KR102149085B1 - Substrate transferring-and-receiving system and substrate transferring-and-receiving method - Google Patents

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Abstract

연결 부재가 상하 방향으로 이동함으로써, 지지부와 복수의 승강핀 사이에서 기판의 수도가 행해진다. 기판의 수도시의 연결 부재의 이동 속도를 설정하기 위해, 지지부 상에 설정 부재가 올려진다. 이 상태에서, 지지부 상의 설정 부재가 복수의 승강핀 상에 건네지도록 연결 부재가 상승한다. 복수의 승강핀으로부터 설정 부재에 가해지는 압력의 값에 의거하여 기준 위치가 결정되고, 기준 위치를 포함하는 속도 제한 범위가 결정된다. 속도 제한 범위 내에서의 이동 속도가 속도 제한 범위 외에서의 이동 속도보다 낮아지도록, 연결 부재의 이동 속도가 설정된다.When the connecting member moves in the vertical direction, the number of substrates is carried out between the support portion and the plurality of lifting pins. In order to set the moving speed of the connecting member when the substrate is supplied, a setting member is placed on the support. In this state, the connecting member is raised so that the setting member on the support portion is passed on the plurality of lifting pins. The reference position is determined based on the value of the pressure applied to the setting member from the plurality of lifting pins, and the speed limiting range including the reference position is determined. The moving speed of the connecting member is set so that the moving speed within the speed limiting range is lower than the moving speed outside the speed limiting range.

Figure R1020180130940
Figure R1020180130940

Description

기판 수도 시스템 및 기판 수도 방법{SUBSTRATE TRANSFERRING-AND-RECEIVING SYSTEM AND SUBSTRATE TRANSFERRING-AND-RECEIVING METHOD}Substrate water supply system and substrate water supply method {SUBSTRATE TRANSFERRING-AND-RECEIVING SYSTEM AND SUBSTRATE TRANSFERRING-AND-RECEIVING METHOD}

본 발명은, 지지부와 복수의 승강 부재 사이에서 기판의 수도(受渡)를 행하기 위한 기판 수도 시스템 및 기판 수도 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate water supply system and a substrate water supply method for transferring a substrate between a support portion and a plurality of lifting members.

반도체 기판, 액정 표시 장치 혹은 유기 EL(Electro Luminescence) 표시 장치 등의 FPD(Flat Panel Display)용 기판, 광디스크용 기판, 자기 디스크용 기판, 광자기 디스크용 기판, 포토마스크용 기판, 세라믹 기판 또는 태양전지용 기판 등의 각종 기판에 열처리를 행하기 위해, 열처리 장치가 이용된다.FPD (Flat Panel Display) substrates such as semiconductor substrates, liquid crystal displays or organic EL (Electro Luminescence) displays, optical disk substrates, magnetic disk substrates, magneto-optical disk substrates, photomask substrates, ceramic substrates or solar panels In order to perform heat treatment on various substrates such as a battery substrate, a heat treatment apparatus is used.

열처리 장치의 일례로서, 일본국 특허공개 2005-117007호 공보에 기재된 열처리 유닛은, 온조 플레이트와 승강 장치를 포함한다. 온조 플레이트의 상면에는 복수의 기판 재치편이 설치되어 있다. 승강 장치는, 온조 플레이트에 대해서 승강 가능하게 설치된 복수의 기판 승강핀을 포함한다.As an example of a heat treatment apparatus, the heat treatment unit described in Japanese Patent Laid-Open No. 2005-117007 includes a temperature control plate and an elevating device. A plurality of substrate mounting pieces are provided on the upper surface of the temperature control plate. The elevating device includes a plurality of substrate elevating pins provided to be elevating relative to the temperature control plate.

그 열처리 유닛에 있어서는, 복수의 기판 승강핀이 온조 플레이트로부터 상방으로 돌출된 상태로, 반송 장치에 의해 이송되는 기판이 복수의 기판 승강핀의 상단부 상에 건네진다. 그 후, 복수의 기판 승강핀의 상단부가 복수의 기판 재치편의 상단부보다 하방에 위치하도록, 복수의 기판 승강핀이 하강한다. 그로 인해, 복수의 기판 승강핀에 의해 지지된 기판이 온조 플레이트의 복수의 기판 재치편 상에 건네진다. 이 상태에서, 온조 플레이트에 의해 기판에 열처리가 실시된다. In the heat treatment unit, the substrate transferred by the conveying device is handed over the upper end of the plurality of substrate lifting pins while the plurality of substrate lifting pins protrude upward from the temperature control plate. After that, the plurality of substrate lifting pins are lowered so that the upper ends of the plurality of substrate lifting pins are positioned below the upper ends of the plurality of substrate mounting pieces. Therefore, the substrate supported by the plurality of substrate lifting pins is handed over onto the plurality of substrate mounting pieces of the temperature control plate. In this state, heat treatment is performed on the substrate by the temperature control plate.

열처리가 종료되면, 복수의 기판 승강핀의 상단부가 복수의 기판 재치편의 상단부보다 상방에 위치하도록, 복수의 기판 승강핀이 상승한다. 그로 인해, 복수의 기판 승강핀에 의해 지지된 열처리 후의 기판이 복수의 기판 승강핀의 상단부에 의해 지지된다. 그 후, 열처리 후의 기판은, 반송 장치에 의해 수취되고, 다른 처리부에 반송된다.When the heat treatment is completed, the plurality of substrate lifting pins are raised so that the upper ends of the plurality of substrate lifting pins are positioned above the upper ends of the plurality of substrate mounting pieces. Therefore, the heat-treated substrate supported by the plurality of substrate lifting pins is supported by the upper end portions of the plurality of substrate lifting pins. Thereafter, the heat-treated substrate is received by a transfer device and transferred to another processing unit.

상기의 열처리 유닛에 있어서는, 복수의 기판 승강핀의 동작 속도를 높게 함으로써, 기판 처리의 스루풋을 향상시킬 수 있다. 한편, 복수의 기판 승강핀의 동작 속도가 높으면, 예를 들면 복수의 기판 승강핀으로부터 복수의 기판 재치편 상에 기판이 건네질 때에, 기판과 복수의 기판 재치편의 접촉시의 충격에 의해 기판에 흠집이 발생할 가능성이 있다. In the heat treatment unit described above, the throughput of the substrate processing can be improved by increasing the operating speed of the plurality of substrate lifting pins. On the other hand, if the operation speed of the plurality of substrate lifting pins is high, for example, when a substrate is handed over from a plurality of substrate lifting pins onto a plurality of substrate mounting pieces, the substrate may be impacted upon contact between the substrate and the plurality of substrate mounting pieces. There is a possibility of scratching.

기판에 흠집이 발생하는 것을 방지하기 위해서, 기판과 복수의 기판 재치편이 접촉하기 직전에 복수의 기판 승강핀의 동작 속도를 저하시키는 것이 생각된다. 그러나, 열처리 유닛마다 복수의 기판 승강핀과 복수의 기판 재치편 사이의 위치 관계에 오차가 존재하기 때문에, 기판과 복수의 기판 재치편이 접촉할 때의 복수의 기판 승강핀의 위치를 정확하게 파악하는 것은 어렵다.In order to prevent the occurrence of scratches on the substrate, it is conceivable to lower the operating speed of the plurality of substrate lifting pins just before the substrate and the plurality of substrate mounting pieces come into contact with each other. However, since there is an error in the positional relationship between the plurality of substrate lifting pins and the plurality of substrate mounting pieces for each heat treatment unit, it is difficult to accurately grasp the positions of the plurality of substrate lifting pins when the substrate and the plurality of substrate mounting pieces are in contact. It is difficult.

한편, 복수의 기판 승강핀으로부터 복수의 기판 재치편으로 건네진 기판에 실제로 흠집이 발생했는지의 여부를 확인하면서 이동 속도를 저하시키는 타이밍을 조정하는 작업은, 번잡하고 또한 장시간을 필요로 한다. 그 때문에, 기판의 제조 코스트가 증가한다.On the other hand, the operation of adjusting the timing of lowering the moving speed while checking whether or not a scratch has actually occurred on the substrate handed from the plurality of substrate lifting pins to the plurality of substrate mounting pieces is cumbersome and requires a long time. Therefore, the manufacturing cost of the substrate increases.

본 발명의 목적은, 기판 처리의 스루풋을 향상시키면서 복수의 승강 부재와 지지부 사이의 기판의 수도시에 기판에 흠집이 발생하는 것을 방지하는 것이 가능하고 또한 기판의 제조 코스트의 증가를 억제하는 것이 가능한 기판 수도 시스템 및 기판 수도 방법을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to improve the throughput of the substrate processing while preventing the occurrence of scratches on the substrate when the substrate between the plurality of lifting members and the support portion is supplied, and it is possible to suppress an increase in the manufacturing cost of the substrate. It is to provide a substrate water supply system and a substrate water supply method.

(1) 본 발명의 한 국면에 따른 기판 수도 시스템은, 기판의 처리시에 기판의 하면을 지지하도록 구성된 지지부와, 기판의 하면을 지지 가능한 상단부를 각각 갖는 3개 이상의 복수의 승강 부재와, 복수의 승강 부재를 연결함과 더불어 지지부에 대해서 상하 방향으로 이동 가능하게 구성된 연결 부재와, 지지부와 복수의 승강 부재 사이에서의 기판의 수도시에, 복수의 승강 부재의 상단부가 지지부의 상단부보다 상방의 위치와 지지부의 상단부보다 하방의 위치 사이에서 이동하도록, 연결 부재를 이동시키는 수도 구동부와, 복수의 승강 부재에 의해 지지 가능하게 구성된 설정 부재와, 설정 부재가 복수의 승강 부재에 의해 지지되었을 때에 복수의 승강 부재로부터 설정 부재의 복수의 부분에 각각 가해지는 압력을 검출하는 검출부와 연결 부재의 이동 속도의 설정시에, 수도 구동부를 제어함으로써 지지부에 의해 설정 부재가 지지된 상태에서 복수의 승강 부재의 상단부가 지지부의 상단부보다 하방의 위치로부터 지지부의 상단부보다 상방의 위치로 이동하도록, 연결 부재를 이동시키는 이동 제어부와, 이동 제어부에 의한 연결 부재의 이동 중에, 검출부의 출력 신호에 의거하여 복수의 승강 부재로부터 설정 부재의 복수의 부분에 각각 가해지는 복수의 압력의 값이 미리 정해진 복수의 기준 압력값에 각각 도달했는지의 여부를 판정하고, 복수의 압력의 값이 복수의 기준 압력값에 각각 도달했을 때의 연결 부재의 상하 방향의 위치를 기준 위치로서 결정하는 위치 결정부와, 기판의 수도시에 있어서의 연결 부재의 이동 범위 중 결정된 기준 위치를 포함하는 일부의 범위를 속도 제한 범위로서 결정하는 범위 결정부와, 속도 제한 범위 내에서의 연결 부재의 이동 속도가 속도 제한 범위 외에서의 연결 부재의 이동 속도보다 낮아지도록, 기판의 수도시에 있어서의 연결 부재의 이동 속도를 설정하는 이동 속도 설정부와, 기판의 수도시에, 이동 속도 설정부에 의해 설정된 이동 속도로 연결 부재가 이동하도록 수도 구동부를 제어하는 수도 제어부를 구비한다.(1) A substrate water supply system according to an aspect of the present invention includes a support unit configured to support a lower surface of a substrate during processing of a substrate, a plurality of lifting members each having an upper end capable of supporting the lower surface of the substrate, and a plurality of The connecting member configured to be movable in the vertical direction with respect to the support part while connecting the lifting members of the plurality of lifting members and the upper end of the plurality of lifting members are higher than the upper end of the support part. A water drive unit for moving the connecting member so as to move between the position and a position lower than the upper end of the support unit, a setting member configured to be supported by a plurality of elevating members, and a plurality of setting members when supported by a plurality of elevating members At the time of setting the moving speed of the connecting member and the detection unit that detects the pressure applied to the plurality of portions of the setting member from the lifting member of, by controlling the water drive unit, the plurality of lifting members are supported by the support unit. A movement control unit that moves the connecting member so that the upper end moves from a position lower than the upper end of the support to a position higher than the upper end of the support, and a plurality of elevations based on an output signal of the detection unit during movement of the connection member by the movement control unit. It is determined whether or not the values of the plurality of pressures applied from the member to the plurality of parts of the set member each reached a plurality of predetermined reference pressure values, and the values of the plurality of pressures have reached each of the plurality of reference pressure values. A range in which a partial range including the determined reference position among the moving ranges of the connecting member in the case of the transfer of the substrate and the positioning part that determines the position of the connecting member in the vertical direction at the time as the reference position is determined as the speed limiting range A moving speed setting unit for setting the moving speed of the connecting member during delivery of the substrate so that the moving speed of the connecting member within the speed limiting range is lower than the moving speed of the connecting member outside the speed limiting range; , A water supply control unit for controlling the water supply driving unit so that the connection member moves at a movement speed set by the movement speed setting unit when the substrate is supplied Equipped.

그 기판 수도 시스템에 있어서는, 연결 부재의 이동 속도의 설정시에, 지지부에 의해 설정 부재가 지지된다. 이 상태에서, 복수의 승강 부재의 상단부가 지지부의 상단부보다 하방의 위치로부터 지지부의 상단부보다 상방의 위치로 이동하도록, 연결 부재가 이동한다. In the substrate water supply system, the setting member is supported by the support portion at the time of setting the moving speed of the connecting member. In this state, the connecting member moves so that the upper end portions of the plurality of lifting members move from a position below the upper end portion of the support portion to a position above the upper end portion of the support portion.

이 경우, 복수의 승강 부재의 상단부가 지지부의 상단부와 같은 높이에 위치했을 때에 복수의 승강 부재의 상단부가 설정 부재의 하면의 복수의 부분에 각각 접촉한다. 그로 인해, 설정 부재의 복수의 부분에 압력이 가해진다. 설정 부재의 복수의 부분에 가해지는 복수의 압력의 값이 복수의 기준 압력값에 도달했는지의 여부에 의거하여, 복수의 승강 부재가 설정 부재에 접촉한 시점에 있어서의 연결 부재의 상하 방향의 위치가 기준 위치로서 정확하게 결정된다. 결정된 기준 위치를 포함하는 속도 제한 범위가 결정된다. 또, 속도 제한 범위 내에서의 연결 부재의 이동 속도가 속도 제한 범위 외에서의 연결 부재의 이동 속도보다 낮아지도록, 기판의 수도시에 있어서의 연결 부재의 이동 속도가 설정된다.In this case, when the upper end portions of the plurality of lifting members are positioned at the same height as the upper end portions of the support portion, the upper end portions of the plurality of lifting members contact a plurality of portions of the lower surface of the setting member. Therefore, pressure is applied to a plurality of portions of the setting member. Position of the connecting member in the vertical direction at the time when the plurality of lifting members touch the setting member, based on whether or not values of the plurality of pressures applied to the plurality of parts of the setting member have reached a plurality of reference pressure values. Is accurately determined as the reference position. The speed limit range including the determined reference position is determined. Further, the moving speed of the connecting member during delivery of the substrate is set so that the moving speed of the connecting member within the speed limiting range is lower than the moving speed of the connecting member outside the speed limiting range.

기판의 수도시에는, 설정된 이동 속도로 연결 부재가 이동하도록 수도 구동부가 제어된다. 이 경우, 연결 부재가 낮은 이동 속도로 속도 제한 범위 내를 이동할 때에, 기판의 하면에 지지부 또는 복수의 승강 부재가 접촉한다. 따라서, 기판의 하면에 지지부 또는 복수의 승강 부재가 접촉함으로써 발생하는 충격이 완화되므로, 기판의 하면에 흠집이 발생하는 것이 방지된다. 한편, 연결 부재는, 높은 이동 속도로 속도 제한 범위 외를 이동하므로, 기판의 수도에 필요한 시간이 단축된다.During delivery of the substrate, the water supply driver is controlled so that the connecting member moves at a set movement speed. In this case, when the connecting member moves within the speed limiting range at a low moving speed, the support portion or a plurality of lifting members contact the lower surface of the substrate. Accordingly, since the impact caused by the contact of the support portion or the plurality of lifting members on the lower surface of the substrate is alleviated, scratches are prevented from occurring on the lower surface of the substrate. On the other hand, since the connecting member moves outside the speed limiting range at a high moving speed, the time required for the number of substrates is shortened.

또한, 상기의 구성에 의하면, 지지부와 복수의 승강 부재 사이의 위치 관계의 오차에 관계없이, 복수의 승강 부재가 설정 부재에 접촉한 시점에 있어서의 연결 부재의 상하 방향의 위치가 기준 위치로서 정확하게 결정되고, 속도 제한 범위가 결정된다. 그로 인해, 속도 제한 범위에 의거하여 설정 부재의 이동 속도를 변화시킬 수 있다. 따라서, 복수의 승강 부재로부터 지지부에 건네진 기판에 실제로 흠집이 발생했는지의 여부를 확인하면서 기판의 이동 속도를 저하시키는 타이밍을 조정하는 작업이 불필요해진다.In addition, according to the above configuration, regardless of the error in the positional relationship between the supporting portion and the plurality of lifting members, the vertical position of the connecting member at the time when the plurality of lifting members contacted the setting member is exactly as a reference position. Is determined, and the speed limit range is determined. Therefore, the moving speed of the setting member can be changed based on the speed limit range. Accordingly, it becomes unnecessary to adjust the timing of lowering the moving speed of the substrate while confirming whether or not a scratch has actually occurred on the substrate handed to the support from the plurality of lifting members.

