KR102174543B1 - 광학용 점착제층, 점착제층이 부착된 광학 필름 및 화상 표시 장치 - Google Patents

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Abstract

(과제) 대전 방지 기능을 가지며, 또한 내구성을 만족시키는 점착제층을 형성할 수 있는 광학용 점착제 조성물을 제공하는 것.
(해결수단) 베이스 폴리머 (A) 를 함유하는 광학용 점착제로 형성되어 있고, 또한 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 을 함유하는 것을 특징으로 하는 광학용 점착제층.

Description

광학용 점착제층, 점착제층이 부착된 광학 필름 및 화상 표시 장치{PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE LAYER FOR OPTICAL FILM, PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE LAYER-ATTACHED OPTICAL FILM AND IMAGE DISPLAY}
본 발명은 광학용 점착제층 및 광학용 점착제층을 갖는 점착제층이 부착된 광학 필름에 관한 것이다.
본 발명의 점착제층이 부착된 광학 필름에 사용되는 광학 필름으로는, 편광 필름, 위상차판, 광학 보상 필름, 휘도 향상 필름, 나아가서는 이들이 적층되어 있는 것을 들 수 있다. 본 발명의 점착제층이 부착된 광학 필름은 광학 용도에 적합하며, 예를 들어 액정 표시 장치, 유기 EL (일렉트로 루미네선스) 표시 장치, PDP (플라즈마 디스플레이 패널), 전자 페이퍼 등의 화상 표시 장치나 터치 패널 등의 입력 장치의 제조 용도에 사용할 수 있다.
액정 표시 장치 등은, 그 화상 형성 방식으로부터 액정 셀의 양측에 편광 소자를 배치하는 것이 필요 불가결하고, 일반적으로는 편광 필름이 첩착 (貼着) 되어 있다. 상기 편광 필름을 액정 셀에 첩착할 때에는, 통상 점착제가 사용된다. 또, 편광 필름과 액정 셀의 접착은, 통상 광의 손실을 저감시키기 위해, 각각의 재료는 점착제를 사용하여 밀착되어 있다. 이와 같은 경우에 편광 필름을 고착시키는 데에 건조 공정을 필요로 하지 않는 것 등의 장점을 갖는 점에서, 점착제는, 편광 필름의 편측에 미리 점착제층으로서 형성된 점착제층이 부착된 편광 필름이 일반적으로 사용된다. 점착제층이 부착된 편광 필름의 점착제층에는, 통상 이형 필름이 첩부 (貼付) 되어 있다.
액정 표시 장치의 제조시에, 상기 점착제층이 부착된 편광 필름을 액정 셀에 첩부할 때에는, 점착제층이 부착된 편광 필름의 점착제층으로부터 이형 필름을 박리하는데, 해당 이형 필름의 박리에 의해 정전기가 발생한다. 이와 같이 하여 발생한 정전기는, 액정 표시 장치 내부의 액정의 배향에 영향을 미쳐 불량을 초래하게 된다. 또, 액정 표시 장치의 사용시에 정전기에 의한 표시 불균일이 발생하는 경우가 있다. 정전기의 발생은, 예를 들어 편광 필름의 외면에 대전 방지층을 형성함으로써 억제할 수 있지만, 그 효과는 적어 정전기 발생을 근본적으로 방지할 수 없다는 문제점이 있다. 그 때문에, 정전기 발생의 근본적인 위치에서 발생을 억제하기 위해서는, 점착제층에 대전 방지 기능을 부여할 것이 요구된다. 점착제층에 대전 방지 기능을 부여하는 수단으로서, 예를 들어 점착제층을 형성하는 점착제에 이온성 화합물을 배합하는 것이 제안되어 있다 (특허문헌 1 내지 2). 특허문헌 1 에서는 이미다졸륨 카티온과 무기 아니온을 함유하는 이온성 고체, 특허문헌 2 에서는 4 급 질소 원자를 함유하는 탄소수 6 ∼ 50 의 카티온과 불소 원자 함유 아니온으로 이루어지는 오늄염 등의 상온에서 액체인 유기 용융염을, 편광 필름에 사용하는 아크릴계 점착제에 배합하는 것이 기재되어 있다. 또한, 폴리티오펜 등의 도전성 폴리머의 바인더를 사용하여, 편광 필름과 점착제층 사이에 대전 방지층을 형성하는 방법 등이 제안되어 있다 (특허문헌 3). 또한, 점착제층이 부착된 편광 필름에는 접착 상태에서의 내구성이 요구된다.
일본 공개특허공보 2009-251281호 국제공개 팜플렛 제2007/034533호 일본 공개특허공보 2003-246874호
특허문헌 1 내지 2 에서는, 이온성 화합물을 함유하는 점착제 조성물에 의해 형성한 점착제층을 편광 필름에 적용함으로써 대전 방지 기능을 부여하고 있다. 그러나, 종래의 이온성 화합물을 함유하는 점착제 조성물에 의해 대전 방지 기능을 부여하기 위해서는, 비교적 많은 이온성 화합물을 첨가할 필요가 있어 내구성의 저하 등 점착제의 특성에 악영향을 미치는 경우가 있었다. 또한, 특허문헌 3 과 같이, 폴리티오펜 등의 도전성 폴리머를 함유하는 층을 편광 필름과 점착제층에 형성한 경우에는, 공정의 증가나, 도전성 폴리머가 고가이기 때문에 비용이 상승되었다.
또한, 점착제층이 부착된 편광 필름으로는, 편광자의 편측에만 투명 보호 필름을 형성하고, 다른 편측에는 투명 보호 필름을 형성하지 않고, 점착제층을 형성한 점착제층이 부착된 편광 필름을 사용하는 경우가 있다. 이러한 점착제층이 부착된 편광 필름은, 투명 보호 필름이 편측에만 있기 때문에, 양측에 투명 보호 필름을 갖는 경우에 비하여, 투명 보호 필름 1 층분의 비용을 삭감할 수 있다. 그러나, 점착제층이 이온성 화합물을 함유하는 경우에는, 해당 점착제층 중의 이온성 화합물의 편광자와 점착 특성에 대한 영향이 있어, 예를 들어 이온성 화합물로서 이온성 액체 및 이온성 고체를 다량으로 사용한 경우에는, 편광자를 열화시켜 광학 내구성의 저하나 고온 가습하에서의 박리 등의 문제가 발생할 우려가 있다.
본 발명은 대전 방지 기능을 가지며, 또한 내구성을 만족시킬 수 있는 광학용 점착제층을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한 본 발명은, 상기 광학용 점착제층을 갖는 점착제층이 부착된 광학 필름을 제공하는 것, 나아가서는 상기 점착제층이 부착된 편광 필름을 사용한 화상 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 검토를 거듭한 결과, 하기 광학용 점착제층을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉 본 발명은, 베이스 폴리머 (A) 를 함유하는 광학용 점착제로 형성되어 있고, 또한 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 을 함유하는 것을 특징으로 하는 광학용 점착제층에 관한 것이다.
상기 광학용 점착제층은, 상기 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 을 0.02 ∼ 1 atomic％ 함유하는 것이 바람직하다.
상기 광학용 점착제층에 있어서, 상기 베이스 폴리머 (A) 로는 (메트)아크릴계 폴리머가 바람직하다. 또한, 상기 베이스 폴리머 (A) 로는 하이드록실기를 함유하는 것이 바람직하다. 상기 (메트)아크릴계 폴리머로는, 모노머 단위로서 알킬(메트)아크릴레이트 및 하이드록실기 함유 모노머를 함유하는 것을 사용할 수 있다.
또한, 상기 베이스 폴리머 (A) 로는 카르복실기를 함유하는 것이 바람직하다. 상기 (메트)아크릴계 폴리머로는, 모노머 단위로서 알킬(메트)아크릴레이트 및 카르복실기 함유 모노머를 함유하는 것을 사용할 수 있다.
상기 광학용 점착제층은, 상기 (메트)아크릴계 폴리머가 모노머 단위인 알킬(메트)아크릴레이트로서 부틸(메트)아크릴레이트를 함유하는 경우에는, 상기 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 을 0.01 ∼ 3 (I-/C3H302 -) 함유하는 것이 바람직하다.
상기 광학용 점착제층에 있어서, 상기 광학용 점착제는 추가로 이온성 화합물 (C) 을 함유할 수 있다. 이온성 화합물 (C) 로는 알칼리 금속염 및/또는 유기 카티온-아니온염이 바람직하다.
상기 광학용 점착제층에 있어서, 상기 광학용 점착제는 추가로 산화 방지제 (D) 를 함유할 수 있다.
상기 광학용 점착제층에 있어서, 상기 광학용 점착제는 추가로 가교제 (E) 를 함유할 수 있다.
상기 광학용 점착제층에 있어서, 상기 광학용 점착제는 추가로 실란 커플링제 (F) 를 함유할 수 있다.
또한 본 발명은, 광학 필름과, 해당 광학 필름의 적어도 편측에 형성된 상기 광학용 점착제층을 갖는 것을 특징으로 하는 점착제층이 부착된 광학 필름에 관한 것이다.
상기 점착제층이 부착된 광학 필름에 있어서, 상기 광학 필름으로는 편광 필름을 사용할 수 있다. 상기 편광 필름은, 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 을 함유하는 요오드계 편광자의 적어도 편측에 투명 보호 필름을 갖는 요오드계 편광 필름이 바람직하다. 상기 요오드계 편광자는, 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 을 3 ∼ 10 중량％ 함유하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 편광 필름으로서, 편광자의 편측에만 투명 보호 필름을 갖는 것을 사용하고, 또한 상기 점착제층은, 상기 투명 보호 필름을 갖지 않는 측의 편광자에 형성되어 있는 것을 사용할 수 있다.
또한 본 발명은, 상기 점착제층이 부착된 편광 필름을 적어도 1 개 사용한 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.
본 발명의 광학용 점착제층은, 베이스 폴리머 (A) 를 함유하는 광학용 점착제에 의해 형성되어 있고, 또한 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 을 함유한다. 점착제층에 있어서, 요오드는 요오드 분자 (I2) 와 요오드 이온 (I-, I3 -, I5-) 의 평형 상태를 유지하여 존재하고 있는 것으로 생각된다. 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 은 점착제층 중에서 이온화된 요오드로서 존재하여 점착제층의 표면 저항치를 낮출 수 있어, 공정수를 늘리지 않고 간이한 수단에 의해 점착제층에 대전 방지 성능을 부여할 수 있다. 또한, 요오드 이온이 존재함으로써, 카티온 성분 (예를 들어, 칼륨 이온이나 그 밖의 카티온 성분) 이 점착제 중에 안정적으로 존재할 수 있어, 그들 카티온 성분의 이온 도전성에 의해 대전 방지가 향상되는 것으로 생각된다. 또한, 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 은, 점착제층 중에 존재시킨 경우에 있어서도 내구성이 손상되지 않는다.
또한, 요오드 이온은 분극 (分極) 되어 있기 때문에 극성적으로 높아, 베이스 폴리머 (A) 로서 하이드록실기, 카르복실기 등의 극성기를 갖는 것을 사용함으로써 요오드 이온을 안정화시킬 수 있다. 나아가서는, 이온성 화합물 (C) 을 내구성에 영향을 미치지 않을 정도로 소량 첨가함으로써 대전 방지 기능을 향상시킬 수 있다.
또한, 광학 필름으로서 편광자의 편측에만 투명 보호 필름을 갖는 편광 필름을 사용하고, 점착제층을, 상기 투명 보호 필름을 갖지 않는 측의 편광자에 형성하는 경우에는, 편광자에 점착제층이 접촉하기 때문에, 점착제층이 이온성 화합물 (C) 을 함유하는 경우에는, 편광도 등의 광학 특성이 저하되는 경우가 있다. 본 발명에서 점착제층이 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 을 함유하고 있기 때문에, 이온성 화합물 (C) 을 함유하는 경우라도, 편광도 등의 광학 특성을 저하시키지 않고 대전 방지성을 효과적으로 부여할 수 있다.
본 발명의 광학용 점착제층은, 베이스 폴리머 (A) 를 함유하는 광학용 점착제로 형성되어 있고, 또한 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 을 함유한다.
