KR102212629B1 - 렌즈 오염 방지 장치 및 방법 - Google Patents

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Abstract

렌즈를 위한 방염 장치가 개시되고, 상기 장치는 제 1 장치(300) 및 상기 제 1 장치(300)에 연결된 제 2 장치(400)를 구비하며, 상기 제 1 장치(300)는 상기 제 2 장치(400)에 상대적으로 렌즈(100)에 더 근접하되, 상기 제 1 장치(300)는 보호층 가스를 출력하는데 이용되고, 오염된 렌즈(100)를 세척하고 렌즈의 재오염을 방지하는 보호층이 형성되도록 상기 보호층 가스는 노즐(330)을 통해 상기 렌즈(100)의 하면에 밀착하여 균일하게 흐르게 되며, 상기 제 2 장치(400)는 오염원에 근접한 가스를 제거하는데 이용되고, 상기 오염 가스는 소형 홀들(410)을 통해 환상형 공동(420)으로 들어가서 배기로(200)의 흡입력과 배출력을 통해 멀리 떨어진 환경으로 배출된다. 또한 렌즈 방염 방법이 개시된다. 노광 전에 제 1 장치(300)를 켜고 이후 제 2 장치(400)를 켠다. 노광 후 12시간 지나서, 제 2 장치(400)를 끌 수 있다. 이러한 장치 및 방법은, 포토레지스터의 유기물이 휘발하여 렌즈를 오염하는 문제를 더 잘 해결할 수 있고, 실장하기 간편하며, 서비스 수명이 길고, 비용이 낮으며, 신뢰성이 높고, 오염원이 대물 렌즈로 들어가지 않고 완전히 제거되도록 한다.

Description

렌즈 오염 방지 장치 및 방법
본 발명은 광학 기술분야에 관한 것으로서, 특히, 렌즈 방염(anti-contamination) 장치 및 방법에 관한 것이다.
리소그래피(lithography)는 반도체 제조시 매우 중요한 과정이다. 리소그래피는 실리콘 웨이퍼의 해당 층에 마스크 상의 일련의 칩 패턴들을 노광을 통해 전사하는 과정이다. 리소그래피는 대규모 집적 회로 제조에서 핵심 단계로 여겨진다. 반도체 제조에서 일련의 복잡하고 상당한 시간이 소요되는 리소그래피 과정은 주로 해당 리소그래피 기계에 의해 실시된다.
리소그래피 기계의 노광 과정에서, 실리콘 웨이퍼 일면의 포토레지스트에 있는 유기 용매는 가열 후 서서히 휘발되고, 휘발된 유기 물질이 대물 렌즈의 하면 상의 렌즈에 붙게 된다. 상기 부착물은 대물 렌즈의 광 투과성에 직접적인 영향을 미치고, 이후 제품의 촬상 품질에도 영향을 준다. 대물 렌즈의 하면상에 있는 마지막 렌즈는 실리콘 웨이퍼의 표면에 매우 근접하므로, 휘발되는 유기물이 쉽게 렌즈 표면에 붙게 된다.
도 1에 나타난 바와 같이, 기존의 리소그래피 기계들은 대부분 렌즈가 유기물로 오염되는 것을 방지하기 위해 대물 렌즈 보호막(102)을 대물 렌즈 하면의 렌즈 베이스(101) 상에 실장하는 방법을 이용한다. 그러나, 보호 필름에 따른 방염 장치 및 방법은 여전히 많은 결함을 가지고 있다. 우선, 보호막의 일반 서비스 수명이 투과된 광의 에너지에 의해 결정된다. 365nm 및 436nm의 자외선을 조사하는 정상적인 이용시에도, 보호막의 서비스 수명은 500000J/cm2의 에너지를 지탱할 뿐이고 교체 빈도가 한두 달에 한번이다. 둘째, 보호막이 매우 고가이다. 중국화 1500 위안인 각 보호막의 가격에 따라 계산하면, 일반적인 손실은 연간 중국화 9000 내지 18000 위안이다. 빈번한 교체로 인해 사용 비용이 증가한다. 또한, 실리콘 웨이퍼의 표면과 대물 렌즈의 하면과의 거리가 겨우 40mm이기 때문에, 교체 과정에서 쉽게 파열되는 보호막을 교체하는데 어려움이 있다. 또한, 상기 막이 상당히 얇아서 외부 압력이 변하면 보호막에 균열이 생기게 됨으로써, 현재 비정상적인 손상율이 최대 15%에 이른다. 보호막이 사용 중 부주의로 파손되는 경우, 이미징 과정을 실시하는 렌즈의 오염을 초래하고, 심각한 경우에는 이미징 과정이 실패한다. 보다 더 중요한 점은 실장 구조의 한계로 인해 보호막이 포토레지스트에서 휘발되는 유기물로 인한 렌즈 오염을 완전히 방지할 수 없다는 것이다. 심지어, 보호막은 휘발된 유기물의 제거를 완전히 보증하지 못하기 때문에, 전체 리소그래피 기계에는 대물 렌즈 공동(cavity) 내의 렌즈, 상면 렌즈, 실리콘 렌즈의 표면, 및 마스크 등과 같이 오염된 부분들이 존재할 수 있다. 리소그래피 기계는 고정밀 장비이므로 사용자에게 보다 심각한 손실을 초래할 수 있다.