이들의 결과, 기판 처리의 스루풋을 향상시키면서 복수의 지지 부재와 지지부 사이의 기판의 수도시에 기판에 흠집이 발생하는 것을 방지하는 것이 가능하고 또한 기판의 제조 코스트의 증가를 억제하는 것이 가능해진다.As a result of these, while improving the throughput of the substrate processing, it is possible to prevent the occurrence of scratches on the substrate during delivery of the substrates between the plurality of support members and the support portions, and it becomes possible to suppress an increase in the manufacturing cost of the substrate.

(2) 기판 수도 시스템은, 복수의 승강 부재에 의해 설정 부재가 지지된 상태에서 복수의 승강 부재로부터 설정 부재의 복수의 부분에 각각 가해지는 복수의 압력의 값에 의거하여 복수의 기준 압력값을 결정하는 압력 결정부를 더 구비해도 된다. (2) The substrate water supply system calculates a plurality of reference pressure values based on values of a plurality of pressures applied from a plurality of lifting members to a plurality of portions of the setting member in a state in which the setting member is supported by a plurality of lifting members. You may further include a pressure determination unit to determine.

이 경우, 복수의 기준 압력값은, 복수의 승강 부재에 의해 설정 부재가 실제로 지지된 상태에서 복수의 승강 부재로부터 설정 부재의 복수의 부분에 각각 가해지는 복수의 압력의 값과 동일하다. 그로 인해, 복수의 기준 압력값에 의거하여 연결 부재의 기준 위치를 정확하게 결정할 수 있다.In this case, the plurality of reference pressure values are the same as the values of the plurality of pressures each applied from the plurality of lifting members to the plurality of portions of the setting member while the setting member is actually supported by the plurality of lifting members. Therefore, the reference position of the connecting member can be accurately determined based on a plurality of reference pressure values.

(3) 범위 결정부는, 기판의 수도를 위해 연결 부재가 하강할 때의 속도 제한 범위를 하강 속도 제한 범위로서 결정하고, 하강 속도 제한 범위의 상한은, 기준 위치보다 상방에 위치하고, 이동 속도 설정부는, 하강 속도 제한 범위 내에서 하강할 때의 연결 부재의 이동 속도가 속도 제한 범위 외에서 하강할 때의 연결 부재의 이동 속도보다 낮아지도록, 연결 부재의 이동 속도를 설정해도 된다. (3) The range determination unit determines the speed limit range when the connecting member descends for the number of substrates as the descending speed limit range, the upper limit of the descending speed limit range is located above the reference position, and the movement speed setting unit , You may set the moving speed of the connecting member so that the moving speed of the connecting member when descending within the lowering speed limit range is lower than the moving speed of the connecting member when descending outside the speed limiting range.

지지부의 상단부보다 상방의 위치에서 기판이 복수의 승강 부재에 의해 지지되어 있는 경우, 복수의 승강 부재의 상단부가 지지부의 상단부보다 하방의 위치까지 하강함으로써, 기판이 복수의 승강 부재로부터 지지부에 건네진다.When the substrate is supported by a plurality of lifting members at a position above the upper end of the support, the upper ends of the plurality of lifting members are lowered to a position below the upper end of the support, so that the substrate is passed from the plurality of lifting members to the support. .

상기의 구성에 의하면, 하강 속도 제한 범위의 상한이 기준 위치보다 상방에 위치한다. 그로 인해, 연결 부재가 하강 속도 제한 범위 외에서 하강할 때의 이동 속도가 높게 설정되는 경우라도, 연결 부재가 하강함으로써 하강 속도 제한 범위의 상한의 위치로부터 기준 위치에 도달할 때까지 연결 부재의 이동 속도를 충분히 낮게 할 수 있다. 따라서, 기판 처리의 스루풋을 향상시킬 수 있음과 더불어, 기판에 흠집이 발생하는 것을 방지할 수 있다.According to the above configuration, the upper limit of the descending speed limit range is located above the reference position. Therefore, even when the moving speed when the connecting member descends outside the lowering speed limit range is set to be high, the moving speed of the connecting member until reaching the reference position from the upper limit of the lowering speed limit range when the connecting member descends. Can be made low enough. Accordingly, while improving the throughput of the substrate processing, it is possible to prevent the occurrence of scratches on the substrate.

(4) 범위 결정부는, 기판의 수도를 위해 연결 부재가 상승할 때의 속도 제한 범위를 상승 속도 제한 범위로서 결정하고, 상승 속도 제한 범위의 하한은, 기준 위치보다 하방에 위치하고, 이동 속도 설정부는, 상승 속도 제한 범위 내에서 상승할 때의 연결 부재의 이동 속도가 상승 속도 제한 범위 외에서 상승할 때의 연결 부재의 이동 속도보다 낮아지도록, 연결 부재의 이동 속도를 설정해도 된다. (4) The range determination unit determines the speed limit range when the connecting member rises for the number of substrates as the rise speed limit range, the lower limit of the rise speed limit range is located below the reference position, and the movement speed setting unit , You may set the moving speed of the connecting member so that the moving speed of the connecting member when ascending within the ascending speed limiting range is lower than the moving speed of the connecting member when ascending outside the ascending speed limiting range.

지지부의 상단부가 지지부의 상단부보다 하방에 위치함과 더불어 기판이 지지부에 의해 지지되어 있는 경우, 복수의 승강 부재의 상단부가 지지부의 상단부보다 상방의 위치까지 상승함으로써, 기판이 지지부로부터 복수의 승강 부재에 건네진다.When the upper end of the support is positioned below the upper end of the support and the substrate is supported by the support, the upper ends of the plurality of lifting members are raised to a position above the upper end of the support, so that the substrate is moved from the support to the plurality of lifting members. Is handed to.

상기의 구성에 의하면, 상승 속도 제한 범위의 하한이 기준 위치보다 하방에 위치한다. 그로 인해, 연결 부재가 상승 속도 제한 범위 외에서 상승할 때의 이동 속도가 높게 설정되는 경우라도, 연결 부재가 상승함으로써 상승 속도 제한 범위의 하한의 위치로부터 기준 위치에 도달할 때까지 연결 부재의 이동 속도를 충분히 낮게 할 수 있다. 따라서, 기판 처리의 스루풋을 향상시킬 수 있음과 더불어, 기판에 흠집이 발생하는 것을 방지할 수 있다.According to the above configuration, the lower limit of the ascending speed limiting range is located below the reference position. Therefore, even when the moving speed when the connecting member ascends outside the ascending speed limit range is set to be high, the moving speed of the connecting member from the lower limit of the ascending speed limit range to the reference position when the connecting member rises is set. Can be made low enough. Accordingly, while improving the throughput of the substrate processing, it is possible to prevent the occurrence of scratches on the substrate.

(5) 설정 부재는, 기판과 같은 외형을 가져도 된다.(5) The setting member may have an external shape similar to that of the substrate.

이 경우, 설정 부재가 기판과 같은 형상을 가지므로, 연결 부재의 이동 속도의 설정시에, 지지부와 복수의 승강 부재 사이에서 기판이 수도되는 경우에 가까운 상태에서 지지부와 복수의 승강 부재 사이의 설정 부재의 수도가 행해진다. 따라서, 연결 부재의 이동 속도의 설정을 보다 용이하고 적절히 행할 수 있다.In this case, since the setting member has the same shape as the substrate, when setting the moving speed of the connecting member, setting between the support portion and the plurality of elevation members in a state close to the case where the substrate is supplied between the support portion and the plurality of elevation members. The number of members is done. Accordingly, it is possible to more easily and appropriately set the moving speed of the connecting member.

(6) 설정 부재는, 수지로 형성되어도 된다.(6) The setting member may be formed of resin.

이 경우, 설정 부재는 기판에 비해 흠집이 발생하기 어렵기 때문에, 이동 속도의 설정시에 설정 부재가 파손되는 것이 방지된다.In this case, since the setting member is less susceptible to scratching than the substrate, the setting member is prevented from being damaged when the moving speed is set.

(7) 지지부는, 평탄한 지지면과, 지지면으로부터 상방으로 돌출하도록 설치됨과 더불어, 기판의 하면을 지지 가능하게 구성된 복수의 돌기 부재와, 복수의 돌기 부재에 의해 지지된 기판에 열처리를 행하는 열처리 기구를 포함해도 된다.(7) A heat treatment for performing heat treatment on a flat support surface, a plurality of protruding members configured to protrude upward from the support surface and supporting the lower surface of the substrate, and a substrate supported by the plurality of protrusion members. Appliances may be included.

이 경우, 기판과 복수의 돌기 부재가 접촉함으로써 기판에 흠집이 발생하는 것이 방지되므로, 흠집이 발생한 기판에 열처리가 실시됨으로써 기판이 파손되는 것이 방지된다. 또, 기판과 복수의 승강 부재가 접촉함으로써 기판에 흠집이 발생하는 것이 방지되므로, 열처리 후의 기판이 파손되는 것이 억제된다.In this case, the substrate is prevented from being scratched by contacting the substrate with the plurality of protruding members, and thus the substrate is prevented from being damaged by performing heat treatment on the scratched substrate. Further, since scratches are prevented from occurring on the substrate by contacting the substrate with the plurality of lifting members, damage to the substrate after heat treatment is suppressed.

(8) 본 발명의 다른 국면에 따른 기판 수도 방법은, 기판의 처리시에 기판의 하면을 지지하도록 구성된 지지부와 기판의 하면을 지지 가능한 상단부를 각각 갖는 3개 이상의 복수의 승강 부재 사이에서 기판의 수도를 행하기 위한 기판 수도 방법으로서, 복수의 승강 부재는, 지지부에 대해서 상하 방향으로 이동 가능하게 구성된 연결 부재에 의해 연결되고, 연결 부재는, 지지부와 복수의 승강 부재 사이에서의 기판의 수도시에, 복수의 승강 부재의 상단부가 지지부의 상단부보다 상방의 위치와 지지부의 상단부보다 하방의 위치 사이에서 이동하도록 이동하고, 기판 수도 방법은, 연결 부재의 이동 속도의 설정시에, 복수의 승강 부재에 의해 지지 가능하게 구성된 설정 부재를 지지부에 의해 지지하는 단계와, 설정 부재가 지지부에 지지된 상태에서 복수의 승강 부재의 상단부가 지지부의 상단부보다 하방의 위치로부터 지지부의 상단부보다 상방의 위치로 이동하도록, 연결 부재를 이동시키는 단계와, 설정 부재가 복수의 승강 부재에 의해 지지되었을 때에 복수의 승강 부재로부터 설정 부재의 복수의 부분에 각각 가해지는 압력을 검출하는 단계와, 연결 부재의 이동 중에, 검출하는 단계의 검출 결과에 의거하여 복수의 승강 부재로부터 설정 부재의 복수의 부분에 각각 가해지는 복수의 압력의 값이 미리 정해진 복수의 기준 압력값에 각각 도달했는지의 여부를 판정하고, 복수의 압력의 값이 복수의 기준 압력값에 각각 도달했을 때의 연결 부재의 상하 방향의 위치를 기준 위치로서 결정하는 단계와, 기판의 수도시에 있어서의 연결 부재의 이동 범위 중 결정된 기준 위치를 포함하는 일부의 범위를 속도 제한 범위로서 결정하는 단계와, 속도 제한 범위 내에서의 연결 부재의 이동 속도가 속도 제한 범위 외에서의 연결 부재의 이동 속도보다 낮아지도록, 기판의 수도시에 있어서의 연결 부재의 이동 속도를 설정하는 단계와, 기판의 수도시에, 설정하는 단계에 의해 설정된 이동 속도로 연결 부재가 이동하도록 연결 부재를 이동시키는 단계를 포함한다. (8) A substrate delivery method according to another aspect of the present invention is to provide a substrate between three or more lifting members each having a support portion configured to support a lower surface of the substrate and an upper end portion capable of supporting the lower surface of the substrate. As a substrate water supply method for performing water supply, a plurality of lifting members are connected by a connection member configured to be movable in a vertical direction with respect to the support part, and the connection member is used to transfer the substrate between the support part and the plurality of lifting members. E, the upper ends of the plurality of lifting members are moved to move between a position above the upper end of the support and a position lower than the upper end of the support, and the substrate number method is, when setting the moving speed of the connecting member, the plurality of lifting members Supporting the setting member configured to be supported by the support unit, and while the setting member is supported by the support unit, the upper ends of the plurality of lifting members are moved from a position below the upper end of the support to a position above the upper end of the support. So as to do so, moving the connecting member; detecting pressures applied to the plurality of portions of the setting member from the plurality of elevating members when the setting member is supported by the plurality of elevating members; and during movement of the connecting member, Based on the detection result of the detecting step, it is determined whether or not values of the plurality of pressures applied from the plurality of lifting members to the plurality of portions of the setting member respectively have reached a plurality of predetermined reference pressure values, and the plurality of pressures Determining a position in the vertical direction of the connecting member when the value of is reached each of a plurality of reference pressure values as a reference position, and a part including a reference position determined among the moving ranges of the connecting member when the substrate is supplied Determining the range of as the speed limiting range, and the moving speed of the connecting member at the time of delivery of the substrate so that the moving speed of the connecting member within the speed limiting range is lower than that of the connecting member outside the speed limiting range And, when the substrate is supplied, moving the connection member so that the connection member moves at a moving speed set by the setting step. Do.

그 기판 수도 방법에 있어서는, 연결 부재의 이동 속도의 설정시에, 지지부에 의해 설정 부재가 지지된다. 이 상태에서, 복수의 승강 부재의 상단부가 지지부의 상단부보다 하방의 위치로부터 지지부의 상단부보다 상방의 위치로 이동하도록, 연결 부재가 이동한다. In the substrate delivery method, the setting member is supported by the support portion at the time of setting the moving speed of the connecting member. In this state, the connecting member moves so that the upper end portions of the plurality of lifting members move from a position below the upper end portion of the support portion to a position above the upper end portion of the support portion.

이 경우, 복수의 승강 부재의 상단부가 지지부의 상단부와 같은 높이에 위치했을 때에 복수의 승강 부재의 상단부가 설정 부재의 하면의 복수의 부분에 각각 접촉한다. 그로 인해, 설정 부재의 복수의 부분에 압력이 가해진다. 설정 부재의 복수의 부분에 가해지는 복수의 압력의 값이 복수의 기준 압력값에 도달했는지의 여부에 의거하여, 복수의 승강 부재가 설정 부재에 접촉한 시점에 있어서의 연결 부재의 상하 방향의 위치가 기준 위치로서 정확하게 결정된다. 결정된 기준 위치를 포함하는 속도 제한 범위가 결정된다. 또, 속도 제한 범위 내에서의 연결 부재의 이동 속도가 속도 제한 범위 외에서의 연결 부재의 이동 속도보다 낮아지도록, 기판의 수도시에 있어서의 연결 부재의 이동 속도가 설정된다. In this case, when the upper end portions of the plurality of lifting members are positioned at the same height as the upper end portions of the support portion, the upper end portions of the plurality of lifting members contact a plurality of portions of the lower surface of the setting member. Therefore, pressure is applied to a plurality of portions of the setting member. Position of the connecting member in the vertical direction at the time when the plurality of lifting members touch the setting member, based on whether or not values of the plurality of pressures applied to the plurality of parts of the setting member have reached a plurality of reference pressure values. Is accurately determined as the reference position. The speed limit range including the determined reference position is determined. Further, the moving speed of the connecting member during delivery of the substrate is set so that the moving speed of the connecting member within the speed limiting range is lower than the moving speed of the connecting member outside the speed limiting range.

기판의 수도시에는, 설정된 이동 속도로 연결 부재가 이동하도록 수도 구동부가 제어된다. 이 경우, 연결 부재가 낮은 이동 속도로 속도 제한 범위 내를 이동할 때에, 기판의 하면에 지지부 또는 복수의 승강 부재가 접촉한다. 따라서, 기판의 하면에 지지부 또는 복수의 승강 부재가 접촉함으로써 발생하는 충격이 완화되므로, 기판의 하면에 흠집이 발생하는 것이 방지된다. 한편, 연결 부재는, 높은 이동 속도로 속도 제한 범위 외를 이동하므로, 기판의 수도에 필요한 시간이 단축된다.During delivery of the substrate, the water supply driver is controlled so that the connecting member moves at a set movement speed. In this case, when the connecting member moves within the speed limiting range at a low moving speed, the support portion or a plurality of lifting members contact the lower surface of the substrate. Accordingly, since the impact caused by the contact of the support portion or the plurality of lifting members on the lower surface of the substrate is alleviated, scratches are prevented from occurring on the lower surface of the substrate. On the other hand, since the connecting member moves outside the speed limiting range at a high moving speed, the time required for the number of substrates is shortened.

또한, 상기의 구성에 의하면, 지지부와 복수의 승강 부재 사이의 위치 관계의 오차에 관계없이, 복수의 승강 부재가 설정 부재에 접촉한 시점에 있어서의 연결 부재의 상하 방향의 위치가 기준 위치로서 정확하게 결정되고, 속도 제한 범위가 결정된다. 그로 인해, 속도 제한 범위에 의거하여 설정 부재의 이동 속도를 변화시킬 수 있다. 따라서, 복수의 승강 부재로부터 지지부에 건네진 기판에 실제로 흠집이 발생했는지의 여부를 확인하면서 기판의 이동 속도를 저하시키는 타이밍을 조정하는 작업이 불필요해진다.In addition, according to the above configuration, regardless of the error in the positional relationship between the supporting portion and the plurality of lifting members, the vertical position of the connecting member at the time when the plurality of lifting members contacted the setting member is exactly as a reference position. Is determined, and the speed limit range is determined. Therefore, the moving speed of the setting member can be changed based on the speed limit range. Accordingly, it becomes unnecessary to adjust the timing of lowering the moving speed of the substrate while confirming whether or not a scratch has actually occurred on the substrate handed to the support from the plurality of lifting members.