상기 광학용 점착제는, 베이스 폴리머 (A) 에 따라 각종 점착제를 사용할 수 있다. 예를 들어, 고무계 점착제, 아크릴계 점착제, 실리콘계 점착제, 우레탄계 점착제, 비닐알킬에테르계 점착제, 폴리비닐알코올계 점착제, 폴리비닐피롤리돈계 점착제, 폴리아크릴아미드계 점착제, 셀룰로오스계 점착제 등을 들 수 있다. 상기 점착제의 종류에 따라 점착성의 베이스 폴리머 (A) 가 선택된다.
또한 상기 베이스 폴리머 (A) 는, 점착제층 중에 있어서 요오드 이온을 안정화시킬 수 있는 점에서, 하이드록실기, 카르복실기 등의 극성기를 갖는 것이 바람직하다. 이들 극성기 중에서도 하이드록실기가 바람직하다.
상기 점착제 중에서도 광학적 투명성이 우수하고, 적당한 젖음성과 응집성과 접착성의 점착 특성을 나타내어, 내후성이나 내열성 등이 우수한 점에서, 아크릴계 점착제가 바람직하게 사용된다. 아크릴계 점착제는, 베이스 폴리머로서 (메트)아크릴계 폴리머를 함유한다. (메트)아크릴계 폴리머는, 통상 모노머 단위로서 알킬(메트)아크릴레이트를 주성분으로서 함유한다. 또, (메트)아크릴레이트는 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트를 말하며, 본 발명의 (메트) 와는 동일한 의미이다.
(메트)아크릴계 폴리머의 주골격을 구성하는 알킬(메트)아크릴레이트로는, 직사슬형 또는 분기사슬형 알킬기의 탄소수 1 ∼ 18 의 것을 예시할 수 있다. 예를 들어, 상기 알킬기로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, 아밀기, 헥실기, 시클로헥실기, 헵틸기, 2-에틸헥실기, 이소옥틸기, 노닐기, 데실기, 이소데실기, 도데실기, 이소미리스틸기, 라우릴기, 트리데실기, 펜타데실기, 헥사데실기, 헵타데실기, 옥타데실기 등을 예시할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 조합하여 사용할 수 있다. 이들 알킬기의 평균 탄소수는 3 ∼ 9 인 것이 바람직하다.
또, 점착 특성, 내구성, 위상차의 조정, 굴절률의 조정 등의 점에서, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트와 같은 방향족 고리를 함유하는 알킬(메트)아크릴레이트를 사용할 수 있다. 방향족 고리를 함유하는 알킬(메트)아크릴레이트는, 이것을 중합한 폴리머를 상기 예시한 (메트)아크릴계 폴리머에 혼합하여 사용할 수 있는데, 투명성의 관점에서, 방향족 고리를 함유하는 알킬(메트)아크릴레이트는, 상기 알킬(메트)아크릴레이트와 공중합하여 사용하는 것이 바람직하다.
(메트)아크릴계 폴리머에 있어서의 상기 방향족 고리를 함유하는 알킬(메트)아크릴레이트의 비율은, (메트)아크릴계 폴리머의 전체 구성 모노머 (100 중량％) 의 중량 비율에 있어서, 50 중량％ 이하의 비율로 함유할 수 있다. 나아가서는 방향족 고리를 함유하는 알킬(메트)아크릴레이트의 함유율은 1 ∼ 35 중량％ 가 바람직하고, 나아가서는 1 ∼ 20 중량％ 가 바람직하고, 나아가서는 7 ∼ 18 중량％ 가 바람직하고, 나아가서는 10 ∼ 16 중량％ 가 바람직하다.
상기 (메트)아크릴계 폴리머 중에는, 접착성이나 내열성의 개선을 목적으로, (메트)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 갖는 중합성의 관능기를 갖는 1 종류 이상의 공중합 모노머를 공중합에 의해 도입할 수 있다. 그와 같은 공중합 모노머의 구체예로는, 예를 들어 (메트)아크릴산2-하이드록시에틸, (메트)아크릴산3-하이드록시프로필, (메트)아크릴산4-하이드록시부틸, (메트)아크릴산6-하이드록시헥실, (메트)아크릴산8-하이드록시옥틸, (메트)아크릴산10-하이드록시데실, (메트)아크릴산12-하이드록시라우릴이나 (4-하이드록시메틸시클로헥실)-메틸아크릴레이트 등의 하이드록실기 함유 모노머 ; (메트)아크릴산, 카르복시에틸(메트)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메트)아크릴레이트, 이타콘산, 말레산, 푸말산, 크로톤산 등의 카르복실기 함유 모노머 ; 무수 말레산, 무수 이타콘산 등의 산 무수물기 함유 모노머 ; 아크릴산의 카프로락톤 부가물 ; 스티렌술폰산이나 알릴술폰산, 2-(메트)아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산, (메트)아크릴아미드프로판술폰산, 술포프로필(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴로일옥시나프탈렌술폰산 등의 술폰산기 함유 모노머 ; 2-하이드록시에틸아크릴로일포스페이트 등의 인산기 함유 모노머 등을 들 수 있다.
또, (메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N-부틸(메트)아크릴아미드나 N-메틸올(메트)아크릴아미드, N-메틸올프로판(메트)아크릴아미드 등의 (N-치환) 아미드계 모노머 ; (메트)아크릴산아미노에틸, (메트)아크릴산N,N-디메틸아미노에틸, (메트)아크릴산t-부틸아미노에틸 등의 (메트)아크릴산알킬아미노알킬계 모노머 ; (메트)아크릴산메톡시에틸, (메트)아크릴산에톡시에틸 등의 (메트)아크릴산알콕시알킬계 모노머 ; N-(메트)아크릴로일옥시메틸렌숙신이미드나 N-(메트)아크릴로일-6-옥시헥사메틸렌숙신이미드, N-(메트)아크릴로일-8-옥시옥타메틸렌숙신이미드, N-아크릴로일모르폴린 등의 숙신이미드계 모노머 ; N-시클로헥실말레이미드나 N-이소프로필말레이미드, N-라우릴말레이미드나 N-페닐말레이미드 등의 말레이미드계 모노머 ; N-메틸이타콘이미드, N-에틸이타콘이미드, N-부틸이타콘이미드, N-옥틸이타콘이미드, N-2-에틸헥실이타콘이미드, N-시클로헥실이타콘이미드, N-라우릴이타콘이미드 등의 이타콘이미드계 모노머 등도 개질 목적의 모노머 예로서 들 수 있다.
또한 개질 모노머로서, 아세트산비닐, 프로피온산비닐, N-비닐피롤리돈, 메틸비닐피롤리돈, 비닐피리딘, 비닐피페리돈, 비닐피리미딘, 비닐피페라진, 비닐피라진, 비닐피롤, 비닐이미다졸, 비닐옥사졸, 비닐모르폴린, N-비닐카르복실산아미드류, 스티렌, α-메틸스티렌, N-비닐카프로락탐 등의 비닐계 모노머 ; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 시아노아크릴레이트계 모노머 ; (메트)아크릴산글리시딜 등의 에폭시기 함유 아크릴계 모노머 ; (메트)아크릴산폴리에틸렌글리콜, (메트)아크릴산폴리프로필렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시에틸렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시폴리프로필렌글리콜 등의 글리콜계 아크릴에스테르 모노머 ; (메트)아크릴산테트라하이드로푸르푸릴, 불소 (메트)아크릴레이트, 실리콘(메트)아크릴레이트나 2-메톡시에틸아크릴레이트 등의 아크릴산에스테르계 모노머 등도 사용할 수 있다. 나아가서는 이소프렌, 부타디엔, 이소부틸렌, 비닐에테르 등을 들 수 있다.
또한, 상기 이외의 공중합 가능한 모노머로서, 규소 원자를 함유하는 실란계 모노머 등을 들 수 있다. 실란계 모노머로는, 예를 들어 3-아크릴옥시프로필트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 4-비닐부틸트리메톡시실란, 4-비닐부틸트리에톡시실란, 8-비닐옥틸트리메톡시실란, 8-비닐옥틸트리에톡시실란, 10-메타크릴로일옥시데실트리메톡시실란, 10-아크릴로일옥시데실트리메톡시실란, 10-메타크릴로일옥시데실트리에톡시실란, 10-아크릴로일옥시데실트리에톡시실란 등을 들 수 있다.
또, 공중합 모노머로는, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 비스페놀 A 디글리시딜에테르디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산과 다가 알코올의 에스테르화물 등의 (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 2 개 이상 갖는 다관능성 모노머나, 폴리에스테르, 에폭시, 우레탄 등의 골격에 모노머 성분과 동일한 관능기로서 (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 2 개 이상 부가한 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 에폭시(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트 등을 사용할 수도 있다.
(메트)아크릴계 폴리머는, 전체 구성 모노머의 중량 비율에 있어서, 알킬(메트)아크릴레이트를 주성분으로 하고, (메트)아크릴계 폴리머 중의 상기 공중합 모노머의 비율은 특별히 제한되지 않지만, 상기 공중합 모노머의 비율은, 전체 구성 모노머의 중량 비율에 있어서, 0 ∼ 20 ％ 정도, 0.1 ∼ 15 ％ 정도, 나아가서는 0.1 ∼ 10 ％ 정도인 것이 바람직하다.
이들 공중합 모노머 중에서도 요오드 이온의 안정성, 나아가서는 접착성, 내구성의 점에서, 하이드록실기 함유 모노머, 카르복실기 함유 모노머 등의 극성기를 함유하는 모노머가 바람직하게 사용된다. 특히, 하이드록실기 함유 모노머가 바람직하다. 하이드록실기 함유 모노머 및 카르복실기 함유 모노머는 병용할 수 있다. 이들 공중합 모노머는, 광학용 점착제가 가교제를 함유하는 경우에, 가교제와의 반응점이 된다. 하이드록실기 함유 모노머, 카르복실기 함유 모노머 등은 분자간 가교제와의 반응성이 풍부하기 때문에, 얻어지는 점착제층의 응집성이나 내열성을 향상시키기 위해 바람직하게 사용된다. 하이드록실기 함유 모노머는 리워크성의 점에서 바람직하고, 또 카르복실기 함유 모노머는 내구성과 리워크성을 양립시키는 점에서 바람직하다. 극성기를 함유하는 모노머의 비율은, 전체 구성 모노머의 중량 비율에 있어서, 0.01 ∼ 20 ％ 정도, 0.1 ∼ 10 ％ 정도, 나아가서는 0.5 ∼ 7 ％ 정도인 것이 바람직하다.
공중합 모노머로서 하이드록실기 함유 모노머를 함유하는 경우, 그 비율은 0.01 ∼ 15 중량％ 가 바람직하고, 0.03 ∼ 10 중량％ 가 보다 바람직하며, 나아가서는 0.05 ∼ 7 중량％ 가 바람직하다. 공중합 모노머로서 카르복실기 함유 모노머를 함유하는 경우, 그 비율은 0.05 ∼ 10 중량％ 가 바람직하고, 0.1 ∼ 8 중량％ 가 보다 바람직하며, 나아가서는 0.2 ∼ 6 중량％ 가 바람직하다.
본 발명의 (메트)아크릴계 폴리머는, 통상 중량 평균 분자량이 50 만 ∼ 300 만의 범위인 것이 사용된다. 내구성, 특히 내열성을 고려하면, 중량 평균 분자량은 70 만 ∼ 270 만인 것을 사용하는 것이 바람직하다. 나아가서는 80 만 ∼ 250 만인 것이 바람직하다. 중량 평균 분자량이 50 만보다 작으면, 내열성의 점에서 바람직하지 않다. 또, 중량 평균 분자량이 300 만보다 커지면, 도공하기 위한 점도로 조정하기 위해 다량의 희석 용제가 필요해져, 비용이 상승되기 때문에 바람직하지 않다. 또한, 중량 평균 분자량은, GPC (겔ㆍ퍼미에이션ㆍ크로마토그래피) 에 의해 측정하여, 폴리스티렌 환산에 의해 산출된 값을 말한다.
이러한 (메트)아크릴계 폴리머의 제조는, 용액 중합, 괴상 중합, 유화 중합, 각종 라디칼 중합 등의 공지된 제조 방법을 적절히 선택할 수 있다. 또, 얻어지는 (메트)아크릴계 폴리머는, 랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 그래프트 공중합체 등 어느 것이어도 된다.