따라서, 포토레지스트 막의 유기물이 휘발하여 렌즈를 오염시키는 것을 보다 잘 방지하는 장치 및/또는 방법이 요구된다.
본 출원의 일 목적은, 오염이 적절히 제어되지 않아 대물 렌즈 공동의 내부 부분이 오염되는 문제를 더 잘 해결하는 렌즈 방염 장치 및 방법을 제공하는 것이다.
상기 기술적인 문제를 해결하기 위해 본 발명은 렌즈를 위한 방염 장치를 제공한다. 상기 렌즈를 위한 방염 장치는 제 1 장치 및 상기 제 1 장치에 연결된 제 2 장치를 구비하고, 상기 제 1 장치는 상기 제 2 장치에 상대적으로 상기 렌즈에 더 근접하되, 상기 제 1 장치는, 상기 렌즈의 일면에 가스 커튼 보호층을 형성하기 위해 보호층 가스를 출력하도록 구성되고, 상기 제 2 장치는, 상기 보호층 가스 및/또는 오염 가스를 흡입하고 배출하도록 구성된다.
또는, 상기 렌즈 방염 장치에 있어서, 상기 렌즈 방염 장치는 배기로를 더 구비하고, 상기 제 1 장치 및 상기 제 2 장치는 상기 배기로에 각각 연결된다.
또는, 상기 렌즈 방염 장치에 있어서, 상기 배기로는 흡입력과 배출력에 연결된다.
또는, 상기 렌즈 방염 장치에 있어서, 상기 보호층 가스는 최대 99.999%이거나 이보다 높은 순도를 가지는 가스이다.
또는, 상기 렌즈 방염 장치에 있어서, 상기 제 1 장치는 밀폐 컨테이너를 구비한다.
또는, 상기 렌즈 방염 장치에 있어서, 상기 밀폐 컨테이너는 가스 유입구와 노즐을 구비하고, 상기 보호층 가스는 상기 가스 유입구를 통해 상기 밀폐 컨테이너로 들어가서 상기 노즐을 통해 출력된다.
또는, 상기 렌즈 방염 장치에 있어서, 상기 제 2 장치는 환상형 공동을 구비한다.
또는, 상기 렌즈 방염 장치에 있어서, 상기 환상형 공동의 하면은 복수 개의 소형 홀을 구비한다.
또는, 상기 렌즈 방염 장치에 있어서, 상기 소형 홀들 간의 거리들은 동일하다.
본 발명은 또한 렌즈를 위한 방염 방법을 제공하고, 상기 방법은, 상기 렌즈의 일면에 가스 커튼 보호층이 형성되도록, 상기 렌즈의 하면에 근접하는 위치에서 보호층 가스를 출력하는 1 단계 및 오염원에 근접하는 위치에서 상기 보호층 및/또는 오염 가스를 흡입하고 상기 보호층 가스 및/또는 상기 오염 가스를 상기 렌즈에서 떨어진 환경으로 배출하는 2 단계를 구비한다.
또는, 상기 렌즈 방염 방법에 있어서, 상기 렌즈는 리소그래피 기계의 렌즈이고, 1 단계에서, 상기 보호층 가스의 출력은 상기 리소그래피 기계의 노광 전과 노광 후에 지속적으로 수행된다.