이들의 결과, 기판 처리의 스루풋을 향상시키면서 복수의 지지 부재와 지지부 사이의 기판의 수도시에 기판에 흠집이 발생하는 것을 방지하는 것이 가능하고 또한 기판의 제조 코스트의 증가를 억제하는 것이 가능해진다.As a result of these, while improving the throughput of the substrate processing, it is possible to prevent the occurrence of scratches on the substrate during delivery of the substrates between the plurality of support members and the support portions, and it becomes possible to suppress an increase in the manufacturing cost of the substrate.

도 1은, 본 발명의 한 실시의 형태에 관련된 열처리 장치의 구성을 나타내는 모식적 측면도.
도 2는, 도 1의 열처리 장치의 모식적 평면도.
도 3은, 도 1의 설정 부재 및 송신 장치의 모식적 평면도.
도 4는, 도 1의 설정 부재 및 송신 장치의 모식적 측면도.
도 5는, 기판의 수도시의 연결 부재의 이동 속도의 구체적인 설정예를 나타내는 모식적 측면도.
도 6은, 기판의 수도시의 연결 부재의 이동 속도의 구체적인 설정예를 나타내는 모식적 측면도.
도 7은, 기판의 수도시의 연결 부재의 이동 속도의 구체적인 설정예를 나타내는 모식적 측면도.
도 8은, 기판의 수도시의 연결 부재의 이동 속도의 구체적인 설정예를 나타내는 모식적 측면도.
도 9는, 기판의 수도시의 연결 부재의 이동 속도의 구체적인 설정예를 나타내는 모식적 측면도.
도 10은, 기판의 수도시의 연결 부재의 이동 속도의 구체적인 설정예를 나타내는 모식적 측면도.
도 11은, 연결 부재의 이동 속도의 설정 후에 연결 부재가 하강함으로써 복수의 승강핀으로부터 지지부 상에 기판이 건네지는 상태를 나타내는 모식적 측면도.
도 12는, 연결 부재의 이동 속도의 설정 후에 연결 부재가 상승함으로써 지지부로부터 복수의 승강핀 상에 기판이 건네지는 상태를 나타내는 모식적 측면도.
도 13은, 이동 속도 설정 처리의 일례를 나타내는 플로차트.
도 14는, 도 1의 열처리 장치를 구비하는 기판 처리 장치의 일례를 나타내는 모식적 블럭도.
1 is a schematic side view showing a configuration of a heat treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic plan view of the heat treatment apparatus of FIG. 1.
3 is a schematic plan view of a setting member and a transmission device in FIG. 1.
Fig. 4 is a schematic side view of a setting member and a transmission device in Fig. 1;
Fig. 5 is a schematic side view showing a specific example of setting the moving speed of the connecting member when the substrate is supplied.
Fig. 6 is a schematic side view showing a specific example of setting the moving speed of the connecting member when the substrate is supplied.
Fig. 7 is a schematic side view showing a specific setting example of the moving speed of the connecting member when the substrate is supplied.
Fig. 8 is a schematic side view showing a specific setting example of the moving speed of the connecting member when the substrate is supplied.
Fig. 9 is a schematic side view showing a specific example of setting the moving speed of the connecting member when the substrate is supplied.
Fig. 10 is a schematic side view showing a specific example of setting the moving speed of the connecting member when the substrate is supplied.
Fig. 11 is a schematic side view showing a state in which the connecting member descends after setting the moving speed of the connecting member and the substrate is handed over from a plurality of lifting pins to the support portion.
Fig. 12 is a schematic side view showing a state in which the connecting member is raised after setting the moving speed of the connecting member and the substrate is handed over from the support portion onto a plurality of lifting pins.
13 is a flowchart showing an example of movement speed setting processing.
14 is a schematic block diagram showing an example of a substrate processing apparatus including the heat treatment apparatus of FIG. 1.

이하, 본 발명의 실시의 형태에 관련된 기판 수도 시스템 및 기판 수도 방법에 대해 도면을 이용하여 설명한다. 이하의 설명에 있어서, 기판이란, 반도체 기판, 액정 표시 장치 혹은 유기 EL(Electro Luminescence) 표시 장치 등의 FPD(Flat Panel Display)용 기판, 광디스크용 기판, 자기 디스크용 기판, 광자기 디스크용 기판, 포토마스크용 기판, 세라믹 기판 또는 태양전지용 기판 등을 말한다. 이하의 설명에 있어서는, 기판 수도 시스템의 일례로서 기판에 가열 처리를 행하는 열처리 장치를 설명한다.Hereinafter, a substrate water supply system and a substrate water supply method according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, the substrate refers to a substrate for a flat panel display (FPD) such as a semiconductor substrate, a liquid crystal display device or an organic EL (Electro Luminescence) display device, a substrate for an optical disk, a substrate for a magnetic disk, a substrate for a magneto-optical disk, It refers to a photomask substrate, a ceramic substrate, or a solar cell substrate. In the following description, a heat treatment apparatus for performing heat treatment on a substrate as an example of a substrate water supply system will be described.

(1) 열처리 장치의 구성(1) Configuration of heat treatment device

도 1은 본 발명의 한 실시의 형태에 관련된 열처리 장치의 구성을 나타내는 모식적 측면도이며, 도 2는 도 1의 열처리 장치(100)의 모식적 평면도이다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 열처리 장치(100)는, 주로 지지부(S), 승강 장치(30), 제어 장치(40), 송신 장치(60), 수신 장치(70) 및 설정 부재(90)를 구비한다. 또한, 도 2에서는, 도 1에 나타나는 복수의 구성 요소 중 제어 장치(40) 및 송신 장치(60) 및 수신 장치(70)의 도시가 생략되어 있다. 1 is a schematic side view showing a configuration of a heat treatment apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic plan view of a heat treatment apparatus 100 of FIG. 1. As shown in FIG. 1, the heat treatment apparatus 100 mainly includes a support S, an elevating device 30, a control device 40, a transmission device 60, a reception device 70, and a setting member 90. Equipped. In addition, in FIG. 2, the illustration of the control device 40, the transmission device 60, and the reception device 70 among the plurality of constituent elements shown in FIG. 1 is omitted.

지지부(S)는, 열처리 플레이트(10), 복수의 돌기 부재(11), 복수의 가이드 부재(12) 및 발열체(20)를 포함하고, 핫 플레이트로서 이용된다. 열처리 플레이트(10)는, 예를 들면 원판 형상을 갖는 전열 플레이트이며, 가열 처리의 대상이 되는 기판의 외경보다 큰 외경을 갖는다. 열처리 플레이트(10)에는, 발열체(20)가 설치되어 있다. 발열체(20)는, 예를 들면 마이카 히터 또는 펠티에 소자 등으로 구성된다. 발열체(20)에는, 발열 구동 회로(21)가 접속되어 있다. 발열 구동 회로(21)는, 후술하는 온도 조정부(46)의 제어에 의거하여 발열체(20)를 구동한다. 그로 인해, 기판의 가열 처리시에 발열체(20)가 발열한다.The support portion S includes a heat treatment plate 10, a plurality of protrusion members 11, a plurality of guide members 12, and a heat generating element 20, and is used as a hot plate. The heat treatment plate 10 is, for example, a heat transfer plate having a disk shape, and has an outer diameter larger than the outer diameter of a substrate to be subjected to heat treatment. In the heat treatment plate 10, a heat generating element 20 is provided. The heating element 20 is formed of, for example, a mica heater or a Peltier element. The heat generating drive circuit 21 is connected to the heat generating element 20. The heat generating drive circuit 21 drives the heat generating element 20 based on the control of the temperature adjusting unit 46 described later. For this reason, the heating element 20 generates heat during the heat treatment of the substrate.

도 2에 나타내는 바와 같이, 열처리 플레이트(10)의 평탄한 상면 상에, 복수(본 예에서는 10개)의 돌기 부재(11) 및 복수(본 예에서는 4개)의 가이드 부재(12)가 설치되어 있다. As shown in Fig. 2, on the flat upper surface of the heat treatment plate 10, a plurality of (10 in this example) protrusion members 11 and a plurality of (4 in this example) guide members 12 are provided. have.

복수의 돌기 부재(11)는, 열처리 플레이트(10)의 상면 중 외주 가장자리부 및 그 근방을 제외한 중앙 영역에서 이산적으로 배치되고, 처리 대상이 되는 기판 또는 후술하는 설정 부재(90)의 하면을 지지한다. 각 돌기 부재(11)는, 구 형상의 프록시미티볼이며, 예를 들면 세라믹에 의해 형성된다.The plurality of protrusion members 11 are discretely disposed in a central region of the upper surface of the heat treatment plate 10 excluding the outer circumferential edge and the vicinity thereof, and cover the substrate to be processed or the lower surface of the setting member 90 to be described later. Support. Each protrusion member 11 is a spherical proximal ball, and is formed of, for example, ceramic.

복수의 가이드 부재(12)는, 열처리 플레이트(10)의 상면의 주연부에 등각도 간격으로 배치되어 있다. 각 가이드 부재(12)의 상부에는, 후술하는 복수의 승강핀(31)으로부터 복수의 돌기 부재(11)에 기판 또는 설정 부재(90)가 건네질 때에, 기판 또는 설정 부재(90)의 외주 단부를 미리 정해진 위치로 이끌기 위한 경사면이 형성되어 있다. 그로 인해, 기판 또는 설정 부재(90)가 미리 정해진 위치로부터 어긋난 상태에서 복수의 돌기 부재(11)에 의해 지지되는 것이 방지된다. 각 가이드 부재(12)는, 예를 들면 PEEK(폴리에테르케톤) 등의 높은 내열성을 갖는 수지에 의해 형성된다.The plurality of guide members 12 are arranged at equiangular intervals on the periphery of the upper surface of the heat treatment plate 10. On the upper part of each guide member 12, when the substrate or setting member 90 is passed from the plurality of lifting pins 31 to be described later to the plurality of protruding members 11, the outer peripheral end of the substrate or setting member 90 An inclined surface is formed for leading the to a predetermined position. Therefore, it is prevented that the substrate or the setting member 90 is supported by the plurality of protrusion members 11 in a state that is shifted from a predetermined position. Each guide member 12 is formed of resin having high heat resistance, such as PEEK (polyether ketone).

열처리 플레이트(10)에는, 두께 방향으로 관통하는 복수(본 예에서는 3개)의 관통 구멍(13)이 형성되어 있다. 복수의 관통 구멍(13)은, 열처리 플레이트(10)의 중심을 기준으로 하는 소정의 가상 원 상에 등각도 간격으로 형성되어 있다. The heat treatment plate 10 is formed with a plurality of (three in this example) through holes 13 penetrating in the thickness direction. The plurality of through holes 13 are formed on a predetermined virtual circle based on the center of the heat treatment plate 10 at equiangular intervals.

도 1에 나타내는 바와 같이, 승강 장치(30)는, 복수(본 예에서는 3개)의 승강핀(31), 연결 부재(32), 이송축(33), 모터(34) 및 모터 구동 회로(35)를 포함한다. 복수의 승강핀(31)은, 열처리 플레이트(10)에 형성된 복수의 관통 구멍(13)에 각각 삽입 가능한 봉 형상 부재이며, 예를 들면 세라믹에 의해 형성된다. 또, 복수의 승강핀(31)은, 연결 부재(32)에 의해 서로 연결됨과 더불어, 복수의 승강핀(31)의 일부가 열처리 플레이트(10)의 복수의 관통 구멍(13)에 각각 삽입된 상태로 상하 방향으로 연장되도록 유지된다.As shown in Fig. 1, the lifting device 30 includes a plurality of (three in this example) lifting pins 31, a connecting member 32, a feed shaft 33, a motor 34, and a motor drive circuit ( 35). The plurality of lifting pins 31 are rod-shaped members that can be respectively inserted into the plurality of through holes 13 formed in the heat treatment plate 10, and are formed of, for example, ceramic. In addition, the plurality of lifting pins 31 are connected to each other by the connection member 32, and a part of the plurality of lifting pins 31 is inserted into the plurality of through holes 13 of the heat treatment plate 10, respectively. It is maintained to extend in the vertical direction in the state.

열처리 플레이트(10)의 근방에, 상하 방향으로 연장되는 이송축(33), 모터(34) 및 모터 구동 회로(35)가 설치되어 있다. 이송축(33)은, 예를 들면 볼나사이며, 모터(34)의 회전축에 접속되어 있다. 이 상태로, 연결 부재(32)의 일부가 이송축(33)에 부착되어 있다. 또, 연결 부재(32)에는, 이송축(33)의 회전시에 연결 부재(32)가 이송축(33)을 따라서 상하 방향으로 이동하도록, 연결 부재(32)를 안내하는 도시하지 않은 가이드 부재가 부착되어 있다.In the vicinity of the heat treatment plate 10, a feed shaft 33, a motor 34, and a motor drive circuit 35 extending in the vertical direction are provided. The feed shaft 33 is, for example, a ball screw, and is connected to the rotation shaft of the motor 34. In this state, a part of the connecting member 32 is attached to the feed shaft 33. In addition, in the connecting member 32, a guide member (not shown) that guides the connecting member 32 so that the connecting member 32 moves in the vertical direction along the conveying shaft 33 when the conveying shaft 33 rotates. Is attached.

모터 구동 회로(35)는, 후술하는 이동 제어부(44) 또는 수도 제어부(45)의 제어에 의거하여 모터(34)를 구동한다. 그로 인해, 이송축(33)이 한 방향 또는 그 역방향으로 회전한다. 이송축(33)이 한 방향으로 회전함으로써 복수의 승강핀(31)이 연결 부재(32)와 함께 상승(또는 하강)한다. 이송축(33)이 역방향으로 회전함으로써 복수의 승강핀(31)이 연결 부재(32)와 함께 하강(또는 상승)한다.The motor drive circuit 35 drives the motor 34 based on the control of the movement control unit 44 or the water supply control unit 45 described later. Therefore, the transport shaft 33 rotates in one direction or the opposite direction. When the transport shaft 33 rotates in one direction, the plurality of lifting pins 31 rise (or fall) together with the connection member 32. As the transport shaft 33 rotates in the reverse direction, the plurality of lifting pins 31 descend (or rise) together with the connecting member 32.

이 경우, 복수의 승강핀(31) 및 연결 부재(32)의 이동 속도는, 이송축(33)의 회전 속도에 의존한다. 이송축(33)의 회전 속도가 높아질수록 복수의 승강핀(31) 및 연결 부재(32)의 이동 속도가 높아진다. 한편, 이송축(33)의 회전 속도가 낮아질수록 복수의 승강핀(31) 및 연결 부재(32)의 이동 속도가 낮아진다. In this case, the moving speed of the plurality of lifting pins 31 and the connecting member 32 depends on the rotation speed of the feed shaft 33. As the rotational speed of the transfer shaft 33 increases, the moving speed of the plurality of lifting pins 31 and the connecting member 32 increases. On the other hand, as the rotational speed of the transport shaft 33 decreases, the moving speed of the plurality of lifting pins 31 and the connecting member 32 decreases.

본 실시의 형태에서는, 모터(34)로서 스테핑 모터가 이용된다. 모터(34)에는, 도시하지 않은 엔코더가 내장되어 있다. 모터(34)의 엔코더로부터의 출력 신호는, 후술하는 위치 검출부(43)에 부여된다.In this embodiment, a stepping motor is used as the motor 34. An encoder (not shown) is incorporated in the motor 34. The output signal from the encoder of the motor 34 is applied to the position detection unit 43 to be described later.

본 실시의 형태에 관련된 열처리 장치(100)에서는, 지지부(S)와 복수의 승강핀(31) 사이에서의 기판의 수도시에 있어서의 연결 부재(32)의 상하 방향의 이동 속도를 설정하는 것이 가능하다. 송신 장치(60), 수신 장치(70) 및 설정 부재(90)는, 연결 부재(32)의 이동 속도를 설정하기 위해 이용된다. 도 3은 도 1의 설정 부재(90) 및 송신 장치(60)의 모식적 평면도이며, 도 4는 도 1의 설정 부재(90) 및 송신 장치(60)의 모식적 측면도이다. In the heat treatment apparatus 100 according to the present embodiment, it is necessary to set the vertical movement speed of the connecting member 32 between the support portion S and the plurality of lifting pins 31 during delivery of the substrate. It is possible. The transmitting device 60, the receiving device 70, and the setting member 90 are used to set the moving speed of the connecting member 32. 3 is a schematic plan view of the setting member 90 and the transmission device 60 of FIG. 1, and FIG. 4 is a schematic side view of the setting member 90 and the transmission device 60 of FIG. 1.

도 3 및 도 4에 나타내는 바와 같이, 설정 부재(90)는 원판 형상을 가지며, 예를 들면 PEEK(폴리에테르케톤) 등의 높은 내열성을 갖는 수지에 의해 형성된다. 설정 부재(90)의 외형은, 열처리 장치(100)에 있어서의 처리 대상이 되는 기판의 외형과 거의 같아지도록 형성된다. 예를 들면, 처리 대상이 되는 기판의 외경이 300㎜인 경우, 설정 부재(90)의 외경도 300㎜가 되도록 형성된다. As shown in Figs. 3 and 4, the setting member 90 has a disk shape and is formed of, for example, a resin having high heat resistance such as PEEK (polyether ketone). The outer shape of the setting member 90 is formed so as to be substantially the same as the outer shape of the substrate to be processed in the heat treatment apparatus 100. For example, when the outer diameter of the substrate to be processed is 300 mm, the outer diameter of the setting member 90 is also formed to be 300 mm.

