KR102261236B1 - 격벽 패턴 필름 및 이의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 출원의 일 실시상태에 따른 격벽 패턴 필름은, 투명 기판; 상기 투명 기판 상에 구비된 제1 전극층; 상기 제1 전극층 상에 구비된 격벽 패턴; 및 상기 격벽 패턴의 상부면의 전체와 측면의 적어도 일부에 구비된 제2 전극층 패턴을 포함한다.

Description

격벽 패턴 필름 및 이의 제조방법{PARTITION WALL PATTERN FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THEREOF}
본 출원은 격벽 패턴 필름 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
전기영동식 투과도 가변 필름은 외부에서 유입되는 빛의 투과와 차단이 용이하여, 건축용 스마트 윈도우, 자동차용 선루프 및 투명 디스플레이의 차광필름으로 활용될 수 있다.
하기 도 1은 종래기술로서 차광 모드와 투과 모드에서 구동되는 전기영동식 투과도 가변 필름의 구동원리를 나타내는 도면이다.
하기 도 1에 있어서, 일반적으로 차광 모드에서 투과 모드로 변환하기 위해서는 금속 전극 패턴에 양전압을 인가하여 상대적으로 전극 폭이 좁은 금속 전극 패턴에 음전하를 띠는 나노 입자들을 집중시킴으로써 투과 모드로 변환될 수 있다.
그러나, 전기영동 방식의 투과도 가변필름에 있어서 금속 전극 패턴 및 투명 기판 간의 거리를 유지하기 위해 사용하는 볼 스페이스로 인하여 시인성이 증가되는 문제가 발생한다.
일본 특허공개공보 제2007-248932호 대한민국 특허공개공보 10-2015-0015618
본 출원은 격벽 패턴 필름 및 이의 제조방법을 제공하고자 한다.
본 출원의 일 실시상태는,
투명 기판;
상기 투명 기판 상에 구비된 제1 전극층;
상기 제1 전극층 상에 구비된 격벽 패턴; 및
상기 격벽 패턴의 상부면의 전체와 측면의 적어도 일부에 구비된 제2 전극층 패턴
을 포함하는 격벽 패턴 필름을 제공한다.
또한, 본 출원의 다른 실시상태는,
제1 투명 기판 상에 제1 전극층을 형성하는 단계;
상기 제1 전극층 상에 격벽 패턴을 형성하는 단계; 및
상기 격벽 패턴의 상부면의 전체와 측면의 적어도 일부에 제2 전극층 패턴을 형성하는 단계
를 포함하는 격벽 패턴 필름의 제조방법을 제공한다.
또한, 본 출원의 다른 실시상태는, 상기 격벽 패턴 필름을 포함하는 투과도 가변 필름을 제공한다.
본 출원의 일 실시상태에 따르면, 격벽 패턴의 상부면의 전체와 측면의 적어도 일부에 제2 전극층 패턴을 포함함으로써, 종래에 적용되던 별도의 메탈메쉬 전극 필름을 배제할 수 있다. 이에 따라, 제조공정 비용을 절감할 수 있고, 격벽 패턴에 1:1 대응되는 제2 전극층 패턴이 구비됨에 따라 메탈메쉬 전극 필름 적용에 따른 투과도 가변범위 감소, 헤이즈(haze) 증가 현상 등을 방지할 수 있다.
또한, 종래의 격벽 패턴을 포함하는 투과도 가변 필름의 경우에는, 차광 모드에서 격벽 패턴에서의 빛샘 현상이 발생하나, 본 출원의 일 실시상태에 따른 격벽 패턴 필름을 포함하는 투과도 가변 필름에서는 격벽 패턴의 상부면에 구비된 제2 전극층 패턴이 차광층 역할을 수행할 수 있으므로 빛샘 현상을 방지할 수 있다.
또한, 종래의 격벽 패턴을 포함하는 투과도 가변 필름의 경우에는, 두 장의 전극 필름에 각각 전극 절연층 코팅이 필요하였으나, 본 출원의 일 실시상태에 따른 격벽 패턴 필름을 포함하는 투과도 가변 필름은 1회의 전극 절연층 코팅이 적용될 수 있으므로, 제조공정을 간소화할 수 있다.
