KR102110636B1 - 대기압 플라스마 발생 장치, 쌍피처리체 작업기 - Google Patents

대기압 플라스마 발생 장치, 쌍피처리체 작업기 Download PDF

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Abstract

케이스(12)와, 상기 케이스(12) 내에 설치되는 제1 구역(16)과, 상기 제1 구역(16)에 가온한 제1 처리 가스를 유입하는 가스 가온기와, 상기 케이스(12) 내에 설치되고 제1 구역(16)에 인접하는 제2 구역(14)과, 상기 제2 구역(14)에 냉각한 제2 처리 가스를 유입하는 가스 냉각기와, 상기 제2 구역(14) 내에 설치되는 플라스마 발생용 전극(24)과, 상기 플라스마 발생용 전극(24)에 의해 상기 제1 구역(16)에 존재하는 제1 처리 가스를 플라스마화 하는 플라스마 발생기와, 상기 플라스마 발생기에 의해 플라스마화 된 플라스마 가스를 분출하는 분출구(20)를 구비하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라스마 발생 장치이다.

Description

대기압 플라스마 발생 장치, 쌍피처리체 작업기{ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA GENERATOR, AND WORKPIECE PAIR PROCESSING MACHINE}
본 발명은, 대기압(大氣壓) 하에서 플라스마를 발생시키는 대기압 플라스마 발생 장치에 관한 것이다.
대기압 플라스마 발생 장치는, 예를 들면, 한 쌍의 전극 사이에 전압을 인가함으로써, 처리 가스를 플라스마화 시키고, 플라스마에 의해 피처리체에 대한 플라스마 처리를 한다. 다만, 처리 가스를 플라스마화 시키려면, 고전압의 전력이 인가되기 때문에, 플라스마가 고온으로 되어 피처리체가 열에 의해 변형, 변질할 우려가 있다. 이러한 것을 감안하여 하기의 특허 문헌에 기재의 대기압 플라스마 발생 장치는, 전압이 인가되기 전에, 처리 가스를 냉각하기 위한 가스 냉각기를 구비하고 있고, 플라스마의 온도에 응하여 처리 가스가 가스 냉각 장치에 의해 냉각된다.
자세하게는, 대기압 플라스마 발생 장치의 플라스마의 분출구에, 온도 센서가 설치되어 있고, 플라스마의 온도가 온도 센서에 의해 측정된다. 그리고, 온도 센서에 의해 측정된 플라스마의 온도를 이용하여 가스 냉각기의 작동이 피드백(feed back) 제어된다. 즉, 온도 센서에 의해 측정된 플라스마의 온도가 소정의 온도보다 높은 경우에는 처리 가스의 온도가 낮아지도록 가스 냉각기의 작동이 제어되고, 온도 센서에 의해 측정된 플라스마의 온도가 소정의 온도보다 낮은 경우에는 처리 가스의 온도가 높아지도록 가스 냉각기의 작동이 제어된다. 이에 의해 발생하는 플라스마의 온도를 소정의 온도로 유지하는 것이 가능하게 되고, 고온의 플라스마의 발생을 방지하는 것이 가능하게 된다.
일본국 특허공개 2010-061938호 공보
상기 특허 문헌에 기재의 대기압 플라스마 발생 장치는, 처리 가스가 플라스마화 하는 정도의 온도로 전극 부근에도 흐른다. 이와 같이 플라스마화 하는 정도의 온도로 플라스마 발생을 계속하면, 대기압 플라스마 발생 장치의 전극은 소모가 빨리 진행되어 수명이 단축된다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본원에 기재의 대기압 플라스마 발생 장치는, 케이스와, 상기 케이스 내에 설치되는 제1 구역과, 상기 제1 구역에 가온한 제1 처리 가스를 유입하는 가스 가온기와, 상기 케이스 내에 설치되고 제1 구역에 인접하는 제2 구역과, 상기 제2 구역에 냉각한 제2 처리 가스를 유입하는 가스 냉각기와, 상기 제2 구역 내에 설치되는 플라스마 발생용 전극과, 상기 플라스마 발생용 전극에 의해 상기 제1 구역에 존재하는 제1 처리 가스를 플라스마화 하는 플라스마 발생기와, 상기 플라스마 발생기에 의해 플라스마화 된 플라스마 가스를 분출하는 분출구를 구비하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라스마 발생 장치로서, 상기 대기압 플라스마 발생 장치는, 상기 제1 구역과 상기 제2 구역의 사이에 구분 부재를 구비하고, 상기 제2 구역에 상기 플라스마 발생용 전극을 2개 구비하고, 상기 플라스마 발생용 전극은 상기 제1 구역을 사이에 두고 대향하도록 설치되고, 상기 구분 부재에는 상기 플라스마 발생용 전극으로부터 제1 구역을 향하는 방향으로 방전용 개구가 설치되고, 상기 방전용 개구를 통해 상기 플라스마 발생용 전극에 의해 플라스마를 발생시키는 것을 특징으로 한다.