설정 부재(90)는 일면(90a) 및 다른 면(90b)을 갖는다. 연결 부재(32)의 이동 속도의 설정시에, 설정 부재(90)는, 일면(90a)이 상방을 향하고, 다른 면(90b)이 하방을 향하도록, 지지부(S) 또는 복수의 승강핀(31)에 의해 지지된다.The setting member 90 has one surface 90a and the other surface 90b. At the time of setting the moving speed of the connecting member 32, the setting member 90 has a support S or a plurality of lifting pins so that one surface 90a faces upward and the other surface 90b faces downward. 31).

여기서, 설정 부재(90)의 다른 면(90b)에는, 도 4에 나타내는 바와 같이, 연결 부재(32)의 이동 속도의 설정시에 도 1의 복수의 승강핀(31)에 의해 지지되어야 할 복수(본 예에서는 3개)의 피지지부(91)가 정해져 있다. 설정 부재(90)의 일면(90a)에 있어서는, 복수의 피지지부(91)와 겹치는 복수의 부분에 복수(본 예에서는 3개)의 오목 형상부(92)가 각각 형성되어 있다.Here, on the other surface (90b) of the setting member (90), as shown in Fig. 4, when setting the moving speed of the connecting member (32), a plurality of pieces to be supported by the plurality of lifting pins (31) of Fig. (Three in this example) supported portions 91 are defined. On one surface 90a of the setting member 90, a plurality of (three in this example) concave portions 92 are formed in a plurality of portions overlapping with the plurality of supported portions 91, respectively.

복수의 오목 형상부(92)의 저부에 복수의 압력 센서(99)가 각각 접촉하도록 부착되어 있다. 본 예의 압력 센서(99)는, 당해 압력 센서(99)에 가해지는 압력의 크기에 따라 저항값이 변화하는 센서이다. 보다 구체적으로는, 압력 센서(99)는, 당해 압력 센서(99)에 가해지는 압력이 커질수록 저항값이 작아지고, 당해 압력 센서(99)에 가해지는 압력이 작아질수록 저항값이 커지는 센서이다. 설정 부재(90)에는, 송신 장치(60)가 더 부착되어 있다. 송신 장치(60)는, 도 3에 나타내는 바와 같이, 신호 출력 회로(61), 송신 회로(62) 및 송신 안테나(63)를 포함한다.A plurality of pressure sensors 99 are attached to the bottoms of the plurality of concave portions 92 so as to contact each other. The pressure sensor 99 of this example is a sensor whose resistance value changes according to the magnitude of the pressure applied to the pressure sensor 99. More specifically, the pressure sensor 99 is a sensor whose resistance value decreases as the pressure applied to the pressure sensor 99 increases, and the resistance value increases as the pressure applied to the pressure sensor 99 decreases. to be. A transmission device 60 is further attached to the setting member 90. The transmission device 60 includes a signal output circuit 61, a transmission circuit 62, and a transmission antenna 63 as shown in FIG. 3.

신호 출력 회로(61)는, 복수의 압력 센서(99)와 전기적으로 접속되고, 복수의 압력 센서(99)의 저항값에 대응하는 전기 신호를 출력한다. 송신 회로(62)는, 신호 출력 회로(61)로부터 출력되는 전기 신호를 복수의 압력 센서(99)의 출력 신호로서, 송신 안테나(63)를 통해 도 1의 수신 장치(70)에 무선 송신한다.The signal output circuit 61 is electrically connected to the plurality of pressure sensors 99 and outputs electrical signals corresponding to resistance values of the plurality of pressure sensors 99. The transmission circuit 62 wirelessly transmits the electric signal output from the signal output circuit 61 as an output signal of the plurality of pressure sensors 99 to the reception device 70 of FIG. 1 through the transmission antenna 63 .

수신 장치(70)는, 수신 안테나 및 수신 회로를 포함한다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 수신 장치(70)는, 송신 장치(60)로부터 무선 송신된 복수의 압력 센서(99)의 출력 신호를 수신 안테나를 통해 수신 회로에 의해 수신하고, 제어 장치(40)에 부여한다.The reception device 70 includes a reception antenna and a reception circuit. As shown in FIG. 1, the reception device 70 receives the output signals of the plurality of pressure sensors 99 wirelessly transmitted from the transmission device 60 by a reception circuit through a reception antenna, and the control device 40 To give.

제어 장치(40)는, CPU(중앙 연산 처리 장치), RAM(랜덤 액세스 메모리) 및 ROM(리드 온리 메모리)에 의해 구성되고, 압력 검출부(41), 위치 결정부(42), 위치 검출부(43), 이동 제어부(44), 수도 제어부(45), 온도 조정부(46), 압력 결정부(47), 범위 결정부(48), 이동 속도 설정부(49) 및 기억부(50)를 갖는다. 제어 장치(40)에 있어서는, CPU가 ROM 또는 다른 기억 매체에 기억된 컴퓨터 프로그램을 실행함으로써, 상기의 각 기능부가 실현된다. 또한, 제어 장치(40)의 기능적인 구성 요소의 일부 또는 전부가 전자 회로 등의 하드웨어에 의해 실현되어도 된다.The control device 40 is constituted by a CPU (central processing unit), a RAM (random access memory), and a ROM (lead only memory), and a pressure detection unit 41, a positioning unit 42, and a position detection unit 43 ), a movement control unit 44, a water supply control unit 45, a temperature adjustment unit 46, a pressure determination unit 47, a range determination unit 48, a movement speed setting unit 49, and a storage unit 50. In the control device 40, each of the above functional units is realized by the CPU executing a computer program stored in a ROM or other storage medium. In addition, some or all of the functional components of the control device 40 may be realized by hardware such as an electronic circuit.

압력 검출부(41)는, 수신 장치(70)로부터 부여되는 복수의 압력 센서(99)의 출력 신호에 의거하여, 복수의 승강핀(31)으로부터 설정 부재(90)의 복수의 피지지부(91)에 각각 가해지는 복수의 압력을 검출한다.The pressure detection unit 41 is based on the output signals of the plurality of pressure sensors 99 provided from the receiving device 70, the plurality of supported units 91 of the setting member 90 from the plurality of lifting pins 31 It detects a plurality of pressures applied to each.

후술하는 바와 같이, 연결 부재(32)의 이동 속도의 설정이 개시되면, 초기 상태에서 설정 부재(90)가 복수의 승강핀(31)에 의해 지지되게 된다. 이 상태에서, 압력 결정부(47)는, 복수의 승강핀(31)으로부터 설정 부재(90)의 복수의 피지지부(91)에 각각 가해지는 복수의 압력의 값을 복수의 기준 압력값으로서 결정한다. 이때, 기억부(50)는, 결정된 복수의 기준 압력값을 기억한다.As described later, when the setting of the moving speed of the connecting member 32 is started, the setting member 90 is supported by the plurality of lifting pins 31 in the initial state. In this state, the pressure determination unit 47 determines, as a plurality of reference pressure values, values of a plurality of pressures applied from the plurality of lifting pins 31 to the plurality of supported units 91 of the setting member 90, respectively. do. At this time, the storage unit 50 stores a plurality of determined reference pressure values.

위치 검출부(43)는, 모터(34)의 엔코더로부터의 출력 신호에 의거하여 열처리 플레이트(10)에 대한 연결 부재(32)의 상하 방향의 위치를 검출한다.The position detection unit 43 detects the vertical position of the connection member 32 with respect to the heat treatment plate 10 based on an output signal from the encoder of the motor 34.

후술하는 바와 같이, 연결 부재(32)의 이동 속도의 설정시에는, 상기의 복수의 기준 압력값이 결정된 후, 지지부(S)에 의해 설정 부재(90)가 지지된다. 이 상태에서, 이동 제어부(44)는, 모터 구동 회로(35)를 제어함으로써, 복수의 승강핀(31)의 상단부가 지지부(S)의 상단부보다 하방의 위치로부터 지지부(S)의 상단부보다 상방의 위치로 이동하도록, 연결 부재(32)를 상승시킨다.As described later, at the time of setting the moving speed of the connecting member 32, after the plurality of reference pressure values are determined, the setting member 90 is supported by the support portion S. In this state, the movement control unit 44 controls the motor driving circuit 35 so that the upper ends of the plurality of lifting pins 31 are higher than the upper end of the support S from a position below the upper end of the support S. To move to the position of, the connecting member 32 is raised.

위치 결정부(42)는, 이동 제어부(44)에 의한 연결 부재(32)의 상승 중에, 압력 검출부(41)의 검출 결과에 의거하여, 설정 부재(90)의 복수의 피지지부(91)에 각각 가해지는 복수의 압력의 값이 결정된 복수의 기준 압력값에 각각 도달했는지의 여부를 판정한다. 또, 위치 결정부(42)는, 위치 검출부(43)의 검출 결과에 의거하여, 복수의 압력의 값이 복수의 기준 압력값에 각각 도달했을 때의 연결 부재(32)의 상하 방향의 위치를 기준 위치로서 결정한다.The positioning unit 42 is applied to the plurality of supported units 91 of the setting member 90 based on the detection result of the pressure detection unit 41 while the connection member 32 is raised by the movement control unit 44. It is determined whether or not the values of the plurality of pressures each applied have reached the determined plurality of reference pressure values, respectively. Further, the positioning unit 42 determines the vertical position of the connecting member 32 when the values of the plurality of pressures reach a plurality of reference pressure values, respectively, based on the detection result of the position detection unit 43. It is determined as a reference position.

범위 결정부(48)는, 기판의 수도시에 있어서의 연결 부재(32)의 이동 범위 중 위치 결정부(42)에 의해 결정된 기준 위치를 포함하는 일부의 범위를 속도 제한 범위로서 결정한다. 속도 제한 범위의 상세는 후술한다.The range determination unit 48 determines a partial range including the reference position determined by the positioning unit 42 among the moving ranges of the connecting member 32 during delivery of the substrate as the speed limiting range. Details of the speed limiting range will be described later.

이동 속도 설정부(49)는, 속도 제한 범위 내에서의 연결 부재(32)의 이동 속도가 속도 제한 범위 외에서의 연결 부재(32)의 이동 속도보다 낮아지도록, 기판의 수도시에 있어서의 연결 부재(32)의 이동 속도를 설정한다. 이때, 기억부(50)는, 설정된 연결 부재(32)의 이동 속도를 기억한다.The moving speed setting unit 49 is a connecting member in the time of delivery of the substrate so that the moving speed of the connecting member 32 within the speed limiting range is lower than the moving speed of the connecting member 32 outside the speed limiting range. Set the movement speed of (32). At this time, the storage unit 50 stores the set moving speed of the connecting member 32.

수도 제어부(45)는, 기억부(50)에 기억된 이동 속도에 의거하여, 기판의 수도시에, 연결 부재(32)가 설정된 이동 속도로 이동하도록 모터 구동 회로(35)를 제어한다.The water supply control unit 45 controls the motor drive circuit 35 so that the connecting member 32 moves at a set movement speed when the substrate is delivered, based on the movement speed stored in the storage unit 50.

기억부(50)에는, 상기의 복수의 기준 압력값, 속도 제한 범위 및 설정된 이동 속도 외, 발열체(20)의 온도를 조정하기 위한 온도 조정 정보가 기억된다. 온도 조정부(46)는, 온도 조정 정보에 의거하여 발열 구동 회로(21)를 제어한다.In the storage unit 50, temperature adjustment information for adjusting the temperature of the heating element 20 is stored in addition to the plurality of reference pressure values, the speed limiting range and the set moving speed. The temperature adjustment unit 46 controls the heat generating drive circuit 21 based on the temperature adjustment information.

(2) 연결 부재(32)의 이동 속도의 설정(2) Setting of the moving speed of the connecting member 32

도 5~도 10은, 기판의 수도시의 연결 부재(32)의 이동 속도의 구체적인 설정예를 나타내는 모식적 측면도이다. 이하의 설명에서는, 연결 부재(32)의 상하 방향에 있어서의 이동 가능 범위 중 가장 높은 위치를 상방 위치(PA)라고 하고, 연결 부재(32)의 상하 방향에 있어서의 이동 가능 범위 중 가장 낮은 위치를 하방 위치(PB)라고 한다. 5 to 10 are schematic side views showing a specific example of setting the moving speed of the connecting member 32 when the substrate is supplied. In the following description, the highest position among the movable range of the connecting member 32 in the vertical direction is referred to as the upper position PA, and the lowest position among the movable range of the connecting member 32 in the vertical direction. Is called the downward position (PB).

처음에, 도 5에 나타내는 바와 같이, 연결 부재(32)가 상방 위치(PA)로 이동한다. 연결 부재(32)가 상방 위치(PA)에 있는 상태에서, 복수의 승강핀(31)의 상단부가 지지부(S)의 복수의 돌기 부재(11)의 상단부보다 상방에 위치한다.First, as shown in FIG. 5, the connecting member 32 moves to the upper position PA. In a state in which the connecting member 32 is in the upper position PA, the upper ends of the plurality of lifting pins 31 are positioned above the upper ends of the plurality of protruding members 11 of the support portion S.

다음에, 도 6에 나타내는 바와 같이, 복수의 승강핀(31)의 상단부 상에 도 3의 설정 부재(90)가 재치된다. 이 상태에서, 설정 부재(90)의 복수의 피지지부(91)(도 4)에 복수의 승강핀(31)으로부터 압력이 각각 가해진다. 이때, 복수의 승강핀(31)으로부터 설정 부재(90)의 복수의 피지지부(91)에 각각 가해지는 복수의 압력의 값이 도 3의 복수의 압력 센서(99)의 출력 신호에 의거하여 검출된다. 설정 부재(90)에 가해지는 복수의 압력의 값은, 예를 들면 복수의 압력 센서(99)의 저항값으로 표시된다. 검출된 복수의 압력의 값이, 설정 부재(90)의 복수의 피지지부(91)에 각각 대응하는 복수의 기준 압력값으로서 결정된다.Next, as shown in FIG. 6, the setting member 90 of FIG. 3 is mounted on the upper end of the plurality of lifting pins 31. In this state, pressure is applied from the plurality of lifting pins 31 to the plurality of supported portions 91 (FIG. 4) of the setting member 90, respectively. At this time, the values of the plurality of pressures applied from the plurality of lifting pins 31 to the plurality of supported portions 91 of the setting member 90 are detected based on the output signals of the plurality of pressure sensors 99 of FIG. do. The values of the plurality of pressures applied to the setting member 90 are displayed, for example, by resistance values of the plurality of pressure sensors 99. The values of the plurality of detected pressures are determined as a plurality of reference pressure values respectively corresponding to the plurality of supported portions 91 of the setting member 90.

다음에, 도 7에 나타내는 바와 같이, 연결 부재(32)가 상방 위치(PA)로부터 하방 위치(PB)까지 이동한다. 이 이동 중에, 복수의 승강핀(31) 상에 지지된 설정 부재(90)가 지지부(S)의 복수의 돌기 부재(11) 상에 건네진다. 연결 부재(32)가 하방 위치(PB)에 있는 상태에서, 복수의 승강핀(31)의 상단부는 복수의 돌기 부재(11)의 상단부보다 하방에 위치한다.Next, as shown in FIG. 7, the connecting member 32 moves from the upper position PA to the lower position PB. During this movement, the setting members 90 supported on the plurality of lifting pins 31 are handed over the plurality of protruding members 11 of the support portion S. In a state in which the connecting member 32 is in the lower position PB, the upper ends of the plurality of lifting pins 31 are located below the upper ends of the plurality of protruding members 11.

다음에, 도 8에 나타내는 바와 같이, 연결 부재(32)가 하방 위치(PB)로부터 상방 위치(PA)를 향해 상승한다. 이때, 도 1의 모터 구동 회로(35)는, 연결 부재(32)가 미리 정해진 미소 거리 이동하여 정지하는 것을 반복하는, 이른바 단계 이송으로 상승하도록, 모터(34)를 구동한다.Next, as shown in FIG. 8, the connecting member 32 rises from the lower position PB toward the upper position PA. At this time, the motor drive circuit 35 of FIG. 1 drives the motor 34 so as to rise at a so-called step feed repeating that the connecting member 32 moves and stops at a predetermined minute distance.

연결 부재(32)의 상승에 의해, 복수의 승강핀(31)의 상단부가 설정 부재(90)의 복수의 피지지부(91)(도 4)에 접촉한다. 이때, 설정 부재(90)가 지지부(S)의 복수의 돌기 부재(11)로부터 복수의 승강핀(31)에 건네짐으로써, 설정 부재(90)의 복수의 피지지부(91)에 복수의 승강핀(31)으로부터 압력이 각각 가해진다. 그로 인해, 도 3의 복수의 압력 센서(99)의 출력 신호가, 복수의 승강핀(31)과 복수의 피지지부(91)의 접촉의 전후에서 변화한다.When the connecting member 32 is raised, upper ends of the plurality of lifting pins 31 come into contact with the plurality of supported portions 91 (FIG. 4) of the setting member 90. At this time, by passing the setting member 90 to the plurality of lifting pins 31 from the plurality of protruding members 11 of the support portion S, a plurality of lifting and lowering of the plurality of supported portions 91 of the setting member 90 Pressure is applied from the pins 31 respectively. Therefore, the output signals of the plurality of pressure sensors 99 in FIG. 3 change before and after the contact between the plurality of lifting pins 31 and the plurality of supported portions 91.