또한, 용액 중합에 있어서는, 중합 용매로서, 예를 들어 아세트산에틸, 톨루엔 등이 사용된다. 구체적인 용액 중합예로는, 반응은 질소 등의 불활성 가스 기류하에서 중합 개시제를 첨가하여, 통상 50 ∼ 70 ℃ 정도에서, 5 ∼ 30 시간 정도의 반응 조건으로 실시된다.
라디칼 중합에 사용되는 중합 개시제, 연쇄 이동제, 유화제 등은 특별히 한정되지 않고 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 또한, (메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, 중합 개시제, 연쇄 이동제의 사용량, 반응 조건에 따라 제어 가능하며, 이들의 종류에 따라서 적절한 그 사용량이 조정된다.
중합 개시제로는, 예를 들어 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-아미디노프로판)디하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스[2-(5-메틸-2-이미다졸린-2-일)프로판]디하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온아미딘)이황산염, 2,2'-아조비스(N,N'-디메틸렌이소부틸아미딘), 2,2'-아조비스[N-(2-카르복시에틸)-2-메틸프로피온아미딘]하이드레이트 (와코 순약사 제조, VA-057) 등의 아조계 개시제, 과황산칼륨, 과황산암모늄 등의 과황산염, 디(2-에틸헥실)퍼옥시디카보네이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트, 디-sec-부틸퍼옥시디카보네이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실퍼옥시피발레이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 디라우로일퍼옥사이드, 디-n-옥타노일퍼옥사이드, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 디(4-메틸벤조일)퍼옥사이드, 디벤조일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시이소부틸레이트, 1,1-디(t-헥실퍼옥시)시클로헥산, t-부틸하이드로퍼옥사이드, 과산화수소 등의 과산화물계 개시제, 과황산염과 아황산수소나트륨의 조합, 과산화물과 아스코르브산나트륨의 조합 등의 과산화물과 환원제를 조합한 레독스계 개시제 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.
상기 중합 개시제는, 단독으로 사용해도 되고, 또 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 되지만, 전체로서의 함유량은 모노머 100 중량부에 대하여 0.005 ∼ 1 중량부 정도인 것이 바람직하고, 0.02 ∼ 0.5 중량부 정도인 것이 보다 바람직하다.
또한, 중합 개시제로서, 예를 들어 2,2'-아조비스이소부티로니트릴을 사용하여, 상기 중량 평균 분자량의 (메트)아크릴계 폴리머를 제조하기 위해서는, 중합 개시제의 사용량은, 모노머 성분의 전체량 100 중량부에 대하여 0.06 ∼ 0.2 중량부 정도로 하는 것이 바람직하고, 나아가서는 0.08 ∼ 0.175 중량부 정도로 하는 것이 바람직하다.
연쇄 이동제로는, 예를 들어 라우릴메르캅탄, 글리시딜메르캅탄, 메르캅토아세트산, 2-메르캅토에탄올, 티오글리콜산, 티오글루콜산2-에틸헥실, 2,3-디메르캅토-1-프로판올 등을 들 수 있다. 연쇄 이동제는, 단독으로 사용해도 되고, 또 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 되지만, 전체로서의 함유량은 모노머 성분의 전체량 100 중량부에 대하여 0.1 중량부 정도 이하이다.
또, 유화 중합하는 경우에 사용하는 유화제로는, 예를 들어 라우릴황산나트륨, 라우릴황산암모늄, 도데실벤젠술폰산나트륨, 폴리옥시에틸렌알킬에테르황산암모늄, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르황산나트륨 등의 아니온계 유화제, 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르, 폴리옥시에틸렌지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌-폴리옥시프로필렌 블록 폴리머 등의 논이온계 유화제 등을 들 수 있다. 이들 유화제는, 단독으로 사용해도 되고 2 종 이상을 병용해도 된다.
또한, 반응성 유화제로서, 프로페닐기, 알릴에테르기 등의 라디칼 중합성 관능기가 도입된 유화제로서, 구체적으로는 예를 들어 아쿠아론 HS-10, HS-20, KH-10, BC-05, BC-10, BC-20 (이상, 모두 다이이치 공업 제약사 제조), 아데카 리아소프 SE10N (아사히 전화 공업사 제조) 등이 있다. 반응성 유화제는, 중합 후에 폴리머 사슬에 도입되므로, 내수성이 양호해져 바람직하다. 유화제의 사용량은, 모노머 성분의 전체량 100 중량부에 대하여 0.3 ∼ 5 중량부, 중합 안정성이나 기계적 안정성으로부터 0.5 ∼ 1 중량부가 보다 바람직하다.
본 발명의 광학용 점착제층 중에 있어서의 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 의 비율 (요오드량) 은 ESCA 분석에 의해 실시할 수 있다. ESCA 분석은, 구체적으로는 실시예에 기재된 방법에 의해 실시한다. ESCA 분석에 의한 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 의 비율 (요오드량) 은, 0.02 ∼ 1 atomic％ 인 것이 바람직하다. 상기 비율이 1 atomic％ 를 초과하면 주변 부재에 부식성이 생기는 등의 문제가 발생할 우려가 있다. 상기 비율은 0.02 ∼ 0.5 atomic％ 인 것이 바람직하고, 나아가서는 0.05 ∼ 0.3 atomic％ 인 것이 바람직하다.
또한, 상기 베이스 폴리머 (A) 로서, 모노머 단위로서 부틸(메트)아크릴레이트를 함유하는 알킬(메트)아크릴레이트를 갖는 (메트)아크릴계 폴리머를 사용하는 경우에는, 본 발명의 광학용 점착제층 중에 있어서의 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 의 비율 (요오드량) 은 TOF-SIMS 분석에 의해 실시할 수 있다. TOF-SIMS 분석은, 구체적으로는 실시예에 기재된 방법에 의해 실시한다. TOF-SIMS 분석에 의한 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 의 비율 (요오드량) 은 0.01 ∼ 3 (I-/C3H302 -) 인 것이 바람직하다. 상기 비율이 3 (I-/C3H302 -) 을 초과하면 주변 부재에 부식성이 생기는 등의 문제가 발생할 우려가 있다. 상기 비율은 0.01 ∼ 1 (I-/C3H302 -) 인 것이 바람직하고, 나아가서는 0.01 ∼ 2 (I-/C3H302 -) 인 것이 바람직하며, 나아가서는 0.02 ∼ 0.5 (I-/C3H302 -) 인 것이 바람직하고, 나아가서는 0.05 ∼ 0.3 (I-/C3H302 -) 인 것이 바람직하다.
또, 요오드계 편광자에 직접, 점착제층을 형성함으로써, 점착제층 중에 요오드계 편광자에 함유되는 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 을 함유시키는 경우에는, 상기 비율은, 점착제층을 요오드계 편광자에 형성한 후에, 가습, 가열 등에 실시함으로써 제어할 수 있다. 또한, 요오드계 편광자의 제조시 (염색시) 에 요오드, 요오드 이온량을 과잉되게 함유시킴으로써 제어할 수 있다.
본 발명의 광학용 점착제층은, 요오드및/또는 요오드 이온 (B) 을 함유한다. 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 은, 상기 베이스 폴리머 (A) 에 배합함으로써, 광학용 점착제 중에 함유시킬 수 있다. 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 은, 수용액으로서 배합할 수 있다. 또한, 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 은, 아세트산에틸이나 알코올 등의 유기 용제에 용해된 용액으로서 사용할 수 있다. 또한, 상기 수용액과 유기 용제를 혼합한 용액으로서 사용할 수도 있다.
요오드 이온은, 요오드화 화합물을 수용액 (요오드 수용액) 에 의해 배합함으로써 조제할 수 있다. 요오드화 화합물로는, 예를 들어 요오드화 칼륨, 요오드화 리튬, 요오드화 나트륨, 요오드화 아연, 요오드화 알루미늄, 요오드화 납, 요오드화 구리, 요오드화 바륨, 요오드화 칼슘, 요오드화 주석, 요오드화 티탄, 요오드계 이온성 액체, 요오드계 이온성 고체 등이 사용된다. 요오드화 화합물로는 비용, 특성의 점에서 요오드화 칼륨이 바람직하다.
요오드 수용액 중의 요오드 농도는 0.01 ∼ 10 중량％ 정도, 바람직하게는 0.02 ∼ 5 중량％, 더욱 바람직하게는 0.02 ∼ 0.5 중량％ 이다. 요오드화 화합물 농도는 0.1 ∼ 10 중량％ 정도, 나아가서는 0.2 ∼ 8 중량％ 로 사용하는 것이 바람직하다. 요오드와 요오드화물은 임의의 비율로 혼합할 수 있다.
또한, 본 발명의 광학용 점착제층이 함유하는 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 이, 경시적으로 광학용 점착제층 중에 함유된 것이어도 된다. 예를 들어, 요오드계 편광자에 직접 점착제층을 형성한 경우 (즉, 편면만 투명 보호 필름을 갖는 점착제층이 부착된 요오드계 편광 필름을 형성한 경우) 에는, 요오드계 편광자에 함유되는 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 이 점착제층 중으로 전이되어, 상기 점착제층 중에 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 을 함유시킬 수 있다.
본 발명의 광학용 점착제는 이온성 화합물 (C) 을 함유할 수 있다. 이온성 화합물 (C) 로는, 알칼리 금속염 및/또는 유기 카티온-아니온염을 바람직하게 사용할 수 있다. 알칼리 금속염은, 알칼리 금속의 유기염 및 무기염을 사용할 수 있다. 또한, 본 발명에서 말하는 「유기 카티온-아니온염」이란, 유기염이며, 그 카티온부가 유기물로 구성되어 있는 것을 나타내고, 아니온부는 유기물이어도 되고, 무기물이어도 된다. 「유기 카티온-아니온염」은, 이온성 액체, 이온성 고체라고도 한다.
<알칼리 금속염>
알칼리 금속염의 카티온부를 구성하는 알칼리 금속 이온으로는, 리튬, 나트륨, 칼륨의 각 이온을 들 수 있다. 이들 알칼리 금속 이온 중에서도 리튬 이온이 바람직하다,
알칼리 금속염의 아니온부는 유기물로 구성되어 있어도 되고, 무기물로 구성되어 있어도 된다. 유기염을 구성하는 아니온부로는, 예를 들어 CH3COO-, CF3COO-, CH3SO3 -, CF3SO3 -, (CF3SO2)3C-, C4F9SO3 -, C3F7COO-, (CF3SO2)(CF3CO)N-, -O3S(CF2)3SO3 -, PF6 -, CO3 2 - 나 하기 일반식 (1) 내지 (4),
(1) : (CnF2n+1SO2)2N- (단, n 은 1 ∼ 10 의 정수),
(2) : CF2(CmF2mSO2)2N- (단, m 은 1 ∼ 10 의 정수),
(3) : -O3S(CF2)lSO3 - (단, l 은 1 ∼ 10 의 정수),
(4) : (CpF2p＋1SO2)N-(CqF2q＋1SO2), (단, p, q 는 1 ∼ 10 의 정수) 로 나타내는 것 등이 사용된다. 특히, 불소 원자를 함유하는 아니온부는, 이온 해리성이 양호한 이온 화합물을 얻을 수 있기 때문에 바람직하게 사용된다. 무기염을 구성하는 아니온부로는, Cl-, Br-, I-, AlCl4 -, Al2Cl7 -, BF4 -, PF6 -, ClO4 -, NO3 -, AsF6 -, SbF6 -, NbF6 -, TaF6 -, (CN)2N- 등이 사용된다. 아니온부로는, (CF3SO2)2N-, (C2F5SO2)2N- 등의 상기 일반식 (1) 로 나타내는 (퍼플루오로알킬술포닐)이미드가 바람직하고, 특히 (CF3SO2)2N- 로 나타내는 (트리플루오로메탄술포닐)이미드가 바람직하다.
알칼리 금속의 유기염으로는, 구체적으로는 아세트산나트륨, 알긴산나트륨, 리그닌술폰산나트륨, 톨루엔술폰산나트륨, LiCF3SO3, Li(CF3SO2)2N, Li(CF3SO2)2N, Li(C2F5SO2)2N, Li(C4F9SO2)2N, Li(CF3SO2)3C, KO3S(CF2)3SO3K, LiO3S(CF2)3SO3K 등을 들 수 있고, 이들 중 LiCF3SO3, Li(CF3SO2)2N, Li(C2F5SO2)2N, Li(C4F9SO2)2N, Li(CF3SO2)3C 등이 바람직하고, Li(CF3SO2)2N, Li(C2F5SO2)2N, Li(C4F9SO2)2N 등의 불소 함유 리튬이미드염이 보다 바람직하고, 특히 (퍼플루오로알킬술포닐)이미드리튬염이 바람직하다.