또는, 상기 렌즈 방염 방법에 있어서, 상기 렌즈는 리소그래피 기계의 렌즈이고, 2 단계에서, 상기 보호층 가스 및/또는 상기 오염 가스의 흡입 및 배출은 상기 리소그래피 기계의 노광 전과 노광 후에 지속적으로 수행된다.
본 발명에 의해 제공되는 렌즈 방염 장치 및 방법에서, 렌즈의 오염을 방지하는 보호층을 형성하도록 보호층 가스를 렌즈에 근접하는 제 1 장치가 출력하고, 또한 보호층 가스는 오염된 렌즈로부터 오염 물질을 제거할 수도 있다. 렌즈에서 상당히 떨어진 제 2 장치에 의해, 오염원 근처의 가스를 제거하여, 오염 물질이 렌즈에서 멀리 떨어진 외부 환경으로 바로 배출될 수 있다. 또한, 리소그래피 기계의 정밀 부품을 보호할 수 있고, 리소그래피 기계의 노광 동작시, 두 개의 가스로가 개방되어 이중 보장 및 고 신뢰도를 확보할 수 있다.
도 1은 기존의 렌즈 방염 보호막을 도시한다.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 제 1 장치의 개략도이다.
도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 제 2 장치의 개략적인 단면도이다.
도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 제 2 장치의 개략도이다.
도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 제 1 장치 및 제 2 장치를 개략적으로 도시하는 분해 구조도이다.
도 6은 본 발명에 따른 제 1 장치, 제 2 장치 및 렌즈를 개략적으로 도시하는 조립도이다.
본 발명의 핵심 사상은, 기존 보호막의 사용상 어려움, 높은 비용 및 파손의 용이성, 적절하지 못한 오염 제어, 대물 렌즈 공동의 내부 부분의 오염이라는 문제를 해결하기 위해, 렌즈 방염 장치 및 방법을 제공하는 것이다. 본 발명은 종래 기술에 따른 방염 장치 및 방법과는 다르다. 렌즈 오염을 더 잘 해결하기 위해, 가스 순환 장치를 이용하여 오염원을 렌즈로부터 격리하고, 대물 렌즈의 구성요소로부터 오염원을 직접적으로 제거한다. 본 발명이 제공하는 렌즈 방염 장치 및 방법은 대물 렌즈의 하면 렌즈가 오염되는 것을 방지할 뿐만 아니라, 청결도에 대한 요구 조건이 있는 대물 렌즈의 내부 렌즈, 정렬 렌즈, 상면 렌즈, 실리콘 웨이퍼의 표면 및 마스크의 표면과 같은, 전체 리소그래피 기계에서 오염될 수 있는 부품들을 보호하기 위해 사용될 수도 있다. 본 발명의 설명에서는 대물 렌즈의 하면 렌즈를 위한 방염 장치 및 방법만 기술하지만, 관련 분야에서 보통의 지식을 가지는 당업자라면 본 발명의 기술적인 해결책으로부터 바람직한 장치와 방법을 추출할 수 있고 동일한 기술 효과를 얻기 위해 결합할 수 있음을 쉽게 이해할 수 있을 것이다.
상기 언급한 사상을 실현하기 위해, 본 발명은 렌즈 방염 장치 및 방법을 제공한다. 상기 렌즈 방염 장치는 보호층 가스를 출력하기 위한 제 1 장치와 오염원에 근접한 가스를 제거하기 위한 제 2 장치를 포함하고, 상기 렌즈 방염 방법은, 렌즈 하면에 근접하는 위치에서 보호층 가스를 출력하고, 오염원에 근접하는 위치에서 가스를 흡입하며, 상기 가스를 렌즈로부터 먼 환경으로 배출함으로써 렌즈 방염이라는 기술적 효과를 얻는다.
본 발명이 제공하는 렌즈 방염 장치 및 방법은 구체적인 실시예와 더불어 도면을 참조하여 하기에 더 설명할 것이다. 본 발명의 장점과 특징은 하기 설명과 청구범위에 따라 더 명확해질 것이다. 본 발명의 실시예들의 목적을 설명함에 있어 편의성과 명확성을 위해, 첨부 도면은 매우 간략화된 형태로 그리고 정확하지 않은 축척으로 제시됨을 유의해야 한다.
