TWI642549B - 光控制膜、應用其之顯示裝置、及改善光控制膜之彩紋現象和/或高反射性的方法 - Google Patents

光控制膜、應用其之顯示裝置、及改善光控制膜之彩紋現象和/或高反射性的方法 Download PDF

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Abstract

一種光控制膜，包括基材、繞射光柵結構、和低反射率黏著結構。基材具有下表面和上表面。繞射光柵結構設置於基材之下表面上。低反射率黏著結構設置於基材之上表面上。低反射率黏著結構包括黏著劑層和吸收材料，該吸收材料在450nm的波長具有一第一穿透率T1、在570nm~600nm的波長範圍中具有一第二穿透率T2、在650nm的波長具有一第三穿透率T3，T2<½T1，且T2<½T3。

Description

光控制膜、應用其之顯示裝置、及改善光控制膜 之彩紋現象和/或高反射性的方法
本發明是關於一種光控制膜(light control film)及應用其之顯示裝置。本發明亦關於一種改善光控制膜之彩紋現象(mura)和/或高反射性的方法。
顯示裝置往往包括各種具有光調整功能的元件。以液晶顯示裝置為例，其包括分別配置於液晶顯示面板上側和下側的上偏光板和下偏光板，上偏光板和下偏光板具有不同的偏光方向，藉此而成像。此外，為了改善視角和液晶色偏等問題，還可在出光側額外使用光控制膜。光控制膜包括產生繞射現象的光柵結構，藉此調整光的分布。對於這些具有光調整功能的元件可進行各種調整，以提供更佳的視覺體驗。
在本發明的一方面，提供一種光控制膜。此種光控制膜包括基材、繞射光柵結構、和低反射率黏著結構。基材具有下表面和上表面。繞射光柵結構設置於基材之下表面上。低反射率黏著結構設置於基材之上表面上。低反射率黏著結構包括黏著劑層和吸收材料，該吸收材料在450nm的波長具有一第一穿透率T1、在570nm~600nm的波長範圍中具有一第二穿透率T2、在650nm的波長具有一第三穿透率T3，T2<½T1，且T2<½T3。
在本發明的另一方面，提供一種顯示裝置。此種顯示裝置包括如上所述之光控制膜或基於其進一步調整之光控制膜。
在本發明的又一方面，提供一種改善光控制膜之彩紋現象和/或高反射性的方法。光控制膜包括基材和設置於基材之下表面上的繞射光柵結構。此種方法包括在基材之上表面上形成包括黏著劑層和吸收材料的低反射率黏著結構，該吸收材料在450nm的波長具有一第一穿透率T1、在570nm~600nm的波長範圍中具有一第二穿透率T2、在650nm的波長具有一第三穿透率T3，T2<½T1，且T2<½T3。
為了對本發明之上述及其他方面有更佳的瞭解，下文特舉實施方案和實施例，並配合所附圖式詳細說明如下：
110‧‧‧基材
112‧‧‧下表面
114‧‧‧上表面
120‧‧‧繞射光柵結構
122‧‧‧繞射光柵區
124‧‧‧繞射光柵
130‧‧‧低反射率黏著結構
132‧‧‧黏著劑層
134‧‧‧吸收材料
140‧‧‧表面處理結構
230‧‧‧低反射率黏著結構
232‧‧‧黏著劑層
234‧‧‧吸收層
240‧‧‧表面處理結構
242‧‧‧保護層
244‧‧‧表面處理層
330‧‧‧低反射率黏著結構
332‧‧‧黏著劑層
334‧‧‧吸收層
450‧‧‧顯示面板
460‧‧‧上偏光板
470‧‧‧下偏光板
480‧‧‧背光元件
C11‧‧‧曲線
C12‧‧‧曲線
C13‧‧‧曲線
C14‧‧‧曲線
C15‧‧‧參考線
C21‧‧‧曲線
C22‧‧‧曲線
C31‧‧‧曲線
C32‧‧‧曲線
C41‧‧‧曲線
C42‧‧‧曲線
第1圖繪示根據本發明實施方案之一例示性光控制膜。
第2圖繪示根據本發明實施方案之一例示性繞射光柵結構。
第3圖繪示低反射率黏著結構之實施例的穿透頻譜。
第4圖繪示根據本發明實施方案之另一例示性光控制膜。
第5圖繪示根據本發明實施方案之又一例示性光控制膜。
第6圖繪示根據本發明實施方案之再一例示性光控制膜。
第7圖繪示根據本發明實施方案之一例示性顯示裝置。