도 1은 종래의 투과도 가변 필름을 개략적으로 나타낸 도이다.
도 2는 본 출원의 일 실시상태에 따른 격벽 패턴 필름을 개략적으로 나타낸 도이다.
도 3은 본 출원의 일 실시상태에 따른 격벽 패턴 필름의 제조방법을 개략적으로 나타낸 도이다.
도 4는 종래의 투과도 가변 필름의 제조방법을 개략적으로 나타낸 도이다.
도 5는 본 출원의 일 실시상태에 따른 투과도 가변 필름의 제조방법을 개략적으로 나타낸 도이다.
도 6은 본 출원의 실시예 1에 따른 격벽 패턴 필름의 SEM 이미지를 나타낸 도이다.
도 7은 본 출원의 비교예 1에 따른 격벽 패턴 필름의 SEM 이미지를 나타낸 도이다.
이하 본 출원에 대하여 상세히 설명한다.
본 출원에 있어서, "투명"은 가시광선 영역(400nm 내지 700nm)에서 약 80% 이상의 투과율 특성을 갖는 것을 의미하기로 한다.
통상적으로, 전기 영동 방식의 투과도 가변 필름을 제조하기 위해서는 투명전극 필름과 금속 패턴 전극 필름의 사용이 필수적이다. 또한, 2장의 전극 필름 사이에 (-) 대전된 카본블랙 입자 분산용액과 같은 전기영동물질을 주액하기 위해서는 셀 갭(cell gap) 유지가 필요하며, 이를 위하여 볼 스페이서, 컬럼 스페이서 패턴 또는 격벽 패턴의 구비가 요구되었다. 종래의 투과도 가변 필름을 하기 도 1에 개략적으로 나타내었다.
또한, 종래에는 메탈메쉬 전극 패턴과 격벽 패턴을 동시에 적용함에 따라, 투과도 가변 영역이 감소하고 광 산란 현상이 증가하여 헤이즈가 높아지는 문제가 발생하였다.
이에, 본 출원에서는 전술한 문제점 등을 해결할 수 있는 격벽 패턴 필름 및 이의 제조방법을 제공하고자 한다.
본 출원의 일 실시상태에 따른 격벽 패턴 필름은, 투명 기판; 상기 투명 기판 상에 구비된 제1 전극층; 상기 제1 전극층 상에 구비된 격벽 패턴; 및 상기 격벽 패턴의 상부면의 전체와 측면의 적어도 일부에 구비된 제2 전극층 패턴을 포함한다.
본 출원에 있어서, 상기 투명 기판은 투명성, 표면평활성, 취급용이성 및 방수성이 우수한 유리 기재 또는 투명 플라스틱 기재가 될 수 있으나, 이에 한정되지 않으며, 전자 소자에 통상적으로 사용되는 투명 기재이면 제한되지 않는다. 구체적으로, 상기 투명 기재로는 유리; 우레탄 수지; 폴리이미드 수지; 폴리에스테르수지; (메타)아크릴레이트계 고분자 수지; 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀계 수지 등으로 이루어진 것이 될 수 있다.