본 발명의 렌즈 방염 장치는 기본적으로 실리콘 웨이퍼와 대물 렌즈 사이에 배열된다. 설명의 편의상, 하기에서 "상부(top)" 또는 "상측(above)"은 렌즈의 축을 따라 대물 렌즈에 인접하는 일측을 나타내고, "하부(bottom)" 또는 "하측(below)"은 렌즈의 축을 따라 실리컨 웨이퍼에 근접하는 일측을 나타내며, "내부(inner side)" 또는 "내측(inner)"은 렌즈의 방사 방향으로 렌즈 중심에 근접하는 일축을 나타내며, "외부(outer side)" 또는 "외측"은 렌즈의 방사 방향으로 렌즈 중심에서 멀리 떨어진 일측을 나타낸다.
제 1 실시예
도 2, 3 및 4에 나타난 바와 같이, 본 실시예는 렌즈 방염 장치를 개시한다. 렌즈는 리소그래피 기계의 대물 렌즈의 렌즈이거나 현미경과 같은 다른 광학 장치의 렌즈일 수 있다. 오염 물질은 포토레지스트로부터 휘발하는 유기물일 수 있고, 이는 광 투과성에 영향을 주는 수증기, 먼지, 그리고 부유 미생물과 같은 공기 중의 불순물일 수 있다.
도 6을 참조하면, 본 실시예에서 개시하는 렌즈 방염 장치는 제 1 장치(300)와 제 1 장치에 연결된 제 2 장치(400)를 포함한다. 제 1 장치(300)는 렌즈(100)에 근접하고 제 2 장치(400)는 렌즈(100)에서 멀리 떨어져 있다. 여기서, 제 1 장치(300)는, 렌즈 표면 상에 가스 커튼 보호층을 형성하도록 보호층 가스를 출력하고, 오염된 렌즈를 세척하며, 렌즈의 재오염을 방지하기 위해, 가스가 보호층을 형성하게끔 할 수 있다. 제 2 장치(400)는 상기 언급한 보호층 가스 및/또는 오염 가스를 흡입하고 배출하며, 오염원에 인접하는 가스를 렌즈로부터 제거하기 위해 사용된다. 가스 보호층은, 고순도 질소나 다른 고순도 기체와 같이 적어도 99.999%인, 특정 요구 조건에 달하는 순도(purity)룰 가지는 가스일 수 있다.
본 실시예에서 개시하는 렌즈 방염 장치는 배기로(200)를 더 포함하고, 제 1 장치(300)와 제 2 장치(400)는 상기 배기로(200)에 각각 연결된다. 배기로(200)는 흡입력과 배출력이 제공된다. 배기로(200)는 외부 환경에서 제 1 장치(300)로 들어가는 가스나 애초 제 1 장치(300)에 존재하는 가스를 흡입하여 배출하기 위해 사용된다. 배기로(200)의 흡입력 및 배출력은 제 1 장치(300) 및/또는 제 2 장치(400)에 있는 가스가 외부 환경으로부터 제 1 장치(300) 및/또는 제 2 장치(400)를 거쳐 유입되어 유동하고 배기로(200)에 도달하여 역류하지 않고 배출되도록 하고, 또한 특정 유량(flow rate)을 유지하기에 충분할 정도임이 바람직하다. 배기로(200)는 두 개의 챔버를 형성하는데, 하나는 제 1 장치(300)와 소통되고 나머지 하나는 제 2 장치(40)와 소통된다. 제 1 장치(300)와 제 2 장치(400)와 소통하는 하나의 챔버가 형성될 수도 있다.
구체적으로, 제 1 장치(300)는 밀폐 컨테이너(320)를 포함한다. 밀폐 컨테이너(320)는 배기로(200)에서 떨어진, 렌즈(100)의 가장자리의 하면 일단에 위치한다. 밀폐 컨테이너(320)는 섹터-링(sector-ring) 가스 커튼 공동이며, 실질적으로 상부에서 하부로 배열되는 두 개의 섹터-링 면, 방사 방향으로 배열된 내측 원호면과 외측 원호면, 및 상기 섹터-링 면들과 내측/외측 원호면과 연결되는 두 개의 종단(end) 면을 포함한다. 밀폐 컨테이너(320)의 내경(즉, 내측 원호면에 해당하는 반경)은 렌즈(100)의 반경에 상응하고, 바람직하게 렌즈(100)의 반경과 동일하며, 외경(즉, 외측 원호면에 해당하는 반경)은 대물 렌즈 및/또는 다른 장치의 조립 관계에 영향을 주지 않아야 하고, 바람직하게 렌즈(100)의 반경 보다 2 내지 3cm 크다. 내측 원호면의 원호 길이는 렌즈(100) 원주의 1/2과 1/4 사이이고, 내측 원호면의 원호 길이는 렌즈(100) 원주의 1/3이 바람직하다. 밀폐 컨테이너(320)의 내측 원호면은 렌즈(100) 가장자리의 외측면과 밀착하게 배치되고, 밀폐 컨테이너(320)의 방사 방향은 렌즈(100)의 방사 향과 중복된다.