본원에 기재의 대기압 플라스마 발생 장치에서는, 플라스마 발생용 전극이 제2 구역 내에서 제2 처리 가스에 의해 냉각되기 때문에, 전극의 소모를 억제할 수가 있다.
도 1은 본 발명의 실시예인 대기압 플라스마 발생 장치를 나타내는 도이다.
도 2는 본 발명의 실시예인 대기압 플라스마 발생 장치를 방전용 개구(18)측으로부터 바라본 도를 나타내는 것이다.
도 3은 도 1의 대기압 플라스마 발생 장치가 구비하는 소용돌이(vortex) 튜브를 나타내는 개략도이다.
도 4는 도 1의 대기압 플라스마 발생 장치가 구비하는 제어 장치를 나타내는 블록도이다.
도 5는 도 1의 대기압 플라스마 발생 장치를 구비하는 쌍피처리체 작업기를 나타내는 도이다.
이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태로서 본 발명의 실시예를 도를 참조하면서 자세하게 설명한다.　
＜대기압 플라스마 발생 장치의 구성＞　
도 1에 본 발명의 실시예의 대기압 플라스마 발생 장치(30)를 나타낸다. 대기압 플라스마 발생 장치(30)는 대기압 하에서 플라스마를 발생시키기 위한 장치이다. 대기압 플라스마 발생 장치(30)는 케이스(12)를 가지고 있고, 케이스(12)는 제1 구역(16)과 제2 구역(14)에 의해 구성된다. 제1 구역(16)에는, 제1 처리 가스 유로(6)가 연결되고 분출구(20)가 형성되어 있다. 분출구(20)는 피처리체를 향하는 방향으로 개구한다. 제1 처리 가스 유로(6)의 일단부는 제1 구역(16)의 상면에 연결되고, 제2 처리 가스 유로(8)의 일단부는 제2 구역(14)의 상면에 연결된다. 또, 제1 처리 가스 유로(6), 및 제2 처리 가스 유로(8)의 타단부는 케이스(12)에 근접하여 배설(配設)된 소용돌이 튜브(4)에 접속되어 있다.　
소용돌이 튜브(4)는 소용돌이 효과를 이용하여 냉각 가스와 고온 가스를 발생시키기 위한 장치이다. 소용돌이 튜브(4)는 공지의 장치이기 때문에 이하에 간단하게 설명한다. 소용돌이 튜브(4)는, 도 2에 나타내듯이, 대체로 튜브 형상의 하우징(50)을 구비하고 있고, 양단부에 냉각 가스 분출구(52)와 고온 가스 분출구(54)가 형성되어 있다. 또한, 튜브 형상의 하우징(50)의 측면에는 압축 가스 공급구(56)가 형성되어 있다. 그리고, 압축 가스가 압축 가스 공급구(56)로부터 하우징(50) 내에 공급되면, 공급된 가스(57)는 하우징(50)의 내벽면을 따라 소용돌이 모양으로 고온 가스 분출구(54)를 향해 흐른다.　
그 고온 가스 분출구(54)에는 밸브(58)가 설치되어 있다. 이 때문에 하우징(50) 내에 공급된 가스의 일부가, 밸브(58)의 개폐량에 응하여 고온 가스 분출구(54)로부터 분출되지만, 나머지의 가스는 하우징(50) 내에 되돌려진다. 밸브(58)에 의해 하우징(50) 내에 되돌려진 가스(59)는 하우징(50)의 내벽면을 따라 소용돌이 모양으로 흐르는 가스(57)의 내측, 즉 하우징(50)의 직경 방향에 있어서의 중심부를 흐른다. 그리고, 하우징(50)의 중심부를 흐르는 가스(59)는 냉각 가스 분출구(52)를 향해 흘러 냉각 가스 분출구(52)로부터 분출된다.　