또, 알칼리 금속의 무기염으로는, 과염소산리튬, 요오드화 리튬을 들 수 있다.
<유기 카티온-아니온염>
본 발명에서 사용되는 유기 카티온-아니온염은, 카티온 성분과 아니온 성분으로 구성되어 있고, 상기 카티온 성분은 유기물로 이루어지는 것이다. 카티온 성분으로서, 구체적으로는 피리디늄카티온, 피페리디늄카티온, 피롤리디늄카티온, 피롤린 골격을 갖는 카티온, 피롤 골격을 갖는 카티온, 이미다졸륨 카티온, 테트라하이드로피리미디늄카티온, 디하이드로피리미디늄카티온, 피라졸륨 카티온, 피라졸리늄카티온, 테트라알킬암모늄카티온, 트리알킬술포늄카티온, 테트라알킬포스포늄카티온 등을 들 수 있다.
아니온 성분으로는, 예를 들어 Cl-, Br-, I-, AlCl4 -, Al2Cl7 -, BF4 -, PF6 -, ClO4 -, NO3 -, CH3COO-, CF3COO-, CH3SO3 -, CF3SO3 -, (CF3SO2)3C-, AsF6 -, SbF6 -, NbF6 -, TaF6 -, (CN)2N-, C4F9SO3 -, C3F7COO-, ((CF3SO2)(CF3CO)N-, -O3S(CF2)3SO3 - 나 하기 일반식 (1) 내지 (4),
(1) : (CnF2n+1SO2)2N- (단, n 은 1 ∼ 10 의 정수),
(2) : CF2(CmF2mSO2)2N- (단, m 은 1 ∼ 10 의 정수),
(3) : -O3S(CF2)lSO3 - (단, l 은 1 ∼ 10 의 정수),
(4) : (CpF2p＋1SO2)N-(CqF2q＋1SO2), (단, p, q 는 1 ∼ 10 의 정수) 로 나타내는 것 등이 사용된다. 그 중에서도 특히, 불소 원자를 함유하는 아니온 성분은, 이온 해리성이 양호한 이온 화합물을 얻을 수 있기 때문에 바람직하게 사용된다.
유기 카티온-아니온염의 구체예로는, 상기 카티온 성분과 아니온 성분의 조합으로 이루어지는 화합물을 적절히 선택하여 사용된다.
예를 들어, 1-부틸피리디늄테트라플루오로보레이트, 1-부틸피리디늄헥사플루오로포스페이트, 1-부틸-3-메틸피리디늄테트라플루오로보레이트, 1-부틸-3-메틸피리디늄트리플루오로메탄술포네이트, 1-부틸-3-메틸피리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-부틸-3-메틸피리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-헥실피리디늄테트라플루오로보레이트, 2-메틸-1-피롤린테트라플루오로보레이트, 1-에틸-2-페닐인돌테트라플루오로보레이트, 1,2-디메틸인돌테트라플루오로보레이트, 1-에틸카르바졸테트라플루오로보레이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨아세테이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨트리플루오로아세테이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨헵타플루오로부틸레이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨트리플루오로메탄술포네이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨퍼플루오로부탄술포네이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨디시안아미드, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨트리스(트리플루오로메탄술포닐)메티드, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨헥사플루오로포스페이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨트리플루오로아세테이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨헵타플루오로부틸레이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨트리플루오로메탄술포네이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨퍼플루오로부탄술포네이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨브로마이드, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨클로라이드, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨헥사플루오로포스페이트, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨트리플루오로메탄술포네이트, 1-옥틸-3-메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1-옥틸-3-메틸이미다졸륨헥사플루오로포스페이트, 1-헥실-2,3-디메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1,2-디메틸-3-프로필이미다졸륨비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸피라졸륨테트라플루오로보레이트, 3-메틸피라졸륨테트라플루오로보레이트, 테트라헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 디알릴디메틸암모늄테트라플루오로보레이트, 디알릴디메틸암모늄트리플루오로메탄술포네이트, 디알릴디메틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 디알릴디메틸암모늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄테트라플루오로보레이트, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄트리플루오로메탄술포네이트, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 글리시딜트리메틸암모늄트리플루오로메탄술포네이트, 글리시딜트리메틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 글리시딜트리메틸암모늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-부틸피리디늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, 1-부틸-3-메틸피리디늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, 디알릴디메틸암모늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, 글리시딜트리메틸암모늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-프로필암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-부틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-노닐암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N,N-디프로필암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-프로필-N-부틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-프로필-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-프로필-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-프로필-N-헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-부틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-부틸-N-헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-펜틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N,N-디헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리메틸헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-프로필암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-프로필-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리에틸프로필암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리에틸펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리에틸헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디프로필-N-메틸-N-에틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디프로필-N-메틸-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디프로필-N-부틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디프로필-N,N-디헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디부틸-N-메틸-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디부틸-N-메틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리옥틸메틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N-메틸-N-에틸-N-프로필-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-부틸-3-메틸피리딘-1-이윰트리플루오로메탄술포네이트 등을 들 수 있다. 이들의 시판품으로서, 예를 들어 「CIL-314」(닛폰 카리트사 제조), 「ILA2-1」(코에이 화학사 제조) 등을 사용할 수 있다.
또, 예를 들어 테트라메틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리메틸에틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리메틸부틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리메틸펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리메틸헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리메틸옥틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 테트라에틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리에틸부틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 테트라부틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 테트라헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 등을 들 수 있다.
또, 예를 들어 1-디메틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-에틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-프로필피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-부틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-펜틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-헥실피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-헵틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-프로필피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-부틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-펜틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헥실피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헵틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1,1-디프로필피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-프로필-1-부틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1,1-디부틸피롤리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-프로필피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-펜틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1,1-디메틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-에틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-프로필피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-부틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-펜틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-헥실피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-헵틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-프로필피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-부틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-펜틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헥실피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헵틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1,1-디프로필피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-프로필-1-부틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1,1-디부틸피페리디늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1,1-디메틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-에틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-프로필피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-부틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-펜틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-헥실피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-헵틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-프로필피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-부틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-펜틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헥실피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헵틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1,1-디프로필피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-프로필-1-부틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1,1-디부틸피롤리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-프로필피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-펜틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1,1-디메틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-에틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-프로필피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-부틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-펜틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-헥실피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-메틸-1-헵틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-프로필피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헵틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-펜틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헥실피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-1-헵틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-프로필-1-부틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1,1-디프로필피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1,1-디부틸피페리디늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드 등을 들 수 있다.
또, 상기 화합물의 카티온 성분 대신에, 트리메틸술포늄카티온, 트리에틸술포늄카티온, 트리부틸술포늄카티온, 트리헥실술포늄카티온, 디에틸메틸술포늄카티온, 디부틸에틸술포늄카티온, 디메틸데실술포늄카티온, 테트라메틸포스포늄카티온, 테트라에틸포스포늄카티온, 테트라부틸포스포늄카티온, 테트라헥실포스포늄카티온을 사용한 화합물 등을 들 수 있다.
또, 상기의 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 대신에, 비스(펜타플루오로 술포닐)이미드, 비스(헵타플루오로프로판술포닐)이미드, 비스(노나플루오로부탄술포닐)이미드, 트리플루오로메탄술포닐노나플루오로부탄술포닐이미드, 헵타플루오로프로판술포닐트리플루오로메탄술포닐이미드, 펜타플루오로에탄술포닐노나플루오로부탄술포닐이미드, 시클로-헥사플루오로프로판-1,3-비스(술포닐)이미드아니온 등을 사용한 화합물 등을 들 수 있다.
또, 이온성 화합물 (C) 로는, 상기 알칼리 금속염, 유기 카티온-아니온염 외에, 염화암모늄, 염화알루미늄, 염화구리, 염화제일철, 염화제이철, 황산암모늄 등의 무기염을 들 수 있다. 이들 이온성 화합물 (C) 은 단독으로 또는 복수를 병용할 수 있다.
본 발명의 광학용 점착제에 있어서의 이온성 화합물 (C) 의 비율은, 베이스 폴리머 (A) 100 중량부에 대하여 5 중량부 이하가 바람직하고, 나아가서는 0.0001 ∼ 5 중량부가 바람직하다. 상기 이온성 화합물 (C) 이 0.0001 중량부 미만에서는, 대전 방지 성능의 향상 효과가 충분하지 않은 경우가 있다. 상기 이온성 화합물 (C) 은, 0.01 중량부 이상이 바람직하고, 나아가서는 0.1 중량부 이상인 것이 바람직하다. 한편, 상기 이온성 화합물 (C) 은 5 중량부보다 많으면, 내구성이 충분하지 않게 되는 경우가 있다. 상기 이온성 화합물 (C) 은, 3 중량부 이하가 바람직하고, 나아가서는 1 중량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 이온성 화합물 (C) 의 비율은, 상기 상한치 또는 하한치를 채용하여 바람직한 범위를 설정할 수 있다.
본 발명의 광학용 점착제는, 산화 방지제 (D) 를 함유할 수 있다. 산화 방지제 (D) 는, 점착제층의 내구성 향상의 점에서 바람직하다. 산화 방지제 (D) 로는, 페놀계, 인계, 황계 및 아민계의 산화 방지제 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 페놀계 산화 방지제가 바람직하다.
페놀계 산화 방지제의 구체예로는, 단고리 페놀 화합물로서 2,6-디-t-부틸-p-크레졸, 2,6-디-t-부틸-4-에틸페놀, 2,6-디시클로헥실-4-메틸페놀, 2,6-디이소프로필-4-에틸페놀, 2,6-디-t-아밀-4-메틸페놀, 2,6-디-t-옥틸-4-n-프로필페놀, 2,6-디시클로헥실-4-n-옥틸페놀, 2-이소프로필-4-메틸-6-t-부틸페놀, 2-t-부틸-4-에틸-6-t-옥틸페놀, 2-이소부틸-4-에틸-6-t-헥실페놀, 2-시클로헥실-4-n-부틸-6-이소프로필페놀, 스티렌화 혼합 크레졸, DL-α-토코페롤, 스테아릴β-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트 등을, 2 고리 페놀 화합물로서, 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 4,4'-티오비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 2,2'-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-t-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[6-(1-메틸시클로헥실)-p-크레졸], 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-t-부틸페놀), 2,2'-부틸리덴비스(2-t-부틸-4-메틸페놀), 3,6-디옥사옥타메틸렌비스[3-(3-t-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오네이트], 트리에틸렌글리콜비스[3-(3-t-부틸-5-메틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트], 1,6-헥산디올비스[3-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트], 2,2'-티오디에틸렌비스[3-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트] 등을, 3 고리 페놀 화합물로서, 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-t-부틸페닐)부탄, 1,3,5-트리스(2,6-디메틸-3-하이드록시-4-t-부틸벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스[(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오닐옥시에틸]이소시아누레이트, 트리스(4-t-부틸-2,6-디메틸-3-하이드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)벤젠 등을, 4 고리 페놀 화합물로서, 테트라키스[메틸렌-3-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트]메탄 등을, 인 함유 페놀 화합물로서, 비스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질포스폰산에틸)칼슘, 비스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질포스폰산에틸)니켈 등을 들 수 있다.