도 2에 나타난 바와 같이, 본 실시예에서 개시되는 렌즈 방염 장치에 있어서, 밀폐 컨테이너(320)는 가스 유입구(310)와 노즐(330)을 구비한다. 가스 유입구(310)는 거의 컨테이너(320)의 외측 원호면의 중심점에 위치하고 외측 원호면에 수직인 실린더이다. 가스 유입구(310)의 일단은 가스를 발생하는 장치에 연결되고, 가스 유입구(310)는 또한 외측 원호면에 수직인 직육면체 처럼 다른 형태를 가질 수도 있다. 노즐(330)은 밀폐 컨테이너(320)의 내측 원호면의 표면에 고르게 분포되고, 복수 개의 소형 홀로 구성된다. 노즐(330)의 형태는 다른 사용 조건하에서는 원이나 정사각형과 같이 다른 형태로 선정될 수 있고, 본 실시예에서, 상기 소형 홀들은 소형 원형 홀이라 볼 수 있다. 추가로, 노즐(330)의 수는 필요에 따라 선택할 수 있다. 보호층 가스가 렌즈(100)의 표면에 고르게 분포될 수 있도록 소형 홀 사이의 거리가 균일할 수 있다. 혹은 상기 거리가 균일하지 않을 수 있다. 예를 들면, 가운데의 가스 흐름 경로가 더 길기 때문에, 가운데의 보호층 가스 흐름이 더 강하도록, 가운데의 소형 홀들 사이의 거리가 더 작고 양측에 있는 소형 홀들 사이의 거리가 더 크다. 소형 홀들은, 주로 소형 홀들의 개수와 밀폐 컨테이너(320)의 내측 원호면의 높이(렌즈의 축을 따른 거리)에 따라, 하나 또는 복수 개의 행으로 배열될 수 있다. 배기로(200)의 흡입력과 배출력 때문에, 보호층 가스는 가스 유입구(310)로부터 흡입되어, 밀폐 컨테이너(320)를 통과하여 노즐(330)로부터 출력되고, 렌즈(100)의 하면을 통해 흐르고, 이후 배기로(200)를 따라 배출된다.
도 3 및 도 4에 나타난 바와 같이, 제 2 장치(400)는 환상형 공동(420)을 포함한다. 환상형 공동(420)의 내경은 렌즈(100)의 직경보다 작지 않으므로 렌즈(100)를 막지 않아 노광에 영향을 주지는 않는다. 환상형 공동(420)의 상면은 렌즈(100)의 하면의 가장자리와 제 1 장치(300)를 둘러싸고 렌즈(100)의 하면의 가장자리와 제 1 장치(300)에 근접해 있다. 환상형 공동(420)의 하면은 실리콘 웨이퍼(500)를 직접적으로 대면한다.
본 실시예에 의해 개시되는 렌즈 방염 장치에서, 환상형 공동(420)의 하면은 복수 개의 소형 홀(410)을 구비한다. 또한, 소형 홀(410) 사이의 거리는 동일하다. 소형 홀들은 원형이나 정사각형과 같은 형태를 가질 수 있다. 소형 홀의 개수는 가스 흐름의 크기와 오염물의 휘발 강도에 따라 선택할 수 있다. 오염원 주변에서 가스의 흡입 강도가 동일하도록 소형 홀 사이의 거리는 동일해야 한다. 주로 필요한 소형 홀의 수와 환상형 공동(420)의 폭에 따라, 상기 소형 홀들은 하나 혹은 복수 개의 행들로 배열될 수 있다. 배기로(200)의 흡입력과 배출력 때문에, 환상형 공동(420)의 하면과 직접적으로 대향하는 실리콘 웨이퍼(500) 상의 포토레지스트로부터 휘발하는 유기물 가스는 소형 홀들에 흡입되어 환상형 공동(420)으로 들어가서 그 이후 환상형 공동(420)을 통해 흐르고 바로 배기로(200)에 도달하여 렌즈(100)에서 멀리 떨어진 외부 환경으로 배출된다.