본 출원에 있어서, 상기 제1 전극층은 투명 전도성 산화물을 포함하고, 상기 제2 전극층 패턴은 금속 또는 금속합금을 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 제1 전극층은 인듐 산화물, 아연 산화물, 인듐주석 산화물, 인듐아연 산화물 및 인듐아연주석 산화물 중 1종 이상을 포함할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다. 또한, 상기 제2 전극층 패턴은 금, 은, 알루미늄, 구리, 네오디뮴, 몰리브덴, 니켈 또는 이들의 합금을 포함할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 출원에 있어서, 상기 격벽 패턴의 선고는 5㎛ 이상일 수 있고, 선폭은 30㎛ 이하일 수 있다. 또한, 상기 격벽 패턴의 선고는 5㎛ 내지 50㎛ 일 수 있고, 선폭은 5㎛ 내지 30㎛ 일 수 있다. 상기 격벽 패턴의 선고가 5㎛ 미만인 경우에는, 투명 전극과 금속 전극 패턴 기판과의 거리가 감소함에 따라 차광 모드에서 1% 이하의 투과도를 확보하기 위해서는 분산액 내에 (-) 대전된 나노 입자의 함량이 과도하게 증가되어 투과도 가변 소자 구동시 상기 (-) 대전된 나노 입자의 분산 특성이 저하되는 문제가 발생할 수 있다. 또한, 상기 격벽 패턴의 선고가 50㎛를 초과하는 경우에는 투명 전극과 금속 전극 패턴 기판과의 거리가 증가하여 구동속도가 저하될 수 있다. 상기 격벽 패턴의 선고에 따라서 전극 간 셀 갭(Cell Gap)이 결정될 수 있다. 보다 구체적으로, 셀 갭(Cell Gap)이 작을 경우, 차광 특성 확보를 위해서 차광 분산액의 농도가 상승할 수 있고, 과도한 대전 입자의 농도 상승은 분산 안정성을 저해할 수 있다. 또한, 셀 갭(Cell Gap)이 클 경우, 투명 전극과 금속 패턴 사이에서 형성되는 전기장의 세기가 감소하고 대전 입자와 금속 패턴의 거리가 증가함에 따라 전기 영동 특성(입자의 이동 속도)이 저하될 수 있다.
상기 격벽 패턴의 선간 간격은 100㎛ 내지 1,000㎛ 일 수 있다. 상기 격벽 패턴의 선간 간격이 100㎛ 미만인 경우에는 격벽 패턴 영역의 면적 증가로 인하여 투과도 가변 범위가 감소될 수 있으며, 상기 격벽 패턴의 선간 간격이 1,000㎛를 초과하는 경우에는 격벽 패턴 상부에 기재를 합지하는 과정에서 상부 기재의 처짐 현상이 발생할 수 있다. 이 경우, 제2 전극층 패턴을 형성하는 과정 중에 격벽 패턴 이외의 영역에 제2 전극층이 전사되거나 전기 영동 소자의 균일한 셀 갭 유지가 어려울 수 있다. 격벽 패턴이 존재하는 영역은 투과도 가변 현상이 일어나지 않으며, 따라서 동일 선폭에서 격벽 패턴의 선간 거리가 너무 가까울 경우에는 투과도 가변 영역의 면적이 감소하게 된다. 반대로 격벽 패턴의 선간 간격이 너무 클 경우에는 투명 전극 기판과 금속 패턴 기판을 합지하는 과정에서 기판(필름)의 변형이 발생함에 따라 기포 발생 및 Cell Gap의 균일성이 저하될 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 투과도 가변 범위의 확보를 위하여 격벽 패턴의 선간 거리를 증가시킬 경우, 격벽 패턴 중앙부에 추가의 dot 패턴을 도입할 수 있다. 이 경우, 투과도 가변 범위의 증가를 최소화하고 합지 공정 중 발생하는 기재 처짐 현상을 방지할 수 있다.
본 출원에 있어서, 상기 격벽 패턴은 UV 경화형 수지 조성물로부터 형성될 수 있고, 상기 UV 경화형 수지 조성물은 아크릴계 모노머, 아크릴계 올리고머 및 광개시제 중 1종 이상을 포함할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 출원에 있어서, 상기 격벽 패턴은 상기 제1 전극층 상에 UV 경화형 수지 조성물을 도포한 후, 선택적 노광 공정 및 현상 공정에 의하여 형성될 수 있다.
본 출원에 있어서, 상기 제2 전극층 패턴은 상기 격벽 패턴의 상부면의 전체와 측면의 적어도 일부에 구비된다.
종래의 격벽 패턴을 포함하는 투과도 가변 필름의 경우에는, 차광 모드에서 격벽 패턴에서의 빛샘 현상이 발생하나, 본 출원의 일 실시상태에 따른 격벽 패턴 필름을 포함하는 투과도 가변 필름에서는 격벽 패턴의 상부면에 구비된 제2 전극층 패턴이 차광층 역할을 수행할 수 있으므로 빛샘 현상을 방지할 수 있다.