인계 산화 방지제의 구체예로는, 트리옥틸포스파이트, 트리라우릴포스파이트, 트리스트리데실포스파이트, 트리스이소데실포스파이트, 페닐디이소옥틸포스파이트, 페닐디이소데실포스파이트, 페닐디(트리데실)포스파이트, 디페닐이소옥틸포스파이트, 디페닐이소데실포스파이트, 디페닐트리데실포스파이트, 트리페닐포스파이트, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트, 트리스(부톡시에틸)포스파이트, 테트라트리데실-4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-t-부틸페놀)-디포스파이트, 4,4'-이소프로필리덴-디페놀알킬포스파이트 (단, 알킬은 탄소수 12 ∼ 15 정도), 4,4'-이소프로필리덴비스(2-t-부틸페놀)·디(노닐페닐)포스파이트, 트리스(비페닐)포스파이트, 테트라(트리데실)-1,1,3-트리스(2-메틸-5-t-부틸-4-하이드록시페닐)부탄디포스파이트, 트리스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)포스파이트, 수소화-4,4'-이소프로필리덴디페놀폴리포스파이트, 비스(옥틸페닐)·비스[4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-t-부틸페놀)]·1,6-헥산디올디포스파이트, 헥사트리데실-1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-t-부틸페놀)디포스파이트, 트리스[4,4'-이소프로필리덴비스(2-t-부틸페놀)]포스파이트, 트리스(1,3-디스테아로일옥시이소프로필)포스파이트, 9,10-디하이드로-9-포스파페난트렌-10-옥사이드, 테트라키스(2,4-디-t-부틸페닐)-4,4'-비페닐렌디포스포나이트, 디스테아릴펜타에리스리톨디포스파이트, 디(노닐페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 페닐·4,4'-이소프로필리덴디페놀·펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,4-디-t-부틸페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,6-디-t-부틸-4-메틸페닐)펜타에리스리톨디포스파이트 및 페닐비스페놀-A-펜타에리스리톨디포스파이트 등을 들 수 있다.
황계 산화 방지제로는, 디알킬티오디프로피오네이트 및 알킬티오프로피온산의 다가 알코올에스테르를 사용하는 것이 바람직하다. 여기서 사용되는 디알킬티오디프로피오네이트로는, 탄소수 6 ∼ 20 의 알킬기를 갖는 디알킬티오디프로피오네이트가 바람직하고, 또 알킬티오프로피온산의 다가 알코올에스테르로는, 탄소수 4 ∼ 20 의 알킬기를 갖는 알킬티오프로피온산의 다가 알코올에스테르가 바람직하다. 이 경우에 다가 알코올에스테르를 구성하는 다가 알코올의 예로는, 글리세린, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨 및 트리스하이드록시에틸이소시아누레이트 등을 들 수 있다. 이와 같은 디알킬티오디프로피오네이트로는, 예를 들어 디라우릴티오디프로피오네이트, 디미리스틸티오디프로피오네이트 및 디스테아릴티오디프로피오네이트 등을 들 수 있다. 한편, 알킬티오프로피온산의 다가 알코올에스테르로는, 예를 들어 글리세린트리부틸티오프로피오네이트, 글리세린트리옥틸티오프로피오네이트, 글리세린트리라우릴티오프로피오네이트, 글리세린트리스테아릴티오프로피오네이트, 트리메틸올에탄트리부틸티오프로피오네이트, 트리메틸올에탄트리옥틸티오프로피오네이트, 트리메틸올에탄트리라우릴티오프로피오네이트, 트리메틸올에탄트리스테아릴티오프로피오네이트, 펜타에리스리톨테트라부틸티오프로피오네이트, 펜타에리스리톨테트라옥틸티오프로피오네이트, 펜타에리스리톨테트라라우릴티오프로피오네이트, 펜타에리스리톨테트라스테아릴티오프로피오네이트 등을 들 수 있다.
아민계 산화 방지제의 구체예로는, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 숙신산디메틸과 1-(2-하이드록시에틸)-4-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘에탄올의 중축합물, N,N', N'', N'''-테트라키스-(4,6-비스-(부틸-(N-메틸-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)아미노)-트리아진-2-일)-4,7-디아자데칸-1,10-디아민, 디부틸아민·1,3,5-트리아진·N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜-1,6-헥사메틸렌디아민과 N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)부틸아민의 중축합물, 폴리[{6-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)아미노-1,3,5-트리아진-2,4-디일}{(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노}헥사메틸렌{(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노}], 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄테트라카르복시레이트, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜벤조에이트, 비스-(1,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-2-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)-2-n-부틸말로네이트, 비스-(N-메틸-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 1,1'-(1,2-에탄디일)비스(3,3,5,5-테트라메틸피페라지논), (믹스드2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜/트리데실)-1,2,3,4-부탄테트라카르복시레이트, (믹스드1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜/트리데실)-1,2,3,4-부탄테트라카르복시레이트, 믹스드[2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜/β,β,β',β'-테트라메틸-3,9-[2,4,8,10-테트라옥사스피로(5,5)운데칸]디에틸]-1,2,3,4-부탄테트라카르복시레이트, 믹스드[1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜/β,β,β',β'-테트라메틸-3,9-[2,4,8,10-테트라옥사스피로(5,5)운데칸]디에틸]-1,2,3,4-부탄테트라카르복시레이트, N,N'-비스(3-아미노프로필)에틸렌디아민-2,4-비스[N-부틸-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노]-6-클로로-1,3,5-트리아진 축합물, 폴리[6-N-모르포릴-1,3,5-트리아진-2,4-디일][(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노]헥사메틸렌[(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미드], N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 1,2-디브로모에탄의 축합물, [N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-2-메틸-2-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노]프로피온아미드 등을 들 수 있다.
본 발명의 광학용 점착제에 있어서의 산화 방지제 (D) 의 비율이, 베이스 폴리머 (A) 100 중량부에 대하여 5 중량부 이하가 바람직하고, 나아가서는 0.01 ∼ 2 중량부가 바람직하다. 상기 산화 방지제 (D) 는 0.05 중량부 이상이 바람직하고, 나아가서는 0.1 중량부 이상인 것이 바람직하다. 한편, 상기 산화 방지제 (D) 가 5 중량부보다 많으면 내구성의 저하나, 가교도의 저하를 야기시킨다. 상기 산화 방지제 (D) 는 1.5 중량부 이하가 바람직하고, 나아가서는 1 중량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 산화 방지제 (D) 의 비율은, 상기 상한치 또는 하한치를 채용하여 바람직한 범위를 설정할 수 있다.
또한, 본 발명의 광학용 점착제에는 가교제 (E) 를 함유할 수 있다. 가교제 (E) 로는, 유기계 가교제나 다관능성 금속 킬레이트를 사용할 수 있다. 유기계 가교제로는 이소시아네이트계 가교제, 과산화물계 가교제, 에폭시계 가교제, 이민계 가교제 등을 들 수 있다. 다관능성 금속 킬레이트는, 다가 금속이 유기 화합물과 공유 결합 또는 배위 결합되어 있는 것이다. 다가 금속 원자로는 Al, Cr, Zr, Co, Cu, Fe, Ni, V, Zn, In, Ca, Mg, Mn, Y, Ce, Sr, Ba, Mo, La, Sn, Ti 등을 들 수 있다. 공유 결합 또는 배위 결합하는 유기 화합물 중의 원자로는 산소 원자 등을 들 수 있고, 유기 화합물로는 알킬에스테르, 알코올 화합물, 카르복실산 화합물, 에테르 화합물, 케톤 화합물 등을 들 수 있다.
가교제 (E) 로는, 이소시아네이트계 가교제 및/또는 과산화물계 가교제가 바람직하다. 이소시아네이트계 가교제에 관련된 화합물로는, 예를 들어 톨릴렌디이소시아네이트, 클로르페닐렌디이소시아네이트, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 수소 첨가된 디페닐메탄디이소시아네이트 등의 이소시아네이트 모노머 및 이들 이소시아네이트 모노머를 트리메틸올프로판 등과 부가한 이소시아네이트 화합물이나 이소시아누레이트화물, 뷰렛형 화합물, 나아가서는 폴리에테르폴리올이나 폴리에스테르폴리올, 아크릴폴리올, 폴리부타디엔폴리올, 폴리이소프렌폴리올 등과 부가 반응시킨 우레탄 프레폴리머형의 이소시아네이트 등을 들 수 있다. 특히 바람직하게는 폴리이소시아네이트 화합물이고, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 수소 첨가 자일릴렌디이소시아네이트 및 이소포론디이소시아네이트로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 또는 그것에서 유래하는 폴리이소시아네이트 화합물이다. 여기서, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 수소 첨가 자일릴렌디이소시아네이트 및 이소포론디이소시아네이트로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 또는 그것에서 유래하는 폴리이소시아네이트 화합물에는 헥사메틸렌디이소시아네이트, 수소 첨가 자일릴렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 폴리올 변성 헥사메틸렌디이소시아네이트, 폴리올 변성 수소 첨가 자일릴렌디이소시아네이트, 트리머형 수소 첨가 자일릴렌디이소시아네이트 및 폴리올 변성 이소포론디이소시아네이트 등이 포함된다. 예시한 폴리이소시아네이트 화합물은, 수산기와의 반응이, 특히 폴리머에 함유되는 산, 염기를 촉매와 같이 하여 신속하게 진행되기 때문에, 특히 가교를 빠르게 하는 것에 기여하여 바람직하다.
과산화물로는, 가열 또는 광 조사에 의해 라디칼 활성종을 발생시켜 점착제 조성물의 베이스 폴리머의 가교를 진행시키는 것이면 적절히 사용할 수 있지만, 작업성이나 안정성을 감안하여 1 분간 반감기 온도가 80 ℃ ∼ 160 ℃ 인 과산화물을 사용하는 것이 바람직하고, 90 ℃ ∼ 140 ℃ 인 과산화물을 사용하는 것이 보다 바람직하다.
사용할 수 있는 과산화물로는, 예를 들어 디(2-에틸헥실)퍼옥시디카보네이트 (1 분간 반감기 온도 : 90.6 ℃), 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트 (1 분간 반감기 온도 : 92.1 ℃), 디-sec-부틸퍼옥시디카보네이트 (1 분간 반감기 온도 : 92.4 ℃), t-부틸퍼옥시네오데카노에이트 (1 분간 반감기 온도 : 103.5 ℃), t-헥실퍼옥시피발레이트 (1 분간 반감기 온도 : 109.1 ℃), t-부틸퍼옥시피발레이트 (1 분간 반감기 온도 : 110.3 ℃), 디라우로일퍼옥사이드 (1 분간 반감기 온도 : 116.4 ℃), 디-n-옥타노일퍼옥사이드 (1 분간 반감기 온도 : 117.4 ℃), 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 (1 분간 반감기 온도 : 124.3 ℃), 디(4-메틸벤조일)퍼옥사이드 (1 분간 반감기 온도 : 128.2 ℃), 디벤조일퍼옥사이드 (1 분간 반감기 온도 : 130.0 ℃), t-부틸퍼옥시이소부틸레이트 (1 분간 반감기 온도 : 136.1 ℃), 1,1-디(t-헥실퍼옥시)시클로헥산 (1 분간 반감기 온도 : 149.2 ℃) 등을 들 수 있다. 그 중에서도 특히 가교 반응 효율이 우수한 점에서, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트 (1 분간 반감기 온도 : 92.1 ℃), 디라우로일퍼옥사이드 (1 분간 반감기 온도 : 116.4 ℃), 디벤조일퍼옥사이드 (1 분간 반감기 온도 : 130.0 ℃) 등이 바람직하게 사용된다.
또한, 과산화물의 반감기란, 과산화물의 분해 속도를 나타내는 지표로, 과산화물의 잔존량이 절반이 될 때까지의 시간을 말한다. 임의의 시간에서 반감기를 얻기 위한 분해 온도나, 임의의 온도에서의 반감기 시간에 관해서는, 메이커 카탈로그 등에 기재되어 있으며, 예를 들어 닛폰 유지 주식회사의 「유기 과산화물 카탈로그 제 9 판 (2003 년 5 월)」등에 기재되어 있다.
가교제 (E) 의 사용량은, (메트)아크릴계 폴리머 (A) 100 중량부에 대하여 0.01 ∼ 20 중량부가 바람직하고, 나아가서는 0.03 ∼ 10 중량부가 바람직하다. 또한, 가교제 (E) 가 0.01 중량부 미만에서는, 점착제의 응집력이 부족한 경향이 있어 가열시에 발포가 발생할 우려가 있고, 한편 20 중량부보다 많으면, 내습성이 충분하지 않아 신뢰성 시험 등에서 박리가 발생하기 쉬워진다.
상기 이소시아네이트계 가교제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 또 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 되지만, 전체로서의 함유량은, 상기 (메트)아크릴계 폴리머 (A) 100 중량부에 대하여 상기 폴리이소시아네이트 화합물 가교제를 0.01 ∼ 2 중량부 함유하여 이루어지는 것이 바람직하고, 0.02 ∼ 2 중량부 함유하여 이루어지는 것이 보다 바람직하고, 0.05 ∼ 1.5 중량부 함유하여 이루어지는 것이 더욱 바람직하다. 응집력, 내구성 시험에서의 박리의 저지 등을 고려하여 적절히 함유시키는 것이 가능하다.