제 2 실시예
도 5 및 도 6에 나타난 바와 같이, 제 2 실시예와 제 1 실시예 사이의 주요 차이점은 제 1 장치(300)와 제 2 장치(400)가 통합적으로 형성되어 하나의 통합체를 이룰 수 있다는 점이다. 예를 들면, 통합된 제 1 장치와 제 2 장치는, 환상형 분리판(60) (바람직하게는, 환상형 박판(annular thin plate))의 상면과 하면 각각에 볼록 콘테이너를 형성하여 제조할 수 있다. 분리판(600)의 상면은 밀폐 컨테이너(320)를 형성하는데 이용될 수 있다. 밀폐 컨테이너(320)는 섹터-링 형태이고 원호 길이는 분리판(600) 원주의 약 1/2이다. 상기 값은 분리판(600) 원주의 1/4과 1/2 사이에 있다. 밀폐 컨테이너(320)의 내경과 외경은 분리판(600)의 내경과 외졍과 같다. 분리판(600)의 하면은 환상형 공동(420)을 형성하는데 이용될 수 있다. 환상형 공동(420)은 완전한 링 형태이고 내경 및 외경이 분리판의 내경 및 외경과 같다.
본 실시예에서, 가스로의 경로, 방향, 공기 역학적 힘과 발생 모드 뿐만 아니라, 배기로(200), 가스 유입구(310), 소형 홀(410), 및 노즐(330)의 형태, 위치 관계와 기능은 앞선 실시예의 그것과 동일하거나 유사하며, 이는 본 실시예에서 상세히 설명하지 않는다. 세부 사항을 위해서는 이전 실시예의 설명을 참조할 수 있다.
요약하면, 렌즈(100) 방염 장치에 대한 서로 다른 구성을 앞서 언급한 실시예에서 상세히 설명하였다. 물론 본 발명은 상기 실시예에서 거론되는 구성들을 포함하지만 이에 한정되지 않는다. 상기 실시예들에서 제공하는 구성들을 토대로 한 변경 내용은 본 발명에 의해 보호되는 범위에 속한다. 관련 분야의 당업자는 상기 실시예들의 내용으로부터 추론할 수 있다.
제 3 실시예
본 발명은 렌즈 방염 방법을 더 제공하는 바, 상기 방법은,
렌즈 하면에 근접하는 위치에서 보호층 가스를 출력하고, 가스 커튼 보호층은 상기 렌즈의 상기 표면에 형성되는 1 단계; 및
오염원에 근접한 위치에서 상기 보호층 가스 및/또는 오염 가스를 흡입하고, 상기 가스를 렌즈에서 멀리 떨어진 환경으로 배출하는 2 단계를 포함한다.
또한 1 단계에서, 보호층 가스의 출력은 리소그래피 기계의 노광 전과 노광 후에 계속 수행된다.
또한 2 단계에서, 보호층 가스 및/또는 오염 가스의 흡입 및 배출은 리소그래피 기계의 노광 전과 노광 후에 계속 수행된다.
비용과 에너지 소비를 절감하기 위해, 오염 가스의 흡입 및 배출 통로는 리소그래피 기계의 노광 12 시간 후에 닫힌다. 공기 중의 다른 오염 물질과 불순물로 렌즈(100)가 오염되는 것을 방지하도록, 보호층 가스를 지속적으로 공급하여 계속적인 보호층을 형성할 수 있다.
이 때, 보호층 가스 흐름 통로는 제 1 장치(300)와 배기로(200)를 경로로 취하고, 경로 방향은 가스 유입구(310)에서 밀폐 컨테이너(320), 노즐(330), 렌즈(100)의 하면, 배기로(200), 그리고 나서 외부 환경으로 이어진다. 오염 가스의 흡입과 배출 통로는 제 2 장치(400)와 배기로(200)를 경로로 취하고, 경로 방향은 소형 홀(410)에서 환상형 챔버(420), 배기로(200), 그리고 나서 외부 환경으로 이어진다. 보호층 가스는 최대 99.999% 또는 이 보다 높은 순도를 가지는 가스이다.