상기 제2 전극층 패턴의 두께는 200nm 내지 2㎛ 일 수 있다. 상기 제2 전극층 패턴의 두께가 200nm 미만일 경우에는 전극층 패턴의 저항이 과도하게 증가하거나 차광특성이 저하될 수 있으며, 상기 제2 전극층 패턴의 두께가 2㎛를 초과하는 경우에는 격벽 패턴의 선폭이 증가하여 투과도 가변 범위가 저하되는 문제가 발생할 수 있다.
상기 제2 전극층 패턴은, 차광특성 및 전기적 연결을 위하여 상기 격벽 패턴의 상부면의 전체에 구비될 수 있다. 또한, 상기 제2 전극층 패턴은, 상기 격벽 패턴의 측면의 적어도 일부에 구비될 수 있다. 상기 격벽 패턴의 측면의 적어도 일부에 구비되는 제2 전극층 패턴의 영역은 상기 격벽 패턴 상부면에서 아래쪽으로 2㎛ 내지 (격벽 패턴의 선고 - 2㎛) 일 수 있다. 상기 격벽 패턴의 측면의 적어도 일부에 구비되는 제2 전극층 패턴의 영역이 상기 격벽 패턴 상부면에서 아래쪽으로 2㎛ 미만일 경우에는, 대전 입자를 집중시키기 위한 전극 패턴의 면적이 감소함에 따라 전기 영동 특성이 저하될 수 있다. 또한, 상기 격벽 패턴의 측면의 적어도 일부에 구비되는 제2 전극층 패턴의 영역이 상기 격벽 패턴 상부면에서 아래쪽으로 (격벽 패턴의 선고 - 2㎛)를 초과하는 경우에는 금속 마이그레이션 현상에 의하여 하부 제1 전극층과의 전기적 쇼트가 유발될 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 따른 격벽 패턴 필름을 하기 도 2에 개략적으로 나타내었다. 하기 도 2와 같이, 본 출원의 일 실시상태에 따른 격벽 패턴 필름은, 투명 기판(10); 상기 투명 기판(10) 상에 구비된 제1 전극층(20); 상기 제1 전극층(20) 상에 구비된 격벽 패턴(60); 및 상기 격벽 패턴(60)의 상부면의 전체와 측면의 적어도 일부에 구비된 제2 전극층 패턴(70)을 포함한다.
본 출원의 일 실시상태에 따르면, 격벽 패턴의 상부면의 전체와 측면의 적어도 일부에 제2 전극층 패턴을 포함함으로써, 종래에 적용되던 별도의 메탈메쉬 전극 필름을 배제할 수 있다. 이에 따라, 제조공정 비용을 절감할 수 있고, 격벽 패턴에 1:1 대응되는 제2 전극층 패턴이 구비됨에 따라 메탈메쉬 전극 필름 적용에 따른 투과도 가변범위 감소, 헤이즈(haze) 증가 현상 등을 방지할 수 있다.
본 출원에 있어서, 상기 격벽 패턴 필름 상에 전극 절연층을 추가로 포함할 수 있다. 종래의 격벽 패턴을 포함하는 투과도 가변 필름의 경우에는, 두 장의 전극 필름에 각각 전극 절연층 코팅이 필요하였으나, 본 출원의 일 실시상태에 따른 격벽 패턴 필름을 포함하는 투과도 가변 필름은 1회의 전극 절연층 코팅이 적용될 수 있으므로, 제조공정을 간소화할 수 있다.
상기 전극 절연층은 표면에너지가 20 dyne/cm 이내인 불소계 또는 실리콘계 UV 경화형 수지 조성물을 바(bar) 코팅, 슬롯다이 코팅 등을 이용하여 경화 후 100nm 두께로 형성할 수 있다. 상기 전극 절연층의 표면에너지가 20 dyne/cm를 초과할 경우, (-) 대전된 나노 입자가 전극 필름 표면에 흡착되어 투과 모드에서의 투과율이 저하될 수 있다.
또한, 본 출원의 일 실시상태에 따른 격벽 패턴 필름의 제조방법은, 제1 투명 기판 상에 제1 전극층을 형성하는 단계; 상기 제1 전극층 상에 격벽 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 격벽 패턴의 상부면의 전체와 측면의 적어도 일부에 제2 전극층 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.