第8圖繪示應用實施例之光控制膜的液晶顯示裝置和一般的液晶顯示裝置的穿透頻譜。
第9圖繪示光控制膜之實施例和比較例的反射頻譜。
以下將配合所附圖式對於本發明進行詳細說明。可以明白的是，所附圖式與其相關的說明只是作為列舉解釋用途，並非用於限制本發明。只要不脫離本發明的精神，在可行的情況下，本發明的各種裝置、元件、和/或材料選擇、比例等等，皆能夠進行調整，例如是使用如本發明所屬技術領域所知悉的替代品，又例如是增加或減少某些成分或結構。此外可以預期的是，一實施方案或實施例中的元件、條件和特徵，能夠被有利地納入於另一實施方案或實施例中，然而並未對此作進一步的列舉。
請參照第1圖，其繪示根據本發明實施方案之一例示性光控制膜。光控制膜包括基材110、繞射光柵結構120、和低反射率黏著結構130。基材110具有下表面112和上表面114。繞射光柵結構120設置於基材110之下表面112上。低反射率黏著結構 130設置於基材110之上表面114上。低反射率黏著結構130包括黏著劑層132和吸收材料134。吸收材料134在450nm(奈米)的波長具有一第一穿透率T1、在570nm~600nm的波長範圍中具有一第二穿透率T2、在650nm的波長具有一第三穿透率T3，T2<½T1，且T2<½T3。第二穿透率T2可為在570nm~600nm的波長範圍中任一波長的穿透率。亦即，只要此一波長範圍中最低的穿透率滿足T2<½T1、T2<½T3的條件即可。較佳地，在570nm~600nm的波長範圍中，在接近具有最低穿透率之波長的一段範圍內，例如580nm~590nm，穿透率皆滿足T2<½T1、T2<½T3的條件。更佳地，在整個570nm~600nm的波長範圍中，穿透率皆滿足T2<½T1、T2<½T3的條件。低反射率黏著結構130例如是感壓膠。
具體來說，基材110的材料可為聚酯系樹脂、非結晶性聚烯烴系樹脂、纖維素系樹脂、聚碳酸酯樹脂、丙烯酸系樹脂、環烯烴樹脂、或其組合，但不限於此。其中，聚酯系樹脂例如是對苯二甲酸乙二酯之聚合物、對苯二甲酸乙二酯與其他二羧酸或二醇所形成之共聚物、聚萘二甲酸乙二酯。非結晶性聚烯烴系樹脂例如是環狀烯烴單體(共)聚合物(cyclo olefin(co)polymers,COC/COP)，由降冰片烯、環戊二烯、二環戊二烯、四環十二碳烯等之開環聚合物、或與烯烴類之共聚物所構成。纖維素系樹脂是指纖維素中部分的羥基被乙酸酯化之樹脂，或是一部分被乙酸酯化、一部分被其他酸酯化之混合酯。纖維素系樹脂較佳為纖維素酯系樹脂，更佳為乙醯基纖維素系樹脂，例如三 乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯、和纖維素乙酸酯丁酸酯等，被充分酯化的纖維素稱三醋酸纖維素(triacetate cellulose,TAC)。聚碳酸酯樹脂例如是由碳酸與二醇或雙酚所形成的聚酯。丙烯酸系樹脂例如是由包含甲基丙烯酸甲酯(poly(methyl methacrylate),PMMA)以及丙烯酸甲酯的單官能基單體聚合或共聚而成。在一些實施方案中，基材110由聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate,PET)、聚乙烯(polyethylene,PE)、聚丙烯(polypropylene,PP)、三醋酸纖維素(TAC)、環烯烴聚合物(COP)、和/或甲基丙烯酸甲酯(PMMA)形成。
繞射光柵結構120可包括柱狀週期微結構、粒子週期微結構、或任何其他適合用於提供繞射的微結構，以調整光的分布，進而改善視角和液晶色偏等問題。這些微結構的週期可為μm(微米)等級，0.1μm~50μm之間。請參照第2圖，其繪示根據本發明實施方案之一例示性繞射光柵結構120。如第2圖所示，繞射光柵結構120可具有一或更多個繞射光柵區122。各個繞射光柵區122包括複數個繞射光柵124，其例如具有固定的週期和相同的方向(方位角)。不同的繞射光柵區122中的繞射光柵124可具有相同或不同的方向。繞射光柵區122和繞射光柵124之數目、結構、方向等配置可依照需求進行任意調整。