그래서, 복수의 승강핀(31)과 설정 부재(90)의 복수의 피지지부(91)가 접촉한 시점을 파악하기 위해서, 연결 부재(32)가 단계 이송으로 상승하는 동안, 연결 부재(32)가 이동 및 정지할 때마다 복수의 압력 센서(99)의 출력 신호가 취득된다. 또, 복수의 압력 센서(99)의 출력 신호에 의거하여, 복수의 승강핀(31)으로부터 설정 부재(90)의 복수의 피지지부(91)에 각각 가해지는 복수의 압력의 값이 결정된 복수의 기준 압력값에 각각 도달했는지의 여부가 판정된다. 그 후에, 도 9에 나타내는 바와 같이, 설정 부재(90)의 복수의 피지지부(91)에 각각 가해지는 복수의 압력의 값이 결정된 복수의 기준 압력값에 각각 도달했을 때의 연결 부재(32)의 상하 방향의 위치가 기준 위치(RP)로서 결정된다.So, in order to grasp the point in time when the plurality of lifting pins 31 and the plurality of supported portions 91 of the setting member 90 come into contact, while the connecting member 32 ascends in step transfer, the connecting member 32 Output signals of the plurality of pressure sensors 99 are acquired each time is moved or stopped. Further, based on the output signals of the plurality of pressure sensors 99, the plurality of pressure values applied from the plurality of lifting pins 31 to the plurality of supported portions 91 of the setting member 90 are determined. It is determined whether or not each of the reference pressure values has been reached. Thereafter, as shown in Fig. 9, the connection member 32 when the values of the plurality of pressures each applied to the plurality of supported portions 91 of the setting member 90 reach the determined plurality of reference pressure values, respectively. The position in the vertical direction of is determined as the reference position RP.

기준 위치(RP)가 결정되면, 지지부(S)와 복수의 승강핀(31) 사이에서의 기판의 수도시에, 기판에 흠집이 발생하지 않도록 연결 부재(32)의 이동 속도를 제한해야 할 범위가 이동 제한 범위로서 결정된다.When the reference position (RP) is determined, the range in which the moving speed of the connecting member 32 should be limited so as not to cause scratches on the substrate when the substrate is supplied between the support portion S and the plurality of lifting pins 31 Is determined as the movement limit range.

본 실시의 형태에서는, 도 10에 나타내는 바와 같이, 기판의 수도를 위해 연결 부재(32)가 하강할 때에 대응하는 하강 속도 제한 범위(LR1)가, 상방 위치(PA)와 하방 위치(PB) 사이에서 결정된다. 또, 기판의 수도를 위해 연결 부재(32)가 상승할 때에 대응하는 상승 속도 제한 범위(LR2)가, 상방 위치(PA)와 하방 위치(PB) 사이에서 결정된다. 하강 속도 제한 범위(LR1) 및 상승 속도 제한 범위(LR2)의 각각의 상하 방향의 거리는, 미리 정해진 거리(예를 들면 0.5㎜)로 설정된다.In the present embodiment, as shown in Fig. 10, the lowering speed limiting range LR1 corresponding when the connecting member 32 descends for the number of substrates is between the upper position PA and the lower position PB. Is determined from Further, for the number of substrates, when the connecting member 32 ascends, a corresponding ascending speed limiting range LR2 is determined between the upper position PA and the lower position PB. The distances in the vertical direction of each of the descending speed limiting range LR1 and the rising speed limiting range LR2 are set to a predetermined distance (for example, 0.5 mm).

여기서, 하강 속도 제한 범위(LR1)의 상한은 기준 위치(RP)보다 상방에 위치하고, 하강 속도 제한 범위(LR1)의 하한은 기준 위치(RP)에 위치한다. 또, 상승 속도 제한 범위(LR2)의 상한은 기준 위치(RP)에 위치하고, 상승 속도 제한 범위(LR2)의 하한은 기준 위치(RP)보다 하방에 위치한다.Here, the upper limit of the descending speed limit range LR1 is located above the reference position RP, and the lower limit of the descending speed limit range LR1 is located at the reference position RP. Further, the upper limit of the ascending speed limit range LR2 is located at the reference position RP, and the lower limit of the ascending speed limit range LR2 is located below the reference position RP.

그 후, 기판의 수도시에 하강 속도 제한 범위(LR1) 내에서 하강할 때의 이동 속도가, 연결 부재(32)가 하강 속도 제한 범위(LR1) 외에서 하강할 때의 이동 속도보다 낮아지도록, 연결 부재(32)의 이동 속도가 설정된다. 또, 기판의 수도시에 상승 속도 제한 범위(LR2) 내에서 상승할 때의 이동 속도가, 연결 부재(32)가 상승 속도 제한 범위(LR2) 외에서 상승할 때의 이동 속도보다 낮아지도록, 연결 부재(32)의 이동 속도가 설정된다.Thereafter, when the substrate is supplied, the moving speed when descending within the descending speed limiting range LR1 is lower than the moving speed when the connecting member 32 descends outside the descending speed limiting range LR1. The moving speed of the member 32 is set. In addition, the connecting member so that the moving speed when the substrate is raised within the ascending speed limiting range LR2 is lower than the moving speed when the linking member 32 rises outside the ascending speed limiting range LR2. The moving speed of (32) is set.

또한, 하강 속도 제한 범위(LR1) 내에서의 연결 부재(32)의 하강시의 이동 속도는 일정한 값으로 설정되어도 되고, 단계적 또는 연속적으로 변화하도록 설정되어도 된다. 또, 하강 속도 제한 범위(LR1) 외에서의 연결 부재(32)의 하강시의 이동 속도도 일정한 값으로 설정되어도 되고, 단계적 또는 연속적으로 변화하도록 설정되어도 된다. 또한, 상승 속도 제한 범위(LR2) 내에서의 연결 부재(32)의 상승시의 이동 속도는 일정한 값으로 설정되어도 되고, 단계적 또는 연속적으로 변화하도록 설정되어도 된다. 또, 상승 속도 제한 범위(LR2) 외에서의 연결 부재(32)의 상승시의 이동 속도도 일정한 값으로 설정되어도 되고, 단계적 또는 연속적으로 변화하도록 설정되어도 된다. Further, the moving speed of the connecting member 32 at the time of descending within the descending speed limiting range LR1 may be set to a constant value, or may be set to change stepwise or continuously. Further, the moving speed of the connecting member 32 at the time of descending outside the descending speed limit range LR1 may also be set to a constant value, or may be set to change stepwise or continuously. In addition, the moving speed at the time of ascent of the connecting member 32 within the ascending speed limiting range LR2 may be set to a constant value, or may be set to change stepwise or continuously. Further, the moving speed at the time of ascent of the connecting member 32 outside the ascending speed limiting range LR2 may also be set to a constant value, or may be set to change stepwise or continuously.

상기와 같이 연결 부재(32)의 이동 속도가 설정된 후, 연결 부재(32)가 상방 위치(PA)까지 상승함으로써, 설정 부재(90)가 복수의 승강핀(31) 상으로부터 제거된다. After the moving speed of the connection member 32 is set as described above, the connection member 32 rises to the upper position PA, so that the setting member 90 is removed from the plurality of lifting pins 31.

또한, 하강 속도 제한 범위(LR1)의 하한은 기준 위치(RP)보다 하방에 위치해도 되고, 상승 속도 제한 범위(LR2)의 상한은 기준 위치(RP)보다 상방에 위치해도 된다. 또한, 하강 속도 제한 범위(LR1)의 상한으로부터 상승 속도 제한 범위(LR2)의 하한까지의 범위가, 연결 부재(32)의 상승시 및 하강시의 공통의 이동 제한 범위로서 이용되어도 된다. Further, the lower limit of the descending speed limit range LR1 may be located below the reference position RP, and the upper limit of the ascending speed limit range LR2 may be located above the reference position RP. Further, a range from the upper limit of the descending speed limiting range LR1 to the lower limit of the ascending speed limiting range LR2 may be used as a common movement limiting range when the connecting member 32 rises and descends.

도 11은, 연결 부재(32)의 이동 속도의 설정 후에 연결 부재(32)가 하강함으로써 복수의 승강핀(31)으로부터 지지부(S) 상에 기판이 건네지는 상태를 나타내는 모식적 측면도이다. 상기의 도 5~도 10의 예에 의해 연결 부재(32)의 이동 속도가 설정되어 있는 경우, 복수의 승강핀(31) 상에 기판(W)이 올려진 상태에서 연결 부재(32)는 상방 위치(PA)로부터 하강 속도 제한 범위(LR1)의 상한까지 비교적 높은 이동 속도로 하강한다.FIG. 11 is a schematic side view showing a state in which the connecting member 32 descends after the moving speed of the connecting member 32 is set so that the substrate is handed over from the plurality of lifting pins 31 to the support portion S. When the moving speed of the connection member 32 is set according to the example of FIGS. 5 to 10 above, the connection member 32 is upward in a state in which the substrate W is placed on the plurality of lifting pins 31. It descends at a relatively high moving speed from the position PA to the upper limit of the descending speed limit range LR1.

그 후, 연결 부재(32)는 하강 속도 제한 범위(LR1) 내에서 이동 속도를 저하시킨다. 이때, 하강 속도 제한 범위(LR1)의 상한이 기준 위치(RP)보다 상방에 위치하므로, 연결 부재(32)가 기준 위치(RP)에 도달할 때까지 연결 부재(32)의 이동 속도를 충분히 낮게 할 수 있다. 따라서, 기판(W)의 하면에 지지부(S)의 복수의 돌기 부재(11)가 접촉함으로써 발생하는 충격이 충분히 완화되므로, 기판(W)의 하면에 흠집이 발생하는 것이 방지된다.After that, the connecting member 32 lowers the moving speed within the descending speed limiting range LR1. At this time, since the upper limit of the descending speed limit range LR1 is located above the reference position RP, the moving speed of the connecting member 32 is sufficiently low until the connecting member 32 reaches the reference position RP. can do. Accordingly, since the impact caused by the contact of the plurality of protrusion members 11 of the support portion S with the lower surface of the substrate W is sufficiently alleviated, the occurrence of scratches on the lower surface of the substrate W is prevented.

또, 기판(W)의 이동 속도가 열처리 플레이트(10)의 상면의 근방에서 저하함으로써, 기판(W)의 하면과 열처리 플레이트(10)의 상면 사이의 공간에 큰 압력이 발생하는 것이 방지된다. 그로 인해, 지지부(S) 상에서 기판(W)이 부유함으로써, 본래 지지되어야 할 위치로부터 어긋난 상태에서 기판(W)이 지지부(S)에 의해 지지되는 것이 방지된다.Further, since the moving speed of the substrate W decreases in the vicinity of the upper surface of the heat treatment plate 10, a large pressure is prevented from being generated in the space between the lower surface of the substrate W and the upper surface of the heat treatment plate 10. Therefore, the substrate W is prevented from being supported by the support portion S in a state that is shifted from the position to be supported by the substrate W floating on the support portion S.

복수의 승강핀(31)으로부터 지지부(S) 상에 기판(W)이 건네진 후, 연결 부재(32)는, 하강 속도 제한 범위(LR1)의 하한인 기준 위치(RP)로부터 하방 위치(PB)까지 비교적 높은 이동 속도로 하강한다. 이와 같이, 하강 속도 제한 범위(LR1) 외에서 하강할 때의 연결 부재(32)의 이동 속도가 높게 설정됨으로써, 기판(W)의 수도에 필요로 하는 시간이 단축된다.After the substrate W is passed from the plurality of lifting pins 31 to the support part S, the connection member 32 is positioned downward from the reference position RP, which is the lower limit of the lowering speed limit range LR1. Descends at a relatively high movement speed. In this way, the moving speed of the connecting member 32 when descending outside the descending speed limit range LR1 is set to be high, so that the time required for water supply of the substrate W is shortened.

도 12는, 연결 부재(32)의 이동 속도의 설정 후에 연결 부재(32)가 상승함으로써 지지부(S)로부터 복수의 승강핀(31) 상에 기판(W)이 건네지는 상태를 나타내는 모식적 측면도이다. 상기의 도 5~도 10의 예에 의해 연결 부재(32)의 이동 속도가 설정되어 있는 경우, 지지부(S) 상에 기판(W)이 올려진 상태에서 연결 부재(32)는 하방 위치(PB)로부터 상승 속도 제한 범위(LR2)의 하한까지 비교적 높은 이동 속도로 상승한다.12 is a schematic side view showing a state in which the substrate W is passed from the support portion S to the plurality of lifting pins 31 by raising the connecting member 32 after setting the moving speed of the connecting member 32 to be. When the moving speed of the connection member 32 is set according to the example of FIGS. 5 to 10 above, the connection member 32 is in a lower position (PB) while the substrate (W) is placed on the support (S). ) To the lower limit of the ascending speed limit range LR2 at a relatively high moving speed.

그 후, 연결 부재(32)는 상승 속도 제한 범위(LR2) 내에서 이동 속도를 저하시킨다. 이때, 상승 속도 제한 범위(LR2)의 하한이 기준 위치(RP)보다 하방에 위치하므로, 연결 부재(32)가 기준 위치(RP)에 도달할 때까지 연결 부재(32)의 이동 속도를 충분히 낮게 할 수 있다. 따라서, 기판(W)의 하면에 복수의 승강핀(31)이 접촉함으로써 발생하는 충격이 충분히 완화되므로, 기판(W)의 하면에 흠집이 발생하는 것이 방지된다.After that, the connecting member 32 lowers the moving speed within the ascending speed limiting range LR2. At this time, since the lower limit of the ascending speed limit range LR2 is located below the reference position RP, the moving speed of the connecting member 32 is sufficiently low until the connecting member 32 reaches the reference position RP. can do. Accordingly, the impact caused by the contact of the plurality of lifting pins 31 on the lower surface of the substrate W is sufficiently alleviated, so that scratches are prevented from occurring on the lower surface of the substrate W.

복수의 돌기 부재(11)로부터 복수의 승강핀(31) 상에 기판(W)이 건네진 후, 연결 부재(32)는, 상승 속도 제한 범위(LR2)의 상한인 기준 위치(RP)로부터 상방 위치(PA)까지 비교적 높은 이동 속도로 상승한다. 이와 같이, 상승 속도 제한 범위(LR2) 외에서 상승할 때의 연결 부재(32)의 이동 속도가 높게 설정됨으로써, 기판(W)의 수도에 필요로 하는 시간이 단축된다.After the substrate W is passed from the plurality of protrusion members 11 to the plurality of lifting pins 31, the connection member 32 is positioned upward from the reference position RP, which is the upper limit of the ascending speed limiting range LR2. Ascend at a relatively high movement speed to (PA). In this way, the moving speed of the connecting member 32 when ascending outside the ascending speed limiting range LR2 is set to be high, so that the time required for water supply of the substrate W is shortened.

또한, 상기의 도 11 및 도 12의 예에서는, 지지부(S)와 복수의 승강핀(31) 사이의 기판(W)의 수도시에 있어서의 연결 부재(32)의 상하 방향의 이동 범위가 상방 위치(PA)로부터 하방 위치(PB)까지의 사이로 설정되어 있지만, 본 발명은 이것으로 한정되지 않는다. 연결 부재(32)는, 기판(W)의 수도시에, 상방 위치(PA)보다 하방에서 또한 하강 속도 제한 범위(LR1)보다 상방의 임의의 위치로부터, 하방 위치(PB)보다 상방에서 또한 상승 속도 제한 범위(LR2)보다 하방의 임의의 위치까지의 범위를 이동해도 된다.In addition, in the example of FIGS. 11 and 12 above, the moving range of the connecting member 32 in the vertical direction when the substrate W between the support part S and the plurality of lifting pins 31 is supplied is upward. Although it is set between the position PA to the lower position PB, the present invention is not limited to this. The connecting member 32 rises further above the lower position PB from an arbitrary position below the upper position PA and above the lowering speed limit range LR1 when the substrate W is supplied. You may move the range to an arbitrary position below the speed limit range LR2.

(3) 이동 속도 설정 처리(3) Movement speed setting processing

연결 부재(32)의 이동 속도의 설정은, 도 1의 제어 장치(40)가 이하에 나타내는 이동 속도 설정 처리를 실행함으로써 행해진다. 도 1의 열처리 장치(100)에는, 사용자가 제어 장치(40)에 각종 처리의 지령을 부여하기 위한 도시하지 않은 조작부가 설치되어 있다. 이동 속도 설정 처리는, 열처리 장치(100)의 사용 개시시 또는 열처리 장치(100)의 메인터넌스시 등에, 예를 들면 사용자에 의한 조작부의 조작에 의거하여 실행된다. 도 13은, 이동 속도 설정 처리의 일례를 나타내는 플로차트이다.The setting of the moving speed of the connecting member 32 is performed by the control device 40 of FIG. 1 executing the moving speed setting process shown below. In the heat treatment apparatus 100 of FIG. 1, an operation unit (not shown) is provided for a user to give commands to the control apparatus 40 for various types of processing. The movement speed setting process is executed at the start of use of the heat treatment apparatus 100 or maintenance of the heat treatment apparatus 100 based on, for example, an operation of the operation unit by the user. 13 is a flowchart showing an example of a movement speed setting process.

도 13에 나타내는 바와 같이, 처음에, 도 1의 이동 제어부(44)는, 모터 구동 회로(35)를 제어함으로써, 연결 부재(32)를 상방 위치(PA)로 이동시킨다(단계 S101).As shown in Fig. 13, first, the movement control unit 44 of Fig. 1 controls the motor drive circuit 35 to move the connecting member 32 to the upper position PA (step S101).