상기 과산화물은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 또 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 되지만, 전체로서의 함유량은, 상기 (메트)아크릴계 폴리머 (A) 100 중량부에 대하여 상기 과산화물 0.01 ∼ 2 중량부이고, 0.04 ∼ 1.5 중량부 함유하여 이루어지는 것이 바람직하고, 0.05 ∼ 1 중량부 함유하여 이루어지는 것이 보다 바람직하다. 가공성, 리워크성, 가교 안정성, 박리성 등의 조정을 위해 이 범위 내에서 적절히 선택된다.
또한, 반응 처리 후의 잔존한 과산화물 분해량의 측정 방법으로는, 예를 들어 HPLC (고속 액체 크로마토그래피) 에 의해 측정할 수 있다.
보다 구체적으로는, 예를 들어 반응 처리 후의 점착제 조성물을 약 0.2 g 씩 취출하여, 아세트산에틸 10 ㎖ 에 침지시키고, 진탕기로 25 ℃ 하, 120 rpm 으로 3 시간 진탕 추출한 후, 실온에서 3 일간 정치 (靜置) 한다. 이어서, 아세토니트릴 10 ㎖ 첨가하여, 25 ℃ 하, 120 rpm 으로 30 분 진탕하고, 멤브레인 필터 (0.45 ㎛) 에 의해 여과하여 얻어진 추출액 약 10 ㎕ 를 HPLC 에 주입하고 분석하여, 반응 처리 후의 과산화물량으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 광학용 점착제에는, 실란 커플링제 (F) 를 함유할 수 있다. 실란 커플링제 (F) 를 사용함으로써 내구성을 향상시킬 수 있다. 실란 커플링제로는, 구체적으로는 예를 들어 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등의 에폭시기 함유 실란 커플링제, 3-아미노프로필트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, 3-트리에톡시실릴-N-(1,3-디메틸부틸리덴)프로필아민, N-페닐-γ-아미노프로필트리메톡시실란 등의 아미노기 함유 실란 커플링제, 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란 등의 (메트)아크릴기 함유 실란 커플링제, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등의 이소시아네이트기 함유 실란 커플링제 등을 들 수 있다.
상기 실란 커플링제 (F) 는 단독으로 사용해도 되고, 또한 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 되지만, 전체로서의 함유량은 상기 (메트)아크릴계 폴리머 100 중량부에 대하여 상기 실란 커플링제 0.001 ∼ 5 중량부가 바람직하고, 나아가서는 0.01 ∼ 1 중량부가 바람직하고, 나아가서는 0.02 ∼ 1 중량부가 보다 바람직하고, 나아가서는 0.05 ∼ 0.6 중량부가 바람직하다. 내구성을 향상시켜, 액정 셀 등의 광학 부재에 대한 접착력을 적절히 유지하는 양이다.
추가로 본 발명의 광학용 점착제에는, 그 밖의 공지된 첨가제를 함유하고 있어도 되어, 예를 들어 착색제, 안료 등의 분체, 염료, 계면 활성제, 가소제, 점착성 부여제, 표면 윤활제, 레벨링제, 연화제, 산화 방지제, 노화 방지제, 광 안정제, 자외선 흡수제, 중합 금지제, 무기 또는 유기의 충전제, 금속 분말, 입자상, 박상물 등을 사용하는 용도에 따라 적절히 첨가할 수 있다. 또, 제어할 수 있는 범위 내에서 환원제를 첨가한 레독스계를 채용해도 된다.
본 발명의 광학용 점착제층은 상기 광학용 점착제에 의해 형성하는데, 점착제층의 형성에 있어서는, 가교제 전체의 첨가량을 조정함과 함께, 가교 처리 온도나 가교 처리 시간의 영향을 충분히 고려하는 것이 바람직하다.
사용하는 가교제에 따라 가교 처리 온도나 가교 처리 시간은 조정이 가능하다. 가교 처리 온도는 170 ℃ 이하인 것이 바람직하다.
또, 이러한 가교 처리는, 점착제층의 건조 공정시의 온도에서 실시해도 되고, 건조 공정 후에 별도로 가교 처리 공정을 마련하여 실시해도 된다.
또, 가교 처리 시간에 관해서는, 생산성이나 작업성을 고려하여 설정할 수 있는데, 통상 0.2 ∼ 20 분간 정도이고, 0.5 ∼ 10 분간 정도인 것이 바람직하다.
본 발명의 점착제층이 부착된 광학 필름은, 광학 필름의 적어도 편면에 상기 광학용 점착제에 의해 점착제층을 형성한 것이다.
점착제층을 형성하는 방법으로는, 예를 들어 상기 광학용 점착제를 박리 처리한 세퍼레이터 등에 도포하고, 중합 용제 등을 건조 제거하여 점착제층을 형성한 후에 광학 필름에 전사하는 방법, 또는 광학 필름에 상기 광학용 점착제를 도포하고, 중합 용제 등을 건조 제거하여 점착제층을 광학 필름에 형성하는 방법 등에 의해 제작된다. 또한, 상기 광학용 점착제의 도포에 있어서는, 적절히 중합 용제 이외의 1 종 이상의 용제를 새로 첨가해도 된다.
박리 처리한 세퍼레이터로는, 실리콘 박리 라이너가 바람직하게 사용된다. 이와 같은 라이너 상에 본 발명의 광학용 점착제를 도포, 건조시켜 점착제층을 형성하는 공정에 있어서, 점착제를 건조시키는 방법으로는, 목적에 따라 적당히 적절한 방법이 채용될 수 있다. 바람직하게는 상기 도포막을 과열 건조시키는 방법이 사용된다. 가열 건조 온도는, 바람직하게는 40 ℃ ∼ 200 ℃ 이고, 더욱 바람직하게는 50 ℃ ∼ 180 ℃ 이고, 특히 바람직하게는 70 ℃ ∼ 170 ℃ 이다. 가열 온도를 상기 범위로 함으로써, 우수한 점착 특성을 갖는 점착제를 얻을 수 있다.
건조 시간은, 적당히 적절한 시간이 채용될 수 있다. 상기 건조 시간은, 바람직하게는 5 초 ∼ 20 분, 더욱 바람직하게는 5 초 ∼ 10 분, 특히 바람직하게는 10 초 ∼ 5 분이다.
또, 광학 필름의 표면에 앵커층을 형성하거나, 코로나 처리, 플라즈마 처리 등의 각종 접착 용이 처리를 실시한 후에 점착제층을 형성할 수 있다. 또, 점착제층의 표면에는 접착 용이 처리를 실시해도 된다.
점착제층의 형성 방법으로는 각종 방법이 사용된다. 구체적으로는, 예를 들어 롤 코트, 키스 롤 코트, 그라비아 코트, 리버스 코트, 롤 브러시, 스프레이 코트, 딥 롤 코트, 바 코트, 나이프 코트, 에어 나이프 코트, 커튼 코트, 립 코트, 다이 코터 등에 의한 압출 코트법 등의 방법을 들 수 있다.
점착제층의 두께는 특별히 제한되지 않고, 예를 들어 1 ∼ 100 ㎛ 정도이다. 바람직하게는 2 ∼ 50 ㎛, 보다 바람직하게는 2 ∼ 40 ㎛ 이다. 더욱 바람직하게는 5 ∼ 35 ㎛ 이다.
상기 점착제층이 노출되는 경우에는, 실용에 제공될 때까지 박리 처리한 시트 (세퍼레이터) 로 점착제층을 보호해도 된다.
세퍼레이터의 구성 재료로는, 예를 들어 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에스테르 필름 등의 플라스틱 필름, 종이, 천, 부직포 등의 다공질 재료, 네트, 발포 시트, 금속박, 및 이들의 라미네이트체 등의 적절한 박엽체 등을 들 수 있는데, 표면 평활성이 우수한 점에서 플라스틱 필름이 바람직하게 사용된다.
그 플라스틱 필름으로는, 상기 점착제층을 보호할 수 있는 필름이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리부텐 필름, 폴리부타디엔 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리염화비닐 필름, 염화비닐 공중합체 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리우레탄 필름, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 필름 등을 들 수 있다.
상기 세퍼레이터의 두께는, 통상 5 ∼ 200 ㎛, 바람직하게는 5 ∼ 100 ㎛ 정도이다. 상기 세퍼레이터에는, 필요에 따라 실리콘계, 불소계, 장사슬 알킬계 혹은 지방산 아미드계의 이형제, 실리카 분말 등에 의한 이형 및 방오 처리나, 도포형, 혼련형, 증착형 등의 대전 방지 처리도 할 수도 있다. 특히, 상기 세퍼레이터의 표면에 실리콘 처리, 장사슬 알킬 처리, 불소 처리 등의 박리 처리를 적절히 실시함으로써, 상기 점착제층으로부터의 박리성을 보다 높일 수 있다.
또한, 상기 점착제층이 부착된 광학 필름의 제작시에 사용한 박리 처리한 시트는, 그대로 점착제층이 부착된 광학 필름의 세퍼레이터로서 사용할 수 있어, 공정면에서의 간략화가 가능하다.
상기 광학 필름으로는, 액정 표시 장치 등의 화상 표시 장치의 형성에 사용되는 것을 사용할 수 있으며, 그 종류는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 광학 필름으로는 편광 필름을 들 수 있다. 편광 필름은 편광자의 편면 또는 양면에는 투명 보호 필름을 갖는 것이 일반적으로 사용된다. 본 발명의 광학용 점착제는, 편광 필름으로서 편광자의 편측에만 투명 보호 필름을 갖는 것을 사용하는 경우에 유효하며, 이 경우에는, 상기 점착제층은 상기 투명 보호 필름을 갖지 않는 측의 편광자에 직접 형성된다.
또 편광자로는 두께가 10 ㎛ 이하인 박형 편광자를 사용할 수 있다. 박형화의 관점에서 말하면, 해당 두께는 1 ∼ 7 ㎛ 인 것이 바람직하다. 이와 같은 박형 편광자는 두께 불균일이 적어 시인성이 우수하고, 또 치수 변화가 적기 때문에 내구성이 우수하며, 나아가서는 편광 필름으로서의 두께도 박형화가 도모되는 점이 바람직하다.
편광자는 특별히 한정되지 않고, 각종의 것을 사용할 수 있다. 편광자로는, 예를 들어 폴리비닐알코올계 필름, 부분 포르말화 폴리비닐알코올계 필름, 에틸렌ㆍ아세트산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 이색성 염료의 이색성 물질을 흡착시켜 1 축 연신한 것, 폴리비닐알코올의 탈수 처리물이나 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 폴리비닐알코올계 필름과 요오드 등의 이색성 물질로 이루어지는 편광자가 바람직하다.
폴리비닐알코올계 필름을 요오드로 염색하고 1 축 연신한 편광자는, 예를 들어 폴리비닐알코올계 필름을 요오드의 수용액에 침지시킴으로써 염색하고, 원래 길이의 3 ∼ 7 배로 연신함으로써 제조할 수 있다. 필요에 따라서 붕산이나 황산아연, 염화아연 등을 함유하고 있어도 되는 요오드화 칼륨 등의 수용액에 침지시킬 수도 있다. 또한, 필요에 따라서 염색 전에 폴리비닐알코올계 필름을 물에 침지시켜 물로 세정해도 된다. 폴리비닐알코올계 필름을 물로 세정함으로써 폴리비닐알코올계 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있는 것 외에, 폴리비닐알코올계 필름을 팽윤시킴으로써 염색의 불균일 등의 불균일을 방지하는 효과도 있다. 연신은 요오드로 염색한 후에 실시해도 되고, 염색하면서 연신해도 되고, 또 연신하고 나서 요오드로 염색해도 된다. 붕산이나 요오드화 칼륨 등의 수용액이나 수욕 중에서도 연신할 수 있다.