黏著劑層132可由黏著劑組成物形成。黏著劑組成物可包括主劑、架橋劑、和矽烷偶合劑。黏著劑層132也可更包括 其他添加劑。以下提供可使用之主劑、架橋劑、和矽烷偶合劑的具體示例。
主劑在經固化乾燥後形成黏著劑層132的主架構。在一些實施方案中，主劑可包括至少一種丙烯酸酯和/或至少一種甲基丙烯酸酯。根據一些實施方案，所使用之至少一種丙烯酸酯可為丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸十一烷酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸異辛酯、丙烯酸2-甲氧基乙酯、丙烯酸乙氧基甲酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸2-苯氧基乙酯、丙烯酸2-(2-苯氧基乙氧基)乙酯、環氧乙烷改質之壬基酚之丙烯酸酯、和/或丙烯酸2-(鄰-苯基苯氧基)乙酯。所使用之至少一種甲基丙烯酸酯可為甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸正辛酯、甲基丙烯酸十一烷酯、甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸異辛酯、甲基丙烯酸2-甲氧基乙酯、甲基丙烯酸乙氧基甲酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸2-苯氧基乙酯、甲基丙烯酸2-(2-苯氧基乙氧基)乙酯、環氧乙烷改質之壬基酚之甲基丙烯酸酯、和/或甲基丙烯酸2-(鄰-苯基苯氧基)乙酯。例如，在一些實施方案中，主劑包括40~90重量份之丙烯酸丁酯(BA)、10~40重量份之丙烯酸甲酯(MA)、1重量份以下之丙烯酸(AA)、5重量份以下之丙烯酸2-羥基乙酯(HEA)、5重量份以下之丙烯酸2-甲氧基乙酯(MEA)、和4~10重量份之丙烯酸2- 苯氧基乙酯(PEA)。在一些實施方案中，主劑的平均分子量介於120萬和170萬之間，Mw/Mn介於3.5和5之間。
架橋劑的分子內具有至少兩個官能基，以幫助主劑的單體(例如丙烯酸酯單體和/或甲基丙烯酸酯單體)交聯，形成網狀結構，進而提高黏著劑層的強度。在一些實施方案中，相較於100重量份的主劑，架橋劑(總量)為0.05~20重量份。根據一些實施方案，可使用環氧系架橋劑、異氰酸酯系架橋劑、亞胺系架橋劑、金屬螯合系架橋劑、和/或氮丙啶系架橋劑。根據一些實施方案，所使用之環氧系架橋劑可為雙酚A型之環氧樹脂、乙二醇二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、丙三醇二縮水甘油醚、丙三醇三縮水甘油醚、1,6-己二醇二縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、N,N-二縮水甘油基苯胺、N,N,N’,N’-四縮水甘油基-間-二甲苯二胺、和/或1,3-雙(N,N-二縮水甘油基胺基甲基)環己烷。根據一些實施方案，所使用之異氰酸酯系架橋劑可為甲苯二異氰酸酯、二異氰酸六亞甲酯、異佛爾酮二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、氫化二甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、和/或三苯基甲烷三異氰酸酯。根據一些實施方案，所使用之異氰酸酯系化合物可為前述任一者之二聚物、前述任一者之三聚物、和/或前述任一者與多元醇反應形成之加成物。根據一些實施方案，所使用之亞胺系架橋劑可為二乙烯三胺和/或三乙烯四胺。根據一些實施方案，所使用之金屬螯合系架橋劑可為乙醯基丙酮或乙醯基乙酸乙酯與鋁、 鐵、銅、鋅、錫、鈦、鎳、銻、鎂、鋇、鉻和鋯等之多價金屬配位而成之化合物。根據一些實施方案，所使用之氮丙啶系架橋劑可為二苯基甲烷-4,4’-雙(1-氮丙啶甲醯胺)、甲苯-2,4-雙(1-氮丙啶甲醯胺)、三伸乙基三聚氰胺、間苯二甲醯基雙-1-(2-甲基氮丙啶)、參-1-氮丙啶基氧化膦、六亞甲基-1,6-雙(1-氮丙啶甲醯胺)、三羥甲基丙烷-三-β-氮丙啶基丙酸酯、和/或四羥甲基甲烷-三-β-氮丙啶基丙酸酯。