본 출원의 일 실시상태에 따른 격벽 패턴 필름의 제조방법을 하기 도 3에 개략적으로 나타내었다. 하기 도 3과 같이, 본 출원의 일 실시상태에 따른 격벽 패턴 필름의 제조방법은, 제1 투명 기판(10) 상에 제1 전극층(20)을 형성하는 단계; 상기 제1 전극층(20) 상에 격벽 패턴(60)을 형성하는 단계; 및 상기 격벽 패턴(60)의 상부면의 전체와 측면의 적어도 일부에 제2 전극층 패턴(70)을 형성하는 단계를 포함한다.
본 출원에 있어서, 상기 제1 투명 기판 상에 제1 전극층을 형성하는 단계는 당 기술분야에 알려진 방법을 이용할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 제1 투명 기판 상에 제1 전극층을 형성하는 단계는 증착공정 등을 이용할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 제2 전극층 패턴을 형성하는 단계는, 제2 투명 기판 상에 제2 전극층을 형성하는 단계; 상기 제2 전극층과 상기 격벽 패턴이 서로 접촉하도록, 상기 제2 전극층이 형성된 제2 투명 기판을 상기 격벽 패턴이 형성된 제1 투명 기판과 라미네이션하여, 상기 격벽 패턴의 상부면의 전체와 측면의 적어도 일부에 제2 전극층 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 제2 전극층이 형성된 제2 투명 기판을 제거하고, 상기 격벽 패턴의 상부면의 전체와 측면의 적어도 일부에 형성된 제2 전극층 패턴을 소성하는 단계를 포함한다.
상기 제2 투명 기판 상에 제2 전극층을 형성하는 방법은 제2 투명 기판 상에 금속 또는 금속합금을 포함하는 페이스트를 코팅하는 방법을 이용할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
또한, 본 출원의 일 실시상태는 상기 격벽 패턴 필름을 포함하는 투과도 가변 필름을 제공한다.
본 출원의 일 실시상태에 따른 투과도 가변 필름은, 전술한 격벽 패턴 필름을 포함하는 것을 제외하고는 당 기술분야에 알려진 재료 및 방법을 이용하여 형성할 수 있다.
예컨대, 상기 투과도 가변 필름은 상기 격벽 패턴 필름 상에 제3 투명 기판이 구비될 수 있다. 상기 격벽 패턴 필름과 상기 제3 투명 기판 사이에는 (-) 대전된 나노 입자를 포함한다.
상기 (-) 대전된 나노 입자는 카본블랙 나노 입자일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 투과도 가변 필름은 전술한 바와 같은 투과도 가변 필름을 준비한 후, 상기 격벽 패턴 필름과 제3 투명 기판 사이에 (-) 대전된 나노 입자가 분산된 용액을 주입하는 방법 등을 이용하여 제조할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
종래의 투과도 가변 필름의 제조방법을 하기 도 4에 개략적으로 나타내었고, 본 출원의 일 실시상태에 따른 투과도 가변 필름의 제조방법을 하기 도 5에 개략적으로 나타내었다. 하기 도 4 및 도 5와 같이, 종래의 격벽 패턴을 포함하는 투과도 가변 필름의 경우에는, 두 장의 전극 필름에 각각 전극 절연층(100) 코팅이 필요하였으나, 본 출원의 일 실시상태에 따른 격벽 패턴 필름을 포함하는 투과도 가변 필름은 1회의 전극 절연층(100) 코팅이 적용될 수 있으므로, 제조공정을 간소화할 수 있다.
본 출원에 있어서, 상기 투과도 가변 필름은 전기 영동 방식으로 구동될 수 있다. 본 출원의 일 실시상태에 따른 투과도 가변 필름이 OFF 모드인 경우에는 투과도가 감소하며, 제1 전극층 및 제2 전극층 패턴에 전압이 인가된 ON 모드인 경우에는 전기 영동 현상에 의하여 (-) 대전된 나노 입자가 (+) 전극인 금속 패턴으로 밀집하여 투과도가 증가할 수 있다.
이하, 실시예를 통하여 본 명세서에 기재된 실시상태를 예시한다. 그러나, 이하의 실시예에 의하여 상기 실시상태들의 범위가 한정되는 것을 의도하는 것은 아니다.