박형 편광자로는, 대표적으로는 일본 공개특허공보 소51-069644호나 일본 공개특허공보 2000-338329호나, WO2010/100917호 팜플렛, PCT/JP2010/001460 의 명세서, 또는 일본 특허출원 2010-269002호 명세서나 일본 특허출원 2010-263692호 명세서에 기재되어 있는 박형 편광막을 들 수 있다. 이들 박형 편광막은, 폴리비닐알코올계 수지 (이하, PVA 계 수지라고도 한다) 층과 연신용 수지 기재를 적층체의 상태로 연신하는 공정과 염색하는 공정을 포함하는 제법에 의해 얻을 수 있다. 이 제법이면, PVA 계 수지층이 얇아도, 연신용 수지 기재에 지지되어 있음으로써 연신에 의한 파단 등의 문제없이 연신하는 것이 가능해진다.
상기 박형 편광막으로는, 적층체의 상태로 연신하는 공정과 염색하는 공정을 포함하는 제법 중에서도, 고배율로 연신할 수 있어 편광 성능을 향상시킬 수 있는 점에서, WO2010/100917호 팜플렛, PCT/JP2010/001460 의 명세서, 또는 일본 특허출원 2010-269002호 명세서나 일본 특허출원 2010-263692호 명세서에 기재되어 있는 붕산 수용액 중에서 연신하는 공정을 포함하는 제법으로 얻어지는 것이 바람직하고, 특히 일본 특허출원 2010-269002호 명세서나 일본 특허출원 2010-263692호 명세서에 기재되어 있는 붕산 수용액 중에서 연신하기 전에 보조적으로 공중 연신하는 공정을 포함하는 제법에 의해 얻어지는 것이 바람직하다.
요오드계 편광자로는, 요오드 함유량 (요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량) 이 3 ∼ 10 중량％ 의 고농도가 되도록 조정된 것이 바람직하다. 고농도의 요오드계 편광자는, 박형 편광자에 바람직하게 적용할 수 있다. 고농도의 요오드계 편광자는, 점착제층을 첩합한 후에 점착제층 중에 요오드 및/또는 요오드 이온을 전이시키기 쉬운 점에서 바람직하다.
투명 보호 필름을 구성하는 재료로는, 예를 들어 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 수분 차단성, 등방성 등이 우수한 열가소성 수지가 사용된다. 이와 같은 열가소성 수지의 구체예로는, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리술폰 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리올레핀 수지, (메트)아크릴 수지, 고리형 폴리올레핀 수지 (노르보르넨계 수지), 폴리아릴레이트 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리비닐알코올 수지, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. 또한, 편광자의 편측에는, 투명 보호 필름이 접착제층에 의해 첩합되지만, 다른 편측에는, 투명 보호 필름으로서(메트)아크릴계, 우레탄계, 아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화성 수지 또는 자외선 경화형 수지를 사용할 수 있다. 투명 보호 필름 중에는 임의의 적절한 첨가제가 1 종류 이상 함유되어 있어도 된다. 첨가제로는, 예를 들어 자외선 흡수제, 산화 방지제, 활제, 가소제, 이형제, 착색 방지제, 난연제, 핵제, 대전 방지제, 안료, 착색제 등을 들 수 있다. 투명 보호 필름 중의 상기 열가소성 수지의 함유량은, 바람직하게는 50 ∼ 100 중량％, 보다 바람직하게는 50 ∼ 99 중량％, 더욱 바람직하게는 60 ∼ 98 중량％, 특히 바람직하게는 70 ∼ 97 중량％ 이다. 투명 보호 필름 중의 상기 열가소성 수지의 함유량이 50 중량％ 이하인 경우, 열가소성 수지가 본래 갖는 고투명성 등을 충분히 발현시키지 못할 우려가 있다.
편광자와 투명 보호 필름의 접착 처리에는 접착제가 사용된다. 접착제로는 이소시아네이트계 접착제, 폴리비닐알코올계 접착제, 젤라틴계 접착제, 비닐계 라텍스계, 수계 폴리에스테르 등을 예시할 수 있다. 상기 접착제는, 통상 수용액으로 이루어지는 접착제로서 사용되고, 통상 0.5 ∼ 60 중량％ 의 고형분을 함유하여 이루어진다. 상기 외에, 편광자와 투명 보호 필름의 접착제로는, 자외 경화형 접착제, 전자선 경화형 접착제 등을 들 수 있다. 전자선 경화형 편광 필름용 접착제는, 상기 각종 투명 보호 필름에 대하여 바람직한 접착성을 나타낸다. 또, 본 발명에서 사용하는 접착제에는, 금속 화합물 필러를 함유시킬 수 있다.
또 광학 필름으로는, 예를 들어 반사판이나 반투과판, 위상차판 (1/2 이나 1/4 등의 파장판을 포함한다), 시각 보상 필름, 휘도 향상 필름 등의 액정 표시 장치 등의 형성에 사용되는 경우가 있는 광학층이 되는 것을 들 수 있다. 이들은 단독으로 광학 필름으로서 사용할 수 있는 것 외에, 상기 편광 필름에, 실용시에 적층하여 1 층 또는 2 층 이상 사용할 수 있다.
편광 필름에 상기 광학층을 적층한 광학 필름은, 액정 표시 장치 등의 제조 과정에서 순차적으로 별개로 적층하는 방식으로도 형성할 수 있지만, 미리 적층하여 광학 필름으로 한 것은, 품질의 안정성이나 조립 작업 등이 우수하여 액정 표시 장치 등의 제조 공정을 향상시킬 수 있는 이점이 있다. 적층에는 점착층 등의 적절한 접착 수단을 사용할 수 있다. 상기 편광 필름과 다른 광학층의 접착시에, 그들의 광학축은 목적으로 하는 위상차 특성 등에 따라 적절한 배치 각도로 할 수 있다.
본 발명의 점착제층이 부착된 편광 필름은 액정 표시 장치 등의 각종 화상 표시 장치의 형성 등에 바람직하게 사용할 수 있다. 액정 표시 장치의 형성은, 종래에 준하여 실시할 수 있다. 즉, 액정 표시 장치는, 일반적으로 액정 셀 등의 표시 패널과 점착제층이 부착된 편광 필름, 및 필요에 따른 조명 시스템 등의 구성 부품을 적절히 조립하여 구동 회로를 삽입하는 것 등에 의해 형성되는데, 본 발명에 있어서는, 본 발명에 의한 점착제층이 부착된 편광 필름을 사용하는 점을 제외하고 특별한 한정없이 종래에 준할 수 있다. 액정 셀에 대해서도, 예를 들어 TN 형이나 STN 형, π 형, VA 형, IPS 형 등의 임의의 타입을 사용할 수 있다.
액정 셀 등의 표시 패널의 편측 또는 양측에 점착제층이 부착된 편광 필름을 배치한 액정 표시 장치나, 조명 시스템에 백라이트 혹은 반사판을 사용한 것 등의 적절한 액정 표시 장치를 형성할 수 있다. 그 경우, 본 발명에 의한 점착제층이 부착된 편광 필름은 액정 셀 등의 표시 패널의 편측 또는 양측에 설치할 수 있다. 양측에 광학 필름을 형성하는 경우, 그것들은 동일한 것이어도 되고, 상이한 것이어도 된다. 또한, 액정 표시 장치의 형성시에는, 예를 들어 확산층, 안티글레어층, 반사 방지막, 보호판, 프리즘 어레이, 렌즈 어레이 시트, 광 확산 시트, 백라이트 등의 적절한 부품을 적절한 위치에 1 층 또는 2 층 이상 배치할 수 있다.
실시예
이하에 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한, 각 예 중의 부 및 ％ 는 모두 중량 기준이다. 이하에 특별히 규정이 없는 실온 방치 조건은 모두 23 ℃ 65 ％RH 이다.
＜(메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량의 측정＞
(메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, GPC (겔ㆍ퍼미에이션ㆍ크로마토그래피) 에 의해 측정하였다.
ㆍ분석 장치 : 토소사 제조, HLC-8120GPC
ㆍ칼럼 : 토소사 제조, G7000HXL＋GMHXL＋GMHXL
ㆍ칼럼 사이즈 : 각 7.8 ㎜φ × 30 ㎝ 합계 90 ㎝
ㆍ칼럼 온도 : 40 ℃
ㆍ유량 : 0.8 ㎖/min
ㆍ주입량 : 100 ㎕
ㆍ용리액 : 테트라하이드로푸란
ㆍ검출기 : 시차 굴절계 (RI)
ㆍ표준 시료 : 폴리스티렌
<편광자 중의 요오드 함유량>
편광자 중의 요오드 함유량 (요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량) 은, 소정의 요오드화 칼륨량을 포함하는 편광자에 대하여 형광 X 선 강도를 측정하여, 요오드 함유량과 형광 X 선 강도의 관계식을 도출하였다. 요오드 함유량이 미지의 요오드계 편광자의 형광 X 선을 측정하고, 그 수치로부터 상기 관계식을 이용하여 요오드량을 계산하였다.
<편광 필름 (1) 의 제조>
박형 편광자를 제작하기 위해서, 우선 비정성 PET 기재에 9 ㎛ 두께의 PVA 층이 제막된 적층체를 연신 온도 130 ℃ 의 공중 보조 연신에 의해서 연신 적층체를 생성하고, 이어서 연신 적층체를 물 100 중량부에 대하여 요오드 0.1 중량부, 요오드화 칼륨 0.7 중량부를 함유하는 염색액에 60 초간 침지시켜 착색 적층체를 생성하였다. 다시 착색 적층체를 연신 온도 65 도의 붕산 수중 연신에 의해 총 연신 배율이 5.94 배가 되도록 비정성 PET 기재와 일체로 연신된 4 ㎛ 두께의 PVA 층을 포함하는 광학 필름 적층체를 생성하였다. 이와 같은 2 단 연신에 의해서 비정성 PET 기재에 제막된 PVA 층의 PVA 분자가 고차로 배향되고, 염색에 의해서 흡착된 요오드가 폴리요오드 이온 착물로서 일 방향으로 고차로 배향된 고기능 편광층을 구성하는 두께 4 ㎛ 의 PVA 층을 포함하는 광학 필름 적층체를 생성할 수 있었다. 또한, 해당 광학 필름 적층체의 편광층의 표면에 폴리비닐알코올계 접착제를 도포하면서, 비누화 처리한 40 ㎛ 두께의 트리아세틸셀룰로오스 필름을 첩합한 후, 비정성 PET 기재를 박리하여, 박형의 요오드계 편광자를 사용한 편측에만 투명 보호 필름을 갖는 편광 필름을 제작하였다. 이하, 이것을 편광 필름 (1) 이라고 한다. 박형의 요오드계 편광자의 요오드 함유량은 5.1 ％ 였다.
<편광 필름 (2) 의 제조>
두께 80 ㎛ 의 폴리비닐알코올 필름을, 속도비가 상이한 롤 사이에 있어서 30 ℃, 0.3 ％ 농도의 요오드 용액 중에서 1 분간 염색하면서, 3 배까지 연신하였다. 그 후, 60 ℃, 4 ％ 농도의 붕산, 10 ％ 농도의 요오드화 칼륨을 포함하는 수용액 중에 0.5 분간 침지시키면서 종합 연신 배율이 6 배가 되도록 연신하였다. 이어서, 30 ℃, 1.5 ％ 농도의 요오드화 칼륨을 포함하는 수용액 중에 10 초간 침지시킴으로써 세정한 후, 50 ℃ 에서 4 분간 건조시켜, 두께 20 ㎛ 의 요오드계 편광자를 얻었다. 해당 편광자의 일면에 비누화 처리한 두께 40 ㎛ 의 트리아세틸셀룰로오스 필름을, 다른 편면에 두께 33 ㎛ 의 노르보르넨계 필름을, 각각 폴리비닐알코올계 접착제에 의해 첩합하여, 요오드계 편광자의 양측에 투명 보호 필름을 갖는 편광 필름을 제조하였다. 이하, 이것을 편광 필름 (2) 이라고 한다. 요오드계 편광자의 요오드 함유량은 6.2 ％ 였다.
<편광 필름 (3) 의 제조>
<편광 필름 (1) 의 제조> 에 있어서, 염색액에 대한 침지 시간을 65 초 동안으로 변경한 것 이외에는 동일한 조작에 의해 편광 필름을 제조하였다. 이하, 이것을 편광 필름 (3) 이라고 한다. 요오드계 편광자의 요오드 함유량은 5.9 ％ 였다.