在一些實施方案中，相較於100重量份的主劑，矽烷偶合劑(總量)為0.05~20重量份。根據一些實施方案，可使用乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基參(2-甲氧基乙氧基)矽烷、3-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基乙氧基二甲基矽烷、3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、和/或3-巰基丙基三甲氧基矽烷。
根據一些實施方案，吸收材料134可具有如下述式1所示之結構：[式1] 其中R11~R18分別獨立地為氫原子、鹵原子、氰基、硝基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的芳香基、取代或未取代的芳香氧基、取代或未取代的芳烷氧基、或取代或未取代的胺基，M為二個氫原子、二個一價金屬原子、二價金屬原子、三價取代金屬原子、或氧化金屬原子。此種吸收材料134為四氮雜卟啉染料或顏料。在一些實施方案中，R11、R13、R15、R17為三級丁基(tert-butyl)，R12、R14、R16、R18為2-氟苯基(2-fluorophenyl)，M為鈀或銅。
根據一些實施方案，吸收材料134可具有如下述式2所示之結構： 其中，R21~R24分別獨立地為氫原子、鹵原子、羥基、可具有取代基之苯基、或碳數1~20之一價飽和烴基，R25~R28分別獨立地為氫原子、羥基、巰基、碳數1~5之烷氧基、或三氟甲基，R29~R32分別獨立地為其中所含之氫原子可被鹵原子、氰基、胺甲醯基、胺磺醯基、羥基、或胺基取代且碳原子之間可插入氧原子或硫原子的碳數1~20之一價飽和烴基。此種吸收材料134為方酸菁染料(squarylium dye)。根據一些實施方案，鹵原子可為氟原子、氯原子、溴原子、或碘原子。根據一些實施方案，R21~R24、R29~R32之一價飽和烴基可為碳數1~20之直鏈烷基、碳數3~20之分支烷基、和/或碳數3~20之脂環式飽和烴基。碳數1~20之直鏈烷基可為甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十二烷基、十六烷基、和/或二十烷基。碳數3~20之分支烷基可為異丙基、異丁基、第二丁基、第三丁基、異戊基、新戊基、和/或2-乙基己基。碳數3~20之脂環式飽和烴基可為環丙基、環戊基、環己基、環庚基、環辛基、和/或三環癸基。根據一些實施方案，R21~R24之可具有取代基之苯基中的取代基可為鹵原子、氰基、羥基、和/或胺基。在一些實施方案中，R21~R24較佳地為氫原子，R25~R28較佳地為氫原子、羥基、和/或碳數1~5之烷氧基，更佳地為氫原子、羥基、甲氧基、和/或乙氧基，R29~R32較佳地為碳數1~10之烷基，其中氫原子可具有羥基、碳原子之間可插入氧原子。
在此一例示性光控制膜中，吸收材料134是摻入黏著劑層132內。根據一些實施方案，吸收材料134以0.1%~5.0%的重量百分比摻入黏著劑層132內，較佳地以0.1%~1.0%的重量百分比摻入黏著劑層132內。