< 실시예 >
< 실시예 1>
1) 투명 UV 경화형 수지 조성물의 제조
하기 표 1의 조성으로 투명 UV 경화형 수지 조성물을 제조하였다.
[표 1]
Figure 112018037940062-pat00001
2) 투명 격벽 패턴 필름의 제조
면저항이 150 Ω/sq인 ITO 필름 상부에 상기 투명 UV 경화형 수지 조성물을 도포한 후 포토 임프린팅 마스크를 압력 0.5MPa, 속도 0.1mpm으로 롤 프레싱하였다. 상기 적층체의 상부에서 365nm 파장의 UV 경화기를 이용하여 200 mJ/cm2의 노광에너지를 조사한 후 포토 임프린팅 몰드를 ITO 필름에서 분리하였다. 상기 노광된 ITO 필름을 현상액(LG화학, LSG-202)에 2분간 침지한 후 수세하여 투명 격벽 패턴이 구비되어 있는 ITO 필름을 제조하였다.
상기 포토임프린팅 공정을 통해 제조된 격벽 패턴의 선폭은 20㎛이고, 선고는 25㎛이며, 선간 거리는 500㎛ 였다.
3) 제2 전극층 패턴 형성
상기 투명 격벽 패턴 필름을 평활도가 우수한 석정반에 고정시켰다.
1mm 두께의 유리 기판 상부에 실버 잉크(잉크테크, TEC-PR-041)를 스핀코팅 방법을 이용하여 1㎛ 두께로 도포한 후 상기 고정된 투명 격벽 패턴 필름 상부와 상기 유리 기판의 실버 잉크 도포 면을 접촉시켰다. 별도의 압력 인가 없이 5분간 접촉 상태를 유지한 후 유리 기판을 제거하였다. 격벽 패턴 필름을 석정반에서 분리한 후 130℃에서 20분간 소성공정을 진행하여 실버 잉크를 소결하였다.
< 비교예 1>
상기 실시예 1에서 제2 전극층 패턴 형성 공정을 적용하지 않고 실시예 1과 동일하게 수행하였다.
본 출원의 실시예 1에 따른 격벽 패턴 필름의 SEM 이미지를 하기 도 6에 나타내었고, 본 출원의 비교예 1에 따른 격벽 패턴 필름의 SEM 이미지를 하기 도 7에 나타내었다.
상기 결과와 같이, 본 출원의 일 실시상태에 따르면, 격벽 패턴의 상부면의 전체와 측면의 적어도 일부에 제2 전극층 패턴을 포함함으로써, 종래에 적용되던 별도의 메탈메쉬 전극 필름을 배제할 수 있다. 이에 따라, 제조공정 비용을 절감할 수 있고, 격벽 패턴에 1:1 대응되는 제2 전극층 패턴이 구비됨에 따라 메탈메쉬 전극 필름 적용에 따른 투과도 가변범위 감소, 헤이즈(haze) 증가 현상 등을 방지할 수 있다.
또한, 종래의 격벽 패턴을 포함하는 투과도 가변 필름의 경우에는, 차광 모드에서 격벽 패턴에서의 빛샘 현상이 발생하나, 본 출원의 일 실시상태에 따른 격벽 패턴 필름을 포함하는 투과도 가변 필름에서는 격벽 패턴의 상부면에 구비된 제2 전극층 패턴이 차광층 역할을 수행할 수 있으므로 빛샘 현상을 방지할 수 있다.
또한, 종래의 격벽 패턴을 포함하는 투과도 가변 필름의 경우에는, 두 장의 전극 필름에 각각 전극 절연층 코팅이 필요하였으나, 본 출원의 일 실시상태에 따른 격벽 패턴 필름을 포함하는 투과도 가변 필름은 1회의 전극 절연층 코팅이 적용될 수 있으므로, 제조공정을 간소화할 수 있다.