이 상태에서, 사용자 또는 후술하는 도 14의 기판 반송 장치(450)에 의해 복수의 승강핀(31) 상에 도 3의 설정 부재(90)가 재치된다. 그래서, 도 1의 압력 검출부(41)는, 수신 장치(70)로부터 부여되는 출력 신호에 의거하여, 복수의 승강핀(31)으로부터 설정 부재(90)의 복수의 피지지부(91)에 각각 가해지는 복수의 압력을 일정 주기로 검출한다(단계 S102). 이 압력의 검출 처리는, 이동 속도 설정 처리가 종료할 때까지 계속된다.In this state, the setting member 90 of FIG. 3 is mounted on the plurality of lifting pins 31 by the user or the substrate transfer device 450 of FIG. 14 to be described later. Therefore, the pressure detection unit 41 of FIG. 1 is applied from the plurality of lifting pins 31 to the plurality of supported units 91 of the setting member 90, respectively, based on the output signal provided from the receiving device 70. A plurality of pressures to lose are detected at a constant cycle (step S102). This pressure detection process continues until the movement speed setting process ends.

또한, 단계 S102의 처리는, 복수의 승강핀(31) 상에 설정 부재(90)가 재치된 후, 예를 들면 사용자에 의한 조작부의 조작에 응답하여 행해져도 된다. 혹은, 단계 S102의 처리는, 이동 속도 설정 처리가 실행되는 동안 일정 주기로 계속해서 행해져도 된다.Further, the processing of step S102 may be performed after the setting member 90 is mounted on the plurality of lifting pins 31, for example, in response to an operation of the operation unit by the user. Alternatively, the process of step S102 may be continuously performed at a constant cycle while the movement speed setting process is being executed.

다음에, 도 1의 압력 결정부(47)는, 단계 S102의 처리에서 검출되는 복수의 압력의 값에 의거하여, 복수의 승강핀(31)으로부터 설정 부재(90)의 복수의 피지지부(91)에 각각 가해지는 복수의 압력의 값을 복수의 기준 압력값으로서 결정한다(단계 S103). 결정된 복수의 기준 압력값은, 도 1의 기억부(50)에 기억된다.Next, the pressure determining unit 47 of Fig. 1 is based on the values of the plurality of pressures detected in the processing of step S102, from the plurality of lifting pins 31 to the plurality of supported units 91 of the setting member 90. ) Is determined as a plurality of reference pressure values (step S103). The determined plurality of reference pressure values are stored in the storage unit 50 of FIG. 1.

다음에, 도 1의 이동 제어부(44)는, 모터 구동 회로(35)를 제어함으로써, 연결 부재(32)를 하방 위치(PB)로 이동시킨다(단계 S104). 그 후, 이동 제어부(44)는, 모터 구동 회로(35)를 제어함으로써, 복수의 승강핀(31)의 상단부가 지지부(S)의 상단부보다 하방의 위치로부터 지지부(S)의 상단부보다 상방의 위치로 이동하도록, 연결 부재(32)를 단계 이송으로 상승시킨다(단계 S105).Next, the movement control unit 44 of Fig. 1 controls the motor drive circuit 35 to move the connecting member 32 to the lower position PB (step S104). Thereafter, the movement control unit 44 controls the motor drive circuit 35 so that the upper end portions of the plurality of lifting pins 31 are higher than the upper end portions of the support portion S from a position lower than the upper end portion of the support portion S. In order to move to the position, the connecting member 32 is raised by step transfer (step S105).

도 1의 위치 결정부(42)는, 이동 제어부(44)에 의한 연결 부재(32)의 상승 중에, 압력 검출부(41)에 의한 복수의 압력의 검출에 의거하여, 복수의 피지지부(91)에 각각 가해지는 복수의 압력의 값이 단계 S103에서 결정된 복수의 기준 압력값에 각각 도달했는지의 여부를 판정한다(단계 S106).The positioning unit 42 in FIG. 1 is a plurality of supported units 91 based on detection of a plurality of pressures by the pressure detection unit 41 while the connecting member 32 is raised by the movement control unit 44. It is determined whether or not the values of the plurality of pressures each applied to each have reached the plurality of reference pressure values determined in step S103 (step S106).

위치 결정부(42)는, 복수의 피지지부(91)에 각각 가해지는 복수의 압력의 값이 결정된 복수의 기준 압력값에 도달할 때까지, 상기의 단계 S106의 처리를 반복한다. 또, 복수의 피지지부(91)에 각각 가해지는 복수의 압력의 값이 결정된 복수의 기준 압력값에 도달하면, 위치 결정부(42)는, 그 시점에서 도 1의 위치 검출부(43)에 의해 검출되는 연결 부재(32)의 상하 방향의 위치를 기준 위치로서 결정한다(단계 S107).The positioning unit 42 repeats the processing of the above step S106 until the values of the plurality of pressures each applied to the plurality of supported units 91 reach the determined plurality of reference pressure values. In addition, when the values of the plurality of pressures applied to the plurality of supported units 91 reach the determined plurality of reference pressure values, the positioning unit 42 is at that point by the position detection unit 43 of FIG. The position of the detected connecting member 32 in the vertical direction is determined as a reference position (step S107).

다음에, 도 1의 범위 결정부(48)는, 결정된 기준 위치를 포함하도록 속도 제한 범위를 결정한다(단계 S108). 이때, 범위 결정부(48)는, 복수의 승강핀(31)이 하강할 때의 하강 속도 제한 범위(LR1)와, 복수의 승강핀(31)이 상승할 때의 상승 속도 제한 범위(LR2)를 속도 제한 범위로서 개별적으로 결정해도 된다. Next, the range determination unit 48 in Fig. 1 determines a speed limit range to include the determined reference position (step S108). At this time, the range determination unit 48 includes a descending speed limiting range LR1 when the plurality of lifting pins 31 descend, and a rising speed limiting range LR2 when the plurality of lifting pins 31 rise. May be individually determined as the speed limit range.

또한, 도 1의 이동 속도 설정부(49)는, 결정된 속도 제한 범위 내에서의 연결 부재(32)의 이동 속도가 속도 제한 범위 외에서의 연결 부재(32)의 이동 속도보다 낮아지도록, 기판(W)의 수도시에 있어서의 연결 부재(32)의 이동 속도를 설정한다(단계 S109). 설정된 연결 부재(32)의 이동 속도는, 도 1의 기억부(50)에 기억된다. 그 후, 이동 속도 설정 처리가 종료된다.In addition, the movement speed setting unit 49 of FIG. 1 is configured such that the movement speed of the connecting member 32 within the determined speed limit range is lower than the movement speed of the connecting member 32 outside the speed limit range. ), the moving speed of the connecting member 32 is set (step S109). The set moving speed of the connecting member 32 is stored in the storage unit 50 in FIG. 1. After that, the movement speed setting process ends.

상기의 이동 속도 설정 처리 후, 열처리 장치(100)에 있어서 기판(W)에 처리가 행해질 때에는, 지지부(S)와 복수의 승강핀(31) 사이에서의 기판(W)의 수도시에, 도 1의 수도 제어부(45)가 모터 구동 회로(35)를 제어한다. 그로 인해, 연결 부재(32)가 설정된 이동 속도로 상하 방향으로 이동한다.When the processing is performed on the substrate W in the heat treatment apparatus 100 after the above movement speed setting processing, when the substrate W is transferred between the support portion S and the plurality of lifting pins 31, Fig. The water supply control unit 45 of 1 controls the motor driving circuit 35. Therefore, the connecting member 32 moves in the vertical direction at the set moving speed.

(4) 효과(4) effect

(a) 상기의 열처리 장치(100)에 있어서는, 복수의 기준 압력값이 결정된 후, 지지부(S)의 복수의 돌기 부재(11)에 의해 설정 부재(90)가 지지된 상태에서, 연결 부재(32)가 하방 위치(PB)로부터 상승한다.(a) In the heat treatment apparatus 100 described above, after a plurality of reference pressure values are determined, in a state in which the setting member 90 is supported by the plurality of protrusion members 11 of the support portion S, the connection member ( 32) rises from the downward position PB.

이 경우, 복수의 승강핀(31)의 상단부가 복수의 돌기 부재(11)의 상단부와 같은 높이에 위치했을 때에 복수의 승강핀(31)의 상단부가 설정 부재(90)의 복수의 피지지부(91)에 각각 접촉한다. 그로 인해, 복수의 피지지부(91)에 압력이 가해진다. 복수의 피지지부(91)에 가해지는 복수의 압력의 값이 복수의 기준 압력값에 도달했는지의 여부에 의거하여, 복수의 승강핀(31)이 설정 부재(90)에 접촉한 시점에 있어서의 연결 부재(32)의 상하 방향의 위치가 기준 위치(RP)로서 정확하게 결정된다. 결정된 기준 위치를 포함하는 속도 제한 범위(도 10의 예에서는, 하강 속도 제한 범위(LR1) 및 상승 속도 제한 범위(LR2))가 결정된다.In this case, when the upper ends of the plurality of lifting pins 31 are positioned at the same height as the upper ends of the plurality of protruding members 11, the upper ends of the plurality of lifting pins 31 are a plurality of supported parts of the setting member 90 ( 91) respectively. Accordingly, pressure is applied to the plurality of supported portions 91. Based on whether the values of the plurality of pressures applied to the plurality of supported portions 91 have reached the plurality of reference pressure values, the plurality of lifting pins 31 contact the setting member 90 at the time of contact. The position of the connecting member 32 in the vertical direction is accurately determined as the reference position RP. The speed limiting range (in the example of FIG. 10, the falling speed limiting range LR1 and the rising speed limiting range LR2) including the determined reference position is determined.

그 후, 속도 제한 범위 내에서의 연결 부재의 이동 속도가 속도 제한 범위 외에서의 연결 부재(32)의 이동 속도보다 낮아지도록, 기판(W)의 수도시에 있어서의 연결 부재(32)의 이동 속도가 설정된다. Thereafter, the moving speed of the connecting member 32 during the delivery of the substrate W so that the moving speed of the connecting member within the speed limiting range is lower than the moving speed of the connecting member 32 outside the speed limiting range. Is set.

기판(W)의 수도시에는, 설정된 이동 속도로 연결 부재(32)가 이동한다. 이 경우, 연결 부재(32)가 낮은 이동 속도로 속도 제한 범위 내를 이동할 때에, 기판(W)의 하면에 지지부(S) 또는 복수의 승강핀(31)이 접촉한다. 따라서, 기판(W)의 하면에 지지부(S) 또는 복수의 승강핀(31)이 접촉함으로써 발생하는 충격이 완화되므로, 기판(W)의 하면에 흠집이 발생하는 것이 방지된다. 한편, 연결 부재(32)는, 높은 이동 속도로 속도 제한 범위 외를 이동하므로, 기판(W)의 수도에 필요한 시간이 단축된다.When the substrate W is supplied, the connecting member 32 moves at a set movement speed. In this case, when the connecting member 32 moves within the speed limiting range at a low moving speed, the support portion S or the plurality of lifting pins 31 contact the lower surface of the substrate W. Accordingly, since the impact caused by the contact of the support portion S or the plurality of lifting pins 31 on the lower surface of the substrate W is alleviated, the occurrence of scratches on the lower surface of the substrate W is prevented. On the other hand, since the connecting member 32 moves outside the speed limit range at a high moving speed, the time required for water supply of the substrate W is shortened.

또한, 상기의 구성에 의하면, 지지부(S)와 복수의 승강핀(31) 사이의 위치 관계의 오차에 관계없이, 기준 위치(RP)가 정확하게 결정되고, 속도 제한 범위가 결정된다. 그로 인해, 속도 제한 범위에 의거하여 설정 부재(90)의 이동 속도를 정확하게 변화시킬 수 있다. 따라서, 복수의 승강핀(31)으로부터 지지부(S)에 건네진 기판(W)에 실제로 흠집이 발생했는지의 여부를 확인하면서 기판(W)의 이동 속도를 저하시키는 타이밍을 조정하는 작업이 불필요해진다.Further, according to the above configuration, the reference position RP is accurately determined and the speed limiting range is determined regardless of an error in the positional relationship between the support portion S and the plurality of lifting pins 31. Therefore, the moving speed of the setting member 90 can be accurately changed based on the speed limit range. Therefore, it becomes unnecessary to adjust the timing of lowering the moving speed of the substrate W while checking whether or not a scratch has actually occurred on the substrate W passed to the support portion S from the plurality of lifting pins 31.

이들의 결과, 기판 처리의 스루풋을 향상시키면서 지지부(S)와 복수의 승강핀(31) 사이의 기판(W)의 수도시에 기판(W)에 흠집이 발생하는 것을 방지하는 것이 가능하고 또한 기판(W)의 제조 코스트의 증가를 억제하는 것이 가능해진다.As a result of these, while improving the throughput of the substrate processing, it is possible to prevent the occurrence of scratches on the substrate W when the substrate W between the support portion S and the plurality of lifting pins 31 is transferred. It becomes possible to suppress an increase in the manufacturing cost of (W).

(b) 본 실시의 형태에서는, 복수의 기준 압력값은, 복수의 승강핀(31)에 의해 설정 부재(90)가 실제로 지지된 상태에서 복수의 피지지부(91)에 각각 가해지는 복수의 압력의 값과 동일하다. 그로 인해, 연결 부재(32)의 이동 속도의 설정시에, 복수의 기준 압력값에 의거하여 설정 부재(90)의 기준 위치를 정확하게 결정할 수 있다.(b) In the present embodiment, the plurality of reference pressure values are a plurality of pressures applied to the plurality of supported portions 91, respectively, in a state in which the setting member 90 is actually supported by the plurality of lifting pins 31 Is equal to the value of Therefore, at the time of setting the moving speed of the connecting member 32, the reference position of the setting member 90 can be accurately determined based on a plurality of reference pressure values.

(c) 상기의 설정 부재(90)는 기판(W)과 같은 형상을 갖는다. 그로 인해, 연결 부재(32)의 이동 속도의 설정시에, 지지부(S)와 복수의 승강핀(31) 사이에서 기판(W)이 수도되는 경우에 가까운 상태에서, 지지부(S)와 복수의 승강핀(31) 사이의 설정 부재(90)의 수도가 행해진다. 따라서, 연결 부재(32)의 이동 속도의 설정을 보다 용이하고 적절하게 행할 수 있다.(c) The setting member 90 has the same shape as the substrate W. Therefore, at the time of setting the moving speed of the connecting member 32, in a state close to the case where the substrate W is supplied between the support unit S and the plurality of lifting pins 31, the support unit S and the plurality of The number of setting members 90 between the lifting pins 31 is performed. Therefore, it is possible to more easily and appropriately set the moving speed of the connecting member 32.

(d) 설정 부재(90)는 수지로 형성되어 있다. 이 경우, 설정 부재(90)는 기판(W)에 비해 흠집이 발생하기 어렵기 때문에, 연결 부재(32)의 이동 속도의 설정시에 설정 부재(90)가 파손되는 것이 방지된다.(d) The setting member 90 is made of resin. In this case, since the setting member 90 is less susceptible to scratching than the substrate W, the setting member 90 is prevented from being damaged when the moving speed of the connecting member 32 is set.

(e) 설정 부재(90)에 설치되는 복수의 압력 센서(99)의 출력 신호는, 송신 장치(60) 및 수신 장치(70)를 이용한 무선 통신에 의해 제어 장치(40)에 부여된다. 그로 인해, 간단한 구성으로 원격 조작에 의해 연결 부재(32)의 이동 속도를 설정할 수 있다.(e) Output signals from the plurality of pressure sensors 99 provided in the setting member 90 are provided to the control device 40 by wireless communication using the transmission device 60 and the reception device 70. Therefore, it is possible to set the moving speed of the connecting member 32 by remote operation with a simple configuration.

(5) 도 1의 열처리 장치(100)를 구비하는 기판 처리 장치(5) A substrate processing apparatus including the heat treatment apparatus 100 of FIG. 1

도 14는, 도 1의 열처리 장치(100)를 구비하는 기판 처리 장치의 일례를 나타내는 모식적 블럭도이다. 도 14에 나타내는 바와 같이, 기판 처리 장치(400)는, 노광 장치(500)에 인접하여 설치되고, 제어부(410), 도포 처리부(420), 현상 처리부(430), 열처리부(440) 및 기판 반송 장치(450)를 구비한다. 열처리부(440)는, 기판(W)에 가열 처리를 행하는 복수의 도 1의 열처리 장치(100)와, 기판(W)에 냉각 처리를 행하는 복수의 열처리 장치(도시 생략)를 포함한다.FIG. 14 is a schematic block diagram showing an example of a substrate processing apparatus including the heat treatment apparatus 100 of FIG. 1. As shown in FIG. 14, the substrate processing apparatus 400 is provided adjacent to the exposure apparatus 500, and the control unit 410, the coating processing unit 420, the developing processing unit 430, the heat treatment unit 440, and the substrate A transfer device 450 is provided. The heat treatment unit 440 includes a plurality of heat treatment apparatuses 100 of FIG. 1 for performing a heat treatment on the substrate W, and a plurality of heat treatment apparatuses (not shown) for performing a cooling treatment on the substrate W.

제어부(410)는, 예를 들면 CPU 및 메모리, 또는 마이크로 컴퓨터를 포함하고, 도포 처리부(420), 현상 처리부(430), 열처리부(440) 및 기판 반송 장치(450)의 동작을 제어한다. 또, 제어부(410)는, 열처리 장치(100)의 사용 개시시 또는 열처리 장치(100)의 메인터넌스시 등에, 열처리부(440)의 복수의 열처리 장치(100)에 있어서, 이동 속도 설정 처리를 행하기 위한 지령을 복수의 열처리 장치(100)에게 부여한다.The control unit 410 includes, for example, a CPU and a memory, or a microcomputer, and controls the operation of the coating processing unit 420, the developing processing unit 430, the heat treatment unit 440, and the substrate transfer device 450. In addition, the control unit 410 performs a movement speed setting process in the plurality of heat treatment units 100 of the heat treatment unit 440 at the time of start of use of the heat treatment unit 100 or maintenance of the heat treatment unit 100. A command for doing so is given to the plurality of heat treatment apparatuses 100.