이 때에 하우징(50)의 내벽면을 따라 소용돌이 모양으로 흐르는 가스(57)의 운동 에너지와 하우징(50)의 중심부를 흐르는 가스(59)의 운동 에너지의 차에 의해, 하우징(50)의 중심부를 흐르는 가스(59)로부터 하우징(50)의 내벽면을 따라 소용돌이 모양으로 흐르는 가스(57)로 열에너지가 이동한다. 이에 의해 고온 가스 분출구(54)로부터는 고온의 가스가 분출되고, 냉각 가스 분출구(52)로부터는 냉각된 가스가 분출된다.　
상기 구조의 소용돌이 튜브(4)가, 도 1에 나타내듯이, 케이스(12)에 근접하여 배설되어 있다. 그리고, 소용돌이 튜브(4)의 압축 가스 공급구(56)는 압축 가스 유로(2)에 접속되고, 냉각 가스 분출구(52)는 제2 가스 유로(8)에 접속되고, 고온 가스 분출구(54)는 제1 처리 가스 유로(6)에 접속되어 있다.　
제1 구역(16)은, 제2 구역(14)과 구분되고, 제2 구역에 끼워지도록 설치한다. 또, 제1 구역(16)은 제1 처리 가스 유로(6)를 통해 제1 처리 가스인 고온 가스가 흘러들도록 소용돌이 튜브(4)와 연결된다. 그리고, 제1 구역(16)에서는 플라스마 발생용 전극(24) 사이의 방전에 의해 제1 처리 가스가 플라스마화 된다. 또한, 플라스마는 제1 구역(16)의 분출구(20)로부터 분출되도록 흐른다.
제2 구역(14)에는 그 내부에 플라스마 발생 전극(24)이 제1 구역(16)을 사이에 두고 대향하도록 설치된다. 또, 제2 구역(14)은 제2 처리 가스 유로(8)를 통해 제2 처리 가스인 냉각 가스가 흘러들도록 소용돌이 튜브(4)와 연결된다. 그리고, 제2 구역(14)은 구분 부재(32)에 의해 제1 구역과 구분 되어 있다. 또한, 구분 부재(32)에는 방전용 개구(18)가 플라스마 발생용 전극(24) 사이에 전류가 흐르도록 설치된다. 이 방전용 개구(18)로부터 제2 처리 가스인 냉각 가스가 제1 구역(16)으로 흐른다. 플라스마 발생용 전극(24)은 배선을 위한 소켓(22)이 연결된다.　
구분 부재(32)는 관 모양이면 그 작용을 한층 더 발휘할 수가 있다. 이것은 소켓으로부터 전극을 향하는 방향이 관 모양 부재의 긴 방향과 대략 평행이면 플라스마 발생 전극(24)이 효율적으로 냉각 가스에 의해 냉각되기 때문이다.　
또, 플라스마 발생용 전극(24)에 전압을 인가하면 플라스마가 발생하지만, 이 때에 전극에 오염이 발생하고 소모된다. 구분 부재(32)는 관 모양이며 봉지 부재(34)에 의해 제2 구역(14)의 하부가 냉각 가스의 흐름을 멈추는 공간으로 되어 있으면, 거기에 오염을 부착시키고 제1 구역(16)으로 오염이 유출하는 것을 방지할 수가 있다. 또한, 케이스(12)를 컴팩트(compact)하게 설계하기 위해 제2 구역으로부터 제1 구역으로 가스를 흘리는 방향은 제2 구역 내에서 냉각 가스가 흐르는 방향과 대략 수직인 것이 바람직하다.　
봉지 부재(34)는 케이스(12)의 외측으로부터 공구 등으로 떼어내기 가능하게 형성되어 있는 것이 바람직하다. 오염을 제거하는 작업이나 전극을 교환하는 작업을 용이하게 행할 수가 있기 때문이다.　
