몬 산화물, 그래핀(Graffin), 탄소 나노 튜브(Carbon Nano Tube), 은 나노 파티클(Ag Nano Particle), 은 나노 와이어(Ag Nano Wire), 금속 박막 메시(Thin Metal Mesh)중에서 선택되는 어느 하나로 구성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 표시 패널의 제조 방법은 상기 전도성 패스를 상기 기판에 형성하는 단계가, 금속 또는 금속 합금 타겟을 스퍼터링 하는 단계인 것을 특징으로 한다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 더욱 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형 실시될 수 있다.
따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예들에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다.
그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이지 않은 것으로 이해해야만 한다.
본 발명의 보호 범위는 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범상에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
100: 마스크
110: 오픈 영역
120: 중앙 쉴드부
130: 외곽 쉴드부

Claims (31)

  1. 표시 영역;
    상기 표시 영역 주변에 위치하는 비표시 영역;
    상기 표시 영역과 상기 비표시 영역에 배치되는 하부 기판;
    상기 하부 기판 상에 배치된 TFT 소자층;
    상기 TFT 소자층 상부, 하부 또는 상기 TFT 소자층에 위치하는 터치 센서;
    상기 표시 영역과 상기 비표시 영역에 위치하는 투명한 전도층; 및
    상기 비표시 영역에 위치하고, 상기 전도층의 일 표면에 접하는 일체형의 루프(loop) 형상의 전도성 패스를 포함하고,
    상기 전도성 패스는 표면 특성이 서로 다르고, 동일한 전도성 물질로 이루어진 제1 부분과 제2 부분을 포함하는
    표시패널.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제2 부분의 면저항이 상기 제1 부분의 면저항보다 더 큰
    표시패널.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 전도성 패스에서 상기 제1 부분이 차지하는 부분이, 상기 전도성 패스에서 상기 제2 부분이 차지하는 부분보다 더 큰
    표시패널.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제1 부분을 구성하는 물질과 상기 제2 부분을 구성하는 물질이 동일한
    표시패널.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제2 부분의 표면 조도는 상기 제1 부분의 표면 조도보다 더 큰
    표시패널.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 전도성 패스의 진행 방향에 수직으로 자른 상기 제2 부분의 단면의 폭은, 상기 전도성 패스의 진행방향에 수직으로 자른 상기 제1 부분의 단면의 폭과 같거나 그보다 작은
    표시패널.
  7. 삭제
  8. 제1항에 있어서,
    상기 전도성 패스는 일 측면에 적어도 하나의 돌출 커넥터부를 가지는
    표시패널.
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 제1항에 있어서,
    상기 전도층은 신호 간섭 쉴드층이고,
    상기 전도층 및 상기 전도성 패스는 접지된
    표시패널.
  12. 삭제
  13. 중앙 쉴드부;
    외곽 쉴드부;
    상기 중앙 쉴드부와 상기 외곽 쉴드부를 연결하고, 상기 중앙 쉴드부의 일측 표면 및 상기 외곽 쉴드부의 일측 표면과 다른 평면 상에 존재하는 일측 표면을 가지는 지지부; 및
    상기 중앙 쉴드부와 상기 외곽 쉴드부 사이의 이격 공간인 오픈 영역;을 포함하고,
    상기 오픈 영역은, 하나의 연속적인 공간이며, 상기 지지부에 대응하는 디퓨전 영역을 포함하는
    마스크.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 중앙 쉴드부는 마스크의 일측 표면에서 바라보았을 때에는 고립된 아일랜드 형상인
    마스크.
  15. 제13항에 있어서,
    상기 중앙 쉴드부는 상기 오픈 영역에 의해 둘러싸이고,
    상기 외곽 쉴드부는 상기 오픈 영역을 둘러싸는
    마스크.
  16. 제13항에 있어서,
    상기 중앙 쉴드부는 상기 오픈 영역에 의해 폐쇄적으로 구획되는
    마스크.
  17. 제13항에 있어서,
    상기 지지부는 상기 중앙 쉴드부의 일측 표면 및 상기 외곽 쉴드부의 일측 표면과 단차를 구성하는
    마스크.
  18. 삭제
  19. 제13항에 있어서,
    상기 지지부는 서로 대향하는 상기 중앙 쉴드부의 일측 측면 및 상기 외곽 쉴드부의 타측 측면과 연결된
    마스크.
  20. 제19항에 있어서,
    상기 지지부의 두께 및 상기 디퓨전 영역의 두께의 합은 상기 중앙 쉴드부의 측면의 두께 및 상기 외곽 쉴드부의 측면의 두께 이하인
    마스크.
  21. 제20항에 있어서,
    상기 지지부의 두께는 상기 디퓨전 영역의 두께보다 얇은
    마스크.
  22. 제20항에 있어서,
    상기 지지부는 상기 중앙 쉴드부의 일측 표면 및 상기 외곽 쉴드부의 일측 표면과 다른 평면 상에 존재하는 일 표면을 가지고, 상기 중앙 쉴드부의 타측 표면 및 상기 외곽 쉴드부의 타측 표면과 같은 평면 상에 존재하는 타측 표면을 가지는
    마스크.
  23. 제19항에 있어서,
    상기 지지부의 두께 및 상기 디퓨전 영역의 두께의 합은 상기 중앙 쉴드부의 측면의 두께 및 상기 외곽 쉴드부의 측면의 두께보다 두꺼운
    마스크.
  24. 제15항에 있어서,
    상기 지지부의 두께는 상기 디퓨전 영역의 두께보다 두꺼운
    마스크.
  25. 삭제
  26. 제13항 내지 제17항 또는 제19항 내지 제24항 중 어느 한 항에 기재된 마스크가, 표시 영역 및 표시 영역 주변에 위치하는 비표시 영역이 정의된 기판과 이격하여 위치하도록, 상기 마스크 또는 상기 기판을 이동하는 단계; 및
    전도성 물질로 구성되는 타겟을 스퍼터링 함으로써 일체형 루프 형상의 전도성 패스를 상기 기판에 형성하는 단계;를 포함하는
    표시 패널의 제조 방법.
  27. 제26항에 있어서,
    상기 마스크 또는 상기 기판을 이동하는 단계는,
    상기 중앙 쉴드부를 상기 표시 영역에 얼라인하고, 상기 오픈 영역 및 상기 외곽 쉴드부를 상기 비표시 영역에 얼라인하는 단계를 더 포함하는
    표시 패널의 제조 방법.
  28. 제26항에 있어서,
    상기 전도성 패스는 표면 특성이 다르고, 동일한 전도성 물질로 이루어진 제1 부분과 제2 부분을 포함하고,
    상기 전도성 패스를 상기 기판에 형성하는 단계는,
    상기 제1 부분 및 상기 제2 부분을 동시에 형성하는 단계이며,
    상기 디퓨전 영역에 대응하는 상기 기판 영역에, 상기 제2 부분을 형성하는
    표시 패널의 제조 방법.
  29. 삭제
  30. 삭제
  31. 삭제
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