請參照第3圖，其示出其中吸收材料以0.1%~0.25%的重量百分比摻入黏著劑層內之低反射率黏著結構的實施例的穿透頻譜，其中曲線C11是摻入0.25wt%，曲線C12是摻入0.20wt%，曲線C13是摻入0.15wt%，曲線C14是摻入0.10wt%，另外畫上參考線C15。可以看出，在570nm~600nm的波長範圍中具有小於在450nm和650nm的波長的穿透率，甚至是低於50%。光控制膜往往為高反射性，因此，在應用於顯示裝置時容易反射外界的環境光，影響顯示畫面。又由於繞射光柵結構的存在，便形成反射至人眼的彩紋現象(mura)。在根據實施方案的光控制膜中，於基材之上表面上額外形成傳統光控制膜所不具有的低反射率黏著結構。因此，在環境光進入繞射光柵結構之前可被部分吸收，特別是570nm~600nm此一人眼最敏感的波長範圍的光將能夠被減弱，因此可以降低高反射性和彩紋現象造成的視覺影響。亦即，一種根據本發明實施方案之改善光控制膜之彩紋現象和/或高反射性的方法，包括在光控制膜(其包含基材和設置於基材之下表面上的繞射光柵結構)的基材之上表面上形成低反射率黏著結構，此一低反射率黏著結構包括黏著劑層和吸收材料，該吸收材料在450nm的波長具有一第一穿透率T1、在 570nm~600nm的波長範圍中具有一第二穿透率T2、在650nm的波長具有一第三穿透率T3，T2<½T1，且T2<½T3。
請再次參照第1圖，光控制膜可更包括表面處理結構140。表面處理結構140設置於低反射率黏著結構130上。在一些實施方案中，如第4圖所示，一例示性的表面處理結構240包括保護層242和表面處理層244。保護層242位於(貼附於)低反射率黏著結構130上。表面處理層244位於保護層242上。保護層242的材料可為聚酯系樹脂、非結晶性聚烯烴系樹脂、纖維素系樹脂、聚碳酸酯樹脂、丙烯酸系樹脂、環烯烴樹脂、或其組合，但不限於此。其中，聚酯系樹脂例如是對苯二甲酸乙二酯之聚合物、對苯二甲酸乙二酯與其他二羧酸或二醇所形成之共聚物、聚萘二甲酸乙二酯。非結晶性聚烯烴系樹脂例如是環狀烯烴單體(共)聚合物(COC/COP)，由降冰片烯、環戊二烯、二環戊二烯、四環十二碳烯等之開環聚合物、或與烯烴類之共聚物所構成。纖維素系樹脂是指纖維素中部分的羥基被乙酸酯化之樹脂，或是一部分被乙酸酯化、一部分被其他酸酯化之混合酯。纖維素系樹脂較佳為纖維素酯系樹脂，更佳為乙醯基纖維素系樹脂，例如三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯、和纖維素乙酸酯丁酸酯等，被充分酯化的纖維素稱三醋酸纖維素(TAC)。聚碳酸酯樹脂例如是由碳酸與二醇或雙酚所形成的聚酯。丙烯酸系樹脂例如是由包含甲基丙烯酸甲酯(PMMA)以及丙烯酸甲酯的單官能基單體聚合或共聚而成。在一些實施方案中，保護層242由聚對苯二 甲酸乙二酯(PET)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、三醋酸纖維素(TAC)、環烯烴聚合物(COP)、和/或甲基丙烯酸甲酯(PMMA)形成。表面處理層244例如是以塗佈方式形成於保護層242上。表面處理層244例如包括硬塗佈層(hard coat)、防眩光(anti-glare,AG)層、抗反射(low reflectance,LR)層、和/或抗反射防眩光(AGLR)層等等。
請參照第5圖，其繪示根據本發明實施方案之另一例示性光控制膜。此一例示性光控制膜不同於第1圖所示者的地方在於低反射率黏著結構230。可使用如前所述的黏著材料和形成黏著劑層的黏著劑組成物(包括主劑、架橋劑、和矽烷偶合劑等等)。然而，在此一例示性光控制膜中，吸收材料以0.1μm~25.0μm的厚度範圍形成附著於黏著劑層232的吸收層234，較佳地以0.1μm~20.0μm的厚度範圍形成吸收層234，更佳地以5μm~20.0μm的厚度範圍形成吸收層234。在此一例示性光控制膜中，吸收層234是形成在黏著劑層232上。其他細節相同於第1圖所示者，在此不再贅述。
請參照第6圖，其繪示根據本發明實施方案之又一例示性光控制膜。此一例示性光控制膜不同於第5圖所示者的地方在於低反射率黏著結構330。此一例示性光控制膜中，吸收層334是形成在黏著劑層332下。其他細節相同於第5圖所示者，在此不再贅述。