<편광 필름 (4) 의 제조>
<편광 필름 (1) 의 제조> 에 있어서, 염색액에 대한 침지 시간을 60 초 동안으로 변경한 것 이외에는 동일한 조작에 의해 편광 필름을 제조하였다. 이하, 이것을 편광 필름 (4) 이라고 한다. 요오드계 편광자의 요오드 함유량은 4.1 ％ 였다.
제조예 1
<아크릴계 폴리머 (A-1) 의 조제>
교반 날개, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기를 구비한 4 구 플라스크에, 부틸아크릴레이트 99 부 및 4-하이드록시부틸아크릴레이트 1 부를 함유하는 모노머 혼합물을 주입하였다. 또한, 상기 모노머 혼합물 (고형분) 100 부에 대하여, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.1 부를 아세트산에틸과 함께 주입하고, 서서히 교반하면서 질소 가스를 도입하여 질소 치환한 후, 플라스크 내의 액온을 60 ℃ 부근으로 유지하여 7 시간 중합 반응을 실시하였다. 그 후, 얻어진 반응액에 아세트산에틸을 첨가하여, 고형분 농도 30 ％ 로 조정한 중량 평균 분자량 160 만의 아크릴계 폴리머 (A-1) 의 용액을 조제하였다.
제조예 2
<아크릴계 폴리머 (A-2) 의 조제>
제조예 1 에 있어서, 모노머 혼합물로서, 부틸아크릴레이트 99 부 및 아크릴산 1 부를 함유하는 모노머 혼합물을 사용한 것 이외에는 제조예 1 과 동일하게 하여, 중량 평균 분자량 160 만의 아크릴계 폴리머 (A-2) 의 용액을 조제하였다.
제조예 3
<요오드 수용액의 조제>
요오드 농도 0.30 중량％, 요오드화 칼륨 농도 2.0 중량％ 의 수용액을 조제하였다.
실시예 1
(광학용 점착제의 조제)
제조예 1 에서 얻어진 아크릴계 폴리머 (A-1) 용액의 고형분 100 부에 대하여, 가교제로서 트리메틸올프로판자일릴렌디이소시아네이트 (미츠이 화학사 제조 : 타케네이트 D110N) 0.1 부와, 디벤조일퍼옥사이드 0.3 부와, γ-글리시독시프로필메톡시실란 (신에츠 화학 공업사 제조 : KBM-403) 0.075 부를 배합하여, 아크릴계 점착제 용액을 조제하였다.
(점착제층이 부착된 편광 필름의 제작)
이어서, 상기 아크릴계 점착제 용액을 실리콘계 박리제로 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (세퍼레이터 필름) 의 표면에 파운틴 코터로 균일하게 도공하고, 155 ℃ 의 공기 순환식 항온 오븐에서 2 분간 건조시켜, 세퍼레이터 필름의 표면에 두께 20 ㎛ 의 점착제층을 형성하였다. 이어서, 상기에서 제조한 편보호 편광 필름 (1) 의 편광자측에 세퍼레이터 필름 상에 형성한 점착제층을 전사하여, 점착제층이 부착된 편광 필름을 제작하였다.
실시예 2 ∼ 12, 비교예 1 ∼ 2
실시예 1 에 있어서, 광학용 점착제의 조제에 있어서 표 1 에 나타내는 바와 같이 각 성분을 배합한 것, 점착제층이 부착된 편광 필름의 제작에 있어서 편광 필름의 종류를 표 1 에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층이 부착된 편광 필름을 제작하였다. 또한, 실시예 8, 9 에서는, 광학용 점착제의 조제에 있어서 가교제 및 실란 커플링제 외에, 제조예 3 에서 조제한 요오드 수용액을 0.1 부 배합하였다.
상기 실시예 및 비교예에서 얻어진, 점착제층이 부착된 편광 필름에 대하여 이하의 평가를 하였다. 평가 결과를 표 1 에 나타낸다.
<요오드의 분석 : ESCA>
각 예에서 얻어진 점착제층의 요오드 함유량 (요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량 : atomic％) 을 ESCA 에 의해 측정하였다.
ESCA 의 측정 방법을 이하에 나타낸다.
·장치 ; 알박·파이 제조 Quantum 2000
·X 선원 ; 모노크롬 Al Kα
·Xray Setting ; 200 ㎛Φ [30 W (15 kV)]
·광 전자 취출각 ; 시료 표면에 대하여 45 도
·중화 조건 ; 중화 총과 Ar 이온 총 (중화 모드) 의 병용
·Ar 이온 총의 가속 전압 (래스터 사이즈) ; 1 kV (2 ㎜ × 2 ㎜)
·Ar 이온 총의 에칭 속도 (Si02 환산치) ; 약 2 ㎚/min
시료의 조제 : 시료 (점착제층) 에 대하여 가로세로 10 ㎜ 정도로 절단한 시료편을 Mo 판으로 시료대에 눌러 고정시켰다.
평가 방법 : 시료에 대하여 깊이 방향 분석 (Ar 이온 에칭에 의한 뎁스 프로파일 측정) 을 실시하여, 각 깊이 수준에서의 원소 비율 (atomic％) 을 산출하였다.
<요오드의 분석 : TOF-SIMS5>
각 예에서 얻어진 점착제층의 요오드 함유량 (요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량) 을, ION-TOF 제조 TOF-SIMS5 에 의해 측정하였다. 측정 방법을 이하에 나타낸다.
시료의 조정 : 가로세로 1 ㎝ 로 잘라낸 샘플 (점착제층) 을 동결하여, 정밀 경사 절삭을 실시한 후, 측정하였다.
측정 조건은,
조사 1 차 이온 ; Bi3 2+
1 차 이온 가속 전압 ; 25 kV
측정 면적 : 가로세로 300 ∼ 350 ㎛
또, 각 예의 요오드량은 부틸아크릴레이트 유래의 2 차 이온 강도 C3H302 - 와 요오드 유래의 2 차 이온 강도 I- 의 강도비 (I-/C3H302 -) 를 이용하여 점착제층 중에 함유되는 요오드량을 나타냈다.
<표면 저항치 : 초기>
점착제층이 부착된 편광 필름의 세퍼레이터 필름을 박리한 후, 점착제 표면의 표면 저항치 (Ω／□) 를 미츠비시 화학 애널리텍사 제조 MCP-HT450 을 사용하여 측정하였다.
<정전기 불균일의 평가>
제작된 점착제층이 부착된 편광 필름을 100 ㎜ × 100 ㎜ 의 크기로 절단하여 액정 패널에 첩부하였다. 이 패널을 10000 cd 의 휘도를 갖는 백라이트 상에 놓고, 정전기 발생 장치인 ESD (SANKI 사 제조, ESD-8012A) 를 사용하여 5 kv 의 정전기를 발생시킴으로써 액정의 배향 혼란을 일으켰다. 그 배향 불량에 의한 표시 불량의 회복 시간 (초) 을 순간 멀티 측광 검출기 (오오츠카 전자사 제조, MCPD-3000) 를 사용하여 측정하고, 하기 기준으로 평가하였다.
◎ : 표시 불량이 1 초 미만에서 소실되었다.
○ : 표시 불량이 1 초 이상 10 초 미만에서 소실되었다.
× : 표시 불량이 10 초 이상에서 소실되었다.
<내구성 (박리 및 발포)>
점착제층이 부착된 편광 필름의 세퍼레이터 필름을 박리하고, 두께 0.7 ㎜ 의 무알칼리 유리 (코닝사 제조, 1737) 에 라미네이터를 사용하여 첩착하였다. 이어서, 50 ℃, 0.5 ㎫ 로 15 분간의 오토클레이브 처리를 실시하여, 상기 점착제층이 부착된 편광 필름을 완전히 무알칼리 유리에 밀착시켰다. 이어서, 이것을 80 ℃ 및 90 ℃ 의 가열 오븐 (가열) 그리고 60 ℃/90 ％RH 의 항온 항습기 (가습) 의 조건하에 각각 투입하여, 500 시간 후의 편광 필름의 박리 유무를 하기 기준으로 평가하였다.
◎ : 전혀 박리 또는 발포가 관찰되지 않았다.
○ : 육안으로는 확인할 수 없을 정도의 박리 또는 발포가 관찰되었다.
△ : 육안으로 확인할 수 있는 작은 박리 또는 발포가 관찰되었다.
× : 분명한 박리 또는 발포가 관찰되었다.
Figure 112014024233047-pat00001
표 1 에 있어서, 이온성 화합물 (C) 에 있어서의 「C-1」은 1-에틸-1-메틸피롤리디늄비즈(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 「C-2」는 리튬비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 ;
산화 방지제 (D) 에 있어서의 「D-1」은 BASF 사 제조의 Irganox1010 ;
가교제 (E) 에 있어서의 「E-1」은 미츠이 타케다 케미컬사 제조의 이소시아네이트 가교제 (타케네이트 D110N, 트리메틸올프로판자일릴렌디이소시아네이트), 「E-2」는 닛폰 유지사 제조의 벤조일퍼옥사이드 (나이퍼 BMT) ;
실란 커플링제 (F) 에 있어서의 「F-1」은 신에츠 화학 공업사 제조의 KBM403 을 나타낸다.

Claims (19)

  1. 베이스 폴리머 (A) 및 이온성 화합물 (C) 을 함유하는 광학용 점착제로 형성되어 있고, 또한 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 을 0.02 ∼ 1 atomic％ 함유하는 것을 특징으로 하는 광학용 점착제층.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 베이스 폴리머 (A) 가, 모노머 단위로서 알킬(메트)아크릴레이트를 함유하는 (메트)아크릴계 폴리머인 것을 특징으로 하는 광학용 점착제층.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 베이스 폴리머 (A) 가, 하이드록실기를 함유하는 것을 특징으로 하는 광학용 점착제층.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 베이스 폴리머 (A) 가, 모노머 단위로서 알킬(메트)아크릴레이트 및 하이드록실기 함유 모노머를 함유하는 (메트)아크릴계 폴리머인 것을 특징으로 하는 광학용 점착제층.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 베이스 폴리머 (A) 가, 카르복실기를 함유하는 것을 특징으로 하는 광학용 점착제층.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 베이스 폴리머 (A) 가, 모노머 단위로서 알킬(메트)아크릴레이트 및 카르복실기 함유 모노머를 함유하는 (메트)아크릴계 폴리머인 것을 특징으로 하는 광학용 점착제층.
  8. 제 3 항에 있어서,
    상기 (메트)아크릴계 폴리머가, 모노머 단위인 알킬(메트)아크릴레이트로서 부틸(메트)아크릴레이트를 함유하고,
    상기 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 을 0.01 ∼ 3 (I-/C3H3O2 -) 함유하는 것을 특징으로 하는 광학용 점착제층.
  9. 삭제
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 이온성 화합물 (C) 이, 알칼리 금속염 및/또는 유기 카티온-아니온염인 것을 특징으로 하는 광학용 점착제층.
  11. 제 1 항에 있어서,
    추가로, 상기 광학용 점착제가 산화 방지제 (D) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 광학용 점착제층.
  12. 제 1 항에 있어서,
    추가로, 상기 광학용 점착제가 가교제 (E) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 광학용 점착제층.
  13. 제 1 항에 있어서,
    추가로, 상기 광학용 점착제가 실란 커플링제 (F) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 광학용 점착제층.
  14. 광학 필름과, 상기 광학 필름의 적어도 편측에 형성된 제 1 항에 기재된 광학용 점착제층을 갖는 것을 특징으로 하는 점착제층이 부착된 광학 필름.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 광학 필름이 편광 필름인 것을 특징으로 하는 점착제층이 부착된 광학 필름.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 편광 필름은, 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 을 함유하는 요오드계 편광자의 적어도 편측에 투명 보호 필름을 갖는 요오드계 편광 필름인 것을 특징으로 하는 점착제층이 부착된 광학 필름.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 요오드계 편광자는, 요오드 및/또는 요오드 이온 (B) 을 3 ∼ 10 중량％ 함유하는 것을 특징으로 하는 점착제층이 부착된 광학 필름.
  18. 제 15 항에 있어서,
    상기 편광 필름은, 편광자의 편측에만 투명 보호 필름을 가지며, 또한 상기 광학용 점착제층은, 상기 투명 보호 필름을 갖지 않는 측의 편광자에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 점착제층이 부착된 광학 필름.
  19. 제 14 항에 기재된 점착제층이 부착된 광학 필름을 적어도 1 개 사용한 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치.
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