상기 설명은 본 발명의 범위를 한정하는 것이 아니라, 단지 본 발명의 바람직한 실시예들의 설명일 뿐이다. 상기 개시된 내용에 따라 관련 분야의 당업자에 의해 실시하는 어떠한 변경이나 수정도 청구 범위의 보호 범위에 속한다.
100: 렌즈 101: 렌즈 시트(seat)
102: 보호막 200: 배기로(exhaust passage)
300: 제 1 장치 310: 가스 유입구
320: 밀폐 컨테이너(closed container) 330: 노즐
400: 제 2 장치 410: 소형 홀(hole)
420: 환상형 공동 (annular cavity) 500: 실리콘 웨이퍼
600: 분리판(partition plate)

Claims (12)

  1. 렌즈를 위한 방염 장치에 있어서,
    제 1 장치;
    상기 제 1 장치에 연결된 제 2 장치 및 배기로를 구비하고, 상기 제 1 장치는 상기 제 2 장치에 상대적으로 상기 렌즈에 더 근접하되,
    상기 제 1 장치는, 상기 렌즈의 일면에 가스 커튼 보호층을 형성하기 위해 보호층 가스를 출력하도록 구성되고,
    상기 제 2 장치는, 상기 보호층 가스 및/또는 오염 가스를 흡입하고 배출하도록 구성되며,
    상기 제 2 장치는 환상형 공동을 구비하고,
    상기 환상형 공동의 하면은 복수 개의 소형 홀을 구비하고,
    상기 제1장치는 노즐을 구비하는 밀폐 컨테이너를 구비하고, 상기 밀폐 컨테이너는 렌즈 가장자리 하면에 위치하고, 상기 밀폐 컨테이너는 섹터-링 커튼 공동이고, 상기 밀폐 컨테이너의 내측 원호면은 렌즈 가장자리의 외측면에 밀착하게 배치되고, 상기 노즐과 상기 배기로는 수평 방향에서 서로 마주보게 설치되고, 상기 보호층 가스는 상기 노즐로부터 출력되고, 상기 렌즈의 하면으로 흐르고, 이후 상기 배기로를 따라 배출되는 것을 특징으로 하는, 렌즈를 위한 방염 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 장치 및 상기 제 2 장치는 상기 배기로에 각각 연결됨을 특징으로 하는, 렌즈를 위한 방염 장치.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 배기로는 흡입력과 배출력에 연결됨을 특징으로 하는, 렌즈를 위한 방염 장치.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 보호층 가스는 최대 99.999%이거나 이보다 높은 순도를 가지는 가스임을 특징으로 하는, 렌즈를 위한 방염 장치렌즈를 위한 방염 장치.
  5. 삭제
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 밀폐 컨테이너는 가스 유입구를 더 구비하고, 상기 보호층 가스는 상기 가스 유입구를 통해 상기 밀폐 컨테이너로 들어가는 것을 특징으로 하는, 렌즈를 위한 방염 장치.
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 제 1 항에 있어서, 상기 소형 홀들 간의 거리들은 동일함을 특징으로 하는, 렌즈를 위한 방염 장치.
  10. 제1항에 의한 렌즈를 위한 방염 장치를 이용하는 렌즈를 위한 방염 방법에 있어서,
    상기 제1 장치가 상기 렌즈의 일면에 가스 커튼 보호층이 형성되도록, 상기 렌즈의 하면에 근접하는 위치에서 보호층 가스를 출력하는 1 단계; 및
    상기 제2 장치가 오염원에 근접하는 위치에서 상기 보호층 및/또는 오염 가스를 흡입하고 상기 보호층 가스 및/또는 상기 오염 가스를 상기 렌즈에서 떨어진 환경으로 배출하는 2 단계를 구비함을 특징으로 하는, 렌즈를 위한 방염 방법.
  11. 제 10 항에 있어서, 상기 렌즈는 리소그래피 기계의 렌즈이고, 1 단계에서, 상기 보호층 가스의 출력은 상기 리소그래피 기계의 노광 전과 노광 후에 지속적으로 수행됨을 특징으로 하는, 렌즈를 위한 방염 방법.
  12. 제 10 항에 있어서, 상기 렌즈는 리소그래피 기계의 렌즈이고, 2 단계에서, 상기 보호층 가스 및/또는 상기 오염 가스의 흡입 및 배출은 상기 리소그래피 기계의 노광 전과 노광 후에 지속적으로 수행됨을 특징으로 하는, 렌즈를 위한 방염 방법.
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