기판 반송 장치(450)는, 기판 처리 장치(400)에 의한 기판(W)의 처리시에, 기판(W)을 도포 처리부(420), 현상 처리부(430), 열처리부(440) 및 노광 장치(500)의 사이에서 반송한다. When the substrate W is processed by the substrate processing apparatus 400, the substrate transfer device 450 applies the substrate W to a coating processing unit 420, a developing processing unit 430, a heat treatment unit 440, and an exposure apparatus. It conveys among 500.

도포 처리부(420)는, 미처리의 기판(W)의 일면 상에 레지스트막을 형성한다(도포 처리). 레지스트 막이 형성된 도포 처리 후의 기판(W)에는, 노광 장치(500)에 있어서 노광 처리가 행해진다. 현상 처리부(430)는, 노광 장치(500)에 의한 노광 처리 후의 기판(W)에 현상액을 공급함으로써, 기판(W)의 현상 처리를 행한다. 열처리부(440)는, 도포 처리부(420)에 의한 도포 처리, 현상 처리부(430)에 의한 현상 처리, 및 노광 장치(500)에 의한 노광 처리의 전후에 기판(W)의 열처리를 행한다.The coating processing unit 420 forms a resist film on one surface of the untreated substrate W (coating processing). The substrate W after the coating treatment on which the resist film has been formed is subjected to exposure treatment in the exposure apparatus 500. The developing processing unit 430 supplies a developing solution to the substrate W after exposure processing by the exposure apparatus 500 to perform a developing process on the substrate W. The heat treatment unit 440 performs heat treatment of the substrate W before and after the application treatment by the coating treatment unit 420, the development treatment by the development treatment unit 430, and the exposure treatment by the exposure apparatus 500.

또한, 도포 처리부(420)는, 기판(W)에 반사 방지막을 형성해도 된다. 이 경우, 열처리부(440)에는, 기판(W)과 반사 방지막의 밀착성을 향상시키기 위한 밀착 강화 처리를 행하기 위한 처리 유닛이 설치되어도 된다. 또, 도포 처리부(420)는, 기판(W) 상에 형성된 레지스트막을 보호하기 위한 레지스트 커버막을 기판(W)에 형성해도 된다. Further, the coating processing unit 420 may form an antireflection film on the substrate W. In this case, the heat treatment unit 440 may be provided with a processing unit for performing an adhesion reinforcement treatment for improving the adhesion between the substrate W and the antireflection film. Further, the coating processing unit 420 may form a resist cover film on the substrate W for protecting the resist film formed on the substrate W.

상기의 기판 처리 장치(400)에 있어서는, 기판(W)의 처리 전에 열처리부(440)의 복수의 열처리 장치(100)의 각각에서 이동 속도 설정 처리가 실행됨으로써, 각 열처리 장치(100) 내에서의 기판(W)의 수도시에, 기판(W)에 흠집이 발생하는 것이 방지된다. 또, 각 열처리 장치(100)에 있어서 기판(W)의 수도에 필요로 하는 시간이 단축됨으로써, 기판 처리의 스루풋이 향상된다. 그 결과, 기판 처리 장치(400)에 있어서의 제품의 수율이 향상됨과 더불어, 기판(W)의 제조 코스트가 저감된다.In the substrate processing apparatus 400 described above, the movement speed setting process is performed in each of the plurality of heat treatment apparatuses 100 of the heat treatment unit 440 prior to the processing of the substrate W, so that in each heat treatment apparatus 100 During the water supply of the substrate W, the occurrence of scratches on the substrate W is prevented. In addition, the time required for the number of substrates W in each heat treatment apparatus 100 is shortened, thereby improving the throughput of the substrate processing. As a result, while the yield of the product in the substrate processing apparatus 400 is improved, the manufacturing cost of the substrate W is reduced.

여기서, 열처리부(440)에 있어서는, 1개의 설정 부재(90)(도 3)를 2개 이상의 복수의 열처리 장치(100)에 공통으로 이용해도 된다. 이 경우, 1개의 설정 부재(90)를 기판 반송 장치(450)에 의해 복수의 열처리 장치(100)에 순차적으로 반송하고, 복수의 열처리 장치(100)에 있어서 순차적으로 이동 속도 설정 처리를 행한다. 그로 인해, 모든 열처리 장치(100)에 대응하는 수의 설정 부재(90)를 준비할 필요가 없다.Here, in the heat treatment unit 440, one setting member 90 (FIG. 3) may be used in common with two or more of a plurality of heat treatment apparatuses 100. In this case, one setting member 90 is sequentially conveyed to the plurality of heat treatment apparatuses 100 by the substrate transfer apparatus 450, and movement speed setting processing is sequentially performed in the plurality of heat treatment apparatuses 100. Therefore, it is not necessary to prepare the number of setting members 90 corresponding to all the heat treatment apparatuses 100.

(6) 다른 실시의 형태(6) other embodiments

(a) 상기 실시의 형태는, 본 발명에 관련된 기판 수도 시스템을 가열 처리용의 열처리 장치(100)에 적용한 예이지만, 본 발명에 관련된 기판 수도 시스템은, 냉각 처리용의 열처리 장치에 적용해도 된다.(a) The above embodiment is an example in which the substrate water supply system according to the present invention is applied to the heat treatment apparatus 100 for heat treatment, but the substrate water supply system according to the present invention may be applied to the heat treatment apparatus for cooling treatment. .

예를 들면, 열처리 장치(100)에는, 도 1의 발열체(20) 대신에, 냉각 장치가 설치되어도 된다. 이 경우, 지지부(S)는, 열처리 플레이트(10), 복수의 돌기 부재(11), 복수의 가이드 부재(12) 및 냉각 장치를 포함하고, 쿨링 플레이트로서 이용된다. 냉각 장치는, 예를 들면 펠티에 소자로 구성되어도 되고, 냉각수를 순환시키는 배관에 의해 구성되어도 된다.For example, a cooling device may be provided in the heat treatment device 100 instead of the heat generating element 20 of FIG. 1. In this case, the support part S includes the heat treatment plate 10, the plurality of protrusion members 11, the plurality of guide members 12, and a cooling device, and is used as a cooling plate. The cooling device may be constituted by, for example, a Peltier element, or may be constituted by a pipe for circulating cooling water.

기판(W)에 냉각 처리를 행하는 열처리 장치(100)에 있어서나, 이동 속도 설정 처리를 행함으로써 상기 실시의 형태와 같은 효과를 얻을 수 있다.In the heat treatment apparatus 100 for performing a cooling treatment on the substrate W, or by performing a movement speed setting process, the same effect as in the above embodiment can be obtained.

또한, 기판(W)에 냉각 처리를 행하는 복수의 열처리 장치(100)가, 기판(W)에 가열 처리를 행하는 복수의 열처리 장치(100)와 함께, 도 14의 열처리부(440)에 설치되어도 된다. 이 경우, 도 14의 기판 처리 장치(400)에 있어서의 제품의 수율이 보다 향상됨과 더불어, 기판(W)의 제조 코스트가 보다 저감된다.Further, even if a plurality of heat treatment apparatuses 100 for performing cooling treatment on the substrate W are provided in the heat treatment unit 440 in FIG. 14 together with a plurality of heat treatment apparatuses 100 for performing heat treatment on the substrate W do. In this case, while the yield of the product in the substrate processing apparatus 400 of FIG. 14 is further improved, the manufacturing cost of the substrate W is further reduced.

(b) 도 14에 표시되는 기판 처리 장치(400)는, 복수의 기판 반송 장치(450)를 구비해도 된다. 하나의 기판 반송 장치(450)와 다른 기판 반송 장치(450) 사이에서 기판(W)이 일시적으로 올려지는 기판 재치부가 설치되는 경우에는, 기판에 냉각 처리를 행하도록 구성된 열처리 장치(100)가 기판 재치부로서 이용되어도 된다. 이 경우, 기판(W)의 처리 전에, 미리 기판 재치부에 있어서 이동 속도 설정 처리가 행해짐으로써 상기 실시의 형태와 같은 효과를 얻을 수 있다.(b) The substrate processing apparatus 400 shown in FIG. 14 may include a plurality of substrate transfer apparatuses 450. When a substrate mounting unit on which a substrate W is temporarily placed is provided between one substrate transfer device 450 and another substrate transfer device 450, the heat treatment device 100 configured to perform cooling treatment on the substrate You may use it as a mounting part. In this case, the same effect as in the above embodiment can be obtained by performing the movement speed setting process in the substrate mounting unit in advance before the processing of the substrate W.

(c) 상기 실시의 형태에 있어서는, 설정 부재(90)의 복수의 피지지부(91)에 각각 대응하는 복수의 기준 압력값이 이동 속도 설정 처리 중에 압력 센서(99)의 출력 신호에 의거하여 결정되지만, 본 발명은 이것으로 한정되지 않는다. 복수의 기준 압력값은, 설계치로서 미리 정해져 있어도 된다.(c) In the above embodiment, a plurality of reference pressure values respectively corresponding to the plurality of supported portions 91 of the setting member 90 are determined based on the output signal of the pressure sensor 99 during the moving speed setting process. However, the present invention is not limited to this. A plurality of reference pressure values may be previously determined as design values.

(d) 상기 실시의 형태에 있어서는, 압력 센서(99)의 출력 신호가 송신 장치(60) 및 수신 장치(70)를 이용한 무선 통신에 의해 제어 장치(40)의 압력 검출부(41)에 부여되지만, 본 발명은 이것으로 한정되지 않는다. 설정 부재(90)에 설치된 복수의 압력 센서(99)의 출력 신호는, 전선 케이블 또는 광섬유 케이블 등을 이용한 유선 통신에 의해 제어 장치(40)의 압력 검출부(41)에 부여되어도 된다. (d) In the above embodiment, the output signal of the pressure sensor 99 is given to the pressure detection unit 41 of the control device 40 by wireless communication using the transmission device 60 and the reception device 70, , The present invention is not limited to this. The output signals of the plurality of pressure sensors 99 provided in the setting member 90 may be provided to the pressure detection unit 41 of the control device 40 by wired communication using an electric wire cable or an optical fiber cable.

(e) 상기 실시의 형태에 있어서는, 복수의 승강핀(31)으로서 3개의 승강핀(31)이 이용되지만, 복수의 승강핀(31)의 개수는 3개 이상이면 되고, 4개여도 되고, 5개여도 된다. 이 경우, 설정 부재(90)에는, 복수의 승강핀(31)에 각각 대응하는 수의 압력 센서(99)가 설치되는 것이 바람직하다.(e) In the above embodiment, three lifting pins 31 are used as the plurality of lifting pins 31, but the number of the plurality of lifting pins 31 may be 3 or more, or may be 4, There may be five. In this case, it is preferable that the setting member 90 is provided with a number of pressure sensors 99 corresponding to each of the plurality of lifting pins 31.

(f) 상기 실시의 형태에 있어서는, 지지부(S)는, 열처리 플레이트(10)에 기판(W)의 하면을 지지하기 위한 복수의 돌기 부재(11)를 가지지만, 본 발명은 이것으로 한정되지 않는다. 지지부(S)의 열처리 플레이트(10)의 상면 상에는, 복수의 돌기 부재(11) 대신에, 기판(W)의 하면을 지지하기 위한 수지제의 시트 형상 부재가 설치되어도 된다. (f) In the above embodiment, the support portion S has a plurality of protruding members 11 for supporting the lower surface of the substrate W on the heat treatment plate 10, but the present invention is not limited thereto. Does not. On the upper surface of the heat treatment plate 10 of the support part S, instead of the plurality of protruding members 11, a sheet-like member made of a resin for supporting the lower surface of the substrate W may be provided.

이 경우, 복수의 승강핀(31)으로부터 지지부(S)에 기판(W)이 건네질 때에, 기판(W)의 하면이 시트 형상 부재에 접촉해도 기판(W)에는 흠집이 발생하기 어렵다. 따라서, 연결 부재(32)의 이동 속도의 설정시에, 상기의 하강 속도 제한 범위(LR1) 및 상승 속도 제한 범위(LR2) 중, 상승 속도 제한 범위(LR2)만이 결정되어도 된다. 즉, 하강시에 있어서의 연결 부재(32)의 이동 속도를 낮게 하지 않아도 된다. 그로 인해, 기판(W)의 수도에 필요로 하는 시간을 더 단축할 수 있다.In this case, when the substrate W is passed from the plurality of lifting pins 31 to the support portion S, even if the lower surface of the substrate W comes into contact with the sheet-like member, scratches hardly occur on the substrate W. Therefore, at the time of setting the moving speed of the connecting member 32, only the ascending speed limiting range LR2 may be determined among the falling speed limiting range LR1 and the ascending speed limiting range LR2. That is, it is not necessary to lower the moving speed of the connecting member 32 at the time of descending. Therefore, the time required for the number of substrates W can be further shortened.

(g) 상기 실시의 형태에 있어서는, 복수의 승강핀(31)은 세라믹에 의해 형성되지만, 본 발명은 이것으로 한정되지 않는다. 복수의 승강핀(31)은, 그들의 상단부가 세라믹 대신에 수지 또는 고무에 의해 구성되어도 된다. (g) In the above embodiment, the plurality of lifting pins 31 are formed of ceramic, but the present invention is not limited thereto. In the plurality of lifting pins 31, their upper ends may be made of resin or rubber instead of ceramic.

이 경우, 지지부(S)로부터 복수의 승강핀(31)에 기판(W)이 건네질 때에, 기판(W)의 하면이 복수의 승강핀(31)에 접촉해도 기판(W)에는 흠집이 발생하기 어렵다. 따라서, 연결 부재(32)의 이동 속도의 설정시에, 상기의 하강 속도 제한 범위(LR1) 및 상승 속도 제한 범위(LR2) 중, 하강 속도 제한 범위(LR1)만이 결정되어도 된다. 즉, 상승시에 있어서의 연결 부재(32)의 이동 속도를 낮게 하지 않아도 되다. 그로 인해, 기판(W)의 수도에 필요로 하는 시간을 더 단축할 수 있다.In this case, when the substrate W is passed from the support portion S to the plurality of lifting pins 31, even if the lower surface of the substrate W contacts the plurality of lifting pins 31, scratches are generated on the substrate W. Difficult to do. Therefore, at the time of setting the moving speed of the connecting member 32, only the descending speed limiting range LR1 may be determined among the descending speed limiting range LR1 and the ascending speed limiting range LR2. That is, it is not necessary to lower the moving speed of the connecting member 32 at the time of ascending. Therefore, the time required for the number of substrates W can be further shortened.

(7) 청구항의 각 구성 요소와 실시의 형태의 각 요소의 대응 관계(7) Correspondence between each component of the claim and each element of the embodiment

이하, 청구항의 각 구성 요소와 실시의 형태의 각 요소의 대응의 예에 대해 설명하지만, 본 발명은 하기의 예로 한정되지 않는다.Hereinafter, examples of correspondence between each component of the claims and each of the embodiments will be described, but the present invention is not limited to the following examples.

상기 실시의 형태에서는, 지지부(S)가 지지부의 예이며, 복수의 승강핀(31)이 복수의 승강 부재의 예이며, 연결 부재(32)가 연결 부재의 예이며, 이송축(33), 모터(34) 및 모터 구동 회로(35)가 수도 구동부의 예이며, 설정 부재(90)가 설정 부재의 예이며, 복수의 압력 센서(99), 송신 장치(60), 수신 장치(70) 및 압력 검출부(41)이 검출부의 예이다.In the above embodiment, the support part S is an example of the support part, the plurality of lifting pins 31 is an example of a plurality of lifting members, the connecting member 32 is an example of a connecting member, and the transfer shaft 33, The motor 34 and the motor drive circuit 35 are examples of the water drive unit, the setting member 90 is an example of the setting member, and a plurality of pressure sensors 99, a transmission device 60, a reception device 70, and The pressure detection unit 41 is an example of the detection unit.

또, 이동 제어부(44)가 이동 제어부의 예이며, 위치 결정부(42)가 위치 결정부의 예이며, 범위 결정부(48)가 범위 결정부의 예이며, 이동 속도 설정부(49)가 이동 속도 설정부(49)의 예이며, 속도 제한 범위, 하강 속도 제한 범위(LR1) 및 상승 속도 제한 범위(LR2)가 속도 제한 범위의 예이며, 수도 제어부(45)가 수도 제어부의 예이며, 열처리 장치(100)가 기판 수도 시스템의 예이다.In addition, the movement control unit 44 is an example of a movement control unit, the positioning unit 42 is an example of a positioning unit, the range determination unit 48 is an example of a range determination unit, and the movement speed setting unit 49 is a movement speed It is an example of the setting unit 49, the speed limit range, the falling speed limit range LR1, and the rising speed limit range LR2 are examples of the speed limit range, the water supply control unit 45 is an example of the water control unit, and the heat treatment device 100 is an example of a substrate water supply system.