또한, 제2 구역(16)에 방전용 개구(18)와는 별도로 냉각 가스 배출용 개구를 설치해도 좋다. 이와 같이 하면 오염을 따로 회수할 수가 있고, 냉각 가스에 의해 제1 구역(16)을 냉각하는 것을 방지할 수가 있다. 냉각 가스 배출용 개구는 피처리체로는 향하지 않는 방향, 예를 들면 도 1에서 나타내는 곳의 횡방향 등에 설치하는 것이 바람직하다.
대기압 플라스마 발생 장치(30)는, 도 3에 나타내듯이, 제어 장치(80)를 구비하고 있다. 제어 장치(80)는 콘트롤러(82)와, 구동 회로(84)와, 제어 회로(86)를 구비하고 있다. 구동 회로(84)는 전자식 리니어 밸브(66)에 접속되어 있다. 그리고, 이 리니어 밸브(66)는 압축 가스 유로(2)에 압축된 처리 가스를 공급하는 것이다. 또, 제어 회로(86)는 한 쌍의 전극(72)에 접속되어 있다. 콘트롤러(82)는 CPU, ROM, RAM 등을 구비하고, 컴퓨터를 주체로 하는 것이고, 구동 회로(84) 및 제어 회로(86)에 접속되어 있다. 이에 의해 전자식 리니어 밸브(66)의 작동, 및 한 쌍의 전극(72)으로의 전압의 인가가 콘트롤러(82)에 의해 제어된다.　
＜대기압 플라스마 발생 장치에 의한 플라스마의 발생＞
대기압 플라스마 발생 장치(30)는, 상술한 구성에 의해 케이스(12) 내에 공급된 가스에 전압을 인가함으로써, 가스를 플라스마화 시킨다. 그리고, 대기압 플라스마 발생 장치(30)는 분출구(20)로부터 플라스마를 분출함으로써, 피처리체에 대해서 플라스마 처리를 한다. 구체적으로, 대기압 플라스마 발생 장치(30)에 의한 플라스마의 발생에 대해 이하에 자세하게 설명한다.　
대기압 플라스마 발생 장치(30)는 우선 압축 가스 유로(2)에 압축된 처리 가스를 공급한다. 처리 가스는 질소 등의 불활성 가스와 공기 중의 산소 등의 활성 가스를 임의의 비율로 혼합시킨 가스라도 좋고, 불활성 가스나 공기뿐이라도 좋다. 압축 가스 유로(2)에 공급된 처리 가스는 소용돌이 튜브(4)에 공급된다. 이에 의해 상술한 것처럼 처리 가스가 냉각되어 소용돌이 튜브(4)의 냉각 가스 분출구(52)로부터 냉각된 처리 가스가 분출된다. 또, 처리 가스가 가열되고 소용돌이 튜브(4)의 고온 가스 분출구(54)로부터 고온의 처리 가스가 분출된다.　
냉각 가스 분출구(52)로부터 분출된 처리 가스는 제2 처리 가스 유로(8)를 통해 제2 구역(14)으로 유입한다. 한편, 고온 가스 분출구(54)로부터 분출된 처리 가스는 제1 처리 가스 유로(6)를 통해 제1 구역(16)으로 유입한다.　
제어 장치(80)는 제1 처리 가스와 제2 처리 가스가 각각 제1 구역(16)과 제2 구역(14) 내에 충만하고 나서, 케이스(12) 내에 있어서 한 쌍의 플라스마 발생용 전극(24)에 전압이 인가되고 전극 사이에 전류가 흐른다. 이에 의해 전극 사이에 방전이 생기고 그 방전에 의해 처리 가스가 플라스마화 된다. 그리고, 플라스마가 분출구(20)로부터 분출되고 피처리체에 대한 플라스마 처리를 한다. 가스가 충만하고 나서 전압을 인가하는 것은 제어 장치(80)가 타이머를 가지고, 전자식 리니어 밸브(66)의 작동 후에, 기지인 압축 가스 유로(2)를 처리 가스가 흐르는 유량과 대기압 플라스마 발생 장치(30) 내의 공간의 체적으로부터 구해지는 시간이 경과한 후, 전압을 인가함으로써 행한다.　