請參照第7圖，其繪示根據本發明實施方案之一例示性顯示裝置。第7圖以液晶顯示裝置為例，但毋須受限於此。顯示裝置包括根據前述任一實施方案或基於前述實施方案進一步調整之光控制膜。根據一些實施方案，顯示裝置包括顯示面板450，例如是液晶顯示面板。在一些實施方案中，顯示裝置更包括上偏光板460。上偏光板460設置於顯示面板450上。光控制膜設置於上偏光板460上並以繞射光柵結構120面向上偏光板460。顯示裝置可更包括下偏光板470和背光元件480。
如前所述，使用根據本發明實施方案之光控制膜，在改善視角和液晶色偏等狀況的同時，不會有因光控制膜的彩紋現象和/或高反射性所造成的視覺問題。
此外，應用根據本發明實施方案之光控制膜的顯示裝置還可具有改善的色域(color gamut)。請參照第8圖，其中曲線C21表示應用實施例之光控制膜的液晶顯示裝置的穿透頻譜，曲線C22表示一般的液晶顯示裝置的穿透頻譜。從曲線C22可以看出，一般的液晶顯示裝置，紅光與綠光之間不夠分明。而如曲線C21所示，在使用根據本發明實施方案之光控制膜的情況下，由於吸收材料也吸收從顯示面板發出的光，因此過濾掉部分在570nm~600nm的波長範圍中的光，使得紅光與綠光之間的分界變得明顯，從而可提升色域。
以下提供具體的實施例和比較例，以提供對於根據實施方案之光控制膜的的效果有更進一步的了解。
[樣品準備]
[實施例1]
使用具有式1結構之染料，以0.25wt%之比例摻入壓克力黏著劑組成物，再塗佈至具有繞射光柵結構之光學膜材上，再於其上使用硬塗層(hard coating,HC)。以Konica Molta分光測色計測試在590nm波長的SCI反射值和SCE反射值。
[實施例2]
使用具有式1結構之染料，以0.25wt%之比例摻入壓克力黏著劑組成物，再塗佈至具有繞射光柵結構之光學膜材上，再於其上塗佈低反射率層(low reflectance,LR)。以Konica Molta分光測色計測試在590nm波長的SCI反射值和SCE反射值。
[比較例1]
使用具有繞射光柵結構之光學膜材，再於其上使用硬塗層(HC)。以Konica Molta分光測色計測試在590nm波長的SCI反射值和SCE反射值。
[比較例2]
使用具有繞射光柵結構之光學膜材，再於其上使用塗佈低反射率層(LR)。以Konica Molta分光測色計測試在590nm波長的SCI反射值和SCE反射值。
[結果討論]
實施例1和比較例1的反射率測量結果(亦即表面處理層為硬塗層)如表1所列。實施例2和比較例2的反射率測量結果 (亦即表面處理層為抗反射層)如第9圖所示和表2所列。可以清楚看見，使用根據實施方案的光控制膜，反射率明顯降低。反射率的降低亦可連帶改善彩紋現象，雖然未在此提供進一步的照片佐證，但肉眼可以觀察到根據實施方案的光控制膜沒有明顯的彩紋現象發生，而市售之光控制膜則有相對嚴重的彩紋現象。
綜上所述，雖然本發明已以實施方案和實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明。本發明所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾。因此，本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

Claims (15)

  1. 一種光控制膜，包括：基材，具有下表面和上表面；繞射光柵結構，設置於該基材之該下表面上；以及低反射率黏著結構，設置於該基材之該上表面上，該低反射率黏著結構包括黏著劑層和吸收材料，該吸收材料在450nm的波長具有一第一穿透率T1、在570nm~600nm的波長範圍中具有一第二穿透率T2、在650nm的波長具有一第三穿透率T3，T2<½T1，且T2<½T3。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光控制膜，其中該繞射光柵結構包括柱狀微結構或粒子微結構。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之光控制膜，其中該繞射光柵結構的柱狀微結構或粒子微結構的週期為微米等級，介於0.1μm~50μm之間；且/或該繞射光柵結構具有至少一繞射光柵區，該繞射光柵區包括複數個繞射光柵，其中該繞射光柵具有固定的週期和相同的方向。