10: 투명 기판
20: 제1 전극층
30: 제2 전극 패턴
40: (-) 대전 카본블랙 나노 입자
50: 볼 스페이서
60: 격벽 패턴
70: 제2 전극층 패턴
80: 투명 UV 레진
90: 제2 전극층
100: 전극 절연층

Claims (15)

  1. 투명 기판;
    상기 투명 기판 상에 구비된 제1 전극층;
    상기 제1 전극층 상에 구비된 격벽 패턴; 및
    상기 격벽 패턴의 상부면의 전체와 측면의 적어도 일부에 구비된 제2 전극층 패턴을 포함하고,
    상기 제2 전극층 패턴의 두께는 200nm 내지 2㎛ 이며,
    상기 격벽 패턴의 측면의 적어도 일부에 구비되는 제2 전극층 패턴의 영역은, 상기 격벽 패턴의 상부면에서 아래쪽으로 2㎛ 내지 (격벽 패턴의 선고 - 2㎛)인 것인 격벽 패턴 필름.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 제1 전극층은 투명 전도성 산화물을 포함하고, 상기 제2 전극층 패턴은 금속 또는 금속합금을 포함하는 것인 격벽 패턴 필름.
  3. 청구항 2에 있어서, 상기 제1 전극층은 인듐 산화물, 아연 산화물, 인듐주석 산화물, 인듐아연 산화물 및 인듐아연주석 산화물 중 1종 이상을 포함하는 것인 격벽 패턴 필름.
  4. 청구항 2에 있어서, 상기 제2 전극층 패턴은 금, 은, 알루미늄, 구리, 네오디뮴, 몰리브덴, 니켈 또는 이들의 합금을 포함하는 것인 격벽 패턴 필름.
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 격벽 패턴의 선고는 5㎛ 이상인 것인 격벽 패턴 필름.
  6. 청구항 1에 있어서, 상기 격벽 패턴의 선폭은 30㎛ 이하인 것인 격벽 패턴 필름.
  7. 청구항 1에 있어서, 상기 격벽 패턴의 선간 간격은 100㎛ 내지 1,000㎛ 인 것인 격벽 패턴 필름.
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 청구항 1에 있어서, 상기 격벽 패턴 필름 상에 전극 절연층을 추가로 포함하는 것인 격벽 패턴 필름.
  11. 제1 투명 기판 상에 제1 전극층을 형성하는 단계;
    상기 제1 전극층 상에 격벽 패턴을 형성하는 단계; 및
    상기 격벽 패턴의 상부면의 전체와 측면의 적어도 일부에 제2 전극층 패턴을 형성하는 단계를 포함하고,
    상기 제2 전극층 패턴의 두께는 200nm 내지 2㎛ 이며,
    상기 격벽 패턴의 측면의 적어도 일부에 구비되는 제2 전극층 패턴의 영역은, 상기 격벽 패턴의 상부면에서 아래쪽으로 2㎛ 내지 (격벽 패턴의 선고 - 2㎛) 이고,
    상기 제2 전극층 패턴을 형성하는 단계는,
    제2 투명 기판 상에 제2 전극층을 형성하는 단계;
    상기 제2 전극층과 상기 격벽 패턴이 서로 접촉하도록, 상기 제2 전극층이 형성된 제2 투명 기판을 상기 격벽 패턴이 형성된 제1 투명 기판과 라미네이션하여, 상기 격벽 패턴의 상부면의 전체와 측면의 적어도 일부에 제2 전극층 패턴을 형성하는 단계;
    상기 제2 전극층이 형성된 제2 투명 기판을 제거하고, 상기 격벽 패턴의 상부면의 전체와 측면의 적어도 일부에 형성된 제2 전극층 패턴을 소성하는 단계
    를 포함하는 것인 격벽 패턴 필름의 제조방법.
  12. 삭제
  13. 청구항 11에 있어서, 상기 제2 전극층 패턴을 형성하는 단계 이후에,
    상기 격벽 패턴 필름 상에 전극 절연층을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것인 격벽 패턴 필름의 제조방법.
  14. 청구항 1 내지 7, 및 10 중 어느 한 항의 격벽 패턴 필름을 포함하는 투과도 가변 필름.