대기압 플라스마 발생 장치(30)는 소용돌이 튜브(4)에 의해 처리 가스를 냉각·가열한다. 이 때문에 대기압 플라스마 발생 장치(30)는 소용돌이 튜브(4)가 가지는 능력 이상으로 처리 가스가 냉각·가열되는 일이 없다. 이에 의해 대기압 플라스마 발생 장치(30)에 이상이 발생한 경우라도 대기압 플라스마 발생 장치(10)는 피처리체에 대해 부적절한 저온이나 고온의 플라스마의 발생을 확실하게 방지한다.
더 말하면, 대기압 플라스마 발생 장치(30)에서는 상폐형(常閉型)의 전자식 리니어 밸브(66)가 채용되어 있다. 이 때문에 예를 들면, 대기압 플라스마 발생 장치(30)가 어떠한 이유로써 전자식 리니어 밸브(66)로의 전력 공급을 정지한 경우에는 전자식 리니어 밸브(66)는 밸브를 닫기 위해 압축 가스 유로(2)로의 처리 가스의 유입이 정지한다. 즉, 대기압 플라스마 발생 장치(30)는 전자식 리니어 밸브(66)로의 전력 공급을 정지한 경우에, 처리 가스의 공급을 정지한다. 이와 같이 대기압 플라스마 발생 장치(30)는 전자식 리니어 밸브(66)로의 전력 공급을 정지한 경우라도 피처리체에 대해 부적절한 플라스마의 발생을 확실하게 방지하는 것이 가능하게 된다.　
또, 대기압 플라스마 발생 장치(30)는 처리 가스를 냉각하는 기기로서 소용돌이 튜브(4)를 채용하고 있다. 소용돌이 튜브(30)는 전력이나 약품 등을 이용하는 일 없이 처리 가스를 냉각하는 것이 가능하다. 이 때문에 대기압 플라스마 발생 장치(30)는 환경 성능이 좋은 대기압 플라스마 발생 장치(30)로 된다.　
또한, 대기압 플라스마 발생 장치(30)는 소용돌이 튜브(4)에 의해 발생한 고온의 처리 가스를 이용하여 제1 구역에 대해 플라스마화를 행한다. 즉, 대기압 플라스마 발생 장치(30)는 처리 가스를 냉각할 때뿐만이 아니라, 냉각된 처리 가스의 온도 조정을 행할 때에도 전력이나 약품 등을 이용하지 않는다. 이에 의해 대기압 플라스마 발생 장치(30)의 환경 성능을 상당히 높게 하는 것이 가능하게 된다.　
소용돌이 튜브는 그 사양이나 압축 가스의 압력에 의해 냉각 가스와 고온 가스의 온도가 정해진다. 따라서, 온도가 설계치보다 큰 폭으로 상회하거나 하회하는 일이 없이 페일-세이프(fail-safe)를 실현할 수가 있다.　
플라스마 발생용 전극에는 통상 몰리브덴 등의 재료가 이용된다.　
도 5는 쌍피처리체 작업기(102)를 나타내는 도이다. X 로봇(122)과 Y 로봇(108)에 의해 대기압 플라스마 발생 장치(110)와 소용돌이 튜브(114)는 쌍피처리체 작업기(102) 내를 이동할 수가 있다. 피처리체(103)는 반송 레인(104)에 의해 쌍피처리체 작업기(102)에 반입·보유되고 처리가 끝나면 반출된다.　
대기압 플라스마 발생 장치는 적어도 한 방향으로 움직이는 로봇의 헤드에 장착되고 가스 가온기와 가스 냉각기도 모두 상기 헤드에 장착되는 것을 특징으로 하는 쌍피처리체 작업기로 하는 것이 바람직하다. 이러한 태양에 의해 대기압 플라스마 발생 장치는 피처리체에 대해 효율적으로 플라스마 처리를 할 수가 있다. 또, 소용돌이 튜브는 가능한 한 가까운 위치에 배치하는 쪽이 보다 효율적으로 냉각, 가온을 행할 수가 있다.　