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之光控制膜，其中該黏著劑層由黏著劑組成物形成，該黏著劑組成物包括主劑、架橋劑、和矽烷偶合劑。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之光控制膜，其中該吸收材料以0.1%~5.0%的重量百分比摻入該黏著劑層內。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之光控制膜，其中該吸收材料以一厚度範圍形成附著於該黏著劑層的吸收層，其中該吸收層形成於該黏著劑層之上或該黏著劑層之下。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之光控制膜，其中該厚度範圍為0.1μm~25.0μm。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之光控制膜，其中該吸收材料具有如下述式1所示之結構：其中R11~R18分別獨立地為氫原子、鹵原子、氰基、硝基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的芳香基、取代或未取代的芳香氧基、取代或未取代的芳烷氧基、或取代或未取代的胺基，M為二個氫原子、二個一價金屬原子、二價金屬原子、三價取代金屬原子、或氧化金屬原子。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之光控制膜，其中該吸收材料具有如下述式2所示之結構：其中，R21~R24分別獨立地為氫原子、鹵原子、羥基、可具有取代基之苯基、或碳數1~20之一價飽和烴基，R25~R28分別獨立地為氫原子、羥基、巰基、碳數1~5之烷氧基、或三氟甲基，R29~R32分別獨立地為其中所含之氫原子可被鹵原子、氰基、胺甲醯基、胺磺醯基、羥基、或胺基取代且碳原子之間可插入氧原子或硫原子的碳數1~20之一價飽和烴基。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之光控制膜，其中該基材的材料選自聚酯系樹脂、非結晶性聚烯烴系樹脂、纖維素系樹脂、聚碳酸酯樹脂、丙烯酸系樹脂、環烯烴樹脂、和其組合所組成的群組。
  11. 如申請專利範圍第1項所述之光控制膜，更包括：表面處理結構，設置於該低反射率黏著結構上，該表面處理結構包括保護層和表面處理層，該保護層位於該低反射率黏著結構上，該表面處理層位於該保護層上。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之光控制膜，該保護層的材料選自聚酯系樹脂、非結晶性聚烯烴系樹脂、纖維素系樹脂、聚碳酸酯樹脂、丙烯酸系樹脂、環烯烴樹脂、和其組合所組成的群組；且/或該表面處理層選自硬塗佈層、防眩光層、抗反射層、和抗反射防眩光層所組成的群組。
  13. 一種顯示裝置，包括：如申請專利範圍第1~12項任一項所述之光控制膜。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之顯示裝置，包括：顯示面板；上偏光板，設置於該顯示面板上，其中該光控制膜設置於該上偏光板上並以該繞射光柵結構面向該上偏光板。
  15. 一種改善光控制膜之彩紋現象和/或高反射性的方法，其中該光控制膜包括基材和設置於該基材之下表面上的繞射光柵結構，該方法包括：在該基材之上表面上形成包括黏著劑層和吸收材料的低反射率黏著結構，該吸收材料在450nm的波長具有一第一穿透率T1、在570nm~600nm的波長範圍中具有一第二穿透率T2、在650nm的波長具有一第三穿透率T3，T2<½T1，且T2<½T3。
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