  15. 청구항 14에 있어서, 상기 투과도 가변 필름은 전기 영동 방식으로 구동되는 것인 투과도 가변 필름.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003270674A (ja) * 2002-03-19 2003-09-25 Canon Inc 電気泳動表示素子
WO2005121886A1 (en) 2004-06-08 2005-12-22 Canon Kabushiki Kaisha Electrophoretic display apparatus and driving method thereof
JP2007121785A (ja) * 2005-10-28 2007-05-17 Canon Inc 電気泳動表示装置
US20070236777A1 (en) 2004-12-07 2007-10-11 Canon Kabushiki Kaisha Particle Movement-Type Display Device and Particle Movement-Type Display Apparatus
JP2013057875A (ja) * 2011-09-09 2013-03-28 Natoko Kk 電気泳動表示装置の電極の表面上に形成される塗膜

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4902108A (en) * 1986-03-31 1990-02-20 Gentex Corporation Single-compartment, self-erasing, solution-phase electrochromic devices, solutions for use therein, and uses thereof
JP2003005226A (ja) 2001-06-26 2003-01-08 Canon Inc 電気泳動表示装置
JP2006163038A (ja) * 2004-12-08 2006-06-22 Canon Inc 粒子移動型表示素子の製造方法
JP2007057723A (ja) 2005-08-23 2007-03-08 Canon Inc 粒子移動型表示装置
JP2007139913A (ja) 2005-11-15 2007-06-07 Canon Inc 画像表示装置
JP4710671B2 (ja) 2006-03-17 2011-06-29 ブラザー工業株式会社 電気泳動表示媒体およびその製造方法
KR101253211B1 (ko) * 2006-07-31 2013-04-16 삼성디스플레이 주식회사 전기영동 표시 장치 및 그 제조방법
US7808696B2 (en) * 2006-07-31 2010-10-05 Samsung Electronics Co., Ltd. Electrophoretic display device and fabrication thereof
JP5594069B2 (ja) 2010-11-05 2014-09-24 セイコーエプソン株式会社 電気泳動表示装置及び電子機器
KR101945535B1 (ko) * 2012-01-18 2019-02-08 리쿠아비스타 비.브이. 전기습윤 표시장치
KR20130040997A (ko) 2013-03-13 2013-04-24 주식회사 나노브릭 입자를 이용한 투과도 및 반사도 조절 방법 및 장치
KR101401117B1 (ko) 2013-03-19 2014-05-29 성균관대학교산학협력단 전기영동 디스플레이 장치 및 이의 제조 방법
KR102168213B1 (ko) 2013-07-31 2020-10-21 주식회사 나노브릭 전기영동 디스플레이의 광특성 향상을 위한 구동 방법
CN107430301B (zh) 2015-06-12 2021-02-05 株式会社Lg化学 显示元件
US9769592B2 (en) 2015-08-24 2017-09-19 Blackberry Limited Optimized short message transport
CN106873209B (zh) * 2015-09-30 2021-05-11 乐金显示有限公司 光控制装置、包括其的透明显示装置及其制造方法
KR101766192B1 (ko) 2015-11-10 2017-08-10 엘지디스플레이 주식회사 광 제어 장치, 그를 포함한 투명표시장치, 및 그의 제조방법
KR101795654B1 (ko) 2015-11-27 2017-11-08 엘지디스플레이 주식회사 광 제어 장치, 그를 포함한 투명표시장치, 및 그의 제조방법
CN105467713A (zh) 2016-02-03 2016-04-06 京东方科技集团股份有限公司 一种电泳显示装置、显示设备及显示方法
KR20180010485A (ko) 2016-07-21 2018-01-31 주식회사 엘지화학 투과도 가변 소자 및 이를 포함하는 스마트 윈도우

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003270674A (ja) * 2002-03-19 2003-09-25 Canon Inc 電気泳動表示素子
WO2005121886A1 (en) 2004-06-08 2005-12-22 Canon Kabushiki Kaisha Electrophoretic display apparatus and driving method thereof
US20070236777A1 (en) 2004-12-07 2007-10-11 Canon Kabushiki Kaisha Particle Movement-Type Display Device and Particle Movement-Type Display Apparatus
JP2007121785A (ja) * 2005-10-28 2007-05-17 Canon Inc 電気泳動表示装置
JP2013057875A (ja) * 2011-09-09 2013-03-28 Natoko Kk 電気泳動表示装置の電極の表面上に形成される塗膜

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