또, 압력 결정부(47)가 압력 결정부의 예이며, 하강 속도 제한 범위(LR1)가 하강 속도 제한 범위의 예이며, 상승 속도 제한 범위(LR2)가 상승 속도 제한 범위의 예이며, 열처리 플레이트(10)의 상면이 지지면의 예이며, 복수의 돌기 부재(11)가 복수의 돌기 부재의 예이며, 발열체(20)가 열처리 기구의 예이다.In addition, the pressure determination unit 47 is an example of a pressure determination unit, the falling speed limiting range LR1 is an example of the falling speed limiting range, the rising speed limiting range LR2 is an example of the rising speed limiting range, and the heat treatment plate ( The upper surface of 10) is an example of the supporting surface, the plurality of protruding members 11 are examples of the plurality of protruding members, and the heating element 20 is an example of a heat treatment mechanism.

청구항의 각 구성 요소로서, 청구항에 기재되어 있는 구성 또는 기능을 갖는 다른 여러 가지의 요소를 이용할 수도 있다.As each component of the claim, various other components having the configuration or function described in the claim may be used.

[산업상의 이용 가능성] [Industrial availability]

본 발명은, 여러 가지 기판의 처리에 유효하게 이용할 수 있다.The present invention can be effectively used for processing various substrates.

Claims (14)

기판의 처리시에 기판의 하면을 지지하도록 구성된 지지부와,
기판의 하면을 지지 가능한 상단부를 각각 갖는 3개 이상의 복수의 승강 부재와,
상기 복수의 승강 부재를 연결함과 더불어 상기 지지부에 대해서 상하 방향으로 이동 가능하게 구성된 연결 부재와,
상기 지지부와 상기 복수의 승강 부재 사이에서의 기판의 수도(受渡)시에, 상기 복수의 승강 부재의 상단부가 상기 지지부의 상단부보다 상방의 위치와 상기 지지부의 상단부보다 하방의 위치 사이에서 이동하도록, 상기 연결 부재를 이동시키는 수도 구동부와,
상기 복수의 승강 부재에 의해 지지 가능하게 구성된 설정 부재와,
상기 설정 부재가 상기 복수의 승강 부재에 의해 지지되었을 때에 상기 복수의 승강 부재로부터 상기 설정 부재의 복수의 부분에 각각 가해지는 압력을 검출하는 검출부와,
상기 연결 부재의 이동 속도의 설정시에, 상기 수도 구동부를 제어함으로써 상기 지지부에 의해 상기 설정 부재가 지지된 상태에서 상기 복수의 승강 부재의 상단부가 상기 지지부의 상단부보다 하방의 위치로부터 상기 지지부의 상단부보다 상방의 위치로 이동하도록, 상기 연결 부재를 이동시키는 이동 제어부와,
상기 이동 제어부에 의한 상기 연결 부재의 이동 중에, 상기 검출부의 출력 신호에 의거하여 상기 복수의 승강 부재로부터 상기 설정 부재의 상기 복수의 부분에 각각 가해지는 복수의 압력의 값이 미리 정해진 복수의 기준 압력값에 각각 도달했는지의 여부를 판정하고, 상기 복수의 압력의 값이 상기 복수의 기준 압력값에 각각 도달했을 때의 상기 연결 부재의 상하 방향의 위치를 기준 위치로서 결정하는 위치 결정부와,
상기 기판의 수도시에 있어서의 상기 연결 부재의 이동 범위 중 상기 결정된 기준 위치를 포함하는 일부의 범위를 속도 제한 범위로서 결정하는 범위 결정부와,
상기 속도 제한 범위 내에서의 상기 연결 부재의 이동 속도가 상기 속도 제한 범위 외에서의 상기 연결 부재의 이동 속도보다 낮아지도록, 상기 기판의 수도시에 있어서의 상기 연결 부재의 이동 속도를 설정하는 이동 속도 설정부와,
상기 기판의 수도시에, 상기 이동 속도 설정부에 의해 설정된 이동 속도로 상기 연결 부재가 이동하도록 상기 수도 구동부를 제어하는 수도 제어부를 구비하는, 기판 수도 시스템.
A support configured to support a lower surface of the substrate during processing of the substrate, and
A plurality of elevating members each having an upper end capable of supporting a lower surface of the substrate;
A connecting member configured to be movable in a vertical direction with respect to the support portion while connecting the plurality of lifting members,
When the substrate is transferred between the support portion and the plurality of elevating members, the upper ends of the plurality of elevating members move between a position above the upper end of the support and a position below the upper end of the support, A water driving part for moving the connecting member,
A setting member configured to be supported by the plurality of lifting members,
A detection unit that detects pressure applied to a plurality of portions of the setting member from the plurality of elevation members when the setting member is supported by the plurality of elevation members;
At the time of setting the moving speed of the connecting member, the upper end of the plurality of lifting members from a position lower than the upper end of the support, in a state in which the setting member is supported by the support by controlling the water drive A movement control unit for moving the connection member so as to move to an upper position,
A plurality of reference pressures in which values of a plurality of pressures applied to the plurality of portions of the setting member from the plurality of elevating members are predetermined during movement of the connection member by the movement control unit based on an output signal of the detection unit A positioning unit that determines whether or not a value has been reached, and determines a vertical position of the connecting member as a reference position when the values of the plurality of pressures reach each of the plurality of reference pressure values,
A range determining unit for determining a partial range including the determined reference position among the moving ranges of the connecting member during the delivery of the substrate as a speed limiting range;
Movement speed setting for setting the moving speed of the connecting member during delivery of the substrate so that the moving speed of the connecting member within the speed limiting range is lower than the moving speed of the connecting member outside the speed limiting range Wealth,
And a water supply control unit for controlling the water supply driving unit so that the connection member moves at a movement speed set by the movement speed setting unit when the substrate is supplied.
청구항 1에 있어서,
상기 복수의 승강 부재에 의해 상기 설정 부재가 지지된 상태에서 상기 복수의 승강 부재로부터 상기 설정 부재의 상기 복수의 부분에 각각 가해지는 복수의 압력의 값에 의거하여 상기 복수의 기준 압력값을 결정하는 압력 결정부를 더 구비하는, 기판 수도 시스템.
The method according to claim 1,
Determining the plurality of reference pressure values based on values of a plurality of pressures each applied to the plurality of portions of the setting member from the plurality of lifting members while the setting member is supported by the plurality of lifting members A substrate water supply system further comprising a pressure determination unit.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 범위 결정부는, 상기 기판의 수도를 위해서 상기 연결 부재가 하강할 때의 속도 제한 범위를 하강 속도 제한 범위로서 결정하고,
상기 하강 속도 제한 범위의 상한은, 상기 기준 위치보다 상방에 위치하고,
상기 이동 속도 설정부는, 상기 하강 속도 제한 범위 내에서 하강할 때의 상기 연결 부재의 이동 속도가 상기 속도 제한 범위 외에서 하강할 때의 상기 연결 부재의 이동 속도보다 낮아지도록, 상기 연결 부재의 이동 속도를 설정하는, 기판 수도 시스템.
The method according to claim 1 or 2,
The range determination unit determines a speed limit range when the connecting member descends for the number of substrates as a descending speed limit range,
The upper limit of the lowering speed limit range is located above the reference position,
The moving speed setting unit adjusts the moving speed of the connecting member so that the moving speed of the connecting member when descending within the lowering speed limit range is lower than the moving speed of the connecting member when descending outside the speed limiting range. To set up, the substrate water system.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 범위 결정부는, 상기 기판의 수도를 위해서 상기 연결 부재가 상승할 때의 속도 제한 범위를 상승 속도 제한 범위로서 결정하고,
상기 상승 속도 제한 범위의 하한은, 상기 기준 위치보다 하방에 위치하고,
상기 이동 속도 설정부는, 상기 상승 속도 제한 범위 내에서 상승할 때의 상기 연결 부재의 이동 속도가 상기 상승 속도 제한 범위 외에서 상승할 때의 상기 연결 부재의 이동 속도보다 낮아지도록, 상기 연결 부재의 이동 속도를 설정하는, 기판 수도 시스템.
The method according to claim 1 or 2,
The range determination unit determines a speed limit range when the connecting member rises for the number of substrates as a rise speed limit range,
The lower limit of the ascending speed limit range is located below the reference position,
The moving speed setting unit may include a moving speed of the connecting member so that a moving speed of the connecting member when ascending within the ascending speed limiting range is lower than a moving speed of the connecting member when ascending outside the ascending speed limiting range. To set up, the substrate water system.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 설정 부재는 기판과 같은 외형을 갖는, 기판 수도 시스템.
The method according to claim 1 or 2,
The substrate water supply system, wherein the setting member has the same shape as the substrate.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 설정 부재는 수지로 형성된, 기판 수도 시스템.
The method according to claim 1 or 2,
The setting member is a substrate water supply system formed of resin.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 지지부는,
평탄한 지지면과,
상기 지지면으로부터 상방으로 돌출하도록 설치됨과 더불어, 기판의 하면을 지지 가능하게 구성된 복수의 돌기 부재와,
상기 복수의 돌기 부재에 의해 지지된 기판에 열처리를 행하는 열처리 기구를 포함하는, 기판 수도 시스템.
The method according to claim 1 or 2,
The support part,
With a flat support surface,
A plurality of protrusion members provided to protrude upward from the support surface and configured to support a lower surface of the substrate,
A substrate water supply system comprising a heat treatment mechanism for performing heat treatment on a substrate supported by the plurality of protrusion members.
기판의 처리시에 기판의 하면을 지지하도록 구성된 지지부와 기판의 하면을 지지 가능한 상단부를 각각 갖는 3개 이상의 복수의 승강 부재 사이에서 기판의 수도를 행하기 위한 기판 수도 방법으로서,
상기 복수의 승강 부재는, 상기 지지부에 대해서 상하 방향으로 이동 가능하게 구성된 연결 부재에 의해 연결되고,
상기 연결 부재는, 상기 지지부와 상기 복수의 승강 부재 사이에서의 기판의 수도시에, 상기 복수의 승강 부재의 상단부가 상기 지지부의 상단부보다 상방의 위치와 상기 지지부의 상단부보다 하방의 위치 사이에서 이동하도록 이동하고,
상기 기판 수도 방법은,
상기 연결 부재의 이동 속도의 설정시에, 상기 복수의 승강 부재에 의해 지지 가능하게 구성된 설정 부재를 상기 지지부에 의해 지지하는 단계와,
상기 설정 부재가 상기 지지부에 지지된 상태에서 상기 복수의 승강 부재의 상단부가 상기 지지부의 상단부보다 하방의 위치로부터 상기 지지부의 상단부보다 상방의 위치로 이동하도록, 상기 연결 부재를 이동시키는 단계와,
상기 설정 부재가 상기 복수의 승강 부재에 의해 지지되었을 때에 상기 복수의 승강 부재로부터 상기 설정 부재의 복수의 부분에 각각 가해지는 압력을 검출하는 단계와,
상기 연결 부재의 이동 중에, 상기 검출하는 단계의 검출 결과에 의거하여 상기 복수의 승강 부재로부터 상기 설정 부재의 상기 복수의 부분에 각각 가해지는 복수의 압력의 값이 미리 정해진 복수의 기준 압력값에 각각 도달했는지의 여부를 판정하고, 상기 복수의 압력의 값이 상기 복수의 기준 압력값에 각각 도달했을 때의 상기 연결 부재의 상하 방향의 위치를 기준 위치로서 결정하는 단계와,
상기 기판의 수도시에 있어서의 상기 연결 부재의 이동 범위 중 상기 결정된 기준 위치를 포함하는 일부의 범위를 속도 제한 범위로서 결정하는 단계와,
상기 속도 제한 범위 내에서의 상기 연결 부재의 이동 속도가 상기 속도 제한 범위 외에서의 상기 연결 부재의 이동 속도보다 낮아지도록, 상기 기판의 수도시에 있어서의 상기 연결 부재의 이동 속도를 설정하는 단계와,
상기 기판의 수도시에, 상기 설정하는 단계에 의해 설정된 이동 속도로 상기 연결 부재가 이동하도록 상기 연결 부재를 이동시키는 단계를 포함하는, 기판 수도 방법.
A substrate numbering method for transferring a substrate between a support portion configured to support a lower surface of the substrate and an upper end portion capable of supporting the lower surface of the substrate during processing of a substrate,
The plurality of lifting members are connected by a connecting member configured to be movable in an up-down direction with respect to the support part,
The connecting member is moved between a position above the upper end of the support and a position lower than the upper end of the support when the substrate is supplied between the support and the plurality of lifting members. To move,
The substrate number method,
At the time of setting the moving speed of the connecting member, supporting a setting member configured to be supported by the plurality of lifting members by the support portion;
Moving the connection member so that the upper ends of the plurality of lifting members move from a position below the upper end of the support to a position above the upper end of the support while the setting member is supported by the support;
Detecting a pressure applied to a plurality of portions of the setting member from the plurality of lifting members when the setting member is supported by the plurality of lifting members;
During the movement of the connecting member, based on the detection result of the detecting step, values of a plurality of pressures each applied to the plurality of portions of the setting member from the plurality of lifting members are respectively applied to a plurality of predetermined reference pressure values. Determining whether or not the plurality of pressures has reached, and determining a position in the vertical direction of the connecting member as a reference position when the values of the plurality of pressures reach each of the plurality of reference pressure values;
Determining a partial range including the determined reference position among the moving ranges of the connecting member during the delivery of the substrate as a speed limiting range; and
Setting a moving speed of the connecting member during delivery of the substrate so that a moving speed of the connecting member within the speed limiting range is lower than a moving speed of the connecting member outside the speed limiting range; and
And moving the connection member so that the connection member moves at a moving speed set by the setting step when the substrate is supplied.
청구항 8에 있어서,
상기 복수의 승강 부재에 의해 상기 설정 부재가 지지된 상태에서 상기 복수의 승강 부재로부터 상기 설정 부재의 상기 복수의 부분에 각각 가해지는 복수의 압력의 값에 의거하여 상기 복수의 기준 압력값을 결정하는 단계를 더 구비하는, 기판 수도 방법.
The method of claim 8,
Determining the plurality of reference pressure values based on values of a plurality of pressures each applied to the plurality of portions of the setting member from the plurality of lifting members while the setting member is supported by the plurality of lifting members The method further comprising a step.
청구항 8 또는 청구항 9에 있어서,
상기 결정된 기준 위치를 포함하는 일부의 범위를 속도 제한 범위로서 결정하는 단계는, 상기 기판의 수도를 위해서 상기 연결 부재가 하강할 때의 속도 제한 범위를 하강 속도 제한 범위로서 결정하는 것을 포함하고,
상기 하강 속도 제한 범위의 상한은, 상기 기준 위치보다 상방에 위치하고,
상기 이동 속도를 설정하는 단계는, 상기 하강 속도 제한 범위 내에서 하강할 때의 상기 연결 부재의 이동 속도가 상기 속도 제한 범위 외에서 하강할 때의 상기 연결 부재의 이동 속도보다 낮아지도록, 상기 연결 부재의 이동 속도를 설정하는 것을 포함하는, 기판 수도 방법.
The method according to claim 8 or 9,
The step of determining a partial range including the determined reference position as a speed limiting range includes determining a speed limiting range when the connecting member descends for the number of substrates as a descending speed limiting range,
The upper limit of the lowering speed limit range is located above the reference position,
The step of setting the movement speed may include the connection member so that the movement speed of the connection member when descending within the lowering speed limit range is lower than the movement speed of the connection member when descending outside the speed limit range. A method of numbering a substrate comprising setting a moving speed.
청구항 8 또는 청구항 9에 있어서,
상기 결정된 기준 위치를 포함하는 일부의 범위를 속도 제한 범위로서 결정하는 단계는, 상기 기판의 수도를 위해서 상기 연결 부재가 상승할 때의 속도 제한 범위를 상승 속도 제한 범위로서 결정하는 것을 포함하고,
상기 상승 속도 제한 범위의 하한은, 상기 기준 위치보다 하방에 위치하고,
상기 이동 속도를 설정하는 단계는, 상기 상승 속도 제한 범위 내에서 상승할 때의 상기 연결 부재의 이동 속도가 상기 상승 속도 제한 범위 외에서 상승할 때의 상기 연결 부재의 이동 속도보다 낮아지도록, 상기 연결 부재의 이동 속도를 설정하는 것을 포함하는, 기판 수도 방법.
The method according to claim 8 or 9,
The step of determining a partial range including the determined reference position as a speed limiting range includes determining a speed limiting range when the connecting member ascends for the number of substrates as a rising speed limiting range,
The lower limit of the ascending speed limit range is located below the reference position,
The step of setting the moving speed may include: the connecting member so that the moving speed of the connecting member when ascending within the ascending speed limiting range is lower than the moving speed of the connecting member when ascending outside the ascending speed limiting range. The method comprising setting the speed of movement of the substrate.
청구항 8 또는 청구항 9에 있어서,
상기 설정 부재는 기판과 같은 외형을 갖는, 기판 수도 방법.
The method according to claim 8 or 9,
The setting member has the same shape as the substrate.
청구항 8 또는 청구항 9에 있어서,
상기 설정 부재는 수지로 형성된, 기판 수도 방법.
The method according to claim 8 or 9,
The setting member is formed of resin.
청구항 8 또는 청구항 9에 있어서,
상기 지지부는,
평탄한 지지면과,
상기 지지면으로부터 상방으로 돌출하도록 설치됨과 더불어, 기판의 하면을 지지 가능하게 구성된 복수의 돌기 부재와,
상기 복수의 돌기 부재에 의해 지지된 기판에 열처리를 행하는 열처리 기구를 포함하는, 기판 수도 방법.
The method according to claim 8 or 9,
The support part,
With a flat support surface,
A plurality of protrusion members provided to protrude upward from the support surface and configured to support a lower surface of the substrate,
And a heat treatment mechanism for performing heat treatment on a substrate supported by the plurality of protruding members.
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