또한, 본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것은 아니고, 당업자의 지식에 기초하여 여러 가지의 변경, 개량을 행한 여러 가지의 태양으로 실시하는 것이 가능하다. 구체적으로는, 예를 들면, 상기 실시예에서는 처리 가스를 냉각하는 기기로서 소용돌이 튜브(4)가 채용되어 있지만, 냉각 매체 등을 이용한 기기 등을 채용하는 것이 가능하다. 또, 냉각된 처리 가스의 온도 조정에 소용돌이 튜브(4)에 의해 가온된 처리 가스가 이용되고 있지만, 히터(heater) 등의 가온 장치에 의해 냉각된 처리 가스의 온도 조정을 행하는 것이 가능하다.
4 소용돌이 튜브 18 방전용 개구
30 대기압 플라스마 발생 장치
36 소용돌이 튜브 80 제어 장치
102 쌍피처리체 작업기

Claims (10)

  1. 케이스와, 상기 케이스 내에 설치되는 제1 구역과, 상기 제1 구역에 가온한 제1 처리 가스를 유입하는 가스 가온기와, 상기 케이스 내에 설치되고 제1 구역에 인접하는 제2 구역과, 상기 제2 구역에 냉각한 제2 처리 가스를 유입하는 가스 냉각기와, 상기 제2 구역 내에 설치되는 플라스마 발생용 전극과, 상기 플라스마 발생용 전극에 의해 상기 제1 구역에 존재하는 제1 처리 가스를 플라스마화 하는 플라스마 발생기와, 상기 플라스마 발생기에 의해 플라스마화 된 플라스마 가스를 분출하는 분출구를 구비하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라스마 발생 장치로서,
    상기 대기압 플라스마 발생 장치는,
    상기 제1 구역과 상기 제2 구역의 사이에 구분 부재를 구비하고, 상기 제2 구역에 상기 플라스마 발생용 전극을 2개 구비하고, 상기 플라스마 발생용 전극은 상기 제1 구역을 사이에 두고 대향하도록 설치되고, 상기 구분 부재에는 상기 플라스마 발생용 전극으로부터 제1 구역을 향하는 방향으로 방전용 개구가 설치되고, 상기 방전용 개구를 통해 상기 플라스마 발생용 전극에 의해 플라스마를 발생시키는 것을 특징으로 하는 대기압 플라스마 발생 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 플라스마 발생용 전극은 소켓과 전극편을 구비하고, 상기 제2 구역은 관 모양 부재에 의해 상기 제1 구역과 구분되고, 상기 소켓으로부터 상기 전극편을 향하는 방향과 상기 관 모양 부재의 긴 방향이 평행한 것을 특징으로 하는 대기압 플라스마 발생 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제2 처리 가스가 흐르는 냉각 방향과 상기 방전용 개구를 통해 상기 제2 처리 가스가 제1 구역으로 흐르는 방향이 수직인 것을 특징으로 하는 대기압 플라스마 발생 장치.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제2 구역의 하단에는 처리 가스가 흐르지 않게 하는 봉지 부재를 구비하고, 상기 방전용 개구의 하단과 상기 봉지 부재와의 사이에 공간이 설치되는 것을 특징으로 하는 대기압 플라스마 발생 장치.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 가스 가온기 또는 상기 가스 냉각기의 적어도 일방이 소용돌이 튜브인 것을 특징으로 하는 대기압 플라스마 발생 장치.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 대기압 플라스마 발생 장치는, 소용돌이 튜브를 구비하고, 상기 가스 가온기는 소용돌이 튜브의 난기 배출구이며, 상기 가스 냉각기가 소용돌이 튜브의 냉기 분출구인 것을 특징으로 하는 대기압 플라스마 발생 장치.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 분출구는 상기 제1 구역에 연결되는 것을 특징으로 하는 대기압 플라스마 발생 장치.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 대기압 플라스마 발생 장치는 제어 장치를 구비하고, 상기 제어 장치는, 상기 제 1 처리 가스 및 상기 제2 처리 가스가 상기 케이스 내에 충만하고 나서 상기 플라스마 발생용 전극에 전압을 인가하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라스마 발생 장치.
  9. 제1항 또는 제2항에 기재의 대기압 플라스마 발생 장치는,
    적어도 한 방향으로 움직이는 로봇의 헤드에 장착되고, 상기 가스 가온기와 상기 가스 냉각기도 모두 상기 헤드에 장착되는 것을 특징으로 하는 쌍피처리체 작업기.
  10. 삭제
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